JP2003168727A

JP2003168727A - エクスチェンジャーおよびガス置換方法

Info

Publication number: JP2003168727A
Application number: JP2001365703A
Authority: JP
Inventors: Toshio Ishikawa; 俊雄石川; Shinichi Araya; 真一荒谷; Toshihiko Miyajima; 俊彦宮島; Shigeki Ishiyama; 茂樹石山
Original assignee: TDK Corp; Dainichi Shoji KK
Current assignee: TDK Corp; Dainichi Shoji KK
Priority date: 2001-11-30
Filing date: 2001-11-30
Publication date: 2003-06-13

Abstract

(57)【要約】【課題】この発明は、半導体ウエハーなどを運搬する
コンテナ１の内部の大気を窒素ガスなどに置換する装置
において、従来のコンテナ１やコンテナの蓋３を製造し
なおす必要がなく、置換時間が短くて済むものを提供す
る。【解決手段】チャンバー５の内部にコンテナ１を収納
し、内部のオープナー機構７で、コンテナ１の蓋３を開
き、真空ポンプ９でチャンバー５内を真空にし、窒素ガ
スなどを供給する。そして、再びコンテナ１の蓋３を閉
じ、その後にコンテナ１をチャンバー５から取り出す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、保管や運搬の際な
どに高い清浄度を保つ必要がある嫌塵埃物品、例えば、
シリコンウエハー、レクチルなどの半導体基板や微小回
路の形成された石英ガラス基板を、収納し、保管し、運
搬し、または装置へのロードおよびアンロードを行うコ
ンテナに係り、このコンテナの内部を、窒素ガスなどの
不活性ガス、あるいは低湿度の空気（Ｃ．Ｄ．Ａ（Ｃｌ
ｅａｎＤｒｙＡｉｒ）クリーンエアドライ）に置換
する装置およびガス置換方法に関する。以下では、当該
物品として、特に半導体基板を挙げて説明するが、これ
は例示のためであり、本願発明を限定するためのもので
はない。本願発明は運搬の際に高い清浄度を保つ必要が
ある物品のいずれにも適用可能である。

【０００２】

【従来の技術】パターンサイズが０．１３ミクロン以下
の微細回路を形成する次世代半導体の製造プロセスで
は、パーティクルと呼ばれる微粒子を排除したクリーン
ルームに、より高い清浄度が要求される。そして、クリ
ーンルームの製造コスト及び運転コストは、回路の微細
化に比例的に上昇する。

【０００３】この問題の解決策として、シリコンウエハ
ーなどの基板を収納し、運搬し、加工装置などへのロー
ドおよびアンロードを行うコンテナ、並びに、前記加工
装置などを、局所的に清浄に保つ方法が、次世代半導体
製造工程としてＳＥＭＩ規格（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔ
ｏｒＥｑｕｉｐｍｅｎｔ＆ＭａｔｅｒｉａｌＩｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ）で標準化されミニエンバイロ
メントと呼称されている。

【０００４】また、ウエハー、およびレクチル（パター
ンの形成された石英ガラス基板）を収納し、保管し、運
搬し、または装置へのロードおよびアンロードを行うコ
ンテナとして、ＳＭＩＦ（ＳｔａｎｄａｒｄＭｅｃｈ
ａｎｉｃａｌＩｎｔｅｒｆａｃｅ）Ｐｏｄが標準化さ
れ使用されている。

【０００５】次世代３００ｍｍφウエハー用のコンテナ
としては、ＦＯＵＰ（ＦｒｏｎｔＯｐｅｎｉｎｇＵｎ
ｉｆｉｅｄＰｏｄ）が規格化、標準化されている。
ちなみに、ＳＭＩＦＰｏｄはコンテナ（Ｐｏｄ）の蓋
（ドア）が下方に開放される方式（ＢｏｔｔｏｍＯｐ
ｅｎｉｎｇ方式）、ＦＯＵＰは前面に開放される方式
（ＦｒｏｎｔＯｐｅｎｉｎｇ方式）となっている。

【０００６】さて、次世代半導体製造プロセスラインに
おいては、半導体に影響を与える物質として、前述のパ
ーティクルのほか、ガス状の汚染物質が指摘されるとと
もに、水蒸気に溶解された金属不純物が有害物質として
指摘されている。また、ＳＭＩＦＰｏｄやＦＯＵＰ
は、軽量化、ローコスト化の面などからプラスチックが
使用されているが、プラスチックから放出されるアウタ
ーガスが、半導体の信頼性を低下させている。

【０００７】こうしたガスなどの問題を解決するための
一方法として、コンテナ内に窒素ガスなどの不活性ガス
を封入する方法が提案されて、一部が実用化されてい
る。また、窒素ガスを封入することにより、ウエハー上
に形成される薄膜の酸化を遅らせるとともに、水蒸気を
排除することになり、水蒸気に溶解された金属不純物に
よる汚染の防止も期待されている。

【０００８】コンテナ内部の大気を窒素ガスと置換する
方法として、ＳＭＩＦＰｏｄにおいては、コンテナ
（Ｐｏｄ）の下方に開放される蓋（ドア）に開口部を複
数か所設け、一方の開口部からコンテナ内部の排気をお
こない、他方の開口部から窒素ガスの供給をおこなって
置換する方法がとられている。また、ＦＯＵＰにおいて
は、前面に開放される蓋の二ヶ所に、同様に排気と供給
をおこなう開口部を設けて置換する方法がとられてい
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、（１）
以上の二つの置換方法によれば、いずれも、コンテナ内
の排気と窒素ガスの供給は、コンテナ内の圧力が大気と
大きく違わないようにするため、バランスをとりながら
行わなければならない。圧力が大きく違ってしまうと、
コンテナの耐圧強度を大きくしなければならず、多数の
コンテナを改良し、または製造しなおさなければならな
くなってしまうからである。

【００１０】このためコンテナ内は大気と窒素ガスの混
合状態が続き、窒素ガスが十分な濃度になるまでに、長
い置換時間がかかってしまうものであった。たとえば、
大気の残留を示す酸素濃度が１０ｐｐｍになるまでに、
２４時間以上もかかってしまう。このため多数のコンテ
ナの置換作業をおこなうために、置換のための装置が多
数必要になってしまうものであった。

【００１１】（２）コンテナの開口部に、排気やガス供
給のためのバルブを設けなければならず、多数のコンテ
ナの、開口部が設けられる蓋を製造しなおさなければな
らないものであった。この発明は、以上の課題を解決す
るためになされたもので、コンテナやコンテナの蓋を製
造しなおす必要がなく、置換時間が短くて済むガスエク
スチェンジャーを提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、第１の発明は、嫌塵埃物品を収納して運搬するコ
ンテナの内部に汚染対策ガスを充填するために、以下の
手段を備えた汚染対策ガスと大気とを置換するガスエク
スチェンジャーである。（ａ）前記コンテナを収納して密閉できるチャンバー
と、（ｂ）前記チャンバーの中に備えられ、前記収納さ
れた状態のコンテナの蓋を開閉できるオープナー手段
と、（ｃ）前記チャンバー内を真空にする真空ポンプ
と、（ｄ）前記真空になったチャンバー内に汚染対策ガ
スを供給するガス供給手段。

【００１３】第２の発明は、前記嫌塵埃物品は、半導体
基板、または石英ガラス基板となるウエハーであり、前
記汚染対策ガスは、窒素ガスなどの不活性ガス、または
クリーンドライエアであるガスエクスチェンジャーであ
る。

【００１４】第３の発明は、前記チャンバーには、前記
コンテナを出し入れする扉と、この扉と反対側の壁に、
高清浄室と低清浄室の境界に設置されるローダに載置さ
れ前記コンテナの蓋を開閉するものとして用いられるオ
ープナー機構が前記オープナー手段として取り付けられ
ているガスエクスチェンジャーである。

【００１５】第４の発明は、前記真空ポンプは、低真空
ポンプと高真空ポンプとからなり、前記チャンバーと予
備真空室を介して連通しているガスエクスチェンジャー
である。

【００１６】第５の発明は、前記ガス供給手段は、汚染
対策ガスを高圧充填されたタンクがバルブを介して前記
チャンバーに連通されているものであるガスエクスチェ
ンジャーである。

【００１７】第６の発明は、前記チャンバーは、底部に
コンテナを載置して直線的にガイドする直線ガイドが設
けられ、前記オープナー機構は、前記ガイドされたコン
テナの前面の前記蓋が押し当てられることで、前記蓋を
クランプしロック機構をＯＦＦまたはＯＮするクランプ
機構と、このクランプした蓋を直線的に移動させ蓋を開
けまたは閉める直動機構と、を有するガスエクスチェン
ジャーである。

【００１８】第７の発明は、嫌塵埃物品を収納して運搬
するコンテナの内部に汚染対策ガスを充填するために、
以下の行程を備えて、この汚染対策ガスと大気とを置換
するガス置換方法である。（ａ）前記コンテナをチャンバーに収納して密閉する工
程と、（ｂ）前記チャンバーの中に備えられたオープナ
ー手段により、前記収納された状態のコンテナの蓋を開
く工程と、（ｃ）前記チャンバー内を真空ポンプにより
真空にする工程と、（ｄ）前記真空になったチャンバー
内に汚染対策ガスを供給する工程と、（ｅ）前記オープ
ナー手段により、前記収納された状態のコンテナの蓋を
閉じる行程と、（ｆ）前記チャンバー内に大気を導入す
る工程と、（ｇ）前期チャンバーから前記コンテナを取
り出す工程と。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下に、本願発明の最良の実施形
態の例を図１乃至図６において説明する。なお、以下の
実施形態は本願発明の範囲を限定するものではない。す
なわち、当業者であれば本願発明の原理の範囲で、他の
実施形態を採用することが可能である。

【００２０】（全体概略）この実施形態では、嫌塵埃物
品は、図示しない半導体ウエハーであり、コンテナ１
は、上述したように従来ＦＯＵＰと呼称され、前面の蓋
３が開放される方式のものである。コンテナ内の大気と
置換させるべき汚染対策ガスは、窒素ガスである。

【００２１】コンテナ１を収納して密閉できるチャンバ
ー５の中には、収納された状態のコンテナ１の蓋３を開
閉できるオープナー機構７が設けられ、また、チャンバ
ー５の外部には、チャンバー５内を真空にする真空ポン
プ９や、真空になったチャンバー５内に窒素ガスを供給
するガス供給手段１１が備えられている。

【００２２】（チャンバーとオープナー機構など）チャ
ンバー５は、概略箱形を有し、コンテナ１を収納する十
分な大きさがあり、しかし、ガスの置換時間が余り長く
ならないように、大きすぎない容積を有する。また、内
部が真空になっても外部の大気圧に十分に耐えられる耐
圧強度を有する。正面にはコンテナ１を出し入れする扉
１３が設けられ、外部から開閉操作ができる。

【００２３】この扉１３と反対側の壁には、すなわち奥
側の壁１５には、収納された状態のコンテナ１の蓋３を
開閉できるオープナー手段が設けられる。このオープナ
ー手段には、従来のオープナー機構７が使用されうる。
すなわち従来、ＦＯＵＰと呼称されるコンテナ１が運搬
され、コンテナ１内部の半導体ウエハーを低清浄室から
高清浄室へ移すために、両室の境界に設置されるローダ
にコンテナが載置される。このローダには、このコンテ
ナの蓋を開閉するために用いられる同様のオープナー機
構が取り付けられている。チャンバー５の奥側の壁１５
は二重になっており、内側の壁１７が従来の低清浄室と
高清浄室の間の壁に相当し、チャンバー５の内部を第一
真空室１９と第二真空室２１とに分割している。

【００２４】また、チャンバー５の底部には、コンテナ
１を載置して直線的にガイドする直線ガイド２３が設け
られる。オープナー機構７は、ガイドされたコンテナ１
の前面の蓋３が、内側の壁１７に押し当てられること
で、この蓋３をクランプするクランプ機構２５と、蓋３
のロック機構をＯＦＦまたはＯＮするＯＮ・ＯＦＦ機構
２７を有する。また、このクランプした蓋３を内側の壁
１７の一部２９とともに、直線的に移動させて蓋を開
け、または閉める直動機構３１を有する。このように使
用できる従来のオープナー機構７に関して、出願人はす
でに複数件、出願している（ＰＣＴ／ＪＰ００／０３５
５１ＰＣＴ／ＪＰ９８／０５４１７ＰＣＴ／ＪＰ９
８／０１５７５）。

【００２５】（真空ポンプなど）チャンバー５の第一真
空室１９と第二真空室２１は、ともに真空バルブ３３を
介して、予備真空室３５に連通している。この予備真空
室３５は排気バルブ３７を介して、また第一真空室１９
と第二真空室２１と、別の排気バルブ３９を介して、低
真空ポンプであるドライポンプ４１に連通している。さ
らに、予備真空室３５は高真空ポンプであるクライオン
ポンプ４３に連通している。予備真空室３５は、クライ
オンポンプ４３の容量があまり大きくなくても十分に迅
速に真空排気ができるように、十分な容量を有する。

【００２６】（ガス供給手段）ガス供給手段１１は、汚
染対策ガスである窒素ガスを高圧充填された窒素タンク
４５が、複数のバルブ４９、５３、５７、５９と分岐路
を有するガス路４７を介して各室に連通する。すなわ
ち、このガス路４７は第一バルブ４９の下流で分岐し、
一方の分岐路５１で第二バルブ５３を介して予備真空室
３５に連通する。また、他方の分岐路５５では、さらに
二つに分岐し、それぞれ第二バルブ５７、第三バルブ５
９が設けられたのちに合流する。この合流路６１は、再
び分岐し、一方がチャンバー５の第一真空室１９に連通
し、他方が第二真空室２１に連通する。また、第一真空
室１９には大気導入バルブ６３が設けられる。

【００２７】（工程）以上説明したガスエクスチェンジ
ャーによって、コンテナ１内の大気を窒素ガスに置換す
る工程を説明する。（１）多数のコンテナ１の置換をおこなうために、装置
を働かせる準備をする工程。まず、ドライポンプ４１を作動させ、排気バルブ３７を
開け、予備真空室３５を排気し低真空（数１０〜数１０
０Ｐａ）にした後に、この排気バルブ３７を閉める。次
に、クライオンポンプ４３を作動させ、予備真空室３５
を高真空にした後に、一度、ポンプ４１、４３をクール
ダウン（１０〜２０ＫＰａまで）する。さらに、第一バ
ルブ４９を開け、窒素ガスの供給を準備する。

【００２８】（２）チャンバー５にコンテナ１を収納し
密閉する工程。チャンバー５の扉１３を開け、コンテナ１をチャンバー
底部の直線ガイド２３に載置し、奥側に直線的にスライ
ドしてガイドし、コンテナ１前面の蓋３をオープナー機
構７の内側の壁１７の一部２９に押し当てる。そして、
扉１３を閉め、密閉する。

【００２９】（３）チャンバー５中のオープナー機構７
により、コンテナ１の蓋３を開く工程。オープナー機構７は、コンテナ１の蓋３が押し当てられ
ることで、クランプ機構２５が働いて蓋３をクランプ
し、ＯＮ・ＯＦＦ機構２７が働いて蓋３のロック機構を
ＯＦＦし、さらに、直動機構３１が、このクランプした
蓋３を内側の壁１７の一部２９とともに、直線的に移動
させて蓋３を開ける。

【００３０】（４）チャンバー５内を低真空にする工
程。排気バルブ３９を開け、第一真空室１９および第二真空
室２１を排気し低真空（数１０〜数１００Ｐａ）にした
後に、排気バルブ３９を閉める。

【００３１】（５）チャンバー５内を高真空にする工
程。次に、真空バルブ３３をあけ、第一真空室１９および第
二真空室２１を排気し高真空（１／１０００Ｐａ以下）
にした後に、真空バルブ３３を閉める。（６）高真空になったチャンバー５内に窒素ガスを供給
する工程。次に、第三バルブ５７を開け、窒素ガスを第一真空室１
９および第二真空室２１に供給し、これにより、蓋３が
開いたコンテナ１内に充填する。特に、短時間で供給し
たいときは、第四バルブ５９も開ける。供給された窒素
ガス圧力が大気圧になった時点で、これらのバルブ５
７、５９を閉める。

【００３２】（７）オープナー機構７により、収納され
た状態のコンテナ１の蓋３を閉じる行程。オープナー機構７の直動機構３１により、コンテナ１の
蓋３を直線的に移動させて蓋３を閉じ、ＯＮ・ＯＦＦ機
構２７が働いて蓋３のロック機構をＯＮし、クランプ機
構２５が働いて蓋３をアンクランプする。

【００３３】（８）チャンバー５内に大気を導入する工
程。チャンバー５の第一真空室１９の大気導入バルブ６３を
開け、チャンバー５内に大気を導入する。

【００３４】（９）チャンバー５からコンテナ１を取り
出す工程。チャンバー５の扉１３を開け、コンテナ１をチャンバー
底部の直線ガイド２３から外し、チャンバー５から取り
出す。

【００３５】（実施形態の効果）以上、説明したよう
に、チャンバー５にコンテナ１を収納して密封し、コン
テナ１の蓋３を開いた状態で、チャンバー５内を真空に
し、次ぎに窒素ガスを供給するので、（１）チャンバー５の耐圧強度を大きくしておくこと
で、コンテナ１の耐圧強度を大きくする必要がなくな
り、従来の構造の多数のコンテナ１をそのまま使用で
き、したがって、多数のコンテナ１やコンテナの蓋３を
製造しなおす必要がなく、設備コストを低減できる。

【００３６】（２）また、コンテナ１は従来のものを使
用できるにもかかわらず、排気と窒素ガスの供給は、大
気圧と関係なく、高速の排気が完了した後に供給を行う
ことができる。したがって、従来のように大気と窒素ガ
スの混合状態が続くことがなく、迅速に置換をおこなう
ことができる。迅速な置換が行えるので、置換のための
装置（エクスチェンジャー）は少なくてすみ、設備コス
トを低減できる。

【００３７】（３）真空まで減圧した後に、窒素ガスの
供給を行うので、置換作業の間に、従来に比べコンテナ
の内部に存在する気体の総量が小さくて済み、均一な気
体の流れ得られ、乱流が防げ、パーティクルのウエハー
への付着の機会を減少できる。

【００３８】（他の実施形態）以上の実施形態において
は、汚染対策ガスは窒素ガスであったが、他の実施形態
においては、他の不活性ガスや、クリーンドライエアで
あってもよい。また、以上の実施形態においては、チャ
ンバー５の第一真空室１９および第二真空室２１ともに
窒素ガスが供給されるものであったが、他の実施形態に
おいては、異なる種類の汚染対策ガスを供給することも
できる。両室に供給する理由は、両室の圧力を平衡させ
るためのものであり、必ずしも同一種類のガスにする必
要はないからである。例えば、第一真空室１９にクリー
ンドライエアを供給し、第二真空室２１に窒素ガスを供
給することができる。

【００３９】また、以上の実施形態においては、嫌塵埃
物品は半導体基板となる半導体ウエハーであるが、他の
実施形態においては、石英ガラス基板となるウエハー、
あるいは基板や他の電子部品、さらには酸化を嫌う他の
化学物質からなる部品、あるいは食品などであってもよ
い。

【００４０】また、以上の実施形態においては、オープ
ナー手段として、従来の高清浄室と低清浄室の境界に設
置されるローダに載置されコンテナの蓋を開閉するもの
として用いられるオープナー機構７が採用されたが、他
の実施形態においては、蓋３の一部に栓機構を設け、こ
の栓機構を開閉操作する操作機構を採用することも可能
である。

【００４１】また、以上の実施形態においては、真空ポ
ンプは、低真空ポンプであるドライポンプ４１と高真空
ポンプであるクライオンポンプ４３を併用するものであ
ったが、他の実施形態においては、作業工程上で置換時
間に余裕がある場合などは低真空ポンプであるドライポ
ンプ４１のみを使用することも可能である。

【００４２】

【発明の効果】以上の発明によれば、チャンバーにコン
テナを収納して密封し、コンテナの蓋を開いた状態で、
チャンバー内を真空にし、次ぎに窒素ガスを供給するの
で、（１）チャンバーの耐圧強度を大きくしておくことで、
コンテナの耐圧強度を大きくする必要がなくなり、従来
の構造の多数のコンテナをそのまま使用でき、したがっ
て、多数のコンテナやコンテナの蓋を製造しなおす必要
がなく、設備コストを低減できる。

【００４３】（２）また、コンテナは従来のものを使用
できるにもかかわらず、排気と窒素ガスの供給は、大気
圧と関係なく、高速の排気が完了した後に供給を行うこ
とができる。したがって、従来のように大気と窒素ガス
の混合状態が続くことがなく、迅速に置換をおこなうこ
とができる。迅速な置換が行えるので、置換のための装
置（エクスチェンジャー）は少なくてすみ、設備コスト
を低減できる。

【００４４】（３）真空まで減圧した後に、窒素ガスの
供給を行うので、置換作業の間に、従来に比べコンテナ
の内部に存在する気体の総量が小さくて済み、均一な気
体の流れ得られ、乱流が防げ、パーティクルのウエハー
への付着の機会を減少できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明のエクスチェンジャーを示す断面図
で、コンテナをチャンバーに収納する工程を示す図であ
る。

【図２】本願発明のエクスチェンジャーを示す断面図
で、コンテナをチャンバーに封入する工程を示す図であ
る。

【図３】本願発明のエクスチェンジャーを示す断面図
で、チャンバーの中に備えられたオープナー機構によ
り、収納された状態のコンテナの蓋を開く工程を示す図
である。

【図４】本願発明のエクスチェンジャーを示す断面図
で、チャンバー内を真空ポンプにより真空にする工程を
示す図である。

【図５】本願発明のエクスチェンジャーを示す断面図
で、真空になったチャンバー内に窒素ガスを供給する工
程を示す図である。

【図６】本願発明のエクスチェンジャーを示す断面図
で、前記オープナー手段により、前記収納された状態の
コンテナの蓋を閉じ、チャンバー内に大気を導入する工
程を示す図である。

【符号の説明】

１コンテナ３蓋５チャンバー７オープナー機構９真空ポンプ１１ガス供給手段１３扉１５奥側の壁１７内側の壁１９第一真空室２１第二真空室２３直線ガイド２５クランプ機構２７ＯＮ・ＯＦＦ機構２９内側の壁の一部３１直動機構３３真空バルブ３５予備真空室３７排気バルブ３９別の排気バルブ４１低真空ポンプであるドライポンプ４３高真空ポンプであるクライオンポンプ４５窒素タンク４７ガス路４９第一バルブ５１一方の分岐路５３第二バルブ５５他方の分岐路５７第二バルブ５９第三バルブ６１合流路６３大気導入バルブ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者荒谷真一東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (72)発明者宮島俊彦東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (72)発明者石山茂樹東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 CA07 DA08 EA12 EA14 NA04 NA05 NA09 NA10 NA20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】嫌塵埃物品を収納して運搬するコンテナの
内部に汚染対策ガスを充填するために、以下の手段を備
えた汚染対策ガスと大気とを置換するガスエクスチェン
ジャー。（ａ）前記コンテナを収納して密閉できるチャンバー
と、（ｂ）前記チャンバーの中に備えられ、前記収納さ
れた状態のコンテナの蓋を開閉できるオープナー手段
と、（ｃ）前記チャンバー内を真空にする真空ポンプ
と、（ｄ）前記真空になったチャンバー内に汚染対策ガ
スを供給するガス供給手段。
【請求項２】前記嫌塵埃物品は、半導体基板、または石
英ガラス基板となるウエハーであり、前記汚染対策ガス
は、窒素ガスなどの不活性ガス、またはクリーンドライ
エアである請求項１に記載のガスエクスチェンジャー。
【請求項３】前記チャンバーには、前記コンテナを出し
入れする扉と、この扉と反対側の壁に、高清浄室と低清
浄室の境界に設置されるローダに載置され前記コンテナ
の蓋を開閉するものとして用いられるオープナー機構が
前記オープナー手段として取り付けられている請求項１
に記載のガスエクスチェンジャー。
【請求項４】前記真空ポンプは、低真空ポンプと高真空
ポンプとからなり、前記チャンバーと予備真空室を介し
て連通している請求項１に記載のガスエクスチェンジャ
ー。
【請求項５】前記ガス供給手段は、汚染対策ガスを高圧
充填されたタンクがバルブを介して前記チャンバーに連
通されているものである請求項１に記載のガスエクスチ
ェンジャー。
【請求項６】前記チャンバーは、底部にコンテナを載置
して直線的にガイドする直線ガイドが設けられ、前記オ
ープナー機構は、前記ガイドされたコンテナの前面の前
記蓋が押し当てられることで、前記蓋をクランプしロッ
ク機構をＯＦＦまたはＯＮするクランプ機構と、このク
ランプした蓋を直線的に移動させ蓋を開けまたは閉める
直動機構と、を有する請求項１に記載のガスエクスチェ
ンジャー。
【請求項７】嫌塵埃物品を収納して運搬するコンテナの
内部に汚染対策ガスを充填するために、以下の行程を備
えて、この汚染対策ガスと大気とを置換するガス置換方
法。（ａ）前記コンテナをチャンバーに収納して密閉する工
程と、（ｂ）前記チャンバーの中に備えられたオープナ
ー手段により、前記収納された状態のコンテナの蓋を開
く工程と、（ｃ）前記チャンバー内を真空ポンプにより
真空にする工程と、（ｄ）前記真空になったチャンバー
内に汚染対策ガスを供給する工程と、（ｅ）前記オープ
ナー手段により、前記収納された状態のコンテナの蓋を
閉じる行程と、（ｆ）前記チャンバー内に大気を導入す
る工程と、（ｇ）前期チャンバーから前記コンテナを取
り出す工程と。