KR20130003055A - 레티클 포드 - Google Patents

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KR20130003055A
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안요한
류주아
김현준
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삼성전자주식회사
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Abstract

EUV용 레티클을 보관 및 운송하는 레티클 포드는, 레티클이 놓여지는 베이스 플레이트 및 상기 베이스 플레이트를 덮고, 상기 레티클의 패턴 형성 영역을 벗어난 외곽 영역과 대향하도록 배치된 복수의 브레스 홀을 포함하는 커버부를 포함하는 이너 포드가 구비된다. 또한, 상기 이너 포드를 외부에서 패키징하는 아우트 포드가 구비된다. 상기 레티클 포드는 파티클 발생으로 인한 불량이 감소된다.

Description

레티클 포드{Raticle Pod}
본 발명은 레티클 포드에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 극자외선(EUV)용 레티클을 보관 및 운송하는 레티클 포드에 관한 것이다.
사진 공정에서, 원하는 패턴을 기판에 전사하기 위하여 레티클을 이용한다. 그런데, 상기 레티클에 쌓이는 파티클 또는 먼지에 의해 기판에 형성되는 패턴에 불량이 발생될 수 있다. 때문에, 상기 레티클에 파티클이 발생되지 않도록 관리하는 것이 요구된다. 극자외선을 노광 광으로 사용하는 레티클의 경우, 레티클 보관 및 이송 시에 레티클 보호를 위한 보호막인 펠리클을 사용할 수 없어서 파티클 제어가 더욱 어렵다. 그러므로, 상기 레티클의 운송 및 보관 시에 파티클이 발생되지 않도록 설계된 극자외선용 레티클 포드가 요구된다.
본 발명의 목적은 파티클 발생이 억제되는 레티클 포드를 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 레티클 포드는, 레티클이 놓여지는 베이스 플레이트 및 상기 베이스 플레이트를 덮고, 상기 레티클의 패턴 형성 영역을 벗어난 외곽 영역과 대향하도록 배치된 복수의 브레스 홀이 형성된 커버부를 포함하는 이너 포드가 구비된다. 또한, 상기 이너 포드를 외부에서 패키징하는 아우트 포드가 구비된다.
본 발명의 일 실시예로, 상기 커버부에는 상기 브레스 홀을 덮는 파티클 필터가 더 포함될 수 있다.
본 발명의 일 실시예로, 상기 브레스 홀은 상기 커버부의 상부면 가장자리에 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예로, 상기 브레스 홀은 상기 커버부의 측벽에 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예로, 상기 복수의 브레스 홀은 상기 레티클을 기준으로 서로 대칭되도록 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예로, 상기 커버부는, 레티클의 하부면과 대향하고, 상기 베이스 플레이트와 결합하여 고정되는 평판부를 포함한다. 또한, 상기 평판부 표면에는 상기 레티클을 고정시키는 홀드다운 핀이 구비된다.
상기 평판부에는 상기 브레스 홀이 형성되어 있다.
상기 평판부에 상기 레티클 하부면으로 향하는 복수의 가스 분사 노즐이 구비된다. 상기 가스 분사 노즐의 분사구는 상기 레티클의 패턴 형성 영역을 벗어난 외곽 영역과 대향하도록 배치될 수 있다. 상기 가스 분사 노즐에는 가스 조절을 위한 밸브가 구비될 수 있다.
설명한 것과 같이, 본 발명에 의하면 파티클 발생을 감소시키는 레티클 포드를 제공할 수 있다. 상기 레티클 포드를 사용함으로써, 레티클의 패턴면 또는 뒷면의 오염을 억제할 수 있다. 따라서, 오염된 레티클을 사용하여 발생하는 공정 불량을 감소시킬 수 있다. 또한, 상기 레티클 포드 내에 레티클을 보관하고 이송한 후, 노광하기 이 전에 레티클 오염을 검사하는 공정을 생략할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 레티클 포드를 나타내는 분리 사시도이다.
도 2는 이너 포드의 커버부의 일 면을 나타내는 평면도이다.
도 3은 이너 포드 내에 레티클을 장착한 상태의 사시도이다.
도 4는 이너 포드에서 브레스 홀 부위의 단면도이다.
도 5는 이너 포드에서 홀드다운 핀 부위의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예 2에 따른 레티클 포드에서 이너 포드의 커버부를 나타내는 사시도이다.
도 7은 본 발명의 실시예 2에 따른 레티클 포드에서 홀드다운 핀 부위의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시예 3에 따른 레티클 포드에서 홀드다운 핀 부위의 단면도이다.
도 9는 본 발명의 실시예 3에 따른 레티클 포드에서 이너 포드의 커버부를 나타내는 평면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.
본 발명의 각 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
본 발명에서, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에 있어서, 각 층(막), 영역, 전극, 패턴 또는 구조물들이 대상체, 기판, 각 층(막), 영역, 전극 또는 패턴들의 "상에", "상부에" 또는 "하부"에 형성되는 것으로 언급되는 경우에는 각 층(막), 영역, 전극, 패턴 또는 구조물들이 직접 기판, 각 층(막), 영역, 또는 패턴들 위에 형성되거나 아래에 위치하는 것을 의미하거나, 다른 층(막), 다른 영역, 다른 전극, 다른 패턴 또는 다른 구조물들이 대상체나 기판 상에 추가적으로 형성될 수 있다.
본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.
즉, 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
실시예 1
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 레티클 포드를 나타내는 분리 사시도이다. 도 2는 이너 포드의 커버부의 일 면을 나타내는 평면도이다. 도 3은 이너 포드 내에 레티클을 장착한 상태의 사시도이다. 도 4는 이너 포드에서 브레스 홀 부위의 단면도이다. 도 5는 이너 포드에서 홀드다운 핀 부위의 단면도이다.
본 실시예의 레티클 포드는 EUV용 레티클을 보관 및 운송하기 위한 레티클 포드이다.
일반적으로 KrF 또는 ArF광을 사용하는 사진 공정용 레티클의 표면에는 오염물을 차단하기 위하 위한 페리클이 코팅된다. 상기 페리클은 니트로셀룰로오스인 얇고 광학적으로 투명한 필름일 수 있다. 그러나, 일반적인 사진 공정과는 달리 EUV를 사용하는 사진 공정의 경우, 레티클의 패턴 부위에서 EUV 광이 반사된다. 때문에, 상기 EUV 광을 투과하는 펠리클을 사용하여야 하지만, 이러한 페리클 물질은 존재하지 않는다. 그러므로, 상기 EUV용 레티클에는 페리클을 코팅하여 파티클을 제어할 수 없다.
이러한 이유로, 상기 EUV용 레티클은 오염이 더욱 쉽게 발생될 수 있으며, 오염에 의한 불량 발생이 더욱 빈번하다. 상기 오염을 억제하기 위하여, 상기 EUV 레티클은 아우트 포드 및 이너 포드를 구비하는 듀얼 레티클 포드를 사용하여 보관 및 운반된다. 상기 EUV 레티클이 장착되는 이너 포드는 소형 청정실 타입의 환경을 갖는다.
도 1에 도시된 것과 같이, 레티클 포드는 아우트 포드(10, 12) 및 이너 포드(90)를 포함한다.
상기 이너 포드(90)는 레티클(R)을 장착하여 보관하는 역할을 한다. 도 3에 도시된 것과 같이, 상기 레티클(R)은 상기 이너 포드(90) 내에 장착된 상태로 노광 공정을 수행하기 위한 장치 내에 로딩되며, 상기 노광 장치 내에서도 상기 이너 포드(90) 내에 장착된 상태로 이송된다.
상기 아우트 포드(10, 12)는 상기 이너 포드(90)를 보호하기 위한 봉입체로써 제공된다. 상기 아우트 포드(10, 12) 내에 상기 이너 포드(90)를 수납하여 상기 이너 포드(90) 내에 장착된 레티클(R)을 보관 및 이동한다. 즉, 상기 공정 장치 외부에서는 상기 레티클(R)이 상기 이너 포드(90) 및 아우트 포드(10, 12)에 의해 2중으로 패키징된 상태에서 보관 및 이동된다.
이하에서, 이너 포드에 대해 먼저 설명한다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 이너 포드(90)는 베이스 플레이트(50) 및 상기 베이스 플레이트(50)를 덮는 커버부(80)로 구성된다. 상기 베이스 플레이트(50) 상에 커버부(80)를 결합시키면 내부 공간이 마련되고, 상기 내부 공간에 레티클(R)이 장착된다.
상기 이너 포드(90)는 레티클(R)을 장착한 상태로 청정실로부터 노광 공정 장치 내부로 이동하거나 또는 노광 공정 장치로부터 청정실로 이동한다. 또한, 노광 장치 내부에서도 로드락 챔버 및 메인 챔버 내부로 이동한다. 이와같이 상기 이너 포드(90)가 이동함에 따라, 상기 이너 포드(90)는 주변의 환경이 상압 상태에서 진공 상태로 바뀌거나 또는 진공 상태에서 상압 상태로 바뀌게 된다. 그러므로, 진공 상태에서, 상기 이너 포드(90)로부터 탈락되는 파티클이 발생되지 않도록 하기 위해서 상기 이너 포드(90)는 금속 물질로 형성되는 것이 바람직하다. 특히, 이너 포드(90)의 표면은 파티클이 거의 발생되지 않는 금속 물질로 형성되어야 한다. 또한, 상기 이너 포드(90)는 무게가 가벼운 물질로 형성되어야 한다. 일 예로, 상기 이너 포드(90)는 무게가 가벼운 알루미늄 물질로 이루어질 수 있으며, 이너 포드의 표면에는 파티클이 거의 발생되지 않는 니켈로 도금되어 있는 것이 바람직하다.
상기 베이스 플레이트(50)는 제1 평판부(52), 제1 평판부(52)의 상부면에 가이드 핀(54), 윈도우 창(58) 및 지지부(56)를 포함한다.
상기 가이드 핀(54)은 상기 베이스 플레이트(50) 상에 놓여지는 레티클(R)을 가이드하기 위한 핀이다. 상기 가이드 핀(54)은 상기 레티클(R)의 측벽면과 접촉하여 상기 레티클(R) 위치를 고정시킨다. 상기 가이드 핀(54)은 레티클(R) 장착 위치의 가장자리 부위에 복수개가 구비될 수 있다. 일 예로, 도시된 것과 같이, 상기 가이드 핀(54)은 상부면에 놓여지는 레티클(R)의 각 코너 부위에 각각 2개씩 8개가 구비될 수 있다.
상기 윈도우 창(58)은 상기 베이스 플레이트(50) 상에 높여지는 레티클(R)을 외부에서 확인하기 위한 창이다.
상기 지지부(56)는 상기 제1 평판부(52) 상부면으로부터 돌출되는 형상을 갖는다. 상기 레티클(R)은 상기 지지부(56) 상부면에 직접 접촉하면서 놓여지게 된다. 즉, 상기 레티클(R)은 상기 평판 전면과 접촉하는 것이 아니라 상기 지지부(56) 상부면과 접촉된다. 상기 지지부(56)는 레티클(R) 상부면의 가장자리와 접촉하여야 한다. 여기서, 상기 레티클(R) 상부면은 레티클(R)에서 패턴이 형성되어 있는 면이다. 상기 지지부와의 접촉에 의해 상기 레티클에 형성되어 있는 패턴이 손상되지 않아야 한다. 그러므로, 상기 지지부(56)는 레티클(R) 상부면에서 패턴이 형성되어 있는 영역이 아닌 패턴 영역 외부의 영역과 접촉하도록 위치한다. 상기 지지부(56)는 상기 레티클(R)을 안정적으로 지지할 수 있도록 적어도 4개를 구비하여야 한다.
설명한 것과 같이, 상기 레티클(R)은 상기 가이드 핀(54) 및 지지부(56)와 접촉된다. 그러므로, 외부의 진동이나 충격이 발생할 때 상기 가이드 핀(54) 및 지지부(56)와의 접촉 부위에서 파티클이 발생될 수 있다.
상기 커버부(80)는 상기 베이스 플레이트(50)를 덮는 형상을 갖고 브레스 홀(86)을 포함하는 제2 평판부(82), 상기 제2 평판부(82)의 표면에 구비되는 홀드다운 핀(84) 및 상기 브레스 홀(86)을 덮는 파티클 필터(88)를 포함한다.
도 4 및 도 5에 도시된 것과 같이, 상기 커버부(80)는 상기 베이스 플레이트(50)와 결합하여 고정될 수 있도록 구성된다. 또한, 상기 커버부(80)와 상기 베이스 플레이트(50)가 결합되었을 때 내부에 상기 레티클(R)이 수납될 수 있는 공간이 마련된다. 이를 위하여, 도시하지는 않았지만, 상기 제2 평판부(82)는 상기 레티클(R)이 위치하는 부위가 요부로 형성되고, 상기 베이스 플레이트(50)와 접촉되는 가장자리 부위가 철부로 형성된다. 즉, 상기 베이스 플레이트(50)와 접촉되는 부위는 다른 부위에 비해 돌출된 형상을 갖는다. 상기 제2 평판부(82)는 상기 레티클(R)의 하부면과 대향하도록 배치된다.
도 5에 도시된 것과 같이, 상기 홀드다운 핀(84)은 베이스 플레이트(50)에 수납되어 있는 레티클(R)의 하부면 측벽 모서리 부위를 하방으로 누르면서 고정시키는 역할을 한다. 즉, 상기 홀드다운 핀(84)은 상기 레티클(R)과 접촉되는 면이 경사진 형상을 갖는다. 따라서, 상기 홀드다운 핀(84)과 상기 레티클(R)의 접촉 면적을 매우 좁게 하면서 상기 레티클(R)을 고정시킬 수 있다. 상기 홀드다운 핀(84)은 복수개가 구비될 수 있다. 일 예로, 상기 레티클(R)의 각 코너의 모서리부에 구비될 수 있다.
상기 레티클(R)은 상기 홀드다운 핀(84)과 접촉하면서 고정된다. 그러므로, 외부의 진동이나 충격이 발생할 때 상기 홀드다운 핀(84)과의 접촉 부위에서 파티클이 발생될 수 있다.
상기 제2 평판부(82)에서 상부면 가장자리 부위에 복수개의 브레스 홀(86)이 구비된다. 또한, 상기 각각의 브레스 홀(86)들을 덮는 파티클 필터(88)가 구비된다.
상기 브레스 홀(86)은 상기 이너 포드(90) 내에 장착된 레티클(R)에서 패턴 형성 영역의 외부에 위치하도록 하여야 한다. 일반적으로, EUV용 규격화된 레티클(R)은 150㎜× 150㎜의 크기를 갖는다. 또한, 상기 EUV용 규격화된 레티클은 중심부 142㎜× 142㎜ 내의 영역에 패턴이 형성된다. 그러므로, EUV용 규격화된 레티클(R)을 수납하는 이너 포드(90)의 경우, 상기 브레스 홀(86)은 상기 레티클(R)이 장착되는 부위에서 중심부 142㎜× 142㎜ 영역의 외부에 있는 영역에 위치하여야 한다.
상기 브레스 홀(86)은 상기 이너 포드(90) 내부로부터 외부로 공기가 통하도록 형성된 홀이다. 상기 브레스 홀(86)은 상기 이너 포드(90)의 외부 환경이 상압에서 진공으로 변하게 될 때 상기 이너 포드(90) 내부의 공기가 외부로 빠져나와 상기 이너 포드(90) 내부가 진공이 되도록 하기 위하여 제공된다. 그러므로, 상기 브레스 홀(86)은 상기 제2 평판부(82)을 관통하는 형상을 갖는다.
상기 파티클 필터(88)는 상기 브레스 홀(86)을 통해 외부로부터 파티클이 유입되지 않도록 하는 역할을 한다.
상기 설명한 것과 같이, 상기 이너 포드(90) 내부에서는 외부 충격 또는 마찰에 의해 파티클이 발생된다. 상기 파티클이 발생되면, 이너 포드(90)에 장착된 레티클(R)에 불량이 발생된다. 노광 공정 중에, 상기 이너 포드(90)는 상압 상태 또는 진공 상태로 계속 변경되고, 상기 진공 상태로 변경될 때 상기 브레스 홀(86)을 통해 공기와 함께 상기 이너 포드(90) 내의 파티클이 외부로 빠져나간다.
본 실시예에서, 상기 브레스 홀(86)은 상기 이너 포드(90) 내에 장착되는 레티클(R)들의 상부면 가장자리 부위에 구비된다. 그러므로, 상기 이너 포드(90) 내부가 진공 환경이 될 때 상기 이너 포드(90) 내부의 파티클들은 상기 이너 포드(90)의 상부면 가장자리에 위치하는 브레스 홀(86)을 통해 외부로 빠져나가게 된다. 그러므로, 상기 이너 포드(90) 내부의 파티클들은 상기 레티클(R)의 하부면 또는 상부면으로 이동하지 않고, 상기 이너 포드(90)의 상부면 가장자리로부터 제거된다. 특히, 상기 이너 포드(90) 내에서 파티클이 빈번하게 발생하는 부위는 레티클(R)이 위치하는 가장자리 부위에 해당된다. 그러므로, 상기 파티클들의 발생 부위와 상기 브레스 홀(86) 간의 거리가 가까워져, 상기 파티클들은 이너 포드(90) 내에서 크게 유동하지 않으면서 외부로 빠져나갈 수 있다.
일반적인 구조의 이너 포드인 경우, 이너 포드 내부의 파티클들은 상기 이너 포드 외부의 환경이 진공으로 변할 때 공기 유동에 의해 레티클의 하부면 중심부로 이동한 이 후에 외부로 빠져나간다. 그러므로, 상기 파티클들이 외부로 빠져나가지 못하고 잔류하는 경우, 상기 파티클들은 상기 레티클의 하부면 중심부를 오염시켜 공정 불량을 유발시킨다.
본 실시예에 의하면, 즉, 상기 이너 포드(90) 내부의 공기의 유동이 상기 레티클 포드의 중심부로 향하는 것이 아니라, 상기 이너 포드(90)의 가장자리부를 향하게 되어 있다. 그러므로, 상기 파티클들이 공기 유동에 따라 유동하면서 레티클(R)의 하부면을 오염시키는 일이 거의 발생하지 않게 된다. 또한, 상기 레티클 포드 내부의 파티클들이 상기 레티클의 포드의 가장자리부를 통해 빠져나가면서 상기 레티클의 측벽에 일부 부착된다 하더라도, 상기 파티클이 이동하는 경로에는 오염에 따른 문제를 일으키는 표면 부위가 없기 때문에 사진 공정에 큰 영향을 미치지는 않는다.
이너 포드(90)를 패키징하는 아우트 포드(10, 12)는 아우트 포드 도어(10) 및 아우트 포드 쉘(12)을 포함한다. 상기 아우트 포드 쉘(12)은 아우트 포드 도어(10)와 결합되도록 구성된다. 또한, 상기 아우트 포드 도어(10)와 아우트 포드 쉘(12)이 결합되었을 때의 내부 공간에 이너 포드(90)가 수납된다. 상기 이너 포드(90)는 상기 아우트 포드(10, 12) 내에 수납된 상태로 청정실 내에 보관 및 이송된다.
실시예 2
도 6은 본 발명의 실시예 2에 따른 레티클 포드에서 이너 포드의 커버부를 나타내는 사시도이다. 도 7은 본 발명의 실시예 2에 따른 레티클 포드에서 홀드다운 핀 부위의 단면도이다.
실시예 2의 레티클 포드는 상기 이너 포드에서 브레스 홀 및 파티클 필터의 위치가 실시예 1의 레티클 포드와 다르다.
본 실시예의 레티클 포드는 이너 포드 및 아우트 포드를 포함한다. 상기 아우트 포드는 실시예 1의 아우트 포드와 동일한 구성을 갖는다.
이너 포드는 베이스 플레이트(50) 및 커버부(80a)를 포함한다. 상기 베이스 플레이트(50)는 실시예 1과 동일한 구성을 갖는다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 커버부(80a)는 복수의 브레스 홀(86a)을 포함하는 제2 평판부(82), 상기 제2 평판부(82)의 표면에 구비되는 홀드다운 핀(84) 및 파티클 필터(88a)를 포함한다. 상기 홀드다운 핀(84)은 실시예 1과 동일하다.
상기 브레스 홀(86a)은 상기 제2 평판부(82)의 측벽에 위치한다. 즉, 상기 브레스 홀(86a)은 상기 이너 포드(90)의 측벽에 위치한다. 또한, 상기 파티클 필터(88a)는 사이 브레스 홀(86a)을 덮도록 상기 이너 포드의 측벽에 위치한다.
상기 브레스 홀(86a)은 상기 제2 평판부(82)의 4개의 측벽에 모두 구비될 수 있다. 이와는 달리, 상기 브레스 홀(86a)은 상기 제2 평판부(82)의 4개의 측벽 중 2개의 측벽에만 서로 대칭되게 구비될 수 있다.
이와같이, 상기 브레스 홀(86a)이 상기 이너 포드의 측벽 부위에 구비되더라도 상기 이너 포드 내부의 공기의 유동이 상기 이너 포드의 중심부로 향하는 것이 아니라, 상기 이너 포드의 가장자리부를 향하게 되어 있다. 그러므로, 상기 파티클들이 공기 유동에 따라 유동하면서 레티클의 하부면을 오염시키는 일이 거의 발생하지 않게 된다. 그러므로, 본 실시예에 따른 레티클 포드를 사용하는 경우, 장착된 레티클에 파티클이 거의 발생되지 않는다.
실시예 3
도 8은 본 발명의 실시예 3에 따른 레티클 포드에서 홀드다운 핀 부위의 단면도이다. 도 9는 본 발명의 실시예 3에 따른 레티클 포드에서 이너 포드의 커버부를 나타내는 평면도이다.
본 실시예의 레티클 포드는 레티클 포드 내부에 레티클을 고정하고 지지하기 위한 추가적인 부재가 포함되는 것을 제외하고는 실시예 1의 레티클 포드와 동일하다.
본 실시예의 레티클 포드는 이너 포드 및 아우트 포드를 포함한다. 상기 아우트 포드는 실시예 1의 아우트 포드와 동일한 구성을 갖는다.
이너 포드는 베이스 플레이트(50) 및 커버부(80b)를 포함한다. 상기 베이스 플레이트(50)는 실시예 1과 동일한 구성을 갖는다.
도 8 및 9를 참조하면, 상기 커버부(80b)는 복수의 브레스 홀(86)을 포함하는 제2 평판부(82), 상기 제2 평판부(82)의 표면에 구비되는 홀드다운 핀(84), 가스 분사 노즐(96) 및 파티클 필터(88)를 포함한다. 상기 브레스 홀(86)을 포함하는 제2 평판부(82), 홀드다운 핀(84) 및 파티클 필터(88)는 실시예 1과 동일한 구성을 갖는다.
상기 홀드다운 핀(84) 형성 부위와 인접하는 상기 제2 평판부(82)에는 가스 분사 노즐(96)이 구비된다. 상기 가스 분사 노즐(96)은 이너 포드의 외부에 위치하는 가스 공급부(도시안함)와 연결되어 있다. 상기 가스 분사 노즐(96)을 통해 가해지는 가스의 예로는 질소를 들 수 있다. 상기 가스 분사 노즐(96)에서 분사구는 상기 레티클 하부면과 대향하는 방향으로 향하도록 배치된다. 즉, 상기 가스 분사 노즐을 통해 분사되는 가스의 방향은 상기 홀드다운 핀(84)이 하강하는 방향과 동일하다.
상기 제2 평판부(82)에서 상기 레티클(R)이 놓여지는 위치의 코너부에 가스 분사 노즐(96)이 구비될 수 있다. 상기 가스 분사 노즐(96)은 코너부 4부분 모두에 위치하거나 또는 상기 코너부 중 적어도 하나에 위치할 수 있다.
상기 가스 분사 노즐(96)에 분사되는 가스를 조절하는 조절 밸브(도시안함)가 구비될 수 있다. 상기 조절 밸브는 상기 가스 분사 노즐(96)을 통해 상기 레티클 포드 내부에서 외부로 공기가 유동하는 것을 억제할 수 있다.
이와같이, 본 실시예의 레티클 포드는 상기 홀드다운 핀에 의해 상기 레티클이 지지될 뿐 아니라, 상기 가스 분사 노즐을 통해 가해지는 가스에 의해 상기 레티클이 지지된다. 그러므로, 상기 홀드다운 핀이 상기 레티클에 가하는 힘이 감소되더라도 상기 가스에 의해 상기 레티클이 안정적으로 지지될 수 있다. 상기 홀드다운 핀이 상기 레티클에 직접 가하는 힘이 감소되므로, 접촉면에 가해지는 스트레스가 감소하게 되고 이로인해 파티클 발생이 감소된다.
본 실시예에 따른 레티클 포드는 안정적으로 레티클을 수납할 뿐 아니라, 레티클 포드 내에 파티클의 발생을 억제시킨다. 이에 더하여, 레티클 포드 내에 발생된 파티클이 레티클 하부면에 재부착되지 않고 브레스 홀을 통해 효과적으로 제거될 수 있다.
상기 설명한 것과 같이, 본 발명에 의하면 파티클 발생을 감소시키는 레티클 포드를 제공할 수 있다. 상리 레티클 포드는 EUV 광을 이용하는 노광 공정에서 레티클을 이송하는 데 사용할 수 있다.
10 : 아우트 포드 도어 12 : 아우트 포드 쉘
50 : 베이스 플레이트 52 : 제1 평판부
54 : 가이드 핀 56 : 지지부
58 : 윈도우 창 80 : 커버부
82 : 제2 평판부 84 : 홀드다운 핀
86 : 브레스 홀 88 : 파티클 필터
90 : 이너 포드 96 : 가스 분사 노즐

Claims (10)

  1. 레티클이 놓여지는 베이스 플레이트 및 상기 베이스 플레이트를 덮고, 상기 레티클의 패턴 형성 영역을 벗어난 외곽 영역과 대향하도록 배치된 복수의 브레스 홀이 형성된 커버부를 포함하는 이너 포드; 및
    상기 이너 포드를 외부에서 패키징하는 아우트 포드를 포함하는 레티클 포드.
  2. 제1항에 있어서, 상기 커버부에는 상기 브레스 홀을 덮는 파티클 필터가 더 포함되는 레티클 포드.
  3. 제1항에 있어서, 상기 브레스 홀은 상기 커버부의 상부면 가장자리에 위치하는 레티클 포드.
  4. 제1항에 있어서, 상기 브레스 홀은 상기 커버부의 측벽에 위치하는 레티클 포드.
  5. 제1항에 있어서, 상기 복수의 브레스 홀은 상기 레티클을 기준으로 서로 대칭되도록 위치하는 레티클 포드.
  6. 제1항에 있어서, 상기 커버부는,
    레티클의 하부면과 대향하고, 상기 베이스 플레이트와 결합하여 고정되는 평판부; 및
    상기 평판부 표면에 구비되고, 상기 레티클을 고정시키는 홀드다운 핀을 포함하는 레티클 포드.
  7. 제6항에 있어서, 상기 평판부에는 상기 브레스 홀이 포함되는 레티클 포드.
  8. 제6항에 있어서, 상기 평판부에 상기 레티클 하부면으로 향하는 복수의 가스 분사 노즐이 구비되는 레티클 포드.
  9. 제8항에 있어서, 상기 가스 분사 노즐의 분사구는 상기 레티클의 패턴 형성 영역을 벗어난 외곽 영역과 대향하도록 배치되는 레티클 포드.
  10. 제7항에 있어서, 상기 가스 분사 노즐에는 가스 조절을 위한 밸브가 구비는 레티클 포드.
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KR20210132577A (ko) * 2020-04-24 2021-11-04 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 극자외선 레티클 포드
KR20230000650A (ko) * 2021-06-25 2023-01-03 (주)이엠씨 대전 방지 소재로 형성되는 필터 모듈을 갖는 웨이퍼 캐리어용 고정 리브
KR20230000651A (ko) * 2021-06-25 2023-01-03 (주)이엠씨 대전 방지용 필터 모듈을 구비하는 웨이퍼 캐리어용 고정 리브
KR20230000652A (ko) * 2021-06-25 2023-01-03 (주)이엠씨 정전 방지 소재로 형성되는 필터 모듈을 구비하는 웨이퍼 캐리어용 고정 리브

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