KR102214147B1 - 레티클이 측면 격납되는 레티클 포드 - Google Patents

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Abstract

레티클 포드가 외부 포드, 내부 포드 커버 및 내부 기저부 판을 포함한다. 레티클은 기저부 상에서 지지되고 내부 포드 커버 및 내부 포드 기저부에 의해서 생성된 환경 내에 수용된다. 내부 포드 커버는, 레티클의 측벽과 접촉되도록 그리고 레티클의 수평 방향 이동을 제한하도록 구성된 복수의 레티클 유지부를 포함할 수 있다.

Description

레티클이 측면 격납되는 레티클 포드
우선권
본원은 2016년 8월 27일에 출원되고 명칭이 "RETICLE POD HAVING SIDE CONTAINMENT OF RETICLE"인 미국 가출원 제62/380,377호, 2016년 10월 7일자로 출원되고 명칭이 "RETICLE POD HAVING SIDE CONTAINMENT OF RETICLE"인 미국 가출원 제62/405,518호, 그리고 2016년 11월 15일에 출원되고 명칭이 "RETICLE POD HAVING SIDE CONTAINMENT OF RETICLE"인 미국 가출원 제62/422,229호의 이익 향유를 주장하고, 그 출원의 각각은 그 전체가 본원에서 참조로 포함된다.
본 개시 내용은 일반적으로 포토마스크, 레티클 및 웨이퍼와 같은 취성 소자를 저장, 운송, 선적, 및/또는 프로세스하기 위한 용기에 관한 것이다. 보다 특히, 본 개시 내용은, 포드 내의 입자 생성을 최소화하기 위한 작업으로 수평 방향으로 이동을 제한 또는 규제하는 레티클 유지부를 포함하는 내부 포드를 가지는 레티클용 이중 격납 포드에 관한 것이다.
집적 회로 및 다른 반도체 소자의 제조에서 일반적으로 직면하는 프로세스 단계 중 하나는 포토리소그래피이다. 넓게, 포토리소그래피는 식각된 표면 층을 생성하기 위해서 특별하게 준비된 웨이퍼 표면을 패터닝된 형판을 이용하여 복사선의 공급원에 선택적으로 노출시키는 것을 포함한다. 전형적으로, 패터닝된 형판은 레티클이고, 그러한 레티클은, 웨이퍼 상에서 재현하고자 하는 패턴을 포함하는 매우 편평한 유리 판이다. 예를 들어, 웨이퍼 표면은 질화 실리콘을 웨이퍼 표면 상에 먼저 피착하는 것과 이어지는 감광성 액체 중합체 또는 포토레지스트로 코팅하는 것에 의해서 준비될 수 있다. 다음에, 마스크 또는 레티클의 표면을 통해서 자외선(UV) 광을 비추거나 그로부터 반사시켜, 포토레지스트로 덮인 웨이퍼 상으로 희망 패턴을 투사한다. 광에 노출된 포토레지스트의 일부가 화학적으로 변경되고 화학 매체가 웨이퍼에 후속하여 가해질 때 영향을 받지 않고 유지되며, 그러한 화학 매체는 미노출 포토레지스트를 제거하여 마스크 상의 패턴의 정확한 형상으로 변경된 포토레지스트를 웨이퍼 상에 남긴다. 이어서, 웨이퍼에 식각 프로세스가 적용되고, 그러한 식각 프로세스는 질화물 층의 노출된 부분을 제거하여 마스크의 정확한 디자인으로 질화물 패턴을 웨이퍼 상에 남긴다. 이러한 식각된 층은, 단독으로 또는 다른 유사하게 생성된 층과 조합되어, 특별한 집적 회로 또는 반도체 칩의 "회로망"을 특징으로 하는 소자 및 소자들 사이의 인터커넥트를 나타낸다.
심자외선 광 포토리소그래피의 레티클 특징부를 통한 투과와 대조적으로, EUV를 이용한, 패터닝된 표면으로부터의 반사가 이용된다. 결과적으로, EUV 포토리소그래피에서 이용되는 반사적 포토마스크(레티클)는 통상적인 포토리소그래피에서 이용되는 레티클 보다 더 심한 정도로 오염 및 손상에 민감하다. 제조, 프로세스, 선적, 취급, 운송 또는 저장 중의 레티클과 다른 표면 사이의 불필요한 그리고 의도되지 않은 접촉은 활주 마찰 및/또는 마모로 인한 손상에 대한 레티클의 민감한 피쳐(feature)의 민감성의 관점에서 바람직하지 못하다.
본 개시 내용은 일반적으로 포토마스크, 레티클 및 웨이퍼와 같은 취성 소자의 저장, 운송, 선적, 및/또는 프로세스를 위한 용기에 관한 것이고, 보다 특히 이중 격납 레티클 포드에 관한 것이며, 이중 격납 레티클 포드는 포드 내의 입자 생성을 최소화하기 위한 작업에서 X 및 Y 방향으로의 이동을 제한하거나 규제하는 레티클 유지부를 포함하는 내부 포드를 갖는다. 본원에서 설명된 바와 같은 레티클 유지부는 내부 포드 내에 수용된 레티클의 측벽과 접촉되도록 그리고, 일부 경우에, Z 방향을 따라 레티클의 상단부 표면에 인가되는 하중의 양을 최소화하도록 구성된다.
일부 실시예에서, 레티클을 유지하기 위한 레티클 포드는: 레티클을 그 위에 지지하도록 구성된 기저부; 상단부 표면을 가지고 기저부와 교합되도록 구성되는 커버; 및 레티클의 이동을 제한하기 위해서 레티클의 측벽과 접촉되도록 구성된 레티클 접촉 부재를 각각 포함하는 하나 이상의 레티클 유지부를 포함한다. 각각의 레티클 접촉 부재는 외향 연장 아암 및 커버를 통해서 연장되는 하향 연장 레그를 포함하고, 아암의 작동시에, 하향 연장 레그는 레티클의 측벽을 향하는 방향으로 이동되도록 구성된다. 일 실시예에서, 레티클 포드는 외부 포드 기저부 및 외부 포드 기저부와 교합되도록 구성된 외부 포드 커버를 가지는 외부 포드 내에 수용될 수 있다. 외부 포드 커버는 내부 표면, 및 레티클 포드가 외부 포드 내에 수용될 때 레티클 포드의 외향 연장 아암과 접촉되고 작동시켜 하향 연장 레그가 레티클의 측벽을 향하는 방향으로 이동되게 하는, 내부 표면으로부터 연장되는 적어도 하나의 접촉 패드를 포함한다.
다른 실시예에서, 레티클을 유지하는 방법은: 레티클을 그 위에 지지하도록 구성된 피쳐를 가지는 기저부 상에서 레티클을 수용하는 단계; 내부 포드를 형성하기 위해서 레티클을 포함하는 기저부 상에 커버를 배치하는 단계로서, 커버는, 레티클 접촉 부재를 각각 포함하는 하나 이상의 레티클 유지부를 포함하고, 각각의 레티클 접촉 부재는, 적어도 부분적으로 커버의 상단부 표면 위에서 연장되는 외향 연장 아암 및 커버를 통해서 연장되는 하향 연장 레그를 포함하는, 기저부 상에 커버를 배치하는 단계; 및 레티클의 이동을 제한하는 단계를 포함한다.
개시 내용은 첨부 도면과 관련한 여러 가지 예시적인 실시예에 관한 이하의 설명을 고려할 때 보다 완전히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 예시적인 레티클 포드의 등각도이다.
도 2는, 선 2-2를 따라서 취한, 도 1에 도시된 레티클 포드의 횡단면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 레티클 포드의 분해도이다.
도 4는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부를 포함하는 내부 포드의 근접 횡단면도이다.
도 5는 개시 내용의 다른 실시예에 따른 레티클 유지부를 포함하는 내부 포드의 근접 횡단면도이다.
도 6a는 개시 내용의 다른 실시예에 따른 내부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 다른 레티클 유지부를 포함하는 내부 포드의 근접도이다.
도 6b는 도 6a에 도시된 레티클 유지부의 개략적인 횡단면도이다.
도 7은 개시 내용의 실시예에 따른 또 다른 레티클 유지부를 포함하는, 커버를 제거한, 내부 포드의 개략적인 부분적 횡단면도이다.
도 8은 개시 내용의 또 다른 실시예에 따른 다른 레티클 유지부를 보여주는 내부 포드의 개략적 횡단면도이다.
도 9a는 링크를 수용하도록 구성된 소켓을 가지는 하단부 판의 일부의 개략도를 도시한다.
도 9b는 도 9a에 도시된 소켓 내에 수용되도록 구성된 링크의 개략도를 도시한다.
도 10a 내지 도 10d는 동작 중의 도 8의 레티클 유지부를 도시한다.
도 11은 개시 내용의 실시예에 따른 또 다른 레티클 유지부를 보여주는 내부 포드의 개략적 횡단면도이다.
도 12a는 개시 내용의 실시예에 따른 내부 포드 커버의 개략도를 도시한다.
도 12b는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부의 상단부의 근접 개략도이다.
도 12c는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부의 개략적인 부분적 횡단면도이다.
도 13은 개시 내용의 또 다른 실시예에 따른 내부 포드의 사시도이다.
도 14a 및 도 14b는 개시 내용의 다른 실시예에 따른 레티클 유지부의 상단부 부분의 근접 사시도이다.
도 15a 내지 도 15c는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 접촉 부재의 여러 도면을 도시한다.
도 16a 및 도 16b는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부의 일부를 형성하는 캡의 상단 및 하단 사시도를 도시한다.
도 17a 및 도 17b는 제1 위치 및 제2 위치의 레티클 유지부를 보여주는 내부 포드의 부분적인, 측면 횡단면도이다.
도 18은 개시 내용의 실시예에 따른 내부 포드의 사시도이다.
도 19는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부의 일부의 근접 개략도이다.
도 20a 및 도 20b는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 접촉 부재의 여러 도면을 도시한다.
도 21a 및 도 21b는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부의 일부를 형성하는 캡의 상단 및 하단 사시도를 도시한다.
도 22a 및 도 22b는 개시 내용의 다른 실시예에 따른 레티클 유지부의 일부를 형성하는 캡의 상단 및 하단 사시도를 도시한다.
도 23a 및 도 23b는 제1 위치 및 제2 위치의 레티클 유지부를 보여주는 내부 포드의 부분적인, 측면 횡단면도이다.
도 24는 외부 포드 내에 배치된 내부 포드를 보여주는 레티클 포드 조립체의 부분적 횡단면도이다.
도 25는 도 18에 도시된 내부 포드의 단순화된 사시도이다.
도 26은 개시 내용의 또 다른 실시예에 따른 내부 포드의 사시도이다.
도 27 및 도 28은 도 26에 도시된 내부 포드의 부분의 횡단면도이다.
도 29a 내지 도 29c는 개시 내용의 또 다른 실시예에 따른 레티클 유지부의 다른 도면들이다.
개시 내용의 여러 가지 수정 및 대안적 형태가 가능하지만, 그 구체적인 내용이 도면에서 예로서 도시되어 있고 본원에서 구체적으로 설명될 것이다. 그러나, 개시 내용의 양태를 설명된 특별한 예시적인 실시예로 제한하고자 하는 의도가 없다는 것을 이해하여야 할 것이다. 대조적으로, 의도는 개시 내용의 사상 및 범위 내에 포함되는 모든 수정예, 균등물, 및 대안을 포함한다.
본 명세서 및 첨부된 청구항에서 사용된 바와 같이, 기재 내용에서 달리 명백하게 기술하지 않는 한, 단수 형태("a", "an", 및 "the")가 복수의 대상을 포함한다. 본 명세서 및 첨부된 청구항에서 사용된 바와 같이, 기재 내용에서 달리 명백하게 기술하지 않는 한, 용어 "또는"은 일반적으로 "및/또는"을 포함하는 의미로 이용된다.
이하의 상세한 설명은, 상이한 도면들 내의 유사한 요소들이 동일한 번호를 갖는 도면들을 참조하여 읽어야 한다. 상세한 설명 및 반드시 실제 축척이 아닌 도면은 예시적인 실시예를 설명하고 본 발명의 범위를 제한하도록 의도된 것이 아니다. 설명된 예시적 실시예는 단지 예로서 의도된 것이다. 반대로 명백하기 기술되지 않는 한, 임의의 예시적 실시예의 선택된 특징이 부가적인 실시예 내로 통합될 수 있다.
도 1 내지 도 3은 레티클 또는 마스크(12)를 저장 및 운송하기 위한 예시적인 레티클 포드(10)의 여러 도면을 도시한다. 레티클 포드(10)는 종종 이중 격납 포드 또는 EUV 포드로서 지칭될 수 있고, 모든 목적을 위해서 전체가 참조로서 본원에 포함되는 미국 특허 제8,613,359호에서 도시되고 설명된 레티클 포드와 일부 유사한 특징을 공유할 수 있다. 레티클이라는 용어는, 미립자 및 다른 물질에 의한 손상에 민감한 반도체 제조 산업에서 이용될 수 있는 석영 블랭크, 포토-마스크, EUV 마스크, 및 다른 마스크를 지칭하기 위해서 이용될 수 있다. 일부 경우에, 레티클(12)은 실질적으로 정사각형 형상일 수 있고, 희망 회로 패턴(미도시)으로 식각될 수 있다. 개시된 레티클 포드(10)가 대체로 정사각형인 형상의 레티클을 참조하여 설명되지만, 관련 기술 분야의 통상의 기술자는 일반적으로, 예를 들어, 직사각형, 다각형 또는 원형 형상의 레티클과 같은 다른 형상의 레티클이 이용될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
도 1 내지 도 3에서 확인될 수 있는 바와 같이, 레티클 포드(10)는 외부 포드(11)를 포함하고, 외부 포드는 외부 포드 기저부(18)와 교합되어, 레티클(12)을 다시 유지하는 내부 포드(15)를 폐쇄하도록 구성된 외부 포드 커버(14)를 포함한다. 내부 포드(15)는 레티클(12)이 내부에 수용되는 밀봉된 환경을 형성하기 위해서 내부 포드 기저부(32)와 교합되도록 구성된 내부 포드 커버(26)를 포함한다. 외부 포드 커버(14)는, 내부 포드의 커버 내에 제공된 상응하는 레티클 유지부와 접촉되고 그에 하향 압력을 인가하도록 구성된 내부 표면 상에 제공된 하나 이상의 접촉 패드 또는 돌출부를 포함할 수 있다. 부가적으로, 일부 경우에, 외부 포드 커버(14)는, 제조 설비 전반을 통한 레티클 포드(10)의 자동화된 운송을 돕는 선택적인 로봇 플랜지(22)를 포함할 수 있다.
이제 도 3을 참조하면, 내부 포드 기저부(32)는 일반적으로 레티클(12)의 크기 및 형상에 일치되는 크기 및 형상을 가지며, 레티클(12)이 내부 포드 내에 수용될 때 레티클(12)을 지지한다. 내부 포드 기저부(32)는 대향되는 제1 및 제2 주 평행 표면(34 및 36) 및 4개의 둥근 모서리(radiused corner)(38)를 포함하고, 제1 주 표면(34)의 둘레 부근에서 연속적인 접촉 밀봉 표면(42)을 형성한다. 하나의 예에서, 전체 제1 주 표면(34)은 균일하고 고도로 폴리싱된 표면 마감을 가질 수 있으나, 이러한 것이 필수적인 것은 아니다.
일부 경우에, 도 3에 도시된 바와 같이, 내부 포드 기저부(32)는 기저부(32)의 4개의 모서리(38)의 각각에 위치된 레티클 안내부(46)의 쌍 및 레티클 접촉부(48)를 포함할 수 있다. 그러한 레티클 안내부 및 레티클 접촉부는, 본원에서 참조로 포함되는 미국 특허 제8,613,359호에서 더 구체적으로 도시되고 설명되어 있다. 레티클 안내부(46)는, 레티클(12)이 기저부(32) 상에 안착될 때, 레티클(12)을 안내하고 정렬시키기 위해서 이용될 수 있다. 레티클(12)은 기저부(32)의 4개의 모서리(38)의 각각에 위치되는 레티클 지지부(48) 상에 놓일 수 있고 그에 의해서 지지될 수 있다. 레티클 지지부(48)는 기저부(32)의 제1 주 표면(34)으로부터 멀리 연장되는 구형 공 또는 돌출부의 형태일 수 있다. 일부 실시예에서, 레티클 지지부(48)는 레티클 안내부(46)의 쌍의 각각의 레티클 안내부(46) 사이에서 동일한 거리에 위치될 수 있다. 부가적으로, 레티클 지지부(48)가 레티클(12)을 내부 포드 기저부(32)의 주 표면(34) 위의 미리 규정된 높이에서 현수하여 레티클과 내부 포드 기저부의 표면(34) 사이에 간극을 생성하도록, 레티클 지지부(48)가 구성될 수 있다. 일부 경우에, 레티클(12)과 기저부(32) 사이에 확산 층 또는 확산 장벽을 형성하도록, 간극의 치수가 결정된다. 확산 장벽은 입자가 간극 내로 이동되는 것을 방지한다.
내부 포드 커버(26)는 내부 포드 기저부(32)와 교합되어 밀봉된 환경을 형성하도록 구성된다. 내부 포드 커버(26)는 내부 포드 기저부(32)의 크기 및 형상에 전반적으로 상응하는 크기 및 형상을 갖는다. 일부 경우에, 내부 포드 커버(26)는 기저부(32)의 연부 내에 형성된 복수의 노치(56)에 의해서 수용되기 위한 크기 및 구성을 가지는 복수의 돌출부 또는 핀(54)을 포함할 수 있다. 핀(54) 및 노치(56)가 함께 협력하여 기저부(32) 위에서 커버(26)를 안내 및 정렬시키고, 또한 커버(26)가 기저부(32)와 결합될 때, 커버(26)를 제 위치에서 유지한다.
내부 포드 커버(26)는 또한, 본원에서 더 구체적으로 설명될 하나 이상의 레티클 유지부(60)를 포함한다. 레티클 유지부(60)는, 입자를 생성할 수 있는 레티클의 이동을 감소 또는 방지하는데 도움을 준다. 내부 포드 커버(26)가 폐쇄될 때 그리고 외부 포드 내에 수용될 때, 레티클 유지부가 X 및 Y 평면 내의 레티클의 수평 또는 옆으로의 이동 그리고 또한 Z-방향으로의 이동을 구속하도록, 레티클 유지부가 내부 포드 커버(26) 내로 통합된다. 레티클 유지부(60)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 Z-방향으로 유지부에 인가되는 하향 힘에 응답하여 레티클의 측면 및/또는 연부와 결합된다. 많은 실시예에서, 내부 포드 커버(26)는 적어도 2개의 레티클 유지부(60)를 포함한다. 예를 들어, 일 실시예에서, 내부 포드 커버(26)는 4개의 레티클 유지부(60)를 포함한다. 레티클 유지부(60)의 수 및 위치는 전체적인 포드(10)의 크기 및 내부 포드 내에 수용된 레티클(12)에 인가되는 하중에 따라서 달라질 수 있다.
레티클 유지부(60)에 더하여, 내부 포드 커버(26)는, 내부 포드 커버(26)가 내부 포드 기저부(32)와 결합될 때 내부 포드 내의 미세환경을 유지 및 제어하기 위해서 내부에 수용되는 필터 매체를 포함하는 하나 이상의 필터(64)를 포함할 수 있다.
도 4는 개시 내용의 실시예에 따른 레티클 유지부(60)의 근접 횡단면도이다. 일부 경우에, 4개까지의 그러한 레티클 유지부(60)가 포드의 상이한 영역들에 위치될 수 있다. 레티클 유지부(60A)는 커버(26) 내에 제공된 보어(72)를 통해서 연장되는 핀(68)을 포함한다. 핀(68)은, 커버(26)의 외부 표면 상에 접근할 수 있는 탄성 부재(76)에 부착될 수 있다. 탄성 부재(76)는, 후퇴 위치로 핀(68)을 편향시키도록 구성된 엘라스토머 디스크일 수 있다. 후퇴 위치에서, 핀(68)은 Z-방향으로 핀(68)에 인가되는 하향 힘의 부재시에 레티클(12)의 위쪽으로 그리고 그로부터 멀리 배치된다. 탄성 부재(76)를 형성하는 디스크는 이물질이 내부 포드로 진입하는 것을 방지하기 위해서 핀(68)과 보어(72) 사이에 밀봉부를 형성할 수 있다.
핀(68)은 2개의 함몰부(78)를 포함한다. 구형 부재 또는 공(80a, 80b)은 함몰부(78)의 각각에 수용된다. 구형 부재 또는 공(80a, 80b)은 금속, 금속 합금, 세라믹 또는 중합체 재료로 형성될 수 있다. 레티클 유지부(60A)가 레티클(12)과 결합될 때, 제1 공(80a)이 레티클(12)의 상부 표면(82)과 접촉되고 제2 공(80b)은 레티클(12)의 측면 표면(84)과 접촉되도록, 제1 공(80a)이 제2 공(80b)에 대해서 각도를 이루어 배치될 수 있다. 레티클 유지부(60A)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 제공되는 하향 힘의 인가에 응답하여 레티클(12)과 결합된다. 레티클(12)의 상부 표면(82)과 접촉하는 한편 동시에 레티클의 측면 표면(84)과 접촉하는 것은 레티클(12)을 그 연부에서 구속한다. 레티클 유지부(60A)가 레티클(12)의 연부(84)와 결합되기 때문에, X 및 Y 평면 내의 옆으로의 또는 수평의 이동이 방지되거나 감소될 수 있다. 또한, Z 방향을 따라 인가되는 하중이 감소될 수 있다.
도 5는 다른 레티클 유지부(160)의 근접 횡단면도이다. 일부 경우에, 4개까지의 그러한 레티클 유지부(160)가 포드의 상이한 영역들에 위치되어 4개까지의 상이한 접촉 지점을 제공할 수 있다. 도 4를 참조하여 본원에서 설명된 실시예와 유사하게, 레티클 유지부(160)는 커버(26) 내에 제공된 보어(172)를 통해서 연장되는 블록 또는 핀(168)을 포함한다. 핀(168)은, 커버(26)의 외부 표면 상에 접근할 수 있는 탄성 부재(176)에 부착될 수 있다. 탄성 부재(176)는, 후퇴 위치로 핀(168)을 편향시키도록 구성된 엘라스토머 디스크일 수 있다. 후퇴 위치에서, 핀(168)은 레티클(12)의 위쪽에 그리고 그로부터 멀리 배치된다. 탄성 부재(176)를 형성하는 디스크는 이물질이 내부 포드로 진입하는 것을 방지하기 위해서 핀(168)과 보어(172) 사이에 밀봉부를 형성할 수 있다.
레티클 접촉 부재(180)는 핀(168)에 결합된다. 레티클 접촉 부재(180)는 스테인리스 강 또는 토론(TORLON)으로 형성될 수 있고 각도형 접촉 표면(182)를 가질 수 있다. 일부 경우에, 레티클(12)의 연부(184)가 모따기되거나 사면화될 수 있다. 접촉 부재(180)의 각도형 접촉 표면(182)은, 핀을 Z-방향으로 이동시키기 위해서 하향 힘이 핀(168)에 인가될 때, 레티클(12)의 연부(184)와 접촉되고 구속하도록 구성된다. 레티클 유지부(160)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 제공되는 하향 힘의 인가에 응답하여 레티클(12)과 결합된다. 레티클 유지부(160)가 레티클(12)의 연부(184)와 결합되기 때문에, X 및 Y 평면 내의 옆으로의 또는 수평의 이동이 방지되거나 감소될 수 있다. 또한, Z 방향을 따라 인가되는 하중이 감소될 수 있다.
도 6a는 개시 내용의 다른 실시예에 따른 내부 포드 커버(26)의 내부 표면(28) 상에 제공된 다른 레티클 유지부(260)의 근접도이다. 일부 경우에, 4개까지의 그러한 레티클 유지부(260)가 포드의 상이한 영역들에 위치되어 4개까지의 상이한 접촉 지점을 제공할 수 있다. 도 6b는 도 6a에 도시된 레티클 유지부(260)의 개략적인 횡단면도이다. 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 레티클 유지부(260)는 스프링 굴곡부 또는 스프링 아암(262)을 포함한다. 스프링 아암(262)은 나사(264) 또는 다른 체결부를 이용하여 커버(26)의 내부 표면에 고정된다. 스프링 아암(262)은, 핀(268)에 의해서 접촉될 때, Z-방향으로 아래쪽으로 휘어지도록 구성된다. 스프링 아암(262)은 힘이 인가되지 않는 완화 상태로부터 하향 힘이 인가되는 제2 상태로 아래쪽으로 휘어져 스프링 아암(262)을 약간 장력 하에 위치시키도록 구성된다. 스프링 아암(262)은 완화 상태로 편향되고, 핀(268)에 의해서 하향 힘이 인가될 때에만 이동된다. 스프링 아암(262)은 스테인리스 강, 티타늄, 티타늄 합금, 형상 기억 특성을 가지는 니티놀(NITINOL), 및 선택된 엘라스토머 중합체로 제조될 수 있다.
핀(268)은 본원에서 설명된 핀(68 및 168)과 유사하다. 핀(268)은 Z-방향으로 핀(268)에 인가되는 하향 힘의 부재시에 레티클(12)의 위쪽으로 그리고 그로부터 멀리 배치된다. 하향 힘은 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 핀(268)에 인가될 수 있다. 동작 시에, 핀(268)은 스프링 아암(262)의 원위 단부(270)와 접촉되어, 스프링 아암(262)이 그 완화 상태로부터 스프링 아암(262)이 레티클(12)의 연부(272)와 접촉되는 제2 상태로 이동되게 한다. 일부 경우에, 레티클(12)의 연부(272)가 모따기되거나 사면화될 수 있다. 레티클 유지부(260)가 레티클(12)의 연부(272)와 결합되기 때문에, X 및 Y 평면 내의 옆으로의 또는 수평의 이동이 방지되거나 감소될 수 있다. 일부 경우에, 별개의 레티클 규제부가 상단부 커버(26)의 내부 표면 상에 제공되어 Z 방향을 따른 레티클의 수직 이동을 구속할 수 있다. 그러나, 레티클 유지부(260)가 X 및 Y 방향을 따른 측방향 이동을 규제하기 때문에, Z 방향으로 인가되는 하중이 감소될 수 있다.
도 7은, 레티클 유지부(들)(360)가 본원에서 설명된 바와 같은 내부 포드의 기저부(362)에 결합되는 실시예의 개략도를 도시한다. 일부 경우에, 4개까지의 그러한 레티클 유지부(360)가 포드의 상이한 영역들에 위치될 수 있다. 도 7은, 제1 레티클 유지부(360a)가 레티클의 측면과 접촉되지 않는 제1 위치에서 제1 레티클 유지부(360a)를 도시한다. 부가적으로, 도 7은 제2 레티클 유지부(360b)가 레티클(12)의 측면(372)과 접촉되는 제2 위치에서 제2 레티클 유지부(360b)를 도시한다. 도 6a 및 도 6b를 참조하여 설명한 실시예와 유사하게, 각각의 레티클 유지부(360a, 360b)는 스프링 굴곡부 또는 스프링 아암(364)을 포함한다. 스프링 아암(364)은 나사(366) 또는 다른 체결부를 이용하여 기저부(362)의 내부 표면에 고정될 수 있다. 스프링 아암(364)은, 본원에서 설명된 바와 같은 내부 포드 커버에 고정된 핀 또는 다른 구조물에 의해서 접촉될 때, Z-방향으로 하향 굴곡되도록 구성된다. 스프링 아암(364)은 힘이 인가되지 않는 완화 상태로부터 제2 상태로 하향 굴곡되도록 구성되고, 제2 상태에서 스프링 아암(364)을 약간 장력 하에 위치시킨다. 스프링 아암(364)은 그 완화 상태로 편향되고, 핀 또는 다른 구조물에 의해서 하향 힘이 인가될 때에만 이동된다. 스프링 아암(364)은 스테인리스 강, 티타늄, 티타늄 합금, 형상 기억 특성을 가지는 니티놀, 및 선택된 엘라스토머 중합체로 제조될 수 있다. 일부 경우에, 별개의 레티클 규제부가 상단부 커버(26)의 내부 표면 상에 제공되어 Z 방향을 따른 레티클의 수직 이동을 구속할 수 있다. 그러나, 레티클 유지부(360)가 X 및 Y 방향을 따른 측방향 이동을 규제하기 때문에, Z 방향으로 인가되는 하중이 감소될 수 있다.
도 8은 또 다른 레티클 유지부(460)를 도시한다. 일부 경우에, 4개까지의 그러한 레티클 유지부(460)가 포드의 상이한 영역들에 위치되어 4개까지의 상이한 접촉 지점을 제공할 수 있다. 도 8에 도시된 바와 같이, 커버(26)가 기저부(32) 상에 안착될 때, 정지적인 유지 핀 또는 블록(468)이 레티클 유지부(460)와 접촉되어 레티클 유지부를 레티클(12)의 측벽(472)과 접촉되게 이동시킨다. 레티클 유지부(460)는 커버(26)와 결합되고, 레티클과 접촉되지 않는 제1 위치로부터 유지부(460)가 도 8에 도시된 바와 같이 측면으로부터 레티클(12)과 접촉되는 제2 위치까지 피봇되도록 구성된다. 일부 경우에, 상단부 커버(26)의 내부 표면 상에 제공된 별개의 레티클 규제부가 제공되어 Z 방향을 따른 레티클의 수직 이동을 구속할 수 있다. 그러나, 레티클 유지부(460)가 X 및 Y 방향을 따른 측방향 이동을 규제하기 때문에, Z 방향으로 인가되는 하중이 감소될 수 있다.
도 9a는 내부 포드 커버(26)의 내측부의 부분도를 도시한다. 내부 포드(26)는 레티클 유지부(460)를 수용하기 위한 함몰부 또는 소켓(482)을 포함한다. 도 9b에 도시된 바와 같이, 레티클 유지부(460)는 본체(490) 및 피봇 아암(492)을 포함한다. 피봇 아암(492)은 소켓(482) 내에 형성된 홈 내에 수용되도록 구성되고, 그에 따라 본체(490)가 제1 위치로부터 제2 위치까지 피봇 아암(492)에 의해서 형성된 피봇 축을 따라 피봇될 수 있다. 일부 경우에, 레티클 유지부(460)는 중력에 의존하여 제1 위치에서 유지된다. 레티클 유지부는 핀(468)과의 접촉시에 제1 위치로부터 제2 위치로 이동되도록 구성된다. 다른 경우에, 레티클 유지부(460)는 스프링에 의해서 하중을 받으며 제1 위치로 편향된다. 양 실시예에서, 핀(468)과의 접촉은 레티클 유지부(460)가 그 제1 위치로부터 핀이 레티클의 측벽(472)과 접촉되는 제2 위치로 이동되게 한다.
도 10a 내지 도 10d는 동작 중의 레티클 유지부(460)를 도시한다. 커버(26)가 기저부(32)와 접촉됨에 따라, 도 10a에 도시된 바와 같이, 핀(468)은 유지부(460)의 연부와 접촉되기 시작한다. 핀(468)에 의한 추가적인 접촉 시에, 레티클 유지부(460)는 레티클(12)의 측벽(472)와 접촉되기 시작하고 레티클(12)과 핀(468) 사이의 간극을 최소화한다. 도 10c에 도시된 바와 같이, 핀(468)과 레티클(12) 사이에 형성된 최소 간극 거리에서, 레티클 유지부(460)는 소켓(482) 내에 형성된 슬롯 내에 수용될 수 있다. 핀(468)과 레티클(12) 사이의 최대 거리에서, 도 10d에 도시된 바와 같이, 레티클 유지부(460)는 슬롯 내에 수용되지 않으나; 유지부(460)와 레티클의 측벽(472) 사이에서 접촉이 유지된다.
도 11 내지 도 12c는 레티클 유지부(560)의 또 다른 실시예의 여러 도면을 도시한다. 일부 경우에, 4개까지의 그러한 레티클 유지부(560)가 포드의 상이한 영역들에 위치되어 4개까지의 상이한 접촉 지점을 제공할 수 있다. 도 11에 가장 잘 도시된 바와 같이, 레티클 유지부(560)는 레티클(12)의 상단부 표면(502) 및 측벽(572)과 접촉되도록 구성된다. 레티클 유지부(560)가 레티클(12)의 측벽(572)과 접촉되기 때문에, 상단부 표면(502)에 인가되는 하중이 감소될 수 있고, 레티클의 이동은 X, Y, 및 Z 방향으로 구속된다.
도 11에 도시된 바와 같이, 레티클 유지부(560)는 본체(562), 본체로부터 멀리 연장되는 아암(564), 및 격막과 같은 탄성 부재(576)를 포함한다. 일부 경우에, 아암(564) 및 탄성 부재(576)는 커버(26)의 외부 표면에서 접근될 수 있다. 이러한 실시예에서, 레티클 유지부 본체(562)는 아암(564)의 스프링력에 의해서 후퇴 위치로 편향된다. 아암(564)에 대한 하향 힘의 인가는, 본체(562)가 Z-방향으로 이동되게 한다.
레티클 유지부 본체(562)는 2개의 함몰부(578)를 포함한다. 레티클 접촉 부재 또는 공(580a, 580b)은 함몰부(578)의 각각에 수용된다. 레티클 접촉 부재 또는 공(580a, 580b)은 금속, 금속 합금, 세라믹 또는 중합체 재료로 형성될 수 있다. 레티클 유지부(560)가 레티클(12)과 결합될 때, 제1 공(580a)이 레티클(12)의 상부 표면(502)과 접촉되고 제2 공(580b)은 레티클(12)의 측벽(572)과 접촉되도록, 제1 공(580a)이 제2 공(580b)에 대해서 각도를 이루어 배치될 수 있다. 레티클 유지부(560)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 제공되는 하향 힘의 인가에 응답하여 레티클(12)과 결합된다. 아암(564)에 대한 하향 힘의 인가는 제1 레티클 접촉 부재(580a)가 레티클(12)의 상단부 표면(502)에 접촉되게 하고 이어서 본체(562)가 접촉되게 하여, 레티클(12)을 향해서 약간 내측으로 피봇되게 함으로써, 제2 접촉 부재(580b)가 레티클(12)의 측벽(572)과 접촉되게 한다. 레티클(12)의 상단부 표면(502) 및 측벽(572)에서의 접촉은 X, Y 및 Z 방향을 따른 레티클(12)의 이동을 구속한다.
도 13은 내부 포드(600)를 도시한다. 내부 포드(600)는 내부 포드 기저부(604)와 교합되어 밀봉된 환경을 형성하도록 구성된 내부 포드 커버(602)를 포함한다. 레티클은 밀봉된 환경 내에 수용될 수 있다. 내부 포드 커버(602)는 내부 포드 기저부(604)의 크기 및 형상에 전반적으로 상응하는 크기 및 형상을 갖는다. 일부 경우에, 내부 포드 커버(602)는, 기저부(604)의 연부 내에 형성된 복수의 상응하는 함몰부 또는 노치(609)에 의해서 수용되기 위한 크기 및 구성을 가지는 복수의 돌출부 또는 핀(608)을 포함할 수 있다. 핀(608) 및 노치(609)가 함께 협력하여 기저부(604) 위에서 커버(602)를 안내 및 정렬시키고, 또한 커버(602)가 기저부(604)와 결합될 때, 커버(602)를 제 위치에서 유지한다.
내부 포드 커버(602)는 또한 레티클 유지부(610 및 614)의 하나 이상의 세트를 포함한다. 레티클 유지부(610 및 614)는, 입자를 생성할 수 있는 레티클의 이동을 감소 또는 방지하는데 도움을 준다. 내부 포드 커버(602)가 폐쇄될 때, 레티클 유지부가 Z-방향에 더하여 X 및 Y 평면 내의 레티클의 수평 이동 또는 옆으로의 이동을 집합적으로 구속하도록, 레티클 유지부(610 및 614)의 세트가 내부 포드 커버(602) 내로 통합된다. 레티클 유지부(610)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 Z-방향으로 유지부에 인가되는 하향 힘에 응답하여 레티클의 측면 및/또는 연부와 결합된다. 레티클 유지부(614)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 인가되는 하향 힘에 응답하여 레티클 유지부의 상단부 표면과 접촉된다. 그러나, 레티클 유지부(610)가 측면으로부터 레티클을 구속하기 때문에, 레티클 유지부(614)에 의해서 레티클의 상단부 표면에 인가되는 힘의 양이 감소될 수 있다. 또한, 내부 포드(600)가 폐쇄되고 외부 포드 내에 수용될 때, 레티클 유지부(614)는, 측면 레티클 유지부(610)가 레티클(12)의 측면 표면 및/또는 연부에 접촉하기에 앞서서, 레티클(12)의 상단부 표면에 접촉된다. 레티클(12)의 상단부 표면과의 초기 접촉을 제공하는 것은 레티클을 안정화시키고 레티클이 측면 레티클 유지부(610)에 의해서 규제되기에 앞서서 X 및/또는 Y 평면 내에서 이동되는 것을 방지한다.
레티클 유지부(610, 614)의 수 및 위치는 전체적인 포드의 크기 및 내부 포드 내에 수용된 레티클에 인가되는 하중에 따라서 달라질 수 있다. 일부 경우에, 레티클의 상단부 표면과 접촉되도록 구성된 레티클 유지부를 레티클의 측면 또는 연부로부터 레티클에 접촉되도록 구성된 레티클 유지부와 조합하는 것이 유용할 수 있다. 다른 경우에, 내부 포드 커버가 레티클의 측면 또는 연부와 접촉되도록 구성된 레티클 유지부를 포함할 수 있고 레티클의 상단부 표면과 접촉되도록 구성된 레티클 유지부를 제거할 수 있다. 일부 실시예에서, 도 13에 도시된 바와 같이, 내부 포드 커버(602)는 레티클 유지부의 2개의 쌍을 포함할 수 있고, 각각의 레티클 유지부는 측면으로부터 레티클에 접촉되도록 구성되고, 레티클 유지부의 적어도 하나의 쌍에서 각각의 레티클 유지부는 레티클의 상단부 표면에 접촉되도록 구성된다. 측면 접촉을 위해서 구성된 레티클 유지부(610)의 각각의 쌍이 내부 포드 커버(602) 상에 배치되고, 그에 따라 레티클 유지부는 레티클의 모서리를 X 및 Y 평면 내에서 이동되지 않게 구속하는 역할을 함께 한다.
레티클 유지부(610 및 614)에 더하여, 내부 포드 커버(602)는, 내부 포드 커버(602)가 내부 포드 기저부(604)와 결합될 때 내부 포드 내의 미세환경을 유지 및 제어하기 위해서 내부에 수용되는 필터 매체를 포함하는 하나 이상의 필터를 포함할 수 있다.
도 14a 및 도 14b는, 레티클의 측면으로부터 레티클을 규제하도록 구성된, 레티클 유지부(610)의 일부의 상이한 도면들을 도시한다. 도 14a 및 도 14b에서 확인될 수 있는 바와 같이, 레티클 유지부(610)는 레티클 접촉 부재(616), 탄성 부재(618) 및 캡(620)을 포함하며, 이들 모두는 내부 포드 커버(602) 외측으로부터 접근될 수 있다. 레티클 접촉 부재(616) 및 탄성 부재(618)는, 예를 들어 나사의 쌍과 같은 하나 이상의 체결부에 의해서 내부 포드 커버(602)에 고정되는 캡(620)에 의해서 제 위치에서 유지된다. 탄성 부재(618)는, 레티클 접촉 부재(616)를 후퇴 위치 또는 비-접촉 위치로 편향시키도록 구성된 엘라스토머 디스크 또는 격막일 수 있다. 또한, 본원에서 전술한 바와 같이, 탄성 부재(618)를 형성하는 디스크가 밀봉부로서 작용할 수 있고 이물질이 내부 포드로 진입하는 것을 방지하는데 도움을 줄 수 있다. 후퇴 위치에서, 레티클 접촉 부재(616)는 레티클(12)로부터 멀리 그리고 레티클과의 접촉을 벗어나게 배치된다. 탄성 부재(618) 및 레티클 접촉 부재(616) 모두는 Z-방향을 따른 하향 힘의 인가에 응답하도록 구성되어 레티클 접촉 부재(616)가 제1 후퇴 위치로부터 제2 위치로 이동될 수 있게 하며, 그러한 제1 후퇴 위치에서는 레티클 접촉 부재(616)가 레티클과 접촉되지 않고 제2 위치에서는 레티클 접촉 부재(616)가 내부 포드 내에 수용된 레티클의 측면과 접촉된다. 일부 경우에, 내부 포드 커버(602)는 또한 레티클 접촉 부재(616)의 일부를 수용하기 위한 하나 이상의 함몰부(622)를 포함할 수 있다. 레티클 접촉 부재(616)의 일부는, Z-방향을 따른 하향 힘이 레티클 접촉 부재(616)에 인가될 때, 함몰부(622) 내에 수용된다. 레티클 접촉 부재(616)가 X 및 Y-평면 내에서 활주되는 것을 방지하기 위해서, 함몰부(622)는 안정화 힘을 레티클 접촉 부재(616)에 제공한다.
도 15a 내지 도 15c는 레티클 접촉 부재(616)의 상이한 도면들을 도시한다. 레티클 접촉 부재(616)는 중합체, 중합체 혼합물, 금속 또는 금속 합금으로 제조된 하나의 일체형 단편일 수 있다. 레티클 접촉 부재(616)는 제조에 사용되는 재료에 따라서 가공되거나 주입 몰딩될 수 있다. 일부 경우에, 도시된 바와 같이, 레티클 접촉 부재(616)는 적어도 하나의 하향 연장 핑거(628)를 포함하는 측방향 연장 아암(626)을 포함한다. 부가적으로, 레티클 접촉 부재(616)는, 레티클의 측면과 접촉되도록 구성된 매끄러운 외향 연장 면(632)을 가지는 하향 연장 레그(630)를 포함한다. 핑거(628)의 각각은, 해당 목적을 위해서 내부 포드 커버(602) 내에 형성된 상응하는 함몰부(622) 내에 수용되도록 그리고 그러한 함몰부에 하향 힘을 인가하도록 구성된다. 일부 경우에, 도 15a 내지 도 15c에 도시된 바와 같이, 핑거(628)의 각각은 각도형 또는 사면형 연부를 포함한다. 각각의 핑거(628) 상에 제공된 각도형 또는 사면형 연부는 핑거(628)와 함몰부(622)의 표면 사이의 마찰량을 증가시키도록 설계되며, 그에 따라 레티클 접촉 부재(616)는 X 및 Y 평면을 따른 옆으로의 이동을 규제한다. 핑거(628)와 함몰부의 표면 사이의 이러한 상호작용은 레그(630)가 레티클로부터 멀리 활주될 가능성을 감소시킬 수 있다. 일부 경우에, 도시된 바와 같이, 레그(630)는 탄성 부재(618)의 유지와 상호 작용하기 위한 홈(634)을 포함할 수 있다.
도 16a 및 도 16b는 캡(620)의 상면도 및 저면도를 도시한다. 사용시에, 캡(620)은 레티클 접촉 부재(616) 및 탄성 부재(618) 위에 배치되고 그들과 접촉된다. 캡(620)은, 레티클 접촉 부재(616)와 접촉하고 그러한 레티클 접촉 부재(616)가 X 및 Y 평면으로 옆으로의 이동되는 것을 규제할 뿐만 아니라, Z-방향을 따른 레티클 접촉 부재(616)의 임의의 잠재적 상하 이동을 제한하는 브래킷 또는 가로대 부재(634)를 포함한다. 일부 경우에, 브래킷(634)은 Y 형상을 가지거나 차골(wishbone) 형상일 수 있으나, 관련 기술 분야의 통상의 기술자는 다른 구성을 용이하게 인지할 수 있을 것이다. 일부 경우에, 캡(620)은, 탄성 부재(618)와 접촉되고 그에 압력을 인가하는 원형 융기부(638) 및 캡(620)을 내부 포드 커버(602)에 고정하기 위한 하나 이상의 상응하는 체결부를 수용하기 위한 하나 이상의 개구를 포함할 수 있다.
도 17a 및 도 17b는 레티클 유지부(610)를 포함하는 내부 포드(600)의 횡단면도를 도시한다. 도 17a는 레티클 유지부(610)를 제1 비접촉 위치에서 도시하고, 도 17b는 레티클 유지부(610)를 제2 접촉 위치에서 도시하며, 그러한 제2 접촉 위치에서는, 아암(626)에 대한 Z-방향을 따른 하향 힘의 인가시에, 레티클 접촉 부재(616)의 레그(630)가 레티클(12)의 측면 표면(644)과 접촉된다. 레티클 접촉 부재(616)의 아암(626)에 대한 하향 힘의 인가시에, 레티클 접촉 부재(616)가 제1 회전 축(646)을 중심으로 피봇 또는 회전되어, 함몰부(622) 내에 수용되도록 핑거(628)를 하향 이동시키고 또한 레그(630)가 측면 표면(644)을 향해서 전방으로 피봇되게 한다. 제1 회전 축(646)을 중심으로 하는 회전은, 도 17b에 도시된 바와 같이 레그(630)가 레티클의 측면 표면(644)과 접촉될 때 중단된다. 제2 회전 축(648)은 레그(630)를 역으로 미는 레티클(12)에 의해서 생성된다. 그러나, 레그(630)를 역으로 미는 레티클(12)의 복귀 작용은 함몰부(622) 내에 수용된 핑거(628)에 부가적인 힘이 가해지게 하여, 레티클 접촉 부재(616)와 레티클(12) 사이의 접촉 지점을 추가적으로 강화시키고 안정화시킨다. 또한, 회전 축(646)은 가요성을 가지고, 회전 축(646)으로부터 회전 축(648)으로 변화된다. 제1 회전 축(646)으로부터 제2 회전 축(648)로의 이러한 회전 축의 이동 또는 변화는 탄성 부재(618)에 의해서 제공된다. 레그(630)가 제2 회전 축(648)에서 레티클(12)의 측면 표면(644)과 접촉될 때, 제1 회전 축(646)이 X 평면 내에서 이동될 수 있도록, 탄성 부재(618)는 충분한 양의 가요성을 제공한다. 레그(630)와 측면 표면(644) 사이의 접촉에 응답하여, 탄성 부재(618)가 휘어지고, 그에 따라 레그(630)와 레티클(12) 사이의 주 측면 접촉은 레티클(12)이 X 및/또는 Y 평면 내에서 이동하는 것을 방지하는데 도움을 준다. 도 13을 다시 참조하면, 레티클(12)의 측면 표면(644)과 접촉하는 것에 의해서 레티클(12)을 X 및 Y 평면에서 구속하는 것은, 부가적인 레티클 유지부(614)에 의해서 인가될 수 있는 Z 방향을 따른 필요 하중의 양을 감소시킬 수 있다.
도 18은 개시 내용의 다른 실시예에 따른 내부 포드(700)를 도시한다. 내부 포드(700)는 내부 포드 기저부(704)와 교합되어 밀봉된 환경을 형성하도록 구성된 내부 포드 커버(702)를 포함한다. 레티클은 밀봉된 환경 내에 수용될 수 있다. 내부 포드 커버(702)는 내부 포드 기저부(704)의 크기 및 형상에 전반적으로 상응하는 크기 및 형상을 갖는다. 일부 경우에, 내부 포드 커버(702)는, 기저부(704)의 연부 내에 형성된 복수의 상응하는 함몰부 또는 노치(709)에 의해서 수용되기 위한 크기 및 구성을 가지는 복수의 돌출부 또는 핀(708)을 포함할 수 있다. 핀(708) 및 노치(709)가 함께 협력하여 기저부(704) 위에서 커버(702)를 안내 및 정렬시킨다. 부가적으로, 핀(708) 및 노치(709)는, 커버(702)가 기저부(704)와 결합될 때, 커버(702)를 제 위치에서 유지한다.
내부 포드 커버(702)는 또한 레티클 유지부(710 및 714)의 하나 이상의 세트를 포함한다. 레티클 유지부(710 및 714)는, 입자를 생성할 수 있는 레티클의 이동을 감소 또는 방지하는데 도움을 준다. 내부 포드 커버(702)가 폐쇄될 때, 레티클 유지부가 Z-방향에 더하여 X 및 Y 평면 내의 레티클의 수평 이동 또는 옆으로의 이동을 집합적으로 구속하도록, 레티클 유지부(710 및 714)가 내부 포드 커버(702) 내로 통합된다. 레티클 유지부(710)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 Z-방향으로 유지부에 인가되는 하향 힘에 응답하여 레티클의 측면 및/또는 연부와 결합된다. 레티클 유지부(714)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 인가되는 하향 힘에 응답하여 레티클 유지부의 상단부 표면과 접촉된다. 그러나, 레티클 유지부(710)가 측면으로부터 레티클을 구속하기 때문에, 레티클 유지부(714)에 의해서 레티클의 상단부 표면에 인가되는 힘의 양이 감소될 수 있다. 또한, 내부 포드(700)가 폐쇄되고 외부 포드 내에 수용될 때, 레티클 유지부(714)는, 측면 레티클 유지부(710)가 레티클(12)의 측면 표면 및/또는 연부에 접촉하기에 앞서서, 레티클(12)의 상단부 표면에 접촉된다. 레티클(12)의 상단부 표면과의 초기 접촉을 제공하는 것은 레티클을 안정화시키고 레티클이 측면 레티클 유지부(710)에 의해서 규제되기에 앞서서 X 및/또는 Y 평면 내에서 이동되는 것을 방지한다.
레티클 유지부(710, 714)의 수 및 위치는 전체적인 포드의 크기 및 내부 포드 내에 수용된 레티클에 인가되는 하중에 따라서 달라질 수 있다. 일부 경우에, 레티클의 상단부 표면과 접촉되도록 구성된 레티클 유지부를 레티클의 측면 또는 연부로부터 레티클에 접촉되도록 구성된 레티클 유지부와 조합하는 것이 유용할 수 있다. 다른 경우에, 내부 포드 커버(702)가 레티클의 측면 또는 연부와 접촉되도록 구성된 레티클 유지부를 포함할 수 있고 레티클의 상단부 표면과 접촉되도록 구성된 레티클 유지부를 제거할 수 있다. 일부 실시예에서, 도 18에 도시된 바와 같이, 내부 포드 커버(702)는 레티클 유지부(710)의 2개의 쌍을 포함할 수 있고, 각각의 레티클 유지부는 측면으로부터 레티클에 접촉되도록 구성되고, 레티클 유지부(714)의 적어도 하나의 쌍은 레티클의 상단부 표면에 접촉되도록 구성된다. 일부 경우에, 측면 접촉을 위해서 구성된 레티클 유지부(710)의 각각의 쌍이 내부 포드 커버(702) 상에 배치되고, 그에 따라 레티클 유지부는 레티클의 모서리를 X 및 Y 평면 내에서 이동되지 않게 구속하는 역할을 함께 한다.
레티클 유지부(710 및 714)에 더하여, 내부 포드 커버(702)는, 내부 포드 커버(702)가 내부 포드 기저부(704)와 결합될 때 내부 포드 내의 미세환경을 유지 및 제어하기 위해서 내부에 수용되는 필터 매체를 포함하는 하나 이상의 필터를 포함할 수 있다.
도 19는, 레티클의 측면으로부터 레티클을 규제하도록 구성된, 레티클 유지부(710)의 일부의 상이한 도면들을 도시한다. 도 19에서 확인될 수 있는 바와 같이, 레티클 유지부(710)는 레티클 접촉 부재(716), (도 23a 및 도 23b에 도시된) 탄성 부재(718) 및 캡(720)을 포함하며, 이들 모두는 내부 포드 커버(702) 외측으로부터 접근될 수 있다. 레티클 접촉 부재(716) 및 탄성 부재(718)는, 예를 들어 나사와 같은 하나 이상의 체결부에 의해서 내부 포드 커버(702)에 고정되는 캡(720)에 의해서 제 위치에서 유지된다. 탄성 부재(718)는, 레티클 접촉 부재(716)를 후퇴 위치 또는 비-접촉 위치로 편향시키도록 구성된 엘라스토머 디스크 또는 격막일 수 있다. 또한, 본원에서 전술한 바와 같이, 탄성 부재(718)를 형성하는 디스크가 밀봉부로서 작용할 수 있고 이물질이 내부 포드로 진입하는 것을 방지하는데 도움을 줄 수 있다. 후퇴 위치에서, 레티클 접촉 부재(716)는 레티클로부터 멀리 그리고 레티클과의 접촉을 벗어나게 배치된다. 탄성 부재(718) 및 레티클 접촉 부재(716) 모두는 Z-방향을 따른 하향 힘의 인가에 응답하도록 구성되어 레티클 접촉 부재(716)가 제1 후퇴 위치로부터 제2 위치로 이동될 수 있게 하며, 그러한 제1 후퇴 위치에서는 레티클 접촉 부재(716)가 레티클과 접촉되지 않고 제2 위치에서는 레티클 접촉 부재(716)가 내부 포드 내에 수용된 레티클의 측면과 접촉된다. 일부 경우에, 내부 포드 커버(702)는 또한 레티클 접촉 부재(716)의 일부를 수용하기 위한 하나 이상의 함몰부(722)를 포함할 수 있다. 레티클 접촉 부재(716)의 일부는, Z-방향을 따른 하향 힘이 레티클 접촉 부재(716)에 인가될 때, 함몰부(722) 내에 수용된다. 레티클 접촉 부재(716)가 X 및 Y-평면 내에서 옆으로 활주되는 것을 방지하기 위해서, 함몰부(722)는 안정화 힘을 레티클 접촉 부재(716)에 제공한다.
도 20a 및 도 20b는 레티클 접촉 부재(716)의 상이한 도면들을 도시한다. 레티클 접촉 부재(716)는 중합체, 중합체 혼합물, 금속 또는 금속 합금으로 제조된 하나의 일체형 단편일 수 있다. 레티클 접촉 부재(716)는 제조에 사용되는 재료에 따라서 가공되거나 주입 몰딩될 수 있다. 일부 경우에, 도시된 바와 같이, 레티클 접촉 부재(716)는 측방향 연장 아암(726), 및 측방향 연장 아암(726)과 함께 T-형상을 형성하는 가로 부재(728)를 포함한다. 가로 부재(728)는, 제2 하향 연장 견부(730b)와 이격된 제1 하향 연장 견부(730a)를 포함한다. 일부 경우에, 하향 연장 견부(730a, 730b)는 가로 부재(728)의 전체 폭을 따라 연장되나, 이는 필수적인 것이 아니다. 다른 경우에, 하향 연장 견부(730a, 730b)는 가로 부재(728)의 폭의 25 퍼센트로부터 75 퍼센트까지 연장될 수 있다. 부가적으로, 레티클 접촉 부재(716)는, 레티클의 측면과 접촉되도록 구성된 매끄러운 외향 연장 면(733)을 가지는 하향 연장 레그(732)를 포함한다.
견부(730a, 730b)의 각각은, 해당 목적을 위해서 내부 포드 커버(702) 내에 형성된 상응하는 함몰부(722) 내에 수용되도록 그리고 그러한 함몰부에 하향 힘을 인가하도록 구성된다. 일부 경우에, 도 20a 및 도 20b에 도시된 바와 같이, 견부(730a, 730b)의 각각은 각도형 또는 사면형 연부를 포함한다. 각각의 견부(730a, 730b) 상에 제공된 각도형 또는 사면형 연부는 견부(730a, 730b)와 함몰부(722)의 표면 사이의 마찰량을 증가시키도록 설계되며, 그에 따라 레티클 접촉 부재(716)는 X 및 Y 평면을 따른 옆으로의 이동을 규제한다. 견부(730a, 730b)와 함몰부(722)의 표면 사이의 이러한 상호작용은 레그(732)가, 레티클과 접촉될 때, 레티클로부터 멀리 활주될 가능성을 감소시킬 수 있다. 일부 경우에, 도시된 바와 같이, 레그(732)는 탄성 부재(718)의 유지와 상호 작용하기 위한 홈(735)을 포함할 수 있다.
도 21a 및 도 21b는 일 실시예에 따른 캡(720A)의 상면도 및 저면도를 도시한다. 사용시에, 캡(720A)은 레티클 접촉 부재(716) 및 탄성 부재(718) 위에 배치되고 그들과 접촉된다. 캡(720A)은, 서로 인접 배치된 2개의 레티클 접촉 부재(716)와 접촉되어 이들이 옆으로 이동하는 것을 규제하는 2개의 대체로 원형 또는 C-형상인 브래킷 부재(736)를 포함한다. 일부 경우에, 도 21b에 가장 잘 도시된 바와 같이, 브래킷 부재(736)의 각각은, 탄성 부재(718)와 접촉되고 그에 압력을 인가하는 원형 융기부(738)를 포함한다. 또한, 캡은, 브래킷 부재(736)의 각각으로부터 이격된 나사와 같은 체결부를 수용하기 위한 개구(740)를 포함한다. 브래킷 부재들(736) 및 개구(740)는, 그들의 각각의 중심점을 통해서 선을 그릴 때 삼각형이 형성될 수 있도록, 서로 상대적으로 배치된다. 도 22a 및 도 22b는 유사한 캡(720B)을 도시한다. 주요 차이는, 제조에서의 차이로 인해서, 캡(720B)이 캡(720A)보다 더 중실형(solid)이라는 것이다. 당업자는, 캡(720B)의 기능 및 부분들 사이의 관계가 동일하게 유지된다는 것을 용이하게 인식할 것이다.
도 23a 및 도 23b는 레티클 유지부(710)를 포함하는 내부 포드(700)의 횡단면도를 도시한다. 도 23a는 레티클 유지부(710)를 제1 비접촉 위치에서 도시하고, 도 23b는 레티클 유지부(710)를 제2 접촉 위치에서 도시하며, 그러한 제2 접촉 위치에서는, 아암(726) 및/또는 가로 부재(728)에 대한 Z-방향을 따른 하향 힘의 인가시에, 레티클 접촉 부재(716)의 레그(732)가 레티클(12)의 측면 표면(744)과 접촉된다. 레티클 접촉 부재(716)의 아암(726) 및/또는 가로 부재(728)에 대한 하향 힘의 인가시에, 레티클 접촉 부재(716)가 제1 회전 축(746)을 중심으로 피봇 또는 회전되어, 견부(730a, 730b) - 도면에 730a 만이 도시됨 - 가 하향 이동하여 함몰부 내에 수용되게 하고, 또한 레그(732)가 레티클(12)의 측면 표면(744)을 향해서 전방으로 피봇되게 한다. 제1 회전 축(746)을 중심으로 하는 회전은, 도 23b에 도시된 바와 같이 레그(732)가 레티클(12)의 측면 표면(744)과 접촉될 때 중단된다. 제2 회전 축(748)은 레그(732)를 역으로 미는 레티클(12)에 의해서 생성된다. 그러나, 레그(732)를 역으로 미는 레티클(12)의 복귀 작용은 함몰부(722) 내에 수용된 견부(730a, 730b)에 부가적인 힘이 가해지게 하여, 레티클 접촉 부재(716)와 레티클(716) 사이의 접촉 지점을 추가적으로 강화시키고 안정화시킨다. 또한, 회전 축(746)은 가요성을 가지고, 회전 축(746)으로부터 회전 축(748)으로 변화된다. 제1 회전 축(746)으로부터 제2 회전 축(748)로의 이러한 회전 축의 이동 또는 변화는 탄성 부재(718)에 의해서 제공된다. 레그(732)가 제2 회전 축(748)에서 레티클(12)의 측면 표면(744)과 접촉될 때, 제1 회전 축(746)이 X 평면 내에서 이동될 수 있도록, 탄성 부재(718)는 충분한 양의 가요성을 제공한다. 레그(732)와 측면 표면(744) 사이의 접촉에 응답하여, 탄성 부재(718)가 휘어지고, 그에 따라 레그(732)와 레티클(12) 사이의 주 측면 접촉은 레티클(12)이 X 및/또는 Y 평면 내에서 이동하는 것을 방지하는데 도움을 준다. 도 18을 다시 참조하면, 레티클(12)의 측면 표면(744)과 접촉하는 것에 의해서 레티클(12)을 X 및 Y 평면에서 구속하는 것은, 부가적인 레티클 유지부(714)에 의해서 인가될 수 있는 Z 방향을 따른 필요 하중의 양을 감소시킬 수 있다.
도 24는 외부 포드(800) 내에 수용되어 이중 포드 조립체를 형성하는 내부 포드(700)를 도시하는 부분 횡단면도이다. 외부 포드(800)는 외부 포드 커버(802) 및 외부 포드 기저부(804)를 포함한다. 외부 포드 커버(802)는, 내부 포드(700)가 외부 포드 내에 수용될 때, 레티클 접촉 부재(716)의 아암(726) 및/또는 가로 부재(728)와 접촉되고 그에 하향 압력을 Z-방향으로 인가하는, 적어도 하나의 접촉 부재 또는 패드(806)를 포함한다. 외부 포드 커버(802)에 통합되는 접촉 부재 또는 패드(806)의 수는, 레티클 접촉 부재(716)의 수와 일대일 방식으로 상응한다. Z-방향을 따른 아암(726) 및/또는 가로 부재(728)에 대한 하향 인가 힘은, 레티클 접촉 부재(716)가 레티클(12)의 측면 표면(744)과 결합되게 하여 레티클(12)이 X 및 Y 평면 내에서 옆으로 이동하는 것을 구속 및/또는 방지한다. 도 18을 다시 참조하면, 레티클(12)의 측면 표면(744)과 접촉하는 것에 의해서 레티클(12)을 X 및 Y 평면에서 구속하는 것은, 부가적인 레티클 유지부(714)에 의해서 인가될 수 있는 Z 방향을 따른 필요 하중의 양을 감소시킬 수 있다.
도 25는, 위치결정 핀(708a, 708b, 708c, 및 708d)의 서로에 대한 상대적인 위치를 보여주는, 도 19에 도시된 내부 포드(700)의 단순화된 도면이다. 핀(708a 내지 708d)의 각각은 내부 포드(700)의 모서리(712)에 인접하여 위치된다. 도 25에 도시된 바와 같이 그리고 본원에서 전술한 바와 같이, 핀(780a 내지 708d)의 각각은 기저부(704) 내에 형성된 상응 함몰부 내에 수용된다. 예를 들어, 도 25에서 확인될 수 있는 바와 같이, 핀(708a)은 상응 함몰부(709a) 내에 수용되고, 핀(708c)은 함몰부(709c) 내에 수용된다. 본원에서 전술한 바와 같이, 상응 핀 및 함몰부가 함께 협력하여 기저부(704) 위에서 커버(702)를 안내 및 정렬시키고, 또한 커버(702)가 기저부(704)와 결합될 때, 커버(702)를 제 위치에서 유지한다. 또한, 핀 및 함몰부의 서로에 대한 위치는 부가적으로 X 및 Y 평면 내의 기저부(704)에 대한 커버(702)의 이동을 구속하고, 또한 기저부에 대한 커버(702)의 임의의 회전 이동을 구속하는데 도움을 준다.
도 25에서 확인될 수 있는 바와 같이, 핀(708a, 708b)의 제1 세트 및 그 상응 함몰부들(함몰부(709a)만 도시됨)이 제1 축(l)에 의해서 형성된 제1 수직 평면 내에 위치된다. 적어도 제3 핀(708c) 및 상응 함몰부(709c)는 제2 축(M)에 의해서 형성된 제2 수직 평면 내에 위치된다. 제4 핀(708d) 및 그 상응 함몰부는 선택적이다. 일부 경우에, 제2 축(m)에 의해서 형성된 제2 수직 평면은 제1 축(l)에 의해서 형성된 제1 수직 평면을 약 60도 내지 약 110도 범위의 각도(α)에서 그리고 보다 특히 약 60도 내지 약 90도 범위의 각도(α)에서 양분한다. 다른 경우에, 제2 축(m)에 의해서 형성된 제2 수직 평면은 제1 축(l)에 의해서 형성된 제1 수직 평면을 직각 또는 90도 각도에서 양분한다. 제3 핀(708c) 및 함몰부(709c)를, 핀의 제1 세트에 의해서 형성된 제1 축 또는 평면에 대해서, 온-각도(on-angle) 또는 일부 경우에 직각인, 축 상에 또는 평면 내에 배치하는 것은, 축(l)의 양 방향을 따른 기저부에 대한 커버(702)의 이동을 제한한다. 또한, 커버(702)가 기저부(704) 상에 안착될 때 그리고 핀(708a)과 같은 핀이 709a와 같은 상응 함몰부 내에 수용될 때, 커버(702)가 회전 이동에 대해서 구속되도록, 함몰부의 폭에 대한 핀의 폭이 선택된다. 기저부(704)에 대한 커버(702)의 X 및 Y 평면 내의 이러한 이동에 대한 구속은 또한 3개의 핀(708a, 708b, 및 708c) 및 그 상응 함몰부를 서로에 대해서 중심에(on-center) 배치함으로써 달성될 수 있다.
도 26 내지 도 29c는 개시 내용의 또 다른 실시예에 관한 것이다. 도 26은 또 다른 실시예에 따른 하나 이상의 레티클 유지부(810)를 포함하는 내부 포드(800)의 사시도이다. 내부 포드(800)는 내부 포드 기저부(802)와 교합되어 밀봉된 환경을 형성하도록 구성된 내부 포드 커버(804)를 포함한다. 레티클은 밀봉된 환경 내에 수용될 수 있다. 내부 포드 커버(802)는 내부 포드 기저부(804)의 크기 및 형상에 전반적으로 상응하는 크기 및 형상을 갖는다. 일부 경우에, 내부 포드 커버(802)는, 기저부(804)의 연부 내에 형성된 복수의 상응하는 함몰부 또는 노치에 의해서 수용되기 위한 크기 및 구성을 가지는 복수의 돌출부 또는 핀을 포함할 수 있다. 핀 및 노치가 함께 협력하여 기저부(804) 위에서 커버(802)를 안내 및 정렬시키고, 또한 커버(802)가 기저부(804)와 결합될 때, 커버(802)를 제 위치에서 유지한다.
도 26에 도시된 바와 같이, 내부 포드 커버(802)는 또한 레티클 유지부(810)의 하나 이상의 쌍을 포함한다. 레티클 유지부(810)는, 입자를 생성할 수 있는 레티클의 이동을 감소 또는 방지하는데 도움을 준다. 레티클 유지부(810)의 수 및 위치는 전체적인 포드의 크기 및 내부 포드 내에 수용된 레티클에 인가되는 하중에 따라서 달라질 수 있다. 내부 포드 커버(802)가 폐쇄될 때, 레티클 유지부가 Z-방향에 더하여 X 및 Y 평면 내의 레티클의 수평 이동 또는 옆으로의 이동을 집합적으로 구속하도록, 레티클 유지부(810)가 내부 포드 커버(802) 내로 통합된다. 각각의 레티클 유지부(810)는 레티클의 측면 표면과 접촉되도록 구성된다. 레티클 유지부(810)의 각각의 쌍이 내부 포드 커버(802) 상에 위치되고, 그에 따라 2개의 레티클 유지부(810)는 레티클의 모서리를 X 및 Y 평면 내에서 이동되지 않게 구속하는 역할을 함께 한다. 일부 실시예에서, 도시된 바와 같이, 레티클 유지부(810)는 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응하는 구조물에 의해서 Z-방향으로 유지부에 인가되는 하향 힘에 응답하여 레티클의 측면과 결합된다. 본원에서 설명된 이전의 실시예와 달리, 레티클 유지부(810)는 레티클의 상단부 표면과 의도적으로 접촉되지 않는다.
도 27 및 도 28은 레티클 유지부(810)를 포함하는 내부 포드의 다른 횡단면도이고, 도 29a 내지 도 29c는 개별적인 레티클 유지부(810)의 다른 도면이다. 각각의 레티클 유지부(810)는 아암(814) 및 주 본체 부분(816)을 포함한다. 아암은, 주 본체 부분(816)이 연장되는 방향에 수직인 방향으로 연장된다. 예를 들어, 일부 경우에, 아암(814)은 X 또는 Y 방향으로 연장되고, 주 본체 부분(816)은 Z-방향으로 연장된다. 주 본체 부분(816)은, 외부 포드 커버의 내부 표면 상에 제공된 상응 구조물에 의한 아암(814)에 대한 Z-방향을 따른 하향 힘의 인가에 응답하여, 레티클(12)의 측면 표면(818)과 접촉된다. 측면 접촉 시에, 레티클의 일부 센터링이 발생되나, 활주 중의 힘은 최소화될 것이다. 레티클과 레티클 유지부 사이의 마찰은 또한 이동 중에 X 및 Y 방향을 따른 레티클의 이동을 제한한다. 일부 경우에, 도 27에 도시된 바와 같이, 주 본체 포트(816)는, 필요에 따라 Z-방향을 따른 레티클의 이동을 제한하기 위해서, 레티클의 상단부 표면 위에 배치되는 견부 부분(820)을 포함할 수 있다. 견부 부분(820)은 레티클(12)의 상단부 표면과 접촉되도록 의도되지 않는다. 오히려, 견부 부분(820)은, 필요에 따라, 충격 발생에 응답하여 Z 방향을 따른 레티클(12)의 이동을 제한한다. 부가적으로, 레티클 유지부(810)는, 주 본체 부분(816)을 둘러싸고 이물질이 내부 포드에 진입하는 것을 방지하는데 도움이 될 수 있는, 밀봉부(824)를 포함할 수 있다.
설명된 본 개시 내용의 몇몇 예시적 실시예에서, 관련 기술 분야의 통상의 기술자는, 첨부된 청구범위의 범위 내에서 또 다른 실시예가 만들어질 수 있고 사용될 수 있다는 것을 용이하게 이해할 것이다. 이러한 문헌에 포함되는 개시 내용의 수 많은 장점이 전술한 설명에서 기술되었다. 그러나, 이러한 개시 내용은, 많은 측면에서, 단지 예시적인 것임을 이해할 수 있을 것이다. 개시 내용의 범위를 벗어나지 않고도, 특히 부품의 형상, 크기 및 배열과 관련된 상세 부분의 변화가 이루어질 수 있을 것이다. 물론, 개시 내용의 범위는 첨부된 청구범위가 표현된 언어로 규정된다.

Claims (19)

  1. 레티클을 유지하기 위한 레티클 포드이며:
    레티클을 그 위에 지지하도록 구성된 기저부;
    상단부 표면을 구비하며 기저부와 교합되도록 구성되는 커버; 및
    레티클의 이동을 제한하기 위해서 레티클의 측벽과 접촉되도록 구성된 레티클 접촉 부재를 각각 포함하는 하나 이상의 레티클 유지부를 포함하고, 각각의 레티클 접촉 부재는 외향 연장 아암 및 커버를 통해서 연장되는 하향 연장 레그를 포함하고, 아암의 작동시에, 하향 연장 레그는 레티클의 측벽을 향하는 방향으로 이동되도록 구성되는, 레티클 포드.
  2. 제1항에 있어서,
    레티클 접촉 부재가 레티클의 수평 방향 이동을 제한하는, 레티클 포드.
  3. 제2항에 있어서,
    레티클 접촉 부재가 수직 방향 이동을 제한하는, 레티클 포드.
  4. 제1항에 있어서,
    레티클 접촉 부재가 레티클의 상단부 표면과 접촉되도록 더 구성되는, 레티클 포드.
  5. 제1항에 있어서,
    하나 이상의 레티클 유지부의 각각이 탄성 부재를 더 포함하고, 탄성 부재는 레티클 접촉 부재를 비-접촉 위치로 편향시키는, 레티클 포드.
  6. 제1항에 있어서,
    외향 연장 아암이 적어도 부분적으로 커버의 상단부 표면 위에서 연장되는, 레티클 포드.
  7. 제1항에 있어서,
    외향 연장 아암이 적어도 하나의 하향 연장 부재를 포함하는, 레티클 포드.
  8. 제1항에 있어서,
    하향 연장 레그가 적어도 제1 함몰부 및 상기 제1 함몰부 내에 수용되는 제1 접촉 부재를 포함하는, 레티클 포드.
  9. 제1항에 있어서,
    레티클 포드는 외부 포드 내에 수용되고, 외부 포드는 외부 포드 기저부 및 상기 외부 포드 기저부와 교합되도록 구성된 외부 포드 커버를 갖고, 외부 포드 커버는 내부 표면 및 내부 표면으로부터 연장되는 적어도 하나의 접촉 패드를 가지며, 그에 따라 적어도 하나의 접촉 패드는 레티클 포드의 외향 연장 아암과 접촉하고 작동시켜, 하향 연장 레그가 레티클의 측벽을 향하는 방향으로 이동하게 하는, 레티클 포드.
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10256132B2 (en) * 2016-04-28 2019-04-09 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Reticle processing system
TWI685711B (zh) * 2018-08-27 2020-02-21 家登精密工業股份有限公司 光罩盒及其作動方法
TWI705522B (zh) * 2019-07-30 2020-09-21 家登精密工業股份有限公司 基板容納裝置及其製造方法
US11104496B2 (en) * 2019-08-16 2021-08-31 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Non-sealed reticle storage device
US11442370B2 (en) 2019-10-16 2022-09-13 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Reticle retaining system
TW202134774A (zh) * 2019-12-05 2021-09-16 美商應用材料股份有限公司 光標處理系統
WO2021138012A1 (en) * 2019-12-31 2021-07-08 Entegris, Inc. Reticle pod having retention through reticle compartment wall
JP7176165B2 (ja) * 2020-04-24 2022-11-22 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 Euvレチクルポッド
US20210356858A1 (en) * 2020-05-14 2021-11-18 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Container for accommodating substrate with effective hermetic sealing
TWI760062B (zh) * 2020-05-14 2022-04-01 家登精密工業股份有限公司 提供有保持銷組件之光罩盒及固持光罩的方法
TWI755795B (zh) * 2020-07-23 2022-02-21 家登精密工業股份有限公司 具有導位構件的光罩盒
US11874596B2 (en) 2020-09-30 2024-01-16 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Workpiece container system
DE102020213422A1 (de) 2020-10-23 2021-10-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Lagerelement für ein retikel für die mikrolithographie
EP4248271A1 (en) * 2020-11-18 2023-09-27 Brooks Automation (Germany) GmbH Euv reticle stocker and method of operating the same
US11822257B2 (en) 2021-03-12 2023-11-21 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Reticle storage pod and method for securing reticle
US20230066653A1 (en) * 2021-08-30 2023-03-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Reticle enclosure for lithography systems
US20230075744A1 (en) * 2021-09-09 2023-03-09 Entegris, Inc. Reticle pod having latch including ramped surface
TW202400488A (zh) * 2022-06-28 2024-01-01 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 光罩容器中用於間隔之插件

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060109449A1 (en) * 2004-11-24 2006-05-25 Miraial Co., Ltd. Reticle-carrying container
JP2006184442A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Nikon Corp レチクル保護装置および露光装置
JP2009510525A (ja) 2005-09-27 2009-03-12 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルポッド
US20120175279A1 (en) * 2011-01-11 2012-07-12 Ku Chen-Wei Euv pod with fastening structure
JP2014527291A (ja) 2011-07-22 2014-10-09 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3220630A (en) 1963-01-21 1965-11-30 Catalyst Research Corp Heating device for joining pipe
US5184723A (en) * 1991-05-14 1993-02-09 Fluoroware, Inc. Single wafer robotic package
US5469963A (en) * 1992-04-08 1995-11-28 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved liner
US5452795A (en) * 1994-11-07 1995-09-26 Gallagher; Gary M. Actuated rotary retainer for silicone wafer box
JP3212890B2 (ja) * 1996-10-15 2001-09-25 九州日本電気株式会社 ウェハキャリア
JP3813742B2 (ja) * 1998-06-25 2006-08-23 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
US6216873B1 (en) * 1999-03-19 2001-04-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF container including a reticle support structure
US6825916B2 (en) * 2002-07-05 2004-11-30 Entegris, Inc. Reticle carrier with positioning cover
JP2004071729A (ja) * 2002-08-05 2004-03-04 Sendai Nikon:Kk レチクル保持方法、レチクル保持装置及び露光装置
KR100609115B1 (ko) * 2003-10-27 2006-08-09 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 레티클 홀더 및 레티클의 조립체
US7100772B2 (en) * 2003-11-16 2006-09-05 Entegris, Inc. Wafer container with door actuated wafer restraint
US7607543B2 (en) * 2005-02-27 2009-10-27 Entegris, Inc. Reticle pod with isolation system
TWM295333U (en) 2005-10-18 2006-08-01 Gudeng Prec Ind Co Ltd Positioning structure of mask box
JP3120494U (ja) * 2006-01-16 2006-04-06 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 レチクルポッドの保持構造
TWI344926B (en) * 2008-12-05 2011-07-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod
TWI411563B (zh) * 2009-09-25 2013-10-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd 光罩盒
TWI378887B (en) * 2009-12-29 2012-12-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod and supporting components therebetween
TWI501910B (zh) * 2011-11-17 2015-10-01 Gudeng Prec Ind Co Ltd 具有排水結構之極紫外光光罩儲存傳送盒
EP2909110B1 (en) * 2012-10-19 2017-08-30 Entegris, Inc. Reticle pod with cover to baseplate alignment system
TWI671248B (zh) * 2014-12-08 2019-09-11 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 用於基板之容器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060109449A1 (en) * 2004-11-24 2006-05-25 Miraial Co., Ltd. Reticle-carrying container
JP2006184442A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Nikon Corp レチクル保護装置および露光装置
JP2009510525A (ja) 2005-09-27 2009-03-12 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルポッド
US20120175279A1 (en) * 2011-01-11 2012-07-12 Ku Chen-Wei Euv pod with fastening structure
JP2014527291A (ja) 2011-07-22 2014-10-09 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI652757B (zh) 2019-03-01
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