JP2010027810A - 真空搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】レチクル等のワークの搬送を真空中で行う真空搬送装置において、ロードロック室の圧力調整過程におけるワーク搬送用容器内へのパーティクルの進入を防ぎ、ワーク表面の汚染を防止する。
【解決手段】ワークＷを収納し、上下方向に開閉自在なワーク搬送用容器７に対して、ロードロック室２にワーク搬送用容器７の押さえ付け機構８を設け、ロードロック室２の圧力調整過程時、容器押さえ付け機構８によりワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付けてシール材７３を完全に密着させて、ワーク搬送用容器７内へパーティクルが進入することを防ぐ。
【選択図】図２

Description

本発明は、半導体製造装置において真空雰囲気でワークを搬送する真空搬送装置に関するもので、特に、レーザ光により半導体ウエハ上に回路パターンを縮小投影露光する半導体露光装置に使用されて、ワークとして回路パターンの原版にあたるレチクルを搬送する真空搬送装置に関する。

近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は、ますます狭くなってきている。このような微細な回路パターンを半導体ウエハ上に形成する方法として、所望の回路パターンが形成された数十種類の原画パターンが描かれたレチクルを、ウエハ上の露光領域に高精度に位置決めした後、レーザ光によりパターンを縮小投影露光してウエハ上に転写する方法がある。このようにして作業を行う半導体露光装置においては、作業を行う作業空間をプロセス室内に設け、このプロセス室内を真空状態に保っておく必要がある。ここで、真空状態に保たれたプロセス室に対して、レチクル等のワークを搬入及び搬出する際には、プロセス室に隣接して、ロボットアームを備えたトランスファ室を設置し、プロセス室とほぼ同程度の圧力となるようにトランスファ室を真空状態に保った状態で、ロボットアームにてプロセス室に対してワークを搬入及び搬出する真空搬送装置が使用されている。真空搬送装置では、プロセス室に対してワークを交換するたびに、比較的容積が大きなトランスファ室を真空状態に復帰させるには非常に効率が悪いので、ロードロック室と呼ばれる小部屋を開閉自在のゲートバルブを介してトランスファ室に併設しておき、まずこのロードロック室にワークを置き、そしてロードロック室内を真空状態にした後に、ロードロック室とトランスファ室とを仕切るゲートバルブを開放し、トランスファ室に設置されたロボットアームによって、ワークをロードロック室からトランスファ室に搬入することが行われている。
ここで、ロードロック室が完全に真空状態になった後は、ワークにパーティクルが付着する可能性は極めて低いが、ワークをロードロック室に置いてから、それが十分に真空状態になるまでの時間は、ロードロック室内にはガスの流れ、つまり、気流が発生し、この気流により舞い上がったパーティクルがワークの表面に付着してしまう可能性が極めて高い。このような、ワーク表面の汚染に対して、許容できるパーティクルの大きさは、上述した回路線幅が狭くなるにつれて微小化してきている。
従来、このようなワーク表面へのパーティクルの付着を防ぐため、例えば、特許文献１のように、ワークをプロセス室に搬入する際には、清浄雰囲気の中で、フィルタ付きのケーシングと底板とから成るワーク搬送用容器の中にワークを収納し、このワーク搬送用容器ごとロードロック室に搬送した後、ロードロック室の内部を真空にし、ロードロック室が完全に真空状態になった後、ワーク搬送用容器を開けてワークを取り出し、プロセス室へワークを搬入する、ということが行われている。そして、露光等のプロセスが終了した後は、上述とは逆の動きでワークが搬出される。具体的には、プロセス室から取り出したワークを真空状態のロードロック室に搬送してワーク搬送用容器内に再び収納し、ワーク搬送用容器を閉じた後、ロードロック室の真空状態を解除し、ワーク搬送用容器ごとロードロック室より搬出して清浄雰囲気の中でワークを取り出す、ということが行われている。
特許第３４５５０７２号

しかし、従来の構成では、ワーク搬送用容器のケーシングと底板とはシール材を介して、一見、密閉されているように見えるものの、ケーシングと底板とは強制的に押さえ付けられているものではなく、ケーシングと底板とが分離しないようにするためのロック機構が設けられているのみであって、ケーシングとシール材、あるいは、底板とシール材の接触部には微小な隙間が存在し、完全に密閉されているものではない。このため、ワークを収納したワーク搬送用容器をロードロック室に搬送してロードロック室の内部を真空状態、あるいは、真空解除状態にする際に、上述の微小な隙間からワーク搬送用容器内にパーティクルが入り込み、ワーク表面に付着して、ワークを汚染するという問題があった。また、ワーク搬送用容器にはフィルタが設けてあるのでワーク搬送用容器の内部と外部の間で通気性があるものの、気流に対しては抵抗があり、ロードロック室の圧力調整過程において、ワーク搬送用容器の内部と外部に圧力差を生じる。このため、特に、ロードロック室を真空状態にする過程においては、ワーク搬送用容器の内部の方が外部よりも圧力が相対的に高い状態となり、その圧力差によって、ワーク搬送用容器を押し開けようとする向きに圧力が作用する。したがって、上述のケーシングとシール材、あるいは、底板とシール材の接触部の微小な隙間がさらに拡大されることになるので、ワーク搬送用容器内にパーティクルが入り込み、ワークを汚染する可能性がより高くなる。
そこで、本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、ワークを収納したワーク搬送用容器をロードロック室に搬送して、ロードロック室の内部を真空状態、あるいは、真空解除状態にする際に、ケーシングとシール材、あるいは、底板とシール材の隙間からワーク搬送用容器内にパーティクルが入り込まず、ワークが汚染されることがない真空搬送装置を提供することを目的とする。

上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１記載の発明は、ワークが収容されたワーク搬送用容器を収容可能であって、真空状態あるいは真空解除状態に圧力調整可能なロードロック室と、前記ロードロック室に隣接して開閉自在のゲートバルブを介して接続され、常時真空状態に保たれるトランスファ室と、前記トランスファ室に設置されたロボットアームとを備え、前記ワーク搬送用容器を前記ロボットアームによって前記ロードロック室と前記トランスファ室との間で搬入及び搬出する真空搬送装置において、前記ワーク搬送用容器は、ワークを搭載する底板と、前記ワークを覆って前記底板との間で前記ワークを収容するとともに前記底板と分離可能な上蓋と、前記上蓋と前記底板との接触面間に設けられたゴム状のシール材と、から成り、前記ロードロック室は、前記ロードロック室が真空状態あるいは真空解除状態に圧力調整される際、前記上蓋と前記底板とを接近させ、前記シール材を弾性変形させて前記ワーク搬送用容器を密閉する容器押さえ付け機構を備えたことを特徴とする真空搬送装置とするものである。
請求項２記載の発明は、前記容器押さえ付け機構は、前記ロードロック室内に固定され、前記ワーク搬送用容器の前記底板を支持する載置台と、前記ロードロック室内に上下動可能に設けられ、前記ワーク搬送用容器の前記上蓋を押下可能なパッド部と、から構成されたことを特徴とする請求項１記載の真空搬送装置とするものである。
請求項３記載の発明は、前記パッド部は、上下方向に撓みを生じるように設けられた板ばねを介してベース部に固定され、前記ベース部が前記ロードロック室の外部に設けられた駆動部によって上下することを特徴とする請求項２記載の真空搬送装置とするものである。
請求項４記載の発明は、前記駆動部は、回転型モータと、前記回転型モータの出力軸に連結されたボールネジと、前記ボールネジのナット部に固定された昇降ベースと、一端が前記昇降ベースに固定され、他端が前記ベース部に固定され、前記ロードロック室の底壁を貫通するシャフトと、前記昇降ベースを上下に案内するリニアガイドと、前記ロードロック室の前記底壁下面と前記昇降ベースとの間を気密に保持し、前記シャフトが挿通される真空ベローズと、から構成されたことを特徴とする請求項３記載の真空搬送装置とするものである。
請求項５記載の発明は、前記容器押さえ付け機構は、前記ロードロック室内に上下動可能に設けられ、前記ワーク搬送用容器の前記底板を支持する載置台と、前記ロードロック室内に固定され、前記ワーク搬送用容器の前記上蓋と当接可能なパッド部と、から構成されたことを特徴とする請求項１記載の真空搬送装置とするものである。
請求項６記載の発明は、前記パッド部は、上下方向に撓みを生じるように設けられた板ばねを介して前記ロードロック室に固定されたことを特徴とする請求項５記載の真空搬送装置とするものである。
請求項７記載の発明は、前記載置台を上下に駆動する駆動部は、回転型モータと、前記回転型モータの出力軸に連結されたボールネジと、前記ボールネジのナット部に固定された昇降ベースと、一端が前記昇降ベースに固定され、他端が前記載置台に固定され、前記ロードロック室の底壁を貫通するシャフトと、前記昇降ベースを上下に案内するリニアガイドと、前記ロードロック室の前記底壁下面と前記昇降ベースとの間を気密に保持し、前記シャフトが挿通される真空ベローズと、から構成されたことを特徴とする請求項５記載の真空搬送装置とするものである。
請求項８記載の発明は、請求項１記載の真空搬送装置を備え、前記ワークがレチクルであることを特徴とする半導体露光装置とするものである。

本発明によると、ワークを収納したワーク搬送容器が載置されたロードロック室を真空状態、あるいは、真空解除状態に圧力調整する際に、容器押さえ付け機構のパッド部にてワーク搬送用容器の上蓋を押さえ付けることができるので、容器のシール材が弾性変形し、上蓋とシール材、あるいは、底板とシール材が完全に密着して微小な隙間を生じることがない。したがって、ワーク搬送用容器内にパーティクルが入り込んでワークを汚染することがない。
また、本発明によると、適切なばね定数の板ばねを選定し、かつ、直線導入機構部の駆動部の停止位置を調節することにより、ワーク搬送用容器の上蓋を押さえ付ける力を調節することが可能である。このため、ロードロック室を真空状態にする過程において、ワーク搬送用容器の内部の方が外部よりも圧力が相対的に高い状態となっても、その圧力差によって生じる力に打ち勝ち、かつ、シール材を弾性変形させるのに十分な力となるように、ワーク搬送用容器の上蓋を押さえ付ける力を設定すれば、シール材が密着した状態を保つことができ、シール材の境界部に微小な隙間を生じることがなく、ワーク搬送用容器内にパーティクルが入り込むことがない。

以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。

図１は、本発明の実施例を示す真空搬送装置１の全体平面図である。図において、２は、真空状態（大気圧よりも低い負圧の状態）、あるいは、真空解除状態（ほぼ大気圧の状態）に圧力調整可能なロードロック室であり、３は、ロードロック室２に隣接して接続されたトランスファ室である。４は、ワークＷが収納されたワーク搬送用容器７を開閉するための容器開閉室であり、トランスファ室３とともに常時真空状態が保たれている。また、図示していないが、容器開閉室４内には真空を維持した状態でワーク搬送用容器７を開閉する機構を装備している。５は、露光等の処理を行うためのプロセス室であり、トランスファ室３に隣接して接続されている。なお、ロードロック室２、トランスファ室３、容器開閉室４、および、プロセス室５は、いずれも、真空状態が維持できるように気密構造になっている。
トランスファ室３には、ロードロック室２、容器開閉室４、および、プロセス室５に対して、ワークＷを搬入及び搬出するためのロボットアーム３１が設置してあり、また、図示していないが、トランスファ室３内のガス（気体）を排気して内部を真空状態にするための真空ポンプと、真空状態を解除するための給気設備が装備されている。
また、ロードロック室２とトランスファ室３との間には、ゲートバルブ６１が設けてあり、ゲートバルブ６１は、ワーク搬送用容器７を持ったロボットアーム３１の先端部が通過するのに十分な広さの開口と、この開口を開閉するためのバルブを備えており、このバルブを閉じれば、ロードロック室２とトランスファ室３の間の気密性を保つことができるようになっている。ゲートバルブ６１はロードロック室２側壁の開口部２１に連結されている。また、ロードロック室２の他方の側壁には、ワークＷが収納されたワーク搬送用容器７を搬入、搬出するための搬入搬出口２２が設けてあり、この搬入搬出口２２を塞ぎ、ロードロック室２の内部と外部の間で気密性が保てるようにゲートバルブ６２が設けてある。また、図示していないが、ロードロック室２には、ロードロック室２内のガスを排気して内部を真空状態にするための真空ポンプと、真空状態を解除するための給気管が接続されている。給気管の先には、図示しない給気バルブ及び清浄フィルタが接続されており、この給気バルブを開放すると、清浄フィルタを通ってガスがロードロック室２内に流れ込み、ロードロック室２内の真空状態を解除できるようになっている。

図２は、図１の真空搬送装置１のロードロック室２の側断面図であり、図３は、図１の真空搬送装置１のロードロック室２の上面部を透視した平面図である。
図において、ワーク搬送用容器７は、複数のパーティクルフィルタ７４が設けられた上蓋７１と、ワークＷが載置される底板７２と、上蓋７１と底板７２の接触面間に設置されたゴム状のシール材７３とから構成されており、上蓋７１と底板７２とを上下方向に、分離、または、結合することにより開閉することができる。パーティクルフィルタ７４はワークＷが収容される空間と外部との間に存在し、気体は通すが微小なパーティクルを通さないフィルタである。
８は、容器押さえ付け機構であり、上下に昇降自在の直線導入機構部８１と、直線導入機構部８１の先端に設けられたベース部８４と、ベース部８４に取り付けられて上下方向に撓みを生じるように設けられた板ばね８３と、板ばね８３の先端部に取り付けられたパッド部８２と、ロードロック室２内に固定された載置台８５と、から構成されていて、容器押さえ付け機構８の直線導入機構部８１を下降させると、板ばね８３を介してパッド部８２がワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付けるように配置されている。このような構成において、適切なばね定数の板ばね８３を選定し、かつ、直線導入機構部８１の上下の停止位置を調節することにより、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付ける力を調節することが可能である。
このようにして、本実施例においては、ロードロック室２を真空状態にする過程で、ワーク搬送用容器７の内部の方が外部よりも圧力が相対的に高い状態となっても、その圧力差によって生じる力に打ち勝ち、かつ、シール材７３を弾性変形させるのに十分な力となるように、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付ける容器押さえ付け機構８が設けられている。
なお、本実施例に示すロードロック室２では、ロードロック室２内部の排気を効率良く行うために、ロードロック室２底部の略中央に、比較的大口径の真空ポンプ接続口２３が設けてある。この真空ポンプ接続口２３の配置に対して、上述の容器押さえ付け機構８は、各々、鏡像関係となるように２組が設置され、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を均等に押さえ付けるように工夫されている。
また、上述の直線導入機構部８１は、上下方向に十分な余裕をもったストロークを有しており、ロボットアーム３１がロードロック室２内に固定された載置台８５に対してワーク搬送用容器７を受け渡す際には、直線導入機構部８１が上昇することにより退避して、パッド部８２及び板ばね８３と、ワーク搬送用容器７とが干渉することがないようになっている。

図４は、本発明の実施例を示す真空搬送装置の直線導入機構部の一例を示す側面図である。例えば図示するように、上述の直線導入機構部８１は、駆動部として、駆動源であるモータ８１１と、モータ８１１に連結されたボールネジ８１２と、ボールネジ８１２のナット部に固定された昇降ベース８１３と、昇降ベース８１３に固定されてボールネジ８１２のナット部の動きと共に上下にスライドするシャフト８１４と、シャフト８１４を上下にスライド自在なように支持するリニアガイド８１５とを備えている。シャフト８１４の先端には、上述のベース部８４が取り付けられる。また、ロードロック室２の気密性を確保し、ベース部８４の昇降を妨げないように、ロードロック室２の底部下面と昇降ベース８１３との間には、真空ベローズ８１６が接続されている。

次に、本実施形態における真空搬送装置１の動作について説明する。なお、以下に説明する動作は、図示しないコントローラによる完全なるシーケンス制御により実行されるものである。
まず、清浄雰囲気の中で、ワークＷをワーク搬送用容器７の中に収納する。トランスファ室３側のゲートバルブ６１を閉じて、ロードロック室２のみを真空解除する。外部側のゲートバルブ６２を開けて、図示しない大気搬送用ロボットアームにて、ワークＷを収納したワーク搬送用容器７をロードロック室２内の載置台８５の上に載置する。このとき、押さえ付け機構８の直線導入機構部８１は上昇した状態で退避している。外部側のゲートバルブ６２を閉じた後、押さえ付け機構８の直線導入機構部８１を下降させて、板ばね８３を介してパッド部８２にてワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付ける。次に、ロードロック室２の内部を真空にし、ロードロック室２が完全に真空状態になるまで、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付け機構８によって押さえ付けた状態を維持する。このとき、ロードロック室２内には内部のガスの排気によって気流が発生し、この気流によりパーティクルは舞い上がるであろうが、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付けた状態を保持しているので、ワーク搬送用容器７のシール材７３が弾性変形し、上蓋７１とシール材７３、あるいは、底板７２とシール材７３が完全に密着して微小な隙間も生じることがないので、ワーク搬送用容器７内にパーティクルが入り込んでワークＷを汚染することはない。ロードロック室２が完全に真空状態になった後は、押さえ付け機構８の直線導入機構部８１を上昇させて退避させる。
次に、トランスファ室３側のゲートバルブ６１を開けて、ロボットアーム３１により、ロードロック室２よりワーク搬送用容器７を搬出し、容器開閉室４へ搬入する。ここで、ワーク搬送用容器７の上蓋７１と、ワークＷが載置された底板７２とが分離され、ロボットアーム３１により、ワークＷが載置された底板７２のみが容器開閉室４から搬出されて、プロセス室５に搬入される。この後、プロセス室５内で、ワークＷと底板７２が分離された後、露光等の所定のプロセスが行われる。

露光等のプロセスが終了した後は、上述とは逆の動きでワークＷを搬出する。具体的には、プロセス室５内でワークＷが底板７２に再び載置されたものを、ロボットアーム３１によりプロセス室５から搬出し、容器開閉室４へ搬入する。ここで、ワーク搬送用容器７の上蓋７１と、ワークＷが載置された底板７２が再び結合されて、上蓋７１が付いたワーク搬送用容器７をロボットアーム３１により容器開閉室４より搬出し、ロードロック室２内の載置台８５の上へ搬入する。トランスファ室３側のゲートバルブ６１を閉じた後、押さえ付け機構８の直線導入機構部８１を下降させて、板ばね８３を介してパッド部８２にてワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付ける。次に、ロードロック室２の内部を真空解除し、完全に真空状態が解除するまで、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付けた状態を維持する。このとき、ロードロック室２内には給気によってガスの気流が発生し、この気流によりパーティクルは舞い上がるであろうが、ワーク搬送用容器７の上蓋７１を押さえ付けた状態を保持しているので、ワーク搬送用容器７のシール材７３が弾性変形し、上蓋７１とシール材７３、あるいは、底板７２とシール材７３が完全に密着して微小な隙間も生じることがないので、ワーク搬送用容器７内にパーティクルが入り込んでワークＷを汚染することはない。ロードロック室２が完全に真空解除状態になった後は、押さえ付け機構８の直線導入機構部８１を上昇させて退避させる。次に、外部側のゲートバルブ６２を開けて、図示しない大気搬送用ロボットアームにて、ワーク搬送用容器７をロードロック室２から外部へ搬出する。
このような一連の動作を繰り返すことで、ワークＷをパーティクルからほぼ完全に遮断した状態で搬送を行うことができる。

なお、上記実施例では容器押さえ付け機構８について、ロードロック室２を真空状態あるいは真空解除状態にする際、容器押さえ付け機構８の直線導入機構部８１が下方に移動して上蓋７を押さえつけ、ワーク搬送用容器７を密閉させる形態を説明したが、例えば、載置台８５に直線導入機構部８１の駆動部と同様な上下機構を設けて上下可能に構成し、ロードロック室２内に板ばね８３とパッド部８２とを固定し、載置台８５に載置されたワーク搬送用容器７を上昇させて、板ばね８３及びパッド部８２に押し付けるようにしても、本発明の効果が得られることはいうまでもない。

本発明の実施例を示す真空搬送装置の全体平面図 本発明の実施例を示す真空搬送装置のロードロック室の側断面図 本発明の実施例を示す真空搬送装置のロードロック室の上面部を透視した平面図 本発明の実施例を示す真空搬送装置の直線導入機構部の一例を示す側面図

符号の説明

１ 真空搬送装置
２ ロードロック室
２１ 開口部
２２ 搬入搬出口
２３ 真空ポンプ接続口
３ トランスファ室
３１ ロボットアーム
４ 容器開閉室
５ プロセス室
６１ ゲートバルブ
６２ ゲートバルブ
７ ワーク搬送用容器
７１ 上蓋
７２ 底板
７３ シール材
７４ パーティクルフィルタ
８ 容器押さえ付け機構
８１ 直線導入機構部
８２ パッド部
８３ 板ばね
８４ ベース部
８５ 載置台
８１１ モータ
８１２ ボールネジ
８１３ 昇降ベース
８１４ シャフト
８１５ リニアガイド
８１６ 真空ベローズ
Ｗ ワーク

Claims (8)

1. ワークが収容されたワーク搬送用容器を収容可能であって、真空状態あるいは真空解除状態に圧力調整可能なロードロック室と、前記ロードロック室に隣接して開閉自在のゲートバルブを介して接続され、常時真空状態に保たれるトランスファ室と、前記トランスファ室に設置されたロボットアームとを備え、前記ワーク搬送用容器を前記ロボットアームによって前記ロードロック室と前記トランスファ室との間で搬入及び搬出する真空搬送装置において、
   前記ワーク搬送用容器は、ワークを搭載する底板と、前記ワークを覆って前記底板との間で前記ワークを収容するとともに前記底板と分離可能な上蓋と、前記上蓋と前記底板との接触面間に設けられたゴム状のシール材と、から成り、
   前記ロードロック室は、前記ロードロック室が真空状態あるいは真空解除状態に圧力調整される際、前記上蓋と前記底板とを接近させ、前記シール材を弾性変形させて前記ワーク搬送用容器を密閉する容器押さえ付け機構を備えたことを特徴とする真空搬送装置。
2. 前記容器押さえ付け機構は、
   前記ロードロック室内に固定され、前記ワーク搬送用容器の前記底板を支持する載置台と、
   前記ロードロック室内に上下動可能に設けられ、前記ワーク搬送用容器の前記上蓋を押下可能なパッド部と、から構成されたことを特徴とする請求項１記載の真空搬送装置。
3. 前記パッド部は、上下方向に撓みを生じるように設けられた板ばねを介してベース部に固定され、前記ベース部が前記ロードロック室の外部に設けられた駆動部によって上下することを特徴とする請求項２記載の真空搬送装置。
4. 前記駆動部は、
   回転型モータと、
   前記回転型モータの出力軸に連結されたボールネジと、
   前記ボールネジのナット部に固定された昇降ベースと、
   一端が前記昇降ベースに固定され、他端が前記ベース部に固定され、前記ロードロック室の底壁を貫通するシャフトと、
   前記昇降ベースを上下に案内するリニアガイドと、
   前記ロードロック室の前記底壁下面と前記昇降ベースとの間を気密に保持し、前記シャフトが挿通される真空ベローズと、
   から構成されたことを特徴とする請求項３記載の真空搬送装置。
5. 前記容器押さえ付け機構は、
   前記ロードロック室内に上下動可能に設けられ、前記ワーク搬送用容器の前記底板を支持する載置台と、
   前記ロードロック室内に固定され、前記ワーク搬送用容器の前記上蓋と当接可能なパッド部と、から構成されたことを特徴とする請求項１記載の真空搬送装置。
6. 前記パッド部は、上下方向に撓みを生じるように設けられた板ばねを介して前記ロードロック室に固定されたことを特徴とする請求項５記載の真空搬送装置。
7. 前記載置台を上下に駆動する駆動部は、
   回転型モータと、
   前記回転型モータの出力軸に連結されたボールネジと、
   前記ボールネジのナット部に固定された昇降ベースと、
   一端が前記昇降ベースに固定され、他端が前記載置台に固定され、前記ロードロック室の底壁を貫通するシャフトと、
   前記昇降ベースを上下に案内するリニアガイドと、
   前記ロードロック室の前記底壁下面と前記昇降ベースとの間を気密に保持し、前記シャフトが挿通される真空ベローズと、
   から構成されたことを特徴とする請求項５記載の真空搬送装置。
8. 請求項１記載の真空搬送装置を備え、前記ワークがレチクルであることを特徴とする半導体露光装置。

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