JP2001191076A - 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法 - Google Patents
電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法Info
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- JP2001191076A JP2001191076A JP2000003647A JP2000003647A JP2001191076A JP 2001191076 A JP2001191076 A JP 2001191076A JP 2000003647 A JP2000003647 A JP 2000003647A JP 2000003647 A JP2000003647 A JP 2000003647A JP 2001191076 A JP2001191076 A JP 2001191076A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｎａ+ 等を含むことが無い酸性の還元水を提
供することである。 【解決手段】 アノード電極を有するアノード室と、カ
ソード電極を有するカソード室と、前記アノード室とカ
ソード室との間に設けられた中間室と、前記アノード室
と中間室との間に設けられた隔膜と、前記カソード室と
中間室との間に設けられた隔膜とを備えた３室構造の電
解装置を用いることにより電解水を製造する方法であっ
て、前記アノード室に水を供給する工程と、前記カソー
ド室に水を供給する工程と、前記中間室に酸および水を
供給する工程とを有する。
供することである。 【解決手段】 アノード電極を有するアノード室と、カ
ソード電極を有するカソード室と、前記アノード室とカ
ソード室との間に設けられた中間室と、前記アノード室
と中間室との間に設けられた隔膜と、前記カソード室と
中間室との間に設けられた隔膜とを備えた３室構造の電
解装置を用いることにより電解水を製造する方法であっ
て、前記アノード室に水を供給する工程と、前記カソー
ド室に水を供給する工程と、前記中間室に酸および水を
供給する工程とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄水に関する。
特に、例えばシリコンウェハ等の半導体基板、金属シリ
コン、ステンレス鋼、鉄鋼、耐熱鋼などの金属材料、ガ
ラス等の無機材料、プラスチック等の有機材料、その他
各種の材料の表面に付いた酸化物、活性酸素などの酸化
性物質、或いは水酸化物を効率的に除去できる洗浄水に
関する。
特に、例えばシリコンウェハ等の半導体基板、金属シリ
コン、ステンレス鋼、鉄鋼、耐熱鋼などの金属材料、ガ
ラス等の無機材料、プラスチック等の有機材料、その他
各種の材料の表面に付いた酸化物、活性酸素などの酸化
性物質、或いは水酸化物を効率的に除去できる洗浄水に
関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】食塩水を電気分解（電
解）すると、アノード極側（アノード室）では下記の反
応（１）が起こり、カソード極側（カソード室）では下
記の反応（２），（３），（４）が起こる。尚、この現
象は良く知られている。
解）すると、アノード極側（アノード室）では下記の反
応（１）が起こり、カソード極側（カソード室）では下
記の反応（２），（３），（４）が起こる。尚、この現
象は良く知られている。
【０００３】 ２Ｃｌ- −２ｅ- →Ｃｌ2 （１） ２Ｎａ+ ＋２ｅ- →２Ｎａ (２） ２Ｎａ＋２Ｈ2 Ｏ→２Ｎａ+ ＋Ｈ2 ＋２ＯＨ- （３） ２Ｈ2 Ｏ＋２ｅ- →Ｈ2 ＋２ＯＨ- （４） 従って、カソード室では、アルカリ性で、かつ、還元性
の水溶液が得られる。しかし、このカソード室で得られ
る電解水（カソード電解水）には、Ｎａ+ が含まれる。
従って、Ｎａ+ を含むカソード電解水を洗浄水として用
いるのは適していない。なぜならば、洗浄物にＮａ+ が
付着する恐れがある。
の水溶液が得られる。しかし、このカソード室で得られ
る電解水（カソード電解水）には、Ｎａ+ が含まれる。
従って、Ｎａ+ を含むカソード電解水を洗浄水として用
いるのは適していない。なぜならば、洗浄物にＮａ+ が
付着する恐れがある。
【０００４】これに対して、塩酸（ＨＣｌ）水溶液を電
解すると、アノード室では上記の反応（１）が起こり、
カソード室では上記の反応（４）が起こる。
解すると、アノード室では上記の反応（１）が起こり、
カソード室では上記の反応（４）が起こる。
【０００５】ＨＣｌ濃度が高いと、カソード室で生成し
たＯＨ- はＨＣｌにより中和される。従って、カソード
室における溶液は酸性である。
たＯＨ- はＨＣｌにより中和される。従って、カソード
室における溶液は酸性である。
【０００６】よって、アノード極とカソード極との間に
隔膜を設けた（アノード室とカソード室とが構成され
た）２室型電解槽を用いて塩酸水溶液を電解した場合、
カソード電解水は酸性で、かつ、還元性の水溶液であ
る。
隔膜を設けた（アノード室とカソード室とが構成され
た）２室型電解槽を用いて塩酸水溶液を電解した場合、
カソード電解水は酸性で、かつ、還元性の水溶液であ
る。
【０００７】このカソード電解水は、食塩水を電解して
得たカソード電解水が含むＮａ+ を含まない。従って、
このカソード電解水で洗浄した場合、Ｎａ+ が洗浄した
物に付着しない。この為、洗浄水として用いるのに好都
合である。
得たカソード電解水が含むＮａ+ を含まない。従って、
このカソード電解水で洗浄した場合、Ｎａ+ が洗浄した
物に付着しない。この為、洗浄水として用いるのに好都
合である。
【０００８】しかし、２室型電解槽を用いて塩酸水溶液
を電解して得たカソード電解水を洗浄水として用いる場
合、問題が無い訳では無い。例えば、次のような問題が
有る。 （Ａ） ２室型電解槽におけるアノード極とカソード極
との間の距離（電極間距離）が大きい為、電解質（ＨＣ
ｌ）濃度を高くする必要がある。この為、カソード電解
水中のＨＣｌ濃度が高くなる。よって、カソード電解水
を洗浄水として用いた後、これをそのまま外部に排出し
た場合に問題が起きる。すなわち、廃水中にＨＣｌが多
く含まれる為、排出に先立って中和処理が必要である。 （Ｂ） ２室型電解槽におけるアノード室では、酸化性
物質が生成している。そして、この酸化性物質の一部が
カソード室側に拡散して来ることも有る。この為、カソ
ード電解水の還元性が損なわれる恐れがある。
を電解して得たカソード電解水を洗浄水として用いる場
合、問題が無い訳では無い。例えば、次のような問題が
有る。 （Ａ） ２室型電解槽におけるアノード極とカソード極
との間の距離（電極間距離）が大きい為、電解質（ＨＣ
ｌ）濃度を高くする必要がある。この為、カソード電解
水中のＨＣｌ濃度が高くなる。よって、カソード電解水
を洗浄水として用いた後、これをそのまま外部に排出し
た場合に問題が起きる。すなわち、廃水中にＨＣｌが多
く含まれる為、排出に先立って中和処理が必要である。 （Ｂ） ２室型電解槽におけるアノード室では、酸化性
物質が生成している。そして、この酸化性物質の一部が
カソード室側に拡散して来ることも有る。この為、カソ
ード電解水の還元性が損なわれる恐れがある。
【０００９】ところで、上記２室型電解槽とは異なる３
室型の電解槽が提案されている。
室型の電解槽が提案されている。
【００１０】本願発明者も３室型電解槽を提案してい
る。
る。
【００１１】この３室型電解槽は、一般的に、図１に示
す構造を有する。
す構造を有する。
【００１２】すなわち、３室型電解槽Ａは、アノード室
１と、カソード室２と、アノード室１とカソード室２と
の間に設けられた中間室３とを有する。１ａはアノード
室１への給水口、１ｂはアノード室１からの取水口、２
ａはカソード室２への給水口、２ｂはカソード室２から
の取水口、３ａは中間室３への給水口、３ｂは中間室３
からの取水口である。
１と、カソード室２と、アノード室１とカソード室２と
の間に設けられた中間室３とを有する。１ａはアノード
室１への給水口、１ｂはアノード室１からの取水口、２
ａはカソード室２への給水口、２ｂはカソード室２から
の取水口、３ａは中間室３への給水口、３ｂは中間室３
からの取水口である。
【００１３】アノード室１と中間室３との間には隔膜４
が設けられ、又、カソード室２と中間室３との間には隔
膜５が設けられている。
が設けられ、又、カソード室２と中間室３との間には隔
膜５が設けられている。
【００１４】６は、アノード室１に設けられたアノード
電極である。尚、アノード電極６は、隔膜４に密着させ
て設けられている。
電極である。尚、アノード電極６は、隔膜４に密着させ
て設けられている。
【００１５】７は、カソード室２に設けられたカソード
電極である。尚、カソード電極７は、隔膜５に密着させ
て設けられている。
電極である。尚、カソード電極７は、隔膜５に密着させ
て設けられている。
【００１６】そして、特願平５−１７１５８９号では、
給水口１ａからアノード室１に水を供給すると共に、給
水口２ａからカソード室２に水を供給し、かつ、給水口
３ａから中間室３に硝酸塩などの電解質を含む水を供給
し、電解する技術が提案されている。
給水口１ａからアノード室１に水を供給すると共に、給
水口２ａからカソード室２に水を供給し、かつ、給水口
３ａから中間室３に硝酸塩などの電解質を含む水を供給
し、電解する技術が提案されている。
【００１７】しかし、硝酸ナトリウム等の硝酸塩を中間
室３に添加してカソード液を得る場合、ナトリウムイオ
ンがカソード室２に移行するので、カソード液が酸性に
ならず、アルカリ性になる。この為、酸性の還元水を得
ることが出来ない。
室３に添加してカソード液を得る場合、ナトリウムイオ
ンがカソード室２に移行するので、カソード液が酸性に
ならず、アルカリ性になる。この為、酸性の還元水を得
ることが出来ない。
【００１８】従って、本発明が解決しようとする課題
は、Ｎａ+ 等を含むことが無い酸性の還元水を提供する
ことである。
は、Ｎａ+ 等を含むことが無い酸性の還元水を提供する
ことである。
【課題を解決するための手段】ところで、本願発明者
は、図１に示した３室型電解槽を用いた場合、カソード
室２における電解質の濃度を０にしても電解が可能であ
ることに着目した。すなわち、カソード室２における電
解質濃度が０であれば、カソード電解水を洗浄水として
利用する場合、極めて好都合である。つまり、洗浄後の
廃液を排水するに際して、格別な処理をしなくても済
む。又、カソード電解水に金属イオンが含まれていない
と、洗浄によって洗浄物に金属が付着する恐れも無い。
は、図１に示した３室型電解槽を用いた場合、カソード
室２における電解質の濃度を０にしても電解が可能であ
ることに着目した。すなわち、カソード室２における電
解質濃度が０であれば、カソード電解水を洗浄水として
利用する場合、極めて好都合である。つまり、洗浄後の
廃液を排水するに際して、格別な処理をしなくても済
む。又、カソード電解水に金属イオンが含まれていない
と、洗浄によって洗浄物に金属が付着する恐れも無い。
【００１９】又、アノード室１で生成した酸素、オゾ
ン、塩素ガス等の酸化性物質は、間に中間室３があるこ
とから、カソード室２内に移行し難い。このことは、カ
ソード電解水の還元性が損なわれ難いことを意味する。
ン、塩素ガス等の酸化性物質は、間に中間室３があるこ
とから、カソード室２内に移行し難い。このことは、カ
ソード電解水の還元性が損なわれ難いことを意味する。
【００２０】従って、特願平５−１７１５８９号提案の
技術には、得られたカソード電解水に上記問題が存する
ものの、廃液を排水するに際して格別な処理をしなくて
も済むことから、図１に示した３室型電解槽を用いるこ
とにした。
技術には、得られたカソード電解水に上記問題が存する
ものの、廃液を排水するに際して格別な処理をしなくて
も済むことから、図１に示した３室型電解槽を用いるこ
とにした。
【００２１】ところで、特願平５−１７１５８９号提案
の技術では、硝酸塩（例えば、硝酸アンモニウム）等の
電解質を含む水溶液を供給している。
の技術では、硝酸塩（例えば、硝酸アンモニウム）等の
電解質を含む水溶液を供給している。
【００２２】そして、上記で指摘した問題についての検
討が鋭意なされた結果、この問題は電解質に起因するこ
とが判明した。
討が鋭意なされた結果、この問題は電解質に起因するこ
とが判明した。
【００２３】そこで、更なる検討を進めて行った結果、
硝酸アンモニウム等の代わりに、塩酸、硫酸、硝酸など
の無機酸、クエン酸、アスコルビン酸、グルコン酸など
の有機酸を用いることによって、前記の問題が解決でき
ることを見出すに至った。
硝酸アンモニウム等の代わりに、塩酸、硫酸、硝酸など
の無機酸、クエン酸、アスコルビン酸、グルコン酸など
の有機酸を用いることによって、前記の問題が解決でき
ることを見出すに至った。
【００２４】このような知見に基づいて本願発明が達成
されたものである。
されたものである。
【００２５】すなわち、前記の課題は、アノード電極を
有するアノード室と、カソード電極を有するカソード室
と、前記アノード室とカソード室との間に設けられた中
間室と、前記アノード室と中間室との間に設けられた隔
膜と、前記カソード室と中間室との間に設けられた隔膜
とを備えた３室構造の電解装置を用いることにより電解
水を製造する方法であって、前記アノード室に水を供給
する工程と、前記カソード室に水を供給する工程と、前
記中間室に酸および水を供給する工程とを有することを
特徴とする電解水の製造方法によって解決される。
有するアノード室と、カソード電極を有するカソード室
と、前記アノード室とカソード室との間に設けられた中
間室と、前記アノード室と中間室との間に設けられた隔
膜と、前記カソード室と中間室との間に設けられた隔膜
とを備えた３室構造の電解装置を用いることにより電解
水を製造する方法であって、前記アノード室に水を供給
する工程と、前記カソード室に水を供給する工程と、前
記中間室に酸および水を供給する工程とを有することを
特徴とする電解水の製造方法によって解決される。
【００２６】本発明における酸とは、塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸、フッ酸、臭化水素酸、フッ化燐酸、フッ化硼
酸、硼酸、ニトロ三酢酸などの無機酸が挙げられる。
又、クエン酸、アスコルビン酸、グルコン酸、シュウ
酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、蟻酸、酢酸などの有機酸
も挙げられる。
酸、燐酸、フッ酸、臭化水素酸、フッ化燐酸、フッ化硼
酸、硼酸、ニトロ三酢酸などの無機酸が挙げられる。
又、クエン酸、アスコルビン酸、グルコン酸、シュウ
酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、蟻酸、酢酸などの有機酸
も挙げられる。
【００２７】中でも、還元能力を有する酸、例えばアス
コルビン酸、グルコン酸、シュウ酸、蟻酸は好ましい。
コルビン酸、グルコン酸、シュウ酸、蟻酸は好ましい。
【００２８】すなわち、これらの酸は中間室に供給され
る。従って、中間室に供給された酸は、カソード室に移
行する可能性がある。ここで、酸化能力を有する酸（プ
ロトンを放出できる酸化剤）である場合、カソード室に
移行した酸（酸化剤）が、カソード室で得られたカソー
ド電解水の還元能力を低下させる恐れがある。よって、
中間室の酸がカソード室に移行した場合でも、カソード
電解水の還元能力を低下させる恐れが無い酸を用いるこ
とが好ましい。更には、アノード室で生成した酸化性物
質が拡散して来ても、中間室に存在する還元能力を有す
る酸（プロトンを放出できる還元剤）によって中和さ
れ、酸化性物質がカソード室に移行し難い。このような
観点から、アスコルビン酸やグルコン酸のような還元能
力を有する酸（プロトンを放出できる還元剤）は、更に
一層好ましい。
る。従って、中間室に供給された酸は、カソード室に移
行する可能性がある。ここで、酸化能力を有する酸（プ
ロトンを放出できる酸化剤）である場合、カソード室に
移行した酸（酸化剤）が、カソード室で得られたカソー
ド電解水の還元能力を低下させる恐れがある。よって、
中間室の酸がカソード室に移行した場合でも、カソード
電解水の還元能力を低下させる恐れが無い酸を用いるこ
とが好ましい。更には、アノード室で生成した酸化性物
質が拡散して来ても、中間室に存在する還元能力を有す
る酸（プロトンを放出できる還元剤）によって中和さ
れ、酸化性物質がカソード室に移行し難い。このような
観点から、アスコルビン酸やグルコン酸のような還元能
力を有する酸（プロトンを放出できる還元剤）は、更に
一層好ましい。
【００２９】カソード電解水の還元能力は、カソード電
極の材質によっても左右される。すなわち、水素還元反
応の過電圧が高いと、より強い還元性物質が生成する。
このような観点から、上記３室構造の電解装置における
カソード電極として、カーボン製のものが好ましい。
極の材質によっても左右される。すなわち、水素還元反
応の過電圧が高いと、より強い還元性物質が生成する。
このような観点から、上記３室構造の電解装置における
カソード電極として、カーボン製のものが好ましい。
【００３０】又、前記の課題は、上記製造方法により得
たカソード電解水からなることを特徴とする洗浄水によ
って解決される。
たカソード電解水からなることを特徴とする洗浄水によ
って解決される。
【００３１】又、上記製造方法により得たアノード電解
水からなることを特徴とする洗浄水によって解決され
る。
水からなることを特徴とする洗浄水によって解決され
る。
【００３２】又、上記製造方法により得たカソード電解
水を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法によって
解決される。
水を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法によって
解決される。
【００３３】又、上記製造方法により得たアノード電解
水を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法によって
解決される。
水を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法によって
解決される。
【００３４】又、上記製造方法により得たアノード電解
水を用いて洗浄する工程と、上記製造方法により得たカ
ソード電解水を用いて洗浄する工程とを有することを特
徴とする洗浄方法によって解決される。
水を用いて洗浄する工程と、上記製造方法により得たカ
ソード電解水を用いて洗浄する工程とを有することを特
徴とする洗浄方法によって解決される。
【００３５】本発明では、洗浄に用いるカソード電解水
は還元能力を持つ。かつ、カソード電解水は酸性であ
る。ここで、アルカリ性でなく、酸性のものとしたの
は、次の理由に基づく。
は還元能力を持つ。かつ、カソード電解水は酸性であ
る。ここで、アルカリ性でなく、酸性のものとしたの
は、次の理由に基づく。
【００３６】Ｆｅ3 Ｏ4 を例として説明する。Ｆｅ3 Ｏ
4 の還元反応は下記の通りである。 Ｆｅ3 Ｏ4 ＋８Ｈ+ ＋２ｅ- →３Ｆｅ2+＋４Ｈ2 Ｏ この場合、Ｆｅの還元と共にＯの行方を考慮しなければ
ならない。ここで、酸素イオンは水素イオンと結合して
Ｈ2 Ｏが生成し、反応は完結する。従って、酸化物を還
元する場合、水素イオンの存在が必要である。このこと
は、洗浄水が酸性である方が好ましいことを示してい
る。
4 の還元反応は下記の通りである。 Ｆｅ3 Ｏ4 ＋８Ｈ+ ＋２ｅ- →３Ｆｅ2+＋４Ｈ2 Ｏ この場合、Ｆｅの還元と共にＯの行方を考慮しなければ
ならない。ここで、酸素イオンは水素イオンと結合して
Ｈ2 Ｏが生成し、反応は完結する。従って、酸化物を還
元する場合、水素イオンの存在が必要である。このこと
は、洗浄水が酸性である方が好ましいことを示してい
る。
【００３７】本発明はアノード電解水を用いて洗浄する
ことも提案した。特に、上記製造方法により得たアノー
ド電解水を用いて洗浄した後、上記製造方法により得た
カソード電解水を用いて洗浄することを提案している。
ことも提案した。特に、上記製造方法により得たアノー
ド電解水を用いて洗浄した後、上記製造方法により得た
カソード電解水を用いて洗浄することを提案している。
【００３８】これは、次のような理由に基づく。
【００３９】シリコンウェハの汚れには、酸化物だけで
なく、金属（例えば、銅）もある。このような金属や酸
化物が付いたシリコンウェハを清浄にしようとした場
合、先ず、酸化能力を持つアノード電解水で洗浄した
後、還元能力を持つカソード電解水で洗浄すれば、いず
れもが除去でき、金属や酸化物を効果的に除去できるよ
うになる。
なく、金属（例えば、銅）もある。このような金属や酸
化物が付いたシリコンウェハを清浄にしようとした場
合、先ず、酸化能力を持つアノード電解水で洗浄した
後、還元能力を持つカソード電解水で洗浄すれば、いず
れもが除去でき、金属や酸化物を効果的に除去できるよ
うになる。
【００４０】尚、アノード電解水やカソード電解水で洗
浄する際、超音波を作用させると、洗浄効果は一層高ま
る。
浄する際、超音波を作用させると、洗浄効果は一層高ま
る。
【発明の実施の形態】本発明になる電解水の製造方法
は、アノード電極を有するアノード室と、カソード電極
（特に、カーボン製のカソード電極）を有するカソード
室と、前記アノード室とカソード室との間に設けられた
中間室と、前記アノード室と中間室との間に設けられた
隔膜と、前記カソード室と中間室との間に設けられた隔
膜とを備えた３室構造の電解装置を用いることにより電
解水を製造する方法であって、前記アノード室に水を供
給する工程と、前記カソード室に水を供給する工程と、
前記中間室に酸および水を供給する工程とを有する方法
である。ここで、酸とは、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、フ
ッ酸、臭化水素酸、フッ化燐酸、フッ化硼酸、硼酸、ニ
トロ三酢酸などの無機酸や、クエン酸、アスコルビン
酸、グルコン酸、シュウ酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、
蟻酸、酢酸などの有機酸が具体例として挙げられる。中
でも、還元能力を有する酸（例えば、アスコルビン酸、
グルコン酸、シュウ酸、蟻酸）は好ましい酸である。こ
こで、中間室における酸は、０．００１〜１０ｍｏｌ／
Ｌ、特に０．０１〜５ｍｏｌ／Ｌ程度の濃度である。電
解電流は１０〜５００ｍＡ／ｃｍ2 、特に２０〜２００
ｍＡ／ｃｍ2 である。
は、アノード電極を有するアノード室と、カソード電極
（特に、カーボン製のカソード電極）を有するカソード
室と、前記アノード室とカソード室との間に設けられた
中間室と、前記アノード室と中間室との間に設けられた
隔膜と、前記カソード室と中間室との間に設けられた隔
膜とを備えた３室構造の電解装置を用いることにより電
解水を製造する方法であって、前記アノード室に水を供
給する工程と、前記カソード室に水を供給する工程と、
前記中間室に酸および水を供給する工程とを有する方法
である。ここで、酸とは、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、フ
ッ酸、臭化水素酸、フッ化燐酸、フッ化硼酸、硼酸、ニ
トロ三酢酸などの無機酸や、クエン酸、アスコルビン
酸、グルコン酸、シュウ酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、
蟻酸、酢酸などの有機酸が具体例として挙げられる。中
でも、還元能力を有する酸（例えば、アスコルビン酸、
グルコン酸、シュウ酸、蟻酸）は好ましい酸である。こ
こで、中間室における酸は、０．００１〜１０ｍｏｌ／
Ｌ、特に０．０１〜５ｍｏｌ／Ｌ程度の濃度である。電
解電流は１０〜５００ｍＡ／ｃｍ2 、特に２０〜２００
ｍＡ／ｃｍ2 である。
【００４１】本発明になる洗浄水は、上記製造方法によ
り得たカソード電解水からなる。又、上記製造方法によ
り得たアノード電解水からなる。
り得たカソード電解水からなる。又、上記製造方法によ
り得たアノード電解水からなる。
【００４２】本発明になる洗浄方法は、上記製造方法に
より得たカソード電解水を用いて洗浄する方法である。
或いは、上記製造方法により得たアノード電解水を用い
て洗浄する方法である。又は、上記製造方法により得た
アノード電解水を用いて洗浄する工程と、上記製造方法
により得たカソード電解水を用いて洗浄する工程とを有
する。特に、上記製造方法により得た酸化能力を持つア
ノード電解水を用いて洗浄した後、上記製造方法により
得た還元能力を持つカソード電解水で洗浄する方法であ
る。以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
より得たカソード電解水を用いて洗浄する方法である。
或いは、上記製造方法により得たアノード電解水を用い
て洗浄する方法である。又は、上記製造方法により得た
アノード電解水を用いて洗浄する工程と、上記製造方法
により得たカソード電解水を用いて洗浄する工程とを有
する。特に、上記製造方法により得た酸化能力を持つア
ノード電解水を用いて洗浄した後、上記製造方法により
得た還元能力を持つカソード電解水で洗浄する方法であ
る。以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【実施例１】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【００４３】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【００４４】電極６，７として、チタン表面に白金メッ
キしたものを用いた。電極面積は４８ｃｍ2 である。
キしたものを用いた。電極面積は４８ｃｍ2 である。
【００４５】中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を充填
した。
した。
【００４６】給水口１ａから０．５Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【００４７】給水口２ａから０．５Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【００４８】給水口３ａから中間室３には塩酸水溶液
（ＨＣｌの濃度は５ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
（ＨＣｌの濃度は５ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
【００４９】電解電流は５Ａである。
【００５０】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約４、アノード電解水のｐＨは約２．３であっ
た。
ｐＨは約４、アノード電解水のｐＨは約２．３であっ
た。
【００５１】又、カソード電解水の酸化還元電位（ＯＲ
Ｐ）は−４２０ｍＶであり、アノード電解水のＯＲＰは
＋１１９０ｍＶであった。
Ｐ）は−４２０ｍＶであり、アノード電解水のＯＲＰは
＋１１９０ｍＶであった。
【実施例２】実施例１において、０．０１ｍｏｌ／Ｌの
塩酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
塩酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
【００５２】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約５．０、アノード電解水のｐＨは約３．５であ
った。
ｐＨは約５．０、アノード電解水のｐＨは約３．５であ
った。
【００５３】又、カソード電解水のＯＲＰは−４８０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋１１００ｍＶで
あった。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋１１００ｍＶで
あった。
【実施例３】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【００５４】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【００５５】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【００５６】中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を充填
した。
した。
【００５７】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【００５８】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【００５９】給水口３ａから中間室３には硫酸水溶液
（Ｈ2 ＳＯ4 の濃度は１ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
（Ｈ2 ＳＯ4 の濃度は１ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
【００６０】電解電流は５Ａである。
【００６１】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約３．６、アノード電解水のｐＨは約２．８であ
った。
ｐＨは約３．６、アノード電解水のｐＨは約２．８であ
った。
【００６２】又、カソード電解水のＯＲＰは−４０５ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋９００ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋９００ｍＶであ
った。
【００６３】又、カソード電解水に含まれる活性な還元
種を調べる為、カソード電解水をＥＳＲによって調べ
た。そのＥＳＲスペクトルを図２に示す。これより、水
素原子が生成していることが判る。
種を調べる為、カソード電解水をＥＳＲによって調べ
た。そのＥＳＲスペクトルを図２に示す。これより、水
素原子が生成していることが判る。
【実施例４】実施例３において、０．０１ｍｏｌ／Ｌの
硫酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
硫酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
【００６４】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約４．５、アノード電解水のｐＨは約３．９であ
った。
ｐＨは約４．５、アノード電解水のｐＨは約３．９であ
った。
【００６５】又、カソード電解水のＯＲＰは−４５０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３５０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３５０ｍＶであ
った。
【実施例５】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【００６６】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【００６７】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【００６８】中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を充填
した。
した。
【００６９】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【００７０】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【００７１】給水口３ａから中間室３には硝酸水溶液
（ＨＮＯ3 の濃度は５ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
（ＨＮＯ3 の濃度は５ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
【００７２】電解電流は５Ａである。
【００７３】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約３．２、アノード電解水のｐＨは約２．５であ
った。
ｐＨは約３．２、アノード電解水のｐＨは約２．５であ
った。
【００７４】又、カソード電解水のＯＲＰは−２５０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋９５０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋９５０ｍＶであ
った。
【実施例６】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【００７５】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【００７６】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【００７７】又、中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を
充填した。
充填した。
【００７８】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【００７９】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【００８０】給水口３ａから中間室３にはクエン酸水溶
液（クエン酸の濃度は１ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
液（クエン酸の濃度は１ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
【００８１】電解電流は５Ａである。
【００８２】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約４．２、アノード電解水のｐＨは約３．５であ
った。
ｐＨは約４．２、アノード電解水のｐＨは約３．５であ
った。
【００８３】又、カソード電解水のＯＲＰは−４６０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３５０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３５０ｍＶであ
った。
【実施例７】実施例６において、０．０１ｍｏｌ／Ｌの
クエン酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
クエン酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
【００８４】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約５．２、アノード電解水のｐＨは約４．１であ
った。
ｐＨは約５．２、アノード電解水のｐＨは約４．１であ
った。
【００８５】又、カソード電解水のＯＲＰは−５２０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３３０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３３０ｍＶであ
った。
【実施例８】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【００８６】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【００８７】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【００８８】又、中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を
充填した。
充填した。
【００８９】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【００９０】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【００９１】給水口３ａから中間室３にはアスコルビン
酸水溶液（アスコルビン酸の濃度は１ｍｏｌ／Ｌ）を供
給した。
酸水溶液（アスコルビン酸の濃度は１ｍｏｌ／Ｌ）を供
給した。
【００９２】電解電流は５Ａである。
【００９３】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約３．５、アノード電解水のｐＨは約２．８であ
った。
ｐＨは約３．５、アノード電解水のｐＨは約２．８であ
った。
【００９４】又、カソード電解水のＯＲＰは−４１０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３２０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３２０ｍＶであ
った。
【実施例９】実施例８において、０．０１ｍｏｌ／Ｌの
アスコルビン酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
アスコルビン酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
【００９５】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約４．８、アノード電解水のｐＨは約３．７であ
った。
ｐＨは約４．８、アノード電解水のｐＨは約３．７であ
った。
【００９６】又、カソード電解水のＯＲＰは−４５０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋２６０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋２６０ｍＶであ
った。
【実施例１０】図１に示した３室構造の電解装置を用い
て電解を行った。
て電解を行った。
【００９７】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【００９８】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【００９９】又、中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を
充填した。
充填した。
【０１００】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【０１０１】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【０１０２】給水口３ａから中間室３にはグルコン酸水
溶液（グルコン酸の濃度は２ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
溶液（グルコン酸の濃度は２ｍｏｌ／Ｌ）を供給した。
【０１０３】電解電流は５Ａである。
【０１０４】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約４．０、アノード電解水のｐＨは約３．６であ
った。
ｐＨは約４．０、アノード電解水のｐＨは約３．６であ
った。
【０１０５】又、カソード電解水のＯＲＰは−４４０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３１０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋３１０ｍＶであ
った。
【実施例１１】実施例１０において、０．０１ｍｏｌ／
Ｌのグルコン酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
Ｌのグルコン酸水溶液を用いた以外は同様に行った。
【０１０６】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約５．２、アノード電解水のｐＨは約４．６であ
った。
ｐＨは約５．２、アノード電解水のｐＨは約４．６であ
った。
【０１０７】又、カソード電解水のＯＲＰは−５４０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋２００ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋２００ｍＶであ
った。
【比較例１】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【０１０８】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【０１０９】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【０１１０】中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を充填
した。
した。
【０１１１】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【０１１２】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【０１１３】給水口３ａから中間室３には硝酸アンモニ
ウム水溶液を供給した。
ウム水溶液を供給した。
【０１１４】電解電流は５Ａである。
【０１１５】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約１０．８、アノード電解水のｐＨは約３．２で
あった。
ｐＨは約１０．８、アノード電解水のｐＨは約３．２で
あった。
【０１１６】又、カソード電解水のＯＲＰは−７８０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋８５０ｍＶであ
った。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋８５０ｍＶであ
った。
【比較例２】図１に示した３室構造の電解装置を用いて
電解を行った。
電解を行った。
【０１１７】隔膜４，５として、フッ素系の陽イオン交
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
換膜（デュポン社製のナフィオン１１７）を用いた。
【０１１８】電極６，７はカーボン製の電極である。電
極面積は４８ｃｍ2 である。
極面積は４８ｃｍ2 である。
【０１１９】中間室３に粒状の陽イオン交換樹脂を充填
した。
した。
【０１２０】給水口１ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をアノード室１に供給した。
純水をアノード室１に供給した。
【０１２１】給水口２ａから０．３Ｌ／ｍｉｎの割合で
純水をカソード室２に供給した。
純水をカソード室２に供給した。
【０１２２】給水口３ａから中間室３には食塩水溶液を
供給した。
供給した。
【０１２３】電解電流は５Ａである。
【０１２４】このようにして得られたカソード電解水の
ｐＨは約１２、アノード電解水のｐＨは約２．８であっ
た。
ｐＨは約１２、アノード電解水のｐＨは約２．８であっ
た。
【０１２５】又、カソード電解水のＯＲＰは−９２０ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋１１５０ｍＶで
あった。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋１１５０ｍＶで
あった。
【比較例３】２室型の電解装置を用いて塩酸水溶液を電
解した。
解した。
【０１２６】得られたカソード電解水のｐＨは約４．
８、アノード電解水のｐＨは約２．１であった。
８、アノード電解水のｐＨは約２．１であった。
【０１２７】又、カソード電解水のＯＲＰは−４２５ｍ
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋１１９０ｍＶで
あった。
Ｖであり、アノード電解水のＯＲＰは＋１１９０ｍＶで
あった。
【特性】上記各例で得たカソード電解水を用いて活性酸
素の除去を行った。
素の除去を行った。
【０１２８】活性酸素（・ＯＨラディカル）は、ヒポキ
サンチン−キサンチンオキシダーゼ系で生成されたもの
である。
サンチン−キサンチンオキシダーゼ系で生成されたもの
である。
【０１２９】水溶液中の活性酸素濃度は、ラディカルス
カベンジャーであるＤＭＰＯ（５，５−ｄｉｍｅｔｈｙ
ｌ−１−ｐｙｒｒｏｌｉｎｅ−５−ｏｘｉｄｅ）を添加
した後、ＥＳＲで調べたものである。
カベンジャーであるＤＭＰＯ（５，５−ｄｉｍｅｔｈｙ
ｌ−１−ｐｙｒｒｏｌｉｎｅ−５−ｏｘｉｄｅ）を添加
した後、ＥＳＲで調べたものである。
【０１３０】カソード電解水を添加する前の水溶液の活
性酸素濃度は４５０ｐｐｂであり、カソード電解水を添
加した後の水溶液の活性酸素濃度は表−１に示す通りで
あった。
性酸素濃度は４５０ｐｐｂであり、カソード電解水を添
加した後の水溶液の活性酸素濃度は表−１に示す通りで
あった。
【０１３１】 この表−１から、本発明のカソード電解水は、活性酸素
の除去効果が高い（還元能力が高い）ことが判る。又、
上記各例で得たカソード電解水の還元能力を調べた。す
なわち、カソード電解水に０．０００１ｍｏｌ／ＬのＦ
ｅ（ＮＯ3 ）3 水溶液を添加した後、Ｋ3〔Ｆｅ（Ｃ
Ｎ）6 〕水溶液を添加し、第一鉄イオンの濃度を調べた
ので、その結果を表−２に示す。
の除去効果が高い（還元能力が高い）ことが判る。又、
上記各例で得たカソード電解水の還元能力を調べた。す
なわち、カソード電解水に０．０００１ｍｏｌ／ＬのＦ
ｅ（ＮＯ3 ）3 水溶液を添加した後、Ｋ3〔Ｆｅ（Ｃ
Ｎ）6 〕水溶液を添加し、第一鉄イオンの濃度を調べた
ので、その結果を表−２に示す。
【０１３２】 表−２ 第一鉄イオンの濃度（ｐｐｍ） 実施例１ １．Ｅ−０６ 実施例２ １．Ｅ−０６ 実施例３ ５．Ｅ−０５ 実施例４ ２．Ｅ−０５ 実施例６ ４．Ｅ−０５ 実施例７ ２．Ｅ−０５ 実施例８ ８．Ｅ−０５ 実施例９ ４．Ｅ−０５ 実施例１０ ６．Ｅ−０５ 実施例１１ ３．Ｅ−０５ 比較例１ ０．Ｅ＋００ 比較例２ ０．Ｅ＋００ 比較例３ ０．Ｅ＋００ これによれば、本発明のカソード電解水は、還元能力が
高いことが判る。中でも、中間室に還元能力を有する有
機酸を供給して電解したカソード電解水は、還元能力が
高い。次に、ＳＵＳ３０４材を１０００℃で１０分間焼
成し、表面に酸化皮膜を形成した。そして、上記各例で
得たカソード電解水で酸化皮膜を１０分間かけて洗浄
し、酸化皮膜の除去具合を調べた。その結果を表−３に
示す。
高いことが判る。中でも、中間室に還元能力を有する有
機酸を供給して電解したカソード電解水は、還元能力が
高い。次に、ＳＵＳ３０４材を１０００℃で１０分間焼
成し、表面に酸化皮膜を形成した。そして、上記各例で
得たカソード電解水で酸化皮膜を１０分間かけて洗浄
し、酸化皮膜の除去具合を調べた。その結果を表−３に
示す。
【０１３３】 表−３ 酸化皮膜の除去具合（ｍｇ／ｃｍ2 ） 実施例１ ０．００１ 実施例３ ０．０１ 実施例６ ０．０２ 実施例７ ０．００１ 実施例８ ０．２ 実施例９ ０．０１ 実施例１０ ０．１４ 実施例１１ ０．００８ 比較例１ ０ 比較例２ ０ 比較例３ ０ これによれば、本発明のカソード電解水は、酸化皮膜の
除去能力が高いことが判る。中でも、中間室に還元能力
を有する有機酸を供給して電解したカソード電解水は、
酸化皮膜の除去能力が高い。次に、シリコンウェハに対
する洗浄能力を調べた。
除去能力が高いことが判る。中でも、中間室に還元能力
を有する有機酸を供給して電解したカソード電解水は、
酸化皮膜の除去能力が高い。次に、シリコンウェハに対
する洗浄能力を調べた。
【０１３４】シリコンウェハは、表面に１０００・厚の
酸化皮膜が形成されたものである。そして、この酸化皮
膜が形成されたシリコンウェハを鉄の水溶液（濃度は５
０ｐｐｍ）中に１０分間浸漬し、鉄を付着させた。
酸化皮膜が形成されたものである。そして、この酸化皮
膜が形成されたシリコンウェハを鉄の水溶液（濃度は５
０ｐｐｍ）中に１０分間浸漬し、鉄を付着させた。
【０１３５】そして、先ず、超純水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。この
後、上記各例で得たアノード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。次い
で、上記各例で得たカソード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。この
後、上記各例で得たアノード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。次い
で、上記各例で得たカソード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。
【０１３６】各洗浄後における鉄の付着量を調べたの
で、その結果を表−４に示す。
で、その結果を表−４に示す。
【０１３７】 表−４（Ｆｅイオンの除去率〔１０10ａｔｏｍ〕） 超純水洗浄後 アノード電解水洗浄後 カソード電解水洗浄後 実施例１ １２０ ５０ ７ 実施例２ １２０ ８６ ６０ 実施例３ １２０ ４８ ８ 実施例４ １２０ ８５ ６０ 実施例５ １２０ ４６ ２０ 実施例６ １２０ ４３ ５以下 実施例７ １２０ ８６ １５ 実施例８ １２０ ４４ ５以下 実施例９ １２０ ７５ １３ 実施例１０ １２０ ８２ ５以下 実施例１１ １２０ ８６ １４ 比較例１ １２０ ８５ ８０ 比較例２ １２０ ９０ ８４ 比較例３ １２０ ９２ ６５ 又、５００ｐｐｍのＣｕ+ が溶解した水溶液中に酸化皮
膜が形成されたシリコンウェハを浸漬し、Ｃｕ+ を付着
させた。
膜が形成されたシリコンウェハを浸漬し、Ｃｕ+ を付着
させた。
【０１３８】この後、先ず、超純水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。この
後、上記各例で得たアノード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。次い
で、上記各例で得たカソード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。この
後、上記各例で得たアノード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。次い
で、上記各例で得たカソード電解水に上記シリコンウェ
ハを浸漬し、超音波洗浄により１０分間洗浄した。
【０１３９】各洗浄後における銅の付着量を調べたの
で、その結果を表−５に示す。
で、その結果を表−５に示す。
【０１４０】 表−５（Ｃｕイオンの除去率〔１０10ａｔｏｍ〕） 超純水洗浄後 アノード電解水洗浄後 カソード電解水洗浄後 実施例１ １５ １以下 １以下 実施例２ １５ １０ ６ 実施例３ １５ １以下 １以下 実施例４ １５ ８ ５ 実施例５ １５ ８ ７ 実施例６ １５ ４ １以下 実施例７ １５ ５ ２ 実施例８ １５ ４ １以下 実施例９ １５ ５ ２ 実施例１０ １５ ６ １ 実施例１１ １５ ７ ３ 比較例１ １５ １２ １０ 比較例２ １５ １３ １１ 比較例３ １５ １５ １４ これによれば、本発明になるアノード電解水で洗浄した
後、アノード電解水で洗浄することにより、表面が綺麗
になることが判る。
後、アノード電解水で洗浄することにより、表面が綺麗
になることが判る。
【効果】本発明の電解水を用いて洗浄した場合、綺麗に
洗浄できる。特に、電解水は金属イオンを含まないか
ら、洗浄物に余計な金属が付着する心配が無い。又、電
解水は塩酸などの酸を含まないから、洗浄後の廃液処理
が容易である。
洗浄できる。特に、電解水は金属イオンを含まないか
ら、洗浄物に余計な金属が付着する心配が無い。又、電
解水は塩酸などの酸を含まないから、洗浄後の廃液処理
が容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】３室型電解槽の概略図
【図２】ＥＳＲスペクトル
１ アノード室 ２ カソード室 ３ 中間室 ４，５ 隔膜 ６ アノード電極 ７ カソード電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B201 AA02 AA03 AA46 AB01 BB01 BB83 BB92 4D061 DA02 DB07 EA02 EB01 EB13 EB17 EB19 EB29 EB30 EB37 EB39 ED12 GA02 GA12 GA22 GA23 GA30 GC12 4K021 AB25 BA02 BA04 BA05 BA19 BC01 DB06 DB31 DB53 DC15 4K053 PA02 PA03 QA04 RA07 RA15 RA16 RA17 RA18 RA19 RA45 YA11 YA13
Claims (9)
- 【請求項１】 アノード電極を有するアノード室と、カ
ソード電極を有するカソード室と、前記アノード室とカ
ソード室との間に設けられた中間室と、前記アノード室
と中間室との間に設けられた隔膜と、前記カソード室と
中間室との間に設けられた隔膜とを備えた３室構造の電
解装置を用いることにより電解水を製造する方法であっ
て、 前記アノード室に水を供給する工程と、 前記カソード室に水を供給する工程と、 前記中間室に酸および水を供給する工程とを有すること
を特徴とする電解水の製造方法。 - 【請求項２】 酸が無機酸であることを特徴とする請求
項１の電解水の製造方法。 - 【請求項３】 酸が有機酸であることを特徴とする請求
項１の電解水の製造方法。 - 【請求項４】 酸が還元能力を有する有機酸であること
を特徴とする請求項１の電解水の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１〜請求項４いずれかの電解水の
製造方法により得たカソード電解水からなることを特徴
とする洗浄水。 - 【請求項６】 請求項１〜請求項４いずれかの電解水の
製造方法により得たアノード電解水からなることを特徴
とする洗浄水。 - 【請求項７】 請求項１〜請求項４いずれかの電解水の
製造方法により得たカソード電解水を用いて洗浄するこ
とを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項８】 請求項１〜請求項４いずれかの電解水の
製造方法により得たアノード電解水を用いて洗浄するこ
とを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項９】 請求項１〜請求項４いずれかの電解水の
製造方法により得たアノード電解水を用いて洗浄する工
程と、 請求項１〜請求項４いずれかの電解水の製造方法により
得たカソード電解水を用いて洗浄する工程とを有するこ
とを特徴とする洗浄方法。
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