JP2005232015A - 酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品 - Google Patents
酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005232015A JP2005232015A JP2004039220A JP2004039220A JP2005232015A JP 2005232015 A JP2005232015 A JP 2005232015A JP 2004039220 A JP2004039220 A JP 2004039220A JP 2004039220 A JP2004039220 A JP 2004039220A JP 2005232015 A JP2005232015 A JP 2005232015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- skin
- water
- reduced water
- cosmetic
- reduced
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
【解決手段】3室型電解槽を用いて純水を電気分解して得られた還元水であって、生成時におけるpHが3.5〜5.5程度であり、且つORP(酸化還元電位)が−200〜−550mV(vs.Ag/AgCl)程度の還元水を、化粧水または化粧品の原料水とする。
【選択図】図1
Description
20代後半(女性) 肌のかさつきが、酸性の還元水を使ってみたところなくなった。
・
20代半ば(女性) アトピー症状の悪化がなく、かゆみが少し軽くなった。
・
30代前半(女性) 化粧ののりが良くなり、肌のくすみも改善された。
・
30代後半(女性) 化粧ののりが良くなった。また、化粧がくずれにくくなった。
・
40代半ば(女性) 肌のつやが良くなった。
・
30代後半(女性) 肌のかさつきが改善され、化粧くずれがしにくくなった。
・
20代後半(女性) ざらついていた肌がすべすべになった。
・
20代後半(女性) 化粧水を使用したときの保湿感の持続が長くなった。
・
40代前半(女性) 肌荒れ気味だったのだが、つけはじめてから症状が軽くなった。
・
20代半ば(女性) 顔に出来たニキビの赤みが少しずつ引いた。
1 カソード室:
2 アノード室:
3・4 隔膜:
5 中間室:
6 カソード極:
7 アノード極
Claims (1)
- 3室型電解槽を用いて純水を電気分解して得られた還元水であって、生成時におけるpHが3.5〜5.5程度であり、且つORP(酸化還元電位)が−200〜−550mV(vs.Ag/AgCl)程度の還元水を、原料水とすることを特徴とする酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004039220A JP2005232015A (ja) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | 酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004039220A JP2005232015A (ja) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | 酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005232015A true JP2005232015A (ja) | 2005-09-02 |
Family
ID=35015338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004039220A Pending JP2005232015A (ja) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | 酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005232015A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006182711A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Katsuhiko Muramatsu | 殺菌・消毒性および保湿性を有する美肌水およびその製造方法 |
WO2009107513A1 (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-03 | パナソニック電工株式会社 | 静電霧化装置 |
JPWO2010073667A1 (ja) * | 2008-12-24 | 2012-06-07 | 国立大学法人 千葉大学 | 紫外線防止剤 |
JP2013212498A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-10-17 | Tatehiko Ogawa | 還元パウダー及びその製造方法 |
KR20170049608A (ko) | 2014-09-25 | 2017-05-10 | 권옥선 | 환원 처리제, 환원 화장품, 및 환원 식품, 및 환원 처리제의 제조 방법 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08113524A (ja) * | 1994-10-13 | 1996-05-07 | Tatsuo Okazaki | ミネラル含有化粧水 |
JPH08299961A (ja) * | 1995-05-12 | 1996-11-19 | Nichiden:Kk | 電解水生成器に使用する電解質 |
JPH09227387A (ja) * | 1996-02-23 | 1997-09-02 | Ishiyoku Dougenshiya:Kk | アトピー性皮膚炎治療用外用剤 |
JP2001191076A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-17 | Coherent Technology:Kk | 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法 |
JP2001314877A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-11-13 | Aqua Science:Kk | 生体水に類似する水およびその製造法 |
JP2002348208A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Shoji Kubota | 還元水を用いた化粧水または化粧品 |
WO2003002466A1 (fr) * | 2001-06-29 | 2003-01-09 | Miz Co., Ltd. | Procede d'antioxydation et eau a fonction antioxydante |
JP2003010865A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-14 | Hikari Berukomu:Kk | 酸性還元水製造装置 |
JP2003306407A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-28 | Hiromaito Co Ltd | 還元性水性組成物、化粧料及びその使用法 |
-
2004
- 2004-02-17 JP JP2004039220A patent/JP2005232015A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08113524A (ja) * | 1994-10-13 | 1996-05-07 | Tatsuo Okazaki | ミネラル含有化粧水 |
JPH08299961A (ja) * | 1995-05-12 | 1996-11-19 | Nichiden:Kk | 電解水生成器に使用する電解質 |
JPH09227387A (ja) * | 1996-02-23 | 1997-09-02 | Ishiyoku Dougenshiya:Kk | アトピー性皮膚炎治療用外用剤 |
JP2001191076A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-17 | Coherent Technology:Kk | 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法 |
JP2001314877A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-11-13 | Aqua Science:Kk | 生体水に類似する水およびその製造法 |
JP2002348208A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Shoji Kubota | 還元水を用いた化粧水または化粧品 |
WO2003002466A1 (fr) * | 2001-06-29 | 2003-01-09 | Miz Co., Ltd. | Procede d'antioxydation et eau a fonction antioxydante |
JP2003010865A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-14 | Hikari Berukomu:Kk | 酸性還元水製造装置 |
JP2003306407A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-28 | Hiromaito Co Ltd | 還元性水性組成物、化粧料及びその使用法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006182711A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Katsuhiko Muramatsu | 殺菌・消毒性および保湿性を有する美肌水およびその製造方法 |
WO2009107513A1 (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-03 | パナソニック電工株式会社 | 静電霧化装置 |
JP2009202059A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 静電霧化装置 |
US8398005B2 (en) | 2008-02-26 | 2013-03-19 | Panasonic Corporation | Electrostatic atomizing device |
JPWO2010073667A1 (ja) * | 2008-12-24 | 2012-06-07 | 国立大学法人 千葉大学 | 紫外線防止剤 |
JP5680420B2 (ja) * | 2008-12-24 | 2015-03-04 | 国立大学法人 千葉大学 | 紫外線防止剤 |
JP2013212498A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-10-17 | Tatehiko Ogawa | 還元パウダー及びその製造方法 |
KR20170049608A (ko) | 2014-09-25 | 2017-05-10 | 권옥선 | 환원 처리제, 환원 화장품, 및 환원 식품, 및 환원 처리제의 제조 방법 |
US10639249B2 (en) | 2014-09-25 | 2020-05-05 | Eiko Kinoshita | Reduction treatment agent, reduction cosmetic, reduction food and method for producing reduction treatment agent |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6544401B1 (en) | Biomimetic water solutions and compositions, their use as and in health and beauty care products and the methods to prepare them | |
JP4390125B2 (ja) | 還元水を用いた化粧水または化粧品 | |
US20150148297A1 (en) | Oleanoyl peptide composition and collagen enhancement | |
PT2162140E (pt) | Água electrolítica altamente estável com largura reduzida de meia linha da rmn | |
DE69918382T2 (de) | Turmalin enthaltende kosmetische reinigungszusammensetzung | |
CN108309817A (zh) | 一种应用白藜芦醇的美白面膜精华液及其制作方法 | |
JP2005232015A (ja) | 酸性の還元水を用いた化粧水または化粧品 | |
JP2016069323A (ja) | スキンケア用又は毛髪手入れ用液体組成物 | |
JP2014043403A (ja) | 毛髪処理用電解水、及びこれを用いた毛髪処理方法 | |
WO2015020116A1 (ja) | 液体口腔洗浄剤 | |
JP2000119161A (ja) | スキンケア用品あるいは生活用水に皮膚のエージング(老化)抑制または予防効果を付与する方法 | |
JP2004238302A (ja) | 珪素体含有アルカリイオン化粧料 | |
JP2005162655A (ja) | カリウム系アルカリ性還元水を原料水とする化粧水または化粧品 | |
JP4746870B2 (ja) | 殺菌・消毒性および保湿性を有する美肌水の製造方法 | |
JP3490349B2 (ja) | 育毛水、その製造方法、及び、その製造装置 | |
JP2001288199A (ja) | 海綿動物タンパク質の加水分解物及びその製造方法 | |
CN114344183A (zh) | 一种控油组合物(occ)及制备方法及包含该组合物的护肤品、洗发水 | |
JP2004285036A (ja) | 皮膚調整剤 | |
JP2022060886A (ja) | ジェル状クレンジング化粧料 | |
JP2000204017A (ja) | 美白用化粧料 | |
JPH1160429A (ja) | 洗顔水の生成方法及び洗顔水の生成装置及び洗顔水 | |
JP2006069974A (ja) | 弱酸性のミネラル濃縮液を原料水とする化粧水または化粧品 | |
JPH0156045B2 (ja) | ||
CN101732169A (zh) | 一种熊果苷多功能护肤液 | |
JP2018203626A (ja) | 還元液の製法、及び当該製法により製造された還元液 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100608 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101019 |