JP2006104189A - 有機金属化合物および有機金属化合物を製造する方法 - Google Patents
有機金属化合物および有機金属化合物を製造する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006104189A JP2006104189A JP2005250826A JP2005250826A JP2006104189A JP 2006104189 A JP2006104189 A JP 2006104189A JP 2005250826 A JP2005250826 A JP 2005250826A JP 2005250826 A JP2005250826 A JP 2005250826A JP 2006104189 A JP2006104189 A JP 2006104189A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- group
- independently
- gallium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G15/00—Compounds of gallium, indium or thallium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
- C07F5/06—Aluminium compounds
- C07F5/061—Aluminium compounds with C-aluminium linkage
- C07F5/064—Aluminium compounds with C-aluminium linkage compounds with an Al-Halogen linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G13/00—Compounds of mercury
- C01G13/04—Halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G9/00—Compounds of zinc
- C01G9/04—Halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic System
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic System
- C07F3/06—Zinc compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
- C07F5/06—Aluminium compounds
- C07F5/061—Aluminium compounds with C-aluminium linkage
- C07F5/062—Al linked exclusively to C
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/301—AIII BV compounds, where A is Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
Abstract
【解決手段】式R1 a’M1b’Y1 c’(式中、各R1は独立して(C1−C10)有機基であり、M1はIIB族またはIIIA族金属であり、各Y1は独立して(C1−C4)カルボキシレートまたはハロゲンであり、a’=0〜2であり、b’はM1の価数であり、c’=1〜3であり、a’+c’=b’である)の化合物を式R2 XM2Y2 3−x(式中、各R2は独立して(C1−C10)有機基であり、M2はIIIA族金属であり、各Y2は独立して(C1−C4)カルボキシレートまたはハロゲンであり、x=1〜3である)の化合物と第3級アミンまたは第3級ホスフィンの存在下で反応させる工程を含み、M1の電気陰性度がM2の電気陰性度以上である化合物の調製方法。
【選択図】なし
Description
コンデンサーおよび磁気撹拌棒を備えたフラスコ中、インジウム金属(5g、44ミリモル)の直鎖アルキルベンゼン(20mL)中の懸濁液に、ヨードメタン(10g、64ミリモル)を滴下して、エチルインジウムセスキヨージドを合成した。反応を窒素雰囲気下で行った。反応マスを110℃に加熱した後にのみ反応が開始することが判明した。加熱を2時間続け、内容物を冷却した。サイフォン技術を用いてトリメチルアルミニウム(3g、42ミリモル)を反応混合物に滴下した。バキュームトランスファーを用いて生成物を単離する試みを行った。形成される可能性のあるトリメチルインジウムを検出するために、粗生成物をFT−NMRにより分析した。分析により、粗生成物はトリメチルアルミニウム、ヨードメタンおよび直鎖アルキルベンゼンからなることが示された。トリメチルインジウムは粗生成物において検出されなかった。
Claims (10)
- 99.9999%の純度を有し、0.5ppm未満の酸素化不純物を有する式RaMbYc(式中、各Rは独立して(C1−C10)有機基であり、MはIIB族またはIIIA族金属であり、各Yは独立して(C1−C4)カルボキシレートまたはハロゲンであり、a=1〜3であり、bはMの価数であり、c=0〜2であり、a+c=bである)の化合物。
- Mがインジウムまたはガリウムである請求項1記載の化合物。
- 式R1 a’M1b’Y1 c’(式中、各R1は独立して(C1−C10)有機基であり、M1はIIB族またはIIIA族金属であり、各Y1は独立して(C1−C4)カルボキシレートまたはハロゲンであり、a’=0〜2であり、b’はM1の価数であり、c’=1〜3であり、a’+c’=b’である)の化合物を式R2 XM2Y2 3−x(式中、各R2は独立して(C1−C10)有機基であり、M2はIIIA族金属であり、各Y2は独立して(C1−C4)カルボキシレートまたはハロゲンであり、x=1〜3である)の化合物と第3級アミンまたは第3級ホスフィンの存在下で反応させる工程を含み、M1の電気陰性度がM2の電気陰性度以上である請求項1記載の化合物の調製方法。
- Yがハロゲンである請求項3記載の方法。
- 反応が有機溶媒の存在下で行われる請求項3記載の方法。
- M1およびM2がどちらもアルミニウムである請求項5記載の方法。
- 加熱工程をさらに含む請求項3記載の方法。
- 各R1および各R2が(C1−C6)アルキルである請求項3記載の方法。
- 第3級アミンが式NR4R5R6(式中、R4、R5およびR6は独立して(C1−C6)アルキル、ジ(C1−C6)アルキルアミノ置換(C1−C6)アルキル、およびフェニルから選択され;R4およびR5はこれらが結合している窒素と一緒になって5〜7員複素環を形成することができる)を有する請求項3記載の方法。
- トリアルキルアルミニウムおよびアルミニウムトリハライドが生じる請求項9記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US60679504P | 2004-09-02 | 2004-09-02 | |
US60/606795 | 2004-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006104189A true JP2006104189A (ja) | 2006-04-20 |
JP5052774B2 JP5052774B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=35601836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005250826A Expired - Fee Related JP5052774B2 (ja) | 2004-09-02 | 2005-08-31 | 有機金属化合物および有機金属化合物を製造する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7166734B2 (ja) |
EP (1) | EP1643547B1 (ja) |
JP (1) | JP5052774B2 (ja) |
KR (1) | KR101117139B1 (ja) |
CN (1) | CN100358903C (ja) |
DE (1) | DE602005010804D1 (ja) |
TW (1) | TW200619222A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008184419A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-08-14 | Ube Ind Ltd | 高純度トリアルキルインジウム及びその製法 |
JP2008263023A (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Iii−v族化合物半導体の製造方法、ショットキーバリアダイオード、発光ダイオード、レーザダイオード、およびそれらの製造方法 |
JP2010195690A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Ube Ind Ltd | 高純度トリアルキルガリウム及びその製造方法 |
JP2012062331A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-03-29 | Ube Industries Ltd | 高純度トリアルキルインジウム及びその製法 |
WO2014013928A1 (ja) * | 2012-07-20 | 2014-01-23 | 大正製薬株式会社 | 安定化された内服用固形製剤 |
JP2014037424A (ja) * | 2013-10-07 | 2014-02-27 | Ube Ind Ltd | 高純度トリアルキルガリウム及びその製造方法 |
JP2014534256A (ja) * | 2011-11-28 | 2014-12-18 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | トリアルキルガリウム化合物の調製方法 |
JP2015082573A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 住友電気工業株式会社 | エピタキシャルウエハおよびその製造方法 |
JP2016029026A (ja) * | 2014-02-07 | 2016-03-03 | 宇部興産株式会社 | トリアルキルガリウムの製造方法 |
JP2016056160A (ja) * | 2014-02-07 | 2016-04-21 | 宇部興産株式会社 | トリアルキルガリウムの製造方法 |
JP2016536325A (ja) * | 2013-08-22 | 2016-11-24 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | アルキルインジウム化合物の製造方法及びその使用 |
JP2017110268A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | 宇部興産株式会社 | 酸化アルミニウム膜の製造原料及び酸化アルミニウム膜の製造方法 |
JP2018505888A (ja) * | 2015-02-13 | 2018-03-01 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | アルキルインジウム化合物の調製プロセス及びその使用 |
KR20200012952A (ko) * | 2017-05-29 | 2020-02-05 | 우미코레 아게 운트 코 카게 | 카복실레이트 존재하의 트리알킬인듐 화합물의 제조 |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9481943B2 (en) * | 2006-11-22 | 2016-11-01 | Soitec | Gallium trichloride injection scheme |
US9481944B2 (en) | 2006-11-22 | 2016-11-01 | Soitec | Gas injectors including a funnel- or wedge-shaped channel for chemical vapor deposition (CVD) systems and CVD systems with the same |
US20100139554A1 (en) * | 2008-12-08 | 2010-06-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for making gallium nitride and gallium aluminum nitride thin films |
JP2011054935A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-03-17 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | ドーピング方法 |
TWI529808B (zh) | 2010-06-10 | 2016-04-11 | Asm國際股份有限公司 | 使膜選擇性沈積於基板上的方法 |
JP6108704B2 (ja) | 2011-07-13 | 2017-04-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 有機金属化合物精製 |
EP2545973B1 (en) | 2011-07-13 | 2020-03-04 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by stripping step |
EP2559681B1 (en) | 2011-08-15 | 2016-06-22 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound preparation |
EP2559682B1 (en) | 2011-08-15 | 2016-08-03 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Organometallic compound preparation |
DE102012013941A1 (de) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Umicore Ag & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von Galliumtrialkylverbindungen |
US9112003B2 (en) | 2011-12-09 | 2015-08-18 | Asm International N.V. | Selective formation of metallic films on metallic surfaces |
WO2014099171A1 (en) | 2012-12-17 | 2014-06-26 | Albemarle Corporation | Preparation of trialkylindium compounds and trialkylgallium compounds |
WO2015057556A1 (en) | 2013-10-15 | 2015-04-23 | LIFI Labs, Inc. | Lighting assembly |
US11455884B2 (en) | 2014-09-02 | 2022-09-27 | LIFI Labs, Inc. | Lighting system |
WO2015073890A1 (en) | 2013-11-14 | 2015-05-21 | LIFI Labs, Inc. | Resettable lighting system and method |
TWI686499B (zh) | 2014-02-04 | 2020-03-01 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 金屬、金屬氧化物與介電質的選擇性沉積 |
US10047435B2 (en) | 2014-04-16 | 2018-08-14 | Asm Ip Holding B.V. | Dual selective deposition |
CN106465499B (zh) | 2014-05-22 | 2018-11-30 | 莱弗实验室公司 | 定向照明系统和方法 |
KR102185458B1 (ko) | 2015-02-03 | 2020-12-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 선택적 퇴적 |
KR101965219B1 (ko) * | 2015-02-17 | 2019-04-03 | 주식회사 유피케미칼 | 알루미늄 화합물 및 이를 이용한 알루미늄-함유 막의 형성 방법 |
US9490145B2 (en) | 2015-02-23 | 2016-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Removal of surface passivation |
CN104774214B (zh) * | 2015-04-28 | 2016-08-24 | 河南承明光电新材料股份有限公司 | 一种二甲基锌的制备方法 |
US10428421B2 (en) | 2015-08-03 | 2019-10-01 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition on metal or metallic surfaces relative to dielectric surfaces |
US10121699B2 (en) | 2015-08-05 | 2018-11-06 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of aluminum and nitrogen containing material |
US10566185B2 (en) * | 2015-08-05 | 2020-02-18 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of aluminum and nitrogen containing material |
US10814349B2 (en) | 2015-10-09 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Vapor phase deposition of organic films |
US10343186B2 (en) | 2015-10-09 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Vapor phase deposition of organic films |
US10695794B2 (en) | 2015-10-09 | 2020-06-30 | Asm Ip Holding B.V. | Vapor phase deposition of organic films |
US9981286B2 (en) | 2016-03-08 | 2018-05-29 | Asm Ip Holding B.V. | Selective formation of metal silicides |
US10551741B2 (en) | 2016-04-18 | 2020-02-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a directed self-assembled layer on a substrate |
US10204782B2 (en) | 2016-04-18 | 2019-02-12 | Imec Vzw | Combined anneal and selective deposition process |
US11081342B2 (en) | 2016-05-05 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition using hydrophobic precursors |
US10373820B2 (en) | 2016-06-01 | 2019-08-06 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of organic films |
US10453701B2 (en) | 2016-06-01 | 2019-10-22 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of organic films |
US10014212B2 (en) | 2016-06-08 | 2018-07-03 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of metallic films |
US9803277B1 (en) | 2016-06-08 | 2017-10-31 | Asm Ip Holding B.V. | Reaction chamber passivation and selective deposition of metallic films |
US10440794B2 (en) | 2016-11-02 | 2019-10-08 | LIFI Labs, Inc. | Lighting system and method |
US11430656B2 (en) | 2016-11-29 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of oxide thin films |
US11094535B2 (en) | 2017-02-14 | 2021-08-17 | Asm Ip Holding B.V. | Selective passivation and selective deposition |
US11501965B2 (en) | 2017-05-05 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Plasma enhanced deposition processes for controlled formation of metal oxide thin films |
CN115233183A (zh) | 2017-05-16 | 2022-10-25 | Asm Ip 控股有限公司 | 电介质上氧化物的选择性peald |
US10900120B2 (en) | 2017-07-14 | 2021-01-26 | Asm Ip Holding B.V. | Passivation against vapor deposition |
US11401282B2 (en) * | 2017-10-31 | 2022-08-02 | Nouryon Chemicals International B.V. | Method for storing and/or transporting gallium chloride |
WO2019115377A1 (en) | 2017-12-13 | 2019-06-20 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Process for purification of dimethyl aluminium chloride |
JP7146690B2 (ja) | 2018-05-02 | 2022-10-04 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 堆積および除去を使用した選択的層形成 |
JP2020056104A (ja) | 2018-10-02 | 2020-04-09 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 選択的パッシベーションおよび選択的堆積 |
US11965238B2 (en) | 2019-04-12 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of metal oxides on metal surfaces |
US11139163B2 (en) | 2019-10-31 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of SiOC thin films |
TW202140832A (zh) | 2020-03-30 | 2021-11-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化矽在金屬表面上之選擇性沉積 |
TW202140833A (zh) | 2020-03-30 | 2021-11-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 相對於金屬表面在介電表面上之氧化矽的選擇性沉積 |
TW202204658A (zh) | 2020-03-30 | 2022-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 在兩不同表面上同時選擇性沉積兩不同材料 |
KR20220097266A (ko) * | 2020-12-30 | 2022-07-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 재료 증착을 위한 조성물, 합성 방법 및 용도 |
CN112778348A (zh) * | 2021-02-04 | 2021-05-11 | 盘锦研峰科技有限公司 | 一种烷基卤化铝的合成方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0267230A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Toyo Stauffer Chem Co | 有機金属化合物の精製法 |
JPH0641151A (ja) * | 1992-07-27 | 1994-02-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機亜鉛化合物の精製方法 |
JPH07224071A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-08-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | 有機金属化合物の精製方法 |
JPH1171381A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-03-16 | Morton Internatl Inc | 高純度トリメチルインジウムおよびその合成方法 |
JP2003064090A (ja) * | 2001-04-06 | 2003-03-05 | Shipley Co Llc | トリアルキルva族金属化合物 |
JP2003335785A (ja) * | 2002-04-06 | 2003-11-28 | Shipley Co Llc | トリアルキルインジウムの調製 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2954389A (en) * | 1957-01-18 | 1960-09-27 | Nat Distillers Chem Corp | Preparation of trimethylaluminum |
US3808207A (en) * | 1967-06-05 | 1974-04-30 | Ethyl Corp | Complexes of beryllium hydride with tertiary amines |
US4364873A (en) * | 1981-07-13 | 1982-12-21 | Ethyl Corporation | Method of making aluminum alkyls |
US4364872A (en) * | 1981-07-13 | 1982-12-21 | Ethyl Corporation | Method of making aluminum alkyls |
US4720561A (en) * | 1984-03-26 | 1988-01-19 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Preparation of metal alkyls |
JPH0662640B2 (ja) * | 1985-04-09 | 1994-08-17 | イギリス国 | ▲ii▼族金属アルキルの製造 |
US4740606A (en) * | 1986-07-01 | 1988-04-26 | Morton Thiokol, Inc. | Gallium hydride/trialkylamine adducts, and their use in deposition of III-V compound films |
US4847399A (en) * | 1987-01-23 | 1989-07-11 | Morton Thiokol, Inc. | Process for preparing or purifying Group III-A organometallic compounds |
US4841082A (en) * | 1988-08-19 | 1989-06-20 | Texas Alkyls, Inc. | Preparation of dimethylzinc |
US5473090A (en) * | 1992-07-02 | 1995-12-05 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for the preparation of trialkyl compounds of group 3a metals |
US5350869A (en) * | 1993-07-27 | 1994-09-27 | Cvd, Incorporated | Purification of trialkylgallium, synthesis of trialkylgallium |
IT1273701B (it) * | 1994-07-29 | 1997-07-09 | Enichem Elastomers | Derivati metallorganici del grupo iiia e procedimento per la loro preparazione |
MY112590A (en) * | 1994-09-02 | 2001-07-31 | Sec Dep For Defence Acting Through His Defence Evaluation And Research Agency United Kingdom | Semi-conductor devices and their production |
JP3782149B2 (ja) * | 1995-03-22 | 2006-06-07 | 長瀬産業株式会社 | 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法 |
US5543537A (en) * | 1995-05-08 | 1996-08-06 | Albemarle Corporation | Process for preparing trimethylaluminum |
JP2000517358A (ja) * | 1996-08-26 | 2000-12-26 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | スターポリマーおよびその製造方法 |
US5663390A (en) * | 1996-08-29 | 1997-09-02 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing organo indium chlorides |
TR200000310T2 (tr) * | 1997-06-24 | 2000-08-21 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Bir 3-(2-değiştirilmiş-vinil)-sefalosporin' in z-izomeri' nin seçici üretimine mahsus bir yöntem. |
DE60301152T8 (de) * | 2002-01-17 | 2006-04-27 | Shipley Co., L.L.C., Marlborough | Organoindiumverbindungen zur Verwendung in der chemischen Dampfphasenabscheidung |
US6767830B2 (en) * | 2002-08-07 | 2004-07-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Br2SbCH3 a solid source ion implant and CVD precursor |
US20040122248A1 (en) * | 2002-10-18 | 2004-06-24 | Shipley Company, L.L.C. | Preparation of organometal compounds |
JP4689969B2 (ja) * | 2003-04-05 | 2011-06-01 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | Iva族およびvia族化合物の調製 |
JP4054997B2 (ja) * | 2003-06-19 | 2008-03-05 | 信越化学工業株式会社 | 高純度アルキルガリウムの製造方法 |
-
2005
- 2005-08-30 TW TW94129631A patent/TW200619222A/zh unknown
- 2005-08-31 JP JP2005250826A patent/JP5052774B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-02 EP EP05255413A patent/EP1643547B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-02 KR KR20050081620A patent/KR101117139B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-02 CN CNB2005100998358A patent/CN100358903C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-02 US US11/219,227 patent/US7166734B2/en active Active
- 2005-09-02 DE DE602005010804T patent/DE602005010804D1/de active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0267230A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Toyo Stauffer Chem Co | 有機金属化合物の精製法 |
JPH0641151A (ja) * | 1992-07-27 | 1994-02-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機亜鉛化合物の精製方法 |
JPH07224071A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-08-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | 有機金属化合物の精製方法 |
JPH1171381A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-03-16 | Morton Internatl Inc | 高純度トリメチルインジウムおよびその合成方法 |
JP2003064090A (ja) * | 2001-04-06 | 2003-03-05 | Shipley Co Llc | トリアルキルva族金属化合物 |
JP2003335785A (ja) * | 2002-04-06 | 2003-11-28 | Shipley Co Llc | トリアルキルインジウムの調製 |
Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008184419A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-08-14 | Ube Ind Ltd | 高純度トリアルキルインジウム及びその製法 |
JP2008263023A (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Iii−v族化合物半導体の製造方法、ショットキーバリアダイオード、発光ダイオード、レーザダイオード、およびそれらの製造方法 |
JP2010195690A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Ube Ind Ltd | 高純度トリアルキルガリウム及びその製造方法 |
JP2021169529A (ja) * | 2011-11-28 | 2021-10-28 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | 第iiia族金属のトリアルキル化合物の調製方法 |
JP2014534256A (ja) * | 2011-11-28 | 2014-12-18 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | トリアルキルガリウム化合物の調製方法 |
JP2015504439A (ja) * | 2011-11-28 | 2015-02-12 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | 第iiia族金属のトリアルキル化合物の調製方法 |
JP2020019825A (ja) * | 2011-11-28 | 2020-02-06 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | 第iiia族金属のトリアルキル化合物の調製方法 |
US9695201B2 (en) | 2011-11-28 | 2017-07-04 | Umicore Ag & Co. Kg | Process for preparing trialkyl compounds of metals of group IIIA |
JP2012062331A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-03-29 | Ube Industries Ltd | 高純度トリアルキルインジウム及びその製法 |
WO2014013928A1 (ja) * | 2012-07-20 | 2014-01-23 | 大正製薬株式会社 | 安定化された内服用固形製剤 |
JP2016536325A (ja) * | 2013-08-22 | 2016-11-24 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | アルキルインジウム化合物の製造方法及びその使用 |
US10239892B2 (en) | 2013-08-22 | 2019-03-26 | Umicore Ag & Co. Kg | Method for producing alkyl-indium compounds and the use thereof |
US10745421B2 (en) | 2013-08-22 | 2020-08-18 | Umicore Ag & Co. Kg | Method for producing alkyl-indium compounds and the use thereof |
JP2019178166A (ja) * | 2013-08-22 | 2019-10-17 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | アルキルインジウム化合物の製造方法及びその使用 |
JP2014037424A (ja) * | 2013-10-07 | 2014-02-27 | Ube Ind Ltd | 高純度トリアルキルガリウム及びその製造方法 |
US9773932B2 (en) | 2013-10-22 | 2017-09-26 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Epitaxial wafer and method for manufacturing same |
WO2015059988A1 (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-30 | 住友電気工業株式会社 | エピタキシャルウエハおよびその製造方法 |
JP2015082573A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 住友電気工業株式会社 | エピタキシャルウエハおよびその製造方法 |
JP2016056160A (ja) * | 2014-02-07 | 2016-04-21 | 宇部興産株式会社 | トリアルキルガリウムの製造方法 |
JP2016029026A (ja) * | 2014-02-07 | 2016-03-03 | 宇部興産株式会社 | トリアルキルガリウムの製造方法 |
JP2018505888A (ja) * | 2015-02-13 | 2018-03-01 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | アルキルインジウム化合物の調製プロセス及びその使用 |
JP2017110268A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | 宇部興産株式会社 | 酸化アルミニウム膜の製造原料及び酸化アルミニウム膜の製造方法 |
KR20200012952A (ko) * | 2017-05-29 | 2020-02-05 | 우미코레 아게 운트 코 카게 | 카복실레이트 존재하의 트리알킬인듐 화합물의 제조 |
JP2020521729A (ja) * | 2017-05-29 | 2020-07-27 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | カルボキシレートの存在下におけるトリアルキルインジウム化合物の生成 |
JP7094987B2 (ja) | 2017-05-29 | 2022-07-04 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト | カルボキシレートの存在下におけるトリアルキルインジウム化合物の生成 |
US11584764B2 (en) | 2017-05-29 | 2023-02-21 | Umicore Ag & Co. Kg | Production of trialkylindium compounds in the presence of carboxylates |
KR102593042B1 (ko) | 2017-05-29 | 2023-10-25 | 우미코레 아게 운트 코 카게 | 카복실레이트 존재하의 트리알킬인듐 화합물의 제조 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060047132A1 (en) | 2006-03-02 |
EP1643547A1 (en) | 2006-04-05 |
KR20060050962A (ko) | 2006-05-19 |
KR101117139B1 (ko) | 2012-03-07 |
EP1643547B1 (en) | 2008-11-05 |
JP5052774B2 (ja) | 2012-10-17 |
CN100358903C (zh) | 2008-01-02 |
DE602005010804D1 (de) | 2008-12-18 |
CN1746173A (zh) | 2006-03-15 |
TW200619222A (en) | 2006-06-16 |
US7166734B2 (en) | 2007-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5052774B2 (ja) | 有機金属化合物および有機金属化合物を製造する方法 | |
EP1990345B1 (en) | Organometallic germanium compounds suitable for use in vapor deposition processes | |
JP4689969B2 (ja) | Iva族およびvia族化合物の調製 | |
KR20070053138A (ko) | 유기 금속 화합물 정제 | |
KR100852361B1 (ko) | 트리알킬 va족 금속 화합물 | |
US20030181745A1 (en) | Organoindium compounds | |
US20040122248A1 (en) | Preparation of organometal compounds | |
KR0144860B1 (ko) | 환식 유기 금속 화합물 | |
WO2014093419A1 (en) | Production of tri-alkyl compounds of group 3a metals | |
US11584764B2 (en) | Production of trialkylindium compounds in the presence of carboxylates | |
US6956127B2 (en) | Alkyl group VA metal compounds | |
US6939983B2 (en) | Alkyl group VA metal compounds | |
CN1445233A (zh) | 烷基va族金属化合物 | |
US20030199704A1 (en) | Alkyl group VA metal compounds |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080805 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080805 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110506 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110704 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120626 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5052774 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150803 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |