KR200250919Y1 - 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조 - Google Patents

Abstract

개시된 내용은 포토마스크를 지지할 때 그 에지(edge)부분만을 홀딩할 수 있게 하여 패턴층을 안정적으로 유지하기 위한 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조에 관한 것이다.

이러한 본 고안은 포토마스크 안착홈의 포토마스크 지지부분을 경사지게 하여 그 경사면이 포토마스크의 에지부분만을 홀딩할 수 있게 구성하되, 경사면은 안착홈 일체로 형성하거나, 경사면을 갖는 지지홀더를 안착홈에 구비하여서 되며, 경사면에는 다수의 지지돌기를 선택적으로 구비할 수도 있는데, 지지돌기는 반구형으로 형성하여 경사면 전체에 장방형으로 배치하거나, 경사면 전체에서 상하방향으로 길게 형성하여 수평방향으로 등간격 배치하거나, 경사면 전체에서 좌우방향으로 길게 형성하여 수직방향으로 등간격 배치한 것으로, 포토마스크의 에지부분만이 경사면과 접촉되므로 그 접촉면적이 최소화되어 포토마스크에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스트층이 떨어져나가 마스크 불량을 초래하거나 생산라인을 오염시키는 문제를 근본적으로 해결할 수 있으며, 경사면에 형성된 다수의 지지돌기에 의해 포토마스크 에지부분과의 접촉면적이 최소화되어 먼지발생을 억제하거나, 포토마스크 에지부분을 안정적으로 지지할 수 있는 것이다.

Description

포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조{Structure to support photomask in photomask keeping box}

본 고안은 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토마스크를 지지할 때 그 에지(edge)부분만을 홀딩할 수 있게 하여 패턴층을 안정적으로 유지하기 위한 것이다.

주지하다시피, 반도체 장치의 트랜지스터 등의 회로소자를 형성하기 위하여 웨이퍼의 소정부분을 여러 단계로 패터닝하는 과정이 필요하게 되며, 이러한 패터닝 과정에서 포토마스크를 사용하게 되는데, 이러한 포토마스크는 크롬 등의 재질로 차광막을 형성하거나 일정하게 식각하여 소정의 패턴을 형성하고 있으므로 이 패턴의 위치를 안정적으로 유지하기 위해서는 취급시에 주의가 요구된다.

따라서, 포토마스크를 보관 또는 운반하기 위한 보관상자가 별도로 구비되어 포토마스크를 이 상자에 수용한 상태로 보관 또는 운반함이 보통이며, 이를 위해 포토마스크 보관상자는 포토마스크를 수용하고 완전히 닫았을 때 그 내부에서 포토마스크가 유동되지 않는 구조를 제공하고, 포토마스크의 패턴을 유지할 수 있는 재질로 구성되는 것으로, 영구 대전방지용 합성수지재로 구성하여 포토마스크의 패턴을 유지할 수 있도록 하고, 그 구조는 상하부 덮개의 각 모서리부로부터 소정 간격이격되게 직각방향의 돌기를 각각 돌출형성하고, 그 절곡부에는 포토마스크를 안착할 수 있도록 안착홈을 각각 형성하며, 안착홈의 상면에는 포토마스크를 지지하는 지지돌기를 각각 형성하고, 상하부 덮개는 힌지에 의해 절첩되게 하며, 상하부 덮개의 전면부에는 잠금장치를 형성하여서 된 것이다.

이때, 상하부 덮개의 각 모서리부측에 직각방향으로 형성된 각각의 돌기는 상부덮개와 하부덮개가 덮였을 때 포토마스크와 긴밀히 밀착될 수 있는 위치에 각각 형성된다.

따라서, 이러한 포토마스크 보관상자의 하부덮개에 포토마스크를 안치한 후 상부덮개를 덮어 잠금장치를 잠그게 되면 포토마스크 보관상자를 어느 각도로 흔들어도 포토마스크가 흔들림없이 그 위치를 유지하여 포토마스크를 원활히 보관, 운반할 수 있는 것이다.

그러나, 종래 기술에 따른 포토마스크 보관상자는 실질적으로 포토마스크를 지지하고 있는 지지돌기가 포토마스크의 상하면을 각각 지지하는 것이므로 포토마스크 생산단계에서는 포토마스크에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스트층이 지지돌기와의 접촉으로 떨어져 나와 원하는 패턴을 형성할 수 없을 뿐만 아니라 생산라인을 오염시키게 되고, 완제품의 경우에도 지지돌기와의 접촉으로 크롬 패턴층이 떨어져 나와 마스크 불량을 초래하였던 것이다.

본 고안은 이러한 점을 감안하여 제안된 것으로, 포토마스크 안착홈의 포토마스크 지지부분을 경사지게 구성하여 포토마스크를 지지할 때 그 에지부분만 지지할 수 있게 하여 포토마스크에 피복되는 크롬층 또는 포토레지스트층을 안정적으로 유지할 수 있는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조를 제공하는 데 그 목적이 있다.

도 1은 본 고안에 따른 포토마스크 보관상자의 사시도.

도 2는 본 고안에 따른 포토마스크의 안착상태를 나타낸 단면도.

도 3은 본 고안에 따른 포토마스크 지지부위의 실시예시도로서,

(a)는 경사면이 안착홈과 일체로 형성된 경우.

(b)는 양측에 경사면을 갖는 지지홀더를 안착홈에 장착하는 경우.

(c)는 안착홈의 양측에 각각 지지홀더가 구비된 경우.

(d)는 안착홈의 면에 경사면을 갖는 지지홀더를 부착하는 경우.

도 4는 본 고안에 따른 지지돌기의 실시예시도로서,

(a)는 지지돌기가 반구형으로 형성된 경우.

(b)는 지지돌기가 수직방향으로 형성된 경우.

(c)는 지지돌기가 수평방향으로 형성된 경우.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ***

1 : 포토마스크 보관상자 2 : 상부덮개

3 : 하부덮개 4 : 안착돌기

5 : 안착홈 5a,5a' : 체결공

6 : 경사면 7,7' : 지지홀더

7a,7a' : 체결돌기 8 : 지지돌기

P : 포토마스크

이하, 본 고안을 제시되는 실시예에 의해 구체화한다.

본 고안에 따른 포토마스크 보관상자는 포토마스크(P)와의 접촉면적을 최소한으로 줄여 포토마스크(P)에 피복되는 크롬층 또는 포토레지스트층의 손상을 방지하기 위한 것이며, 이를 위해 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 상부덮개(2)와 하부덮개(3)로 이루어지며, 상/하부덮개(2)(3)의 각 모서리부에는 직각방향으로 절곡되는 형상으로 안착돌기(4)가 돌출 형성되고, 그 절곡부에는 포토마스크(P)를 안착할 수 있도록 안착홈(5)이 각각 형성되는 포토마스크 보관상자(1)에 있어서, 포토마스크 안착홈(5)에 경사면(6)을 형성하여 이 경사면(6)이 포토마스크(P)의 에지부분만을 홀딩할 수 있도록 구성한 것이다.

이때, 도 3과 같이 포토마스크 보관상자(1)의 사출성형시 한번의 공정으로 안착홈(5)에 경사면(6)이 일체로 형성되게 사출성형하여 구성할 수도 있고, 경사면(6)을 갖는 별도의 지지홀더(7)를 안착홈(5)에 구비할 수도 있는 것으로, 안착홈(5)에 지지홀더(7)를 구비하는 경우 지지홀더(7)를 안착홈(5)에 맞는 폭으로 양쪽에 경사면(6)을 구비하고 중앙 하부측으로 체결돌기(7a)를 형성하며 안착홈(5)의 중앙부측에 체결공(5a)을 형성하여 여기에 끼워 구성할 수도 있고, 지지홀더(7)(7')를 양측에 각각 구비하고 각 지지홀더(7)(7') 중앙 하부측으로 체결돌기(7a)(7a')를 각각 형성하며 안착홈(5)의 좌우측에 각각 체결공(5a)(5a')을 형성하여 여기에 끼워 구성할 수도 있으며, 지지홀더(7)를 하나 또는 양쪽에 각각 구성하여 안착홈(5)에 부착할 수도 있음은 물론 경사면(6)을 갖는 별도의 구조물을 형성하여 안착홈(5)의 외부측에 끼워 구성할 수도 있으며, 이외에도 안착홈(5)의 포토마스크(P) 지지위치에 경사면(6)을 형성할 수 있는 구조이면 무엇이든 가능하다.

또한, 경사면(6)은 평평하게 구성하는 것을 기본으로 하나 도 4와 같이 경사면(6)에 다수의 지지돌기(8)를 형성할 수도 있는데, 지지돌기(8)를 반구형으로 형성하여 경사면(6) 전체에 장방형으로 배치하거나, 경사면(6) 전체에서 상하방향으로 길게 형성하여 수평방향으로 등간격 배치하거나, 경사면(6) 전체에서 좌우방향으로 길게 형성하여 수직방향으로 등간격 배치할 수 있다.

이와 같이 구성된 본 고안에 따른 포토마스크 보관상자는 다음과 같은 작용을 한다.

먼저, 포토마스크(P)를 제조할 때에는 포토마스크(P)의 일면에 크롬층을 피복하고, 크롬층을 소정의 패턴으로 현상해내기 위해 그 위에 포토레지스트층을 피복한 후 노광 현상하게 되므로 포토마스크(P)의 제조단계에서는 포토마스크(P)에 크롬층과 포토레지스트층이 피복되어 있고, 포토마스크(P)의 제조가 완료되면 소정의 패턴을 갖는 크롬층만 피복되어 있게 된다.

이러한 포토마스크(P)는 그 제조중이나 제조완료 후 모두 포토마스크 보관상자(1)에 수납한 상태로 이송, 운반하게 되며, 포토마스크 보관상자(1)는 이러한 포토마스크(P)의 이송, 운반 중 포토마스크(P)의 유동없이 그 위치를 유지할 수 있는 구조를 제공하는 것이다.

여기서, 본 고안에 따른 포토마스크 보관상자(1)는 포토마스크(P)를 수납한 상태로 이송, 운반할 때 포토마스크(P)의 유동없이 그 위치를 원활히 유지할 수 있음은 물론 포토마스크(P)를 유동이 없게 홀딩하여 주는 부위가 포토마스크(P)에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스층에 접촉되지 않거나 최소한의 면적으로 접촉되게 하여 마스크 불량을 방지하기 위한 것으로, 포토마스크(P)를 하부덮개(3)의 각 안착홈(5)에 얹어 놓게 되면 포토마스크(P)가 안착홈(5)에 형성된 경사면(6)의 중간쯤에 얹혀지는 형상이 되어 포토마스크(P)의 에지부분만이 경사면(6)과 접촉되며, 상부덮개(2)를 닫았을 때에도 상부덮개(2)의 각 안착홈(5)에 형성된 경사면(6)이 포토마스크(P)의 에지부분과 접촉하면서 그 위치를 유동없이 홀딩하게 된다.

따라서, 포토마스크(P)의 에지부분과 경사면(6)이 접촉될 때 그 면적이 매우 작으므로 포토마스크(P)에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스트층과 경사면(6)이 접촉되지 않거나 최소한의 면적으로 접촉될 수 있어 크롬층 또는 포토레지스트층이 떨어져 나가 마스크 불량을 초래하거나 생산라인을 오염시키는 문제를 근본적으로 해결할 수 있다.

이때, 본 고안에 따른 포토마스크 보관상자(1)에 있어 실질적으로 포토마스크(P)를 지지해주는 경사면(6)은 전술한 바와 같이 포토마스크 보관상자(1)의 사출성형시 안착홈(5)에 일체로 사출성형하여 구성할 수도 있고, 별도의 경사면(6)을 갖는 지지홀더(7)를 안착홈(5)에 구비할 수도 있는 것으로, 전자의 경우 별도의 지지홀더(7)를 구비하지 않아도 되므로 제작성이 향상되고, 후자의 경우 기존에 출시된 제품에 그대로 적용할 수 있음은 물론 별도의 사출몰드 제작에 필요한 경비를 절약할 수 있는 이점이 있다.

또한, 경사면(6)에 다수의 지지돌기(8)를 구성할 때 지지돌기(8)를 반구형으로 형성하여 경사면(6) 전체에 장방형으로 배치하거나, 경사면(6) 전체에서 상하방향으로 길게 형성하여 수평방향으로 등간격 배치하게 되면 포토마스크(P)와 지지돌기(8)가 직접 접촉되므로 그 접촉면적이 최소화되어 포토마스크(P)에 치명적인 먼지의 발생이 적어지며, 지지돌기(8)를 경사면(6) 전체에서 좌우방향으로 길게 형성하여 수직방향으로 등간격 배치하게 되면 포토마스크(P)가 지지돌기(8)에 얹혀지는 형상이 되므로 포토마스크(P)를 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있는 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 고안은 포토마스크 지지부위에 경사면을 구성하여 포토마스크의 에지부분만이 경사면과 접촉되게 한 것이므로 그 접촉면적이 최소화되어 포토마스크에 피복되어 있는 크롬층 또는 포토레지스트층이 떨어져나가 마스크 불량을 초래하거나 생산라인을 오염시키는 문제를 근본적으로 해결할 수 있으며, 경사면에 다수의 지지돌기를 구성할 경우에는 그 형상에 따라 포토마스크 에지부분과의 접촉면적을 최소화하여 먼지발생을 억제하거나, 포토마스크 에지부분을 안정적으로 지지할 수 있는 매우 유용한 효과가 있는 것이다.

Claims (7)

1. 상부덮개(2)와 하부덮개(3)로 이루어지며, 상기 상/하부덮개(2)(3)의 각 모서리부에는 직각방향으로 절곡되는 형상으로 안착돌기(4)가 돌출 형성되고, 그 절곡부에는 포토마스크(P)를 안착할 수 있도록 안착홈(5)이 각각 형성되는 포토마스크 보관상자(1)에 있어서,

   상기 안착홈(5)의 포토마스크(P) 지지부분을 경사지게 하여 그 경사면(6)이 상기 포토마스크(P)의 에지부분만을 홀딩할 수 있게 구성한 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 안착홈(5)에 경사면(6)이 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 안착홈(5)에 경사면(6)을 갖는 지지홀더(7)(7')를 구비하여서 된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 경사면(6)에는 다수의 지지돌기(8)가 형성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.
5. 제 4 항에 있어서,

   상기 지지돌기(8)는 반구형으로 형성되어 상기 경사면(6) 전체에 장방형으로 배치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.
6. 제 4 항에 있어서,

   상기 지지돌기(8)는 상기 경사면(6) 전체에서 상하방향으로 길게 형성되어 수평방향으로 등간격 배치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.
7. 제 4 항에 있어서,

   상기 지지돌기(8)는 상기 경사면(6) 전체에서 좌우방향으로 길게 형성되어 수직방향으로 등간격 배치된 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관상자의 포토마스크 지지구조.