JPH1154400A

JPH1154400A - 荷電ビーム描画装置及び方法

Info

Publication number: JPH1154400A
Application number: JP9205834A
Authority: JP
Inventors: Toru Tojo; 徹東條; Ryoichi Hirano; 亮一平野; Hidesuke Yoshitake; 秀介吉武
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1997-07-31
Filing date: 1997-07-31
Publication date: 1999-02-26
Anticipated expiration: 2017-07-31
Also published as: JP3455072B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、試料をゴミの付着等の汚染から高精
度で守ることのできる荷電ビーム描画装置を提供するこ
とを目的としている。【解決手段】本発明は、予備室２０内に試料６０を置
き、予備室内のガスを排気して真空状態にした後に、隔
壁バルブ９０を開放して予備室と、内部が真空状態に保
たれているワーキングチャンバー８０とを繋げて、試料
を予備室からワーキングチャンバー内の作業台上に試料
を搬送し、ワーキングチャンバー内で試料上に荷電ビー
ムでパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、
試料を収納可能で、一部分に通気口５４が開けられた開
閉自在のクリーンフィルターポッド５０と、試料を収納
した状態で予備室内に配置されたクリーンフィルターポ
ッドを予備室内の真空状態を維持したままで開閉するた
めの機構とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
試料上にイオンや電子等の荷電ビームでパターンを描画
する荷電ビーム描画装置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＬＳＩの高集積化に伴い半導体デ
バイスに要求される回路線幅は、ますます狭くなってき
ている。このような細く微細な回路パターンをウエアに
形成する方法としては、次の２種類に大きく分けられ
る。第１の方法は、従来所望の回路パターンが形成され
た数十種類の原画パターン（レチクルあるいはマスク）
を、ウエハ上の露光領域に高精度に位置合わせした後、
パターンをウエハに転写する方法であり、もう１つの方
法は、イオンや電子の荷電ビームを使って、ウエハにパ
ターンを直接的に描画する方法である。

【０００３】このような作業を行うマスク用電子ビーム
描画装置や電子ビーム直接描画装置などでは、試料を加
工するワークショップ（作業場）をワーキングチャンバ
ー内に設け、このワーキングチャンバー内を真空状態に
保っておく必要がある。ここで、試料を交換するたび
に、比較的容積の大きなワーキングチャンバー内を真空
状態に復帰させるのは非常に効率が悪いので、ワーキン
グチャンバーに予備室と呼ばれている小部屋を併設して
おき、まずこの予備室に試料を置き、そして予備室内を
真空状態にした後に、予備室とワーキングチャンバーと
の隔壁を開放し、試料を予備室からワーキングチャンバ
ー内のワークショップに搬送することが行われていた。

【０００４】しかし、予備室内が完全に真空状態になっ
た後は、試料にゴミが付着する可能性は極めて低いが、
試料を予備室に置いてからそれが十分に真空状態になる
までの期間には、予備室内にはガス、主にガスの流れ、
つまり対流があり、この対流で舞い上がったゴミが試料
面の表面に付着してしまう、また隔壁を開閉するときに
起こる微振動で舞い上がったゴミが試料面の表面に付着
してしまうという可能性が極めて高かった。

【０００５】周知の通り、試料の表面にゴミが付着する
等の汚染に対しては、従来から著しく注意を払ってき
た。しかし、許容されるゴミの大きさは、上述した回路
線幅が狭くなるにつれて微小化しており、従来のシステ
ムや人為的な注意では汚染を防ぎきれない状況にあっ
た。

【０００６】ところで、機械製造組立の分野では、部品
や中間品の移送中などにそれに埃やゴミが付着すること
を極力抑える技術として、ＳＭＩＦ(standard mechanic
al interface) システムという概念が確立している。図
４にその概念を利用した組立装置を示す。より詳しい説
明は、１９９３年６月発行の月刊semiconductor world
の“ＳＭＩＦによるカセット搬送”のｌ２８頁を参照さ
れたい。

【０００７】図４（ａ）はこの装置の内部を上方から見
た図、図４（ｂ）にこの装置の内部を側方から見た図で
ある。当該装置は、ＳＭＩＦポッドと呼ばれる比較的小
さな格納容器１と、ＳＭＩＦアーム２と、ＳＭＩＦ密閉
容器３とで構成される。ＳＭＩＦ密閉容器３は、ＦＦＵ
(fan filter unit) を装備した被いであり、ワークショ
ップ全体をクリーンルーム内大気雰囲気から隔離して、
マイクロエンバイラメントを実現するものである。

【０００８】ＳＭＩＦポッド１は、清浄性の高い試料格
納用コンテナである。このＳＭＩＦポッド１の詳しい構
成は、図５に示してある。図５（ａ）はＳＭＩＦポッド
１の透視図、図５（ｂ）はＳＭＩＦポッド１を側方から
見た図、図５（ｃ）はカバーを外した状態でＳＭＩＦポ
ッド１を側方から見た図である。参照符号の１１は底
板、１２はカバー、１３はキャリアである。底板１１と
カバ−１２は分離できるようになっている。

【０００９】試料、ここではマスクは、このＳＭＩＦポ
ッド１に入れられ、人為的或いは自動搬送ロボットによ
り自動的に、ＳＭＩＦ密閉容器３の所定位置(POS-1,POS
-2,POS-3) にセッティングされる。そして、ＳＭＩＦア
ーム２により、試料はＳＭＩＦポッド１から取り出さ
れ、密閉容器３内のワークショップに搬送される。

【００１０】このようにＳＭＩＦシステムでは、試料を
ＳＭＩＦポッド１でカバーしているので、試料がゴミの
付着等で汚染される可能性は低い。しかしながら、この
ＳＭＩＦシステムは、大気中での使用を想定しており、
真空は想定していない。従来より、このＳＭＩＦシステ
ムの考え方を、真空を扱う荷電ビーム描画装置等へ適用
して汚染を排除しようとする動きはあったが、適用する
上でどのような問題があるかさえ纏まっていない状況に
あり、実用化には至っていないのが現状であった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題を解
決するためになされたもので、試料をゴミの付着等の汚
染から保護することのできる荷電ビーム描画装置及び方
法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明に係る荷電ビーム
描画装置は、試料を収納可能で、一部分に通気口が開け
られた開閉自在の容器と、試料を収納した状態で予備室
内に配置された容器を予備室内の真空状態を維持したま
まで開閉するための機構とを具備したことにより、ゴミ
が舞い上がって試料に付着する可能性のあるときに、容
器に試料を収納しておくことができる。

【００１３】本発明に係る荷電ビーム描画方法は、予備
室内が真空状態になるまで、一部分に通気口が開けられ
た開閉自在の容器に試料を収納した状態で予備室内に置
く、換言すると、当該容器に試料を収納した状態で予備
室内のガスを排気するという特徴を有しており、この特
徴により、排気中に舞い上がるゴミが試料に付着すると
いった汚染から、試料を確実に守ることができる。

【００１４】本発明に係る荷電ビーム描画方法は、予備
室内の吸気開始以前に、一部分に通気口が開けられた開
閉自在の容器に試料を収納し、換言すると、当該容器に
試料を収納した状態で予備室内へガスを吸気させるとい
う特徴を有しており、この特徴により、吸気中に舞い上
がるゴミが試料に付着するといった汚染から、試料を確
実に守ることができる。

【００１５】本発明による真空容器は、内部の真空状態
を維持できる密閉容器と、密閉容器内に配置可能で、一
部分に通気口が設けられ、この通気口には清浄フィルタ
ーがはめ込まれ、試料を収納可能な開閉容器と、密閉容
器の真空状態を保ったままで、開閉容器の開閉を実施す
るための機構とを具備し、このような構成の真空容器
を、密閉容器中で舞い上がったゴミが試料に付着すると
いった汚染が生じる可能性がある状況下で使用すると、
このような汚染から試料を確実に守ることができるとい
う効果を達成できる。

【００１６】本発明は、試料表面にゴミが付着すること
を含む汚染を伴う環境を通過する試料の搬送方法におい
て、汚染を伴う環境下では試料を容器に格納し、汚染を
伴なわない環境下で試料を容器から取り出すことを特徴
としており、このような方法で試料を搬送すると、汚染
から試料を確実に守ることができるという効果を達成で
きる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面を参照しな
がら、好ましい実施形態に従って説明する。図１は、本
発明による一実施形態による荷電ビーム描画装置の主要
部の断面図である。図示してないが、ワーキングチャン
バー８０は、真空状態を維持できるように密閉可能に構
成された密閉容器であり、この内部には、電子銃、集束
コイル、偏向コイル、アパーチャー、ウエハ等の試料６
０を載せる作業台等の荷電ビームを使った描画作業に直
接的に必要とされる部材が収容されている。また、図示
してないが、ワーキングチャンバー８０にはこの内部に
適当なガスを注入するための設備や、当該内部のガスを
排気して内部を真空状態にするための排気ポンプ、また
真空状態を解除するために吸気設備等が装備されてい
る。

【００１８】このようなワーキングチャンバー８０に
は、それより容積の小さく、ワーキングチャンバー８０
と同様に真空状態を維持できるように密閉可能に構成さ
れた密閉容器としての予備室２０が隔壁９１を隔てて併
設されている。この隔壁９１の略中央部分には、試料６
０が通過するのに十分な広さの通路９２が開けられてい
る。

【００１９】この通路９２にはバルブ９０が設けられ、
このバルブ９０を開放することにより、予備室２内の試
料６０をロボットアーム１００でワーキングチャンバー
８０内の作業台上まで搬送することができるようになっ
ている。また、バルブ９０を閉じることにより、ワーキ
ングチャンバー８０の独立性、密閉性及び気密性を確保
できるようになっている。

【００２０】予備室２０の側壁には、その内部に外部か
ら、試料６０を収納しているクリーンフィルターポッド
５０をロボットアーム７０で搬入及び搬出するための搬
入搬出口９３が開けられている。この搬入搬出口９３を
蓋２３で塞げば、予備室２０内部を密閉性また気密性を
確保できるようになっている。なお、クリーンフィルタ
ーポッド５０の詳細に関しては後述する。

【００２１】また、予備室２０の側壁には、吸排気用主
管２１が接続され、その先には、図示していないが、予
備室２０内のガスを排気して内部を真空状態にするため
の真空ポンプがつながっている。この吸排気用主管２１
はその途中で吸気用枝管２２に分かれており、その先に
は図示していないが吸気バルブ及び清浄フィルターにつ
ながっている。この吸気バルブを開放することにより、
清浄フィルター、吸気用枝管２２、吸排気用主管２１を
通ってガスが予備室２０内に流れ込み、予備室２０内の
真空状態を自由に解除できるようになっている。

【００２２】さらに、予備室２０の内部には、ロボット
アーム７０で搬入されてきたクリーンフィルターポッド
５０を載せるためのポッド台３６が設けられている。こ
のポッド台３６は、昇降機構３０により、予備室２０の
内部で自由に昇降できるようになっている。この昇降機
構３０は、例えば図示するように、昇降力を発揮するた
めのモーター３１と、このモーター３１の駆動軸に繋が
っているボールネジ３５と、予備室２０の底スラブに開
けられた軸受け３２にスライド可能に挿入され、ボール
ネジ３５の軸回転に伴って上下にスライドされる昇降軸
３４とから構成されている。この昇降軸３４の先端には
ポッド台３６が固定されている。また、予備室２０の密
閉性を確保し、またポッド台３６の昇降を阻害しないよ
うに、予備室２０の底スラブとポッド台３６との間は蛇
腹（真空ベロー）３３でつながっている。

【００２３】クリーンフィルターポッド(clean filter
pod)５０は、内部に試料６０を収納可能な開閉自在の小
容器であり、図２に示すように構成されている。図２
（ａ）にはクリーンフィルターポッド５０の断面図を示
し、図２（ｂ）には図２（ａ）のケーシング５２の断面
図を示し、図２（ｃ）にはケーシング５２を開けた状態
でのクリーンフィルターポッド５０の断面図を示してい
る。クリーンフィルターポッド５０は、底板５１と、こ
の底板５１上に固定された試料台５５と、底板５１上の
試料台５５やその上に載せられる試料６０を被うための
開閉自在のケーシング５２と、このケーシング５２の側
壁に開けられた通気口５４と、この通気口５４にはめ込
まれている清浄フィルター５６と、ケーシング５２の側
壁から外に突出して設けられている突出部９５と、底板
５１にケーシング５２をロックするためのロック機構と
から構成される。

【００２４】ここで、クリーンフィルターポッド５０を
載せたポッド台３６が昇降機構３０により高位の定常位
置から徐々に下降されていくと、図３に示しているよう
に、突出部９５が、予備室２０の内壁から水平に突出し
ている突出部９４の上に重なる。そして、ポッド台３６
がさらに下降しても、ケーシング５２はその突出部９４
に係止され、それ以上下降せずに残される。一方、底板
５１は、ケーシング５２と分かれて、ポッド台３６と共
に下降していく。このような動きにより、予備室２０の
密閉状態（真空状態）を維持したままで、クリーンフィ
ルターポッド５０のケーシング５２を開けることができ
るようになっている。

【００２５】図３には、クリーンフィルターポッド５０
のロック機構と、このロック機構による底板５１とケー
シング５２とのロック状態を解除するためのロック解除
機構４０との構造を断面図により示している。ロック状
態は、クリーンフィルターポッド５０の底板５１の内部
に軸受け部材５１５でスライド自在に支持されているロ
ックピン５１６の先端が、ケーシング５２の内側に設け
られている凹部５１２にはめ込まれることにより達成さ
れる。逆に、このロック状態の解除は、ロックピン５１
６の先端を凹部５１２から抜くことにより達成される。

【００２６】このロックピン５１６の先端を凹部５１２
から抜くという作業も、ケーシング５２を開けるという
作業と同様に、予備室２０の密閉状態（真空状態）を維
持したままで行えるようになっており、このロック解除
のための構造としては、ロックピン５１６の後方にコイ
ルバネ５１４を介してロッド５１３が連結され、このロ
ッド５１３の後端が、カム５１１に接続されている。ケ
ーシング５２がロック状態にあるとき、このカム５１１
は基準位置にある。この基準位置から、カム５１１を所
定角度回転させると、ロックピン５１６は引っ込み、ロ
ック状態は解除される。カム５１１を回転させために、
モーター４１が設けられている。このモーター４１の駆
動軸には、昇降軸３４の内部を通る回転ロッド４２が連
結され、この回転ロッド４２の先端は、ポッド５０をポ
ッド台３６に載せたときにカム５１１に係合するように
なっている。なお、ポッド台３６の貫通孔と回転ロッド
４２との間は、ウイルソンシール等の真空シール４２で
シールされており、予備室２０の密閉状態（真空状態）
を維持したままで回転ロッド４２を回転させてロック解
除を行えるようになっている。

【００２７】次に本実施形態の動作について説明する。
なお、以下に説明する動作は、図示しないコントローラ
による完全なるシーケンス制御により実行されるもので
ある。まず、試料６０を十分清浄したクリーンフィルタ
ーポッド５０に収納し、ケーシング５２を被せてロック
状態にする。このような操作は図４で示した装置で行わ
れる。この試料６０を収納させたクリーンフィルターポ
ッド５０を、ロボットアーム７０で予備室２０内のポッ
ド台３６に載せる。このとき隔壁バルブ９０で通路９２
は閉じられている。そして、クリーンフィルターポッド
５０を予備室２０内のポッド台３６に載せた後、予備室
２０の蓋２３を閉じて予備室２０を密閉状態にしてか
ら、排気ポンプを起動して、真空引き、つまり予備室２
０の内部ガスの外部への排気を開始する。もちろん、予
備室２０からガスを排気しているとき、クリーンフィル
ターポッド５０内のガスもその通気口５６から排気され
る。

【００２８】このとき、内部ガスの対流で、予備室２０
内で微小なゴミは舞い上がるであろうが、試料６０はク
リーンフィルターポッド５０内に収納されているため、
その表面にゴミなどが付着するといった汚染から保護さ
れ得る。

【００２９】そして、十分に真空が引かれた後には、ク
リーンフィルターポッド５０のケーシング５２を開ける
前に、隔壁バルブ９０を開き、真空状態に達している予
備室２０と、既に真空状態に保持されているワーキング
チャンバー８０とをつなげる。このバルブ９０を開くと
きには、比較的大きな振動が発生する。このため予備室
２０内で微小なゴミが舞い上がる可能性があるが、隔壁
バルブ９０を開き終わるまでは、クリーンフィルターポ
ッド５０のケーシング５２を閉じているので、試料６０
の表面にゴミなどが付着することはない。

【００３０】バルブ９０を開いた後、ロック解除機構４
０のモーター４１を起動して、ケーシング５２のロック
を解除し、そして、昇降機構３０を起動してポッド台３
６を下降させる。この結果、上述したように、底板５１
からケーシング５２が分離され、クリーンフィルターポ
ッド５０が開けられる。

【００３１】そして、搬送ロボットアーム１００を動か
してクリーンフィルターポッド５０の底板５１の試料台
５５から試料６０をすくい上げ、予備室２０からワーキ
ングチャンバー８０に移送し、その中の作業台に据え
る。その後、クリーンフィルターポッド５０のケーシン
グ５２と底板５１とを係合させる動作を行い、さらにバ
ルブ９０を閉じて試料搬送動作は終了する。そして、電
子銃から荷電ビームを発生させ、これを集束し、そして
適当に偏向を変えながら、試料６０上に所望のパターン
を描画する。

【００３２】この描画作業が終了した後、上述とは逆の
動きで試料６０を搬出する。具体的には、まず、バルブ
９０を開けて、クリーンフィルターポッド５０のケーシ
ング５２と底板５１との分離作業を行い、搬送ロボット
アーム１００を動かしてワーキングチャンバー８０の作
業台から試料６０をすくい上げ、予備室２０に移送し、
クリーンフィルターポッド５０の底板５１の試料台５５
に戻す。そして、昇降機構３０を起動してポッド台３６
を上昇させ、底板５１にケーシング５２を被せて、クリ
ーンフィルターポッド５０を閉じ、ロック解除機構４を
起動してケーシング５２をロック状態にする。この作業
と相前後して、バルブ９０を閉じる。

【００３３】バルブ９０を閉じた後、ケーシング５２を
開ける前に、吸気用バルブをを開け、予備室２０の真空
状態を解除する。このとき勢いよく吸気されたガスの対
流で、ゴミが舞い上がるが、やはりクリーンフィルター
ポッド５０のケーシング５２を閉じているので、試料６
０の表面にゴミなどが付着することはない。また、底板
５１とケーシング５２との間はシール材５２２で十分シ
ールされているので、ガスは、通気口５４のみを介して
クリーンフィルターポッド５０にも流入してくるが、通
気口５４にはめ込まれている清浄フィルター５６のおか
げで、ゴミが遮蔽されてクリーンフィルターポッド５０
の内部に入ってくることはない。

【００３４】真空状態が完全に解除されて大気圧になっ
た後、予備室２０の蓋２３を開け、ロボットアーム７０
によって、ケーシング５２を閉じた状態のままでクリー
ンフィルターポッド５０を外部に搬出する。このような
一連の動作を繰り返すことで試料をゴミの環境からほぼ
完全に遮断することが出来る。

【００３５】以上の述べてきたように、真空排気過程や
吸気過程で問題となっていた試料面にゴミが付着すると
いった汚染の発生を完全に排除することができる。ま
た、隔壁バルブの開閉時等の振動が起こりやすい状況が
終了した後にＳＭＩＦポッドの開閉を行うことでさらに
完全なクリーンネスを確保することができる。

【００３６】本発明は、上述した実施形態に限定される
ことなく、種々変形して実施可能である。例えば、本発
明は、上述した荷電ビーム描画装置だけでなく、真空を
用いた種々の加工装置あるいは真空を用いなくとも、試
料の搬送過程や加工直前にゴミ等の汚染から隔離する必
要のある分野で種々変形して実施可能である。

【００３７】

【発明の効果】本発明に係る荷電ビーム描画装置は、試
料を収納可能で、一部分に通気口が開けられた開閉自在
の容器と、試料を収納した状態で予備室内に配置された
容器を予備室内の真空状態を維持したままで開閉するた
めの機構とを具備したことにより、ゴミが舞い上がって
試料に付着する可能性のあるときに、容器に試料を収納
しておくことができる。

【００３８】本発明に係る荷電ビーム描画方法は、予備
室内が真空状態になるまで、一部分に通気口が開けられ
た開閉自在の容器に試料を収納した状態で予備室内に置
く、換言すると、当該容器に試料を収納した状態で予備
室内のガスを排気するという特徴を有しており、この特
徴により、排気中に舞い上がるゴミが試料に付着すると
いった汚染から、試料を確実に守ることができる。

【００３９】本発明に係る荷電ビーム描画方法は、予備
室内の吸気開始以前に、一部分に通気口が開けられた開
閉自在の容器に試料を収納し、換言すると、当該容器に
試料を収納した状態で予備室内へガスを吸気させるとい
う特徴を有しており、この特徴により、吸気中に舞い上
がるゴミが試料に付着するといった汚染から、試料を確
実に守ることができる。

【００４０】本発明による真空容器は、内部の真空状態
を維持できる密閉容器と、密閉容器内に配置可能で、一
部分に通気口が設けられ、この通気口には清浄フィルタ
ーがはめ込まれ、試料を収納可能な開閉容器と、密閉容
器の真空状態を保ったままで、開閉容器の開閉を実施す
るための機構とを具備し、このような構成の真空容器
を、密閉容器中で舞い上がったゴミが試料に付着すると
いった汚染が生じる可能性がある状況下で使用すると、
このような汚染から試料を確実に守ることができるとい
う効果を達成できる。

【００４１】本発明は、試料表面にゴミが付着すること
を含む汚染を伴う環境を通過する試料の搬送方法におい
て、汚染を伴う環境下では試料を容器に格納し、汚染を
伴なわない環境下で試料を容器から取り出すことを特徴
としており、このような方法で試料を搬送すると、汚染
から試料を確実に守ることができるという効果を達成で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る荷電ビーム描画装置
の主要部の構造を概略的に示す断面図。

【図２】図１のクリーンフィルターポッドの構造を示す
図。

【図３】図１のクリーンフィルターポッドのロック機構
とそのロック解除機構の構造を概略的に示す断面図。

【図４】機械製造組立の分野で用いられているＳＭＩＦ
システムを示す図。

【図５】図４のＳＭＩＦポッドの構造を示す図。

【符号の説明】

１・・・ＳＭＩＦポッド、２・・・ＳＭＩＦアーム、３・・・ＳＭＩＦ密閉容器、１１・・・底板、１２・・・カバー、１３・・・キャリア、２０・・・予備室、２１・・・吸排気用主管、２２・・・吸気用枝管、３０・・・昇降機構、３１・・・モーター、３２・・・軸受け、３３・・・蛇腹、３４・・・昇降軸、３５・・・ボールネジ、３６・・・ポッド台、４０・・・ロック解除機構、４１・・・モーター、４２・・・回転ロッド、４３・・・ウイルソンシール、５０・・・クリーンフィルターポッド、５１・・・底板、５２・・・ケーシング、５４・・・通気口、５５・・・試料台、５６・・・清浄フィルター、６０・・・試料、７０・・・搬入搬出用ロボットアーム、８０・・・ワーキングチャンバー、９０・・・隔壁バルブ、１００・・・搬送用ロボットアーム、５１１・・・カム、５１２・・・軸受け、５１３・・・ロッド、５１４・・・コイルバネ、５１５・・・軸受け部材、５１６・・・ロックピン、５２１・・・ピン受凹部、５２２・・・シール材。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/30 ５０３Ｇ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】予備室内に試料を置き、前記予備室内の
ガスを排気して真空状態にした後に、前記予備室と内部
が真空状態に保たれているワーキングチャンバーとを隔
てている隔壁を開けて、前記試料を前記予備室から前記
ワーキングチャンバー内の作業台上に前記試料を搬送
し、前記ワーキングチャンバー内で前記試料上に荷電ビ
ームでパターンを描画する荷電ビーム描画装置におい
て、前記試料を収納可能で、一部分に通気口が開けられた開
閉自在の容器と、前記試料を収納した状態で前記予備室内に配置された前
記容器を、前記予備室内の真空状態を維持したままで開
閉するための開閉機構とを具備したことを特徴とする荷
電ビーム描画装置。
【請求項２】前記開閉機構は前記容器を昇降するため
に昇降機構を含むことを特徴とする請求項１記載の荷電
ビーム描画装置。
【請求項３】前記通気口には清浄フィルターが設けら
れていることを特徴とする請求項１記載の荷電ビーム描
画装置。
【請求項４】前記容器は閉状態をロックするためのロ
ック機構を備え、前記開閉機構は前記ロック機構による
ロック状態を解除するための機構を有することを特徴と
する請求項１記載の荷電ビーム描画装置。
【請求項５】ワーキングチャンバー内の作業台上に試
料を搬送し、前記試料上に荷電ビームでパターンを描画
する荷電ビーム描画装置において、前記試料を収納可能であって、一部に通気口が設けられ
ている容器を利用して、前記ワーキングチャンバーへの
搬送中に起こり得る汚染から前記試料を保護することが
可能に構成されていることを特徴とする荷電ビーム描画
装置。
【請求項６】予備室内に試料を置き、前記予備室内の
ガスを排気して真空状態にした後に、前記予備室と内部
が真空状態に保たれているワーキングチャンバーとを隔
てている隔壁を開けて、前記試料を前記予備室から前記
ワーキングチャンバー内の作業台上に前記試料を搬送
し、前記ワーキングチャンバー内で前記試料上に荷電ビ
ームでパターンを描画する荷電ビーム描画方法におい
て、前記予備室内が真空状態になるまで、一部分に通気口が
開けられた開閉自在の容器に前記試料を収納した状態で
前記予備室内に置くことを特徴とする荷電ビーム描画方
法。
【請求項７】予備室内に試料を置き、前記予備室内の
ガスを排気して真空状態にした後に、前記予備室と内部
が真空状態に保たれているワーキングチャンバーとを隔
てている隔壁を開けて、前記試料を前記予備室から前記
ワーキングチャンバー内の作業台上に前記試料を搬送
し、前記ワーキングチャンバー内で前記試料上に荷電ビ
ームでパターンを描画する荷電ビーム描画装置におい
て、前記試料を、一部分に通気口が開けられた開閉自在の容
器に収納した状態で前記予備室内のガスを排気すること
を特徴とする荷電ビーム描画方法。
【請求項８】内部が真空状態に保たれているワーキン
グチャンバー内の作業台上に置かれた試料上に荷電ビー
ムでパターンを描画し、この描画終了後、予め真空状態
にされている予備室内に前記試料を搬送し、この搬送終
了後、前記ワーキングチャンバーと前記予備室との間の
隔壁バルブを開けて、前記予備室内にガスを吸気させて
前記予備室内の真空状態を解除し、前記試料を前記予備
室から取り出す荷電ビーム描画方法において、前記予備室内の吸気開始以前に、一部分に通気口が開け
られた開閉自在の容器に前記試料を収納することを特徴
とする荷電ビーム描画方法。
【請求項９】内部が真空状態に保たれているワーキン
グチャンバー内の作業台上に置かれた試料上に荷電ビー
ムでパターンを描画し、この描画終了後、予め真空状態
にされている予備室内に前記試料を搬送し、この搬送終
了後、前記ワーキングチャンバーと前記予備室との間を
隔壁で隔てて前記予備室内にガスを吸気させて前記予備
室内の真空状態を解除し、前記試料を前記予備室から取
り出す荷電ビーム描画方法において、前記試料を、一部分に通気口が開けられた開閉自在の容
器に収納した状態で前記予備室内へガスを吸気させるこ
とを特徴とする荷電ビーム描画方法。
【請求項１０】前記通気口には清浄フィルターが設け
られていることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか
１項記載の荷電ビーム描画方法。
【請求項１１】前記隔壁の開閉動作は、前記容器が閉
状態のときに行うことを特徴とする請求項６乃至９のい
ずれか１項記載の荷電ビーム描画方法。
【請求項１２】内部の真空状態を維持できる密閉容器
と、前記密閉容器内に配置可能で、一部分に通気口が設けら
れ、前記通気口には清浄フィルターがはめ込まれ、試料
を収納可能な開閉容器と、前記密閉容器の真空状態を保ったままで、前記開閉容器
の開閉を実施するための機構とを具備したことを特徴と
する真空容器。
【請求項１３】試料表面にゴミが付着することを含む
汚染を伴う環境を通過する試料の搬送方法において、前記汚染を伴う環境下では前記試料を容器に格納し、前
記汚染を伴なわない環境下で前記試料を前記容器から取
り出すことを特徴とする試料搬送方法。
【請求項１４】前記容器野一部分には流体の通気を許
し、且つ汚染物質を前記容器内に導入させないフィルタ
ーが設けられていることを特徴とする請求項１３記載の
試料搬送方法。