JP2006173202A - 半導体装置とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 周辺領域の半導体下層23は、セル領域の組合せを構成するn型コラム27よりn型不純物を低濃度に含んで形成されており、その周辺半導体層23の表面にp型不純物を含むリサーフ層52が形成されており、そのリサーフ層52の表面にフィールド酸化層54が形成されており、そのフィールド酸化層54の表面にフィールドプレート42aが形成されている。
【選択図】 図1
Description
本発明の目的は、周辺領域の耐圧をセル領域の耐圧より高く形成することができる半導体装置を提供する。さらに、セル領域の耐圧を低下させて上記関係を得るのではなく、周辺領域の耐圧を向上させて上記関係を得ることを目的としている。
第1部分領域と第2部分領域は、例えば薄板状、四角柱状、あるいは六角柱状である。あるいは層厚方向に対して直交する面内で広く広がる第1部分領域内に、柱状の第2部分領域が分散配置されていてもよい。要は、層厚方向に直交する面内で、第1部分領域と第2部分領域の組合せが少なくとも一方方向へ繰返されていればよい。
セル領域に形成されている縦型半導体スイッチングセルの種類に特に制限はない。例えば、MOSFET(Metal Oxide Silicon Field Effect Transistor)、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、SIT(Static Induction Transistor)、あるいはSBT(Shottky Barrier Diode)等の縦型半導体スイッチングセルを好適に利用することができる。縦型半導体スイッチングセルを構成するゲート電極は、トレンチ型、プレーナ型のいずれであってもよい。
セル領域の半導体上層は、例えば半導体スイッチングセルのボディ層等として利用される。周辺領域の半導体上層は、前記したように、高耐圧化に寄与する半導体層として利用される。したがって、セル領域側で作用を発揮する半導体層と、周辺領域側で別の作用を発揮する半導体層を、1つの半導体上層によって兼用することができる。セル領域側と周辺領域側のそれぞれに対して、別個に半導体層を作製する必要がなく、1つの半導体上層を作製することによって2つの作用を得ることができる。この態様の半導体装置は、製造が容易な構造と言える。
この場合、セル領域の空乏化領域の縦方向の幅は、トレンチゲート電極の底面から半導体層の裏面までの幅となる。したがって、周辺領域の空乏化領域の縦方向の幅は、トレンチゲート電極の深さ方向の幅の分だけ、セル領域の空乏化領域より大きくなる。周辺領域の耐圧がセル領域の耐圧より大きい半導体装置を得ることができる。
本発明の半導体装置の製造方法は、セル領域から周辺領域まで連続して伸びている第1導電型半導体層を用意する工程と、その半導体層のセル領域内に、半導体層の表面から裏面に向けて伸びるトレンチ群を形成する工程を備えている。さらに、半導体層の露出面に第1導電型不純物を導入する工程を備えている。その他に、第1導電型不純物が導入された半導体層の表面近傍領域を除去する工程と、第2導電型不純物を含む半導体をトレンチ群内に充填する工程とを備えている。
第1導電型不純物を含有するガスを利用することによって、半導体層の表面と、トレンチ群を画定する半導体層の側面に対して、即ち全ての露出面に対して第1導電型不純物を所望する濃度で導入し易い。さらに、後の充填工程で利用するチャンバーを利用することができるので、製造コストの面で有利となる。
この工程を追加することによって、所望する不純物濃度を含む半導体上層を得ることができる。例えば、空乏化領域の形成、電界集中の緩和等を達成するのに最適な不純物濃度を含む半導体上層を得ることができる。なお、トレンチ群内に半導体を充填する際に、半導体上層を一体で形成し、除去工程を省略することもできる。この場合、工程数を少なくすることができるので、製造コストの面で有利となる。
(第1形態) 縦型半導体スイッチングセル群が形成されているセル領域とそのセル領域の周辺に位置している周辺領域を備えている半導体装置である。セル領域にはSJ構造を備えている。周辺領域には、セル領域のSJ構造を構成する一方の部分領域より低濃度の不純物を含んでいる半導体下層を備えている。その周辺の半導体下層の表面に、その半導体下層と反対導電型の半導体上層を備えている。半導体上層の表面に絶縁層を備えている。絶縁層の表面に縦型半導体スイッチングセル群の表面側の主電極に接続されている導体層を備えている。導体層は、セル領域側から周辺に向けて伸びて形成されている。
(第2形態) SJ構造の繰返し方向に沿った領域であって、セル領域と周辺領域の境界に、SJ構造の第1導電型部分領域と略同一の不純物濃度であり、且つその幅が他の第1導電型部分領域より狭い第1導電型の半導体領域(実施例では境界n型コラムという)が存在している。
(第3形態) 半導体上層は、面的に広がっている。
(第4形態) 半導体上層は、周辺の半導体下層の表面全体を被覆している。
(第5形態) 半導体上層とp型コラムの不純物濃度がほぼ等しい。
周辺領域の半導体層22には、n−型の半導体下層23とp−型のリサーフ層52(半導体上層の一例)が形成されている。半導体下層23の不純物濃度は、SJ構造を構成するn型コラム27の不純物濃度より低い。半導体下層23の層厚は、200V耐圧系では例えば約10〜13μmである。リサーフ層52の層厚は、例えば約1〜3μmである。なお、周辺領域よりさらに外側(図示しない)に、他の構造が作り込まれていてもよい。他の構造として、例えば絶縁分離用トレンチ、チャネルストッパ領域等を挙げることができる。
n型コラム27とp型コラム25の不純物量はチャージバランスしているのが好ましい。SJ構造の領域を完全空乏化することができる。n型コラム27は、オン抵抗の低減化のために高濃度であるのが好ましい。本実施例では、例えば、n型コラム27の不純物濃度と幅は、リサーフ条件を満たす値にしている。
周辺の半導体下層23の不純物濃度は、n型コラム27の不純物濃度より低いことが好ましい。半導体下層23において、空乏層を横方向に広く伸ばすことができる。半導体下層23の不純物濃度は、n型コラム27の不純物濃度の1/10以下とするのが好ましい。この場合、後に説明するように、半導体下層23の不純物濃度がバラツク場合でも、周辺領域における耐圧低下を抑制することができる。本実施例では、例えば、5×1014cm−3としている。
リサーフ層52の不純物濃度は、5×1015cm−3以下とするのが好ましい。本実施例では、例えば、3×1015cm−3としている
この変形例のリサーフ層52は、後の製造方法で説明するように、p型コラム25を埋込み成長して形成する際に、一体で作製して得ることができる。したがって、製造工程数が少なくて済むという利点を有する。この場合、周辺領域の耐圧は265Vであり、実施例の場合に比して耐圧は低下するものの、セル領域の耐圧(245V)よりも大きいという関係は得られている。したがって、耐圧に関して「セル領域<周辺領域」の関係を得ることに成功している。本変形例によると、製造コストの削減と周辺領域における高耐圧化の両者を実現することができる。
まず、図6に示すように、n+型の半導体基板121(不純物を高濃度に含み、実質的には導体ということができる)の表面に、n−型の半導体層122が形成されている半導体積層体を用意する。この半導体積層体は、例えば半導体基板121の表面から半導体層122をエピタキシャル成長して得ることができる。
次に、図7に示すように、フォトリソグラフィー技術等を用いて、半導体層122の中心側の所定領域内に、半導体層122の表面から半導体基板121にまで達するトレンチ122a群を形成する。トレンチ122a群は、例えばRIE等のドライエッチング(異方性エッチング)を利用して形成することができる。これにより、隣り合うトレンチ122a間に挟まれた複数の半導体層127が形成される。換言すると、それぞれが離間している複数の半導体層127が形成されていると言うことができる。この中心側領域内の複数の半導体層127は、その側面から深部までの距離が短くなる。一方、周辺側の半導体層123は、その側面から深部までの距離が長い。中心側領域内の複数の半導体層127が、後にSJ構造のn型コラムとなり、周辺側の半導体層123が周辺の半導体下層となる。
次に、図9に示すように、半導体層122の表面を研磨して、不純物が導入されていた表面近傍の導入領域を除去する。これにより、中心側領域内には不純物濃度が高くなった複数の離間する半導体層127が形成される。周辺側には不純物濃度が変化していない半導体層123が形成される。なお、中心側領域内の最外周側(あるいは周辺側の半導体層123の最内周領域ともいえる)には、他の中心側の半導体層127の幅の略半分のn型領域126が形成される。このn型領域126は、図1に示す境界n型コラム26となる部分である。換言すると、本製造方法を利用して形成される半導体装置は、SJ構造の繰返し方向に沿った領域のうち、他のn型コラムと略同一濃度であり、且つその幅が他のn型コラムより狭いn型領域126を必然的に備えているといえる。このようなn型領域126が存在する場合は、本製造方法を利用していると結論付けることができ得る。
次に、図10に示すように、トレンチ122a群内にp型の半導体129を埋込みエピタキシャル成長させる。埋込みエピタキシャル成長は、半導体129が半導体層(123、127)の表面を覆うまで行う。
次に、図11に示すように、半導体129のうち半導体層(123、127)の表面を覆っている部分を研磨して、半導体層(123、127)と充填されたトレンチ群125を露出させる。これにより、n型部分領域とp型部分領域の組み合わせが、繰返して形成されている状態、即ちSJ構造を得ることができる。
次に、図12に示すように、SJ構造と周辺半導体層123の表面にp−型のリサーフ層152をエピタキシャル成長して形成する。
次に、従来既知の製造方法あるいは当業者が容易に想到し得る製造技術を用いて、SJ構造が形成されている部分に対応して、トレンチゲート電極134、ソース領域137、さらにボディコンタクト領域139等の各構造を形成する。この後に、フィールド酸化膜、フィールドプレート、ドレイン電極等を作製することによって、本実施例の半導体装置を得ることができる。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
22:半導体層
23:半導体下層
25:n型コラム
27:p型コラム
31:ボディ領域
32:ゲート絶縁膜
34:トレンチゲート電極
36:層間絶縁膜
37:ソース領域
39:ボディコンタクト領域
42:ソース電極
42a:フィールドプレート
52:リサーフ層
54:フィールド酸化層
Claims (6)
- 縦型半導体スイッチングセル群が形成されているセル領域とそのセル領域の周辺に位置している周辺領域を備えている半導体装置であって、
セル領域から周辺領域まで連続して形成されている半導体層と、
周辺領域の半導体層の表面を被覆している絶縁層と、
その絶縁層の少なくともセル領域側の表面を被覆している導体層を備えており、
セル領域の半導体層の下部領域には、層厚方向に伸びるとともに第1導電型不純物を含む第1部分領域と層厚方向に伸びるとともに第2導電型不純物を含む第2部分領域の組合せが前記層厚方向に対して直交する面内で繰返されているスーパージャンクション構造が形成されており、
周辺領域の半導体層には、第2導電型不純物を含む半導体上層と第1部分領域より低濃度の第1導電型不純物を含む半導体下層が形成されており、
前記導体層は、縦型半導体スイッチングセル群の表面側の主電極に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体上層が、セル領域のスーパージャンクション構造の上方にまで伸びていることを特徴とする請求項1の半導体装置。
- スーパージャンクション構造の上方にまで伸びている第2導電型半導体上層内に、
第1導電型不純物を高濃度に含むソース領域と、
そのソース領域と第1部分領域を隔てている半導体上層にゲート絶縁膜を介して対向するトレンチゲート電極が形成されていることを特徴とする請求項2の半導体装置。 - 縦型半導体スイッチングセル群が形成されているセル領域とそのセル領域の周辺に位置している周辺領域を備えている半導体装置の製造方法であり、
セル領域から周辺領域まで連続して伸びている第1導電型半導体層を用意する工程と、
その半導体層のセル領域内に、半導体層の表面から裏面に向けて伸びるトレンチ群を形成する工程と、
半導体層の露出面に第1導電型不純物を導入する工程と、
第1導電型不純物が導入された前記半導体層の表面近傍領域を除去する工程と、
第2導電型不純物を含む半導体をトレンチ群内に充填する工程と、
を備えていることを特徴とする製造方法。 - 前記導入工程では、半導体層の露出面を第1導電型不純物を含有するガスに曝すことを特徴とする請求項4の製造方法。
- 前記充填工程を実施した後に、半導体層の表面を覆っている第2導電型不純物を含む半導体を除去して充填トレンチ群を露出する工程と、
その除去工程を実施した後に、半導体層と充填トレンチ群の表面に第2導電型不純物を含む半導体上層を結晶成長する工程と、
をさらに備えていることを特徴とする請求項4又は5の半導体装置の製造方法。
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