JPH0267230A - 有機金属化合物の精製法 - Google Patents
有機金属化合物の精製法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機金属化合物の精製法に関する。
ざらに詳細には有機金属化合物中の微量の含ハロゲン成
分およびまたは含酸素成分を除去する方法に関する。
分およびまたは含酸素成分を除去する方法に関する。
有機金属化合物は、重合触媒、オレフィン製造原料、高
扱アルコール用原料、あるいは電子工業用製造用原料と
して有用な物質である。
扱アルコール用原料、あるいは電子工業用製造用原料と
して有用な物質である。
しかし通常の有機金属化合物中には、酸素または水が単
独であるいはまたそれらと反応した有機金属化合物類の
ような含酸素成分(以下不純物と称す。)およびまたは
ハロゲン分子が単独あるいはまたそれと反応した有機金
属化合物類のような含ハロゲン成分(以下不純物と称す
。)が存在している。
独であるいはまたそれらと反応した有機金属化合物類の
ような含酸素成分(以下不純物と称す。)およびまたは
ハロゲン分子が単独あるいはまたそれと反応した有機金
属化合物類のような含ハロゲン成分(以下不純物と称す
。)が存在している。
この有機金属化合物中の微量の不純物は有機金属化合物
の原料から、または製造、移送あるいは貯蔵時に混入す
ると考えられる。
の原料から、または製造、移送あるいは貯蔵時に混入す
ると考えられる。
有機金属化合物中の不純物の存在は前記用途のうち電子
工業用原料に用いる場合に特に大きな不都合を生じる。
工業用原料に用いる場合に特に大きな不都合を生じる。
例えば微量の酸素成分を含有した有機アルミニウム化合
物を用いてアルミニウム薄膜半導体を製作すると、混入
した酸素成分が存在する部分で非常に高抵抗となり断線
等になると言われてa3す、歩留の低下や目的とする性
能を保持した製品が19られない等の不利益を生じる。
物を用いてアルミニウム薄膜半導体を製作すると、混入
した酸素成分が存在する部分で非常に高抵抗となり断線
等になると言われてa3す、歩留の低下や目的とする性
能を保持した製品が19られない等の不利益を生じる。
有機金属化合物中の不純物を除く方法として精密蒸留等
の方法が容易に考えられるが、この場合99.9%また
はそれ以上の純度に精製、回収することは木質的に困難
でおる。
の方法が容易に考えられるが、この場合99.9%また
はそれ以上の純度に精製、回収することは木質的に困難
でおる。
(発明が解決しようとする課題〕
かかる状況下にあって本発明者らは有機金属化合物中の
微量の不純物を高度に効率よく除去するための工業的方
法を見出すべく鋭意研究を行なった結果、不純物を含有
する有機金属化合物を還元剤と反応せしめた後、蒸留ま
たは麿華分離することにより、精製できることを見出し
本発明を完成するに至った。
微量の不純物を高度に効率よく除去するための工業的方
法を見出すべく鋭意研究を行なった結果、不純物を含有
する有機金属化合物を還元剤と反応せしめた後、蒸留ま
たは麿華分離することにより、精製できることを見出し
本発明を完成するに至った。
すな帖・本発明′4・一般式 、。
(式中M1は1価元素、M2は2価元素、M3は3価元
素、M4は4価元素、Rt 、 R2。
素、M4は4価元素、Rt 、 R2。
R3及びR4は同一かまたは異なるアルキル基、アリー
ル基、シクロアルカジェニル基または水素原子を表わす
。但しMlの場合R1が水素原子の場合を除く。) で示される有機金属化合物を撹拌条件下に、該有機金属
化合物の0.1〜50%(wt)に相当する還元剤を添
加し、次いで該還元剤と有機金属化合物とを蒸留又は昇
華分131t′rjることにより精製することを特徴と
する有機金属化合物の精製法を提供するものである。
ル基、シクロアルカジェニル基または水素原子を表わす
。但しMlの場合R1が水素原子の場合を除く。) で示される有機金属化合物を撹拌条件下に、該有機金属
化合物の0.1〜50%(wt)に相当する還元剤を添
加し、次いで該還元剤と有機金属化合物とを蒸留又は昇
華分131t′rjることにより精製することを特徴と
する有機金属化合物の精製法を提供するものである。
以下本発明の詳細な説明すると、一般式(I)において
MlはL l 、 M2はfVlg、Zn、Cdまたは
Te、M:+はB、A、e、GaまたハI n、M4は
3+、Ti、Ge、ZrまたはSn等の金属であり、好
ましくは、L;、Mg、zn。
MlはL l 、 M2はfVlg、Zn、Cdまたは
Te、M:+はB、A、e、GaまたハI n、M4は
3+、Ti、Ge、ZrまたはSn等の金属であり、好
ましくは、L;、Mg、zn。
Cd、Te、A1.Ga、I n等の金属元素の炭素数
1〜12個のアルキル基、アリール基、シクロアルカジ
ェニル基または水素原子を有する有機金属化合物が処理
の対象とされる。
1〜12個のアルキル基、アリール基、シクロアルカジ
ェニル基または水素原子を有する有機金属化合物が処理
の対象とされる。
該有機化合物のいくつかを例示すればエチルリチウム、
ノルマルプロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ノ
ルマルブチルリチウム、ターシャリーブチルリヂウム、
ネオペンチルリチウム、シクロペンタジエニルリチrン
ム、ジエチルマグネシウム、ジノルマルブチルマグネジ
1クム、シイツブデルマグネシウム、ジターシセリーブ
チルマグネシウム、ジシクロペンタジェニルマグネシウ
ム、ビスメチルシクロペンタジェニルマグネシウム、ジ
メチル亜鉛、ジエヂル亜鉛、ジメチルカドミ「クム、ジ
エチルカドミウム。
ノルマルプロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ノ
ルマルブチルリチウム、ターシャリーブチルリヂウム、
ネオペンチルリチウム、シクロペンタジエニルリチrン
ム、ジエチルマグネシウム、ジノルマルブチルマグネジ
1クム、シイツブデルマグネシウム、ジターシセリーブ
チルマグネシウム、ジシクロペンタジェニルマグネシウ
ム、ビスメチルシクロペンタジェニルマグネシウム、ジ
メチル亜鉛、ジエヂル亜鉛、ジメチルカドミ「クム、ジ
エチルカドミウム。
ビスシクロペンタジェニルカドミウム、トリメデルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウム。
ミニウム、トリエチルアルミニウム。
トリノルマルブチルアルミニウム、トリイソブチルアル
ミニウム、トリターシャリ−ブチルアルミニウム、ジメ
チルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウム
ハイドライド、ジノルマルブチルアルミニウムハイドラ
イド、ジイツブチルアルミニウムハイドライド、ジター
シャリ−ブチルアルミニウムハイドライド、トリメチル
ガリウム、トリエチルガリウム、ジエチルシクロペンタ
ジェニルガリウム、トリメチルインジウム、トリエチル
インジウム、ジメチルエチルインジウム、メチルジエチ
ルインジウム。
ミニウム、トリターシャリ−ブチルアルミニウム、ジメ
チルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウム
ハイドライド、ジノルマルブチルアルミニウムハイドラ
イド、ジイツブチルアルミニウムハイドライド、ジター
シャリ−ブチルアルミニウムハイドライド、トリメチル
ガリウム、トリエチルガリウム、ジエチルシクロペンタ
ジェニルガリウム、トリメチルインジウム、トリエチル
インジウム、ジメチルエチルインジウム、メチルジエチ
ルインジウム。
ビスシクロペンタジェニルインジウム等があげられる。
また本発明を実施するにあたって使用する還元剤として
は水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム
、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ナトリウムアルミニウムが好ましい。
は水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム
、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ナトリウムアルミニウムが好ましい。
これらは単独で用いても良いし、2種以上の混合物とし
て用いても良い。
て用いても良い。
本発明方法の精製処理にあたって、上記微聞不純物含有
有機金属化合物は単独で精製処理に供することもできる
が、有機溶媒との混合物として精!l!処理に供するこ
とも可能である。
有機金属化合物は単独で精製処理に供することもできる
が、有機溶媒との混合物として精!l!処理に供するこ
とも可能である。
かかる有機溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、オクタ
ン、デカン、ドデカン、ヘプタデカン、パラフィン油、
灯油等の飽和脂IJtJ族炭化水素、シクロヘキサン、
シクロペンタン等脂環式炭化水素類が使用できる。
ン、デカン、ドデカン、ヘプタデカン、パラフィン油、
灯油等の飽和脂IJtJ族炭化水素、シクロヘキサン、
シクロペンタン等脂環式炭化水素類が使用できる。
本発明方法で有機金属化合物を処理する場合は、撹拌下
に還元剤と不純物を含有する有機金属化合物とを接触的
に反応させれば良い。
に還元剤と不純物を含有する有機金属化合物とを接触的
に反応させれば良い。
還元剤として、固体状水素化金属化合物を単独、混合物
あるいは複塩として用いる場合は微粉であるほど効果が
良く発揮されるため、予め粉砕等を行ない使用に供する
のが良い。
あるいは複塩として用いる場合は微粉であるほど効果が
良く発揮されるため、予め粉砕等を行ない使用に供する
のが良い。
反応は一般に発熱反応であるがO℃〜200’C1好ま
しくは10〜150℃の範囲で実施するのが良い。
しくは10〜150℃の範囲で実施するのが良い。
反応時間は1分間〜24時間の範囲で実施できるが、好
ましくは10分間〜10時間の範囲で実施するのが良い
。
ましくは10分間〜10時間の範囲で実施するのが良い
。
還元剤の添加量は、該有機金属化合物に対し0.1〜5
0%(wt)の量を反応に供することができるが、好ま
しくは1〜20%(wt)の範囲で実施するのが良い。
0%(wt)の量を反応に供することができるが、好ま
しくは1〜20%(wt)の範囲で実施するのが良い。
反応後の有機金属化合物は、そのまま、または必要に応
じ、静間、ン濾過、遠心分離、デカンテーション等によ
り、未反応有機金属化合物と反応生成物とを分離し、次
いで蒸留または昇華精製(付される。
じ、静間、ン濾過、遠心分離、デカンテーション等によ
り、未反応有機金属化合物と反応生成物とを分離し、次
いで蒸留または昇華精製(付される。
蒸留精製としては、単蒸留、精密蒸留、減圧蒸留等、目
的とする有機金属化合物の純度や物性等によって適宜選
択すれば良い。
的とする有機金属化合物の純度や物性等によって適宜選
択すれば良い。
昇華精製としては、常圧昇華、減圧昇華、キャリヤーガ
スによる昇華、擬昇華等、目的とする有機金属化合物の
純度や物性等によって適宜選択すればよい。
スによる昇華、擬昇華等、目的とする有機金属化合物の
純度や物性等によって適宜選択すればよい。
以下、実施例によって本発明方法をさらに詳細に説明す
るが本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例によ
って制限されるものではない。
るが本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例によ
って制限されるものではない。
実施例1
攪拌機、還流冷却器を備えた300 dのフラスコを窒
素置換侵、粉砕した水素化ナトリウム12.0g、トリ
メチルガリウム114.89を仕込んだ。撹拌下に50
’Cに昇温した後、1時間保持した。
素置換侵、粉砕した水素化ナトリウム12.0g、トリ
メチルガリウム114.89を仕込んだ。撹拌下に50
’Cに昇温した後、1時間保持した。
次に、これを常圧、56°Cで精製蓋面し精製トリメチ
ルガリウム839を19だ。
ルガリウム839を19だ。
このようにして1qられた精製トリメチルカリウム中の
酸素成分濃度を第1表に示す。
酸素成分濃度を第1表に示す。
第1表
実施例2
攪拌機、還流冷却器を備えた300 InI!フラスコ
を窒素置換俊、水素化リチウムアルミニウム3.6g、
トリメチルアルミニウム72.1gを仕込んだ。撹拌下
に100’Cに昇温し1時間保持した。
を窒素置換俊、水素化リチウムアルミニウム3.6g、
トリメチルアルミニウム72.1gを仕込んだ。撹拌下
に100’Cに昇温し1時間保持した。
次にこれを200sH9下、86℃で減圧蓋面し、精製
トリメチルアルミニウムを50.4g得た。このように
して1qだM製トリメチルアルミニウム中の酸素成分の
濃度は<21)I)mであった。
トリメチルアルミニウムを50.4g得た。このように
して1qだM製トリメチルアルミニウム中の酸素成分の
濃度は<21)I)mであった。
実施例3
攪拌機、還流冷却器を備えた300 dフラスコを窒素
置換後、水素化リチウム9.6g、ジメチル亜鉛96g
を仕込んだ。室温で撹拌し、2時間保持した。次にこれ
を常圧下、46℃で蒸留を行ない、精製ジメチル亜鉛6
9gを得た。このようにして得られた精製ジメチル亜鉛
中の酸素成分濃度は< 2t)t)mであった。
置換後、水素化リチウム9.6g、ジメチル亜鉛96g
を仕込んだ。室温で撹拌し、2時間保持した。次にこれ
を常圧下、46℃で蒸留を行ない、精製ジメチル亜鉛6
9gを得た。このようにして得られた精製ジメチル亜鉛
中の酸素成分濃度は< 2t)t)mであった。
実施例4
攪拌機、還流冷却器を備えた300 mlフラスコを窒
素置換後、水素化リチウムアルミニウム3.2g、ター
シャリ−ブチルリチウム84g、ノルマルヘキサン10
0 dを仕込んだ。
素置換後、水素化リチウムアルミニウム3.2g、ター
シャリ−ブチルリチウム84g、ノルマルヘキサン10
0 dを仕込んだ。
撹拌下に60’Cに昇温し1時間保持した。これを常圧
、68℃でノルマルヘキサンを留去した。
、68℃でノルマルヘキサンを留去した。
次いで0.IINrtHg下、50℃で減圧昇華ヲb
’:t イ、精製ターシャリ−ブチルリチウム51.2
gを冑だ。
’:t イ、精製ターシャリ−ブチルリチウム51.2
gを冑だ。
このようにして得られたターシャリ−ブチルリチウム中
の酸素成分は<2ppm、ハロゲン成分は< 0.5p
pmであった。
の酸素成分は<2ppm、ハロゲン成分は< 0.5p
pmであった。
実施例5
攪拌機、還流冷却器を備えた300 mlフラスコを窒
素置換後、水素化アルミニウムナトリウム5.79、ト
リエチルアルミニウム114gを仕込んだ。
素置換後、水素化アルミニウムナトリウム5.79、ト
リエチルアルミニウム114gを仕込んだ。
撹拌下に80℃に昇温し、1時間保持した。次に10m
Hgに減圧し97℃で減圧蓋面を行ない精製トリエチル
アルミニウム91gを得た。このようにして1qられた
精製トリエチルアルミニウム中の酸素成分濃度は< 2
9F)IIIであった。
Hgに減圧し97℃で減圧蓋面を行ない精製トリエチル
アルミニウム91gを得た。このようにして1qられた
精製トリエチルアルミニウム中の酸素成分濃度は< 2
9F)IIIであった。
実施例6
処理時の温度を室温に変えたほかは実施例2と同様に行
なった。結果は第2表に示す。
なった。結果は第2表に示す。
実施例7
処理時の温度を70℃に変えたほかは実施例2と同様に
行なった。結果は第2表に示す。
行なった。結果は第2表に示す。
実施例8
処理時の温度を120℃に変えたほかは、実施例2と同
様に行なった。結果は第2表に示す。
様に行なった。結果は第2表に示す。
第2表
実施例9
攪拌機、還流冷却器を備えた300 mのフラスコを窒
素置換後、水素化ナトリウム24g、トリメチルインジ
ウム11309を仕込み撹拌下に140℃に昇温し、1
時間保持した。次にこれを200mIrIHgの減圧下
、96℃で蒸留し、精製トリメチルインジウム144g
を得た。
素置換後、水素化ナトリウム24g、トリメチルインジ
ウム11309を仕込み撹拌下に140℃に昇温し、1
時間保持した。次にこれを200mIrIHgの減圧下
、96℃で蒸留し、精製トリメチルインジウム144g
を得た。
このようにして得られた精製トリメチルインジウム中の
酸素成分の濃度は< 2 ppmであった。
酸素成分の濃度は< 2 ppmであった。
実施例10
攪拌機、還流冷却器を備えた300 dのフラスコを窒
素置換後、水素化ホウ素ナトリウム6.7び、テトラメ
チルゲルマニウム133gを仕込んだ。撹拌下に43°
Cに昇温した後、1時間保持した。
素置換後、水素化ホウ素ナトリウム6.7び、テトラメ
チルゲルマニウム133gを仕込んだ。撹拌下に43°
Cに昇温した後、1時間保持した。
次にこれを常圧、43℃にて精製蓋面し精製テトラメチ
ルゲルマニウム97gを得た。
ルゲルマニウム97gを得た。
このようにしてjqられた精製テトラメチルゲルマニウ
ム中の酸素成分濃度は< 2 ppmであった。
ム中の酸素成分濃度は< 2 ppmであった。
実施例11
攪拌は、還流冷却器を備えた300 mf!フラスコを
窒素置換後、水素化ナトリウム3.9り、ジシクロペン
タジェニルマグネシウム77、29、ノルマルペンタン
100 dを仕込んだ。室温で撹拌し、1時間保持した
。これを常圧、35℃でノルマルペンタンを留去した。
窒素置換後、水素化ナトリウム3.9り、ジシクロペン
タジェニルマグネシウム77、29、ノルマルペンタン
100 dを仕込んだ。室温で撹拌し、1時間保持した
。これを常圧、35℃でノルマルペンタンを留去した。
次いで100℃で減圧昇華精製を行ない精製ジシクロペ
ンタジェニルマグネシウム50gを得た。
ンタジェニルマグネシウム50gを得た。
このようにして得られたジシクロペンタジェニルマグネ
シウム中の酸素成分は<21)l)m、ハロゲン成分は
< 0.5ppmであった。
シウム中の酸素成分は<21)l)m、ハロゲン成分は
< 0.5ppmであった。
実施例12
攪拌機、還流冷却器を備えた300威フラスコを窒素置
換後、ジイソブチルアルミニウムハイドライド142.
29、水素化ナトリウムアルミニウム14.29を仕込
んだ。撹拌下に100’Cに昇温後、1時間保持した。
換後、ジイソブチルアルミニウムハイドライド142.
29、水素化ナトリウムアルミニウム14.29を仕込
んだ。撹拌下に100’Cに昇温後、1時間保持した。
次いでlmHgに減圧し、118℃で精製蓋面すること
により、精製ジイソブチルアルミニウムハイドライド1
14gを得た。
により、精製ジイソブチルアルミニウムハイドライド1
14gを得た。
このようにして1qられた精製ジイソブチルアルミニウ
ム中の酸素成分は< 291)mであった。
ム中の酸素成分は< 291)mであった。
実施例13
攪拌機、還流冷却器を備えた300 dフラスコを窒素
置換後、ジフェニルカドミウム1209、水素化ナトリ
ウム7.2g、ノルマルヘキサン100 dを仕込んだ
。撹拌下60℃に昇温後30分間保持した。
置換後、ジフェニルカドミウム1209、水素化ナトリ
ウム7.2g、ノルマルヘキサン100 dを仕込んだ
。撹拌下60℃に昇温後30分間保持した。
次いで常圧68℃でノルマルヘキサンを留去した)野、
0.1mf19.125℃で昇華精製することによりジ
フェニルカドミウム789を得た。
0.1mf19.125℃で昇華精製することによりジ
フェニルカドミウム789を得た。
このようにして得られた精製ジフェニルカドミウム中の
酸素成分は<21)I)m、ハロゲン成分は< 0.5
ppmであった。
酸素成分は<21)I)m、ハロゲン成分は< 0.5
ppmであった。
実施例14
攪拌機、還流冷却器を備えた300 rIdlフラスコ
を窒素置換後、ジメチルテルル157g、水素化リヂウ
ムアルミニウム7.9gを仕込んだ。撹拌下に70℃に
昇温し、1時間保持した。
を窒素置換後、ジメチルテルル157g、水素化リヂウ
ムアルミニウム7.9gを仕込んだ。撹拌下に70℃に
昇温し、1時間保持した。
次いで常圧、92℃で蒸留精製することによりジメチル
テルル125gを得た。
テルル125gを得た。
このようにして得られた精製ジメチルテルル中の酸素成
分は< 2 ppmであった。
分は< 2 ppmであった。
本発明によれば、不純物を含む有機金属化合物から実質
的ないし完全に不純物を含まない有機金属化合物を製造
することができ、かくして精製された有機金属化合物は
特に電子工業用を初め精密化学品分野おいて好適に使用
することができ、その工業的価値は頗る大である。
的ないし完全に不純物を含まない有機金属化合物を製造
することができ、かくして精製された有機金属化合物は
特に電子工業用を初め精密化学品分野おいて好適に使用
することができ、その工業的価値は頗る大である。
手続補正書(自発)
昭和63年9月30日
Claims (2)
- (1)一般式( I ) R_1−M_1、R_1−M_2−R_2、▲数式、化
学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
ます▼(式中M_1は1価元素、M_2は2価元素、M
_3は3価元素、M_4は4価元素、R_1、R_2、
R_3及びR_4は同一かまたは異なるアルキル基、ア
リール基、シクロアルカジエニル基または水素原子を表
わす。但しM_1の場合R_1が水素原子の場合を除く
。) で示される有機金属化合物を撹拌条件下に、該有機金属
化合物の0.1〜50%(wt)に相当する還元剤を添
加し、次いで該還元剤と有機金属化合物とを蒸留又は昇
華分離することにより精製することを特徴とする有機金
属化合物の精製法。 - (2)還元剤が水素化金属化合物の水素化ナトリウム、
水素化カリウム、水素化リチウム、水素化カルシウム、
水素化アルミニウム、水素化チタニウム、水素化ジルコ
ニウムまたはこれらの複塩である水素化リチウムアルミ
ニウム、水素化ナトリウムアルミニウム、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化ホウ素リチウムあるいはナトリウム
ジエチルアルミニウムジハイドライドの少なくとも1種
、またはこれらの混合物であることを特徴とする請求項
1記載の有機金属化合物の精製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63216289A JPH0267230A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 有機金属化合物の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63216289A JPH0267230A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 有機金属化合物の精製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0267230A true JPH0267230A (ja) | 1990-03-07 |
JPH0529371B2 JPH0529371B2 (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=16686201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63216289A Granted JPH0267230A (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 有機金属化合物の精製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0267230A (ja) |
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-
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