KR100858634B1 - 마스크 보관 케이스 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (6)
- 마스크 보관 케이스에 있어서,수납된 마스크의 상부를 지지고정하는 제1덮개;상기 제1덮개와 대응되고 수납된 마스크의 하부를 지지고정하는 제2덮개;상기 제1덮개와 제2덮개의 바닥면으로부터 돌출형성되어 상기 마스크의 수평모서리에 선접촉되는 안착부가 형성된 안착리브;를 포함하여 구성되고,상기 안착부는 상기 마스크의 수평모서리에 대응되는 수평경계부를 중심으로 상기 마스크의 수직면과 예각을 형성하는 수직경사부와, 상기 마스크의 수평면과 예각을 형성하는 수평경사부가 형성되는 되는 것을 특징으로 하는 마스크 보관 케이스.
- 제 1항에 있어서,상기 제1덮개와 제2덮개 중 적어도 어느 한 덮개에 형성된 안착리브는 상기 마스크의 꼭지점 양측에서 한 쌍으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 보관 케이스.
- 제 2항에 있어서,상기 한 쌍의 안착리브 사이에는 상기 덮개의 바닥면으로부터 돌출 형성되어 상기 마스크의 수평면에 점접촉되는 지지돌기가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 보관 케이스.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 안착리브에 형성된 안착부는 상기 수직경사부와 수평경사부가 각각 절곡 돌출되어 형성된 수직경계부에 의해 상기 마스크의 수평모서리에 점접촉되는 것을 특징으로 하는 마스크 보관 케이스.
- 제 1항에 있어서,상기 제1덮개와 제2덮개 중 적어도 어느 한 덮개의 안착리브에 형성된 안착부는 상기 마스크의 꼭지점에 대응되고, 마스크의 수직모서리에 대응하여 상기 수직경사부와 수평경사부가 각각 절곡 함몰된 수직경계부가 더 형성되고, 상기 마스크의 모서리 중 적어도 어느 한 모서리에 선접촉되는 것을 특징으로 하는 마스크 보관 케이스.
- 제 5항에 있어서,상기 안착부는 상기 수직경계부를 중심으로 상기 마스크가 안착되는 수직경사부 사이와 수평경사부 사이에서 둔각을 형성하여 상기 마스크의 꼭지점에 점접촉되는 것을 특징으로 하는 마스크 보관 케이스.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070095842A KR100858634B1 (ko) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | 마스크 보관 케이스 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070095842A KR100858634B1 (ko) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | 마스크 보관 케이스 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR100858634B1 true KR100858634B1 (ko) | 2008-09-17 |
Family
ID=40023149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020070095842A KR100858634B1 (ko) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | 마스크 보관 케이스 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100858634B1 (ko) |
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