JP2022008692A - 制限構造を備えた基板収納容器 - Google Patents

Abstract

【課題】制限構造を備えた基板収納容器の提供。【解決手段】この制限構造を備えた基板収納容器は、箱体、少なくとも一つの制限構造及び蓋体を包含し、該制限構造は該箱体の側壁に設置され、並びに複数の制限溝を備え、各該制限溝は第１斜面と第２斜面を備え、該第２斜面の該側壁に対する傾斜角度は、基板と該制限構造の材料の摩擦係数に対応し、該基板と該制限溝の該第２斜面間の摩擦力を減らし、これにより該基板を順調に該第２斜面に沿って上昇させ並びに該制限溝に進入させられ、該蓋体に順調に該箱体を閉じさせ、並びに該制限構造により基板を定位して基板の基板収納容器内でのぐらつきを防止し、同様に、基板を該第２斜面に沿って滑らせて下ろし、該制限溝より退出させられ、且つ該箱体の開口へと移動させ、後続工程を実行できるようにする。【選択図】図２

Description

本発明は一種の基板収納容器に係り、特に一種の、制限構造を備えた基板収納容器に関する。

近代、半導体テクノロジーは急速に発展し、そのうち、光学リソグラフィー技術（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）は重要な役割を果たし、パターン（ｐａｔｔｅｒｎ）定義に関しては、いずれも光学リソグラフィー技術に頼らねばならない。光学リソグラフィー技術の半導体における応用上、それは設計された線路を、特定形状を有し、並びに透光のマスクを形成する。その後、露光原理を利用して、光線にマスクを通過させ並びに基板に投影して露光を実行し、並びに基板において特定パターンを形成する。基板は絶対の清潔を保持する必要があり、すなわち、どのような汚染微粒子も無くす必要がある。

半導体工程がデープサブミクロンの時代に進入した後、半導体工場の無塵に対する要求はますます高くなった。基板に対して反応室中で工程反応が実行される時、反応室内部の清浄度要求は標準を満たし得るが、半導体ウエハーは各種の異なるフローの処理を経る必要があり、且つ工程設備に合わせる必要があるため、基板は異なる工程の反応室に輸送されなければならず、輸送過程中に、外界環境による汚染を受けるのを防止しなければならない。基板の輸送に便利で且つ基板の外界からの汚染を防ぐため、基板は密封容器に収納され、並びに自動化設備を利用して該密封容器が輸送される。

一般に密封容器は箱体と蓋体を有し、箱体の左右両側には複数のスロットが設けられ、これらスロットはこれら基板を固定し、並びにこれら基板を水平に該箱体内に収容する。該箱体は開口を備え、該開口は基板の出し入れに用いられる。該蓋体は該箱体の該開口に設置されて、該箱体を密封し、並びに該箱体の内部のこれら基板を保護する。

密封容器は輸送過程中に、振動を発生しやすく、密封容器内に収納された基板は、振動により位置ずれや回転を発生しやすい。このため通常は、箱体の後側に制限手段を設け、該制限手段は、蓋体に対応し、並びに複数の凹溝を有し、各該凹溝に基板が位置決めされ、これにより基板の振動による位置ずれ及び回転を防止する。

各該凹溝は、第１斜面と第２斜面を備え、蓋体が箱体を閉じる時、該蓋体は基板を押動し、該基板の辺縁を、該第２斜面に沿って上昇させ、並びに凹溝に進入させる。蓋体が箱体より離脱する時、基板の辺縁は第２斜面に沿って滑り下り、並びに該凹溝より離脱し、基板は箱体の開口へと移動する。

ただし、実際の使用時にわかったことは、蓋体と箱体が分離する時、基板は該凹溝にひっかかり、それは基板と凹溝の第２斜面間に発生する摩擦力のために、基板が順調に第２斜面に沿って滑り下りなくなるためである。

これを鑑み、本発明は一種の制限構造を備えた基板収納容器を提供し、その制限構造は、複数の制限溝を備え、各制限溝の第２斜面の、水平面に対する傾斜角度は、基板と制限構造の材料間の摩擦係数に対応し、これにより、基板と第２斜面間の摩擦力を減らし、基板が容易に第２斜面に沿って上昇或いは下降するようにする。

本発明の目的は、一種の、制限構造を備えた基板収納容器を提供することにあり、基板収納容器の制限構造は、基板収納容器の少なくとも一つの基板を定位でき、基板がそれと制限構造の間に発生する摩擦力の影響を受けずに容易に制限構造に進入及び退出できるようにする。

本発明の制限構造を備えた基板収納容器は、箱体であって、開口と側壁を備え、少なくとも一つの基板を収容する上記箱体と、少なくとも一つの制限構造であって、該箱体の該側壁に設置され、並びに複数の制限溝を備え、各該制限溝は第１斜面と第２斜面を備える、上記少なくとも一つの制限構造と、蓋体であって、該開口に設置され、該蓋体は該基板を押動して該第２斜面に沿って該制限溝へと移動させる、上記蓋体と、を包含し、そのうち、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、該基板と該制限構造の材料間の摩擦係数に対応する。

本発明は以上の構成により、該基板と該制限溝の該第２斜面間の摩擦力を減らし、これにより該基板を順調に該第２斜面に沿って上昇させ並びに該制限溝に進入させられ、該蓋体に順調に該箱体を閉じさせ、並びに該制限構造により基板を定位して基板の基板収納容器内でのぐらつきを防止し、同様に、基板を該第２斜面に沿って滑らせて下ろし、該制限溝より退出させられ、且つ該箱体の開口へと移動させ、後続工程を実行できるようにする。

本発明の第１実施例の基板収納容器の断面図である。 本発明の図１のＡＡ’方向の断面図である。 本発明の第１実施例の基板収納容器の使用状態図である。 本発明の第１実施例の基板収納容器の使用状態図である。 本発明の第１実施例の基板収納容器の使用状態図である。 本発明の第１実施例の基板収納容器の使用状態図である。 本発明の第１実施例の基板収納容器の使用状態図である。 本発明の第２実施例の基板収納容器の断面図である。 本発明の第３実施例の基板収納容器の断面図である。 本発明の第４実施例の基板収納容器の断面図である。

本発明の技術内容、構造特徴、達成する目的を詳細に説明するため、以下に実施例を挙げ並びに図面を組み合わせて説明する。

周知の基板収納容器の制限手段の凹溝は、基板がひっかかりやすく、これにより、基板収納容器の蓋体が箱体を閉じる時、蓋体が基板を対応する凹溝に向けて移動させるが、基板と凹溝の間に発生する摩擦力により、基板が順調に凹溝の側壁に沿って制限溝に向けて移動することができず、蓋体が順調に箱体を閉じられなくなり、ひいては基板の損壊をもたらす。

蓋体が箱体より離脱する時、基板は、それと凹溝間に発生する摩擦力により、順調に凹溝の側壁に沿って滑り下り並びに制限溝を退出することができず、基板が箱体の開口に接近できなくなり、このため基板が検出されず、後続工程を進行できなくなる。本発明は一種の、制限構造を備えた基板収納容器を提供し、並びに周知の技術の問題を解決する。

まず、図１及び図２を参照されたい。それは本発明の第１実施例の基板収納容器の断面図である。図示されるように、本実施例は、一種の、制限構造を備えた基板収納容器１を提供し、基板収納容器１は、箱体１０及び蓋体１２を包含する。

箱体１０は、上部１０１、底部１０２、左側壁１０３、右側壁１０４及び後側壁１０５を備えている。後側壁１０５の両側はそれぞれ左側壁１０３及び右側壁１０４に接続され、上部１０１は左側壁１０３、右側壁１０４及び後側壁１０５の上端辺縁に接続されている。底部１０２は左側壁１０３、右側壁１０４及び後側壁１０５の下端辺縁に接続される。こうして、箱体１０は、収容空間１０６及び該収容空間１０６に連通する開口１０７を備える。該収容空間１０６は、少なくとも一つの基板２を収容するのに用いられ、基板２は、たとえば、ウエハー、マスク或いは半導体基板とされる。開口１０７は、後側壁１０５に対向する。蓋体１２は該箱体１０に設置されて、該箱体１０の開口１０７を閉じ、並びに箱体１０の後側壁１０５に対向する。

上述の箱体１０の左側壁１０３及び右側壁１０４にはそれぞれ複数の、支持凸部１１が設けられ、これら支持凸部１１はそれぞれ左側壁１０３及び右側壁１０４より収容空間１０６に向けて突出する。各支持凸部１１は、開口１０７より後側壁１０５に向けて延伸され、これら支持凸部１１は、上部１０１より底部１０２に向けて配列され、左側壁１０３に設置されたこれら支持凸部１１は、右側壁１０４に設置されたこれら支持凸部１１に対応し、これら支持凸部１１の間に、複数の凹溝１１１を備え、ゆえに、左側壁１０３に位置するこれら凹溝１１１は、右側壁１０４に位置するこれら凹溝１１１に対応する。

本実施例の基板収納容器１は、さらに制限構造１３を包含する。該制限構造１３は箱体１０の後側壁１０５に設置され、並びに収容空間１０６内に位置し、且つ左側壁１０３及び右側壁１０４のこれら支持凸部１１の末端の近隣に設置される。制限構造１３は複数の制限溝１３１を備え、これら制限溝１３１は垂直配列を呈し、これら制限溝１３１は、左側壁１０３及び右側壁１０４に位置するこれら凹溝１１１に対応し、こうして、箱体１０の収容空間１０６に位置する基板２が、左側壁１０３及び右側壁１０４に位置するこれら凹溝１１１及びこれら制限溝１３１に設置されて、基板が収容空間１０６内に支持される。

上述の各制限溝１３１は、第１斜面１３１１と第１斜面１３１１に対向する第２斜面１３１２を備えている。第１斜面１３１１は制限溝１３１より上部１０１に向けて延伸され、第２斜面１３１２は、制限溝１３１より底部１０２に向けて延伸され、こうしてｖ字形の制限溝１３１を形成している。

図３Ａから図３Ｅを参照されたい。それは本発明の第１実施例の基板収納容器の使用状態図である。図示されるように、基板２は、まず、左側壁１０３及び右側壁１０４に位置するこれら凹溝１１１及びこれら制限溝１３１に設置され、基板２の辺縁は、対応する制限溝１３１の第２斜面１３１２の最低点に当接し、すなわち、基板２の辺縁は、制限溝１３１より遠く離れた第２斜面１３１２の辺縁に当接する（図３Ａに示されるとおり）。

続いて、蓋体１２が箱体１０の開口１０７を閉じ、同時に蓋体１２が基板２を押して後側壁１０５に向けて移動させ、基板２の辺縁が、対応する制限溝１３１の第２斜面１３１２に沿って上昇し、並びに制限溝１３１に向けて移動する（図３Ｂに示されるとおり）。

蓋体１２が箱体１０に設置されると、基板２は制限溝１３１内に定位され、このとき、基板２は、箱体１０の開口１０７より遠く離れ、すなわち、基板２の辺縁と箱体１０の開口１０７の間には間距ｄがある（図３Ｃのとおり）。

蓋体１２が箱体１０を離脱する時は、基板２は蓋体１２に押圧されず、基板２の辺縁は自動的に、対応する制限溝１３１の第２斜面１３１２に沿って滑り下り、並びに箱体１０の開口１０７に向けて移動し（図３Ｄのとおり）、最後に基板２の辺縁は、開口１０７に位置する（図３Ｅのとおり）。こうして、ロボットアームが基板２を検出し、並びに基板２を取り出し、後続の工程を進行できる。

基板２が、容易に、対応する制限溝１３１の第２斜面１３１２に沿って上昇して制限溝１３１に進入するか、或いは第２斜面１３１２に沿って滑り下りて制限溝１３１を退出するようにし、蓋体１２が順調に箱体１０を閉じられなくなったり基板２を順調に検出できなくなる状況が発生するのを防止するため、本実施例の第２斜面１３１２の、水平面Ｈに対する傾斜角度は、基板と制限構造１３の材料間の摩擦係数に対応する。

たとえば、基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が０．１から０．４の間であれば、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度は、１５度から６６度の間とされ、特に、基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が、０．１から０．２の間であれば、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度は、１５度から６６度の間とされる。基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が、０．２から０．３の間であれば、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度は、３０度から６０度の間とされる。基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が、０．３から０．４の間であれば、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度は、５０度から５５度の間とされる。

以上から分かるように、基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が大きくなるほど、第２斜面１３１２の、水平面Ｈに対する傾斜角度の範囲は小さくなる。基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が大きくなる時、すなわち、基板２と制限溝１３１の第２斜面１３１２の間に発生する摩擦力が大きくなることを示し、これにより、第２斜面１３１２の、水平面Ｈに対する傾斜角度を大きくすることで、基板２と第２斜面１３１２の間の摩擦力を減らし、こうして、基板２が容易に第２斜面１３１２に沿って滑り落ちるようにする必要がある。

ただし、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度は大きすぎてはならず、それにより、基板が順調に第２斜面１３１２に沿って上昇しにくくなるのを防止する。

反対に、基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数が小さくなるほど、基板２と制限溝１３１の第２斜面１３１２の間に発生する摩擦力が小さくなることを示し、ゆえに、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度を大きくしなくとも、基板２は容易に第２斜面１３１２より滑り下りる。

本実施例の第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度は、基板２と制限構造１３の材料間の摩擦係数により定められ、有効に基板２とそれに対応する制限溝１３１の第２斜面１３１２間に発生する摩擦力により、基板２が順調に第２斜面１３１２に沿って制限構１３１に進入できなくなるのを防止し、これにより、蓋体１２が順調に箱体１０を閉じることができるようにし、基板２に損壊が発生するのを防止する。

また、基板２が摩擦力により、自動的に第２斜面１３１２に沿って滑り下りて開口１０７に至ることができなくなるのを防止し、後続工程の進行に影響が生じるのを防止する。

再び図２を参照されたい。本実施例の制限構造１３の各制限溝１３１の第１斜面１３１１は、第２斜面１３１２と相互に対称であり、すなわち、第１斜面１３１１の、水平面Ｈに対する傾斜角度は、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度と同じである。

また、図４を参照されたい。それは、本発明の第２実施例の基板収納容器の断面図である。図示されるように、本実施例の各制限溝１３１の第１斜面１３１１は、第２斜面１３１２と相互に対称でなく、すなわち、第１斜面１３１１の水平面Ｈに対する傾斜角度は、第２斜面１３１２の水平面Ｈに対する傾斜角度と同じでなく、第１斜面１３１１は、一定の傾斜度を有する必要があり、これにより、基板の辺縁と当接し、これにより、基板を制限溝１３１内に定位し、こうして、基板収納容器１が運送過程中に振動を発生しても、基板が振動により第１斜面１３１１に沿って制限溝１３１より離脱しないようにする。

図５を参照されたい。それは本発明の第３実施例の基板収納容器の断面図である。図示されるように、本実施例の、上述の実施例との異なるところは、上述の実施例の基板収納容器１は、わずかに単一の制限構造１３を有しているが、本実施例の基板収納容器１は、第１制限構造１３ａ及び第２制限構造１３ｂを有していることにある。

第１制限構造１３ａは、左側壁１０３に設置され、並びに後側壁１０５の近隣に位置し、第１制限構造１３ａは、複数の制限溝１３１ａを有する。第２制限構造１３ｂは、右側壁１０４に設置され、並びに後側壁１０５の近隣に位置し、しかも第１制限構造１３ａと相互に対称する。第２制限構造１３ｂもまた、複数の制限溝１３１ｂを有し、これら制限溝１３１ｂは、第１制限構造１３ａのこれら制限溝１３１ａと互いに対応する。本実施例の制限溝１３１ａ、１３１ｂの構造は、上述の実施例と同じであるため、重複した説明は行わない。

当然、第１制限構造１３ａ及び第２制限構造１３ｂは、後側壁１０５の両側に対称に設置され得て、第１制限構造１３ａは左側壁１０３の近隣に、第２制限構造１３ｂは右側壁１０４の近隣に設置され得る。

このほか、さらに、後側壁１０５上に、第３制限構造１３ｃを設置してもよく（図６参照）、第３制限構造１３ｃもまた、複数の制限溝１３１ｃを備え、これら制限溝は第１制限構造１３ａのこれら制限溝１３１ａ及び第２制限構造１３ｂのこれら制限溝１３１ｂと相互に対応し、ゆえに、制限構造は箱体１０のいずれの側壁に設置されてもよく、制限溝の箱体１０内の位置は、使用者の必要により決定され、これについては重複した説明は行わない。

総合すると、本発明は一種の基板収納容器を提供し、基板収納容器の箱体内に、少なくとも一つの制限構造が設けられ、制限構造は制限溝を有し、各制限溝は、第１斜面と第２斜面を備え、箱体に設置された基板は、第２斜面に沿って上昇して制限溝に進入するか、第２斜面に沿って滑り下りて制限溝より退出し、第２斜面の、水平面に対する傾斜角度は、制限構造の材料と基板間の摩擦係数に対応し、有効に、基板と第２斜面間の摩擦力を減らし、これにより、基板を順調に、第２斜面に沿って上昇させ、及び滑り下りるようにし、蓋体が箱体を閉じられなくなったり、基板を検出できなくなったりする問題が発生するのを防止する。

ゆえに、本発明は新規性、進歩性及び産業上の利用価値を有し、特許の要件を満たす。

以上述べたことは、本発明の実施例にすぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本発明の権利のカバーする範囲内に属するものとする。

１ 基板収納容器
１０ 箱体
１０１ 上部
１０２ 底部
１０３ 左側壁
１０４ 右側壁
１０５ 後側壁
１０６ 収容空間
１０７ 開口
１１ 支持凸部
１１１ 凹溝
１２ 蓋体
１３ 制限構造
１３ａ 第１制限構造
１３ｂ 第２制限構造
１３ｃ 第３制限構造
１３１、１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃ 制限溝
１３１１ 第１斜面
１３１２ 第２斜面
２ 基板
Ｈ 水平面
ｄ 間距

Claims (11)

1. 制限構造を備えた基板収納容器において、
   箱体であって、開口と側壁を備え、並びに少なくとも一つの基板を収容する、上記箱体と、
   少なくとも一つの制限構造であって、該箱体の該側壁に設置され、並びに複数の制限溝を備え、各該制限溝は該基板の設置に供され、並びに該基板を制限し、該制限溝は第１斜面と第２斜面を備えている、上記少なくとも一つの制限構造と、
   蓋体であって、該開口に設置され、該基板を押動して該第２斜面に沿って該制限溝へと移動させる、上記蓋体と、
   を包含し、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、該基板と該制限構造の材料間の摩擦係数に対応することを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
2. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該摩擦係数は０．１から０．４の間とされ、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、１５度から６６度の間とされることを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
3. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該摩擦係数は０．１から０．２の間とされ、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、１５度から６６度の間とされることを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
4. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該摩擦係数は０．２から０．３の間とされ、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、３０度から６０度の間とされることを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
5. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該摩擦係数は０．３から０．４の間とされ、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、５０度から５５度の間とされることを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
6. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該側壁は、左側壁、右側壁及び後側壁を包含し、該後側壁は、該左側壁及び該右側壁に接続されると共に該蓋体に対向し、該制限構造は該後側壁に設置されることを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
7. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該側壁は、左側壁、右側壁及び後側壁を包含し、該後側壁は、該左側壁及び該右側壁に接続されると共に該蓋体に対向し、該制限構造は、
   第１制限構造であって、該左側壁に設置されると共に、これら制限溝を備えた、上記第１制限構造と、
   第２制限構造であって、該右側壁に設置されると共に、これら制限溝を備え、且つ該第１制限構造と相互に対称であり、該第１制限構造のこれら制限溝は該第２制限構造のこれら制限溝に対応する、上記第２制限構造と、
   を包含することを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
8. 請求項７記載の制限構造を備えた基板収納容器において、さらに、
   第３制限構造であって、該後側壁に設置され、並びにこれら制限溝を備え、これら制限溝は該第１制限構造のこれら制限溝及び第２制限構造のこれら制限溝に対応する、上記第３制限構造と、
   を包含することを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
9. 請求項６又は７記載の制限構造を備えた基板収納容器において、さらに、
   複数の支持凸部であって、それぞれ該左側壁及び該右側壁に設置され、該左側壁に設置されたこれら支持凸部は、該右側壁に設置されたこれら支持凸部に対応し、これら支持凸部の間に、複数の凹溝を備え、これら凹溝はこれら制限溝に対応し、該基板がこれら凹溝及びこれら制限溝の一つの凹溝及び一つの制限溝に設置される、上記複数の支持凸部と、 を包含することを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
10. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該第１斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度と等しいことを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。
11. 請求項１記載の制限構造を備えた基板収納容器において、該第１斜面の、該側壁に対する傾斜角度は、該第２斜面の、該側壁に対する傾斜角度と等しくないことを特徴とする、制限構造を備えた基板収納容器。

Images