JPH06501815A - 物品を2つの制御環境の間で移送する装置及び方法 - Google Patents
物品を2つの制御環境の間で移送する装置及び方法Info
- Publication number
- JPH06501815A JPH06501815A JP3515382A JP51538291A JPH06501815A JP H06501815 A JPH06501815 A JP H06501815A JP 3515382 A JP3515382 A JP 3515382A JP 51538291 A JP51538291 A JP 51538291A JP H06501815 A JPH06501815 A JP H06501815A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- door
- container
- port
- region
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67757—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber vertical transfer of a batch of workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/14—Wafer cassette transporting
Abstract
Description
Claims (14)
- 1.物品を2つの制御環境の間で移送する装置であって、第1内部領域を有する 第1容器を有し、前記第1容器は、前記第1内部領域に大気圧状態から隔離され た制御環境を設けるために、前記第1容器とのシールを作る第1手段を有し、 第2内部領域を有する第2容器を有し、前記第2容器は、前記第2内部領域に出 入りし、前記第1容器を受け入れ、かつ前記第1容器とのシールを作る第2手段 を有し、 前記第1内部領域と第2内部領域の中に差圧を作る第3手段を有し、前記第1手 段と前記第2手段を開放する第4手段を有し、前記第1内部領域と第2内部領域 の前記差圧によって、前記第1内部領域からガスをバージし、前記第1内部領域 からバージされた前記ガスを、前記第2内部領域に入らないように防止する、移 送装置。
- 2.前記第1傾城は、圧力PIを有し、前記第2領域は、圧力P2を有し、 前記第3手段は、圧力P3を有し前記第2手段と連通する第3領域と、圧力P4 を有し前記第2手段と連通する第4領域を有し、前記第3手段は、P3>P1, P2>P1,P4<P1の関係を維持する機能をなす、請求項1記載の物品を2 つの制御環境の間で移送する装置。
- 3.さらに、ガスを前記第1領域からパージしている間、前記第2内部領域から 前記第2手段を隔離する第4手段を有し、その結果前記第2領域が実質的に一定 の圧力P2を有し、 前記第1領域は、圧力P1を有し、 前記第3手段は、圧力P3を有し前記第2手段と連通する第3領域と、圧力P4 を有し前記第2手段と連通する第4領域とを有し、前記第3手段は、P3>P1 ,P4<P1の関係を維持する機能をなす、請求項1記載の、物品を2つの制御 環境の間で移送する装置。
- 4.物品を2つの制御環境の間で移送する装置であって、第1内部領域を有する 容器を有し、前記容器は、前記第1内部領域に大気圧状態から隔離された制御環 境を設けるために、前記容器とのシールを作る容器ドアを有し、 第2内部領域を有する処理ステーションを有し、前記処理装置は、ポートドア, 入口,出口を有し、前記第2内部領域に出入りし、前記容器を受け入れ、前記容 器とのシールを作るポート組立体を有し、前記出口に減圧を作る第1手段を有し 、前記容器ドアと前記ポートドアを開放する第2手段を有し、前記出口の減圧と 、前記第1内部領域と前記第2内部領域との間の圧力差によって、前記第1内部 領域からガスを取り除き、かつ前記ポートドアを通って前記第2内部領域に入ら ないように防止する移送装置。
- 5.前記第2手段は、前記容器ドアと前記ポートドアを、前記ポートドアと前記 ポート組立体が非接触ガスシールを形成する第1位置と、物品を前記容器から前 記処理ステーションまで搬送する第2位置とに、順に開放する機能をなす請求項 4に記載の移送装置。
- 6.前記ポートドアは、頂面を有し、前記容器ドアは、頂面と底面を有し、前記 ポートドアの頂面は、前記ポート紺立体が前記容器を受け入れるとき、前記容器 ドアの前記底面に接し、 前記第2手段は、前記容器ドアと前記ボートドアを、前記ポートドアと前記容器 ドアとの前記界面が前記出口に隣接し、前記ポートドアと前記ポート組立体が非 接触ガスシールを形成する第1位置と、前記容器ドアの前記頂部が前記出口に隣 接し、前記ポートドアと前記ポート組立体が非接触ガスシールを形成する第2位 置と、物品を前記容器から前記処理ステーションまで移送する第3位置とに、順 に開放する機能をなす請求項4に記載の装置。
- 7.物品をシール可能な容器から取り出す装置であって、内部領域と、前記内部 領域に大気圧状態から隔離された制御環境を設けるために、前記容器とのシール を作る容器ドアを有し、前記シールは、第1圧力で前記内部領域を維持し、 前記第1圧力よりも大きい第2圧力で維持された内部領域を有する処理ステーシ ョンを有し、 前記処理ステーションの内部領域に出入りし、前記容器を受け入れ、かつ前記容 器とのシールを作る、前記処理ステーションに設けられたポート組立体を有し、 ポート組立体は、ポートドアとガス出口を有し、前記ガス出口に減圧を作る手段 を有し、前記容器の前記ドアと前記ポートドアとを開放して、前記ガス出口での 減圧によって、ガスを前記容器の内部領域から取り除き、前記容器の内部領域と 前記処理ステーションの内部領域との相対圧によって、ガスを、前記ポートドア を通って前記処理ステーションの前記内部領域に入らないように防止する、取出 装置。
- 8.処理すべき物品の清浄を維持するSMIF装置であって、物品を入れる第1 内部空間を構成するSMIFパッドを有し、前記SMIFバッドは、 ボックスと、 前記ボックスと開放自在に係合し、かつシール可能に嵌合するボックスドアと、 物品を保持し、前記ボックスドア上に置くカセットと、物品を貯蔵又は処理する 第2の内部空間を構成するステーションとを有しそのステーションは、 前記ボックスとシール可能に嵌合し、ガス入口とガス出口を有するポートプレー トと、 前記ステーションの中の環境を維持するために、前記ポートプレートと開放自在 に係合しかつシール可能に談合し、前記ボックスドアを前記ボックスから開放す るとき、前記ボックスドアを支持するポートドアと、前記ポートプレートの前記 ガス出口の中で減圧を維持する手段と、前記ポートドアを、前記ポートドアが前 記ポートプレートと係合しかつシールする第1位置と、前記ボックスドアを前記 ボックスから開放し、前記SMIFの内部空間が、前記SMIFパッドの前記内 部領域のガスが前記ガス出口を通って排気されるように、前記ポートプレートの 前記ガス出口にさらされる第2位置と、前記カセットを前記装置の第2内部空間 の中に全体的に入れる第3位置との間を移動させる機構と、を有するSMIF装 置。
- 9.さらに、前記処理ステーションの領域に設けられ、前記ポートドアを、前記 処理ステーションの内部領域の残部から隔離する隔離領域を設け、前記ポートド アが第1位置及び第2位置にあるとき、ガスが前記隔離領域から前記処理ステー ションの内部領域に入らないように防止する、隔離手段を有する請求項8記載の SMIF装置。
- 10.前記隔離装置は、ポートドアカバーと、前記ポートドアカバーが前記ポー トプレートとのシールを形成するように、前記ポートドアカバーを付勢する手段 とを有する請求項9に記載のSMIF装置。
- 11.物品をシール可能な容器から取り出す装置であって、内部領域と、前記内 部領域に大気圧状態から隔離された制御環境を設けるために、前記容器とのシー ルを作るドアを有する容器と、内部領域と、前記容器を受け入れ、前記容器との シールを作り、ガス出口を有するポートとを有する処理ステーションと、前記処 理ステーションに設けられ、前記ポートを通って前記処理ステーションの内部領 域への出入りを制御するポートドアと、前記処理ステーションの内部領域に設け られ、前記処理ステーションの内部領域の残部から隔離された隔離領域を設け、 ガスが前記隔離領域から前記処理ステーションの内部領域に入らないように防止 する隔離手段と、前記ガス出口の中に減圧を作る手段と、前記ガス出口の減圧に よって、ガスを前記容器の内部領域と前記隔離領域から取り出すように、前記容 器のドアとポートを開放する手段と、を有する取出装置。
- 12.前記開放手段は、前記ポートドアを、前記ポートドアが前記ポートと係合 しかつシールする第1位置と、前記ポートドアを前記ボートから開放させる第2 位置との間を移動させる手段を有し、前記ボックスドアは前記ボックスから開放 され、前記SMIFの前記内部空間は、前記ボートのガス出口にさらされる、請 求項11記載の物品をシール可能な容器から取り出す装置。
- 13.処理すべき物品の清浄を維持するSMIF装置であって、物品を入れる第 1内部空間を構成するSMIFパッドを有し、前記SMIFパッドは、ボックス と、 前記ボックスと開放自在に係合し、かつシール可能に嵌合するボックスドアと、 物品を保持し、前記ボックスドア上に置くカセットと、物品を貯蔵又は処理する 第2の内部空間を構成する装置とを有し、その装置は、 前記ボックスとシール可能に嵌合するポートプレートと、前記装置の中の環境を 維持するために、前記ポートプレートと開放自在に係合しかつシール可能に嵌合 し、前記ボックスドアを前記ボックスから開放するとき、前記ボックスドアを支 持するポートドアと、前記ポートドアを、前記ポートドアが前記ポートプレート と係合しかつシールする第1位置と、前記ボックスドアを前記ボックスから開放 させる第2位置と、前記カセットを前記装置の第2内部空間の中に全体的に入れ る第3位置との間を移動させる手段と、 ボートドアカバーと、 前記第2内部空間から前記ポートを隔離する隔離領域を作るために、前記ポート ドアカバーが前記ポートプレートとのシールを形成するように、前記ポートドア カバーを付勢させる手段と 前記隔離領域に減圧を作る手段とを有する、SMIF装置。
- 14.物品をシール可能な容器から取り出す装置であって、内部領域と、前記内 部傾城に大気圧状態から隔離された制御環境を設けるために、容器とのシールを 作るドアとを有する容器と、内部領域と、前記容器を受け入れ、前記容器とのシ ールを作り、かつガス入口とガス出口とを有するポートとを有する処理ステーシ ョンと、前記ポートを通って、前記処理ステーションの内部領域への出入りを制 御するポートドアと、 前記処理ステーションの内部領域に設けられ、前記処理ステーションの内部領域 の残部から隔離した隔離領域を設け、ガスが前記隔離領域から前記処理ステーシ ョンの内部領域に入らないように防止する隔離手段と、前記ガス入口に増加した 圧力を作る手段と、前記ガス出口の減圧によって、ガスが前記容器の内部領域と 隔離領域から取り出すように、前記容器のドアと前記ポートを開放する手段とを 有する取出装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US607,898 | 1984-05-07 | ||
US07/607,898 US5169272A (en) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | Method and apparatus for transferring articles between two controlled environments |
PCT/US1991/006620 WO1992007759A1 (en) | 1990-11-01 | 1991-09-12 | Method and apparatus for transferring articles between two controlled environments |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06501815A true JPH06501815A (ja) | 1994-02-24 |
JP3576162B2 JP3576162B2 (ja) | 2004-10-13 |
Family
ID=24434168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51538291A Expired - Lifetime JP3576162B2 (ja) | 1990-11-01 | 1991-09-12 | 物品を容器間で移動させる装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5169272A (ja) |
EP (1) | EP0556193B1 (ja) |
JP (1) | JP3576162B2 (ja) |
DE (1) | DE69115292T2 (ja) |
WO (1) | WO1992007759A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002510150A (ja) * | 1998-03-27 | 2002-04-02 | アシスト テクノロジーズ インコーポレイテッド | 排除駆動式smifポッド・パージ・システム |
JP2003168727A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Dainichi Shoji Kk | エクスチェンジャーおよびガス置換方法 |
JP2003258077A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-12 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体収納容器体及び処理システム |
JP2012195438A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
JP2013153036A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Tdk Corp | ガスパージ装置及び該ガスパージ装置を有するロードポート装置 |
CN110349893A (zh) * | 2018-04-04 | 2019-10-18 | 昕芙旎雅有限公司 | 装载端口以及efem |
Families Citing this family (89)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3277550B2 (ja) * | 1992-05-21 | 2002-04-22 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉コンテナ用ガスパージユニット |
US5746008A (en) * | 1992-07-29 | 1998-05-05 | Shinko Electric Co., Ltd. | Electronic substrate processing system using portable closed containers |
KR100303075B1 (ko) * | 1992-11-06 | 2001-11-30 | 조셉 제이. 스위니 | 집적회로 웨이퍼 이송 방법 및 장치 |
KR100302012B1 (ko) * | 1992-11-06 | 2001-11-30 | 조셉 제이. 스위니 | 미소-환경 콘테이너 연결방법 및 미소-환경 로드 로크 |
EP0596536A1 (en) * | 1992-11-06 | 1994-05-11 | Applied Materials, Inc. | Transport system and method of using same |
DE4326308C1 (de) * | 1993-08-05 | 1994-10-20 | Jenoptik Jena Gmbh | Transportvorrichtung für Magazine zur Aufnahme scheibenförmiger Objekte |
US5538390A (en) * | 1993-10-29 | 1996-07-23 | Applied Materials, Inc. | Enclosure for load lock interface |
JP2850279B2 (ja) * | 1994-02-22 | 1999-01-27 | ティーディーケイ株式会社 | クリーン搬送方法及び装置 |
US5713711A (en) * | 1995-01-17 | 1998-02-03 | Bye/Oasis | Multiple interface door for wafer storage and handling container |
US5607276A (en) * | 1995-07-06 | 1997-03-04 | Brooks Automation, Inc. | Batchloader for substrate carrier on load lock |
US5664925A (en) * | 1995-07-06 | 1997-09-09 | Brooks Automation, Inc. | Batchloader for load lock |
US5609459A (en) * | 1995-07-06 | 1997-03-11 | Brooks Automation, Inc. | Door drive mechanisms for substrate carrier and load lock |
US5588789A (en) * | 1995-07-06 | 1996-12-31 | Brooks Automation | Load arm for load lock |
US5613821A (en) * | 1995-07-06 | 1997-03-25 | Brooks Automation, Inc. | Cluster tool batchloader of substrate carrier |
US5740845A (en) * | 1995-07-07 | 1998-04-21 | Asyst Technologies | Sealable, transportable container having a breather assembly |
JPH0936198A (ja) * | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | 真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ライン |
SE9503102D0 (sv) * | 1995-09-08 | 1995-09-08 | Astra Ab | Aseptic transfer |
US5967571A (en) * | 1995-10-13 | 1999-10-19 | Empak, Inc. | Vacuum actuated mechanical latch |
EP0854964B1 (en) * | 1995-10-13 | 2004-10-06 | Empak, Inc. | Vacuum actuated mechanical latch |
US5810537A (en) * | 1995-10-18 | 1998-09-22 | Bye/Oasis Engineering Inc. | Isolation chamber transfer apparatus |
USH1762H (en) * | 1995-10-26 | 1998-12-01 | Kaempf; Ulrich | Wafer restraining system |
DE19540963C2 (de) * | 1995-11-03 | 1999-05-20 | Jenoptik Jena Gmbh | Transportbehälter für scheibenförmige Objekte |
JP3796782B2 (ja) * | 1995-11-13 | 2006-07-12 | アシスト シンコー株式会社 | 機械的インターフェイス装置 |
US5806574A (en) * | 1995-12-01 | 1998-09-15 | Shinko Electric Co., Ltd. | Portable closed container |
US5752796A (en) * | 1996-01-24 | 1998-05-19 | Muka; Richard S. | Vacuum integrated SMIF system |
FR2747112B1 (fr) * | 1996-04-03 | 1998-05-07 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de transport d'objets plats et procede de transfert de ces objets entre ledit dispositif et une machine de traitement |
US5980195A (en) * | 1996-04-24 | 1999-11-09 | Tokyo Electron, Ltd. | Positioning apparatus for substrates to be processed |
US5674039A (en) * | 1996-07-12 | 1997-10-07 | Fusion Systems Corporation | System for transferring articles between controlled environments |
US5879458A (en) * | 1996-09-13 | 1999-03-09 | Semifab Incorporated | Molecular contamination control system |
EP0875921A1 (de) * | 1997-05-03 | 1998-11-04 | Stäubli AG Pfäffikon | Umladevorrichtung für Wafer |
US6090176A (en) | 1997-03-18 | 2000-07-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sample transferring method and sample transfer supporting apparatus |
US5803696A (en) * | 1997-05-16 | 1998-09-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Safety interlock device for a standard manufacturing interface arm and equipment |
JPH10321714A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Sony Corp | 密閉コンテナ並びに密閉コンテナ用雰囲気置換装置及び雰囲気置換方法 |
NL1009327C2 (nl) * | 1998-06-05 | 1999-12-10 | Asm Int | Werkwijze en inrichting voor het overbrengen van wafers. |
US6261044B1 (en) * | 1998-08-06 | 2001-07-17 | Asyst Technologies, Inc. | Pod to port door retention and evacuation system |
US6145444A (en) * | 1998-12-16 | 2000-11-14 | Wilkinson; Kerry E. | Micro clean sealed tubular transporter apparatus |
US6120229A (en) * | 1999-02-01 | 2000-09-19 | Brooks Automation Inc. | Substrate carrier as batchloader |
US6427096B1 (en) | 1999-02-12 | 2002-07-30 | Honeywell International Inc. | Processing tool interface apparatus for use in manufacturing environment |
US6249990B1 (en) * | 1999-03-23 | 2001-06-26 | Alliedsignal, Inc. | Method and apparatus for transporting articles |
US8348583B2 (en) * | 1999-10-19 | 2013-01-08 | Rorze Corporation | Container and loader for substrate |
US6354781B1 (en) | 1999-11-01 | 2002-03-12 | Chartered Semiconductor Manufacturing Company | Semiconductor manufacturing system |
US6585470B2 (en) | 2001-06-19 | 2003-07-01 | Brooks Automation, Inc. | System for transporting substrates |
US6646720B2 (en) * | 2001-09-21 | 2003-11-11 | Intel Corporation | Euv reticle carrier with removable pellicle |
EP1341045A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-03 | ASML Netherlands B.V. | Method of transferring a mask or substrate |
CN1474233A (zh) * | 2002-03-01 | 2004-02-11 | Asml荷兰有限公司 | 传送贮藏箱中掩模或基片的方法和所用设备及其制造方法 |
EP1396759A3 (en) * | 2002-08-30 | 2006-08-02 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
EP1394611A1 (en) * | 2002-08-30 | 2004-03-03 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US6955197B2 (en) | 2002-08-31 | 2005-10-18 | Applied Materials, Inc. | Substrate carrier having door latching and substrate clamping mechanisms |
US7258520B2 (en) | 2002-08-31 | 2007-08-21 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing |
US6918737B2 (en) * | 2002-10-31 | 2005-07-19 | Solo Cup Company | System and method for stacking a predetermined number of nestable objects |
EP1434094A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-06-30 | ASML Netherlands B.V. | Container for a mask |
TWI286674B (en) * | 2002-12-27 | 2007-09-11 | Asml Netherlands Bv | Container for a mask, method of transferring lithographic masks therein and method of scanning a mask in a container |
US20050169730A1 (en) * | 2003-04-30 | 2005-08-04 | Ravinder Aggarwal | Semiconductor processing tool front end interface with sealing capability |
WO2004102655A1 (ja) * | 2003-05-15 | 2004-11-25 | Tdk Corporation | クリーンボックス開閉装置を備えるクリーン装置 |
US6913654B2 (en) * | 2003-06-02 | 2005-07-05 | Mykrolis Corporation | Method for the removal of airborne molecular contaminants using water gas mixtures |
JP3902583B2 (ja) * | 2003-09-25 | 2007-04-11 | Tdk株式会社 | 可搬式密閉容器内部のパージシステムおよびパージ方法 |
KR100572321B1 (ko) * | 2003-10-02 | 2006-04-19 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조 설비 및 방법 그리고 이에 사용되는스토커 |
WO2005047981A2 (en) * | 2003-11-10 | 2005-05-26 | Nikon Corporation | Thermophoretic techniques for protecting reticles from contaminants |
KR100583726B1 (ko) * | 2003-11-12 | 2006-05-25 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
US7230702B2 (en) | 2003-11-13 | 2007-06-12 | Applied Materials, Inc. | Monitoring of smart pin transition timing |
EP2128890B1 (en) * | 2004-02-05 | 2012-10-17 | Entegris, Inc. | Purging of a wafer conveyance container |
US7611319B2 (en) | 2004-06-16 | 2009-11-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for identifying small lot size substrate carriers |
US9010384B2 (en) * | 2004-06-21 | 2015-04-21 | Right Mfg. Co. Ltd. | Load port |
US7409263B2 (en) * | 2004-07-14 | 2008-08-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for repositioning support for a substrate carrier |
KR101233101B1 (ko) | 2004-08-19 | 2013-02-14 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 저용량 캐리어 및 그 사용방법 |
EP1803151B1 (en) | 2004-08-23 | 2011-10-05 | Murata Machinery, Ltd. | Elevator-based tool loading and buffering system |
EP1789630A4 (en) * | 2004-08-24 | 2009-07-22 | Brooks Automation Inc | TRANSPORT SYSTEM |
US7720558B2 (en) | 2004-09-04 | 2010-05-18 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for mapping carrier contents |
CN101023490A (zh) * | 2004-09-17 | 2007-08-22 | 齐拉泰克斯技术有限公司 | 磁盘驱动器装置及机架 |
US7410340B2 (en) | 2005-02-24 | 2008-08-12 | Asyst Technologies, Inc. | Direct tool loading |
US20090272461A1 (en) * | 2005-08-03 | 2009-11-05 | Alvarez Jr Daniel | Transfer container |
US20070144118A1 (en) * | 2005-12-22 | 2007-06-28 | Alvarez Daniel Jr | Purging of a wafer conveyance container |
JP5105334B2 (ja) | 2006-01-11 | 2012-12-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板キャリヤをパージするための方法及び装置 |
JP4194051B2 (ja) | 2006-05-31 | 2008-12-10 | Tdk株式会社 | 防塵機能を備えたロードポート装置及びミニエンバイロンメントシステム |
US7740437B2 (en) | 2006-09-22 | 2010-06-22 | Asm International N.V. | Processing system with increased cassette storage capacity |
EP2122014A4 (en) | 2007-02-28 | 2014-09-17 | Entegris Inc | CLEANING SYSTEM FOR A SUBSTRATE CONTAINER |
US7585142B2 (en) | 2007-03-16 | 2009-09-08 | Asm America, Inc. | Substrate handling chamber with movable substrate carrier loading platform |
FR2915831B1 (fr) * | 2007-05-04 | 2009-09-25 | Alcatel Lucent Sas | Interface d'enceinte de transport |
US9105673B2 (en) | 2007-05-09 | 2015-08-11 | Brooks Automation, Inc. | Side opening unified pod |
JP5516968B2 (ja) | 2010-06-08 | 2014-06-11 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 連結搬送システム |
JP5794497B2 (ja) | 2010-06-08 | 2015-10-14 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 連結システム |
JP2012204645A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
JP5993252B2 (ja) * | 2012-09-06 | 2016-09-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 蓋体開閉装置及びこれを用いた熱処理装置、並びに蓋体開閉方法 |
TWI627696B (zh) * | 2013-01-22 | 2018-06-21 | 布魯克斯自動機械公司 | 基材運送 |
US9016998B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-04-28 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | High throughput, low volume clamshell load lock |
JP6561700B2 (ja) * | 2015-09-04 | 2019-08-21 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ガス注入装置 |
JP6632403B2 (ja) | 2016-02-02 | 2020-01-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板収納容器の連結機構および連結方法 |
CN106090222B (zh) * | 2016-06-23 | 2017-09-19 | 上海中船三井造船柴油机有限公司 | 一种运动轴的动态密封结构 |
US10446428B2 (en) | 2017-03-14 | 2019-10-15 | Applied Materials, Inc. | Load port operation in electronic device manufacturing apparatus, systems, and methods |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4405435A (en) * | 1980-08-27 | 1983-09-20 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for performing continuous treatment in vacuum |
US4534389A (en) * | 1984-03-29 | 1985-08-13 | Hewlett-Packard Company | Interlocking door latch for dockable interface for integrated circuit processing |
US4532970A (en) * | 1983-09-28 | 1985-08-06 | Hewlett-Packard Company | Particle-free dockable interface for integrated circuit processing |
FR2573908B1 (fr) * | 1984-11-26 | 1986-12-26 | Cogema | Dispositif de transfert a double barriere etanche entre un conteneur et une enceinte de confinement |
US4815912A (en) * | 1984-12-24 | 1989-03-28 | Asyst Technologies, Inc. | Box door actuated retainer |
US4759681A (en) * | 1985-01-22 | 1988-07-26 | Nissin Electric Co. Ltd. | End station for an ion implantation apparatus |
JPS61291032A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-20 | Fujitsu Ltd | 真空装置 |
DE3522996A1 (de) * | 1985-06-27 | 1987-01-08 | Kolbus Gmbh & Co Kg | Verfahren zur abgrenzung steriler raeume gegen austreten von toxischen sterilisationsmitteln oder eindringen von mikroorganismen, vorzugsweise in anwendung fuer fuellmaschinen, und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
US4687542A (en) * | 1985-10-24 | 1987-08-18 | Texas Instruments Incorporated | Vacuum processing system |
US5044871A (en) * | 1985-10-24 | 1991-09-03 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit processing system |
JPS62222625A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Shimizu Constr Co Ltd | 半導体製造装置 |
US4724874A (en) * | 1986-05-01 | 1988-02-16 | Asyst Technologies | Sealable transportable container having a particle filtering system |
DE3637880C2 (de) * | 1986-11-06 | 1994-09-01 | Meissner & Wurst | Transportierbares Behältnis zur Handhabung von Halbleiterelementen während ihrer Herstellung sowie Verfahren zur partikelfreien Übergabe von Produkten |
EP0273226B1 (de) * | 1986-12-22 | 1992-01-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Transportbehälter mit austauschbarem, zweiteiligem Innenbehälter |
JPH01125821A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気相成長装置 |
JP2714833B2 (ja) * | 1988-12-18 | 1998-02-16 | 日本真空技術株式会社 | 仕込・取出室 |
US5056875A (en) * | 1989-03-20 | 1991-10-15 | Motorola, Inc. | Container for use within a clean environment |
US5100287A (en) * | 1989-04-27 | 1992-03-31 | Micron Technology, Inc. | Method of transferring wafers using vacuum |
US4995430A (en) * | 1989-05-19 | 1991-02-26 | Asyst Technologies, Inc. | Sealable transportable container having improved latch mechanism |
US5137063A (en) * | 1990-02-05 | 1992-08-11 | Texas Instruments Incorporated | Vented vacuum semiconductor wafer cassette |
US5363867A (en) * | 1992-01-21 | 1994-11-15 | Shinko Electric Co., Ltd. | Article storage house in a clean room |
-
1990
- 1990-11-01 US US07/607,898 patent/US5169272A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-09-12 EP EP91916767A patent/EP0556193B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-12 DE DE69115292T patent/DE69115292T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-12 JP JP51538291A patent/JP3576162B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-12 WO PCT/US1991/006620 patent/WO1992007759A1/en active IP Right Grant
-
1992
- 1992-09-21 US US07/948,148 patent/US5370491A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-09-01 US US08/299,900 patent/US5547328A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002510150A (ja) * | 1998-03-27 | 2002-04-02 | アシスト テクノロジーズ インコーポレイテッド | 排除駆動式smifポッド・パージ・システム |
JP2003168727A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Dainichi Shoji Kk | エクスチェンジャーおよびガス置換方法 |
JP2003258077A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-12 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体収納容器体及び処理システム |
JP2012195438A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
US8936050B2 (en) | 2011-03-16 | 2015-01-20 | Tokyo Electron Limited | Lid opening and closing device |
JP2013153036A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Tdk Corp | ガスパージ装置及び該ガスパージ装置を有するロードポート装置 |
CN110349893A (zh) * | 2018-04-04 | 2019-10-18 | 昕芙旎雅有限公司 | 装载端口以及efem |
JP2019186293A (ja) * | 2018-04-04 | 2019-10-24 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ロードポート及びefem |
CN110349893B (zh) * | 2018-04-04 | 2023-11-14 | 昕芙旎雅有限公司 | 装载端口以及efem |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1992007759A1 (en) | 1992-05-14 |
DE69115292T2 (de) | 1996-06-27 |
DE69115292D1 (de) | 1996-01-18 |
EP0556193A1 (en) | 1993-08-25 |
EP0556193A4 (en) | 1993-11-03 |
US5547328A (en) | 1996-08-20 |
US5169272A (en) | 1992-12-08 |
US5370491A (en) | 1994-12-06 |
JP3576162B2 (ja) | 2004-10-13 |
EP0556193B1 (en) | 1995-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH06501815A (ja) | 物品を2つの制御環境の間で移送する装置及び方法 | |
US6082948A (en) | Controlled environment enclosure and mechanical interface | |
US5538390A (en) | Enclosure for load lock interface | |
US5469963A (en) | Sealable transportable container having improved liner | |
US5391035A (en) | Micro-enviroment load lock | |
US4724874A (en) | Sealable transportable container having a particle filtering system | |
EP0565001A1 (en) | Closed container to be used in a clean room | |
US5752796A (en) | Vacuum integrated SMIF system | |
US6231290B1 (en) | Processing method and processing unit for substrate | |
US5810062A (en) | Two stage valve for charging and/or vacuum relief of pods | |
US11404297B2 (en) | Systems, apparatus, and methods for an improved load port | |
JPH0159007B2 (ja) | ||
JPH04505234A (ja) | ラッチ機構を備えたシール可能且つ輸送可能な容器 | |
JPS61502994A (ja) | 2つの密封環境間のインターフェース装置 | |
JP2003060007A (ja) | 基板の移送方法及びロードポート装置並びに基板移送システム | |
US5398481A (en) | Vacuum processing system | |
KR19990028767A (ko) | 반도체 웨이퍼 일괄 적재 시스템 및 반도체 웨이퍼 조작 시스템 | |
US6688344B2 (en) | Container flush and gas charge system and method | |
EP0313693B1 (en) | Sealable transportable container having a particle filtering system | |
TW518649B (en) | Substrate container with non-friction door element | |
EP0596536A1 (en) | Transport system and method of using same | |
JP2608565B2 (ja) | 粒子濾過システムを有する可搬式コンテーナ | |
JP3400382B2 (ja) | クリーンボックス、クリーン搬送方法及びシステム | |
JPH03214645A (ja) | 半導体ウエハの収納・搬送装置 | |
JP2000315725A (ja) | クリーンボックス、クリーン搬送方法及びシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040421 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040707 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070716 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090716 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100716 Year of fee payment: 6 |