JP2006184442A - レチクル保護装置および露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、前記アウターケースの前記蓋部材の内側に、前記蓋部材に固定されるバネ部材を介して前記インナーカバーを押圧するパッド部材を配置し、前記パッド部材の前記インナーカバーのエッジ部に対向する位置に、前記インナーカバーのエッジ部を押圧する傾斜面を形成してなることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
そして、このようなレチクル保護装置では、レチクルおよびCFPは、CFPおよびアウターケース内に機械的にガタ(緩み)のある状態で保持されている。
請求項2のレチクル保護装置は、請求項1記載のレチクル保護装置において、前記パッド部材の前記インナーカバーのエッジ部に対向する位置に、前記インナーカバーのエッジ部を押圧する傾斜面を形成してなることを特徴とする。
請求項4のレチクル保護装置は、レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、前記アウターケースの前記蓋部材の内側に、前記レチクルのエッジ部を押圧するパッド部材を配置してなることを特徴とする。
請求項6のレチクル保護装置は、請求項4または請求項5記載のレチクル保護装置において、前記レチクルの前記エッジ部は、前記レチクルの頂部であることを特徴とする。
請求項8のレチクル保護装置は、請求項7記載のレチクル保護装置において、前記クランプ手段は、前記アウターケースの蓋部材に固定されるバネ部材と、前記バネ部材より回転され前記インナーカバーの側面を保持する回転レバーとを有していることを特徴とする。
請求項14のレチクル保護装置は、請求項1ないし請求項12のいずれか1項記載のレチクル保護装置において、前記インナーカバーは、前記レチクルの下面を覆うカバー部材を有していることを特徴とする。
本発明のレチクル保護装置では、インナーカバーの載置部に対応する位置をインナーカバー保持手段により押圧するようにしたので、インナーカバーの載置部のほぼ真上に近い位置を押圧可能であり、インナーカバーに対する曲げモーメント荷重を極力小さくすることが可能であり、インナーカバーを載置部に向かって大きい力で押圧することが可能になり、インナーカバーをアウターケース内により確実に保持することができる。また、インナーカバーに生じる歪みを小さくすることができる。
本発明の露光装置では、本発明のレチクル保護装置を用いてレチクルを保護するようにしたので、汚染の少ないレチクルを使用して歩留まりの高い製品を得ることができる。
(第1の実施形態)
図1および図2は、本発明のレチクル保護装置の第1の実施形態を示している。
この実施形態のレチクル保護装置は、EUVL露光用のレチクル11を収納するインナーケース13と、インナーケース13を収納するアウターケース15とを備えている。レチクル11、インナーケース13およびアウターケース15は、図2に示すように、上方から見て正方形形状とされている。
図7および図8は、レチクル保持手段37、インナーケース保持手段39およびクランプ手段41の詳細を示している。
このパッド部材54には、上カバー部材19のエッジ部19dに対向する位置に傾斜面54aが形成されている。この傾斜面54aは、図面左下側から右上側に向けて傾斜されている。そして、この傾斜面54aにより上カバー部材19のエッジ部19dが押圧されている。これにより、エッジ部19dの狭い面積にパッド部材54の力が集中すると共に、斜め方向の抑えによる分力の関係から水平方向への成分が発生するために、上カバー部材19の水平面内のずれを、回転方向も含めてより確実に抑えることができる。特に、この実施形態では、図2に示すように、エッジ部(辺)の中でも上カパー部材19の四隅である頂部19tをパッド部材54により押圧している。そのため、パッド部材54の弾性力によって頂部19tがパッド部材54に食い込み、横方向へ滑りにくくなるためより確実に保持することが可能となる。パッド部材に予め凹部を設けておき、そこに頂部19tが入り込む構成にすることもできる。この場合はパッド部材は硬質なものでも効果がある。
そして、レチクル11を収納したインナーケース13の下カバー部材17が、図12に示すように、ベース部材23の載置部33に載置される。この状態では、レチクル保持手段37のバネ部材43、インナーケース保持手段39のバネ部材51、およびクランプ手段41のバネ部材57は水平に保たれている。また、レチクル保持手段37のパッド部材47はベローズ46によりレチクル11より上方に位置している。さらに、クランプ手段41の回転レバー61は自重により回転して保持部61bが下方に位置している。
この実施形態では、インナーケース保持手段39によるインナーケース13の保持、クランプ手段41によるインナーケース13の保持、レチクル保持手段37によるレチクル11の保持が順番に行われるように、インナーケース保持手段39のパッド部材54、クランプ手段41の回転レバー61、レチクル保持手段37のパッド部材47の位置が設定されている。
さらに、クランプ手段41によりインナーケース13を、アウターケース15の蓋部材21より剛性の高いベース部材23に保持するようにしたので、インナーケース13をアウターケース15内に確実に保持することができる。
さらに、上述したレチクル保護装置では、インナーケース保持手段39によりインナーケース13を保持した後、クランプ手段41によりインナーケース13をベース部材23に四方から保持するようにしたので、クランプ手段41による保持時にインナーケース13が大きく移動することがなくなり、インナーケース13をアウターケース15内により確実に保持することができる。そのため、摺動によるゴミの発生を少なくすることができる。
なお、この実施形態では、アウターケース15内にレチクル保持手段37、インナーケース保持手段39およびクランプ手段41を設けた例について説明したが、必ずしもアウターケース15内に全ての手段37,39,41を設ける必要はなく、装置側の要望により1つ以上の手段を設けるようにしても良い。
(第2の実施形態)
図13は、本発明のレチクル保護装置の第2の実施形態の要部を示している。
この実施形態では、インナーケース13の上カバー部材19の側面部19bの下面に、断面三角形状の凹溝19aが側面部19bの下面に沿って環状に形成されている。そして、この凹溝19aにパッキン67が配置されている。また、インナーケース13の上カバー部材19の側面部19bに貫通穴19fが形成され、この貫通穴19fにフィルタ69が配置されている。さらに、インナーケース13の上面部19aに貫通穴19hが形成され、この貫通穴19hが薄膜71により覆われている。
さらに、この実施形態では、インナーケース13の上面部19aに貫通穴19hを形成し、貫通穴19hを薄膜71により覆ったので、外部雰囲気の気圧が急激に変化した時に、薄膜71が破れインナーケース13内の気圧を外部雰囲気の気圧にすることができる。なお、薄膜71の代わりにチェック弁、破裂弁等の安全弁を配置するようにしても良い。
(第3の実施形態)
図14は、本発明のレチクル保護装置の第3の実施形態の要部を示している。
この実施形態では、インナーケース13の上カバー部材19に配置されるベローズ46が、板バネからなるバネ部材73により支持されている。バネ部材73の一端は、上カバー部材19の貫通穴19cの近傍にビス75により固定されている。また、バネ部材73の他端は、ベローズ46の下端とパッド部材47の間に固定されている。
(第4の実施形態)
図15および図16は、本発明のレチクル保護装置の第4の実施形態を示している。
この実施形態では、レチクル11はインナーケース13に収納されることなく、レチクル11の下面のみがインナーカバー部材77により保護される。そして、レチクル11がインナーカバー部材77とともにアウターケース15内に収納される。
なお、側面部77bを無くし、図1に示した下カバー部材17をそのままインナーカバー部材77としても良い。また、インナーカバー保持手段79とクランプ手段41のどちらか一方でも良い。さらに、レチクル保持手段81のみにすることも可能である。
(第1の実施形態の変形例)
図17および図18は本発明の第1の実施形態の変形例を示している。
この変形例では、クランプ手段41が下カバー部材17の2辺(図18の上辺および左辺)となる位置にのみ配置されている。そして、下カバー部材17の他の2辺(図18の右辺および下辺)となる位置には、位置決め用のブロック部材83が配置されている。このブロック部材83は、図17に示すように、アウターケース15のベース部材23の上面に固定されている。
(露光装置の実施形態)
図19は、EUV光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光は0.1〜400nmの間の波長を持つもので、この実施形態では特に1〜50nm程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム101を用いたもので、ウエハ103上にレチクル11によるパターンの縮小像を形成するものである。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
レチクル11は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハ103は、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ105によって支持されている。ウエハ103上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクル11の所定の領域に照射され、レチクル11とウエハ103は像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハ103上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(2)上述した実施形態では、レチクル11、下カバー部材17および下カバー部材17を3箇所の載置部27,33に載置して支持した例について説明したが、例えば、載置部を3箇所以上設け、3箇所以上で支持するようにしても良い。
11a エッジ部
13 インナーケース
15 アウターケース
17 下カバー部材
19 上カバー部材
21 蓋部材
21c 嵌合部
23 ベース部材
27,33 載置部
37,81 レチクル保持手段
39 インナーケース保持手段
41 クランプ手段
47,54 パッド部材
47a,54a 傾斜面
61 回転レバー
77 カバー部材
79 インナーカバー保持手段
Claims (15)
- レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記アウターケースの前記蓋部材の内側に、前記インナーカバーのエッジ部を押圧するパッド部材を配置してなることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項1記載のレチクル保護装置において、
前記パッド部材の前記インナーカバーのエッジ部に対向する位置に、前記インナーカバーのエッジ部を押圧する傾斜面を形成してなることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項1または請求項2記載のレチクル保護装置において、
前記インナーカバーの前記エッジ部は、前記インナーカバーの頂部であることを特徴とするレチクル保護装置。 - レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記アウターケースの前記蓋部材の内側に、前記レチクルのエッジ部を押圧するパッド部材を配置してなることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項4記載のレチクル保護装置において、
前記パッド部材の前記レチクルのエッジ部に対向する位置に、前記レチクルのエッジ部を押圧する傾斜面を形成してなることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項4または請求項5記載のレチクル保護装置において、
前記レチクルの前記エッジ部は、前記レチクルの頂部であることを特徴とするレチクル保護装置。 - レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記インナーカバーを前記ベース部材に前記レチクル面に対して水平方向に保持するクランプ手段を有していることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項7記載のレチクル保護装置において、
前記クランプ手段は、前記アウターケースの蓋部材に固定されるバネ部材と、前記バネ部材より回転され前記インナーカバーの側面を保持する回転レバーとを有していることを特徴とするレチクル保護装置。 - レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記アウターケースに、前記アウターケース内に収納される前記インナーカバーを保持するインナーカバー保持手段を設けるとともに、前記ベース部材の内側に、前記インナーカバーを載置する載置部を設け、前記インナーカバーの前記載置部に対応する位置を前記インナーカバー保持手段により押圧してなることを特徴とするレチクル保護装置。 - レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記アウターケースに、前記インナーカバーにより覆われるレチクルを保持するレチクル保持手段を設けるとともに、前記インナーカバーに、前記レチクルを載置する載置部を設け、前記レチクルの前記載置部に対応する位置を前記レチクル保持手段により押圧してなることを特徴とするレチクル保護装置。 - レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記アウターケースに、前記アウターケース内に収納されるインナーカバーを保持するインナーカバー保持手段と、前記インナーカバーを前記ベース部材に前記レチクル面に対して水平方向に保持するクランプ手段とを設け、前記インナーカバー保持手段により前記インナーカバーを保持した後、前記クランプ手段により前記インナーカバーを前記ベース部材に保持することを特徴とするレチクル保護装置。 - レチクルを覆うインナーカバーを、蓋部材とベース部材とを備えたアウターケース内に収納してなるレチクル保護装置において、
前記アウターケースに、前記アウターケース内に収納されるインナーカバーを保持するインナーカバー保持手段と、前記インナーカバーを前記アウターケース内の位置決め部に押圧して保持するクランプ手段とを設け、前記クランプ手段により前記インナーカバーを前記位置決め部に押圧して保持した後、前記インナーカバー保持手段により前記インナーカバーを保持することを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項1ないし請求項12のいずれか1項記載のレチクル保護装置において、
前記インナーカバーは、前記レチクルを収納する上カバー部材と下カバー部材とを有していることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項1ないし請求項12のいずれか1項記載のレチクル保護装置において、
前記インナーカバーは、前記レチクルの下面を覆うカバー部材を有していることを特徴とするレチクル保護装置。 - 請求項1ないし請求項14のいずれか1項記載のレチクル保護装置を用いることを特徴とする露光装置。
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---|---|
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007047238A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
JP2008087811A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
JP2008210951A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Toshiba Corp | 位置検出装置および位置検出方法 |
JP2010027809A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Yaskawa Electric Corp | ワーク搬送用容器の開閉機構を備えた搬送装置 |
JP2010027810A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Yaskawa Electric Corp | 真空搬送装置 |
JP2011014823A (ja) * | 2009-07-06 | 2011-01-20 | Dainichi Shoji Kk | マスクケース |
JP2012255958A (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Nikon Corp | マスク保護装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
WO2013186929A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | 株式会社ニコン | マスク保護装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2017151130A (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収納容器 |
KR20190033578A (ko) * | 2016-08-27 | 2019-03-29 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 레티클이 측면 격납되는 레티클 포드 |
CN112394612A (zh) * | 2019-08-16 | 2021-02-23 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模收容装置 |
WO2021104681A1 (en) * | 2019-11-25 | 2021-06-03 | Brooks Automation (Germany) Gmbh | Euv reticle stocker and method of operating the same |
JP2021521469A (ja) * | 2019-01-17 | 2021-08-26 | 全球株式会社Pmcglobal Co.,Ltd. | フォトマスク保管ボックス |
JP2021179596A (ja) * | 2020-05-14 | 2021-11-18 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | 保持ピンを備えたレチクルポッドおよびレチクルの保持方法 |
CN113741138A (zh) * | 2020-05-14 | 2021-12-03 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法 |
KR20210148850A (ko) * | 2020-05-28 | 2021-12-08 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 포토 마스크를 위한 세정 방법 및 장치 |
JP7457741B2 (ja) | 2021-03-12 | 2024-03-28 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | レチクル保管ポッド及びレチクル保持方法 |
JP7475454B2 (ja) | 2019-12-31 | 2024-04-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル仕切壁を通る保持を有するレチクルポッド |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63208414A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-29 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
JPH01160442U (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-07 | ||
JPH05175321A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-07-13 | Canon Inc | 板状物収納容器およびその蓋開口装置 |
JPH07297272A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Canon Inc | 基板収容容器 |
JPH09218502A (ja) * | 1995-10-19 | 1997-08-19 | Svg Lithography Syst Inc | レチクルボックスおよびコンテナ |
JPH1010705A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-16 | Nikon Corp | レチクルケース |
JPH1039495A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | マスク用収納容器 |
JPH10305894A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-11-17 | Nikon Corp | 基板収納ケースおよび半導体製造プロセス |
JPH1154400A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置及び方法 |
JP2001092114A (ja) * | 2000-07-17 | 2001-04-06 | Yuukou Jushi Kk | フォトマスク等基板の収納ケース |
JP2001301877A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Rokko:Kk | マスクケース |
JP2003222992A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Arakawa Jushi:Kk | マスクケース |
JP2003257852A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-12 | Asml Netherlands Bv | レチクルを保護する2部分カバーを用いるシステムおよび方法 |
JP2004214658A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Asml Netherlands Bv | マスク用コンテナ、リソグラフ・マスクをコンテナ内へ移送する方法及びコンテナ内のマスクを走査する方法 |
JP2005032886A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Nikon Corp | マスクフレーム、露光方法及び露光装置 |
JP2005129959A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Asml Netherlands Bv | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
JP2005321529A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Arakawa Jushi:Kk | マスクケース |
JP2006173273A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Miraial Kk | レチクル搬送容器 |
-
2004
- 2004-12-27 JP JP2004376571A patent/JP4581681B2/ja active Active
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63208414A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-29 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
JPH01160442U (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-07 | ||
JPH05175321A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-07-13 | Canon Inc | 板状物収納容器およびその蓋開口装置 |
JPH07297272A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Canon Inc | 基板収容容器 |
JPH09218502A (ja) * | 1995-10-19 | 1997-08-19 | Svg Lithography Syst Inc | レチクルボックスおよびコンテナ |
JPH1010705A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-16 | Nikon Corp | レチクルケース |
JPH1039495A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | マスク用収納容器 |
JPH10305894A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-11-17 | Nikon Corp | 基板収納ケースおよび半導体製造プロセス |
JPH1154400A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置及び方法 |
JP2001301877A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Rokko:Kk | マスクケース |
JP2001092114A (ja) * | 2000-07-17 | 2001-04-06 | Yuukou Jushi Kk | フォトマスク等基板の収納ケース |
JP2003222992A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Arakawa Jushi:Kk | マスクケース |
JP2003257852A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-12 | Asml Netherlands Bv | レチクルを保護する2部分カバーを用いるシステムおよび方法 |
JP2004214658A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Asml Netherlands Bv | マスク用コンテナ、リソグラフ・マスクをコンテナ内へ移送する方法及びコンテナ内のマスクを走査する方法 |
JP2005032886A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Nikon Corp | マスクフレーム、露光方法及び露光装置 |
JP2005129959A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Asml Netherlands Bv | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
JP2005321529A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Arakawa Jushi:Kk | マスクケース |
JP2006173273A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Miraial Kk | レチクル搬送容器 |
Cited By (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007047238A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
JP2008087811A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
JP2008210951A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Toshiba Corp | 位置検出装置および位置検出方法 |
US7495248B2 (en) | 2007-02-26 | 2009-02-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Position detecting apparatus and position detecting method |
JP2010027809A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Yaskawa Electric Corp | ワーク搬送用容器の開閉機構を備えた搬送装置 |
JP2010027810A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Yaskawa Electric Corp | 真空搬送装置 |
JP2011014823A (ja) * | 2009-07-06 | 2011-01-20 | Dainichi Shoji Kk | マスクケース |
JP2012255958A (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Nikon Corp | マスク保護装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
WO2013186929A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | 株式会社ニコン | マスク保護装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US9715175B2 (en) | 2012-06-15 | 2017-07-25 | Nikon Corporation | Mask protection device, exposure apparatus, and method for manufacturing device |
US10234766B2 (en) | 2012-06-15 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Mask protection device, exposure apparatus, and method for manufacturing device |
JP2017151130A (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収納容器 |
CN109690401B (zh) * | 2016-08-27 | 2022-08-02 | 恩特格里斯公司 | 具有侧光罩遏制的光罩舱 |
JP2019528578A (ja) * | 2016-08-27 | 2019-10-10 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクルの側面抑制を有するレチクルポッド |
KR102214147B1 (ko) | 2016-08-27 | 2021-02-09 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 레티클이 측면 격납되는 레티클 포드 |
KR20190033578A (ko) * | 2016-08-27 | 2019-03-29 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 레티클이 측면 격납되는 레티클 포드 |
CN109690401A (zh) * | 2016-08-27 | 2019-04-26 | 恩特格里斯公司 | 具有侧光罩遏制的光罩舱 |
US11594437B2 (en) | 2016-08-27 | 2023-02-28 | Entegris, Inc. | Reticle pod having side containment of reticle |
JP2021521469A (ja) * | 2019-01-17 | 2021-08-26 | 全球株式会社Pmcglobal Co.,Ltd. | フォトマスク保管ボックス |
JP7138275B2 (ja) | 2019-01-17 | 2022-09-16 | 全球株式会社 | フォトマスク保管ボックス |
KR102522363B1 (ko) * | 2019-08-16 | 2023-04-17 | 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 | 연성 접촉부재를 갖는 밀봉식 레티클 저장장치 |
JP2021033291A (ja) * | 2019-08-16 | 2021-03-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | 軟質接触部を備えた封止型レチクル貯蔵器具 |
KR20210021269A (ko) * | 2019-08-16 | 2021-02-25 | 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 | 연성 접촉부재를 갖는 밀봉식 레티클 저장장치 |
CN112394612A (zh) * | 2019-08-16 | 2021-02-23 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模收容装置 |
JP7164570B2 (ja) | 2019-08-16 | 2022-11-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | 軟質接触部を備えた封止型レチクル貯蔵器具 |
WO2021104681A1 (en) * | 2019-11-25 | 2021-06-03 | Brooks Automation (Germany) Gmbh | Euv reticle stocker and method of operating the same |
JP7475454B2 (ja) | 2019-12-31 | 2024-04-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル仕切壁を通る保持を有するレチクルポッド |
JP7242726B2 (ja) | 2020-05-14 | 2023-03-20 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | 保持ピンを備えたレチクルポッドおよびレチクルの保持方法 |
CN113741138A (zh) * | 2020-05-14 | 2021-12-03 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模盒及于一光掩模盒内固持一光掩模的方法 |
JP2021179596A (ja) * | 2020-05-14 | 2021-11-18 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | 保持ピンを備えたレチクルポッドおよびレチクルの保持方法 |
KR20210148850A (ko) * | 2020-05-28 | 2021-12-08 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 포토 마스크를 위한 세정 방법 및 장치 |
KR102613748B1 (ko) * | 2020-05-28 | 2023-12-13 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 포토 마스크를 위한 세정 방법 및 장치 |
US11852969B2 (en) | 2020-05-28 | 2023-12-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Cleaning method for photo masks and apparatus therefor |
JP7457741B2 (ja) | 2021-03-12 | 2024-03-28 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | レチクル保管ポッド及びレチクル保持方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4581681B2 (ja) | 2010-11-17 |
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