JP2020521729A - カルボキシレートの存在下におけるトリアルキルインジウム化合物の生成 - Google Patents
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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Abstract
Description
2Me3In2Cl3+3Me3Al+6Na(2−EH)→4Me3In+3MeAl(2−EH)2+6NaCl(I)
式中、カルボキシレートとして使用されるナトリウム−2−エチルヘキサノエートは、Na(2−EH)に短縮され、ただし、
(a)アルキルインジウムハライド、カルボキシレート、及び溶媒を含有する混合物を用意するステップと、続いて、
(b)トリアルキルアルミニウムを添加するステップと、
を含む。
(a1)トリアルキルアルミニウム、カルボキシレート、及び溶媒を含有する混合物を用意するステップと、続いて、
(b1)アルキルインジウムハライドを添加するステップと、
を含む。
(i)本発明の方法によるトリアルキルインジウムを製造するステップと、
(ii)金属有機化学気相蒸着(MOCVD)を実施するステップであって、トリアルキルインジウムが、インジウムを含有するコーティングを基材上に堆積させるための前駆体化合物として使用されるステップと、
を含む、方法である。
実施例1
式Me2,4In2Cl3,6のメチルインジウムクロリド(以下でMICと称する、国際公開第2015/024894(A1)号に従って生成、実施例1.4)を、不活性ガスグローブボックス内でトリアルキルインジウムに変換した。反応は、テンパリングジャケットを備えた1Lの三つ口瓶内で行われる。89.9gのMIC(インジウムに対して468mmol)及び135.5gのナトリウム−2−エチルヘキサノエート(815mmol)を、400mLのスクアランに添加し、KPG撹拌機で激しく撹拌する。この混合物を、サーモクライオスタット(thermocryostat)を備えるテンパリングジャケットによって60℃まで加熱する(外部温度制御)。29.9gのトリメチルアルミニウム(415mmol)を、温度が60℃(±2℃)(およそ2時間)で一定になる(そのような)速度で、滴下漏斗によって液滴で加える。添加終了後、滴下漏斗を冷却フィンガー(cool finger)付きクーラーに交換し、水溜めを120℃まで加熱する。クーラーを冷却フィンガーと一緒に−25℃まで冷却し、TMI(トリメチルインジウム)を、真空を適用することで反応混合物から昇華させる。これにより、昇華物として70.8gのTMI(443mmol)を結晶性固体として得る(収率95%)。酸素系汚染は1H−NMRによって同定することができない。v
式Me2,4In2Cl3,6のメチルインジウムクロリド(実施例1による)を、不活性ガスグローブボックス内でトリアルキルインジウムに変換した。テンパリングジャケットを備える1Lの三つ口フラスコ中で、112.5gのメチルインジウムクロリド(インジウムに対して587mmol)及び168.7gのナトリウム−2−エチルヘキサノエート(1,015mmol)を、溶媒として500gのジベンジルトルエン(商標名Marlotherm SH、Sasol社、ドイツ)へ加えて、KPG攪拌機で攪拌する。この混合物を、サーモクライオスタットを備えるテンパリングジャケットによって60℃まで加熱する(外部温度制御)。36.9gのトリメチルアルミニウム(512mmol)を、温度が60℃(±2℃)(およそ1時間)で一定になる(そのような)速度で、滴下漏斗によって液滴で加える。添加終了後、滴下漏斗を冷却フィンガー付きクーラーに交換し、水溜めを120℃まで加熱する。クーラーを冷却フィンガーと一緒に−25℃まで冷却し、TMI(トリメチルインジウム)を、真空を適用することで反応混合物から昇華させる。これにより、昇華物として83.0gのTMI(519mmol)を結晶性固体として得る(収率88%)。酸素系汚染は1H−NMRによって同定することができない。
Claims (16)
- トリアルキルインジウムの製造方法であって、前記製造は、少なくとも1つのアルキルインジウムハライド、トリアルキルアルミニウム、カルボキシレート、及び溶媒を含有する反応混合物中で行われ、前記アルキル基は、C1〜C4アルキルから互いに独立して選択される、方法。
- 前記アルキルインジウムハライドが、式:
RaInbXc
[式中、Rが、C1〜C4アルキルから選択され、Xが、Cl、Br、及びIから選択され、かつa=1〜2、b=1、及びc=1〜2である]
を有する、請求項1に記載の方法。 - 前記ハライドが、クロリドである、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記アルキルが、メチル又はエチルである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アルキルインジウムハライドが、アルキルインジウムセスキクロリド(R3In2Cl3)である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記カルボキシレートが、式:
R’COOH
[式中、R’は、1〜20個、好ましくは5〜15個の炭素原子を有する炭化水素基である]
の1つのカルボン酸である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。 - 前記カルボキシレートが、式:
[R’COO]xM
[式中、Mは、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択され、かつx=1又は2である]
を有する、請求項6に記載の方法。 - 前記カルボキシレートに対応するカルボン酸が、200℃を超える沸点を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記溶媒が、炭化水素からなる、及び/又は400℃を超える沸点を有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記反応混合物中のIn:Alのモル比が、3:2〜2:3、好ましくは1未満である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記反応が、100℃未満、好ましくは80℃未満の温度で実施される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記トリアルキルインジウムが、昇華によって前記反応混合物から分離される、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記反応が、
(a)前記アルキルインジウムハライド、前記カルボキシレート、及び前記溶媒を含有する混合物を準備するステップと、
(b)前記トリアルキルアルミニウムを添加するステップと、
を含む、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。 - トリアルキルインジウムの収率が、使用されるインジウムの量に対して80%超である、及び/又は前記トリアルキルインジウムが、2ppm未満の酸素含有量を有する、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記カルボキシレートが、2−エチルヘキサノエート、n−オクタノエート、ナトリウム−2−エチルヘキサノエート、又はこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- インジウムを含有する半導体及び/又はインジウムを含有するコーティングの製造方法であって、
(i)本発明の方法によるトリアルキルインジウムを製造するステップと、
(ii)金属有機化学気相蒸着(MOCVD)を実施するステップであって、前記トリアルキルインジウムが、インジウムを含有するコーティングを基材上に堆積させるための前駆体化合物として使用されるステップと、を含む、方法。
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