JPH11204617A - 基板検出装置および基板搬入搬出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成でありながら基板を確実に検出す
ることが可能であり、また、基板搬送カセットを遮蔽容
器内に収納した場合においても基板を検出することが可
能な基板検出装置および基板搬入搬出装置を提供するこ
とを目的とする。 【解決手段】 基板検出装置５は、遮蔽容器４内に配置
された基板搬送カセット１内の基板Ｗの収納状態を検出
するためのものであり、複数の反射型センサ６ａ、６
ｂ、６ｃと、これらの反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃを
支持するセンサ支持板７と、このセンサ支持板７を基板
搬送カセット１に対して昇降させるためのパンタグラフ
リンク形式の昇降機構８とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、複数枚の基板を
収納する基板搬送カセット内の基板の収納状態を検出す
るための基板検出装置およびこの基板検出装置を利用し
た基板搬入搬出装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス
基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に対
して各種の処理を施す基板処理装置においては、複数の
基板を収納する基板搬送カセットから処理すべき基板を
搬出し、また、処理の終了した基板を基板搬送カセット
内の所定の位置に搬入する基板搬入搬出装置が使用され
ている。そして、このような基板搬入搬出装置は、基板
搬送カセット内における基板の収納状態を検出するため
の基板検出装置を備えている。

【０００３】従来、このような基板検出装置としては、
基板搬送カセットの正面側と背面側に各々投光部と受光
部とを個別に配設した透過型のセンサを利用し、この透
過型センサの投光部と受光部とを基板搬送カセットに対
して同期して昇降させ、投光部から照射された光が基板
により遮断されることを利用して基板の有無を判断する
ことにより、基板搬送カセット内の基板の収納状態を検
出する構成のものが使用されている。

【０００４】あるいは、基板搬送カセットの基板収容可
能数に対応した受光部と投光部とを有する複数の透過型
センサを一体化したものを、複数の基板を収納した基板
搬送カセット内のそれぞれの基板の間に挿入して、投光
部と受光部とで上下に基板を挟み込むことにより、カセ
ット内における基板の収納状態を一括して検出ための櫛
歯型センサと呼ばれる透過型センサもある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような透過型のセ
ンサを利用した基板検出装置を使用した場合において
は、次のような問題点が発生する。

【０００６】すなわち、前者のような透過型のセンサを
利用した基板検出装置においては、基板搬送カセットの
正面側と背面側とに個別に配設された投光部と受光部と
を同期して昇降させる必要があることから、その昇降機
構が大型化、複雑化し、また、調整に時間を要するとい
う問題を生ずる。

【０００７】また、後者のような櫛歯型の透過型センサ
の場合は、基板搬送カセット内にセンサを挿入するた
め、誤動作によってセンサが基板と干渉するおそれがあ
る。また、センサの投光部と受光部それぞれを、基板搬
送カセットの溝の数以上の個数必要とするために、セン
サが大型化するという問題を生ずる。

【０００８】また、近年、基板を基板搬送カセットに収
納して搬送する際の基板へのパーティクルの付着を防止
するため、基板を収納した状態の基板搬送カセット自体
を遮蔽容器内に収納し、基板搬入搬出装置まで搬送する
ことが行われている。この場合、その一辺に開口部を有
する遮蔽箱体とこの遮蔽箱体の開口部を覆う蓋体とを有
する遮蔽容器内に複数枚の基板を収納した基板搬送カセ
ットを収納した状態で基板搬入搬出装置まで搬送する。

【０００９】そして、基板搬入搬出装置において、基板
搬送カセットからの基板の搬出時及び基板搬送カセット
への基板の搬入時には遮蔽容器の蓋体を開放し、基板の
搬入、搬出を行う。

【００１０】ところで、基板搬送カセットをこのような
遮蔽容器内に収納した状態で基板搬送カセット内の基板
の有無を検出する場合においては、遮蔽容器の蓋体を開
放した場合においても遮蔽箱体はその一辺にのみ開口部
を有する構成であることから、上述した透過型のセンサ
を利用した基板検出装置を利用しても基板を検出するこ
とができないという問題を生ずる。

【００１１】このような透過型のセンサを利用した基板
検出装置を使用した場合の問題点を解消するため、透過
型のセンサに換えて、光を照射する投光部とこの投光部
から照射され基板搬送カセット内に収納された基板によ
り反射された光を受光する受光部とを有する反射型セン
サを使用することも考えられる。

【００１２】しかしながら、以下の理由により、反射型
センサは透過型センサに比べて検出精度が低いという欠
点がある。

【００１３】すなわち、基板の表面に成膜される膜種に
よって特定の波長の光を吸収する場合があり、このよう
な場合においては投光部から照射された光を受光部にお
いて受光することができず、基板を検出することが不可
能となる。また、反射型センサと基板との間の距離がセ
ンサ毎に異なる所定の固有値となった場合においては、
投光部から照射され基板の端面で反射された光が受光部
に入射せず、基板を検出することが不可能となる場合が
ある。さらに、基板が半導体ウエハである場合、投光部
から半導体ウエハに形成されたオリエンテーションフラ
ットやノッチ部に対して光が照射された場合において
は、投光部から照射され基板で反射された光が受光部に
入射せず、基板を検出することが不可能となる。

【００１４】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、簡易な構成でありながら基板を確実に
検出することが可能であり、また、基板搬送カセットを
遮蔽容器内に収納した場合においても基板を検出するこ
とが可能な基板検出装置および基板搬入搬出装置を提供
することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、複数枚の基板を収納可能な基板搬送カセット内の基
板の収納状態を検出する基板検出装置であって、光を照
射する投光部と前記投光部から照射され前記基板搬送カ
セット内に収納された基板により反射された光を受光す
る受光部とを各々有する複数の反射型センサと、前記複
数の反射型センサを支持するセンサ支持手段と、前記セ
ンサ支持手段を前記基板搬送カセットに対して相対的に
昇降させる昇降手段とを備えたことを特徴とする。

【００１６】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記複数の反射型センサは、前記投光
部より照射される光の波長が互いに異なっている。

【００１７】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記複数の反射型センサは、前記基板
搬送カセット内に収納された基板との距離が互いに異な
る位置に配設されている。

【００１８】請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請
求項３いずれかに記載の発明において、前記基板搬送カ
セットの周囲には、その一辺に開口部を有する遮蔽箱体
とこの遮蔽箱体の開口部を覆う蓋体とを有し、前記基板
搬送カセットを外部から遮蔽した状態で収納可能な遮蔽
容器が配設されている。

【００１９】請求項５に記載の発明は、複数枚の基板を
収納可能な基板搬送カセットを外部から遮蔽した状態で
収納するための、その一辺に開口部を有する遮蔽箱体と
この遮蔽箱体の開口部を覆う蓋体とから成る遮蔽容器を
載置するための載置台と、前記遮蔽容器における蓋体を
開放するための蓋体開放手段と、前記基板搬送カセット
から基板を搬出し、または、前記基板搬送カセット内に
基板を搬入する基板搬送手段と、光を照射する投光部と
前記投光部から照射され前記基板搬送カセット内に収納
された基板により反射された光を受光する受光部とを各
々有する複数の反射型センサと、前記複数の反射型セン
サを支持するセンサ支持手段と、前記センサ支持手段を
前記基板搬送カセットに対して相対的に昇降させる昇降
手段とを備えたことを特徴とする。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。先ず、この発明に係る基板搬入
搬出装置２を使用する基板処理装置の構成について説明
する。図１はこの発明に係る基板搬入搬出装置２を適用
した基板処理装置の平面概要図である。

【００２１】この基板処理装置は、基板としての半導体
ウエハ（以下、単に「基板」という）に各種の処理を施
すためのものであり、この発明に係る基板搬入搬出装置
２と、複数の処理ユニット１２と、基板を基板搬入搬出
装置２と各処理ユニット１２との間で搬送する基板搬送
機構１３とを備える。

【００２２】後述する遮蔽容器４内に収納された状態
で、前段の処理工程から基板搬入搬出装置２の基板載置
部１８に搬送された基板搬送カセット１内の基板は、基
板搬入搬出装置２における基板搬送機構１４の搬送アー
ム１５により基板搬送カセット１から１枚ずつ取り出さ
れ、基板支持ピンを備えた基板支持台１６上に載置され
る。そして、基板支持台１６上に載置された基板は、
Ｘ、Ｙ、θ方向に移動する基板搬送機構１３の搬送アー
ム１７により各処理ユニット１２に順次搬送され、各種
の処理が施される。各処理ユニット１２において処理が
完了した基板は、基板搬送機構１３の搬送アーム１７に
より再度基板支持台１６上に載置された後、基板搬入搬
出装置２における基板搬送機構１４の搬送アーム１５に
より基板搬送カセット１内に収納される。

【００２３】図２は上述した基板搬入搬出装置２の平面
図であり、図３は基板搬入搬出装置２の縦断面図であ
る。また、図４は基板搬入装置２の要部を示す斜視図で
ある。なお、図２および図３においては、上述した基板
支持台１６の図示を省略している。

【００２４】この基板搬入搬出装置２は、遮蔽箱体２１
と蓋体２２とから構成され基板搬送カセット１を遮蔽状
態で収納する遮蔽容器４を利用して、この遮蔽容器４内
に外部雰囲気から遮蔽した状態で収納された基板搬送カ
セット１から基板Ｗを搬出し、また、この基板搬送カセ
ット１内に基板Ｗを搬入するものであり、遮蔽容器４を
載置するための複数の載置部１８を有する載置台１９
と、上述した基板搬送アーム１５を有する基板搬送機構
１４と、この発明に係る基板検出装置５と、基板搬入搬
出装置２の外壁２３に形成された開口部２４をシャッタ
ー２５により開閉するとともに遮蔽容器４の蓋体２２を
開閉するためのシャッター機構１１とを備える。

【００２５】なお、上述したように、基板搬送カセット
１を遮蔽箱体２１と蓋体２２とから構成される遮蔽容器
４内に収納するとともに、基板搬送カセット１と基板搬
入搬出装置２との間で基板Ｗを受け渡しする際に、基板
搬入搬出装置２の外壁２３に形成された開口部２４を覆
う遮蔽容器４の蓋体２２をシャッター２５によって開放
する構成とした場合においては、遮蔽容器４の内部と基
板搬入搬出装置２の内部とを清浄な状態に維持するのみ
で、基板Ｗにパーティクルが付着することを確実に防止
することができる。このため、基板処理装置が設置され
るクリーンルーム全体の清浄度を高めることなく、基板
Ｗをより清浄な状態で処理することが可能となる。

【００２６】前記載置台１９における載置部１８は、基
板搬入搬出装置２の外壁２３に形成された開口部２４と
対応する位置に列設されている。そして、この載置部１
８には、基板搬送カセット１を収納した遮蔽容器４が載
置されたことを検出するための図示しないセンサが配設
されている。

【００２７】なお、遮蔽容器４内に収納される基板搬送
カセット１は、図１０にその平面図を、また、図１１に
その正面図を示すように、その内部に基板Ｗを支持する
ための多段の溝が形成されているとともに、その正面に
基板Ｗを通過させるための開口部が形成されている。

【００２８】前記基板搬送機構１４は、基板Ｗをその下
面より支持するための前述した搬送アーム１５を有す
る。この搬送アーム１５は無端ベルト３１を内蔵した支
持台３２に連結されており、無端ベルト３１の駆動によ
り図２および図３に示すＸ方向に往復移動する。また、
支持台３２はボールネジ３３を内蔵した基台３４に連結
されており、ボールネジ３３の駆動により図３に示すＺ
方向に往復移動する。さらに、基台３４は基板搬入搬出
装置２に固定されたボールネジ３５およびガイド部材３
６に連結されており、ボールネジ３５の駆動により図２
に示すＹ方向に往復移動する。

【００２９】このため、この基板搬送機構１４において
は、搬送アーム１５をＸ、Ｙ、Ｚ方向に移動させて基板
搬送カセット１内の基板と対向する位置に移動させ、こ
の搬送アーム１５を基板搬送カセット１内に進入させて
微少距離だけ昇降させた後、基板搬送カセット１内より
退避させることにより、基板Ｗを基板搬送カセット１か
ら搬出し、あるいは、基板搬送カセット１内に搬入する
ことが可能となる。

【００３０】前記基板検出装置５は、遮蔽容器４内に配
置された基板搬送カセット１内の基板Ｗの収納状態を検
出するためのものであり、複数の反射型センサ６ａ、６
ｂ、６ｃ（これらを総称する場合には「反射型センサ
６」という）と、これらの反射型センサ６を支持するセ
ンサ支持板７と、このセンサ支持板７を基板搬送カセッ
ト１に対して昇降させるためのパンタグラフリンク形式
の昇降機構８とを有する。

【００３１】なお、これらの反射型センサ６、センサ支
持板７および昇降機構８よりなる基板検出装置５は、上
述した載置部１８に対応させて、４個配設されている。
但し、この基板検出装置５を図２におけるＹ方向に走行
可能な構成とすることにより、単一の基板検出装置５に
より複数の基板搬送カセット１内の基板Ｗを検出する構
成とすることも可能である。

【００３２】図６は、複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、
６ｃおよびセンサ支持板７と基板搬送カセット１に収納
された基板Ｗとの平面的な配置関係を示す説明図であ
る。

【００３３】複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃは、
光を照射する投光部とこの投光部から照射され基板搬送
カセット１内に収納された基板Ｗにより反射された光を
受光する受光部とを各々有するものである。これらの反
射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃは、図６において一点鎖線
で示すように、その投光部から基板搬送カセット１に収
納された基板Ｗの外周に向けて光を照射し得る配置でセ
ンサ支持板７上に固定されている。

【００３４】これらの反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃと
しては、その投光部から照射される光の波長が各々異な
るものが採用されている。このため、後述するように、
基板Ｗの表面に形成される膜種にかかわらず、基板Ｗを
確実に検出することが可能となる。

【００３５】なお、図６に示す符号３７は、基板Ｗの端
縁に形成されたノッチ部を示している。

【００３６】図３に示すように、複数の反射型センサ６
ａ、６ｂ、６ｃを支持する支持板７は、支持アーム３８
およびパンタグラフリンク形式の昇降機構８を介して、
基板搬入搬出装置２の外壁２３に立設された支持架３９
と連結されている。このため、複数の反射型センサ６
ａ、６ｂ、６ｃを支持する支持板７は、パンタグラフリ
ンク形式の昇降機構８の駆動により、図３に示す上昇位
置と図５に示す下降位置との間を昇降可能となってい
る。そして、複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃは、
後述するように、この支持板７の昇降動作時に基板搬送
カセット１内に収納された基板Ｗを検出する。なお、パ
ンタグラフリンク形式の昇降機構８はカバー４７によっ
て覆われている。

【００３７】前記シャッター機構１１は、基板搬入搬出
装置２の外壁２３に形成された開口部２４をシャッター
２５により開閉するとともに遮蔽容器４の蓋体２２を開
閉するためのものである。

【００３８】このシャッター機構１１におけるシャッタ
ー２５は、基板搬入搬出装置２の外壁２３に形成された
開口部２４に対して気密状態で係合可能となっている。
このシャッター２５は無端ベルト４１を内蔵した支持台
４２に連結されており、無端ベルト４１の駆動により図
３に示すＺ方向に往復移動する。また、支持台４２は無
端ベルト４３に連結されており、この無端ベルト４３の
駆動により図３に示すＸ方向に往復移動する。このた
め、このシャッター２５は、図３に示す基板搬入搬出装
置２の外壁２３に形成された開口部２４を気密状態で閉
鎖する閉鎖位置から、図５に示す待機位置まで、図５に
おいて一点鎖線で示す経路に沿って下降する。

【００３９】このシャッター２５内には、遮蔽容器４に
おける遮蔽箱体２１と蓋体２２とのロック機構を解除す
るための図示しないロック解除機構と、ロック解除後に
蓋体２２を保持するための図示しない保持機構とが内蔵
されている。このため、遮蔽容器４の蓋体２２は、上述
したシャッター２５の閉鎖位置から待機位置への移動に
伴い、図３に示す遮蔽箱体２１前面の開口部を覆う位置
から、図５に示す位置までシャッター２５とともに移動
する。

【００４０】この基板搬入搬出装置２は、上述した複数
の処理ユニット１２および基板搬送機構１３と気密状態
で接続されている。また、基板搬入搬出装置２の基板搬
送機構１４、基板検出装置５およびシャッター機構１１
は、外壁２３により外部から遮断されている。このた
め、基板搬入搬出装置２の内部は、清浄な状態に保たれ
ている。なお、基板搬入搬出装置２における基板搬送機
構１４、基板検出装置５およびシャッター機構１１の上
方には、清浄なダウンフローを形成するためのファン４
４およびフィルター４５が配設されている。

【００４１】次に、上述した基板搬入搬出装置２の基板
検出装置５による基板Ｗの検出動作について説明する。

【００４２】基板搬送カセット１を収納した遮蔽容器４
が載置台１９における載置部１８に載置されていない状
態においては、基板搬入搬出装置２の外壁２３に形成さ
れた開口部２４はシャッター２５により閉鎖されてい
る。そして、基板搬送カセット１を収納した遮蔽容器４
が載置部１８上に載置されたことを図示しないセンサが
検出すれば、シャッター２５により遮蔽容器４における
遮蔽箱体２１と蓋体２２とのロック機構を解除するとと
もに、ロック解除後の蓋体２２を保持する。そして、無
端ベルト４１および４３の駆動により、シャッター２５
を遮蔽容器４の蓋体２２とともに、図５に示す待機位置
まで下降させる。

【００４３】これにより、遮蔽容器４の前面に形成され
た開口部が開放される。この状態において、基板検出装
置５の反射型センサ６により、基板搬送カセット１内の
基板Ｗの収納状態を検出する。

【００４４】すなわち、図３に示す上昇位置に配置され
たセンサ支持板７を、パンタグラフリンク形式の昇降機
構８の駆動により、反射型センサ６とともに図５に示す
下降位置まで下降させた後、再度、図３に示す上昇位置
まで上昇させる。そして、このセンサ支持板７の下降時
に、複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃにより基板搬
送カセット１内の基板Ｗの収納状態を検出する。

【００４５】より具体的には、３個の反射型センサ６
ａ、６ｂ、６ｃのうち、少なくとも２個の反射型センサ
６が基板Ｗを検出した場合に基板Ｗが存在するものと判
定し、この判定結果に基づいて基板搬送カセット１の多
段の溝に支持された複数の基板Ｗの収納状態を検出す
る。

【００４６】このとき、上述したように、反射型センサ
６ａ、６ｂ、６ｃとしてその投光部から照射される光の
波長が各々異なるものが採用されていることから、基板
Ｗの表面に形成される膜種により反射型センサ６ａ、６
ｂ、６ｃのうちのいずれか１個の反射型センサ６が基板
Ｗの検出を行えなかった場合においても、他の２個の反
射型センサ６により基板Ｗを検出することが可能とな
る。また、複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃにより
基板Ｗを検出する構成であることから、いずれかの反射
型センサ６から照射された光が基板Ｗのノッチ部３７に
照射されて散乱光となった場合においても、他の２個の
反射型センサ６により基板Ｗを検出することが可能とな
る。

【００４７】なお、３個の反射型センサ６ａ、６ｂ、６
ｃのうち、少なくとも２個の反射型センサ６が基板Ｗを
検出した場合に基板Ｗが存在するものと判定するかわり
に、３個の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃのうちの少な
くとも１個の反射型センサ６が基板Ｗを検出した場合に
基板Ｗが存在するものと判定するようにしてもよい。

【００４８】また、センサ支持板７の下降時に反射型セ
ンサ６により基板搬送カセット１内の基板Ｗの収納状態
を検出するかわりに、センサ支持板７の上昇時に反射型
センサ６により基板搬送カセット１内の基板Ｗの収納状
態を検出してもよく、センサ支持板７の上昇時と下降時
との両方で反射型センサ６により基板搬送カセット１内
の基板Ｗの収納状態を検出するようにしてもよい。

【００４９】３個の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃを使
用しての基板検出装置５による基板Ｗの検出動作が終了
すれば、基板搬送機構１４の搬送アーム１５を基板Ｗが
収納されていることが検出された位置に移動させ、順次
基板Ｗを基板搬送カセット１から１枚ずつ取り出し、基
板支持台１６および基板搬送機構１３を介して各処理ユ
ニット１２に順次搬送することにより、この基板Ｗに対
して各種の処理を施す。

【００５０】そして、処理の終了した基板Ｗは、基板搬
送機構１４の基板搬送アーム１５により基板搬送カセッ
ト１に収納される。基板搬送カセット１に必要な基板Ｗ
が収納されれば、シャッター２５を遮蔽容器４の蓋体２
２とともに、図３に示す閉鎖位置まで上昇させる。そし
て、遮蔽容器４における遮蔽箱体２１と蓋体２２とをロ
ックするとともに、シャッター２５による蓋体２２の保
持状態を解除する。しかる後、基板搬送カセット１を収
納した遮蔽容器４を載置台１９における載置部１８から
後工程に搬送する。このとき、基板搬入搬出装置２の外
壁２３に形成された開口部２４はシャッター２５により
閉鎖されている。

【００５１】なお、上述した実施の形態においては、図
６に示すように、各反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃと基
板搬送カセット１に収納された基板Ｗとの距離がほぼ等
しくなる状態で各反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃを配置
している。しかしながら、反射型センサ６と基板Ｗとの
間の距離がセンサ毎に異なる所定の固有値となることに
より投光部から照射された光が受光部に入射せず、基板
Ｗを検出することが不可能となる現象に確実に対応する
ため、例えば図７に示すように、各反射型センサ６ａ、
６ｂ、６ｃと基板搬送カセット１に収納された基板Ｗと
の距離が互いに大きく異なる位置に各反射型センサ６
ａ、６ｂ、６ｃを配置するようにしてもよい。

【００５２】次に、この発明の他の実施形態について説
明する。図８はこの発明の第２実施形態に係る基板搬入
搬出装置２の縦断面図である。なお、図３等に示す第１
実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して
詳細な説明を省略する。

【００５３】上述した第１実施形態に係る基板搬入搬出
装置２においては、複数の反射型センサ６を支持する支
持板７をパンタグラフリンク形式の昇降機構８の駆動に
より昇降させ、この支持板７の昇降動作時に、反射型セ
ンサ６により基板搬送カセット１内に収納された基板Ｗ
を検出する構成となっている。一方、この第２実施形態
に係る基板搬入搬出装置２においては、基板Ｗを収納し
た基板搬送カセット１を複数の反射型センサ６を支持す
る支持板７に対して昇降させ、この基板搬送カセット１
の昇降動作時に、反射型センサ６により基板搬送カセッ
ト１内に収納された基板Ｗを検出する構成となってい
る。

【００５４】すなわち、この第２実施形態に係る遮蔽容
器４は、その下面に開口部を有する遮蔽箱体５１と、こ
の遮蔽箱体５１の下面の開口部を覆う蓋体５２とから構
成されている。また、この遮蔽容器４を載置するための
載置台１９には、この載置台１９に形成された開口部を
遮蔽するためのシャッター５３が配設されており、この
シャッター５３は、シャッター５３と連結した無端ベル
ト５４の駆動により、基板搬送カセット１を載置した状
態で昇降可能となっている。一方、この第２実施形態に
おいては、複数の反射型センサ６を支持する支持板７
は、支持アーム３８を介して基板搬入搬出装置２の外壁
２３に連結されている。

【００５５】次に、第２実施形態に係る基板搬入搬出装
置２の基板検出装置５による基板Ｗの検出動作について
説明する。

【００５６】基板搬送カセット１を収納した遮蔽容器４
が載置台１９に載置されていない状態においては、基板
搬入搬出装置２の載置台１９に形成された開口部はシャ
ッター５３により閉鎖されている。

【００５７】基板搬送カセット１を収納した遮蔽容器４
がシャッター５３上に載置されれば、シャッター５３に
より遮蔽容器４における遮蔽箱体５１と蓋体５２とのロ
ック機構を解除する。そして、無端ベルト５４の駆動に
より、シャッター５３を遮蔽容器４の蓋体５２およびそ
こに載置された基板搬送カセット１とともに、図８にお
いて二点鎖線で示す位置まで下降させる。この基板搬送
カセット１の下降時に、複数の反射型センサ６ａ、６
ｂ、６ｃにより基板搬送カセット１内の基板Ｗの収納状
態を検出する。

【００５８】この場合においては、上述した第１実施形
態の場合と同様、３個の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃ
のうち、少なくとも２個の反射型センサ６が基板Ｗを検
出した場合に基板Ｗが存在するものと判定し、この判定
結果に基づいて基板搬送カセット１の多段の溝に支持さ
れた複数の基板Ｗの収納状態を検出する。このため、反
射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃのうちのいずれか１個の反
射型センサ６が基板Ｗの検出を行えなかった場合におい
ても、他の２個の反射型センサ６により基板Ｗを検出す
ることが可能となる。

【００５９】３個の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃを使
用しての基板検出装置５による基板Ｗの検出動作が終了
すれば、第１実施形態の場合と同様、基板搬送機構１４
の搬送アーム１５により基板Ｗを基板搬送カセット１か
ら１枚ずつ取り出し、基板支持台１６および基板搬送機
構１３を介して各処理ユニット１２に順次搬送すること
により、この基板Ｗに対して各種の処理を施す。

【００６０】そして、処理の終了した基板Ｗは、基板搬
送機構１４の基板搬送アーム１５により基板搬送カセッ
ト１に収納される。基板搬送カセット１に必要な基板Ｗ
が収納されれば、シャッター５３を遮蔽容器４の蓋体５
２および基板搬送カセット１とともに上昇させる。そし
て、遮蔽容器４における遮蔽箱体５１と蓋体５２とをロ
ックする。しかる後、基板搬送カセット１を収納した遮
蔽容器４を載置台１９から後工程に搬送する。このと
き、載置台１９に形成された開口部はシャッター５３に
より閉鎖されている。

【００６１】次に、この発明のさらに他の実施形態につ
いて説明する。図９はこの発明の第３実施形態に係る基
板搬入搬出装置２の縦断面図である。なお、図３等に示
す第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を
付して詳細な説明を省略する。

【００６２】前述した第１実施形態に係る基板搬入搬出
装置２においては、複数の基板を収納する基板搬送カセ
ット１を遮蔽箱体２１と蓋体２２とから構成される遮蔽
容器４内に収納しているのに対し、この第３実施形態に
係る基板搬入搬出装置２は、基板搬送カセット１を遮蔽
容器４内に収納しない点のみが前述した第１実施形態と
は異なる。

【００６３】この第３実施形態に係る基板搬入搬出装置
２においても、上述した第１実施形態の場合と同様、３
個の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃのうち、少なくとも
２個の反射型センサ６が基板Ｗを検出した場合に基板Ｗ
が存在するものと判定し、この判定結果に基づいて基板
搬送カセット１の多段の溝に支持された複数の基板Ｗの
収納状態を検出することにより、反射型センサ６ａ、６
ｂ、６ｃのうちのいずれか１個の反射型センサ６が基板
Ｗの検出を行えなかった場合においても、他の２個の反
射型センサ６により基板Ｗを検出することが可能とな
る。

【００６４】なお、上述した第１、第２、第３実施形態
においては、いずれも、３個の反射型センサ６ａ、６
ｂ、６ｃを利用して基板Ｗを検出する場合について説明
したが、この反射型センサの数は少なくとも２個であれ
ばよい。

【００６５】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、光を照
射する投光部と投光部から照射され基板搬送カセット内
に収納された基板により反射された光を受光する受光部
とを各々有する反射型センサを基板搬送カセットに対し
て相対的に昇降させて基板搬送カセット内の基板の収納
状態を検出することから、透過型のセンサを使用した場
合のように、投光部と受光部とを同期して昇降させる必
要がなく装置を簡易化することができ、また、遮蔽容器
内に収納された基板搬送カセット内の基板をも検出する
ことが可能となる。また、複数の反射型センサを利用し
て基板を検出することから、基板の種類等にかかわらず
基板を確実に検出することが可能となる。

【００６６】また、基板搬送カセットの外側から反射型
センサによって基板搬送カセット内の基板の収納状態を
検出するため、センサと基板とが干渉することなく基板
の検出をすることが可能である。そして、センサを昇降
させるので、基板の枚数と同数の投光部、受光部を備え
る必要はないためにセンサを小型化させることが可能で
ある。

【００６７】請求項２に記載の発明によれば、複数の反
射型センサの投光部より照射される光の波長が互いに異
なることから、基板の表面に成膜される膜種にかかわら
ず、基板を確実に検出することが可能となる。

【００６８】請求項３に記載の発明によれば、複数の反
射型センサは基板搬送カセット内に収納された基板との
距離が互いに異なる位置に配設されていることから、基
板と反射型センサとの距離にかかわらず、基板を確実に
検出することが可能となる。

【００６９】請求項４に記載の発明によれば、基板搬送
カセットの周囲に、その一辺に開口部を有する遮蔽箱体
とこの遮蔽箱体の開口部を覆う蓋体とを有し基板搬送カ
セットを外部から遮蔽した状態で収納可能な遮蔽容器が
配設されていることから、遮蔽容器により基板を清浄な
状態に維持して基板にパーティクルが付着することを確
実に防止する方式において、遮蔽容器の開口部を利用し
て基板を検出することが可能となる。

【００７０】請求項５に記載の発明によれば、光を照射
する投光部と投光部から照射され基板搬送カセット内に
収納された基板により反射された光を受光する受光部と
を各々有する反射型センサを基板搬送カセットに対して
相対的に昇降させて基板搬送カセット内の基板の収納状
態を検出することから、透過型のセンサを使用した場合
のように、投光部と受光部とを同期して昇降させる必要
がなく装置を簡易化することができ、また、遮蔽容器内
に収納された基板搬送カセット内の基板をも検出するこ
とが可能となる。また、複数の反射型センサを利用して
基板を検出することから、基板の種類等にかかわらず基
板を確実に検出することが可能となる。

【００７１】また、その一辺に開口部を有する遮蔽箱体
とこの遮蔽箱体の開口部を覆う蓋体とを有し基板搬送カ
セットを外部から遮蔽した状態で収納可能な遮蔽容器を
使用することから、遮蔽容器により基板を清浄な状態に
維持して基板にパーティクルが付着することを確実に防
止する方式において、遮蔽容器の開口部を利用して基板
を検出することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る基板搬入搬出装置２を適用した
基板処理装置の平面概要図である。

【図２】基板搬入搬出装置２の平面図である。

【図３】基板搬入搬出装置２の縦断面図である。

【図４】基板搬入装置２の要部を示す斜視図である。

【図５】基板搬入搬出装置２の縦断面図である。

【図６】複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃおよびセ
ンサ支持板７と基板搬送カセット１に収納された基板Ｗ
との平面的な配置関係を示す説明図である。

【図７】複数の反射型センサ６ａ、６ｂ、６ｃおよびセ
ンサ支持板７と基板搬送カセット１に収納された基板Ｗ
との平面的な配置関係を示す説明図である。

【図８】他の実施形態に係る基板搬入搬出装置２の縦断
面図である。

【図９】他の実施形態に係る基板搬入搬出装置２の縦断
面図である。

【図１０】基板搬送カセット１の平面図である。

【図１１】基板搬送カセット１の正面図である。

【符号の説明】

１ 基板搬送カセット ２ 基板搬入搬出装置 ４ 遮蔽容器 ５ 基板検出装置 ６ 反射型センサ ７ センサ支持板 ８ 昇降機構 １１ シャッター機構 １４ 基板搬送機構 １５ 基板搬送アーム １９ 載置台 ２１ 遮蔽箱体 ２２ 蓋体 ２３ 外壁 ２４ 開口部 ２５ シャッター ３７ ノッチ部 Ｗ 基板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の基板を収納可能な基板搬送カセ
   ット内の基板の収納状態を検出する基板検出装置であっ
   て、 光を照射する投光部と前記投光部から照射され前記基板
   搬送カセット内に収納された基板により反射された光を
   受光する受光部とを各々有する複数の反射型センサと、 前記複数の反射型センサを支持するセンサ支持手段と、 前記センサ支持手段を前記基板搬送カセットに対して相
   対的に昇降させる昇降手段と、 を備えたことを特徴とする基板検出装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板検出装置におい
   て、 前記複数の反射型センサは、前記投光部より照射される
   光の波長が互いに異なる基板検出装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板検出装置におい
   て、 前記複数の反射型センサは、前記基板搬送カセット内に
   収納された基板との距離が互いに異なる位置に配設され
   た基板検出装置。
4. 【請求項４】 請求項１乃至請求項３いずれかに記載の
   基板検出装置において、 前記基板搬送カセットの周囲には、その一辺に開口部を
   有する遮蔽箱体とこの遮蔽箱体の開口部を覆う蓋体とを
   有し、前記基板搬送カセットを外部から遮蔽した状態で
   収納可能な遮蔽容器が配設されている基板検出装置。
5. 【請求項５】 複数枚の基板を収納可能な基板搬送カセ
   ットを外部から遮蔽した状態で収納するための、その一
   辺に開口部を有する遮蔽箱体とこの遮蔽箱体の開口部を
   覆う蓋体とから成る遮蔽容器を載置するための載置台
   と、 前記遮蔽容器における蓋体を開放するための蓋体開放手
   段と、 前記基板搬送カセットから基板を搬出し、または、前記
   基板搬送カセット内に基板を搬入する基板搬送手段と、 光を照射する投光部と前記投光部から照射され前記基板
   搬送カセット内に収納された基板により反射された光を
   受光する受光部とを各々有する複数の反射型センサと、 前記複数の反射型センサを支持するセンサ支持手段と、 前記センサ支持手段を前記基板搬送カセットに対して相
   対的に昇降させる昇降手段と、 を備えたことを特徴とする基板搬入搬出装置。