JP2004040114A - プレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとをウェーハにマウンティングできるダイシングテープ付着装置及びそれを含むインラインシステム - Google Patents

プレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとをウェーハにマウンティングできるダイシングテープ付着装置及びそれを含むインラインシステム Download PDF

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Abstract

【課題】半導体パッケージ組立て工程にてプレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとをどちらもウェーハにマウンティングできるダイシングテープ付着装置及びそれを含む半導体パッケージング工程のインラインシステムを提供する。
【解決手段】テープローダの回転方向によりプレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとを供給してそれをウェーハに付着するダイシングテープ付着装置。よって、別途にプレカットダイシングテープ付着装置を追加で購入せずに、一つの装置でプレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとをウェーハ裏面に付着できる。
【選択図】図5

Description

 本発明は半導体パッケージ組立て工程に使われる装置に係り、一層詳細にはダイシングテープ付着装置及びそれを含むインラインシステムに関する。
 ウェーハ製造工程を終えた半導体ウェーハ1枚には数十から数百に至る半導体チップが形成されている。かようなウェーハをダイシングすれば、ウェーハ状態の半導体素子は独立したそれぞれの半導体チップに分離される。しかし、分離された半導体チップはそれ自体だけで完全な半導体素子としての機能を果たせない。なぜなら、外部衝撃に容易に損傷され、半導体チップの機能を外部に拡張できるはんだボールやリードのような外部連結端子を有していないためである。半導体パッケージ組立て工程というのは、かような半導体チップに外部衝撃に損傷を受けないように半導体チップを密封し、外部連結端子を設ける一連の作業をいう。
 一般的な半導体パッケージの組立て順序は、リングフレームを使用してウェーハをダイシングテープに付着させた後、ダイアモンド材質のダイシングブレードを使用してウェーハから個別チップを分離する切断工程を進める。その後、個別チップをリードフレームあるいは基板に接着した後、ワイヤボンディングを行う。
 一方、半導体パッケージが小型化されてその厚さも一層薄くなるにつれ、半導体パッケージ組立て工程ではダイシングテープ付着工程に先立ち、ウェーハ厚さを一層薄くするためのウェーハ裏面研磨工程が選択的に適用される。かようなウェーハ裏面研磨工程はMCP(Multi Chip Package)、DDP(Double Die Package)、TSOP(very−very Thin profile Small Out−line Package)及びUSOP(Ultra thin Small Out−line Package)類のような進歩した半導体パッケージの組立て工程に主に適用される。
 一般的にウェーハ裏面研磨工程を進めれば、ウェーハ厚さは200μm以上から100μm以下に薄くなる。それにより、研磨されたウェーハは外部衝撃により容易に損傷を受けたり、あまりに薄いために容易に反り現象が発生する。そのために、実際に半導体パッケージの組立て装置間でウェーハを移送したり、装置内でウェーハを取り扱うこと自体に多くの困難が伴う。かような問題を解決するためにウェーハ裏面研磨装置と、ウェーハにダイシングテープを付着する装置とを一つにまとめたインラインシステムが開発されて使われている。
 図1は従来技術によるウェーハ裏面研磨装置と、ダイシングテープ付着装置とが一つに連結された形態のインラインシステムを説明するためのブロック図である。
 図1を参照すれば、従来技術による半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム10の構成は、ウェーハ上面の汚染防止のためにラミネーションテープが付着されたウェーハを装置内部にローディングするウェーハローディング部12と、前記ローディングされたウェーハ裏面を研磨してそれを薄くするウェーハ裏面研磨装置14と、前記研磨が完了したウェーハ上面にUV光線を照射するUV光線照射部16と、リングフレームを使用して前記ウェーハ裏面にダイシングテープを付着させるダイシングテープ付着装置18と、ウェーハ上面にあるラミネーションテープを除去するラミネーションテープ除去部20及びラミネーションテープ除去が終わったウェーハを装置外にローディングするウェーハアンローディング部22よりなる。
 前記ウェーハにUV光線を照射する理由は、ラミネーションテープにUV光線を照射してラミネーションテープとウェーハ上面との接着力を弱化させるためである。従って、後続工程にてラミネーションテープを効果的に除去できる。
 ここで、前記ダイシングテープ付着装置は汎用ダイシングテープだけをウェーハ裏面に付着する装置である。
 図2は半導体パッケージ組立て工程に使われる汎用ダイシングテープの断面図である。詳細に説明すれば、汎用ダイシングテープ30は最も下にPE(Poly Ethylene)材質のベースフィルム32があり、その上にUV光線により接着力が弱まる特徴を有し、アクリルポリマー合成物質を材質とする接着層34があり、その上に前記接着層34を保護する役割を有するPET(Poly Ethylene Terephthalate)材質よりなるライナフィルム36がある。従って、汎用ダイシングテープ30がリングフレームを使用してウェーハ裏面に付着される時に、前記ベースフィルム32を含む接着層34はウェーハ裏面及びリングフレームに接着され、ライナフィルム36は汎用ダイシングテープ30から剥がれて除去される。
 後続工程であるダイボンディング工程にて、厚さが100μm以下である半導体チップは、エポキシを使用してリードフレームや基板のチップパドルに付着される。しかし、液相エポキシを使用する場合、半導体チップの厚さがあまり薄いために、チップが水平状態に付着されずに傾く欠陥が容易に発生する。かような問題を解決するために、液状エポキシの代わりに接着テープを使用して半導体チップとリードフレーム及び基板のチップパドルを接着する技術が開発された。この時使われる接着テープを含むダイシングテープ、すなわち所定サイズに切られたテープをプレカットダイシングテープという。前記プレカットダイシングテープは、ダイボンディング工程に使われるが、半導体パッケージ組立て工程においてダイシングテープ付着工程から適用される。
 図3はプレカットダイシングテープの平面図であり、図4は図3のIV−IV’切断面の断面図である。
 図3及び図4を参照すれば、図3のAは円形のプレカットラインであり、その内部のプレカット部(図4のB)はウェーハ及びリングフレームに付着され、その外部はライナフィルム48と共に回収されて巻かれる。プレカットダイシングテープ40の断面構造について述べれば、最下部にPEを材質とするベースフィルム42が存在する。前記ベースフィルムは、プレカットラインAを基準として内部はプレカット部Bであって42a、外部は42bと表記した。また、前記ベースフィルム42上には拡張層44と接着層46とがそれぞれ存在する。
 前記拡張層44はリングフレームとベースフィルム42aとを付着する機能を果たす。また、前記接着層46は、ダイボンディング工程にて従来.使われた液相エポキシの代わりに半導体チップをリードフレームあるいは基板のチップパドルに付着させる役割を果たす。最後に、ライナフィルム48はPET材質であり、前記拡張層44及び接着層46を保護する機能を果たし、前記プレカット部Bがリングフレーム及びウェーハに接着された後、その外郭にあったベースフィルム42b及び拡張層44bと共に回収されて処理される。
 しかし、図1にて説明されたインラインシステムは、図3及び図4に示されたプレカットダイシングテープをウェーハに付着する機能がない。また、プレカットダイシングテープだけをウェーハに付着できるダイシングテープ付着装置は、ウェーハ裏面研摩機能がなく、ただダイシングテープ付着だけのための単位工程用装置である。従って、プレカットダイシングテープを使用するためにはインラインシステムでない、ただプレカットダイシングテープだけを付着するダイシングテープ付着装置を新しく求めなければならない。これは次のような否定的な問題点を引き起こす。
 第一に、組立て装置の購入が多くなるために半導体パッケージ組立て工程の製造コストが上昇する。
 第二に、組立て装置の購入が多くなるために組立てラインの空間が広くなる。
 第三に、裏面研磨により薄くなったウェーハを組立て装置が移動しなければならないために反り欠陥が発生し続け、薄くなったウェーハをハンドリングする困難さが持続的に残される。
 本発明がなそうとする技術的課題は、汎用ダイシングテープとプレカットダイシングテープとを一つの装置内でどちらも適用できる半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムを提供するところにある。
 本発明がなそうとする他の技術的課題は、汎用ダイシングテープとプレカットテープとをどちらも適用できる半導体パッケージ組立て工程のダイシングテープ付着装置を提供するところにある。
 前記技術的課題を達成するために本発明は、半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムであって、裏面の研磨されていないウェーハをシステム内部にローディングするウェーハローディング部と、前記ウェーハローディング部から移送されたウェーハの裏面を研磨するウェーハ裏面研磨装置と、前記ウェーハ裏面研磨装置で研磨が完了したウェーハの裏面にリングフレームを使用してダイシングテープを付着させるダイシングテープ付着装置と、前記ダイシングテープにウェーハが付着されたリングフレームを装置外に移送するアンローディング部とよりなる半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムにおいて、前記ダイシングテープ付着装置は、プレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとをウェーハ裏面に付着させる機能のあることを特徴とする半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムを提供する。
 本発明の望ましい実施例によれば、前記ウェーハローディング部にローディングされるウェーハはウェーハ裏面研磨装置での汚染を防止するためにウェーハ上面にラミネーションテープが付着されたものが適し、研磨が完了した後でラミネーションテープを効果的に除去するためにUV光線を照射するUV光線照射部を内部に備えたものが適し、前記ウェーハ裏面研磨装置での研磨が完了したウェーハは厚さが20〜200μm範囲であるものが適している。
 また本発明の望ましい実施例によれば、前記ダイシングテープ付着装置は、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを供給するテープローダと、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープから分離されたライナフィルムを巻く役割を果たすライナフィルム回収リールと、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハに付着させるために使われるリングフレームを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすリングフレーム積載部と、前記リングフレーム及びウェーハにプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを付着させる場所であるマウンティングテーブルと、前記テープローダから出てきたプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレームに圧着する役割を果たすプレスローラ部と、前記マウンティングテーブルで汎用ダイシングテープを付着させて余る残量を除去するピーリングユニットと、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープの付着が完了したリングフレームをラミネーションテープ除去部に移送するマウンティングフレームトランスファ部と、前記汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレーム裏面に付着させて余る部分を切断する役割を果たすテープカッタ部とを備えることが適している。
 前記テープローダは、プレカットダイシングテープを供給する時と汎用ダイシングテープを供給する時とで回転方向を異にすることが望ましく、プレカットダイシングテープを供給する時に時計方向に回転し、汎用ダイシングテープを供給する時に反時計方向に回転することが適している。
 望ましくは、前記ライナフィルム回収リールはプレカットダイシングテープを付着させる場合にはライナフィルムを含めてプレカットされて残った残量も共に回収することが適している。
 また、前記ダイシングテープ付着装置は、前記ウェーハ裏面研磨装置で付着されたラミネーションテープを剥ぎ取る機能を果たすラミネーションテープ除去部をさらに備えることが適している。
 前記他の技術的課題を達成するために本発明は、回転方向を異にしつつプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを供給するテープローダと、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープから分離されたライナフィルムを巻く役割を果たすライナフィルム回収リールと、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハに付着させるのに使われるリングフレームを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすリングフレーム積載部と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープが付着されるウェーハを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすウェーハ積載部と、前記リングフレーム及びウェーハにプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを付着させる場所であるマウンティングテーブルと、前記テープローダから供給されたプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレームに圧着する役割を果たすプレスローラ部と、前記マウンティングテーブルで汎用ダイシングテープを付着させて余る残量を除去するピーリングユニットと、前記汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレーム裏面に付着させて余る部分を切断する役割を果たすテープカッタ部と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープの付着が完了したリングフレームを外部に移送するアンローディン部とを備えることを特徴とするプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置を提供する。
 本発明の望ましい実施例によれば、前記テープローダは、プレカットダイシングテープをローディングする時に時計方向に回転し、汎用ダイシングテープをローディングする時に反時計方向に回転することが適している。
 また前記ライナフィルム回収リールは、プレカットダイシングテープを付着させる場合にはライナフィルムを含めてプレカットされて残った残量も共に回収することが適している。
 本発明によれば、プレカットダイシングテープを付着させるためのダイシングテープ付着装置を追加で購入せずに、ウェーハ裏面研磨装置とダイシングテープ付着装置とが一つに統合されたインラインシステムでプレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとを共に付着できる。従って、新しい装置購入による製造コストの上昇を抑制できて組立て工程の作業空間を減らせ、研磨の完了したウェーハを移送したり取扱う時に発生しやすい損傷や反りのような欠陥を未然に予防できる。
 従って、前述の本発明によれば、第一に、薄目の半導体パッケージを組立てる時に汎用ダイシングテープとプレカットダイシングテープとを同時に一装置内で適用できる。
 第二に、インラインシステムであるために、ウェーハを移送したりハンドリングする時にウェーハが曲がったり損傷される問題を解決して半導体パッケージの収率を高めて信頼性を改善できる。
 第三に、プレカットダイシングテープの付着のための追加装置を購入する必要のないために、半導体パッケージ組立て工程の製造コストが節減される。
 第四に、プレカットダイシングテープの付着のための追加装置を購入せずともよいために、半導体パッケージ組立てラインの空間を節約できる。
 第五に、プレカットダイシングテープを使用しても薄くなったウェーハを移送したりハンドリングする問題点を解決できる。
 本発明は前記の実施例に限定されず、本発明の属する技術的思想内で当分野の当業者により多くの変形が可能であることは明白である。
 以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳細に説明する。しかし、次の詳細な説明で開示される実施例は本発明を限定しようとする意味ではなく、本発明の属する技術分野にて当業者に本発明の開示が実施可能な形で完全になるように発明の範疇を明らかにするために提供されるものである。
 まず、本発明の実施例を説明するに先立ち、理解の一助とするために本発明で使われる各種テープ及びその機能について簡略に説明する。
 半導体パッケージ組立て工程にてワイヤボンディング以前に使われるテープは、大きくウェーハ研磨工程で使われるラミネーションテープと、ウェーハ切断工程で使われるダイシングテープとがある。
 前記ラミネーションテープは、ウェーハ裏面研磨工程中にウェーハ上面から発生する汚染を減らすために付着させるテープである。従って、前記ラミネーションテープはウェーハ裏面研磨工程で発生する汚染からウェーハ上面を保護するだけではなく、ウェーハに加えられる圧力、機械的な衝撃などを吸収して最小化する。前記ラミネーションテープはウェーハ裏面研磨工程が完了してウェーハ切断工程を進める前にウェーハから剥がされて除去される。前記ラミネーションテープを除去する方法は、UV光線を照射してラミネーションテープの接着力を落として除去する方法と、UV光線を使用せずに除去する方法とがある。しかしほとんどの場合、UV光線により接着力が落ちる形のラミネーションテープが使われている。
 前記ダイシングテープは、大きく汎用ダイシングテープ(図2)とプレカットダイシングテープ(図3及び図4)とに区分される。前記汎用ダイシングテープはダイボンディングのためにエポキシの代わりに使用され、接着層がなくてプレカットがされていない。一方、プレカットダイシングテープはダイボンディング時に使われ、接着層がダイシングテープに含まれていてプレカット部をダイシングテープから容易に剥ぎ取ってリングフレーム及びウェーハに付着させるためのプレカットがダイシングテープにあらかじめ形成されている特徴がある。
 図5は本発明によるウェーハ裏面研磨装置とダイシングテープ付着装置とが一つに結合された形のインラインシステムを説明するための概略的なブロック図である。
 図5を参照すれば、本発明によるウェーハ裏面研磨装置とダイシングテープ付着装置とが一つに結合された形のインラインシステム100は、裏面の研磨されていないウェーハを装置内部にローディングするウェーハローディング部102と、前記ウェーハローディング部102から移送されたウェーハの裏面を研磨するウェーハ裏面研磨装置104と、前記ウェーハ上面に付着されたラミネーションテープを効果的に除去するためにUV光線を照射するUV光線照射部106と、前記ウェーハ裏面研磨装置104で研磨が完了したウェーハの裏面にリングフレームを用いてダイシングテープを付着させるダイシングテープ付着装置120と、前記UV光線照射部106で接着力が弱まったラミネーションテープを除去するラミネーションテープ除去部108と、前記ダイシングテープにウェーハが付着されたリングフレームを装置外に移送するアンローディン部110とよりなる。
 前記ウェーハ裏面研磨装置104で研磨されたウェーハは厚さが20〜200μm範囲に研磨されることが適している。前記本発明による半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムにて、発明の特徴はダイシングテープ付着装置120にある。従来には汎用ダイシングテープだけを処理できたが、本発明では汎用ダイシングテープだけでなく、プレカットダイシングテープも共に処理できるように製作されている。
 従って、追加でプレカットダイシングテープだけを付着させるためのダイシングテープ付着装置を新しく購入する手間がかからず、インラインシステムにてウェーハの裏面研磨とダイシングテープ付着とを同時に行えるためにウェーハを移送したり取扱う過程で生じる問題点を抑制できる。
 図6は図5のダイシングテープ付着装置を説明するための概略的なブロック図である。
 図6を参照すれば、本発明によるダイシングテープ付着装置120は、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを供給するテープローダ122と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープから分離されたライナフィルムを巻く役割を果たすライナフィルム回収リール124と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハに付着させるために使われるリングフレームを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすリングフレーム積載部126と、前記リングフレーム及びウェーハにプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを付着させる場所であるマウンティングテーブル128と、前記テープローダ122から出てきたプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレームに圧着する役割を果たすプレスローラ部130と、前記マウンティングテーブル128で汎用ダイシングテープを付着させて余る残量を除去するピーリングユニット132と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープの付着が完了したリングフレームをラミネーションテープ除去部(図5の108)に移送するマウンティングフレームトランスファ部134と、前記汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレーム裏面に付着して余る部分を切断する役割を果たすテープカッタ部136とよりなる。
 本発明ではテープローダ122に汎用ダイシングテープあるいはプレカットダイシングテープをどちらも搭載できるようにし、その回転方向を異にしつつ汎用ダイシングテープとプレカットダイシングテープとをどちらも供給できるように装置を改造した。
 図7は前記図5のダイシングテープ付着装置にて汎用ダイシングテープをウェーハに付着させる動作を説明するための側面図であり、図8及び図9はダイシングテープ付着装置のマウンティングテーブル上での動作を説明するための側面図である。
 図7ないし図9を参照すれば、まずリングフレーム152とウェーハ150とをマウンティングテーブル128上にローディングする。この時、ウェーハ150は前面が下方に向いている。その後、テープローダ122に巻かれている汎用ダイシングテープ30はテープローダ122が反時計方向に回転しつつ複数のピンチローラ138を経つつ供給される。前記汎用ダイシングテープ30はピーリングバー125により保護層のライナフィルム36だけ分離されてライナフィルム回収リール124に巻かれ、汎用ダイシングテープ30のベースフィルムと接着層とはマウンティングテーブル128上に供給される。
 前記マウンティングテーブル128上にライナフィルム36が除去された汎用ダイシングテープ30が供給された状態でプレスローラ130が右側から左側方向に押さえつつ移動してリングフレーム152及びウェーハ150裏面に汎用ダイシングテープ30を付着させる。
 前記汎用ダイシングテープ30をリングフレーム152及びウェーハ150裏面に付着した後、ダイシングテープ付着装置のテープカッタ部136が移動してマウンティングテーブル128上に位置した後、テープカッタ部内部のカッタ135がリングフレーム152の内部円に沿って回転しつつ汎用ダイシングテープ30を切る。前記切られた残量38はピーリングユニット132の回収リールに巻かれて処理される。
 図10は前記ダイシングテープ付着装置にてウェーハに汎用ダイシングテープを付着させたリングフレームの斜視図である。
 図10を参照すれば、リングフレーム152及びウェーハ150裏面に汎用ダイシングテープが接着層34により付着された状態を示す。かように汎用ダイシングテープ30がウェーハ150裏面に付着されたリングフレーム152は、ウェーハ切断工程からダイボンディング工程までウェーハ150を移送するキャリアの役割を果たす。
 図11は前記図5のダイシングテープ付着装置にてプレカットダイシングテープをウェーハに付着する動作を説明するための側面図である。
 図11を参照すれば、まずリングフレーム152とウェーハ150とがマウンティングテーブル128上にローディングされる。この時にもウェーハ150の前面は下方に向いている。次に、テープローダ122には汎用ダイシングテープの代わりにプレカットダイシングテープ(40、図3及び4参照)が搭載される。この時、テープローダ122からプレカットダイシングテープ40を供給する方向は汎用ダイシングテープを供給する方向とは反対方向である時計方向になる。前記テープローダ122から供給されるプレカットダイシングテープ40は複数のピンチローラ138を過ぎてピーリングバー125にてプレカット部(図4のB)だけ分離され、残りの残量はライナフィルム回収リール124に巻かれて回収される。従って、ただプレカット部(図4のB)だけプレスローラ130によりリングフレーム152及びウェーハ150裏面に付着される。そして、プレカットダイシングテープ40を付着させる時には、汎用ダイシングテープを付着させる時に使われたピーリングユニット132やテープカッタ部136が作動しない。
 この時、プレスローラ130が押さえつつ移動する距離を調整してウェーハ150のサイズに関係なくプレカット部Bをリングフレーム152及びウェーハ150裏面に付着させるのはいくらでも可能である。従って、本発明による半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムは、ウェーハサイズに関係なくプレカットダイシングテープ40を付着させることが可能である。また、ライナフィルム回収リール124に巻かれるのはライナフィルム48だけではなくプレカット部(図4のB)を除いて残っている拡張層44b及びベースフィルム42bが追加される。
 従って、本発明では既存の汎用ダイシングテープ付着装置を一部改造してプレカットダイシングテープも共にリングフレーム及びウェーハに付着させることにより従来に問題になったさまざまな問題点を解決できる。
 図12は前記ダイシングテープ付着装置にてウェーハにプレカットダイシングテープを付着させたリングフレームの斜視図であり、図13は前記図12のXIII−XIII’切断面の断面図である。
 図12及び図13を参照すれば、ウェーハ150が汎用ダイシングテープとは異なる方式でプレカットダイシングテープ40に付着されたことが確認できる。まず、リングフレーム152とベースフィルム42aとの接着は拡張層44aによりなされる。ウェーハ150裏面とベースフィルム42aとの接着は接着層46によりなされ、前記接着層46はダイボンディング工程にて既存の液状エポキシの代わりにリードフレームあるいは基板のチップパドルと半導体チップとを接着させる役割を果たす。前記接着層46は、エポキシ及びポリイミド材質か、それを含む合成物質を使用できる。
 前述の実施例は半導体パッケージ組立て工程に使われるインラインシスムに限定して説明した。しかし、本発明の概念はインラインシステムではなくして単位工程装置のダイシングテープ付着装置にも適用されうる。すなわち、既存にはダイシングテープ付着装置がただ2種だけあったが、その一つが汎用ダイシングテープ用であり、もう一つはプレカットダイシングテープ用である。しかし、本発明の概念を適用して一つのダイシングテープ付着装置で汎用ダイシングテープとプレカットダイシングテープとをどちらも処理できる。本変形例ではそれについて説明する。
 図14は本発明の変形例によるダイシングテープ付着装置を説明するための概略的なブロック図である。
 図14を参照すれば、本発明の変形例によるダイシングテープ付着装置200の構成は、回転方向を異にしつつプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを供給するテープローダ202と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープから分離されたライナフィルムを巻く役割を果たすライナフィルム回収リール204と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハに付着させるために使われるリングフレームを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすリングフレーム積載部206と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープが付着されるウェーハを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすウェーハ積載部208と、前記リングフレーム及びウェーハにプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを付着させる場所であるマウンティングテーブル210と、前記テープローダ202から供給されたプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレームに圧着する役割を果たすプレスローラ部212と、前記マウンティングテーブル210で汎用ダイシングテープを付着させて余る残量を除去するピーリングユニット214と、前記汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレーム裏面に付着させて余る部分を切断する役割を果たすテープカッタ部216と、前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープの付着が完了したリングフレームを外部に移送するアンローディン部218とよりなる。
 前記ダイシングテープ付着装置200は単位工程装置であるために、ウェーハ積載部208を追加で備え、インラインシステムの構成に必要であったラミネーションテープ除去部及びマウントフレームトランスファ部のような構成要素が不必要であることを除いては前述の実施例と同一である。
 また、汎用ダイシングテープを付着させる動作原理や、プレカットダイシングテープを付着する動作原理が前述の実施例と同一なために重複を避けて説明を省略する。
従来技術によるウェーハ裏面研磨装置とダイシングテープ付着装置とが一つに結合された形のインラインシステムを説明するための概略的なブロック図である。 半導体パッケージ組立て工程に使われる汎用ダイシングテープの断面図である。 プレカットダイシングテープの平面図である。 図3のIV−IV’切断面の断面図である。 本発明によるウェーハ裏面研磨装置とダイシングテープ付着装置とが一つに結合された形のインラインシステムを説明するための概略的なブロック図である。 図5のダイシングテープ付着装置を説明するための概略的なブロック図である。 前記図5のダイシングテープ付着装置にて汎用ダイシングテープをウェーハに付着させる動作を説明するための側面図である。 ダイシングテープ付着装置のマウンティングテーブル上での動作を説明するための側面図である。 ダイシングテープ付着装置のマウンティングテーブル上での動作を説明するための側面図である。 前記ダイシングテープ付着装置にてウェーハに汎用ダイシングテープを付着させたリングフレームの斜視図である。 前記図5のダイシングテープ付着装置にてプレカットダイシングテープをウェーハに付着させる動作を説明するための側面図である。 前記ダイシングテープ付着装置にてウェーハにプレカットダイシングテープを付着させたリングフレームの斜視図である。 前記図12のXIII−XIII’切断面の断面図である。 本発明の変形例によるダイシングテープ付着装置を説明するための概略的なブロック図である。
符号の説明
30  汎用ダイシングテープ
40  プレカットダイシングテープ
100  インラインシステム
102  ウェーハローディング部
104  ウェーハ裏面研磨装置
106  UV光線照射部
108  ラミネーションテープ除去部
110  アンローディング部
120  ダイシングテープ付着装置
122  テープローダ
124  ライナフィルム回収リール
125  ピーリングバー
126  リングフレーム積載部
128  マウンティングテーブル
130  プレスローラ部
132  ピーリングユニット
134  マウントフレームトランスファ部
136  テープカッタ部
138  ラミネーションテープ除去部
150  ウェーハ
152  リングフレーム

Claims (21)

  1.  半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムであって、
     裏面の研磨されていないウェーハを前記システム内部にローディングするウェーハローディング部と、
     前記ウェーハローディング部から移送されたウェーハの裏面を研磨するウェーハ裏面研磨装置と、
     前記ウェーハ裏面研磨装置で研磨の完了したウェーハの裏面にリングフレームを使用してダイシングテープを付着するダイシングテープ付着装置とよりなる半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムにおいて、
     前記ダイシングテープ付着装置は、
     プレカットダイシングテープと汎用ダイシングテープとをウェーハ裏面に付着させる機能のあることを特徴とする半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  2.  前記ウェーハローディング部にローディングされるウェーハは、ウェーハ裏面研磨装置での汚染を防止するためにウェーハ上面にラミネーションテープが付着されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  3.  前記ウェーハ裏面研磨装置は研磨が完了した後でラミネーションテープを効果的に除去するためにUV光線を照射するUV光線照射部を内部に備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  4.  前記ウェーハ裏面研磨装置で研磨の完了したウェーハは厚さが20〜200μm範囲であることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  5.  前記半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムは、前記ダイシングテープにウェーハが付着されたリングフレームを装置外に移送するアンローディン部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  6.  前記ダイシングテープ付着装置は前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを供給するテープローダを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  7.  前記テープローダはプレカットダイシングテープを供給する時には一方向に回転し、前記汎用ダイシングテープを供給する時には反対方向に回転することを特徴とする請求項6に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  8.  前記テープローダは前記プレカットダイシングテープを供給する時に、時計方向に回転することを特徴とする請求項7に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  9.  前記テープローダは前記汎用ダイシングテープを供給する時に、反時計方向に回転することを特徴とする請求項7に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  10.  前記半導体パッケージ組立て工程のインラインシステムはライナフィルムと共にプレカット工程を行った後、残ったプレカットダイシングテープの残量を除去できるライナフィルム回収リールをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ組立て工程のインラインシステム。
  11.  回転方向を異にしつつプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを供給するテープローダと、
     前記汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレーム裏面に付着して余る部分を切断する役割を果たすテープカッタ部と、
     前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープの付着が完了したリングフレームを外部に移送するアンローディン部とを備えることを特徴とするプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  12.  前記テープローダは、プレカットダイシングテープをローディングする時に時計方向に回転することを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  13.  前記テープローダは、汎用ダイシングテープをローディングする時に反時計方向に回転することを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  14.  前記ダイシングテープ付着装置は前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープから分離されたライナフィルムを巻くライナフィルム回収リールをさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  15.  前記ライナフィルム回収リールはプレカット工程を行った後で余るプレカットダイシングテープ残量を除去することを特徴とする請求項14に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  16.  前記ダイシングテープ付着装置は前記リングフレーム及びウェーハにプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープを付着する場所であるマウンティングテーブルをさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  17.  前記ダイシングテープ付着装置は前記テープローダから供給されたプレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハ及びリングフレームに押さえて付着させるプレスローラ部をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  18.  前記ダイシングテープ付着装置は前記マウンティングテーブルで汎用ダイシングテープを付着させて余る残量を除去するピーリングユニットをさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  19.  前記ダイシングテープ付着装置は前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープの付着が完了したリングフレームをラミネーションテープ除去部に移送するマウンティングフレームトランスファ部をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  20.  前記ダイシングテープ付着装置は前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープをウェーハに付着させるために使われるリングフレームを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすリングフレーム積載部をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
  21.  前記ダイシングテープ付着装置は前記プレカットダイシングテープあるいは汎用ダイシングテープが付着されるウェーハを積載してマウンティングテーブルに供給する役割を果たすウェーハ積載部をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のプレカットダイシングテープ及び汎用ダイシングテープをウェーハ裏面に付着できるダイシングテープ付着装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005106945A1 (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Lintec Corporation 貼付装置及び貼付方法
JP2008205363A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Nitto Denko Corp 粘着テープ貼付け装置
DE112006002870T5 (de) 2005-12-09 2008-10-09 Lintec Corp. Bandaufklebevorrichtung und Aufklebeverfahren
JP2017216265A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6682955B2 (en) * 2002-05-08 2004-01-27 Micron Technology, Inc. Stacked die module and techniques for forming a stacked die module
JP2004047823A (ja) * 2002-07-12 2004-02-12 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシングテープ貼付装置およびバックグラインド・ダイシングテープ貼付システム
JP4471563B2 (ja) * 2002-10-25 2010-06-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
JP2005045023A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
KR100532287B1 (ko) * 2003-09-17 2005-11-29 삼성전자주식회사 휴대용 카메라 모듈의 미세 이물질 제거 장치 및 방법
JP4444619B2 (ja) * 2003-10-10 2010-03-31 リンテック株式会社 マウント装置及びマウント方法
US20050136653A1 (en) * 2003-12-22 2005-06-23 Ramirez Jose G. Non-adhesive semiconductor wafer holder and assembly
DE102004009742B4 (de) * 2004-02-25 2010-03-04 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen rückseitenbeschichteter Halbleiterchips
JP4677758B2 (ja) * 2004-10-14 2011-04-27 日立化成工業株式会社 ダイボンドダイシングシート及びその製造方法、並びに、半導体装置の製造方法
CN1861339B (zh) * 2005-05-12 2013-02-27 统宝光电股份有限公司 面板切割用载盘及利用该载盘的面板制造方法
KR100670762B1 (ko) * 2005-10-27 2007-01-17 삼성전자주식회사 웨이퍼 후면 연마 및 테이프 부착 장치 및 방법
WO2007055010A1 (ja) 2005-11-10 2007-05-18 Renesas Technology Corp. 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP4468884B2 (ja) * 2005-12-09 2010-05-26 リンテック株式会社 テープ貼付装置、マウント装置及びマウント方法
JP2007250598A (ja) * 2006-03-14 2007-09-27 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
KR100876155B1 (ko) * 2006-11-28 2008-12-26 삼성전자주식회사 웨이퍼 보호테이프 커팅장치, 백 래핑설비 및 이를 사용한웨이퍼 보호테이프 커팅방법
KR100843217B1 (ko) * 2006-12-15 2008-07-02 삼성전자주식회사 웨이퍼 후면 액상접착제 도포를 이용한 반도체 패키지 제조용 인라인 시스템
US8801879B2 (en) 2007-04-26 2014-08-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for manufacturing multilayer film
SG148884A1 (en) * 2007-06-15 2009-01-29 Micron Technology Inc Method and system for removing tape from substrates
US8247773B2 (en) 2007-06-26 2012-08-21 Yamaha Corporation Method and apparatus for reading identification mark on surface of wafer
US20100158985A1 (en) * 2008-12-19 2010-06-24 Xylos Corporation Porous structures of microbial-derived cellulose for in vivo implantation
IT1392511B1 (it) * 2008-12-23 2012-03-09 Pe Labellers Spa Macchina etichettatrice mediante etichette stampate su nastro
JP5143196B2 (ja) * 2009-09-28 2013-02-13 日東電工株式会社 半導体装置用フィルム
TW201112343A (en) * 2009-09-30 2011-04-01 C Sun Mfg Ltd Film cutting device of wafer film laminator
KR101560039B1 (ko) 2010-06-08 2015-10-13 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 그라인딩 전의 다이싱 및 마이크로 제조된 웨이퍼들 상의 접착제의 코팅
JP2014511560A (ja) * 2011-02-01 2014-05-15 ヘンケル コーポレイション プレカットされウェハに塗布されるダイシングテープ上のアンダーフィル膜
EP2671249A4 (en) * 2011-02-01 2015-10-07 Henkel IP & Holding GmbH FILLING FILM APPLIED TO A PRE-CUTTING WAFER
JP5659033B2 (ja) * 2011-02-04 2015-01-28 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
JP2012248916A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Taiyo Yuden Co Ltd 弾性波デバイスの製造方法
JP5998730B2 (ja) 2011-09-16 2016-09-28 日立化成株式会社 粘着フィルム及び粘着フィルムの製造方法
US8624348B2 (en) 2011-11-11 2014-01-07 Invensas Corporation Chips with high fracture toughness through a metal ring
US9475962B2 (en) * 2013-03-26 2016-10-25 Mitsui Chemicals Tohcello, Inc. Production method for laminate film, laminate film, and production method for semiconductor device employing same
US20170213765A1 (en) * 2014-05-23 2017-07-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Die bonding/dicing sheet
JP6407056B2 (ja) * 2015-02-20 2018-10-17 株式会社ディスコ 分割装置と分割方法
JP6633447B2 (ja) * 2016-04-27 2020-01-22 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6633446B2 (ja) 2016-04-27 2020-01-22 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
TW201811518A (zh) * 2016-06-21 2018-04-01 美商3M新設資產公司 材料條之轉換及施加
JP6951124B2 (ja) * 2017-05-23 2021-10-20 株式会社ディスコ 加工方法
JP6879840B2 (ja) * 2017-06-28 2021-06-02 株式会社ディスコ テープ貼り機及びテープ外し方法
JP7329958B2 (ja) * 2019-05-13 2023-08-21 リンテック株式会社 支持装置および支持方法
JP2020194834A (ja) * 2019-05-27 2020-12-03 リンテック株式会社 支持装置および支持方法
TWI810862B (zh) * 2022-03-24 2023-08-01 南茂科技股份有限公司 工件載具

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3663240A (en) * 1969-03-24 1972-05-16 Mayer & Co Inc O Package and method of making same
US4659425A (en) * 1986-02-03 1987-04-21 Ibm Corporation Continuous process for the manufacture of printed circuit boards
JPS6443458A (en) * 1987-08-11 1989-02-15 Nitto Denko Corp Stick cutter for tacky tape with respect to thin board
JPH01143211A (ja) * 1987-11-27 1989-06-05 Takatori Haitetsuku:Kk ウエハーに対する保護テープの貼付け切り抜き方法および装置
US5068567A (en) * 1990-10-26 1991-11-26 General Electric Company Apparatus for increasing the recoverable energy of a piezoelectric bender
JP2877997B2 (ja) * 1991-08-29 1999-04-05 日東電工株式会社 半導体ウエハの処理方法
JPH07263524A (ja) * 1994-03-22 1995-10-13 Teikoku Seiki Kk 半導体製造装置におけるテープ展張装置及びこのテープ展張装置を備える半導体製造装置
US6281044B1 (en) * 1995-07-31 2001-08-28 Micron Technology, Inc. Method and system for fabricating semiconductor components
JP3447518B2 (ja) * 1996-08-09 2003-09-16 リンテック株式会社 接着シート貼付装置および方法
JP3535318B2 (ja) * 1996-09-30 2004-06-07 富士通株式会社 半導体装置およびその製造方法
KR100210160B1 (ko) * 1996-11-28 1999-07-15 김규현 반도체패키지용 웨이퍼 마운팅 시스템의 스테이션
KR100199825B1 (ko) * 1996-11-28 1999-06-15 김규현 반도체패키지용 웨이퍼마운팅시스템의 테이프 컷팅장치
KR100199826B1 (ko) * 1996-11-28 1999-06-15 김규현 반도체패키지용 웨이퍼마운팅시스템의 롤러장치
US6080263A (en) * 1997-05-30 2000-06-27 Lintec Corporation Method and apparatus for applying a protecting film to a semiconductor wafer
US6271102B1 (en) * 1998-02-27 2001-08-07 International Business Machines Corporation Method and system for dicing wafers, and semiconductor structures incorporating the products thereof
DE69914418T2 (de) * 1998-08-10 2004-12-02 Lintec Corp. Dicing tape und Verfahren zum Zerteilen einer Halbleiterscheibe
JP3560823B2 (ja) * 1998-08-18 2004-09-02 リンテック株式会社 ウェハ転写装置
US6153536A (en) * 1999-03-04 2000-11-28 International Business Machines Corporation Method for mounting wafer frame at back side grinding (BSG) tool
JP2001185512A (ja) * 1999-10-14 2001-07-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 補強部材付き半導体装置およびこの製造方法ならびにicカードおよびこの製造方法
JP3878781B2 (ja) * 1999-12-27 2007-02-07 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
JP2001319906A (ja) * 2000-05-11 2001-11-16 Takatori Corp ウエハ表面保護テープの剥離装置
JP2003152058A (ja) * 2001-11-13 2003-05-23 Lintec Corp ウェハ転写装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005106945A1 (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Lintec Corporation 貼付装置及び貼付方法
US7611600B2 (en) 2004-04-28 2009-11-03 Lintec Corporation Sticking apparatus and sticking method
DE112006002870T5 (de) 2005-12-09 2008-10-09 Lintec Corp. Bandaufklebevorrichtung und Aufklebeverfahren
US7954534B2 (en) 2005-12-09 2011-06-07 Lintec Corporation Tape sticking apparatus and sticking method
JP2008205363A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Nitto Denko Corp 粘着テープ貼付け装置
KR101408472B1 (ko) 2007-02-22 2014-06-17 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 테이프 부착 장치
JP2017216265A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法

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