TW201434116A - 具有限制結構之基板收納容器 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種具有限制結構之基板收納容器，基板收納容器包含一盒體、至少一限制結構及一門體，限制結構設置於盒體之一側壁，並具有複數限制溝槽，其中每一限制溝槽具有一第一斜面及一第二斜面，第二斜面相對於側壁之傾斜角度係對應基板與限制結構之材料的一摩擦係數，降低基板與限制溝槽之第二斜面間之摩擦力，使基板順利地沿著第二斜面抬升並進入限制溝槽，使門體順利地關閉盒體，並透過限制結構定位基板以防止基板於基板收納容器內晃動，同理地，基板容易沿著第二斜面滑下並退出限制溝槽，且移動至盒體之開口，以利後續製程之執行。

Description

具有限制結構之基板收納容器

    本發明係關於一種基板收納容器，特別是指一種具有限制結構之基板收納容器。

    近代半導體科技發展迅速，其中光學微影技術（Optical Lithography）扮演重要的角色，只要是關於圖形(pattern)定義，皆需仰賴光學微影技術。光學微影技術在半導體的應用上，其將設計好的線路製作成具有特定形狀並可透光之光罩。然後利用曝光原理使光源通過光罩並投影至一基板進行曝光，並於基板形成特定圖案，而基板必須保持絕對清潔，即無任何汙染微粒。

    當半導體製程在進入深次微米的時代之後，半導體廠對於無塵的要求也就越來越高，雖然基板在反應室中進行製程反應時，反應室內部之潔淨度要求可以符合標準，但是半導體晶圓由於需經過各種不同流程的處理且需配合製程設備，基板必須輸送至不同製程的反應室，於輸送過程中必須避免基板不受到外界環境的污染，為了方便基板的搬運且避免基板受到外界污染，如此基板常裝設於一密封容器，並利用自動化設備輸送密封容器。

    一般密封容器具有一盒體及一門體，盒體之左右兩側設有複數插槽，該些插槽固定該些基板，並使該些基板水平容置於盒體內，且盒體具有一開口，開口可供基板的載出及載入，門體設置於盒體的開口，以密封盒體並保護盒體之內部的該些基板。然密封容器於輸送過程中，密封容器容易產生震動，而收納於密封容器內之基板容易因震動而產生易位及旋轉，因此通常於盒體之後側設有一限制件，限制件對應門體，並具有複數凹槽，每一凹槽定位一基板，以防止基板因震動而產生易位及旋轉。

    此時每一凹槽具有一第一斜面及一第二斜面，當門體關閉盒體時，門體推動基板，基板之邊緣應沿著第二斜面抬升，並進入凹槽。當門體脫離盒體時，基板之邊緣應沿著第二斜面滑下，並脫離凹槽，基板往盒體之開口移動。但於實際使用時發現，當門體與盒體分離時，基板仍然卡固在凹槽上，其因基板與凹槽之第二斜面間所產生之摩擦力而使基板無法順利地沿著第二斜面滑下。

    有鑑於此，本發明提供一種具有限制結構之基板收納容器，其限制結構具有複數限制溝槽，每一限制溝槽之第二斜面相對於水平面之傾斜角度對應基板與限制結構之材料間的摩擦係數，以減少基板與第二斜面間之摩擦力，而使基板容易沿著第二斜面抬升及滑下。

    本發明之目的，在於提供一種具有限制結構之基板收納容器，基板收納容器之限制結構可定位容置基板收納容器之至少一基板，基板不受其與限制結構間所產生之摩擦力的影響而容易進入即退出限制結構。

    為達上述目的，一種具有限制結構之基板收納容器，其係包含：一盒體，其具有一開口及一側壁，並容置至少一基板；至少一限制結構，其設置於該盒體之該側壁，並具有複數限制溝槽，每一限制溝槽係供該基板設置，並限制該基板，該限制溝槽具有一第一斜面及一第二斜面；以及一門體，其設置該開口，該門體推動該基板沿著該第二斜面移動至該限制溝槽；其中該第二斜面相對於該側壁之傾斜角度係對應該基板與該限制結構之材料間的一摩擦係數。

1．．．基板收納容器

10．．．盒體

101．．．頂部

102．．．底部

103．．．左側壁

104．．．右側壁

105．．．後側壁

106．．．容置空間

107．．．開口

11．．．支撐凸部

111．．．凹槽

12．．．門體

13．．．限制結構

13a．．．第一限制結構

13b．．．第二限制結構

13c．．．第三限制結構

131、131a、131b、131c．．．限制溝槽

1311．．．第一斜面

1312．．．第二斜面

2．．．基板

H．．．水平面

d．．．間距

第一圖為本發明之第一實施例之基板收納容器的剖面圖；
第二圖為本發明之第一圖之AA’方向的剖面圖；
第三A至三E圖為本發明之第一實施例之基板收納容器的使用狀態圖；
第四圖為本發明之第二實施例之基板收納容器的剖面圖；以及
第五圖為本發明之第三實施例之基板收納容器的剖面圖；以及
第六圖為本發明之第四實施例之基板收納容器的剖面圖。

    茲為使　貴審查委員對本發明之結構特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以實施例及配合詳細之說明，說明如後：

    習知基板收納容器之限制件的凹槽容易卡固基板，因此，當基板收納容器之門體關閉盒體時，門體推動基板往對應之凹槽移動，但基板與凹槽間產生摩擦力，摩擦力使基板無法順利沿著凹槽之側壁往限制溝槽移動，使門體無法順利關閉盒體，甚至造成基板之損壞；當門體脫離盒體時，基板因其與凹槽間所產生之摩擦力而無法順利地沿著凹槽的側壁滑下並退出限制溝槽，使基板無法靠近盒體之開口，導致基板無法被偵測而無法進行後續製程。本發明提供一種具有限制結構之基板收納容器，並解決習知問題。

    首先，請參閱第一圖及第二圖，其係本發明之第一實施例之基板收納容器的剖面圖；如圖所示，本實施例提供一種具有限制結構之基板收納容器1，基板收納容器1包含一盒體10及一門體12，盒體10具有一頂部101、一底部102、一左側壁103、一右側壁104及一後側壁105，後側壁105之兩側分別連接左側壁103及右側壁104，頂部101連接左側壁103、右側壁104及後側壁105之上端邊緣，底部102連接左側壁103、右側壁104及後側壁105之下端邊緣，如此盒體10具有一容置空間106及與容置空間106連通之一開口107，容置空間106用於容置至少一基板2，基板2係如晶圓、光罩或半導體基板，開口107對應後側壁105。門體12設置於盒體10，以關閉盒體10之開口107，並對應盒體10之後側壁105。

    上述盒體10之左側壁103及右側壁104上分別設置複數支撐凸部11，該些支撐凸部11分別從左側壁103及右側壁104往容置空間106凸出。每一支撐凸部11係從開口107往後側壁105延伸，該些支撐凸部11從頂部101往底部102排列，設置於左側壁103之該些支撐凸部11對應設置於右側壁104之該些支撐凸部11，該些支撐凸部11之間具有複數凹槽111，所以位於左側壁103之該些凹槽111對應位於右側壁104之該些凹槽111。

    本實施例之基板收納容器1更包含一限制結構13，限制結構13設置於盒體10之後側壁105，並位於容置空間106內，且鄰近設置左側壁103及右側壁104之該些支撐凸部11的末端。限制結構13具有複數限制溝槽131，該些限制溝槽131呈垂直排列，該些限制溝槽131對應位於左側壁103及右側壁104之該些凹槽111，如此位於盒體10之容置空間106的基板2設置於位於左側壁103及右側壁104之該些凹槽111及該些限制溝槽131，以支撐基板於容置空間106內。上述每一限制溝槽131具有一第一斜面1311及與第一斜面1311相對之一第二斜面1312。第一斜面1311係從限制溝槽131往頂部101延伸，第二斜面1312係從限制溝槽131往底部102延伸，以形成v字型的限制溝槽131。

    請一併參閱第三A圖至第三E圖，其係本發明之第一實施例之基板收納容器的使用狀態圖；如圖所示，基板2先設置於位於左側壁103及右側壁104之該些凹槽111及該些限制溝槽131，基板2之邊緣抵接對應之限制溝槽131的第二斜面1312之最低點，即基板2之邊緣抵接於遠離限制溝槽131之第二斜面1312的邊緣(如第三A圖)。接著門體12關閉盒體10之開口107，同時門體12推動基板2往後側壁105移動，基板2之邊緣沿著對應之限制溝槽131的第二斜面1312抬升並往限制溝槽131移動(如第三B圖)。待門體12設置於盒體10後，基板2定位於限制溝槽131內，此時基板2遠離盒體10之開口107，即基板2之邊緣與盒體10之開口107有一間距d(如第三C圖)。當門體12脫離盒體10時，此時基板2未被門體12抵壓，基板2之邊緣自動地沿著對應之限制溝槽131的第二斜面1312滑下並往盒體10之開口107移動(如第三D圖)，最後基板2之邊緣位於開口107(如第三E圖)，以便於機械手臂可偵測到基板2並取出基板2進行後續製程。

    為了使基板2容易沿著對應之限制溝槽131的第二斜面1312抬升進入限制溝槽131或沿第二斜面1312滑下而退出限制溝槽131，避免門體12無法順利關閉盒體10及無法順利偵測基板2等狀況發生，所以本實施例之第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度係對應基板與限制結構13之材料間的摩擦係數，如：基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數介於0.1與0.4之間，第二斜面1312相對於水平面之傾斜角度介於15度與66度之間，尤其基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數介於0.1與0.2之間時，第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度係介於15度與66度之間；基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數介於0.2與0.3之間時，第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度係介於30度與60度之間；基板與限制結構13之材料間的摩擦係數介於0.3與0.4之間時，第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度係介於50度與55度之間。

    由上述可知，當基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數越大時，第二斜面1312相對於水平面之傾斜角度的範圍越小。當基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數越大時，即表示基板2與限制溝槽131之第二斜面1312間所產生之摩擦力越大，因此第二斜面1312相對於水平面之傾斜角度必須變大，使第二斜面1312之傾斜度變大，以減少基板2與第二斜面1312間之摩擦力，如此基板2才容易沿著第二斜面1312滑下，但第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度也不可過大，以避免基板無法順利沿第二斜面1312抬升。反之，當基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數越小時，即表示基板2與限制溝槽131之第二斜面1312間所產生之摩擦力越小，所以第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度不用過大，基板2也可容易從第二斜面1312滑下。

    本實施例之第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度係由基板2與限制結構13之材料間的摩擦係數而定，有效防止基板2與對應之限制溝槽131的第二斜面1312間所產生摩擦力而使基板2無法順利沿著第二斜面1312進入限制溝槽131，進而使門體12可順利地關閉盒體10，避免基板2產生損壞；同時也防止基板2因摩擦力而無法自動地沿著第二斜面1312滑下並移至開口107，避免影響後續製程進行。

    復參閱第二圖，本實施例之限制結構13的每一限制溝槽131之第一斜面1311係與第二斜面1312相互對稱，即第一斜面1311相對於水平面H之傾斜角度與第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度相同。另參閱第四圖，其係本發明之第二實施例之基板收納容器的剖面圖；如圖所示，本實施例之每一限制溝槽131的第一斜面1311不與第二斜面1312相互對稱，即第一斜面1311相對於水平面H之傾斜角度與第二斜面1312相對於水平面H之傾斜角度不相同，而第一斜面1311必須具有一定斜度，以供基板之邊緣抵接，進而定位基板於限制溝槽131內，如此基板收納容器1於運送過程中產生震動，基板將不會因震動而沿著第一斜面1311脫離限制溝槽131。

    請參閱第五圖，其係本發明之第三實施例之基板收納容器之剖面圖；如圖所示，本實施例與上述實施例不同在於，上述實施例之基板收納容器1僅具有單一個限制結構13，而本實施例之基板收納容器1具有一第一限制結構13a及一第二限制結構13b，第一限制結構13a設置於左側壁103，並鄰近後側壁105，第一限制結構13a具有複數限制溝槽131a，第二限制結構13b設置於右側壁104，並鄰近後側壁105，且與第一限制結構13a相互對稱，第二限制結構13b亦具有複數限制溝槽131b，該些限制溝槽131b係與第一限制結構13a之該些限制溝槽131a相對應，而本實施例之限制溝槽131a、131b的結構與上述實施例相同，於此不再贅述。當然第一限制結構13a及第二限制結構13b可對稱設置於後側壁105之兩側，第一限制結構13a鄰近左側壁103，第二限制結構13b鄰近右側壁104，另外更可以於後側壁105上設置一第三限制結構13c(第六圖)，第三限制結構13c亦具有複數限制溝槽131c，該些限制溝槽與第一限制結構13a之該些限制溝槽131a及第二限制結構13b之該些限制溝槽131b相互對應，所以限制結構設置於盒體10之側壁皆可，限制結構於盒體10內之位置係依據使用者需求而決定，於此不再贅述。

    綜上所述，本發明提供一種基板收納容器，基板收納容器之盒體內設有至少一限制結構，限制結構具有該些限制溝槽，每一限制溝槽具有第一斜面及第二斜面，設置於盒體之基板沿著第二斜面抬升進入限制溝槽，或沿著第二斜面滑下而退出限制溝槽，第二斜面相對於水平面之傾斜角度對應限制結構之材料與基板間之摩擦係數，有效減少基板與第二斜面間之摩擦力，進而使基板順利地沿著第二斜面抬升及滑下，而避免發生門體無法關閉盒體或無法感測基板等問題。

    故本發明實為一具有新穎性、進步性及可供產業利用者，應符合我國專利法所規定之專利申請要件無疑，爰依法提出發明專利申請，祈　鈞局早日賜准專利，至感為禱。

    惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，舉凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。

1．．．基板收納容器

101．．．頂部

102．．．底部

106．．．容置空間

107．．．開口

11．．．支撐凸部

111．．．凹槽

12．．．門體

13．．．限制結構

131．．．限制溝槽

1311．．．第一斜面

1312．．．第二斜面

H．．．水平面

Claims (11)

1. 一種具有限制結構之基板收納容器，其係包含：
   一盒體，其具有一開口及一側壁，並容置至少一基板；
   至少一限制結構，其設置於該盒體之該側壁，並具有複數限制溝槽，每一限制溝槽係供該基板設置，並限制該基板，該限制溝槽具有一第一斜面及一第二斜面；以及
   一門體，其設置該開口，該門體推動該基板沿著該第二斜面移動至該限制溝槽；
   其中該第二斜面相對於該側壁之傾斜角度係對應該基板與該限制結構之材料間的一摩擦係數。
2. 如申請專利範圍第1項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該摩擦係數係介於0.1與0.4之間，該第二斜面相對於該側壁之傾斜角度係介於15度與66度之間。
3. 如申請專利範圍第2項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該摩擦係數係介於0.1與0.2之間，該第二斜面相對於該側壁之傾斜角度係介於15度與66度之間。
4. 如申請專利範圍第2項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該摩擦係數係介於0.2與0.3之間，該第二斜面相對於該側壁之傾斜角度係介於30度與60度之間。
5. 如申請專利範圍第2項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該摩擦係數係介於0.3與0.4之間，該第二斜面相對於該側壁之傾斜角度係介於50度與55度之間。
6. 如申請專利範圍第1項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該側壁包含一左側壁、一右側壁及一後側壁，該後側壁連接該左側壁及該右側壁，並對應該門體，該限制結構設置於該後側壁。
7. 如申請專利範圍第1項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該側壁包含一左側壁、一右側壁及一後側壁，該後側壁連接該左側壁及該右側壁，並對應該門體，該限制結構包含：
   一第一限制結構，其設置於該左側壁，並具有該些限制溝槽；以及
   一第二限制結構，其設置於該右側壁，並具有該些限制溝槽，且與該第一限制結構相互對稱，該第一限制結構之該些限制溝槽對應該第二限制結構之該些限制溝槽。
8. 如申請專利範圍第7項所述之具有限制結構之基板收納容器，更包含：
   一第三限制結構，其設置於該後側壁，並具有該些限制溝槽，該些限制溝槽對應該第一限制結構之該些限制溝槽及該第二限制結構之該些限制溝槽。
9. 如申請專利範圍第6或7項所述之具有限制結構之基板收納容器，更包含：
   複數支撐凸部，其分別設置於該左側壁及該右側壁，設置於該左側壁之該些支撐凸部對應設置於該右側壁之該些支撐凸部，該些支撐凸部之間具有複數凹槽，該些凹槽對應該些限制溝槽，該基板設置於該些凹槽及該些限制溝槽之一凹槽及一限制溝槽。
10. 如申請專利範圍第1項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該第一斜面相對該側壁之傾斜角度等於該第二斜面相對該側壁之傾斜角度。
11. 如申請專利範圍第1項所述之具有限制結構之基板收納容器，其中該第一斜面相對該側壁之傾斜角度不等於該第二斜面相對該側壁之傾斜角度。