JP2008160028A - 移動鏡の調整方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、ステージ装置等に配置される移動鏡の傾きを調整する移動鏡の調整方法に関し、真空雰囲気内に配置される移動鏡の調整を高精度に行うことを目的とする。
【解決手段】 密閉空間を大気雰囲気にした状態で移動鏡をレーザービームに対して垂直になるように調整した時と、移動鏡をレーザー干渉計の信号が最大になるように調整した時の移動鏡の傾き差を求める工程と、密閉空間を真空雰囲気にした状態でレーザー干渉計の信号が最大になるように移動鏡を調整する工程と、密閉空間を真空雰囲気にした状態で移動鏡を傾き差に対応する傾きだけ傾け移動鏡をレーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整する工程とを有することを特徴とする。
【選択図】 図5
【解決手段】 密閉空間を大気雰囲気にした状態で移動鏡をレーザービームに対して垂直になるように調整した時と、移動鏡をレーザー干渉計の信号が最大になるように調整した時の移動鏡の傾き差を求める工程と、密閉空間を真空雰囲気にした状態でレーザー干渉計の信号が最大になるように移動鏡を調整する工程と、密閉空間を真空雰囲気にした状態で移動鏡を傾き差に対応する傾きだけ傾け移動鏡をレーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整する工程とを有することを特徴とする。
【選択図】 図5
Description
本発明は、ステージ装置等に配置される移動鏡の傾きを調整する移動鏡の調整方法に関する。
露光装置では、ウエハステージ、レチクルステージ等のステージ装置に移動鏡が配置され、レーザー干渉計により移動鏡までの距離を測定することにより、ステージ装置の位置決めが行われている。
そして、レーザー干渉計の測定精度を良好にするため、オートコリメータを用いて移動鏡をレーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整することが行われている。
特開2006−214946号公報
そして、レーザー干渉計の測定精度を良好にするため、オートコリメータを用いて移動鏡をレーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整することが行われている。
しかしながら、荷電粒子線露光装置、EUV露光装置等のように真空雰囲気中で露光を行う露光装置では、オートコリメータを用いて大気雰囲気中において移動鏡の垂直調整を行っても、真空排気による装置の変形により移動鏡とレーザー干渉計との相対位置が変動し、移動鏡とレーザービームとの垂直関係に誤差が生じるという問題があった。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、真空雰囲気内に配置される移動鏡の調整を高精度に行うことができる移動鏡の調整方法を提供することを目的とする。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、真空雰囲気内に配置される移動鏡の調整を高精度に行うことができる移動鏡の調整方法を提供することを目的とする。
第1の発明の移動鏡の調整方法は、真空雰囲気とされる密閉空間内に配置される移動鏡を、前記密閉空間内に配置されるレーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整する移動鏡の調整方法において、前記密閉空間を大気雰囲気にした状態で前記移動鏡を前記レーザービームに対して垂直になるように調整する工程と、前記密閉空間を大気雰囲気にした状態で前記移動鏡を前記レーザー干渉計の信号が最大になるように調整する工程と、前記移動鏡を前記レーザービームに対して垂直になるように調整した時と、前記移動鏡を前記レーザー干渉計の信号が最大になるように調整した時の前記移動鏡の傾き差を求める工程と、前記密閉空間を真空雰囲気にした状態で前記レーザー干渉計の信号が最大になるように前記移動鏡を調整する工程と、前記密閉空間を真空雰囲気にした状態で前記移動鏡を前記傾き差に対応する傾きだけ傾け前記移動鏡を前記レーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整する工程とを有することを特徴とする。
第2の発明の移動鏡の調整方法は、第1の発明の移動鏡の調整方法において、前記密閉空間は、真空雰囲気内において露光を行う露光装置内に形成されていることを特徴とする。
第3の発明の移動鏡の調整方法は、第2の発明の移動鏡の調整方法において、前記移動鏡は、前記密閉空間内に収容されるステージ装置に配置されていることを特徴とする。
第3の発明の移動鏡の調整方法は、第2の発明の移動鏡の調整方法において、前記移動鏡は、前記密閉空間内に収容されるステージ装置に配置されていることを特徴とする。
本発明では、真空雰囲気内に配置される移動鏡の調整を高精度に行うことができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
図1は、本発明の移動鏡の調整方法の一実施形態が適用されるEUV露光装置を模式的に示している。
この露光装置は、底部にベースプレート11を有している。ベースプレート11は、除振装置13を介して床15上に保持されている。ベースプレート11の上にはチャンバ17が配置されている。チャンバ17は直方体状をしており上面部17aと側面部17bとを有している。チャンバ17の内部は真空ポンプ(不図示)により真空引きされ真空に保たれている。
図1は、本発明の移動鏡の調整方法の一実施形態が適用されるEUV露光装置を模式的に示している。
この露光装置は、底部にベースプレート11を有している。ベースプレート11は、除振装置13を介して床15上に保持されている。ベースプレート11の上にはチャンバ17が配置されている。チャンバ17は直方体状をしており上面部17aと側面部17bとを有している。チャンバ17の内部は真空ポンプ(不図示)により真空引きされ真空に保たれている。
チャンバ17内には架台19が水平に配置されている。架台19は除振装置21を介してチャンバ17に保持されている。除振装置21はチャンバ17の側面部17bから内側に伸びた梁23と架台19との間に配置されている。
架台19には照明光学系25および投影光学系27が配置されている。照明光学系25および投影光学系27は架台19を上下方向に貫通して配置され架台19に固定されている。照明光学系25の下部25aはチャンバ17の側面部17bを貫通してチャンバ17の外部に延存されている。
架台19には照明光学系25および投影光学系27が配置されている。照明光学系25および投影光学系27は架台19を上下方向に貫通して配置され架台19に固定されている。照明光学系25の下部25aはチャンバ17の側面部17bを貫通してチャンバ17の外部に延存されている。
投影光学系27の下方にはウエハステージ29が配置されている。ウエハステージ29はベース部材31を介してベースプレート11上に配置されている。投影光学系27の上方にはレチクルステージ33が配置されている。レチクルステージ33はチャンバ17の側面部17bから内側に向かって張り出した梁35によって支持されている。
図2は、架台19の近傍の詳細を模式的に示している。
図2は、架台19の近傍の詳細を模式的に示している。
架台19の上面には、レチクルステージ33側に突出してレチクル側干渉計台座37が固定されている。架台19の下面には、ウエハステージ29側に突出してウエハ側干渉計台座39が固定されている。
架台19の上面に固定されるレチクル側干渉計台座37には、レーザー干渉計41が配置されている。レーザー干渉計41は、レチクルステージ33に固定される移動鏡43にレーザービームを反射させレーザービームの干渉によりレチクルステージ33までの距離を測定する。レチクルステージ33には、レチクルRを吸着保持する静電チャック45が配置されている。レチクルステージ33は、図示しない駆動機構により立体座標系X、Y、Zおよび回転座標系θx、θy、θzの6軸方向に微動可能とされている。
架台19の上面に固定されるレチクル側干渉計台座37には、レーザー干渉計41が配置されている。レーザー干渉計41は、レチクルステージ33に固定される移動鏡43にレーザービームを反射させレーザービームの干渉によりレチクルステージ33までの距離を測定する。レチクルステージ33には、レチクルRを吸着保持する静電チャック45が配置されている。レチクルステージ33は、図示しない駆動機構により立体座標系X、Y、Zおよび回転座標系θx、θy、θzの6軸方向に微動可能とされている。
架台19の下面に固定されるウエハ側干渉計台座39には、レーザー干渉計47が配置されている。レーザー干渉計47は、ウエハステージ29に固定される移動鏡49にレーザービームを反射させレーザービームの干渉によりウエハステージ29までの距離を測定する。ウエハステージ29には、ウエハWを吸着保持する静電チャック51が配置されている。ウエハステージ29は、図示しない駆動機構により立体座標系X、Y、Zおよび回転座標系θx、θy、θzの6軸方向に微動可能とされている。
図3は、レーザー干渉計47による移動鏡49までの距離測定の原理を示している。なお、レーザー干渉計41による移動鏡43までの距離測定の原理は同様であるので詳細な説明を省略する。図3では、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整されている。
レーザー干渉計47には、ダブルパス干渉計が用いられている。レーザー干渉計47の干渉計光学系53は、偏向ビームスプリッター(以下PBSという)55、コーナーキューブ57、リファレンスミラー59、1/4波長板61を有している。
レーザー干渉計47には、ダブルパス干渉計が用いられている。レーザー干渉計47の干渉計光学系53は、偏向ビームスプリッター(以下PBSという)55、コーナーキューブ57、リファレンスミラー59、1/4波長板61を有している。
光源(不図示)からのレーザービームLを干渉計光学系53に入射させると、PBS55のa点において計測用レーザービームL1と参照用レーザービームL2とに分離される。計測用レーザービームL1は、b点−a点−c点−d点−e点−f点−e点を通り受光点gで受光される。一方、参照用レーザービームL2は、h点−a点−c点−d点−e点−i点−e点を通り受光点gで受光される。そして、干渉計の原理により計測用レーザービームL1と参照用レーザービームL2の光路差を計測することにより移動鏡49までの距離が計測される。図3では、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整されているため、計測用レーザービームL1と参照用レーザービームL2の受光点gが同一位置になり高精度の測定が可能になる。
一方、図4に示すように、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直でなくθだけ傾いている場合には、計測用レーザービームL1と参照用レーザービームL2の受光点g',gが異なる位置になり測定精度が低下する。すなわち、移動鏡49の傾きにより、計測用レーザービームL1は、a点−b点−a'点−c'点−d'点−e'点−f'点−e"点を通り参照用レーザービームL2の受光点gと異なる位置の受光点g'で受光される。そして、所謂コサイン誤差によりレーザー干渉計47による測定値が移動鏡49の位置に対して誤差を持つことになる。従って、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直になるように高い精度で調整する必要がある。
以下、上述したウエハステージ29に配置される移動鏡49の調整方法について詳細に説明する。なお、レチクルステージ33に配置される移動鏡43の調整方法は、移動鏡49の調整方法と同様であるので詳細な説明を省略する。
図5は、ウエハステージ29に配置される移動鏡49の調整方法を示す工程図である。
ステップS1:チャンバ17内を大気雰囲気にした状態で移動鏡49をレーザー干渉計47の計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整する。
図5は、ウエハステージ29に配置される移動鏡49の調整方法を示す工程図である。
ステップS1:チャンバ17内を大気雰囲気にした状態で移動鏡49をレーザー干渉計47の計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整する。
この調整は、図6に示すように、レーザー干渉計47と移動鏡49との間に直交度計測用工具63を配置して行われる。直交度計測用工具63は、ビームスプリッター65とリファレンスミラー67を有している。ビームスプリッター65とリファレンスミラー67は、精度を非常に厳しく管理して製造されている。別に、オートコリメータ68を設置する。
図6に示すように、レーザー干渉計47からの計測用レーザービームL1を直交度計測用工具63に入射させると、ビームスプリッター65のj点において計測用レーザービームL1'と参照用レーザービームL2'とに分離される。図6に示すように計測用レーザービームL1'に対して移動鏡49が傾いていると計測用レーザービームL1'は、b点−j'点を通りオートコリメータ68のCCDセンサの受光点m'で受光される。一方、参照用レーザービームL2'は、j点−k点−j点を通りCCDセンサの受光点mで受光される。そして、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直な時には、計測用レーザービームL1'と参照用レーザービームL2'の受光点m',mが同一位置になる。従って、ウエハステージ29をθx、θy、θzの方向に微動回転して受光点m',mが同一位置になる位置を求めることにより、移動鏡49を計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整する。そして、この時のウエハステージ29の状態(姿勢)を求める。
ステップS2:チャンバ17を大気雰囲気にした状態で移動鏡49をレーザー干渉計47の信号が最大になるように調整する。
レーザー干渉計47が製造誤差を有していない場合には、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直になっている時に、レーザー干渉計47の信号が最大になる。しかしながら、一般に、レーザー干渉計47は製造誤差を有している。
レーザー干渉計47が製造誤差を有していない場合には、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直になっている時に、レーザー干渉計47の信号が最大になる。しかしながら、一般に、レーザー干渉計47は製造誤差を有している。
図7は、リファレンスミラー59が傾き誤差を有している場合を示している。このように傾き誤差を有していると、図7に示すように移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して垂直になっていても、計測用レーザービームL1と参照用レーザービームL2の受光点n',nが異なる位置になりレーザー干渉計47の信号は最大にならない。そして、レーザー干渉計47の信号が最大になっている時には、移動鏡49が計測用レーザービームL1に対して傾いていることになる。
ステップS2では、ウエハステージ29をθx、θy、θzの方向に微動回転してレーザー干渉計47の信号が最大になる位置を求める。そして、この時のウエハステージ29の状態(姿勢)を求める。
ステップS3:移動鏡49を計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整した時と、移動鏡49をレーザー干渉計47の信号が最大になるように調整した時の移動鏡49の傾き差を求める。
ステップS3:移動鏡49を計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整した時と、移動鏡49をレーザー干渉計47の信号が最大になるように調整した時の移動鏡49の傾き差を求める。
すなわち、ステップS1で求められた、移動鏡49を計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整した時のウエハステージ29の状態(姿勢)と、ステップS2で求められた、レーザー干渉計47の信号が最大になるように調整した時のウエハステージ29の状態(姿勢)から、移動鏡49の傾き差を求める。
ステップS4:チャンバ17を真空雰囲気にした状態でレーザー干渉計47の信号が最大になるように移動鏡49を調整する。
ステップS4:チャンバ17を真空雰囲気にした状態でレーザー干渉計47の信号が最大になるように移動鏡49を調整する。
ステップS1において、チャンバ17内を大気雰囲気にした状態で移動鏡49をレーザー干渉計47の計測用レーザービームL1に対して垂直になるように垂直調整している。しかしながら、チャンバ17内を真空排気して真空雰囲気にするとチャンバ17が変形する。これにより移動鏡49およびレーザー干渉計47の姿勢が変形し、移動鏡49の垂直調整をやり直す必要が生じる。しかしながら、チャンバ17内は真空雰囲気であるため、オートコリメータ68を用いての垂直調整は困難である。そこで、ステップS4では、ウエハステージ29をθx、θy、θzの方向に微動回転してレーザー干渉計47の信号が最大になる位置を求める。そして、この時のウエハステージ29の状態(姿勢)を求める。
ステップS5:チャンバ17を真空雰囲気にした状態で移動鏡49を傾き差に対応する傾きだけ傾け移動鏡49をレーザー干渉計47の計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整する。
ステップS4では、チャンバ17を真空雰囲気にした状態でレーザー干渉計47の信号が最大になるように移動鏡49を調整している。そして、レーザー干渉計47の信号が最大になる移動鏡49の傾き(姿勢)と、計測用レーザービームL1に対して移動鏡49が垂直になる移動鏡49の傾き(姿勢)との傾き差(姿勢差)は、大気雰囲気と真空雰囲気とで殆ど変化しない。従って、移動鏡49を、ステップS3で求められた傾き差に対応する傾きだけ傾けることにより、移動鏡49をレーザー干渉計47の計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整することができる。この調整は、ウエハステージ29をθx、θy、θzの方向に微動回転して、移動鏡49を傾き差に対応する傾きだけ傾けることにより行われる。
ステップS4では、チャンバ17を真空雰囲気にした状態でレーザー干渉計47の信号が最大になるように移動鏡49を調整している。そして、レーザー干渉計47の信号が最大になる移動鏡49の傾き(姿勢)と、計測用レーザービームL1に対して移動鏡49が垂直になる移動鏡49の傾き(姿勢)との傾き差(姿勢差)は、大気雰囲気と真空雰囲気とで殆ど変化しない。従って、移動鏡49を、ステップS3で求められた傾き差に対応する傾きだけ傾けることにより、移動鏡49をレーザー干渉計47の計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整することができる。この調整は、ウエハステージ29をθx、θy、θzの方向に微動回転して、移動鏡49を傾き差に対応する傾きだけ傾けることにより行われる。
上述した実施形態では、大気雰囲気において、移動鏡49を計測用レーザービームL1に対して垂直になるように調整した時と移動鏡49をレーザー干渉計47の信号が最大になるように調整した時の移動鏡49の傾き差を求め、真空雰囲気において、レーザー干渉計47の信号が最大になるように移動鏡49を調整した後に、大気雰囲気で求められた傾き差に対応する傾きだけ移動鏡49を傾けるようにしたので、真空雰囲気内に配置される移動鏡49の調整を高精度に行うことができる。
すなわち、真空雰囲気においては、直交度計測用工具63とオートコリメータ68を用いての移動鏡49の垂直調整は困難であるが、オートコリメータ68を用いることなく移動鏡49の垂直調整を行うことが可能になる。また、レーザー干渉計47が製造誤差を有していても、高精度な測定を行うことが可能になる。
(露光装置の実施形態)
図8は、図1のEUV露光装置のEUV光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。
(露光装置の実施形態)
図8は、図1のEUV露光装置のEUV光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。
この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光は0.1〜400nmの間の波長を持つもので、この実施形態では特に1〜50nm程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム101を用いたもので、ウエハW上にレチクルRによるパターンの縮小像を形成するものである。
ウエハW上に照射されるパターンは、レチクルステージ33の下側に静電チャック45を介して配置されている反射型のレチクルRにより決められる。また、ウエハWはウエハステージ29の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
ウエハW上に照射されるパターンは、レチクルステージ33の下側に静電チャック45を介して配置されている反射型のレチクルRにより決められる。また、ウエハWはウエハステージ29の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
露光時の照明光として使用するEUV光は大気に対する透過性が低いので、EUV光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ73を用いて真空に保たれたチャンバ17に囲まれている。またEUV光はレーザプラズマX線源によって生成される。レーザプラズマX線源はレーザ源108(励起光源として作用)とキセノンガス供給装置109からなっている。レーザプラズマX線源は真空チャンバ110によって取り囲まれている。レーザプラズマX線源によって生成されたEUV光は真空チャンバ110の窓111を通過する。
放物面ミラー113は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー113はプラズマによって生成されたEUV光を集光する。放物面ミラー113は集光光学系を構成し、ノズル112からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。EUV光は放物面ミラー113の多層膜で反射し、真空チャンバ110の窓111を通じて集光ミラー114へと達する。集光ミラー114は反射型のレチクルRへとEUV光を集光、反射させる。EUV光は集光ミラー114で反射され、レチクルRの所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー113と集光ミラー114はこの装置の照明システムを構成する。
レチクルRは、EUV光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクルRでEUV光が反射されることによりEUV光は「パターン化」される。パターン化されたEUV光は投影システム101を通じてウエハWに達する。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
レチクルRにより反射されたEUV光は第1ミラー115aから第4ミラー115dまで順次反射されて、レチクルパターンの縮小(例えば、1/4、1/5、1/6)された像を形成する。像光学系システム101は、像の側(ウエハWの側)でテレセントリックになるようになっている。
レチクルRは可動のレチクルステージ33によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハWは、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ29によって支持されている。ウエハW上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクルRの所定の領域に照射され、レチクルRとウエハWは像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
レチクルRは可動のレチクルステージ33によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハWは、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ29によって支持されている。ウエハW上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクルRの所定の領域に照射され、レチクルRとウエハWは像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
露光の際には、ウエハW上のレジストから生じるガスが像光学システム101のミラー115a〜115dに影響を与えないように、ウエハWはパーティション116の後ろに配置されることが望ましい。パーティション116は開口116aを持っており、それを通じてEUV光がミラー115dからウエハWへと照射される。パーティション116内の空間は真空ポンプ117により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー115a〜115dあるいはレチクルRに付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
この実施形態の露光装置では、真空雰囲気内に配置される移動鏡43,49(図2に示す)の調整を高精度に行うことができるため、レチクルステージ33およびウエハステージ29の位置決め精度を向上することができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような形態でも良い。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような形態でも良い。
(1)上述した実施形態では、ステップS1の工程の後にステップS2の工程を行った例について説明したが、ステップS2の工程の後にステップS1の工程を行うようにしても良い。
(2)上述した実施形態では、露光装置のウエハステージ29およびレチクルステージ33に配置される移動鏡49,43に本発明を適用した例について説明したが、例えば、検査装置のステージ装置等の移動鏡に広く適用することができる。
(2)上述した実施形態では、露光装置のウエハステージ29およびレチクルステージ33に配置される移動鏡49,43に本発明を適用した例について説明したが、例えば、検査装置のステージ装置等の移動鏡に広く適用することができる。
(3)上述した実施形態では、本発明をEUV露光装置に適用した例について説明したが、荷電粒子線露光装置等のように真空雰囲気内で露光を行う露光装置に広く適用することができる。
17…チャンバ、29…ウエハステージ、33…レチクルステージ、41,47…レーザー干渉計、43,49…移動鏡、63…直交度計測用工具、68…オートコリメータ、L1…計測用レーザービーム、L2…参照用レーザービーム。
Claims (3)
- 真空雰囲気とされる密閉空間内に配置される移動鏡を、前記密閉空間内に配置されるレーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整する移動鏡の調整方法において、
前記密閉空間を大気雰囲気にした状態で前記移動鏡を前記レーザービームに対して垂直になるように調整する工程と、
前記密閉空間を大気雰囲気にした状態で前記移動鏡を前記レーザー干渉計の信号が最大になるように調整する工程と、
前記移動鏡を前記レーザービームに対して垂直になるように調整した時と、前記移動鏡を前記レーザー干渉計の信号が最大になるように調整した時の前記移動鏡の傾き差を求める工程と、
前記密閉空間を真空雰囲気にした状態で前記レーザー干渉計の信号が最大になるように前記移動鏡を調整する工程と、
前記密閉空間を真空雰囲気にした状態で前記移動鏡を前記傾き差に対応する傾きだけ傾け前記移動鏡を前記レーザー干渉計のレーザービームに対して垂直になるように調整する工程と、
を有することを特徴とする移動鏡の調整方法。 - 請求項1記載の移動鏡の調整方法において、
前記密閉空間は、真空雰囲気内において露光を行う露光装置内に形成されていることを特徴とする移動鏡の調整方法。 - 請求項2記載の移動鏡の調整方法において、
前記移動鏡は、前記密閉空間内に収容されるステージ装置に配置されていることを特徴とする移動鏡の調整方法。
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