JP2013067608A - 有機金属化合物製造 - Google Patents
有機金属化合物製造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013067608A JP2013067608A JP2012180029A JP2012180029A JP2013067608A JP 2013067608 A JP2013067608 A JP 2013067608A JP 2012180029 A JP2012180029 A JP 2012180029A JP 2012180029 A JP2012180029 A JP 2012180029A JP 2013067608 A JP2013067608 A JP 2013067608A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactant
- zone
- stream
- mixing
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 62
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims abstract description 134
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 101
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 48
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 46
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 11
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 10
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 7
- 229910021482 group 13 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 16
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 abstract description 12
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 54
- -1 e.g. Substances 0.000 description 45
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 21
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 15
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 12
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 10
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 8
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 8
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 8
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 6
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 6
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 6
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- FVZVCSNXTFCBQU-UHFFFAOYSA-N phosphanyl Chemical group [PH2] FVZVCSNXTFCBQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N squalane Chemical compound CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 125000004890 (C1-C6) alkylamino group Chemical group 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000172 C5-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- HEVGGTGPGPKZHF-UHFFFAOYSA-N Epilaurene Natural products CC1C(=C)CCC1(C)C1=CC=C(C)C=C1 HEVGGTGPGPKZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N n-Triacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 3
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229940032094 squalane Drugs 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006592 (C2-C3) alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCYJPXQACVEIOS-UHFFFAOYSA-N 1-isopropyl-3-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C)=C1 XCYJPXQACVEIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 2-Hexene Natural products CCCC=CC RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N Formamidine Chemical class NC=N PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N dimethylazanide;hafnium(4+) Chemical compound [Hf+4].C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N ethyl(methyl)azanide;hafnium(4+) Chemical compound [Hf+4].CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J hafnium tetrachloride Chemical compound Cl[Hf](Cl)(Cl)Cl PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N indane Chemical compound C1=CC=C2CCCC2=C1 PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002097 pentamethylcyclopentadienyl group Chemical group 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N pentene-2 Natural products CCC=CC QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000005671 trienes Chemical class 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006657 (C1-C10) hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006559 (C1-C3) alkylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006649 (C2-C20) alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006593 (C2-C3) alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- FLTNWMFPQFIBDA-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1.C1=CC=C2CCCCC2=C1 FLTNWMFPQFIBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCEZZDNWLVQCRU-UHFFFAOYSA-N 1,2-diaminoethyl Chemical group N[CH]CN YCEZZDNWLVQCRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 1-Isopropyl-2-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004399 C1-C4 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- OWQWEJKPOUNPPG-UHFFFAOYSA-M chloro(dimethyl)gallane Chemical compound C[Ga](C)Cl OWQWEJKPOUNPPG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FOJZPLNOZUNMJO-UHFFFAOYSA-M chloro(dimethyl)indigane Chemical compound [Cl-].C[In+]C FOJZPLNOZUNMJO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- JZPXQBRKWFVPAE-UHFFFAOYSA-N cyclopentane;indium Chemical compound [In].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1 JZPXQBRKWFVPAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- NAELOTVRFCXVRC-UHFFFAOYSA-L dichloro(methyl)indigane Chemical compound [Cl-].[Cl-].[In+2]C NAELOTVRFCXVRC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QAIDPMSYQQBQTK-UHFFFAOYSA-N diethylgallium Chemical compound CC[Ga]CC QAIDPMSYQQBQTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBVFMVQZAAZKJF-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propan-2-yl)alumane Chemical compound CC(C)[Al](C)C RBVFMVQZAAZKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYCFHRFABKKPTC-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propan-2-yl)indigane Chemical compound CC(C)[In](C)C HYCFHRFABKKPTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M dimethylalumanylium;chloride Chemical compound C[Al](C)Cl JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- GUGIFNFHECDRIV-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(methyl)alumane Chemical compound CC(C)(C)[Al](C)C(C)(C)C GUGIFNFHECDRIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKKCMKUMYGWZOS-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(methyl)indigane Chemical compound CC(C)(C)[In](C)C(C)(C)C IKKCMKUMYGWZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHGOGDWTZKFNSC-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethyl)alumane Chemical compound CC[Al](C)C SHGOGDWTZKFNSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMJWXHSCXIWRF-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethyl)indigane Chemical compound CC[In](C)C JMMJWXHSCXIWRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRLSISLWUNZOOB-UHFFFAOYSA-N ethyl(methyl)azanide;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C SRLSISLWUNZOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFICPAADTOQAMU-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dibromide Chemical compound CC[Al](Br)Br JFICPAADTOQAMU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RHIUIXSTQSQFAX-UHFFFAOYSA-N lithium ethyl(methyl)azanide Chemical compound [Li+].CC[N-]C RHIUIXSTQSQFAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N lithium;dimethylazanide Chemical compound [Li+].C[N-]C YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000001741 metal-organic molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- BMJNVUJEHPJCLV-UHFFFAOYSA-N methyl-di(propan-2-yl)alumane Chemical compound CC(C)[Al](C)C(C)C BMJNVUJEHPJCLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFZPDZHLPHPJO-UHFFFAOYSA-N methyl-di(propan-2-yl)indigane Chemical compound CC(C)[In](C)C(C)C WJFZPDZHLPHPJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L methylaluminum(2+);dichloride Chemical compound C[Al](Cl)Cl YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentadiene Chemical compound CC1=CC=CC1 NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- WQIQNKQYEUMPBM-UHFFFAOYSA-N pentamethylcyclopentadiene Chemical compound CC1C(C)=C(C)C(C)=C1C WQIQNKQYEUMPBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- QUKZSQMYYHYVJX-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)alumane Chemical compound C[Al](C)C(C)(C)C QUKZSQMYYHYVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVLVVRBLVJTPJZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)indigane Chemical compound C[In](C)C(C)(C)C OVLVVRBLVJTPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- VALAJCQQJWINGW-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)alumane Chemical compound CC(C)[Al](C(C)C)C(C)C VALAJCQQJWINGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKGXVGFLQCIASW-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)indigane Chemical compound CC(C)[In](C(C)C)C(C)C CKGXVGFLQCIASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N triethylindigane Chemical compound CC[In](CC)CC OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N tripropylalumane Chemical compound CCC[Al](CCC)CCC CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAKYGMVUNQSJFH-UHFFFAOYSA-N tripropylindigane Chemical compound CCC[In](CCC)CCC QAKYGMVUNQSJFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N tripropylphosphane Chemical compound CCCP(CCC)CCC KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAKQLTYPVIOBZ-UHFFFAOYSA-N tritert-butylalumane Chemical compound CC(C)(C)[Al](C(C)(C)C)C(C)(C)C RTAKQLTYPVIOBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSCASNFKRQQQDK-UHFFFAOYSA-N tritert-butylgallane Chemical compound CC(C)(C)[Ga](C(C)(C)C)C(C)(C)C RSCASNFKRQQQDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVUHBBVGTCCFER-UHFFFAOYSA-N tritert-butylindigane Chemical compound CC(C)(C)[In](C(C)(C)C)C(C)(C)C WVUHBBVGTCCFER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical group Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YHQGMYUVUMAZJR-UHFFFAOYSA-N α-terpinene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)CC1 YHQGMYUVUMAZJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2405—Stationary reactors without moving elements inside provoking a turbulent flow of the reactants, such as in cyclones, or having a high Reynolds-number
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03D—FLOTATION; DIFFERENTIAL SEDIMENTATION
- B03D1/00—Flotation
- B03D1/001—Flotation agents
- B03D1/004—Organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/003—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/003—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/24—Stationary reactors without moving elements inside
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】層流接触ゾーン15と、熱伝達ゾーン45と、乱流促進装置を有する混合ゾーン20とを有する反応器10に2種以上の反応物質が運ばれ;それら反応物質が有機金属化合物を形成するようにする、有機金属化合物(トリアルキルインジウム化合物、トリアルキルガリウム化合物、テトラキスアルキルアミノジルコニウム、テトラキスアルキルアミノハフニウムなど)を連続的に製造する方法。
【選択図】図1
Description
式中、各Rは独立して、Hまたは(C1−C10)ヒドロカルビル基から選択され;各Yは独立してハライド、(C1−C4)カルボキシラート、(C1−C5)アルコキシ、R1R2Nまたはジアミノまたはトリアミノ基から選択され;M=第2族〜第15族金属;R1およびR2は独立してHまたは(C1−C6)アルキルから選択され;L=中性リガンド;m=Mの価数;a=0〜m;b=0〜m;並びに、a+b=mである。aおよびbは両方とも0になり得ないことは当業者に理解されるであろう。用語「ヒドロカルビル」とは任意の炭化水素基をいい、アルキル基およびアリール基を含む。このヒドロカルビル基は場合によっては、炭素および水素以外の原子、例えば、酸素または窒素を含むことができる。好ましいヒドロカルビル基は、メチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソ−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、ネオ−ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、(C1−C3)アルコキシ(C2−C6)アルキル、アミジナト、ホルムアミジナト、およびβ−ジケトナトである。第1の反応物質がヒドロカルビル基を含む場合には、その基は金属−炭素結合によって金属に結合される。Yのための典型的なジアミノおよびトリアミノ基には、限定されないが、1,2−ジアミノエチル、1,2−ジ−(N−メチルアミノ)エチル、1,3−ジアミノプロピル、1,3−ジ−(N−メチルアミノ)プロピル、1,2−ジアミノプロピルおよびジエチレントリアミンが挙げられる。Yは好ましくは、塩素、臭素、アセトキシ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、1,2−ジアミノエチル、1,2−ジ−(N−メチルアミノ)エチル、1,3−ジアミノプロピル、および1,3−ジ−(N−メチルアミノ)プロピルである。Yは塩素、臭素、アセトキシ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノおよびジエチルアミノであるのがより好ましい。
式(II) R3 cY1 dM2Ln
(式中、各R3はHまたは(C1−C4)アルキルから選択され;各Y1はハライドから選択され;M2は第13族金属であり;Lは上に定義される通りであり;c=0〜3;d=0〜3;c+d=3;並びにn=0〜1である)
を有することがさらに好ましい。R3は好ましくはH、メチルまたはエチルである。Y1は好ましくは塩素または臭素である。式IIにおいては、Lが存在する場合には、中性リガンドは第三級アミンまたは第三級ホスフィンであることが好ましい。M2がインジウムまたはガリウムであるのが好ましい。好ましい第三級アミンおよび第三級ホスフィンはトリ(C1−C4)アルキルアミンおよびトリ(C1−C4)アルキルホスフィンである。
のものであり、式中、各R4は独立して、(C1−C20)アルキル、(C2−C20)アルケニル、(C2−C20)アルキニル、(C5−C20)アリール、(C5−C20)アリール(C1−C10)アルキル、(C1−C20)アルコキシ、(C2−C10)カルバルコキシ(carbalkoxy)、アミノ、(C1−C12)アルキルアミノ(C1−C12)アルキル、ジ(C1−C20)アルキルアミノ(C1−C12)アルキル、ホスフィノおよび二価のリガンドであり;各Xは独立してH、R4、シアノおよびハロゲンであり;L1=中性リガンド;e=R4基の価数であって、かつ1以上の整数であり;並びに、m=Mの価数である。「アミノ」基には、−NH2、(C1−C12)アルキルアミノ、およびジ(C1−C12)アルキルアミノが挙げられる。好ましくは、アミノ基は−NH2、(C1−C6)アルキルアミノ、およびジ(C1−C6)アルキルアミノであり、より好ましくは、−NH2、(C1−C4)アルキルアミノ、およびジ(C1−C4)アルキルアミノである。「ホスフィノ」基には、−PH2、(C1−C12)アルキルホスフィノ、およびジ(C1−C12)アルキルホスフィノが挙げられ、好ましくは−PH2、(C1−C6)アルキルホスフィノ、およびジ(C1−C6)アルキルホスフィノが挙げられ、より好ましくは−PH2、(C1−C4)アルキルホスフィノ、およびジ(C1−C4)アルキルホスフィノが挙げられる。上記R4基は、場合によっては、1以上の水素原子を1以上の置換基、例えば、ハロゲン、カルボニル、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノおよびアルコキシで置き換えることによって置換されてよい。例えば、R4が(C1−C20)アルキル基である場合には、この基はアルキル鎖内にカルボニルを含んでいても良い。適切な二価のリガンドには、限定されないが、β−ジケトナート、アミジナート、ホルムアミジナート、ホスホアミジナート、グアニジナート、β−ジケチミナート、2環式アミジナートおよび2環式グアニジナートが挙げられる。好ましい二価のリガンドには、β−ジケトナート、アミジナート、ホルムアミジナート、ホスホアミジナートおよびグアニジナートが挙げられる。具体的な金属原子に応じて、式IIIの有機金属化合物は、場合によっては、1以上の中性リガンド(L)を含むことができる。この中性リガンドは全体的な電荷を有していない。中性リガンドには、限定されないが、CO、NO、窒素、アミン、エーテル、ホスフィン、アルキルホスフィン、アリールホスフィン、ニトリル、アルケン、ジエン、トリエン、アルキンおよび芳香族化合物が挙げられる。式IIIの有機金属化合物と、第三級アミンまたは第三級ホスフィンのようなアミンまたはホスフィンとの付加物は本発明によって企図される。
(式IV) R5 xX2 p−xM3p
式中、各R5は独立して、(C1−C6)アルキル、(C2−C6)アルケニル、(C1−C4)アルキルアミノ(C1−C6)アルキル、ジ(C1−C4)アルキルアミノ(C1−C6)アルキル、(C5−C10)アリール、−NH2、(C1−C4)アルキルアミノ、およびジ(C1−C4)アルキルアミノから選択され;各X2は独立してH、ハロゲン、(C1−C10)アルコキシおよびR5から選択され;M3は第2族、第4族または第13族金属であり;xはR5基の価数であって、かつ整数であり;pはM3の価数であり;並びに1≦x≦pである。式IIの有機金属化合物と第三級アミンもしくは第三級ホスフィンのようなアミンもしくはホスフィンとの付加物は本発明によって企図される。各R5が独立して、(C1−C4)アルキル、(C2−C4)アルケニル、(C5−C10)アリール、−NH2、(C1−C4)アルキルアミノ、およびジ(C1−C4)アルキルアミノから選択されることが好ましく、より好ましくは、(C1−C4)アルキル、(C5−C8)アリール、−NH2、(C1−C4)アルキルアミノ、およびジ(C1−C4)アルキルアミノから独立して選択される。R1のために典型的な基には、限定されないが、メチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、ブチル、tert−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、n−ペンチル、イソ−ペンチル、neo−ペンチル、ビニル、アリル、プロパルギル、アミノメチル、アミノエチル、アミノプロピル、ジメチルアミノプロピル、フェニル、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、メチルアミノ、ジメチルアミノおよびエチルメチルアミノが挙げられる。X2がハロゲンである場合には、塩素および臭素が好ましく、塩素がより好ましい。M3が第2族金属である場合には、x=1または2である。M3が第4族金属である場合には、x=1、2、3または4である。M3=第13族金属である場合には、x=1、2または3である。M3は好ましくは、マグネシウム、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム、インジウムまたはガリウムであり、より好ましくはアルミニウム、インジウムまたはガリウムである。
以下の表は、本方法に従って製造される様々な有機金属化合物を示す。適切な有機溶媒が表示され、このような溶媒は必要とされるかまたは場合によって使用されうる。
略語は以下の意味を有する:LAB=線状アルキルベンゼン;TDMA=テトラキス(ジメチルアミノ)すなわち[(CH3)2N]4;および、TEMA=テトラキス(エチルメチルアミノ)すなわち[(CH3)(CH3CH2)N]4。
第1のおよび第2の入口を有する接触ゾーンと、複数の熱伝達ゾーンと、異なる曲率半径を有する複数の混合ゾーンと、各混合ゾーンの後の反応ゾーンとを有する反応器に、第1の反応物質として過半量が液体のTMAの流れを200〜300kPaで10〜30℃の温度で10〜20単位/時間の流量で、並びに第2の反応物質として過半量が液体のトリプロピルアミン(TPA)の流れを200〜300kPaで10〜30℃の温度で20〜40単位/時間の流量で反応器入口の層流環境に供給した。これら流量はTMAに対して1/1よりわずかに多くモル過剰にTPAを制御するように設定された。両方の反応物質流れは、同心で実質的に層流のフローを有する反応器の混合ゾーンに送達された。混合ゾーンに入るそれぞれの反応物質流れのレイノルズ数は1000以下であった。これら反応物質流れは20秒を超える反応器内全滞留時間を有していた。反応器を出てから、生成物(TMA−TPA付加物)流れは不純物を除去するために分離ユニットに運ばれた。この反応は、数回の短い中断を伴うが24時間を超えてほぼ連続的に操作されて、450kgを超える物質の生産をもたらした。
実施例2において使用されたのと同様の反応器に、第1の反応物質として過半量が液体の実施例2からのTMA−TPA付加物の流れを200〜300kPaの圧力で40〜60℃の温度でおよび20〜40単位/時間の流量で、および第2の反応物質として過半量が液体の芳香族炭化水素溶媒中の塩化ガリウムの流れを2〜10℃の温度で200〜300kPaの圧力でおよび20〜40単位/時間の流量で、アルミニウムのガリウム金属に対するモル比を1より大/1に維持するように供給した。反応器の熱伝達ゾーンは85〜100℃の反応器出口温度を維持した。反応器は24時間を超えて連続的に操作され、この時間中、生成物(トリメチルガリウム、すなわち「TMG」)が分離ユニットにおいて連続的に精製されて、高純度のTMGを100kgを超えて、85%を超える全収率で生じさせた。
実施例3の手順が繰り返され、精製後の全収率は90%を超えていた。
トリエチルアルミニウム−TPA付加物を生じさせるためにトリエチルアルミニウムが第1の反応物質として使用されることを除いて実施例2の手順が繰り返される。
トリエチルガリウムを生じさせるために、実施例5からのトリエチルアルミニウム−TPA付加物が第1の反応物質として使用されることを除いて、実施例3の手順が繰り返される。
テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウムを生じさせるために、メシチレン中のリチウムジメチルアミドが第1の反応物質として使用され、かつメシチレン中のハフニウムテトラクロリドが第2の反応物質として使用されることを除いて実施例3の手順が繰り返される。
テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウムを生じさせるために、ハフニウムテトラクロリドがジルコニウムテトラクロリドで置換えられることを除いて実施例7の手順が繰り返される。
テトラキス(エチルメチルアミノ)ハフニウムを生じさせるために、メシチレン中のリチウムエチルメチルアミドが第1の反応物質として使用されることを除いて実施例7の手順が繰り返される。
11 バッフルプレート
15 接触ゾーン
17 第1の反応物質流れ
20、20a、20b、20c 混合ゾーン
21 構成要素
21a、21b ベンチュリ
25 第1の入口
27 第2の反応物質流れ
30 第2の入口
35 出口
40 分離ユニット
45、45a、45b 熱伝達ゾーン
50 反応ゾーン
Claims (14)
- (a)反応器ユニットを含む装置を提供し、前記反応器ユニットは複数の混合ゾーンと1以上の熱伝達ゾーンとを含み;
(b)第1の反応物質流れおよび第2の反応物質流れを層流で接触ゾーンに連続的に送達して、反応混合物流れを形成し、前記第1の反応物質流れおよび第2の反応物質流れは並流であって、かつ実質的に層流を有しており、かつ前記第1の反応物質は金属含有化合物であり;
(c)前記反応混合物流れを前記層流混合ゾーンから熱伝達ゾーンに運び、次いで乱流促進装置を含む混合ゾーンに運び;
(d)前記反応混合物流れが有機金属化合物生成物流れを形成するようにし;
(e)前記有機金属化合物の過半量を液相に維持するように、前記熱伝達ゾーンにおける前記生成物流れの温度および圧力を制御し;並びに、
(f)前記生成物流れを分離ユニットに運んで前記有機金属化合物を分離する;
ことを含む、有機金属化合物を連続的に製造する方法。 - 前記有機金属化合物が70%以上の収率で得られる請求項1に記載の方法。
- 前記有機金属化合物が90%以上の収率で得られる請求項2に記載の方法。
- 前記第2の反応物質が金属錯体を含む請求項1に記載の方法。
- 前記第1の反応物質が第13族金属錯体を含む請求項1に記載の方法。
- 前記装置が複数の反応器ユニットを含む請求項1に記載の方法。
- 前記乱流促進装置がベンド、スパイラル、ベンチュリ、波状壁カラム、オリフィスおよび静的ミキサーから選択される、請求項1に記載の方法。
- 乱流促進装置を備えた複数の混合ゾーンをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の乱流促進装置が少なくとも2つの異なる混合ゾーンを含む請求項8に記載の方法。
- 前記第1の反応物質および前記第2の反応物質が両方とも気相、液相またはこれらの組み合わせである請求項1に記載の方法。
- 前記層流混合ゾーンに運ばれる前記第1のおよび第2の反応物質流れのそれぞれが2000以下のレイノルズ数を有する請求項1に記載の方法。
- (a)第1の反応物質が金属を含む、第1の反応物質流れのソース;
(b)第2の反応物質流れのソース;
(c)前記第1の反応物質流れと前記第2の反応物質流れとを並流で接触させるための層流接触ゾーン;
(d)乱流促進装置を含む混合ゾーン;並びに
(e)熱伝達ゾーン;
を含む有機金属化合物を連続的に製造するための装置。 - 前記乱流促進装置がベンド、スパイラル、ベンチュリ、波状壁カラム、オリフィスおよび静的ミキサーから選択される、請求項12に記載の装置。
- 複数の乱流促進装置をさらに含む請求項12に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161523582P | 2011-08-15 | 2011-08-15 | |
US61/523,582 | 2011-08-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013067608A true JP2013067608A (ja) | 2013-04-18 |
JP6001958B2 JP6001958B2 (ja) | 2016-10-05 |
Family
ID=46650433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012180029A Expired - Fee Related JP6001958B2 (ja) | 2011-08-15 | 2012-08-15 | 有機金属化合物製造 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9006475B2 (ja) |
EP (1) | EP2559682B1 (ja) |
JP (1) | JP6001958B2 (ja) |
KR (1) | KR101986102B1 (ja) |
CN (1) | CN103254248B (ja) |
TW (1) | TWI464294B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150174552A1 (en) * | 2011-08-15 | 2015-06-25 | Dow Global Technologies Llc | Organometallic compound preparation |
JP2015120642A (ja) * | 2013-12-20 | 2015-07-02 | 株式会社堀場エステック | 連続反応装置及びこれを用いる連続合成方法 |
JP2016029026A (ja) * | 2014-02-07 | 2016-03-03 | 宇部興産株式会社 | トリアルキルガリウムの製造方法 |
JP2020521729A (ja) * | 2017-05-29 | 2020-07-27 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | カルボキシレートの存在下におけるトリアルキルインジウム化合物の生成 |
JP2021053572A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 株式会社石垣 | 凝集装置およびそれを用いた濃縮装置一体型脱水機 |
US11925912B2 (en) | 2016-03-11 | 2024-03-12 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Fluid processing systems including a plurality of material tanks, at least one mixing tank, at least one holding tank, and recirculation loops |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2545972A1 (en) | 2011-07-13 | 2013-01-16 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by two steps distillation |
EP2545973B1 (en) | 2011-07-13 | 2020-03-04 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by stripping step |
EP2559681B1 (en) | 2011-08-15 | 2016-06-22 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound preparation |
CN103910640A (zh) * | 2014-03-18 | 2014-07-09 | 南京大学 | 四(二甲胺基)锆的合成方法 |
JP7246527B2 (ja) * | 2019-06-24 | 2023-03-27 | ディーエイチエフ アメリカ,エルエルシー | 粒子を有する流体物の分解方法 |
CN112724164B (zh) * | 2021-01-05 | 2023-07-04 | 兰州康鹏威耳化工有限公司 | 一种格氏试剂的连续制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009035539A (ja) * | 2007-07-20 | 2009-02-19 | Rohm & Haas Co | 有機金属化合物の調製方法 |
JP2010120935A (ja) * | 2008-10-24 | 2010-06-03 | Fujifilm Finechemicals Co Ltd | 多環式化合物の製造方法 |
WO2011094293A1 (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-04 | Fusion Uv Systems, Inc. | Micro-channel-cooled high heat load light emitting device |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1167837B (de) | 1957-04-03 | 1964-04-16 | Sumitomo Chemical Co | Verfahren zur Herstellung von Aluminiumtriaethyl |
US4251453A (en) | 1979-08-22 | 1981-02-17 | Conoco, Inc. | Production of aluminum alkyls |
US4925962A (en) | 1988-10-24 | 1990-05-15 | Ethyl Corporation | Trimethylaluminum process |
JPH03215195A (ja) | 1990-01-17 | 1991-09-20 | Japan Servo Co Ltd | 記録装置 |
US4948906A (en) | 1990-02-16 | 1990-08-14 | Ethyl Corporation | Trimethylaluminum process |
JP3215195B2 (ja) | 1992-11-09 | 2001-10-02 | 東ソー・ファインケム株式会社 | 有機金属化合物の精製法 |
ES2160941T5 (es) | 1996-04-19 | 2007-06-01 | Albemarle Corporation | Procedimiento para elaborar aluminoxanos. |
JP3525371B2 (ja) | 1996-06-25 | 2004-05-10 | 信越化学工業株式会社 | 有機金属化合物の精製方法 |
US5756786A (en) | 1997-06-25 | 1998-05-26 | Morton International, Inc. | High purity trimethylindium, method of synthesis |
GB2344822A (en) | 1998-12-19 | 2000-06-21 | Epichem Ltd | Organometallic compound production using distillation |
GB0017968D0 (en) | 2000-07-22 | 2000-09-13 | Epichem Ltd | An improved process and apparatus for the isolation of pure,or substantially pure,organometallic compounds |
JP2003252878A (ja) | 2002-01-17 | 2003-09-10 | Shipley Co Llc | 有機インジウム化合物 |
US6770769B2 (en) | 2002-04-06 | 2004-08-03 | Shipley Company, L.L.C. | Trialkylindium preparation |
EP1563117B1 (en) | 2002-11-15 | 2010-01-06 | President And Fellows Of Harvard College | Atomic layer deposition using metal amidinates |
JP4488186B2 (ja) | 2004-06-18 | 2010-06-23 | 信越化学工業株式会社 | トリメチルアルミニウムの精製方法 |
JP2006001896A (ja) | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 高純度トリメチルアルミニウム及びトリメチルアルミニウムの精製方法 |
TW200619222A (en) | 2004-09-02 | 2006-06-16 | Rohm & Haas Elect Mat | Method for making organometallic compounds |
US7390360B2 (en) * | 2004-10-05 | 2008-06-24 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Organometallic compounds |
US7816550B2 (en) | 2005-02-10 | 2010-10-19 | Praxair Technology, Inc. | Processes for the production of organometallic compounds |
CN1872861A (zh) | 2005-06-03 | 2006-12-06 | 大连保税区科利德化工科技开发有限公司 | 三甲基镓生产方法及设备 |
CN1872862A (zh) | 2005-06-03 | 2006-12-06 | 大连保税区科利德化工科技开发有限公司 | 三甲基镓制备和提纯方法 |
US7638645B2 (en) | 2006-06-28 | 2009-12-29 | President And Fellows Of Harvard University | Metal (IV) tetra-amidinate compounds and their use in vapor deposition |
US7547631B2 (en) * | 2006-07-31 | 2009-06-16 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Organometallic compounds |
TWI398541B (zh) | 2007-06-05 | 2013-06-11 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 有機金屬化合物 |
CN102020669B (zh) * | 2010-12-22 | 2013-01-09 | 江苏南大光电材料股份有限公司 | 工业化制备三甲基镓的方法 |
EP2545973B1 (en) | 2011-07-13 | 2020-03-04 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by stripping step |
EP2559681B1 (en) | 2011-08-15 | 2016-06-22 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound preparation |
EP2559682B1 (en) * | 2011-08-15 | 2016-08-03 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Organometallic compound preparation |
-
2012
- 2012-08-14 EP EP12180460.3A patent/EP2559682B1/en not_active Not-in-force
- 2012-08-15 US US13/586,751 patent/US9006475B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 TW TW101129477A patent/TWI464294B/zh not_active IP Right Cessation
- 2012-08-15 JP JP2012180029A patent/JP6001958B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 CN CN201210504515.6A patent/CN103254248B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-16 KR KR1020120089719A patent/KR101986102B1/ko active IP Right Grant
-
2015
- 2015-03-09 US US14/642,704 patent/US9403145B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009035539A (ja) * | 2007-07-20 | 2009-02-19 | Rohm & Haas Co | 有機金属化合物の調製方法 |
JP2010120935A (ja) * | 2008-10-24 | 2010-06-03 | Fujifilm Finechemicals Co Ltd | 多環式化合物の製造方法 |
WO2011094293A1 (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-04 | Fusion Uv Systems, Inc. | Micro-channel-cooled high heat load light emitting device |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150174552A1 (en) * | 2011-08-15 | 2015-06-25 | Dow Global Technologies Llc | Organometallic compound preparation |
US9403145B2 (en) * | 2011-08-15 | 2016-08-02 | Dow Global Technologies Llc | Organometallic compound preparation |
JP2015120642A (ja) * | 2013-12-20 | 2015-07-02 | 株式会社堀場エステック | 連続反応装置及びこれを用いる連続合成方法 |
JP2016029026A (ja) * | 2014-02-07 | 2016-03-03 | 宇部興産株式会社 | トリアルキルガリウムの製造方法 |
US11925912B2 (en) | 2016-03-11 | 2024-03-12 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Fluid processing systems including a plurality of material tanks, at least one mixing tank, at least one holding tank, and recirculation loops |
JP2020521729A (ja) * | 2017-05-29 | 2020-07-27 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | カルボキシレートの存在下におけるトリアルキルインジウム化合物の生成 |
JP7094987B2 (ja) | 2017-05-29 | 2022-07-04 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト | カルボキシレートの存在下におけるトリアルキルインジウム化合物の生成 |
US11584764B2 (en) | 2017-05-29 | 2023-02-21 | Umicore Ag & Co. Kg | Production of trialkylindium compounds in the presence of carboxylates |
JP2021053572A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 株式会社石垣 | 凝集装置およびそれを用いた濃縮装置一体型脱水機 |
JP7153182B2 (ja) | 2019-09-30 | 2022-10-14 | 株式会社石垣 | 凝集装置およびそれを用いた濃縮装置一体型脱水機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9403145B2 (en) | 2016-08-02 |
EP2559682A2 (en) | 2013-02-20 |
US9006475B2 (en) | 2015-04-14 |
KR20130018636A (ko) | 2013-02-25 |
EP2559682A3 (en) | 2013-09-18 |
TWI464294B (zh) | 2014-12-11 |
CN103254248A (zh) | 2013-08-21 |
JP6001958B2 (ja) | 2016-10-05 |
US20130211118A1 (en) | 2013-08-15 |
TW201313945A (zh) | 2013-04-01 |
KR101986102B1 (ko) | 2019-06-05 |
CN103254248B (zh) | 2016-05-25 |
EP2559682B1 (en) | 2016-08-03 |
US20150174552A1 (en) | 2015-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6001958B2 (ja) | 有機金属化合物製造 | |
JP5991881B2 (ja) | 有機金属化合物製造 | |
US7919638B2 (en) | Method of preparing organometallic compounds | |
JP6054659B2 (ja) | 有機金属化合物精製および装置 | |
CA2727509A1 (en) | Method of preparing organometallic compounds | |
TW201130857A (en) | Method of preparing organometallic compounds | |
CN101121734A (zh) | 有机金属化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150731 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160902 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6001958 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |