JP2002287332A - マスクケース - Google Patents
マスクケースInfo
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- JP2002287332A JP2002287332A JP2001087081A JP2001087081A JP2002287332A JP 2002287332 A JP2002287332 A JP 2002287332A JP 2001087081 A JP2001087081 A JP 2001087081A JP 2001087081 A JP2001087081 A JP 2001087081A JP 2002287332 A JP2002287332 A JP 2002287332A
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- Japan
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- mask
- case
- mask case
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- film
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクがマスクケースと接触することによっ
て発生する静電気をマスクのクロム膜から充分に放出で
き、マスクパターンが静電破壊を起こさずに良好にマス
クを運搬することのできるマスクケースを提供する。 【解決手段】 留め部９をマスク４のコーナー部のクロ
ム膜３との接触面積を大きくすることによりマスク４を
固定している。このとき、発明者の実験によれば、接触
面積はマスク面積の１／１９６００以上は必要である。
て発生する静電気をマスクのクロム膜から充分に放出で
き、マスクパターンが静電破壊を起こさずに良好にマス
クを運搬することのできるマスクケースを提供する。 【解決手段】 留め部９をマスク４のコーナー部のクロ
ム膜３との接触面積を大きくすることによりマスク４を
固定している。このとき、発明者の実験によれば、接触
面積はマスク面積の１／１９６００以上は必要である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体装置の製造
用マスクを挿入して運搬するためのマスクケースに関す
るものである。
用マスクを挿入して運搬するためのマスクケースに関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来のマスクケースにマスクを収
納した時の断面図である。図４は従来のマスクケースに
マスクを収納した時の平面図であり、図３において下側
から見た場合の平面図である。
納した時の断面図である。図４は従来のマスクケースに
マスクを収納した時の平面図であり、図３において下側
から見た場合の平面図である。
【０００３】図において、１はガラス基板、２はガラス
基板１上のマスクパターンの保護膜であるペリクル膜、
３はマスクパターンの周囲を囲んでいるクロム膜、８は
クロム膜３中に設けられているアライメントマークであ
り、ガラス基板１とマスクパターンとペリクル膜２とク
ロム膜３とでマスク４が構成されている。
基板１上のマスクパターンの保護膜であるペリクル膜、
３はマスクパターンの周囲を囲んでいるクロム膜、８は
クロム膜３中に設けられているアライメントマークであ
り、ガラス基板１とマスクパターンとペリクル膜２とク
ロム膜３とでマスク４が構成されている。
【０００４】さらに、５はマスクケースで、上部マスク
ケース５ａと下部マスクケース５ｂとからなる。下部マ
スクケース５ｂには留め部６とピン７ｂとが備えられて
おり、上部マスクケース５ａにはピン７ａが備えられて
いる。
ケース５ａと下部マスクケース５ｂとからなる。下部マ
スクケース５ｂには留め部６とピン７ｂとが備えられて
おり、上部マスクケース５ａにはピン７ａが備えられて
いる。
【０００５】次に、マスクケース５にマスク４を収納し
た場合について説明する。マスク４は留め部６とピン７
ｂとによって支えられ、下部マスクケース５ｂに収納さ
れる。その後、上部マスクケース５ａにより下部マスク
ケース５ｂに蓋をする。上部マスクケース５ａのピン７
ａはマスク４のガラス基板１と接触し、ガラス基板１を
固定する。その後、マスク４を収納したマスクケース５
を運搬する。このとき、図４に示すように、クロム膜３
はピン７ｂとしか接触していない。
た場合について説明する。マスク４は留め部６とピン７
ｂとによって支えられ、下部マスクケース５ｂに収納さ
れる。その後、上部マスクケース５ａにより下部マスク
ケース５ｂに蓋をする。上部マスクケース５ａのピン７
ａはマスク４のガラス基板１と接触し、ガラス基板１を
固定する。その後、マスク４を収納したマスクケース５
を運搬する。このとき、図４に示すように、クロム膜３
はピン７ｂとしか接触していない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のマスクケースは
以上のようであり、マスクは留め部とピンとでマスクケ
ースに固定されているが、マスクケースにマスクを収納
して運搬する際にマスクケースとマスクとが擦れ合い、
これにより静電気が生じ、マスクに帯電する。
以上のようであり、マスクは留め部とピンとでマスクケ
ースに固定されているが、マスクケースにマスクを収納
して運搬する際にマスクケースとマスクとが擦れ合い、
これにより静電気が生じ、マスクに帯電する。
【０００７】ところが、図４に示すように、マスク４は
クロム膜３において下部マスクケース５ｂのピン７ｂと
点接触しかなされていない。そのため、ピンだけではマ
スク運搬時に発生したクロム膜の静電気を充分に放出す
ることができず、マスクパターンが静電破壊を起こして
しまい、良好なマスクを提供することができないという
問題点があった。
クロム膜３において下部マスクケース５ｂのピン７ｂと
点接触しかなされていない。そのため、ピンだけではマ
スク運搬時に発生したクロム膜の静電気を充分に放出す
ることができず、マスクパターンが静電破壊を起こして
しまい、良好なマスクを提供することができないという
問題点があった。
【０００８】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、マスクがマスクケースと接触す
ることによって発生する静電気をマスクのクロム膜から
充分に放出でき、マスクパターンが静電破壊を起こさず
に良好にマスクを運搬することのできるマスクケースを
提供することを目的としている。
ためになされたもので、マスクがマスクケースと接触す
ることによって発生する静電気をマスクのクロム膜から
充分に放出でき、マスクパターンが静電破壊を起こさず
に良好にマスクを運搬することのできるマスクケースを
提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
るマスクケースは、マスクケース内で、マスクに帯電し
た静電気をマスクパターンの静電破壊を防止できる程度
に放出できる接触面積にてクロム膜部と接触する導電性
を有する部材を備えるようにしたものである。
るマスクケースは、マスクケース内で、マスクに帯電し
た静電気をマスクパターンの静電破壊を防止できる程度
に放出できる接触面積にてクロム膜部と接触する導電性
を有する部材を備えるようにしたものである。
【００１０】この発明の請求項２に係るマスクケース
は、導電性を有する部材が、マスクケース内に設けら
れ、マスクを支持する留め具にて成るようにしたもので
ある。
は、導電性を有する部材が、マスクケース内に設けら
れ、マスクを支持する留め具にて成るようにしたもので
ある。
【００１１】この発明の請求項３に係るマスクケース
は、クロム膜部と導電性を有する部材との接触面積が、
マスク面積のおよそ１／１９６００以上を有するように
したものである。
は、クロム膜部と導電性を有する部材との接触面積が、
マスク面積のおよそ１／１９６００以上を有するように
したものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１はこの発明の
マスクケースにマスクを収納した時の断面図である。図
２はこの発明のマスクケースにマスクを収納した時の平
面図であり、図１において下側から見た場合の平面図で
ある。
マスクケースにマスクを収納した時の断面図である。図
２はこの発明のマスクケースにマスクを収納した時の平
面図であり、図１において下側から見た場合の平面図で
ある。
【００１３】図において、１はガラス基板、２はガラス
基板１上のマスクパターンの保護膜であるペリクル膜、
３はマスクパターンの周囲を囲んでいるクロム膜、８は
クロム膜３中に設けられているアライメントマークであ
り、ガラス基板１とマスクパターンとペリクル膜２とク
ロム膜３とでマスク４が構成されている。
基板１上のマスクパターンの保護膜であるペリクル膜、
３はマスクパターンの周囲を囲んでいるクロム膜、８は
クロム膜３中に設けられているアライメントマークであ
り、ガラス基板１とマスクパターンとペリクル膜２とク
ロム膜３とでマスク４が構成されている。
【００１４】さらに、５はマスクケースで、上部マスク
ケース５ａと下部マスクケース５ｂとからなる。下部マ
スクケース５ｂには留め部９が備えられており、上部マ
スクケース５ａにはピン７ａが備えられている。マスク
ケース５および留め部９は傷を生じにくい導電性フッ素
樹脂で形成されている。
ケース５ａと下部マスクケース５ｂとからなる。下部マ
スクケース５ｂには留め部９が備えられており、上部マ
スクケース５ａにはピン７ａが備えられている。マスク
ケース５および留め部９は傷を生じにくい導電性フッ素
樹脂で形成されている。
【００１５】次に、マスクケース５にマスク４を収納し
た場合について説明する。マスク４は留め部９によって
支えられ下部マスクケース５ｂに収納される。その後、
上部マスクケース５ａにより下部マスクケース５ｂに蓋
をする。上部マスクケース５ａのピン７ａはマスク４の
ガラス基板１と接触し、ガラス基板１を固定する。その
後、マスク４を収納したマスクケース５を運搬する。
た場合について説明する。マスク４は留め部９によって
支えられ下部マスクケース５ｂに収納される。その後、
上部マスクケース５ａにより下部マスクケース５ｂに蓋
をする。上部マスクケース５ａのピン７ａはマスク４の
ガラス基板１と接触し、ガラス基板１を固定する。その
後、マスク４を収納したマスクケース５を運搬する。
【００１６】ここで、留め部９について説明を行なう。
マスク４運搬時に発生した静電気をマスク４のクロム膜
３から外に充分に逃がすことができ、マスクパターンの
静電破壊を防止するために、留め部９の底面積を増や
し、段差部を形成して、段差部にマスク４のコーナー部
を固定し、留め部９とマスク４のコーナー部のクロム膜
３との接触面積を大きくしている。
マスク４運搬時に発生した静電気をマスク４のクロム膜
３から外に充分に逃がすことができ、マスクパターンの
静電破壊を防止するために、留め部９の底面積を増や
し、段差部を形成して、段差部にマスク４のコーナー部
を固定し、留め部９とマスク４のコーナー部のクロム膜
３との接触面積を大きくしている。
【００１７】したがって、マスク４のクロム膜３部分は
留め部９と、点ではなく充分な面積をもって接触できる
ので、マスク４運搬時に発生した静電気をマスク４のク
ロム膜３は留め部９を介して外に充分に逃がすことがで
き、マスクパターンが静電破壊を起こすことを防止する
ことができる。
留め部９と、点ではなく充分な面積をもって接触できる
ので、マスク４運搬時に発生した静電気をマスク４のク
ロム膜３は留め部９を介して外に充分に逃がすことがで
き、マスクパターンが静電破壊を起こすことを防止する
ことができる。
【００１８】このとき、発明者の実験によれば、接触面
積は６インチマスクの場合、０．５ｍｍ２程度は必要で
ある。つまり、接触面積はマスク面積の１／１９６００
以上は必要である。
積は６インチマスクの場合、０．５ｍｍ２程度は必要で
ある。つまり、接触面積はマスク面積の１／１９６００
以上は必要である。
【００１９】ここでは、図１および図２に示すように、
留め部９の底面積を増やし、段差部を形成して、段差部
にマスクのクロム膜３のコーナー部を固定するようにし
た場合について説明を行ったが、留め部９の形状にかか
わることなく、マスクのクロム膜３と留め部９等の導電
性物質との接触面積が充分に、マスク面積の１／１９６
００以上あれば良い。
留め部９の底面積を増やし、段差部を形成して、段差部
にマスクのクロム膜３のコーナー部を固定するようにし
た場合について説明を行ったが、留め部９の形状にかか
わることなく、マスクのクロム膜３と留め部９等の導電
性物質との接触面積が充分に、マスク面積の１／１９６
００以上あれば良い。
【００２０】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、マスク
ケース内で、マスクに帯電した静電気をマスクパターン
の静電破壊を防止できる程度に放出できる接触面積にて
クロム膜部と接触する導電性を有する部材を備えるよう
にしたので、マスクがマスクケースと接触することによ
って発生する静電気をクロム膜から充分に放出でき、マ
スクパターンが静電破壊を起こさずに良好にマスクを運
搬することができる。
ケース内で、マスクに帯電した静電気をマスクパターン
の静電破壊を防止できる程度に放出できる接触面積にて
クロム膜部と接触する導電性を有する部材を備えるよう
にしたので、マスクがマスクケースと接触することによ
って発生する静電気をクロム膜から充分に放出でき、マ
スクパターンが静電破壊を起こさずに良好にマスクを運
搬することができる。
【００２１】また、導電性を有する部材が、マスクケー
ス内に設けられ、マスクを支持する留め具にて成るよう
にしたので、マスクのクロム膜部と導電性を有する部材
との接触面積を容易に適切な大きさにすることができ
る。
ス内に設けられ、マスクを支持する留め具にて成るよう
にしたので、マスクのクロム膜部と導電性を有する部材
との接触面積を容易に適切な大きさにすることができ
る。
【００２２】また、クロム膜部と導電性を有する部材と
の接触面積が、マスク面積のおよそ１／１９６００以上
を有するようにしたので、マスクがマスクケースと接触
することによって発生する静電気をクロム膜から充分に
放出でき、マスクパターンが静電破壊を起こすことを防
止できる。
の接触面積が、マスク面積のおよそ１／１９６００以上
を有するようにしたので、マスクがマスクケースと接触
することによって発生する静電気をクロム膜から充分に
放出でき、マスクパターンが静電破壊を起こすことを防
止できる。
【図１】 この発明のマスクケースにマスクを収納した
時のを示す断面図である。
時のを示す断面図である。
【図２】 この発明のマスクケースにマスクを収納した
時の平面図であり、図１において下側から見た場合の平
面図である。
時の平面図であり、図１において下側から見た場合の平
面図である。
【図３】 従来のマスクケースにマスクを収納した時の
断面図である。
断面図である。
【図４】 従来のマスクケースにマスクを収納した時の
平面図であり、図３において下側から見た場合の平面図
である。
平面図であり、図３において下側から見た場合の平面図
である。
３ クロム膜、４ マスク、５ マスクケース、９ 留
め部。
め部。
Claims (3)
- 【請求項１】 クロム膜部とマスクパターンとを備えた
マスクを内部に収納して運搬するマスクケースにおい
て、 上記マスクケース内に、上記マスクに帯電した静電気を
上記マスクパターンの静電破壊を防止できる程度に放出
できる接触面積にて、上記クロム膜部と接触する導電性
を有する部材を備えたことを特徴とするマスクケース。 - 【請求項２】 導電性を有する部材は、マスクケース内
に設けられ、マスクを支持する留め具にて成ることを特
徴とする請求項１に記載のマスクケース。 - 【請求項３】 クロム膜部と導電性を有する部材との接
触面積は、マスク面積のおよそ１／１９６００以上を有
することを特徴とする請求項１および２に記載のマスク
ケース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001087081A JP2002287332A (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | マスクケース |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001087081A JP2002287332A (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | マスクケース |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002287332A true JP2002287332A (ja) | 2002-10-03 |
Family
ID=18942373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001087081A Withdrawn JP2002287332A (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | マスクケース |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002287332A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004361647A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクルの収納方法 |
| WO2013186929A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | 株式会社ニコン | マスク保護装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| CN112670219A (zh) * | 2019-10-16 | 2021-04-16 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模固持系统 |
| JP2021167966A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-10-21 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | レチクル保持システム |
| JP2021173986A (ja) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | Ｅｕｖレチクルポッド |
| US11249392B2 (en) | 2017-01-25 | 2022-02-15 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | EUV reticle pod |
-
2001
- 2001-03-26 JP JP2001087081A patent/JP2002287332A/ja not_active Withdrawn
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004361647A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクルの収納方法 |
| JP4497845B2 (ja) * | 2003-06-04 | 2010-07-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 大型ペリクルの収納方法 |
| WO2013186929A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | 株式会社ニコン | マスク保護装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| US9715175B2 (en) | 2012-06-15 | 2017-07-25 | Nikon Corporation | Mask protection device, exposure apparatus, and method for manufacturing device |
| US10234766B2 (en) | 2012-06-15 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Mask protection device, exposure apparatus, and method for manufacturing device |
| US11249392B2 (en) | 2017-01-25 | 2022-02-15 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | EUV reticle pod |
| JP2021167966A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-10-21 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | レチクル保持システム |
| JP2022051846A (ja) * | 2018-10-29 | 2022-04-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | レチクル保持システム |
| US11508592B2 (en) | 2018-10-29 | 2022-11-22 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | Reticle retaining system |
| CN112670219A (zh) * | 2019-10-16 | 2021-04-16 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模固持系统 |
| CN112670219B (zh) * | 2019-10-16 | 2024-05-10 | 家登精密工业股份有限公司 | 光掩模固持系统 |
| JP2021173986A (ja) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | Ｅｕｖレチクルポッド |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060123 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20071101 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080603 |