JP2003080258A - 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法 - Google Patents

表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体、ガラスまたは樹脂等の物品の表面洗浄
能力、表面処理能力の性能を向上させる優れた能力を有
する帯電水を効率よく生成することができる電解槽を提
供する。 【解決手段】カソード室４１及びアノード室５０を並設
した電解槽であって、これらの室を区画するように設け
たフッ素系カチオン交換膜４５のカソード室４１に臨む
面にカソード電極４４を密着させ、反対側面には、カチ
オン交換樹脂４６を充填した中間室４８を設けて該カチ
オン交換樹脂４６をフッ素系カチオン交換膜に接触さ
せ、原料水を中間室４８に流入させアノード室５０を通
過させて、このアノード室５０を通過した通過水を帯電
アノード水として回収することを特徴とする表面洗浄・
表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する産業上の技術分野】本発明は、半導体、
ガラスまたは樹脂の表面洗浄・表面処理の方法及びその
ための用水である帯電水を製造する装置に関し、特に
は、環境対策の面から化学薬品等を利用せずに表面洗浄
・表面処理するプロセスに適した帯電水の生成ができる
電解槽を提供する技術に関する。また、これらの電解槽
を用いて生成した帯電水は、抗微生物効果も併せ持って
おり、高純度の清浄度が要求される医療用器具の洗浄・
除菌にも好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】一般に、逆浸透膜処理水（ＲＯ処理
水）、純水、超純水などのように、電導度が小さい水を
電解するときは、図１に示すようなフッ素系イオン交換
膜５を利用した電解槽を用いる隔膜電解法が知られてい
る。そしてこの電解槽は、他の電解槽の構造のものと異
なっていて、隔膜５としてフッ素系カチオン交換膜を用
いると共に、この隔膜５にアノード室１側のアノード電
極４と、カソード室６側のカソード電極９を密着させる
構造が採用される。なお、図１中の符号２はアノード室
入口、３は同アノード室出口を示し、また符号７はカソ
ード室入口、８はカソード室出口をそれぞれ示してい
る。
【０００３】このフッ素系カチオン交換膜を隔膜５とし
て用いることにより、図１の装置では、原料水として純
水等を用いても隔膜のイオン交換基が下記式（１）のよ
うに解離し、このように解離した水素イオンが存在する
結果。カチオン交換膜５の電導度が向上して超純水のよ
うにイオン性不純物が殆どない液中でも数ボルトの低電
圧で電解が可能となる。
【０００４】 −ＳＯ3 Ｈ → −ＳＯ3 - ＋ Ｈ+ （１） すなわち、この電解槽を用いて純水を電解すると、下記
式（２），（３）の反応が起こる。
【０００５】 アノード電極 ２Ｈ2 Ｏ → Ｈ+ ＋ Ｏ2 ＋ ２ｅ- （２） カソード電極 ２Ｈ+ ＋ ２ｅ- → Ｈ2 （３） これらの反応式に基づき、アノード液中の酸素濃度が高
まり、カソード液中の水素濃度が高まるが、電解水の液
性に変化は見られない。
【０００６】しかしながら、図１に示した電解槽で得ら
れる帯電水では、必ずしも半導体、ガラスまたは樹脂等
の物品表面の洗浄、あるいは表面処理に適した洗浄水を
得ることはできない。
【０００７】例えば、ｐＨが５〜６でＯＲＰ（白金電極
表面の酸化還元電位）が２００〜３００ｍＶの電解アノ
ード水あるいは電解カソード水が求められ、これは電解
前の超純水のｐＨは略７でＯＲＰは２００ｍＶ以下であ
るのに比べ優れているが、この超純水等を図１の電解槽
で得られる帯電水のｐＨ及びＯＲＰの値は上記条件を満
足していない。
【０００８】このような問題を解決するべく、イオン性
不純物が殆どない純水，超純水等を原料水として生成し
た電解水のために、アノード室１１とカソード室１６の
間に中間室１１１を設けた図２に示す３室型電解槽も既
に提案されている。
【０００９】この３室型電解槽の構造は、３室の各々の
室１１，１６，１１１は、隔膜（イオン交換膜）１５
１，１５２で仕切られ、中間室１１１には固体電解質で
あるイオン交換樹脂が充填されている。１１２は中間室
入口、１１３は中間室出口である。なお、カソード電極
１９とアノード電極１４は夫々隔膜１５１，１５２に密
着して設けられる。なお図２中、１２はアノード室入
口、１３はアノード室出口、１５はカソード室入口、１
７はカソード室出口である。
【００１０】この３室型電解槽を用いると、カソード室
１６で生成された水素ガス等の還元性物質がアノード室
１１に拡散することが抑制され、このことによりアノー
ド室１１に強力な酸化性電解水を得ることが可能とな
る。
【００１１】また、この図２の電解槽では、アノード電
極１４で生成された水素イオンのカソード電極１９側へ
の移動量が不足し、カソード電極１９において上記式
（３）に加えて下記式（４）の電解反応が反応が起こ
る。
【００１２】 カソード電極 Ｈ2 Ｏ ＋ ２ｅ- → １／２Ｈ2 ＋ ＯＨ- （４） この結果として、カソード電極１９のｐＨがアルカリ側
に移行する傾向となる。
【００１３】以上の現象は、見方を変えると上記式
（１）で示したアノード室１１で生成された水素イオン
の一部がアノード室１１に残留することを意味する。
【００１４】このように、上記図２で示した３室型電解
槽によれば、アノード室１１の電解液は水素イオンで帯
電し、またカソード室１６の電解液は水酸化イオンで帯
電することになる。
【００１５】なお、以上のことを実験的に確認するため
の帯電量等を測定するモニターとしては電気化学的測定
法が適しており、例えばガラス電極を使用したｐＨセン
サまたは銀塩化電極を参照電極として白金電極表面の酸
化還元電位を測定するＯＲＰセンサで測定した値の変化
を見ることができ、これらのセンサは電極界面の電位変
化を指標としているため電解水の帯電性を確認するのに
都合がよい。測定時の電解水の温度は、一般的には１８
℃〜２４℃で行われる（本発明の実施例にも同じ）。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】以上のように帯電した
電解水は、半導体、液晶ガラス、ハードディスク用ガラ
ス等の分野では、洗浄・表面処理効果を、またメディカ
ルデバイスの分野では洗浄・除菌効果をもたらす。
【００１７】ところで上記物品の表面汚染は、物質の静
電的な吸引力による吸着の汚染とイオン性の汚染があ
る。図３（（Ａ）は処理前、（Ｂ）は処理後）を用いて
これについて説明すると、物品表面がプラスに帯電し、
被吸着物質（汚染物質）がマイナスに帯電している場
合、この汚染物質を電解アノード水に入れると、吸着物
質の表面のマイナス電荷と電解アノード水中の水素イオ
ンが結合し、電荷を消失させることにより静電的結合が
低減されて、洗浄が容易となる。逆に物品表面がマイナ
スに帯電していて、被吸着物質がプラスに帯電している
場合には、物品表面のマイナスの電荷が消失して結合力
が低減する。一方、イオン性不純物の場合、電解アノー
ド水中に水素イオンが過剰であるので、この過剰を解消
するために表面の陰イオン性の不純物をより効果的に電
解水中に溶解させて、物品表面から除去することができ
る。
【００１８】反応式（２）から分かるように純水をアノ
ード電解すると、水素イオンが生成され、塩酸とか硫酸
の化学物質である酸を添加した場合と異なり、対イオン
である陰イオンが存在しない。このことは電解アノード
水が帯電していることを示す。また、水素イオン自体は
電子受容体であり、換言すると酸化体の一種といえる。
このことは酸化還元電位が貴の電位にあることを意味
し、ＯＲＰセンサの指示値がプラス方向になることを示
す。
【００１９】理論的には上述の通りであるが、しかし上
記の帯電した電解水を洗浄・表面処理または洗浄除菌・
殺菌に応用する実際の装置を上述した図２の装置で構成
する場合には、洗浄能力、表面処理能力の性能が必ずし
も十分でないという問題がある。
【００２０】すなわち、効率的に帯電水を生成するため
には、見かけ上の電流密度（電流（Ａ）／電極全体の見
かけ上の面積（ｃｍ2 ））電極表面の流速と実際の電流
密度（実効電流密度＝電流（Ａ）／電極全体の実際の面
積（ｃｍ2 ））が重要な因子であり、流速と電流密度は
大きいほど電極表面に生成された水素イオンその他の電
解生成物を電解水に移行させることが可能となり、より
強い帯電水が生成される。
【００２１】この帯電水生成効率を向上させるという目
的のために研究をした本発明者は、以下に説明するよう
に電極の背面だけでなく電極の前面にも通水させること
で全体としての通水抵抗を小さくすることが重要である
ことを見出した。
【００２２】かかる知見から、半導体、ガラスまたは樹
脂等の物品の表面洗浄能力、表面処理能力の性能を向上
させる方法、及びこのような優れた能力を有する帯電水
を効率よく生成することができる本発明の装置（電解
槽）等を開発するにいたったものである。
【００２３】
【課題を解決する手段】上記の目的を達成する本発明の
特徴的構成は以下の通りである。 （１）：カソード室及びアノード室を並設した電解槽で
あって、これらの室を区画するように設けたフッ素系カ
チオン交換膜のカソード室に臨む面にカソード電極を密
着させ、反対側面には、カチオン交換樹脂を充填した中
間室を設けて該カチオン交換樹脂をフッ素系カチオン交
換膜に接触させ、原料水を中間室に流入させアノード室
を通過させてこのアノード室を通過した通過水を帯電ア
ノード水として回収することを特徴とする表面洗浄・表
面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽。
【００２４】本発明において用いるカチオン交換樹脂
は、形状的には粒状、繊維状のいずれであってもよく、
特に限定されないが、粒状のものが好ましく用いられ
る。
【００２５】ここでいう表面洗浄というのは、物品の表
面付着物を除去する操作をいう。また、表面処理という
のは、例えばガラス表面の組成等を変化させることをい
う。すなわち、Ｓｉ−Ｏの結合ネットワークの中にＮａ
+ ，Ｋ+ ，Ｈ+ などのイオンが結合しているガラスに含
まれるＮａ+ イオンはマイグレーションによりガラス表
面に移動する現象が観察される。この表面荒れを防止す
るために、表面近傍に存在するＮａ+ イオンを除去し、
換言すれば表面でイオン交換する。これが表面処理であ
り、表面に付着した粒子やイオンを除去することとは異
なる。
【００２６】上記イオン交換膜には、通常カチオン交換
膜、好ましくはフッ素系カチオン交換膜が用いられる。
そしてこのイオン交換膜（カチオン交換膜）と共に用い
られるアノード電極は、多孔性電極または無効面積を有
する電極であることが本発明においては必須とされる。 （２）：上記発明（１）において、多孔性アノード電極
を設け、上記中間室には処理用原料水の入口があるが出
口がなく、アノード室には処理済水の出口があるが原料
水入口がないことを特徴とする表面洗浄・表面処理に適
した帯電アノード水の製造用電解槽。 （３）：カソード室、中間室及びアノード室を並設した
電解槽であって、カソード室と中間室を区画するように
設けたフッ素系カチオン交換膜のカソード室に臨む面に
カソード電極を密着させると共に、反対側の中間室に臨
む面には中間室に充填したカチオン交換樹脂を接触さ
せ、この中間室とアノード室の間には、フッ素系カチオ
ン交換膜を設け、さらに該フッ素系カチオン交換膜とア
ノード電解極の間に、カチオン交換樹脂を充填し、アノ
ード電極表面に原料水を流通させ、電解水をこの中間室
から帯電アノード水として回収することを特徴とする表
面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解
槽。 （４）：上記発明（３）において、中間室の途中にカチ
オン交換膜を配置して、カソード室側の第１中間室と、
アノード室側の第２中間室とを形成したことを特徴とす
る表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用
電解槽。 （５）：上記発明（１）〜（４）のいずれかにおいて、
多孔性アノード電極の孔面積が、電極全体の面積に対し
て１０％以上としたことを特徴とする表面洗浄・表面処
理に適した帯電アノード水の製造用電解槽。なお、上記
孔は電極の平面全体に均等に分布することが好ましい。
アノード水の通過効率を考慮すると各孔の面積は１ｍｍ
2 以上のものが好ましい。
【００２７】この発明においてアノード電極の各孔面積
が１mm2 以上のものを用いるのは、粒状カチオン交換樹
脂を用いる場合、一般に樹脂径は１ｍｍ程度で、２〜４
ｍｍ径ほどのものも多く、孔から樹脂が樹脂が抜けやす
い。しかし、フッ素系カチオン樹脂のように膨潤化し互
いに摩擦係数が高くなる樹脂を用いると大きな孔面積の
多孔性電極でも使用可能となる。具体的には、デュポン
社製のＮＲ５０が好ましい。またカチオン交換樹脂の対
酸化性を考えれば、フッ素系のものが好ましく、具体的
にはデュポン社製のナフィオンＮＲ５０を例示すること
ができる。 （６）：上記発明（１）ないし（４）のいずれかにおい
て、電解が不可能な無効面積が電極全体の面積に対して
１０％以上としたことを特徴とする表面洗浄・表面処理
に適した帯電アノード水の製造用電解槽。 （７）：上記発明（１）ないし（６）のいずれかにおい
て、カチオン交換樹脂に対する通電方向のアノード電極
の位置を制御する機構を有したことを特徴とする表面洗
浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽。 （８）：上記発明（１）ないし（７）のいずれかの電解
槽において、カチオン交換樹脂がフッ素系カチオン交換
樹脂であることを特徴とする表面洗浄・表面処理に適し
た帯電アノード水の製造用電解槽。 （９）：上記発明（１）ないし（８）のいずれかの電解
槽で製造した帯電アノード水を物品の表面洗浄・表面処
理に用いることを特徴とする帯電アノード水の使用方
法。 （１０）：上記発明（１）ないし（９）のいずれかにお
いて、原料水が純水又は超純水であることを特徴とする
帯電アノード水の使用方法。ここで純水又は超純水とい
うのは、比抵抗が０．１ＭΩ／以上の水をいう。 （１１）：上記発明（１０）の方法で用いる対象物品が
半導体、ガラス、樹脂製品であることを特徴とする使用
方法。 （１２）：上記発明（１０）の方法で用いる対象物品が
医療用器具であることを特徴とする使用方法。 （１３）：上記発明（１）ないし（９）のいずれかの電
解槽で製造して得られる帯電アノード水を冷却して、該
帯電アノード水中のオゾン濃度を高めることをとく特徴
とする使用方法。 （１４）：上記発明（１）ないし（４）、（６）、
（８）ないし（１２）のいずれかにおいてアノード電極
を直接冷却することにより、帯電アノード水中のオゾン
濃度を高めることを特徴とする使用方法。
【００２８】上記各発明において、アノード電極および
カソード電極が多孔性というのは、平板状の電極が前面
及び後面に通水可能に開いた孔（以下「開口」という）
を有する構成であることをいい、本発明の目的を達成す
るためには、開口は平板の全体に対して通水抵抗をでき
るだけ平均化させるように設けられることがよく、一般
的には平板に均等に分布するように設けられる。開口の
大きさ、平板状の電極の全体に対する面積比率などは、
必ずしも一律に決められるものではなく、装置に求めら
れる電流密度、通水抵抗の性能などに応じて決められ
る。
【００２９】これらの因子は、電極の孔構造とイオン交
換樹脂の形状に大きく依存し、孔径が大きくなりかつイ
オン交換樹脂径が大きくなると、通水抵抗が小さくなる
と共に電極と樹脂の接触面積が小さくなるので電流密度
が大きくなる。しかし孔径を大きくしすぎるとイオン交
換樹脂が隔膜と電極の間に保持することが困難になるの
で、最適な形状が存在する。
【００３０】以上のように、調整機能を有する電解槽に
純水を通水することにより、生成した電解アノード水
は、以下の実施例で説明するような特徴をもっている。
【００３１】
【発明の実施の形態】本発明を適用した３室型電解槽に
基づいて説明する。
【００３２】実施形態１ 図４は、従来の３室型電解槽のアノード室を図面に示す
ように改良した孔開きの電極板を用いたものを示した。
【００３３】アノード電極５３は、改良前はカチオン交
換膜に密着していたのでアノード電極の平面に沿って電
解水が流れ、電極反応は電極とイオン交換膜との間で行
われた。従って、電解生成物は、まず電極とイオン交換
膜の間で生成され、その後、電極背面に拡散等の現象で
流れた。
【００３４】一方本発明においては、電解生成物を有効
に利用するために電極表面に通水する電解水は、アノー
ド電極５３が孔開きの形状面積のものとして形成されて
いるために、電極表面に沿って電解水が流れるのみなら
ず、電極に設けられた孔を通して電解水が流れるという
特徴がある。また、イオン交換樹脂の径との関係が重要
となる。通水速度を上げるためには電極の孔の面積を大
きくすることが必要であるが、各孔径の大きさをイオン
交換樹脂よりあまり大きくするとイオン交換樹脂を隔膜
と電極の間に保持することができない。イオン交換樹脂
は球状またはファイバー状であるが、一般的には球状の
ものが好ましい。用いられるイオン交換樹脂の径は小さ
いもので約１ｍｍで大きいもので約２〜４ｍｍである。
従って電極の孔の径は、イオン交換樹脂の径に比較して
大きすぎるものは不適切である。通水時の抵抗性を低下
させるためには、径の大きいイオン交換樹脂が好まし
い。さらにアノード電極に接触するので、フッ素系のイ
オン交換樹脂が好ましい。代表的には上述したようにデ
ュポン社製のフッ素系カチオン交換樹脂ＮＲ５０が適し
ている。
【００３５】また、フッ素系カチオン交換樹脂と電極の
接触面積を制御することにより電流密度を制御すること
が可能となる。フッ素系カチオン交換樹脂は、純水中で
は膨潤するので、径が大きくなり、温度が高くなると径
は更に大きくなる。この結果樹脂と電極の接触面積が環
境条件により変化するので、電流密度の制御の面から接
触面積を制御することが必要である。
【００３６】なお、図４に示した電解槽は、カソード室
４１、中間室４８及びアノード室５０を並設した電解槽
であって、カソード室４１と中間室４８を区画するよう
に設けたフッ素系カチオン交換膜４５のカソード室４１
に臨む面にカソード電極４４を密着させると共に、反対
側の中間室４８に臨む面には該中間室４８に充填したカ
チオン交換樹脂４６を接触させ、この中間室４８のアノ
ード室５０の間にカチオン交換膜５４を設け、中間室４
８に原料水を流通せ、電解水をこの中間室４８から帯電
アノード水として回収することを特徴とする表面洗浄・
表面処理に適したという特徴的な構成を有している。図
４中、４２はカソード室入口、４３はカソード室出口、
４７は中間室入口、４９は中間室出口、５１はアノード
室入口、５２はアノード室出口である。
【００３７】実施形態２ 図５に示した本例の特徴は、原料水を中間室４８に流入
させ、アノード室５０から電解した帯電アノード水を回
収する構成を有するものであり、その具体的な電解槽の
構造は図５に示される。なお、実施形態１と同一の構成
要素には同一の符号を付し、説明を省略する。
【００３８】実施形態３ 本例は、アノード電極の位置を図６に示すように、アノ
ード電極が通電方向に位置を変更できる機構を有する電
解槽構造が採用される例を示している。すなわち、この
構造では、移動可能なように電解槽の外側にアノード電
極位置調整機構を保持するフレームが取り付けられる。
【００３９】この位置調整のためのアノード電極位置調
整機構は、代表的には、アノード電極支持棒にスクリュ
ーネジを切りこのネジを利用して調整するように設ける
ことができる。
【００４０】本例の構成を具体的に説明すると、本例は
図４として説明した実施形態１におけるアノード電極の
通電方向の位置を調節できるようにした構造のものを示
し、具体的には、アノード電極５３の通電方向の略中央
に位置に固着したアノード極支持棒５８を、アノード室
５０に設けた保持フレーム５７で軸方向に移動可能に保
持し、密栓するO −リング５５を介して電解槽外部の位
置調整機構５６に螺合させたものである。アノード極支
持棒５８には雄ねじを切り、位置調整機構５６に雄ねじ
と螺合する雌ねじを切ることにより、位置を調整するこ
とができる。この位置調整用機構５６の回転によりアノ
ード電極５３の通電方向の位置を調節してアノード電極
の位置を変えることにより、電解電流を固定すると電解
電圧は当然上昇し、カソード電極側から離すことにより
帯電特性が向上する。
【００４１】なお、実施形態１と同一の構成要素には同
一の符号を付し、説明を省略する。
【００４２】
【実施例】実施例１ 図４に示す電解槽を用いて，３室型電解槽のアノード室
５０、中間室４８及びカソード室４１の入口に超純水を
供給した。超純水の水質は以下の通りである。
【００４３】超純水 比抵抗：１８．０ＭΩ 水温 ：１５℃ 開口径 ：４φ 電極： 電極には白金めっきのチタン電極を使用した。
【００４４】イオン交換膜： 隔膜４５として、フッ
素系のカチオン交換膜であるディポン社製のナフィオン
１１７を使用した。
【００４５】イオン交換樹脂 中間室のイオン交換樹脂： 中間室４８に粒状のフッ素
系陽イオン交換樹脂ＮＲ５０を充填した。
【００４６】アノード室のイオン交換樹脂： アノード
電極５３と隔膜４５の間にも上記ＮＲ５０を充填した。
【００４７】通水速度： カソード室1 及びアノード室
１０に、０．７５１／ｍｉｎの流速で超純水を通水し
た。
【００４８】本例で使用した電解槽に組み込んだ孔をあ
けたアノード電極５３の見かけ上の面積は４８ｃｍ2 で
ある。
【００４９】電極の見かけ上の面積（本例では平板状に
平均に分布） 電極厚み：１ｍｍ 開口面積：１６．２３ｃｍ2 開口比率：３４％ 孔の面積と見かけ上の面積の比率を変えて帯電水の性能
を比較した。試験での電解電流は５Ａとした。電解アノ
ード水のｐＨとＯＲＰの面積比の関係を図７に示す。こ
の図面から明らかなように電解アノード水の帯電特性の
一つであるｐＨとＯＲＰは電極面積比に大きく依存し
た。
【００５０】実施例２ 実施例１と同じ電解槽を用いて、同じ、超純水を使用し
たときの電解アノード水の帯電特性に対する電解電流の
影響を調べた。図８に電解電流と、ＯＲＰ及びｐＨの関
係を示す。この図から分かるように、電解電流密度が上
がると帯電性が向上することが分かる。
【００５１】実施例３ 図６に示すアノード電極の位置を調整できる電解槽を用
いて、アノード電極の位置と帯電特性の関係を調べた。
その結果を図９に示す。電解電流は、４Ａに設定した。
【００５２】図６において、マイナス位置はアノード電
極をよりカソード側に近か付けることを意味する。アノ
ード電極の位置を変えることにより、電解電流を固定す
ると電解電圧は当然上がることになる。この図６から明
らかなように、アノード電極の位置をカソード電極側か
ら離すことにより帯電特性は向上した。この理由とし
て、カチオン交換樹脂とアノード電極の接触面積が電極
を離すにつれて小さくなり、実質的な接触面積が小さく
なり有効電流密度が高くなることにより。また、この実
施例３で用いたフッ素系イオン交換樹脂はゴム状弾性が
あり、可逆的に帯電性は変化する。
【００５３】実施例４ 実施例１と同じ電解槽を用いた。アノード室に供給する
超純水の流量は、次に、以上の電解槽により生成した帯
電水を用いて洗浄公立を確認する試験を行った。被洗浄
体としてポリエチレン板にカーボンブラックが混入され
た印刷用塗料（ベース樹脂はアクリル系樹脂）を塗布し
たものを用いた。この試験では、実施例１と同じ電解槽
を用いた。各室に供給する超純水の流量は０．７５１／
ｍｉｎの流速で、電解電流は７Ａとした。このようにし
て生成した電解アノード水を被洗浄水のポリエチレン板
に同じ流量で流し流し洗いした。この結果を図１０に示
す。この図において洗浄効率は、洗浄前の被洗浄体の重
量から洗浄後の重量を差し引いた値を洗浄前の重量で割
った値で示した。なお、比較のために、電解しない超純
水で流し洗いした結果も併せて付記した。この図から明
らかなように電解アノード水の洗浄特性が高いことが分
かる。
【００５４】実施例５ 次に８インチのシリコンウエハ上の微粒子の除去効果を
観察した。まず、ベアウエハをゴムの上に乗せることに
よりウエハに微粒子を付着させた。付着量は２０００〜
４０００個の範囲であった。このウエハを電解アノード
水で洗浄した。電解水の生成条件は実施例１と同じとし
た。ただし、電解電流は５Ａに設定した。この電解水を
まず２０リットル生成し、ＰＦＡ製のボトルに溜めた。
ダイヤフラムポンプを用いて３１／ｍｉｎの流速でウエ
ハに電解アノード水をかけた。全体の工程は次の通りで
ある。
【００５５】超純水洗浄２分→電解水洗浄３分→超純水
リンス２分→スピンドライヤー２分。
【００５６】比較のために電解水の代わりに超純水を用
いた洗浄も実施した。試験結果を下記表１に示した
【００５７】
【表１】
【００５８】実施例６ 次にハードディスク用にガラス表面処理に対する帯電水
の効果について説明する。
【００５９】この帯電水にハードディスクを浸漬するこ
とによりガラス表面組成が変化する。ガラスはＳｉ−Ｏ
の結合ネットワークの中にＮａ+ ，Ｋ+ ，Ｈ+ などのイ
オンが結合している。
【００６０】ガラスに含まれるＮａ+ イオンはマイグレ
ーションによりガラス表面に移動する現象が観察されて
いる。この表面荒れを防止するためには、表面近傍に存
在するＮａ+ イオンを除去することが望まれる。換言す
ると、表面でイオン交換することである。そこでこの帯
電水がイオン交換に効果があるかどうかを確認するため
に、帯電水に浸漬前後の表面のイオン分布を調べた。
【００６１】帯電水は、実施例１と同じ装置を用いて生
成した。電解電流は５Ａに設定した。この帯電水にガラ
スを５分間浸漬した後表面をオージェ分析装置で観察し
た。浸漬前後のＮａ+ イオンの分布の深さ方向への変化
を図１１に示す。この図から明らかなように浸漬すると
ガラス表面のＮａ+ イオンの濃度が低減する。
【００６２】実施例７ 次に、本発明に基づいて生成した液の抗菌特性を調べ
た。生成装置は実施例１と同じであるが、電解電流が８
Ａとした。次に、大腸菌の菌液（約１０7 個）を調整
し、この菌液と帯電水を１：３０で混合して一定時間混
合した後、標準寒天培地に塗沫して２４時間、３０℃で
培養して菌の個数を測定した。その結果を図１２に示
す。また電解水のＯＲＰと殺菌効果の関係を図１３に示
す。この図１３から分かるように、ＯＲＰが８００ｍＶ
を超えると明らかに殺菌効果が得られる。
【００６３】実施例８ 以上に示した電解槽を用いた電解アノード水の酸化性
は、電解温度にも大きく影響される。この原因として、
温度が低くなると、アノード電極でオゾン発生効率が高
まることが上げられる。電解槽の温度調節の方法とし
て、図１４及び図１５に示すように、中間室の液または
カソード室液の温度を冷却器を用いて低温に調節するこ
とによりオゾンの発生効率が向上する。図１４のシステ
ムで実施例１に示す電解槽を組み込み電解したときのオ
ゾンの発生効率の変化を図１６に示す。なお、図１４お
よび図１５において、前述の実施形態と同一の構成要素
には同一の符号を付し説明を省略するが、６０は３室型
電解槽、６１は冷却器、６２はアノード電解水タンク、
６３は原水ライン、６４はポンプを示す。
【００６４】実施例９ 実施例９では別の冷却法を説明する。図１７に示すよう
にアノード室をアノード電解水が通過する室と冷却水が
通過する室に分離する。図１７中、前述の実施形態１と
同一の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略す
る。なお、図１７中、６４は冷却室入口、６５は冷却室
出口、６６は冷却室、６７は邪魔板を示す。
【００６５】このときアノード極には穴を開けない。ア
ノード極での実効電流密度を上げるために、図１８に示
すように穴を開けたＰＴＥＦ（フッ素樹脂）シートを８
０×６０ｍｍの白金メッキチタン電極であるアノード極
の表面に重ねる。この実施例では、８０×６０ｍｍのシ
ートに図に示すように４φの穴を開けた。
【００６６】電解槽の温度調節の方法として、図１９に
示すように、冷却室に低温の水を通水して直接アノード
極を冷却した。前述の実施形態等と同一の構成要素には
同一の符号を付し説明を省略するが、図１９中６９は中
間室液タンクである。実施例８と同様に温度を冷却器を
用いて低温に調節することによりオゾンの発生効率が向
上した。
【００６７】
【発明の効果】本発明で考案した電解槽を用いると、強
く帯電したアノード水が生成される。更にアノード電極
を冷却することにより効果的にオゾン発生効率を向上さ
せることが可能となる。このようにして生成した帯電水
は、半導体ウェハーの表面粒子等の洗浄、ガラスの腐食
防止のための表面でのイオン交換を促進する表面処理に
効果的である。また、この他に樹脂等の洗浄にも効果的
で、特に医療用具に用いられる樹脂、例えばカテーテル
等の内表面の洗浄・殺菌に本帯電水は効果的であり、更
に洗浄後に特別な薬品が残留しない点で特徴がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の隔膜電解法による電解槽の模式断面図。
【図２】従来の３室型電解槽の模式断面図。
【図３】電解水による除染メカニズムを示す説明図であ
り、（Ａ）は処理前、（Ｂ）は処理後の説明図である。
【図４】本発明の電解槽の第１実施形態を示す模式断面
図。
【図５】本発明の電解槽の第２実施形態を示す模式断面
図。
【図６】本発明の電解槽の第３実施形態を示す模式断面
図。
【図７】実施例１の電解アノード水のｐＨとＯＲＰの面
積比の関係を測定したグラフ。
【図８】実施例２の電解電流と、ＯＲＰ及びｐＨの関係
を測定したグラフ。
【図９】実施例３のアノード電極の位置と帯電特性の関
係を測定したグラフ。
【図１０】実施例４の除去率と洗浄時間の関係を測定し
たグラフ。
【図１１】実施例６の浸漬前後のＮａ+ イオンの分布の
深さ方向への変化を測定したグラフ。
【図１２】実施例７の電解水の接触時間と菌数の関係を
測定したグラフ。
【図１３】実施例７のＯＲＰと菌数の関係を測定したグ
ラフ。
【図１４】冷却器を組み込んだ電解槽システム図。
【図１５】冷却器を組み込んだ電解槽システム図。
【図１６】実施例８の中間室の液温とオゾン濃度の関係
を測定したグラフ。
【図１７】実施例９の冷却室を設けた電解槽の模式断面
図。
【図１８】ＰＴＦＰシート
【図１９】冷却室を設けた電解槽のシステム図。
【符号の説明】
１，１１，５０ アノード室 ２，１２，５１ アノード室入口 ３，１３，５２ アノード室出口 ４，１４、５３ アノード電極 ５，１５１，１５２，４５，５４ 隔膜 ６，１６，４１ カソード室 ７，１５，４２ カソード室入口 ８，１７，４３ カソード室出口 ９、１９、４４ カソード電極 １１１，４８ 中間室 １１２、４７ 中間室入口 １１３、４９ 中間室出口 ４６ フッ素系カチオン交換樹脂 ５５ Ｏ−リング ５６ アノード位置調整機構 ５７ 位置調整機構保持フレーム ５８ アノード極支持棒 ６１ 冷却器 ６２ アノード電解水タンク ６３ 原水ライン ６４ ポンプ ６５ 冷却室入口 ６６ 冷却室出口 ６７ 冷却室 ６８ 邪魔板 ６９ 中間室液タンク

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 カソード室及びアノード室を並設した電
    解槽であって、これらの室を区画するように設けたフッ
    素系カチオン交換膜のカソード室に臨む面にカソード電
    極を密着させ、反対側面には、カチオン交換樹脂を充填
    した中間室を設けて該カチオン交換樹脂をフッ素系カチ
    オン交換膜に接触させ、原料水を中間室に流入させアノ
    ード室を通過させて、このアノード室を通過した通過水
    を帯電アノード水として回収することを特徴とする表面
    洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解
    槽。
  2. 【請求項２】 請求項１において、多孔性アノード電極
    を用い、前記中間室には処理用原料水の入口があるが出
    口がなく、アノード室には処理済水の出口があるが原料
    水入口がないことを特徴とする表面洗浄・表面処理に適
    した帯電アノード水の製造用電解槽。
  3. 【請求項３】 カソード室、中間室及びアノード室を並
    設した電解槽であって、カソード室と中間室を区画する
    ように設けたフッ素系カチオン交換膜のカソード室に臨
    む面にカソード電極を密着させると共に、反対側の中間
    室に臨む面には中間室に充填したカチオン交換樹脂を接
    触させ、この中間室とアノード室の間には、フッ素系カ
    チオン交換膜を設け、さらに該フッ素系カチオン交換膜
    とアノード電解極の間に、カチオン交換樹脂を充填し、
    アノード電極表面に原料水を流通させ、電解水をこの中
    間室から帯電アノード水として回収することを特徴とす
    る表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用
    電解槽。
  4. 【請求項４】 請求項３において、中間室の途中にカチ
    オン交換膜を配置して、カソード室側の第１中間室と、
    アノード室側の第２中間室とを形成したことを特徴とす
    る表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用
    電解槽。
  5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかにおいて、
    多孔性アノード電極の孔面積が、電極全体の面積に対し
    て１０％以上としたことを特徴とする表面洗浄・表面処
    理に適した帯電アノード水の製造用電解槽。
  6. 【請求項６】 請求項１ないし４のいずれかにおいて、
    アノード電極全体に対する、電解が不可能な無効面積が
    電極全体の面積に対して１０％以上としたことを特徴と
    する表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造
    用電解槽。
  7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかにおいて、
    カチオン交換樹脂に対する通電方向のアノード電極の位
    置を制御する機構を設けたことを特徴とする表面洗浄・
    表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽。
  8. 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかにおいて、
    カチオン交換樹脂がフッ素系カチオン交換樹脂であるこ
    とを特徴とする表面洗浄・表面処理に適した帯電アノー
    ド水の製造用電解槽。
  9. 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれかの電解槽で
    製造した帯電アノード水を物品の表面洗浄・表面処理に
    用いることを特徴とする帯電アノード水の使用方法。
  10. 【請求項１０】 請求項１ないし９のいずれかにおい
    て、原料水が純水又は超純水であることを特徴とする帯
    電アノード水の使用方法。
  11. 【請求項１１】 請求項１０の方法で用いる対象物品が
    半導体、ガラス、樹脂製品であることを特徴とする使用
    方法。
  12. 【請求項１２】 請求項１０の方法で用いる対象物品が
    医療用器具であることを特徴とする使用方法。
  13. 【請求項１３】 請求項１ないし５、７ないし１２のい
    ずれかの電解槽で製造して得られる帯電アノード水を冷
    却して、該帯電アノード水中のオゾン濃度を高めること
    を特徴とする使用方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１ないし４、６、８ないし１２
    のいずれかにおいてアノード電極を直接冷却することに
    より、帯電アノード水中のオゾン濃度を高めることを特
    徴とする使用方法。
JP2001279624A 2001-09-14 2001-09-14 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法 Expired - Lifetime JP5140218B2 (ja)

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ES02020429T ES2277979T3 (es) 2001-09-14 2002-09-11 Celda electrolitica para producir agua anodica cargada adecuada para limpieza o tratamiento de superficies y metodo para producirla y uso de la misma.
AT02020429T ATE354543T1 (de) 2001-09-14 2002-09-11 Elektrolysezelle zur herstellung von anodischem wasser für flächenreinigung oder behandlung, verfahren zu herstellung dieses wassers und dessen verwendung
DE60218256T DE60218256T2 (de) 2001-09-14 2002-09-11 Elektrolysezelle zur Herstellung von anodischem Wasser für Flächenreinigung oder Behandlung, Verfahren zu Herstellung dieses Wassers und dessen Verwendung
DE1293481T DE1293481T1 (de) 2001-09-14 2002-09-11 Elektrolysezelle zur Herstellung von anodischem Wasser für Flächenreinigung oder Behandlung, Verfahren zu Herstellung dieses Wassers und dessen Verwendung
KR10-2002-0055484A KR100522550B1 (ko) 2001-09-14 2002-09-12 표면세정, 표면처리에 적합한 대전 에노드수의 제조용전해조.
US10/242,779 US7090753B2 (en) 2001-09-14 2002-09-13 Electrolytic cell for producing charged anode water suitable for surface cleaning or treatment, and method for producing the same and use of the same
US11/502,821 US7442288B2 (en) 2001-09-14 2006-08-11 Electrolytic cell for producing charged anode water suitable for surface cleaning or treatment, and method for producing the same and use of the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001279624A JP5140218B2 (ja) 2001-09-14 2001-09-14 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003080258A true JP2003080258A (ja) 2003-03-18
JP5140218B2 JP5140218B2 (ja) 2013-02-06

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JP2001279624A Expired - Lifetime JP5140218B2 (ja) 2001-09-14 2001-09-14 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法

Country Status (7)

Country Link
US (2) US7090753B2 (ja)
EP (1) EP1293481B1 (ja)
JP (1) JP5140218B2 (ja)
KR (1) KR100522550B1 (ja)
AT (1) ATE354543T1 (ja)
DE (2) DE1293481T1 (ja)
ES (1) ES2277979T3 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011508662A (ja) * 2007-12-21 2011-03-17 コンパニ・ジェルベ・ダノン 電気分解法によって水を酸素で富化する方法、酸素富化水又は飲料、及びその使用
CN110880449A (zh) * 2019-09-30 2020-03-13 王偲偲 一种硅片清洗方法

Families Citing this family (89)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6702949B2 (en) 1997-10-24 2004-03-09 Microdiffusion, Inc. Diffuser/emulsifier for aquaculture applications
JP2001139477A (ja) * 1999-11-17 2001-05-22 Coherent Technology:Kk 創傷部位の組織細胞増殖促進液
US20070162341A1 (en) * 2000-05-17 2007-07-12 Sprint Spectrum L.P. Method and System for Distribution and Use of Coupons
JP3988827B2 (ja) * 2001-12-05 2007-10-10 オキュラス イノヴェイティヴ サイエンシズ、インコーポレイテッド 負および正の酸化還元電位（ｏｒｐ）水を生成するための方法および装置
EP1613793A4 (en) * 2003-03-04 2007-08-08 Frs Waterware Inc D B A Waterw ELECTROLYSIS CELL WITH HIGH-ELECTRIC FIELD
EP1685281A2 (en) 2003-10-31 2006-08-02 E.I. Dupont de Nemours and Company, Inc. Membrane -mediated electropolishing
US20050196462A1 (en) * 2003-12-30 2005-09-08 Oculus Innovative Sciences, Inc. Topical formulation containing oxidative reductive potential water solution and method for using same
US20050139808A1 (en) * 2003-12-30 2005-06-30 Oculus Innovative Sciences, Inc. Oxidative reductive potential water solution and process for producing same
US9168318B2 (en) 2003-12-30 2015-10-27 Oculus Innovative Sciences, Inc. Oxidative reductive potential water solution and methods of using the same
US7566385B2 (en) 2004-02-23 2009-07-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus adapted for membrane-mediated electropolishing
AU2006226750B2 (en) 2005-03-23 2012-07-19 Oculus Innovative Sciences, Inc. Method of treating skin ulcers using oxidative reductive potential water solution
MX2007013774A (es) * 2005-05-02 2008-01-29 Oculus Innovative Sciences Inc Metodo para utilizar solucion de agua con potencial oxido reductor en aplicaciones dentales.
EP1926842A2 (en) * 2005-05-20 2008-06-04 Electrolyser Corp. Acidic electrolyzed water production system and protection membrane
US20060266381A1 (en) * 2005-05-27 2006-11-30 Doherty James E Commercial glassware dishwasher and related method
JP4708133B2 (ja) * 2005-09-14 2011-06-22 旭化成ケミカルズ株式会社 電解用フッ素系陽イオン交換膜及びその製造方法
AU2006307923B2 (en) * 2005-10-28 2012-02-02 Akuatech S.R.L. New highly stable aqueous solution, electrode with nanocoating for preparing the solution and method for making this electrode
CA2637178C (en) 2006-01-20 2018-09-04 Oculus Innovative Sciences, Inc. Methods of preventing or treating sinusitis with oxidative reductive potential water solution
US8025787B2 (en) 2006-02-10 2011-09-27 Tennant Company Method and apparatus for generating, applying and neutralizing an electrochemically activated liquid
US8016996B2 (en) 2006-02-10 2011-09-13 Tennant Company Method of producing a sparged cleaning liquid onboard a mobile surface cleaner
US8025786B2 (en) 2006-02-10 2011-09-27 Tennant Company Method of generating sparged, electrochemically activated liquid
US8012340B2 (en) 2006-02-10 2011-09-06 Tennant Company Method for generating electrochemically activated cleaning liquid
US8007654B2 (en) 2006-02-10 2011-08-30 Tennant Company Electrochemically activated anolyte and catholyte liquid
US8046867B2 (en) 2006-02-10 2011-11-01 Tennant Company Mobile surface cleaner having a sparging device
US7891046B2 (en) 2006-02-10 2011-02-22 Tennant Company Apparatus for generating sparged, electrochemically activated liquid
US7836543B2 (en) 2006-02-10 2010-11-23 Tennant Company Method and apparatus for producing humanly-perceptable indicator of electrochemical properties of an output cleaning liquid
US8156608B2 (en) 2006-02-10 2012-04-17 Tennant Company Cleaning apparatus having a functional generator for producing electrochemically activated cleaning liquid
CA2579517A1 (en) * 2006-02-24 2007-08-24 Kimihiro Sato Ionized water and method of producing same
US20080116144A1 (en) 2006-10-10 2008-05-22 Spicer Randolph, Llc Methods and compositions for reducing chlorine demand, decreasing disinfection by-products and controlling deposits in drinking water distribution systems
CA2667791A1 (en) 2006-10-25 2008-05-02 Revalesio Corporation Methods of therapeutic treatment of eyes and other human tissues using an oxygen-enriched solution
CA2667634C (en) 2006-10-25 2016-07-12 Revalesio Corporation Mixing device and output fluids of same
US8784897B2 (en) 2006-10-25 2014-07-22 Revalesio Corporation Methods of therapeutic treatment of eyes
US8445546B2 (en) 2006-10-25 2013-05-21 Revalesio Corporation Electrokinetically-altered fluids comprising charge-stabilized gas-containing nanostructures
US8784898B2 (en) 2006-10-25 2014-07-22 Revalesio Corporation Methods of wound care and treatment
US8609148B2 (en) 2006-10-25 2013-12-17 Revalesio Corporation Methods of therapeutic treatment of eyes
EP2083876A4 (en) 2006-10-25 2012-09-19 Revalesio Corp WOUND CARE AND TREATMENT METHOD
EP2152096B1 (en) * 2007-01-12 2020-10-07 Giant Trading Inc Method for treating raw and processed grains
WO2008155663A2 (en) * 2007-03-19 2008-12-24 Gb International Limited Method and composition for starch extraction and modification
US20110042202A1 (en) * 2007-04-22 2011-02-24 Woody America Llc Apparatus and Methods for Dispensing Solutions
PT2162140E (pt) 2007-04-25 2013-08-27 Apr Nanotechnologies S A Água electrolítica altamente estável com largura reduzida de meia linha da rmn
EP2207631A2 (en) 2007-10-04 2010-07-21 Tennant Company Method and apparatus for neutralizing electrochemically activated liquids
US9745567B2 (en) 2008-04-28 2017-08-29 Revalesio Corporation Compositions and methods for treating multiple sclerosis
US9523090B2 (en) 2007-10-25 2016-12-20 Revalesio Corporation Compositions and methods for treating inflammation
US20090263495A1 (en) * 2007-10-25 2009-10-22 Revalesio Corporation Bacteriostatic or bacteriocidal compositions and methods
US20100310665A1 (en) * 2007-10-25 2010-12-09 Revalesio Corporation Bacteriostatic or bacteriocidal compositions and methods
US10125359B2 (en) 2007-10-25 2018-11-13 Revalesio Corporation Compositions and methods for treating inflammation
JP3139159U (ja) * 2007-11-20 2008-01-31 ファースト・オーシャン株式会社 水電気分解用電解槽
WO2009119572A1 (ja) * 2008-03-25 2009-10-01 有限会社ターナープロセス 飲料水の硬度を調整するための携帯用硬度調整装置
JP5901291B2 (ja) 2008-05-01 2016-04-06 リバルシオ コーポレイション 消化器障害を治療するための組成物および方法
US8062499B2 (en) 2008-05-05 2011-11-22 Tennant Compnay Charge movement detector for electrochemically activated liquids
US8485140B2 (en) 2008-06-05 2013-07-16 Global Patent Investment Group, LLC Fuel combustion method and system
WO2009155528A1 (en) 2008-06-19 2009-12-23 Tennant Company Electrolysis de-scaling method with constant output
JP5670889B2 (ja) 2008-06-19 2015-02-18 テナント カンパニー 同心電極を含む管状電解セルおよび対応する方法
EP2301894A4 (en) * 2008-06-23 2013-03-06 Tanah Process Ltd STERILIZATION PROCESS AND STERILIZATION DEVICE
US20100072059A1 (en) * 2008-09-25 2010-03-25 Peters Michael J Electrolytic System and Method for Enhanced Radiological, Nuclear, and Industrial Decontamination
JP5361325B2 (ja) * 2008-10-17 2013-12-04 有限会社スプリング 溶存水素飲料水の製造装置及びその製造方法
US8371315B2 (en) 2008-12-17 2013-02-12 Tennant Company Washing systems incorporating charged activated liquids
US8815292B2 (en) 2009-04-27 2014-08-26 Revalesio Corporation Compositions and methods for treating insulin resistance and diabetes mellitus
CN102480972B (zh) 2009-06-15 2014-12-10 奥古露丝创新科学公司 含有次氯酸的溶液及其使用方法
US8691289B2 (en) * 2009-06-17 2014-04-08 Apr Nanotechnologies S.A. Methods of treating outer eye disorders using high ORP acid water and compositions thereof
JP5457810B2 (ja) * 2009-12-07 2014-04-02 クロリンエンジニアズ株式会社 オゾン生成装置
EP2521697A2 (en) 2010-01-07 2012-11-14 Sealed Air Corporation (US) Modular cartridge system for apparatus producing cleaning and/or sanitizing solutions
US20110168567A1 (en) * 2010-01-11 2011-07-14 Ecolab Usa Inc. Control of hard water scaling in electrochemical cells
BR112012028540A2 (pt) 2010-05-07 2016-07-26 Revalesio Corp composições e métodos para melhorar desempenho fisiológico e tempo de recuperação
US9492404B2 (en) 2010-08-12 2016-11-15 Revalesio Corporation Compositions and methods for treatment of taupathy
US20120102883A1 (en) * 2010-11-03 2012-05-03 Stokely-Van Camp, Inc. System For Producing Sterile Beverages And Containers Using Electrolyzed Water
US8557178B2 (en) 2010-12-21 2013-10-15 Ecolab Usa Inc. Corrosion inhibition of hypochlorite solutions in saturated wipes
US8603392B2 (en) 2010-12-21 2013-12-10 Ecolab Usa Inc. Electrolyzed water system
US8114344B1 (en) 2010-12-21 2012-02-14 Ecolab Usa Inc. Corrosion inhibition of hypochlorite solutions using sugar acids and Ca
WO2012145622A1 (en) * 2011-04-22 2012-10-26 Sun Catalytix Corporation Nanostructures, systems, and methods for photocatalysis
EP2718482B1 (en) 2011-06-10 2019-10-09 Lumetta, Michael System and method for generating a chlorine-containing compound
US8882972B2 (en) 2011-07-19 2014-11-11 Ecolab Usa Inc Support of ion exchange membranes
US8562810B2 (en) 2011-07-26 2013-10-22 Ecolab Usa Inc. On site generation of alkalinity boost for ware washing applications
CA2844122C (en) * 2011-08-12 2018-06-26 Ozomax Inc. Semipermeable filtration membrane with integrated ozone producing circuit
US10167207B2 (en) 2011-10-05 2019-01-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Electrolytic apparatus with circulator, reverse osmosis filter, and cooler, for producing reducing water
KR101987645B1 (ko) * 2011-10-05 2019-06-12 삼성전자주식회사 환원수 제조장치
AU2013271507A1 (en) * 2012-06-08 2015-01-15 Tennant Company Apparatus and method for generating oxidatively and thermally-enhanced treatment liquids
KR20140129291A (ko) * 2012-07-06 2014-11-06 가부시키가이샤니혼트림 투석액 제조용수의 제조 장치
KR20140027866A (ko) * 2012-08-27 2014-03-07 임신교 산성수 전해조 및 그 산성수의 이용방법
US8617403B1 (en) 2013-06-25 2013-12-31 Blue Earth Labs, Llc Methods and stabilized compositions for reducing deposits in water systems
WO2014208794A1 (ko) * 2013-06-27 2014-12-31 솔브레인나노텍 주식회사 반도체 공정에 사용되는 전해수 생성장치
CN105198045A (zh) * 2014-06-18 2015-12-30 Mag技术株式会社 酸性水电解槽及其酸性水的使用方法
US9540257B2 (en) 2014-11-17 2017-01-10 Drexel University Plasma spark discharge reactor and durable electrode
US10167209B2 (en) 2014-12-01 2019-01-01 Drexel Univerisity System and method for disinfection and fouling prevention in the treatment of water
WO2016126855A1 (en) 2015-02-03 2016-08-11 Tipul Biotechnology, LLC Devices and methods for electrolytic production of disinfectant solution from salt solution in a container
CN107840416B (zh) * 2016-09-21 2020-12-25 北京化工大学 一种旋转电极管式电化学反应器及其应用
CN106757131B (zh) * 2016-11-23 2018-07-03 武汉威蒙环保科技有限公司 具有自净化功能的质子交换膜水电解臭氧/氧发生装置
IT201600127410A1 (it) * 2016-12-16 2018-06-16 Carlo Francesca Di Dispositivo per la realizzazione di un trattamento di abbattimento microbiologico di prodotti alimentari liquidi
CN108773876A (zh) * 2018-06-01 2018-11-09 山东深信节能环保科技有限公司 一种利用三明治构型的电极体系以及电解方法
US11883783B2 (en) 2021-02-26 2024-01-30 Saudi Arabian Oil Company System and method for electrochemical treatment of aqueous fluid for oilfield applications

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07966A (ja) * 1991-12-27 1995-01-06 Nobuo Sumida 純水の電解による水素イオンまたは水酸イオンと酸化還元物質が共存した液およびその製造方法
JPH081160A (ja) * 1994-06-21 1996-01-09 Coherent Technol:Kk 水の製造方法及び得られた水
JPH08206661A (ja) * 1995-02-08 1996-08-13 Permelec Electrode Ltd 硝酸塩の電気化学的回収方法及び装置
JPH1099861A (ja) * 1996-08-06 1998-04-21 Permelec Electrode Ltd 水電解方法
JPH10128332A (ja) * 1996-11-05 1998-05-19 Shibaura Eng Works Co Ltd イオン水供給装置およびそれを用いた洗浄処理装置
JPH11151493A (ja) * 1997-11-19 1999-06-08 Coherent Technology:Kk 電解装置及び電解方法
JP2001096275A (ja) * 2000-08-21 2001-04-10 Nobuo Sumida 中間室を設けた純水電解槽
JP2001191076A (ja) * 2000-01-12 2001-07-17 Coherent Technology:Kk 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法
JP2001514956A (ja) * 1997-08-18 2001-09-18 ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド ハロゲン化水素アミン塩を遊離アミンに転化する方法
JP2002153873A (ja) * 2000-11-19 2002-05-28 Nofil Corp 殺菌方法
JP2002153827A (ja) * 2000-11-19 2002-05-28 Nofil Corp 洗浄方法

Family Cites Families (174)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3066095A (en) 1959-09-30 1962-11-27 Hagan Chemicals & Controls Inc Water purification agents and method of using same
US3975246A (en) 1973-06-09 1976-08-17 Sachs-Systemtechnik Gmbh Method of disinfecting water
DE2442078A1 (de) 1974-09-03 1976-03-18 Sachs Systemtechnik Gmbh Verfahren und vorrichtung zur entkeimung und entgiftung von fluessigkeiten mittels anodischer oxydation unter zusatz von silber
DE2607906A1 (de) 1976-02-26 1977-09-01 Hans Einhell Inh Josef Thannhu Elektrolysezelle fuer die behandlung von wasser
DE2743820C3 (de) * 1977-09-29 1981-10-22 Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich Anwendung eines Verfahrens zum elektrochemischen Umsetzen von in einer Elektrolytlösung befindlichen Stoffen beim Schwefelsäure-Hybrid-Prozeß
US4242446A (en) 1978-07-26 1980-12-30 Coulter Electronics, Inc. Method for determining a substance in a biological fluid and reagent combination for use in the method
US4236992A (en) 1979-08-06 1980-12-02 Themy Constantinos D High voltage electrolytic cell
JPS5684089U (ja) * 1979-11-30 1981-07-07
US4296103A (en) 1980-08-08 1981-10-20 Felipe Laso Stabilized solution of chlorine oxides
US4670252A (en) 1985-05-24 1987-06-02 The Procter & Gamble Company Treatment of oral diseases
US4615937A (en) 1985-09-05 1986-10-07 The James River Corporation Antimicrobially active, non-woven web used in a wet wiper
US4666621A (en) * 1986-04-02 1987-05-19 Sterling Drug Inc. Pre-moistened, streak-free, lint-free hard surface wiping article
US4781974A (en) 1986-04-23 1988-11-01 James River Corporation Antimicrobially active wet wiper
US5906810A (en) 1987-03-17 1999-05-25 Turner; Robert E. Formulations and uses thereof in the prevention and treatment of oral lesions
US4767511A (en) 1987-03-18 1988-08-30 Aragon Pedro J Chlorination and pH control system
US5388571A (en) * 1987-07-17 1995-02-14 Roberts; Josephine A. Positive-pressure ventilator system with controlled access for nebulizer component servicing
FI82808C (fi) 1987-12-31 1991-04-25 Etelae Haemeen Keuhkovammayhdi Ultraljudfinfoerdelningsanordning.
DE3929411A1 (de) 1988-09-22 1990-03-29 Siegfried Natterer Pharmazeutische zubereitung sowie verfahren zu ihrer herstellung
US4979938A (en) 1989-05-11 1990-12-25 Iomed, Inc. Method of iontophoretically treating acne, furuncles and like skin disorders
SE466196B (sv) * 1989-06-13 1992-01-13 Pavel Voracek Foerfarande och anordning foer elektrisk behandling av en elektrolytisk loesning samt loesningsfraktioner framstaellda enligt foerfarandet
US6638413B1 (en) * 1989-10-10 2003-10-28 Lectro Press, Inc. Methods and apparatus for electrolysis of water
US5271943A (en) 1989-10-27 1993-12-21 Scott Health Care Wound gel compositions containing sodium chloride and method of using them
US5084011A (en) 1990-01-25 1992-01-28 Grady Daniel J Method for oxygen therapy using hyperbarically oxygenated liquid
US5622848A (en) 1990-05-23 1997-04-22 Medical Discoveries, Inc. Electrically hydrolyzed salines as microbiocides for in vitro treatment of contaminated fluids containing blood
US5334383A (en) 1990-05-23 1994-08-02 Medical Discoveries, Inc. Electrically hydrolyzed salines as in vivo microbicides for treatment of cardiomyopathy and multiple sclerosis
KR920012523A (ko) * 1990-12-26 1992-07-27 전해조 및 그 조작 방법
US5244768A (en) 1991-02-15 1993-09-14 Fuji Xerox Co., Ltd. Manufacturing process for an electrophotographic toner
DE69218901T2 (de) * 1991-12-10 1997-07-17 Tdk Corp Ultraschallzerstäuber
US5622725A (en) 1992-03-20 1997-04-22 Alcide Corporation Wound disinfection and repair
GB2274113B (en) 1992-04-03 1996-05-15 Bakhir Vitold M Apparatus for electrochemical treatment of water
US5287847A (en) * 1992-07-24 1994-02-22 Vortran Medical Technology, Inc. Universal nebulizer
US6544502B2 (en) * 1992-09-11 2003-04-08 Wasatch Pharmaceutical Inc. Skin treatment with a water soluble antibiotic dissolved in an electrolyzed water
ES2115156T3 (es) 1993-02-22 1998-06-16 Nippon Intek Co Ltd Procedimiento y dispositivo para producir agua electrolitica.
DE4317174A1 (de) 1993-05-22 1994-11-24 Bosch Gmbh Robert Verbundsystem mit mindestens zwei anorganischen keramischen Schichten und Verfahren zu deren Herstellung
JP2652609B2 (ja) 1993-05-31 1997-09-10 ミズ株式会社 電解水生成装置
JP3325081B2 (ja) 1993-06-28 2002-09-17 英雄 早川 水の浄化方法及びその装置
JP3321256B2 (ja) 1993-07-30 2002-09-03 ミズ株式会社 貯水式電解水生成装置
JP3504344B2 (ja) 1993-08-31 2004-03-08 三浦電子株式会社 家畜皮膚疾患治療水
US5965452A (en) * 1996-07-09 1999-10-12 Nanogen, Inc. Multiplexed active biologic array
US5599438A (en) 1994-03-25 1997-02-04 Nec Corporation Method for producing electrolyzed water
JP2830733B2 (ja) 1994-03-25 1998-12-02 日本電気株式会社 電解水生成方法および電解水生成機構
JP2737643B2 (ja) 1994-03-25 1998-04-08 日本電気株式会社 電解活性水の生成方法および生成装置
JP3468835B2 (ja) 1994-05-09 2003-11-17 ホシザキ電機株式会社 電解水生成装置
US5391268A (en) * 1994-07-20 1995-02-21 Olin Corporation Electrochemical process for the removal of residual nitric acid from aqueous hydroxylammonium nitrate
EP0792584A4 (en) 1994-07-29 2004-12-29 Toto Ltd STRONG ACID STERILE WATER, hypochlorous acid LOW CONCENTRATION CONTAINING PROCESS FOR PRODUCING STRONG ACID STERILE WATER hypochlorous acid LOW CONCENTRATION CONTAINING DEVICE THEREOF, AND DEVICE FOR THE PRODUCTION AND DISTRIBUTION OF HIGH ACID STERILE WATER hypochlorous acid LOW CONCENTRATION CONTAINING
JP3465367B2 (ja) 1994-08-23 2003-11-10 東陶機器株式会社 イオンリッチ水生成装置
US6117285A (en) 1994-08-26 2000-09-12 Medical Discoveries, Inc. System for carrying out sterilization of equipment
US5507932A (en) 1994-08-26 1996-04-16 Schlumberger Technology Corporation Apparatus for electrolyzing fluids
JP3488294B2 (ja) 1994-10-14 2004-01-19 忠正 中村 水の処理方法及び処理装置
JP2857334B2 (ja) 1994-10-18 1999-02-17 行正 佐藤 電解イオン水生成装置
KR100227969B1 (ko) 1994-10-20 1999-11-01 사카모토 시게토시 전해수 생성장치
JPH08126886A (ja) 1994-10-28 1996-05-21 Japan Organo Co Ltd 超純水の製造方法及び装置
JPH08126873A (ja) 1994-10-28 1996-05-21 Nec Corp 電子部品等の洗浄方法及び装置
JP3181796B2 (ja) * 1994-10-28 2001-07-03 日本電気株式会社 電解水製造装置
JP3181795B2 (ja) * 1994-10-28 2001-07-03 オルガノ株式会社 電解水製造装置
DK173485B1 (da) 1994-12-02 2000-12-18 Thure Barsoee Carnfeldt Fremgangsmåde til desinfektion eller sterilisation af fødevarer, foderstoffer, maskineri og udstyr til fødevare- og foderst
EP0800388A4 (en) 1995-01-06 2001-04-04 Australian Biomedical Company CONNECTIONS FOR VETERINAIRES AND MEDICAL USE
JPH08252310A (ja) 1995-01-17 1996-10-01 Miura Denshi Kk 電解生成酸性水を用いた人工透析装置の洗浄殺菌方法およびその装置
DE69602383T2 (de) 1995-01-30 1999-09-16 First Ocean Co Vorrichtung einer zusammengesetzten Elektrode für die Elektrolyse von Wasser
US6007693A (en) 1995-03-30 1999-12-28 Bioquest Spa halogen generator and method of operating
US5578022A (en) 1995-04-12 1996-11-26 Scherson; Daniel A. Oxygen producing bandage and method
JP3313263B2 (ja) * 1995-04-15 2002-08-12 株式会社東芝 電解水生成方法及びその生成装置、半導体製造装置
HU213450B (en) 1995-04-26 1997-06-30 Ladanyi Jozsef Gel contains gelatin and process for producing it
JP2832171B2 (ja) * 1995-04-28 1998-12-02 信越半導体株式会社 半導体基板の洗浄装置および洗浄方法
US5871623A (en) 1995-05-31 1999-02-16 Rscecat, Usa, Inc. Apparatus for electrochemical treatment of water and/or water solutions
US5628888A (en) 1996-03-28 1997-05-13 Rscecat, Usa, Inc. Apparatus for electrochemical treatment of water and/or water solutions
US5792090A (en) 1995-06-15 1998-08-11 Ladin; Daniel Oxygen generating wound dressing
JP3193295B2 (ja) 1995-07-07 2001-07-30 株式会社日本トリム 透析装置
JP3153473B2 (ja) 1995-08-17 2001-04-09 株式会社カイゲン 医療器具用消毒装置
KR0168501B1 (ko) * 1995-10-12 1999-01-15 오사오 스미타 물의 제조방법 및 이 방법에 의해 얻어진 물
FR2740335B1 (fr) 1995-10-26 1997-12-19 Oreal Utilisation de sel de lanthanide, de lithium, d'etain, de zinc, de manganese ou d'yttrium comme antagoniste de substance p
JP3312837B2 (ja) 1995-11-30 2002-08-12 アルプス電気株式会社 イオン水製造装置及び製造方法並びに電解イオン水製造システム及び製造方法
US5928491A (en) 1996-01-23 1999-07-27 Maruko & Co., Ltd. Plant compatible electrolyte composition as well as electrolyte ionized water production device and methods
US5858202A (en) 1996-01-30 1999-01-12 Zenkoku-Mokko-Kikai-Kan, Inc. Method for producing electrolytic water and apparatus for producing the same
JP3481761B2 (ja) 1996-01-30 2003-12-22 忠正 中村 電解水の生成方法
JPH09228084A (ja) * 1996-02-16 1997-09-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 過酸化水素発生装置
US5783052A (en) 1996-03-11 1998-07-21 Rscecat, Usa, Inc. Electrochemical cell
US5635040A (en) 1996-03-11 1997-06-03 Rscecat, Usa, Inc. Electrochemical cell
JP3785219B2 (ja) * 1996-03-27 2006-06-14 ペルメレック電極株式会社 酸性水及びアルカリ性水の製造方法
US5985110A (en) 1996-03-28 1999-11-16 Bakhir; Vitold M. Apparatus for electrochemical treatment of water and/or water solutions
JP3716042B2 (ja) 1996-04-24 2005-11-16 ペルメレック電極株式会社 酸性水の製造方法及び電解槽
US5662625A (en) 1996-05-06 1997-09-02 Gwr Medical, L.L.P. Pressure controllable hyperbaric device
EP0912447A1 (fr) * 1996-06-26 1999-05-06 IST Instant Surface Technology S.A. Procede et dispositif d'activation des liquides
JPH1043764A (ja) 1996-08-06 1998-02-17 First Ocean Kk 水電気分解用電極及びそれを用いて水を滅菌する方法
US5728274A (en) 1996-08-13 1998-03-17 Hoshizaki Denki Kabushiki Kaisha Production system of electrolyzed water
GB2316090B (en) 1996-09-26 1998-12-23 Julian Bryson Method and apparatus for producing a sterilising solution
US6007696A (en) 1996-09-28 1999-12-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus and method for manufacturing electrolytic ionic water and washing method using electroyltic ionic water
GB2316091B (en) 1996-10-23 1999-06-16 Julian Bryson Electrolytic treatment of aqueous salt solutions
US5728287A (en) 1996-10-31 1998-03-17 H2 O Technologies, Ltd. Method and apparatus for generating oxygenated water
JPH1157720A (ja) 1996-11-07 1999-03-02 Honda Motor Co Ltd 電解機能水、その製造方法及び製造装置
JP3455035B2 (ja) 1996-11-14 2003-10-06 株式会社東芝 電解イオン水生成装置及び半導体製造装置
US5908707A (en) 1996-12-05 1999-06-01 The Procter & Gamble Company Cleaning articles comprising a high internal phase inverse emulsion and a carrier with controlled absorbency
RU2119802C1 (ru) 1996-12-18 1998-10-10 Стерилокс Текнолоджиз, Инк. Установка для электрохимической обработки жидкой среды (варианты)
US5963435A (en) 1997-03-25 1999-10-05 Gianna Sweeney Apparatus for coating metal with oxide
US5759478A (en) 1997-03-27 1998-06-02 Viskase Corporation Mandrel structure for use in manufacture of cellulose food casing
JPH10286571A (ja) * 1997-04-16 1998-10-27 Permelec Electrode Ltd 酸性水及びアルカリ水製造用電解槽
JPH10314740A (ja) 1997-05-19 1998-12-02 Permelec Electrode Ltd 酸性水製造用電解槽
TW502130B (en) 1997-06-17 2002-09-11 Toshiba Corp Cleaning method of substrate
US6093292A (en) 1997-06-17 2000-07-25 Shimadzu Corporation Electrolyte producing apparatus with monitoring device
US5964089A (en) 1997-06-27 1999-10-12 Lynntech, Inc Diagnostics and control of an on board hydrogen generation and delivery system
US6143163A (en) * 1997-08-06 2000-11-07 Permelec Electrode Ltd. Method of water electrolysis
US5932171A (en) 1997-08-13 1999-08-03 Steris Corporation Sterilization apparatus utilizing catholyte and anolyte solutions produced by electrolysis of water
US5944978A (en) 1997-08-21 1999-08-31 Omco Co., Ltd. Cleaning method of an electrolyzed water forming apparatus and an electrolyzed water forming apparatus having mechanism for conducting the method
US5928488A (en) 1997-08-26 1999-07-27 David S. Newman Electrolytic sodium sulfate salt splitter comprising a polymeric ion conductor
WO1999010286A1 (fr) 1997-08-27 1999-03-04 Miz Co., Ltd. Cellule electrolytique et dispositif de production d'eau electrolysee
US6294073B1 (en) * 1997-10-22 2001-09-25 Chemicoat & Co., Ltd. Manufacturing method and apparatus of alkaline ionized water
CN1136153C (zh) 1997-10-23 2004-01-28 星崎电机株式会社 电解水生成装置
WO1999028238A1 (en) * 1997-12-04 1999-06-10 Steris Corporation Chemical modification of electrochemically activated water
JPH11172482A (ja) * 1997-12-10 1999-06-29 Shinko Plant Kensetsu Kk オゾン水製造装置及びその装置によるオゾン水の製造方法
WO1999033496A1 (fr) * 1997-12-26 1999-07-08 Morinaga Milk Industry Co., Ltd. Procede de sterilisation d'articles et procede d'emballage d'articles
US6171551B1 (en) 1998-02-06 2001-01-09 Steris Corporation Electrolytic synthesis of peracetic acid and other oxidants
JPH11226092A (ja) 1998-02-12 1999-08-24 Trp:Kk 医療用具の殺菌洗浄方法およびその装置
JPH11239790A (ja) 1998-02-25 1999-09-07 Yoshiya Okazaki 電解水生成装置およびその洗浄方法
US5948220A (en) 1998-02-27 1999-09-07 Hoshizaki Denki Kabushiki Kaisha Production system of electrolyzed water
TW477833B (en) 1998-02-27 2002-03-01 Amano Corp Apparatus for producing electrolytic water
JP3896210B2 (ja) * 1998-03-06 2007-03-22 ホシザキ電機株式会社 電解水生成装置
US20030089618A1 (en) * 1998-04-10 2003-05-15 Miz Co., Ltd. Reducing electrolyzed water and method for producing same
US6126810A (en) 1998-04-27 2000-10-03 Steris Corporation Generation of active chlorine in the presence of an organic load from sodium chloride in water
JPH11320259A (ja) * 1998-05-15 1999-11-24 Michiko Suzuki 放電加工方法及び該方法を実施するための装置
JP2000042556A (ja) 1998-05-28 2000-02-15 Shimadzu Corp 電解水製造装置
US5997716A (en) * 1998-07-09 1999-12-07 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of electrochemically producing epoxides
US6368592B1 (en) * 1998-07-17 2002-04-09 Massachusetts Institute Of Technology Method of delivering oxygen to cells by electrolyzing water
JP2000051858A (ja) 1998-08-10 2000-02-22 Osamu Miyake 電解イオン水生成器
US6033539A (en) 1998-08-21 2000-03-07 Gablenko; Viacheslav G. Units for electro-chemical synthesis of water solution
JP2000070171A (ja) 1998-08-26 2000-03-07 Trp:Kk 消毒用ウエットワイパーおよびその供給装置
US6342150B1 (en) 1998-09-09 2002-01-29 Thomas Clay Sale Redox water treatment system
US6280594B1 (en) 1998-12-01 2001-08-28 Tateki Yamaoka Device for producing ion water and partition wall for device for producing ion water
JP4583530B2 (ja) * 1999-03-19 2010-11-17 オルガノ株式会社 熱交換用水及びその供給装置
US6277266B1 (en) 1999-03-23 2001-08-21 Tateki Yamaoka Device for producing ion water and partition wall for device for producing ion water
US6258225B1 (en) 1999-03-23 2001-07-10 Tateki Yamaoka Device for producing ion water
US7011940B1 (en) * 1999-04-14 2006-03-14 Medical Discovery Partners Llc Quality control for cytochemical assays
ES2203377T3 (es) * 1999-06-30 2004-04-16 Kao Corporation Compuesto virucida y esporicida.
EP1074515B1 (en) * 1999-08-06 2007-10-03 PuriCore International Limited Electrochemical treatment of an aqueous solution
EP1231298A4 (en) * 1999-09-27 2005-12-28 Shinko Pantec Co Ltd ELECTRODE PLATE FOR USE IN A WATER ELECTROLYSIS DEVICE, ELECTRODE PLATE UNIT, FIXED ELECTROLYTE MEMBRANE UNIT AND ELECTROLYTIC CELL
US6333054B1 (en) 1999-10-21 2001-12-25 Amuchina S.P.A. Topical, non-cytotoxic, antimicrobial hydrogel with thixotropic properties
US6340663B1 (en) * 1999-11-24 2002-01-22 The Clorox Company Cleaning wipes
JP2004129314A (ja) * 2000-03-17 2004-04-22 Soichi Sato 蓄電装置を備えた熱電併給システム
IT1317329B1 (it) * 2000-04-13 2003-06-16 Nottington Holding Bv Calzatura traspirante.
JP3602773B2 (ja) * 2000-06-08 2004-12-15 株式会社ミクニ 陽極電解水、及びその製造方法
US20020023847A1 (en) * 2000-06-23 2002-02-28 Shinichi Natsume Cleansing system and method using water electrolysis
US20040037737A1 (en) * 2000-07-07 2004-02-26 Marais Jacobus T Method of and equipment for washing, disinfecting and/or sterilizing health care devices
US6358395B1 (en) * 2000-08-11 2002-03-19 H20 Technologies Ltd. Under the counter water treatment system
US20030019764A1 (en) * 2000-08-11 2003-01-30 H20 Technologies, Ltd. Under the counter water treatment system
KR100389917B1 (ko) * 2000-09-06 2003-07-04 삼성전자주식회사 산화성 물질을 포함하는 아노드 수 및/또는 환원성 물질을포함하는 캐소드 수를 사용하는 반도체 제조를 위한 습식공정 및 이 공정에 사용되는 아노드수 및/또는 캐소드수
JP2002079248A (ja) * 2000-09-06 2002-03-19 Tominaga Oil Pump Mfg Co Ltd 電解水生成装置
US20020032141A1 (en) * 2000-09-08 2002-03-14 Gene Harkins System and method to clean and disinfect hard surfaces using electrolyzed acidic water produced from a solution of NaCl
WO2002027814A2 (en) * 2000-09-28 2002-04-04 Proton Energy Systems, Inc. Regenerative electrochemical cell system and method for use thereof
US20020090428A1 (en) * 2000-10-12 2002-07-11 Warf C. Cayce Treatment fluid application apparatus for foodstuffs and methods related thereto
KR100655834B1 (ko) * 2000-11-22 2006-12-08 오츠카 세이야쿠 가부시키가이샤 Ｏ／ｗ형 유화 조성물 및 그의 조제 방법
JP3805621B2 (ja) * 2000-12-19 2006-08-02 株式会社富永製作所 電解水生成装置
US6540733B2 (en) * 2000-12-29 2003-04-01 Corazon Technologies, Inc. Proton generating catheters and methods for their use in enhancing fluid flow through a vascular site occupied by a calcified vascular occlusion
US6844026B2 (en) * 2001-02-12 2005-01-18 Rhodia Chimie Preparation of particles by hydrolysis of a metal cation in the presence of a polymer
US6921743B2 (en) * 2001-04-02 2005-07-26 The Procter & Gamble Company Automatic dishwashing compositions containing a halogen dioxide salt and methods for use with electrochemical cells and/or electrolytic devices
US6866756B2 (en) * 2002-10-22 2005-03-15 Dennis Klein Hydrogen generator for uses in a vehicle fuel system
JP2002338498A (ja) * 2001-05-17 2002-11-27 Takeda Chem Ind Ltd 内服用液剤
TWI320713B (ja) * 2001-06-01 2010-02-21 Neochemir Inc
JP3619828B2 (ja) * 2001-06-21 2005-02-16 三洋電機株式会社 電解用電極及びその製造方法及び電解用電極を用いた電解方法及び電解水生成装置
KR20030005777A (ko) * 2001-07-10 2003-01-23 삼성전자 주식회사 전해이온수 및 희석된 ｈｆ용액을 동시에 사용하는 반도체세정 공정
JP2003093479A (ja) * 2001-07-18 2003-04-02 Sanyo Electric Co Ltd 殺菌方法及び電解水生成装置
US6656334B2 (en) * 2001-07-23 2003-12-02 Skydon Corp. Modified electrolysis cell and a housing for the same
WO2003010094A1 (en) * 2001-07-26 2003-02-06 H20 Technologies, Ltd. Apparatus and methods for cleaning and controlling bacteria growth in fluid supply lines
WO2003024491A2 (en) * 2001-09-15 2003-03-27 Icf Technologies, Inc. Kits and methods for determining the effectiveness of sterilization or disinfection processes
JP2003144001A (ja) * 2001-11-08 2003-05-20 Hoshizaki Electric Co Ltd 海洋生物の育成用水、育成用水の製造方法および製造装置
JP3848882B2 (ja) * 2002-02-13 2006-11-22 ニッポン高度紙工業株式会社 高イオン伝導性固体電解質及び該固体電解質を使用した電気化学システム
JP2004047827A (ja) * 2002-07-12 2004-02-12 Mec Kk プリント回路板の製造方法
US20040081705A1 (en) * 2002-09-18 2004-04-29 Mana Gotou Digestion promoter for ruminant animal and breeding method of ruminant animal
US20040055896A1 (en) * 2002-09-20 2004-03-25 Sterilox Technologies, Inc. Biocidal solution
US6843448B2 (en) * 2002-09-30 2005-01-18 Daniel W. Parmley Lighter-than-air twin hull hybrid airship
US6855233B2 (en) * 2002-11-15 2005-02-15 Kinji Sawada Apparatus for production of strong alkali and acid electrolytic solution
US6856916B2 (en) * 2003-06-13 2005-02-15 Wen-Shing Shyu Locating system of oxidation/reduction potential of electrolysis water and the constant output method of calibration and compensation thereof
US20050064259A1 (en) * 2003-09-24 2005-03-24 Protonetics International, Inc. Hydrogen diffusion electrode for protonic ceramic fuel cell
US20050067300A1 (en) * 2003-09-25 2005-03-31 The Procter & Gamble Company Electrolysis device for treating a reservoir of water
JP4353772B2 (ja) * 2003-11-07 2009-10-28 三洋電機株式会社 電解水生成装置
US20050101838A1 (en) * 2003-11-12 2005-05-12 Camillocci Philip L. Endoscope cover

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07966A (ja) * 1991-12-27 1995-01-06 Nobuo Sumida 純水の電解による水素イオンまたは水酸イオンと酸化還元物質が共存した液およびその製造方法
JPH081160A (ja) * 1994-06-21 1996-01-09 Coherent Technol:Kk 水の製造方法及び得られた水
JPH08206661A (ja) * 1995-02-08 1996-08-13 Permelec Electrode Ltd 硝酸塩の電気化学的回収方法及び装置
JPH1099861A (ja) * 1996-08-06 1998-04-21 Permelec Electrode Ltd 水電解方法
JPH10128332A (ja) * 1996-11-05 1998-05-19 Shibaura Eng Works Co Ltd イオン水供給装置およびそれを用いた洗浄処理装置
JP2001514956A (ja) * 1997-08-18 2001-09-18 ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド ハロゲン化水素アミン塩を遊離アミンに転化する方法
JPH11151493A (ja) * 1997-11-19 1999-06-08 Coherent Technology:Kk 電解装置及び電解方法
JP2001191076A (ja) * 2000-01-12 2001-07-17 Coherent Technology:Kk 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法
JP2001096275A (ja) * 2000-08-21 2001-04-10 Nobuo Sumida 中間室を設けた純水電解槽
JP2002153873A (ja) * 2000-11-19 2002-05-28 Nofil Corp 殺菌方法
JP2002153827A (ja) * 2000-11-19 2002-05-28 Nofil Corp 洗浄方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011508662A (ja) * 2007-12-21 2011-03-17 コンパニ・ジェルベ・ダノン 電気分解法によって水を酸素で富化する方法、酸素富化水又は飲料、及びその使用
CN110880449A (zh) * 2019-09-30 2020-03-13 王偲偲 一种硅片清洗方法

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