JP2005321529A - マスクケース - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本体と蓋体とを有するフォトマスク基板を収納するマスクケースの本体内にフォトマスク基板を載置して係止する係止具が、フォトマスク基板の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板を載置して係止する係止具を有すると共に該係止具がそれぞれフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有するマスクケースによって解決できる。
【選択図】 図1
Description
即ち、フォトマスク基板に塵埃の付着や傷等は、フォトマスクの欠陥となるものであり、フォトレジスト上に再現してしまい、そのままマイクロエレクトロニクスデバイスに組み込むとデバイスの正常な機能を破壊してしまうものであり、これらを防ぐために種々の方策がとられている。
例えば、フォトマスク基板の取扱上、端面以外の面には触れない事等の取扱い上の決まりや、収納時にフォトマスク基板に塵埃が付かないように気を付けて取り扱い、更にはマスクケース内に塵埃が入り込まないように気を付けて収納し、更には収納後のマクスケース内への塵埃が入らない構成をとっているものである。
この場合、マスクパターン面との接触を極力避けるために例えば特開2001−301877の第7図及び第8図に示す構成のものがある。
この係止具であるマスク支持体は、本体及び蓋体の内表面から必要数の保持枝部が突出して、この部分でフォトマスク基板を載置するものであり、この保持枝部については、幹部に傾斜平面を有する台板部を有する保持枝部又は幹部に帽子部を有する保持枝部からなっているものである。
又、フォトマスクは合成石英板等を用いることからマスクケース内に収納して運搬する際の衝撃に伴うマスクケース内のフォトマスク基板とその係止具であるマスク支持体とのずれにより、該マスク支持体と擦れてしまい、この係止具が削られることにより塵埃が生じてしまうこととなり、ケース内に微細な塵埃を発生させて、フォトマスク基板に付着し重大な損傷を与えてしまう虞れもある。
即ち、例えばマスクパターンを施したフォトマスク基板のペリクルを配した以外の箇所のインデックスマーク部分等に触れてしまうことが生じてしまうものであった。
更に帽子部の点での支持であり、運搬時等の衝撃で内部のフォトマスクが揺さぶられ、保持枝部からずれてしまう虞れがある。
従って、ずれにより帽子部の接触面が拡大すると共に破損の虞れもあるばかりでなく、フォトマスク基板を位置決めしている位置決め部材例えばリブ等や保持枝部等と接触してしまい、この部分が擦れて削られることにより塵埃が生じてしまう虞があった。
しかし、上下方向から前後左右方向の計8点で定位置に位置決めするものであり、程々の衝撃に対してはフォトマスクのずれは防げるが、極めて多大な力で揺さぶられた場合にはどうしてもフォトマスクのずれが生じてしまう虞れがある。 又、前後方向に対する押さえは上下面で計4か所、左右方向に対する押さえは上下面で計4か所となり、フォトマスクの一稜線に対して、他の対向する反対面の一稜線にそれぞれ2か所ずつの押さえを入れたものであり、傾斜方向へのずれに対しては若干生ずる虞れを有していたものである。
更には傾斜面を有する係止具にフォトマスクの稜線部分を押さえた場合に、この係止具に軟質部材を用いた場合には、この傾斜面が蓋体を閉めた押圧力で凹み、フォトマスクの面に若干ではあるが傾斜面が接する虞れもある。
従って、フォトマスクの表面の端の部分に施されるインデックスマークと接触しないとも限らない虞があった。
即ち、フォトマスク基板上にマスクパターンを施したものにあっては、パターン面の汚染はあってはならないものであり、更にはフォトマスク基板のパターニング前のマスク基板であるブランクスに関しては、その表面は平坦性と平滑性が要求され、汚染はあってはならないものである。
特にLSI用のブランクスには、その遮光膜にクロム単層構造の他に、表面反射構造、表裏面低反射構造のものがあり、低反射膜は酸化クロムでできおり、干渉による反射率を下げている。
この様なクロムブランクス基板にあっては、表面の汚染を極度に嫌うことから端面以外の部分には触れてはならないものとされている。
更にはブランクス及びマスクパターンを施したフォトマスク基板のペリクル配設部分のみならずインデックスマークを施す又は施した部分を含むフォトマスク基板の端面以外の表裏面には一切触れることがない構造が望まれている。
係るため請求項1に係る発明は、本体と本体の開口を閉鎖する蓋体とを有するフォトマスク基板を収納するマスクケースの本体内のフォトマスク基板を載置して係止する係止具が、フォトマスク基板の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板を載置して係止する係止具を有すると共に、該係止具がそれぞれフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有するマスクケースであり、係る発明によって前記課題を解決できる。
又、請求項2に係る発明は、本体の係止具にフォトマスク基板を載置係止した後に上部から該フォトマスク基板を押さえる蓋体の蓋体係止具であって、蓋体係止具基部に連設して曲線面を有し、該曲線面のフォトマスク基板の稜線面と接する部分において肉厚形状とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部を有する蓋体の蓋体係止具を蓋体に有するマスクケースであり、係る発明によって前記課題を解決できる。
この場合、請求項4に係る発明は、本体に該係止具の傾斜面と並列して配設するリブを有し、該リブのフォトマスク基板の載置方向の傾斜角が、フォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有する該係止具の傾斜面の傾斜角よりも急であると共に少なくとも載置位置におけるフォトマスク基板に該リブが接しない位置にリブを配設したマスクケースであり、係る発明によって収納時のフォトマスク基板とリブとの接触を防止できる。
或いは請求項9に係る発明のように略L字状の係止具に代え、二つの略棒状の係止具をほぼ90度対向させて配設した係止具を用いたものでもよい。
又、請求項10に係る発明のように略L字状の係止具に代え、略四角形状の係止具を用いたマスクケースであって、略四角形状の隣り合う二辺が本体突起押え部を構成し、これに連設する傾斜面がフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面であるものであってもよい。
更に、本発明に係る係止具を用いたマスクケースを使用することにより、収納したフォトマスク基板を一の角部方向で二方向から押さえることができ、一のフォトマスク基板に対して八方向から押さえることができることとなって、収納時のフォトマスク基板のずれや微動を防止できるという第二の効果を有する。
更に本発明に係る蓋体に蓋体係止具を用いたマスクケースを用いることにより、蓋体閉鎖時の蓋体係止具におけるフォトマスク基板の押さえの際に生ずるフォトマスク基板の稜線面と接する部分近傍における蓋体係止具の変形を防止でき、蓋体係止具の変形部分による該フォトマスク基板の面への接触を防止できるという第三の効果を有する。
まず、半導体素子や液晶表示素子等を製造するために用いられるフォトマスク基板9を保存又は運搬するためのフォトマスクケース1であって、本図はフォトマスク9を収納した状態を示す図である。
即ち、半導体集積回路等の製造工程で用いられるマスク基板、例えば半導体素子や液晶表示素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程等において用いられるフォトマスク基板であり、パターニング前のマスク基板であるいわゆるブランクスやパターニングを施したフォトマスクを収納して運搬等するためのフォトマスクケースである。
本図に示す構成は、フォトマスク9を収納した状態で蓋体2を閉めた状態を示す。
この場合、フォトマスクケース内のマスクは、本体1の略L字状の係止具3によってフォトマスク9の四隅が載置しており、更にこの係止具3は傾斜面30を有することから、その傾斜面30にてフォトマスク9の稜線部分91が接しているものである。
尚、リブ7をも本体に有している。
更に蓋体2においては、蓋体係止具4が開口部を有する壁部及びヒンジ部を有する壁部の両壁部に平行に配設され、これが蓋体を閉めた際に、フォトマスク9を上部方向から押さえることとなる。
この場合蓋体係止具4も同様に傾斜面40を有することからその傾斜面40にてフォトマスク9の稜線部分91が接しているものである。
従って、フォトマスク9の表裏面に関してはいずれも係止具3及び蓋体係止具4に触れておらず、フォトマスク9の稜線部91においてのみ接するものとなる。
この事は、フォトマスク9のパターニングの前後を問わず、フォトマスクを用いる場合に是非とも必要な事ではあるが、従来は係止具との関係においてパターニングをする部分のみを極力触れない構成を要求されていたが、現状においてインデックスマークも施されるものであり、このインデックスマークは、パターンニングと異なり、フォトマスクの面の四隅等に施されることから、これらの部分にも何等かの接触物を設けることは避けることが必要である。
特にフォトマスクの大きさやブランクスを施した範囲、パターニング面の範囲等は多種あり、更には製造上の誤差等を考えるとフォトマスクの表裏面全ての部分に付いてケースの係止具等を接触させてはならないものであり、本構成により、これが達成できる。
更に本体係止具3はフォトマスク9の稜線91を中心部方向に向かって8方向から押さえることを可能とするものであり、ケース内のフォトマスク9は、その場所に固定され、ずれ動く事を防止できる。
即ち、その収納時や保管時のケース自体の取扱い上の揺れによる収納マスク基板9の微動により、ケースの係止具3、4やリブ7等と収納マスク基板9が接触してしまい、これによりケースの係止具3、4やリブ7等が削られて発生する塵埃を防止しなければならないが、本構成によりこれらを全て防止できることとなる。
現在、視認できない程度の細かい塵埃も、フォトマスクの面に付着することを防止することに腐心している現状下において、フォトマスクの振動により削り出される極めて微細な塵埃の発生を防止することはフォトマスクの遮光膜面上、ペリクル上への微細な塵埃の付着によるフォトレジストフィルム上の再現に際しての欠陥を防止できることとなる。
本体1の閉鎖スライダー6を有する開口部方向であって、マスク基板9を載置する場合のマスク基板9の両角部にそれぞれ係止具3を配設してあり、更にヒンジ5を有する方向であってマスク基板9を載置する場合のマスク基板9の両角部にもそれぞれ係止具3を配設している。
この場合、該マスク基板9は略L字の該係止具3により係止されており、この略L字の該係止具3は、それぞれの突出部の上部面を傾斜面30で構成していることから、その傾斜面30で該マスク基板9の稜線部分91と接することとなり、マスク基板9を該稜線部分91で係止できることとなる。
更に、この様に構成することにより該マスク基板9の4隅においてそれぞれ2か所ずつ押えられ位置決めされる事となり、定位置にきっちりと載置できることとなる。
この場合計8か所にて押えられることからケースを揺すった場合にも該マスク基板9は係止具3上でずれや揺れ等を生じさせることがない。
従って、本図に示すリブ7は収納時のマスク基板9に接しないよう配設されており、特にマスク基板9の挿入及び取り出しの便宜を図るものであり、更に本体の強度を増すものである。
尚、本図に示すリブ7の配設位置等は一例であり、本図の位置等に限定されるものではないが、少なくとも収納時のマスク基板9に接しないよう配設することが必要である。
又、マスク基板9の表面中央部にはマスクパターンを施した部分92があり、この部分にはペリクルが配設しているものであり、更に四隅にはインデックスマーク93が付されている。
図3は、蓋体2の蓋体係止具4の配設状態の一例を示す図であり、本マスクケースの蓋体2を開いて蓋体内表面を表出させた状態を示す図である。
まず、蓋体2を閉めた場合に本体に載置したマスク基板9の稜線91に接する位置にそれぞれ蓋体係止具4を配設してあり、この蓋体係止具4は内置するマスク基板9の稜線91に対向方向に配設されている。
本図に示す蓋体係止具4は、蓋体2の閉鎖スライダー導通路61を有する開口部方向の壁部と平行であって該ケースの両側壁方向にそれぞれ一つづ配設していると共に、蓋体2のヒンジを有するヒンジ方向の壁部と平行であって該ケースの両側壁方向にそれぞれ一ずつ配設している。
従って、計四箇所において蓋体2に蓋体係止具4を配設し、蓋体2を閉じた場合には、上部方向から該蓋体係止具4でマスク基板9の稜線91を押えて、マスク基板9のずれや微動を防止するものである。
本図に示す蓋体係止具4の配設箇所や向き等に関しては本発明の一例を示すものであり、本図に示す形態に限定するものではない。
図4は、マスク基板9が本体1の係止具3と蓋体2の蓋体係止具4により係止されている状態を示す断面図であり、まず本体1の係止具3の傾斜面30にマスク基板9が載置され、上部より蓋体係止具4によりマスク基板9が押えられている状態を示す。
この側面90とそれぞれの表裏面の間には稜線91を有している。
これに対して、本体1の係止具3においては本体突起押え部31に連設している第三の傾斜面32とこれに連設している第二の傾斜面33と更にこれに連設している第一の傾斜面34と上面最下面35とから構成されている。
まず上面最下面35を基準にして考えると、該上面最下面35は、係止具3の本体を構成する最も下部に位置する面であり、平面であると傾斜面であるとを問わない。
例えば、奥側即ちヒンジ5を有する方向の係止具3はマスク基板9を載置する際に、マスク基板9を該係止具3に滑り込まる際に、該マスク基板9の稜線91がこの面に触れた上で、この面に沿って、第一の傾斜面34乃至第三の傾斜面32と順次沿って、定位置にマスク基板9を導く事を可能とする。
この上面最下面35に続く第一の傾斜面34はやや傾斜角のある傾斜面よりなり、該マスク基板9の稜線がこの面に沿って、更に第二の傾斜面33、第三の傾斜面32と順次沿って、定位置にマスク基板9を導く事を可能とする。
少なくともマスク面に触れずに該マスク基板9を定位置に導ける角度を有するものであればよい。
この第一の傾斜面34に続く第二の傾斜面33は第一の傾斜面34よりも緩やかな傾斜面であり、少なくともマスク載置時にマスク面に触れない程度の角度であればよく、必要に応じてマスク面の稜線91を下部から支える事の可能な角度であればよい。
本図ではこの第二の傾斜面33は5度の傾斜角を有して構成しているが、この角度に限るものではなく、適宜最適な角度を有していればよい。
尚、第三の傾斜面32で全てマスク面の稜線面を支える場合には、下部から支える必要はない。
次にこの第二の傾斜面33に続いて第三の傾斜面32を有するが、この傾斜面はマスク基板9の稜線面91に接する面であり、略マスク基板9の稜線面91の角度と同様の角度を有していることが最適である。
尚、若干異なる角度であっても、第三の傾斜面32とマスク基板9の稜線面91の一部又は稜線面の角部でマスク基板9を支える事が可能であり、若干の相違は十分に許容されるものである。
本図に示す第三の傾斜面32の傾斜角度は約50度として構成した一例を示すが、もとより40度乃至60度程度の傾斜角を有するものであればよく、例えば45度等の角度であってもよいのはもちろんである。
従って、少なくともマスク基板9の稜線面91の角度に適合する角度即ちマスク基板9の稜線面91の角度と同じ或いは該角度のプラスマイナス15度前後程度の範囲内の角度を有する傾斜角度を有するものであればよい。
次に、蓋体2の蓋体係止具4は、蓋体係止具基部41に連設して曲線面42を有し、該曲線面のマスク基板の稜線面と接する部分420において肉厚形状とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部43を有して構成されている。
この事は、押さえ部材として蓋体係止具4を用いた場合に例えばやや軟質の樹脂部材を用いると、マスク基板9の稜線面91と接する部分において押さえ部材が凹む事から、この凹み部分の両端部方向面が変形して突出形状となりやすく、不用意にマスク基板9の面に接する可能性があり、これによりマスク面を汚してしまう又は傷を付けてしまう恐れがないわけではなかったことから、係る弊害を防止できることとなる。
従って、マスク基板9の四隅にインデックスマーク93を施した場合にも何等蓋体係止具4が接しないこととなる。
図5は、図4に示す本体1の係止具3の上面図である。
図6は、図4の側面図であり、略L字形状のそれぞれの突出部において、その両端部方向から本体突起押え部31と第三の傾斜面32と第二の傾斜面33と第一の傾斜面34と上面最下面35を有している。
従って、マスク基板9の角部が丁度この両本体突起押え部31の間に載置されることとなり、マスク面9が該係止具3に触れる事がないと共に一の係止具3で二方向の位置規制が行えることとなる。
図7は、図4に示す本体1の係止具3の底部方向の形状を示す図であり、本係止具の一例を示す図である。
図8は、本体の係止具の断面図であり、図9は、図4の他の側面図を示す。
図10は、本体1の係止具3の他の例を示す図であり、略L字形状のそれぞれの突出部において、その両端部方向から本体突起押え部31と第三の傾斜面32と第二の傾斜面33と上面最下面35とからなる構成である。
この様に構成しても、マスク基板9を有効に保持でき、更にはマスク面に触れる事がない。
図11は、本体1の係止具3の他の例を示す図であり、略L字形状のそれぞれの突出部において、その両端部方向から本体突起押え部31と第三の傾斜面32と第二の傾斜面33とからなる構成である。
この様に構成しても、マスク基板9を有効に保持でき、更にはマスク面に触れる事がない。
図12は、略L字形状の係止具のそれぞれの突出部に代え、それぞれを分断して二つの略棒状の係止具3をほぼ90度対向させて配設した状態を示す図である。
略L字形状の係止具は、製造コストや製造工程上より簡単に製造できるが、この構成に限定されるものではなく、本図に示す様に分断した二つの係止具3をほぼ90度対向させて配設したものであってもよい。
この場合も同様にそれぞれの係止具3には本体突起押え部31と第三の傾斜面32と第二の傾斜面33と第一の傾斜面34と上面最下面35とを有するものが最適であるが、これに限定されず、本体突起押え部31と第三の傾斜面32と第二の傾斜面33と上面最下面35からなるものであっても、或いは本体突起押え部31と第三の傾斜面32とを有するものであってもよい。
図14は、略L字形状の係止具3それぞれの突出部に代え、上面視略四角形状にて構成した他の例を示す図である。
この様に構成しても、同様に本体突起押え部31と第三の傾斜面32と第二の傾斜面33と第一の傾斜面34と上面最下面35とを有しており、マスク基板9の稜線91にて係止できる。
この場合、例えば曲折部39が角を以て構成した場合でも、或いはアール角を以て構成したものであってもよく、マスク基板の角部のアール角度に応じたアール角度を有するものであれば、載置時に体裁よく設置できると共にずれや微動を防ぐ事ができる。
元よりマスク基板の角部のアール角度と異なるアール角度を有するものであってもよい。
本図に示す場合にも少なくとも本体突起押え部31と第三の傾斜面32とを有するものであればよい。
図15は、図14の側面図を示す。
この様に構成することにより、第三の傾斜面32にてマスク基板9の稜線面91と接した状態で保持できると共に、マスク基板9の表裏面には何等触れることがないものとなる。
この場合例えば図16に示す様にマスク基板9の角部のアール形状とは別に全体に略弧状の形状にて本体突起押え部31と傾斜面30とを構成したものであってもよい。
図17は、本体のリブ7と本体1の係止具3との位置関係の一例を示す図である。
この場合、本体突起押え部31とマスク基板9とは一定の間隔を有している。 更に、リブ7を明示するがこのリブ7はマスク基板9の載置箇所の明示となると共に、マスク基板9の容器内への載置の際の便宜が図れるが、従来はこのリブ7が振動等によりずれ動くマスク基板9と接触して削られ、塵埃となる削り滓が出てしまうこととなり、ペリクル等に付着する虞が高かったものである。
本図に示す様にリブ7は約85度の角度を有するのに対し本図の第三の傾斜面32は略45度乃至50度程度の角度を有しており、両者の上部部分においてはマスク載置方向の一点で一致する部分を有するが、マスク基板9が載置される高さにおいては角度の急なリブ7は、マスク基板9から距離を有し、仮にマスク基板9が振動等によりずれ動いても、第三の傾斜面32によってリブ方向に動く事を押さえる事からマスク基板9の載置時にはリブ7と接することはないものであり、塵埃が生ずる事を防げる。
尚、第三の傾斜面32によってマスク基板9の製造時の大きさの誤差等を十分に許容できるものであるばかりでなく、この場合にもリブ7との接触を防止できる。
2 蓋体
3 係止具
30 傾斜面
31 本体突起押え部
32 第三の傾斜
33 第二の傾斜
34 第一の傾斜
35 上面最下面
39 曲折部
4 蓋体係止具
40 傾斜面
41 蓋体係止具基部
42 曲線面
420 肉厚部
43 撓み部
5 ヒンジ
6 閉鎖スライダー
61 閉鎖スライダー導通路
7 リブ
9 フォトマスク基板
90 側面
91 稜線面
92 マスクパターンを施した部分
93 インデックスマーク
Claims (10)
- 本体1と本体の開口を閉鎖する蓋体2とを有するフォトマスク基板9を収納するマスクケースにおいて、
本体1内のフォトマスク基板9を載置して係止する係止具3が、フォトマスク基板9の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板9を載置して係止する係止具3を有すると共に、
該係止具3がそれぞれフォトマスク基板9の稜線面91に適合した傾斜面30を有することを特徴とするマスクケース。 - 本体1の係止具3にフォトマスク基板9を載置係止した後に上部から該フォトマスク基板9を押さえる蓋体2の蓋体係止具4であって、
蓋体係止具基部41に連設して曲線面42を有し、該曲線面42のフォトマスク基板9の稜線面91と接する部分において肉厚形状420とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部43を有する蓋体係止具4を蓋体に有することを特徴とするマスクケース。 - 本体1と本体の開口を閉鎖する蓋体2とを有するフォトマスク基板9を収納するマスクケースにおいて、
本体1内のフォトマスク基板9を載置して係止する係止具3が、フォトマスク基板9の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板9を載置して係止する係止具3を有すると共に該係止具3がそれぞれフォトマスク基板9の稜線面91に適合した傾斜面30を有し、
蓋体2の蓋体係止具4が、蓋体係止具基部41に連設して曲線面42を有し、該曲線面42のフォトマスク基板9の稜線面91と接する部分において肉厚形状420とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部43を有する蓋体2の蓋体係止具を有し、
本体1の係止具3にフォトマスク基板9を載置係止した後に蓋体2を閉鎖することにより該フォトマスク基板9を押さえて収納することを特徴とするマスクケース。 - 本体1に該係止具3の傾斜面30と並列して配設するリブ7を有し、該リブ7のフォトマスク基板9の載置方向の傾斜角が、フォトマスク基板9の稜線面91に適合した傾斜面30を有する該係止具3の傾斜面30の傾斜角よりも急であると共に少なくとも載置位置におけるフォトマスク基板9に該リブ7が接しない位置にリブ7を配設したことを特徴とする請求項1又は3のいずれかに記載のマスクケース。
- 該係止具3が略L字状の係止具3であり、略L字を構成するそれぞれの突出部の両端部に本体突起押え部31を有すると共にフォトマスク基板9の稜線面91に適合した傾斜面30を有することを特徴とする請求項1,3,4のいずれかに記載のマスクケース。
- 該係止具3が略L字状の係止具3であり、略L字を構成するそれぞれの突出部の両端部に本体突起押え部31を有すると共にフォトマスク基板9の稜線面91に適合した第三の傾斜面32を有し、該第三の傾斜面32に連設して第三の傾斜面よりも緩やかな角度の第二の傾斜面33を有することを特徴とする請求項1,3,4のいずれかに記載のマスクケース。
- 該係止具3が第二の傾斜面33に連設して第二の傾斜面33よりも角度を有する第一の傾斜面34を有することを特徴とする請求項6記載のマスクケース。
- 該係止具3が第一の傾斜面34に連設して上面最下面35を有することを特徴とする請求項7記載のマスクケース。
- 略L字状の係止具3に代え、二つの略棒状の係止具3をほぼ90度対向させて配設した係止具3を用いたことを特徴とする請求項1,3乃至8のいずれかに記載のマスクケース。
- 略L字状の係止具3に代え、略四角形状の係止具3を用いたマスクケースであって、略四角形状の隣り合う二辺が本体突起押え部31を構成し、これに連設する傾斜面30がフォトマスク基板9の稜線面91に適合した傾斜面30であることを特徴とする請求項1,3乃至9のいずれかに記載のマスクケース。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004138617A JP4496842B2 (ja) | 2004-05-07 | 2004-05-07 | マスクケース |
TW93114155A TW200536760A (en) | 2004-05-07 | 2004-05-19 | Mask case |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004138617A JP4496842B2 (ja) | 2004-05-07 | 2004-05-07 | マスクケース |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005321529A true JP2005321529A (ja) | 2005-11-17 |
JP4496842B2 JP4496842B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=35468881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004138617A Expired - Lifetime JP4496842B2 (ja) | 2004-05-07 | 2004-05-07 | マスクケース |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4496842B2 (ja) |
TW (1) | TW200536760A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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KR100858634B1 (ko) | 2007-09-20 | 2008-09-17 | 비아이 이엠티 주식회사 | 마스크 보관 케이스 |
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KR101511599B1 (ko) | 2007-12-20 | 2015-04-14 | 주식회사 에스앤에스텍 | 마스크 컨테이너 |
JP2022501655A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-06 | インテグリス・インコーポレーテッド | 容器用レチクル支持体 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI770791B (zh) * | 2021-01-28 | 2022-07-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 具有快拆式支撐機構之光罩盒 |
-
2004
- 2004-05-07 JP JP2004138617A patent/JP4496842B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-19 TW TW93114155A patent/TW200536760A/zh not_active IP Right Cessation
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JP4667018B2 (ja) * | 2004-11-24 | 2011-04-06 | ミライアル株式会社 | レチクル搬送容器 |
EP1662324A3 (en) * | 2004-11-24 | 2007-06-27 | Miraial Co., Ltd. | Reticle-carrying container |
US7450219B2 (en) | 2004-11-24 | 2008-11-11 | Miraial Co., Ltd. | Reticle-carrying container |
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JP2022501655A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-06 | インテグリス・インコーポレーテッド | 容器用レチクル支持体 |
JP7147059B2 (ja) | 2018-11-07 | 2022-10-04 | インテグリス・インコーポレーテッド | 容器用レチクル支持体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI339635B (ja) | 2011-04-01 |
TW200536760A (en) | 2005-11-16 |
JP4496842B2 (ja) | 2010-07-07 |
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