JP2002278269A - 画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
光体の表面層へのオゾン、窒素酸化物に基づく低抵抗物
質の堆積を防止し、解像度低下や画像ボケといった高耐
摩耗性感光体特有の異常画像の発生を防止すること。 【解決手段】 内部に固定された磁石体を有し、表面上
に現像剤を担持しつつ回転する現像剤担持体と、前記磁
石体に対向して該現像剤担持体に担持された現像剤の量
を規制する剛性かつ磁性を有する材料からなる現像剤量
規制体とを備えた現像装置と、最表層にフィラーを含有
している潜像担持体を用い、二成分系現像剤で二成分系
現像剤で静電潜像を行なう画像形成装置において、現像
ギャップ(Gp)と磁気ブラシの高さ、量を規制するた
めの規制体と現像剤担持体とのギャップ(Gd)との比
(Gp/Gd)が0.7〜1.0であり、現像剤用キャ
リアの重量平均粒径が20〜60μmであることを特徴
とする画像形成装置。
Description
しくは乾式2成分現像剤を用いる現像方法及び現像装置
に関する。
は、磁性キャリアとトナーとからなる2成分現像剤を用
いた磁気ブラシ現像方式などが採用されている。この方
式による現像装置は、通常、内部に複数の磁極を有する
磁石体からなるマグネットローラを備え、回転可能に支
持された円筒状の現像剤担持体である現像スリーブを有
し、この現像スリーブ表面にトナーを付着させた磁性キ
ャリアを保持し、現像領域に搬送して現像を行なうもの
である。一方、磁性キャリアを用いることなく磁性トナ
ーもしくは非磁性トナーのみを用いて現像を行なう1成
分現像方式も採用されており、細部の構造、トナーの帯
電手段等が2成分現像方式と異なるものの、現像スリー
ブ表面にトナーを保持し現像領域に搬送して現像を行な
う点は共通している。
像方式では、例えば特公昭64−12386号公報など
に見られるように、現像スリーブの表面粗さを粗くする
ことにより、トナーの搬送性を改善して画像品質を向上
させるという提案がなされている。また、2成分現像方
式でも、特開平5−19632号公報の如く、現像スリ
ーブの表面粗さを粗くすることにより、トナーの搬送性
を改善する方法が提案されている。
を前提としており、棒状の現像剤量規制体を用いること
によって、現像剤担持体に現像剤を一定に規制する方法
であり、剛性または剛性かつ磁性を有する材料からなる
現像剤量規制体を用いる接触現像方式においては、現像
剤担持体上へ充分な現像剤を供給するには問題がある。
特に、最近の高画質化、小型化においてキャリアは自ず
と小粒径化する必要がある。しかし、キャリアは小粒径
化されるほど流動性が悪くなる傾向があり、このような
現像剤を用いる場合に、上記方法では、現像剤を安定し
て現像領域へ搬送することに問題がある。
メンテナンスの省力化を図るために、感光体と現像装置
を一体化することによって簡単に交換できるようにして
いる場合が多い。このようなシステムの場合、交換サイ
クルを長くしないとコストが高くなるので、おのずと高
寿命現像剤及び現像剤と同程度の寿命の潜像担持体(以
下、感光体と称する場合がある)が必要となってくる。
しかしながら、二成分接触現像方式を採用する場合、感
光体が常に現像剤により擦られているため、摩耗しやす
く長寿命化が困難であった。さらに、高画質化の要求に
対して、現像領域の現像剤密度を大きくする必要があ
る。しかしながら、現像領域の現像剤密度を大きくする
と、前記感光体摩耗はさらに不利となる。そこで、感光
体の摩耗防止のため、感光体の最表層にフィラーを添加
してやることによって摩耗防止(耐刷性の向上)を図っ
ている。感光体の最表層には帯電器から発生するオゾン
や窒素酸化物により副次的に生成される低抵抗物質が降
り注ぎ、表面に付着する。これまで最表層にフィラーが
添加されていないような感光体を用いてきた場合には、
感光体最表層の摩耗量が大きく、この低抵抗物質の付着
により感光体表面の抵抗が下がり、解像度の低下や画像
ボケといった異常画像が発生することはなかった。これ
は、最表層の摩耗速度が低抵抗物質の堆積速度を上回っ
ていたからである。しかしながら、この感光体の摩耗量
の大きさが感光体の寿命を決定していた。
摩耗性の高い層を設けた場合、摩耗量が小さくなり、耐
摩耗性が感光体の寿命律速になることはなくなったが、
上述のように、オゾン、窒素酸化物等に基づく低抵抗物
質が堆積する速度が摩耗速度を上回り、その結果として
感光体表面に低抵抗物質が体積(付着)してしまうよう
になる。このため、感光体表面抵抗の低下に基づき、解
像度の低下、画像ボケ等の副作用が発生し、これが画像
形成装置の寿命律速になるという新たな問題が発生し
た。
ラーを含有する層を設けた場合、耐摩耗性が向上するが
その他にも副作用が発生する場合がある。使用するフィ
ラーとして導電性のフィラーを用いた場合には、感光体
表面の抵抗が下がり、上述の現象とは別の理由で解像度
低下や画像ボケの現象が発生することがある。特に、感
光層が有機系の材料で構成されている場合にはこの現象
は顕著である。このため、有機系の感光体においては抵
抗の高いフィラーを用いることが必要である。この場
合、フィラーは電荷輸送能を持たないため、電子写真装
置中において感光体を繰り返し使用した場合、残留電位
が上昇し、ネガ・ポジ現像においては露光部電位が上昇
することになり、画像濃度が低くなってしまうという欠
点がある。このように感光体の耐摩耗性が向上し、膜削
れが感光体の寿命でなくなってくると、感光体の静電的
な寿命が感光体の寿命律速になってくる。具体的には、
感光体の帯電性の低下(特に局部的な電位のリーク)に
より、原稿にはない地肌部(白地)での点欠陥(地肌汚
れ、黒ポチなど)が発生してしまう。この欠陥は、図面
における点、英文原稿におけるピリオド、カンマなどと
見間違えられることがあり、画像としては致命的な欠陥
であると言える。
こと情に基づいてなされたものであり、その目的は、現
像剤を適度な強さで感光体に接触させることにより、耐
摩耗性の向上した感光体の表面層へのオゾン、窒素酸化
物に基づく低抵抗物質の堆積を防止し、解像度低下や画
像ボケといった高耐摩耗性感光体特有の異常画像の発生
を防止することにある。また、最表層にフィラーを含有
した感光体の繰り返し使用による残留電位上昇を防止
し、ネガ・ポジ現像における画像濃度低下を防止する。
更に、感光体の繰り返し使用における帯電性の低下を防
止し、ネガ・ポジ現像における点欠陥(地汚れ)を防止
することにある。
題を解決すべく、現像剤の粒径や現像スリーブの表面粗
さRzと現像剤の搬送性の関係を鋭意検討した結果、あ
る特定範囲の粒径の現像剤を用いる場合、現像ギャップ
とドクターギャップとの関係をある特定範囲にすること
によって、安定して現像剤担持体上に現像剤を供給で
き、この現像剤によって、感光体表面を常にフレッシュ
な状態に維持でき、副作用である感光体寿命に関しても
問題ないことを見出した。
「内部に固定された磁石体を有し、表面上に現像剤を担
持しつつ回転する現像剤担持体と、前記磁石体に対向し
て該現像剤担持体に担持された現像剤の量を規制する剛
性または剛性かつ磁性を有する材料からなる現像剤量規
制体とを備えた現像装置と、最表層にフィラーを含有し
ている潜像担持体を用い、磁性キャリアとトナーよりな
る二成分系現像剤で静電潜像の現像を行なう画像形成装
置において、現像ギャップ(Gp)と磁気ブラシの高
さ、量を規制するための規制体と現像剤担持体とのギャ
ップ(Gd)との比(Gp/Gd)が0.7〜1.0で
あり、現像剤用キャリアの重量平均粒径が20〜60μ
mであることを特徴とする画像形成装置」、(2)「現
像スリーブの表面粗さRzが、10〜30μmであるこ
とを特徴とする前記第(1)項に記載の画像形成装
置」、(3)「現像スリーブがサンドブラスト加工によ
り、表面加工されたものであることを特徴とする前記第
(1)項または第(2)項に記載の画像形成装置」、
(4)「現像剤用キャリアの重量平均粒径(D)と表面
粗さ(Rz)との比(D/Rz)が2≦D/Rz≦3で
あることを特徴とする前記第(1)項乃至第(3)項の
何れか1に記載の画像形成装置」、(5)「前記潜像担
持体の最表層に含有されるフィラーが金属酸化物である
ことを特徴とする前記第(1)項乃至第(4)項の何れ
か1に記載の画像形成装置」、(6)「前記潜像担持体
の最表層に電荷輸送物質を含有することを特徴とする前
記第(1)項乃至第(5)項の何れか1に記載の画像形
成装置」、(7)「前記電荷輸送物質が電子供与性基を
有する重合体であることを特徴とする前記第(6)項に
記載の画像形成装置」、(8)「前記潜像担持体の最表
層に酸価が10〜400(mgKOH/g)の有機化合
物を含有することを特徴とする前記第(1)項乃至第
(7)項の何れか1に記載の画像形成装置」、(9)
「前記潜像担持体に含有される電荷発生物質が、CuK
αの特性X線に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±
0.2゜)として、少なくとも27.2゜に最大回折ピ
ークを有するチタニルフタロシアニンであることを特徴
とする前記第(1)項乃至第(8)項の何れか1に記載
の画像形成装置」、(10)「前記潜像担持体に含有さ
れる電荷発生物質が、下記構造式(A)で表わされるア
ゾ顔料であることを特徴とする前記第(1)項乃至第
(8)項の何れか1に記載の画像形成装置。
でも異なっていても良い。 R201,R202はそれ
ぞれ、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル
基、C1〜C4のアルコキシ基、シアノ基のいずれかを
表わし、同一でも異なっていても良い。またCp1,C
p2は下記(B)式で表わされ、
のアルキル基、フェニル基などのアリール基を表わす。
R204,R205,R206,R207,R 208は
それぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリフルオロメ
チル基、メチル基、エチル基などのアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ジアルキルアミ
ノ基、水酸基を表わし、Zは置換もしくは無置換の芳香
族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構
成するのに必要な原子群を表わす。」、(11)「前記
潜像担持体の導電性支持体表面が陽極酸化皮膜処理され
たものであることを特徴とする前記第(1)項乃至第
(10)項の何れか1に記載の画像形成装置」、(1
2)「前記電子写真装置において、帯電手段が帯電部材
を潜像担持体に接触もしくは近接配置したものであるこ
とを特徴とする前記第(1)項乃至第(11)項の何れ
か1に記載の画像形成装置」、(13)「前記帯電部材
と潜像担持体間の空隙が200μm以下であることを特
徴とする前記第(12)項に記載の画像形成装置」、
(14)「前記電子写真装置において、帯電部材に直流
成分に交流成分を重畳し、潜像担持体に帯電を与えるこ
とを特徴とする前記第(12)項又は第(13)項に記
載の画像形成装置」、(15)「前記電子写真装置にお
いて、潜像担持体表面にステアリン酸亜鉛を供給塗布す
ることを特徴とする前記第(1)項乃至第(14)項の
何れか1に記載の画像形成装置」、(16)「前記電子
写真装置において、現像部に供給されるトナー中に粉末
状ステアリン酸亜鉛を含有することを特徴とする前記第
(15)項に記載の画像形成装置」によって達成され
る。
石体を有し、表面上に現像剤を担持しつつ回転する現像
剤担持体と、前記磁石体に対向して該現像剤担持体に担
持された現像剤の量を規制する剛性または剛性かつ磁性
を有する材料からなる現像剤量規制体とを備えた現像装
置を用いて行なう二成分接触現像方法である。
て説明する。図1は、本発明に用いられる現像装置の一
例の断面図を示すものである。図中、符号(1)は感光
体ドラム、(2)は現像スリーブ収納部、(3)は現像
剤、(3a)はトナー、(4)は現像スリーブ、(5)
はマグネットローラ、(6)は規制体、(7)はドクタ
前ヒサシ、(7a)は仕切板、(8)はトナーホッパ、
(8a)はトナー補給開口部、(9)は供給ローラ、
(12)は現像領域、(A)は現像剤供給室、(Gp)
は現像ギャップ、(Gd)はドクターギャップを表わ
す。
回転し、表面にフィラーを含有した最表層を有し、図示
していないが、帯電器、露光装置によって表面に静電潜
像を形成させる。マグネットローラ(磁気ローラ)
(5)は、現像剤担持体である現像スリーブ(4)の内
部に固定して設けられ、複数の(N),(S)磁極を周
方向に有し、この現像スリーブ(4)とマグネットロー
ラ(5)により現像剤を担持し、現像スリーブ(4)は
固定したマグネットローラ(5)に対して感光体と同一
方向に回転し、現像剤を搬送する。また、マグネットロ
ーラ(5)の(N),(S)磁極は、適当な磁束密度に
磁化されており、その磁力によって現像剤よりなる磁気
ブラシを形成する。規制体(6)は磁気ブラシの高さ、
量を規制するためのものである。(この規制体と現像ス
リーブの間隔をドクターギャップ(Gd)と称する。)
印方向に回転する供給ローラ(9)により、キャリアと
充分攪拌混合されて摩擦帯電が行なわれると共に、現像
スリーブ収納部(2)に送られ、規制体(6)により規
制された量、高さの磁気ブラシを現像スリーブ(4)上
に形成する。現像スリーブ(4)と感光体ドラム(1)
の表面距離、即ち、現像ギャップ(Gp)を所定の間隔
(例えば0.7mm)に設定し、感光体ドラム(1)の
静電潜像を現像する場合、現像スリーブ(4)の表面に
形成された磁気ブラシは、現像スリーブ(4)の回転に
伴って、磁束密度の変化により振動しながら現像スリー
ブ(4)と共に移動し、現像領域(12)の間隙を円滑
に通過しながら、トナーにより静電潜像を現像する。こ
のとき、現像を好適に行なうべく、現像スリーブ(4)
と感光体ドラム(1)の基体との間にバイアス電圧を印
加してもよい。
分現像装置において、重量平均粒径が20〜60μmの
磁性キャリアを用いると共に、現像ギャップ(Gp)と
ドクターギャップ(Gd)の比、(Gp/Gd)が0.
7から1.0の条件を満たすものである。Gp/Gdが
0.7未満であると、現像ギャップ部に現像剤溜りがで
きてしまい、キャリア付着が発生しやすくなる。また、
1.0より大きくなると、現像剤の感光体への当たりが
弱くなり、クリーニング効果がなくなってしまう。キャ
リア粒径については、20μmより小さいとキャリア付
着が発生しやすく好ましくない。また、60μmより大
きい場合は、特に不具合は発生しないが、高画質の要求
から好ましくない。また、好ましくは現像スリーブの表
面粗さ(Rz)が10〜30μmの条件を満たすもので
ある。この条件を満たすことによって、一層のクリーニ
ング効果が生まれるばかりでなく、現像剤の供給が安定
し、高画質化に対しても効果が大きい。
例えば小坂研究所製、サーフコーダーSE−30Hによ
り測定できる。なお、この十点平均粗さは、固体表面の
微細な凹凸の深さを良く反映するものである。また、用
いられる現像スリーブの材質としては、通常の現像装置
に用いられるものであれば特に限定されることなく、ス
テンレス鋼、アルミニウム、セラミックス等の非磁性材
料や、更に、これらにコーティング等したものなどが用
いられる。また、現像スリーブの形状も特に限定される
ことはない。
Rzを上記の範囲に調整するには、例えばサンドブラス
ト加工、溝加工、研削加工、サンドペーパー法、インデ
ックスセーバー加工などを用いればよいが、次の点から
サンドブラスト加工が好ましい。即ち、サンドブラスト
加工は操作が簡易で加工の効率もよく、更にランダムに
表面加工(粗化)が行なわれるため、全ての方向に対す
るトナーと現像スリーブの摩擦抵抗が等しく改善される
と考えられる。
ャリアの重量平均粒径(D)と表面粗さ(Rz)との比
(D/Rz)が2≦D/Rz≦3とすることが有効であ
る。この範囲を外れても感光体のクリーニング効果は問
題ないが、D/Rzが2以下になると、キャリアへのス
トレスが大きくなり、キャリア被覆樹脂の剥がれ又はキ
ャリアスペントが発生しやすくなる。また、D/Rzが
3を超えるとトナー濃度が高くなりすぎたり、Q/Mが
大きくなりすぎたときに、若干搬送性不良が発生する。
具体的に説明する。本発明の静電潜像現像用キャリアと
共に現像剤を構成するトナーとしては、従来公知の方法
で製造されたものを使用できる。具体的には、バインダ
ー樹脂、着色剤及び極性制御剤よりなる混合物を熱ロー
ルミルで溶融混練した後、冷却固化せしめ、これを粉砕
分級して得られる。具体的には、バインダー樹脂、着色
剤、荷電制御剤、必要に応じて任意の添加物などから構
成される。
のものが使用できる。例えば、ポリスチレン、ポリ−p
−スチレン、ポリビニルトルエン等のスチレン及びその
置換体の単重合体、スチレン−p−クロルスチレン共重
合体、スチレン−プロピレン共重合体、スチレン−ビニ
ルトルエン共重合体、スチレン−アクリル酸メチル重合
体、スチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−
アクリル酸ブチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メ
チル共重合体、スチレン−メタクリル酸エチル共重合
体、スチレン−メタクリル酸ブチル共重合体、スチレン
−α−クロルメタクリル酸メチル共重合体、スチレン−
アクリロニトリル共重合体、スチレン−ビニルメチルエ
ーテル共重合体、スチレン−ビニルメチルケトン共重合
体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプ
レン共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレ
ン−マレイン酸エステル共重合体等のスチレン系共重合
体、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレ
ート、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ポ
リアミド、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
アクリル酸樹脂、ロジン、変性ロジン、テルペン樹脂、
フェノール樹脂、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族系石油樹
脂、塩素化パラフィン、パラフィンワックスなどが、単
独あるいは混合して使用できる。
て、従来より公知のものでよく、例えば、モノアゾ染料
の金属錯塩、ニトロフミン酸及びその塩、サリチル酸、
ナフトエ酸、ジカルボン酸のCo、Cr、Fe等の金属
錯体アミノ化合物、第4級アンモニウム化合物、有機染
料等がある。トナーに使用される極性制御剤の使用量
は、バインダー樹脂の種類、必要に応じて使用される添
加剤の有無、分散方法を含めたトナー製造方法によって
決定されるもので、一義的に限定されるものではない
が、好ましくはバインダー樹脂100重量部に対して、
0.1〜20重量部の範囲で用いられる。0.1重量部
未満では、トナーの帯電量が不足し実用的でない。ま
た、20重量部を越える場合には、トナーの帯電量が大
きすぎ、キャリアとの静電的吸引力の増大のため、現像
剤の流動性低下や、画像濃度の低下を招く。
は、例えば、カーボンブラック、アニリンブラック、フ
ァーネスブラック、ランプブラック等が使用できる。シ
アンの着色剤としては、例えば、フタロシアニンブル
ー、メチレンブルー、ビクトリアブルー、メチルバイオ
レット、アニリンブルー、ウルトラマリンブルー等が使
用できる。マゼンタの着色剤としては、例えば、ローダ
ミン6Gレーキ、ジメチルキナクリドン、ウォッチング
レッド、ローズベンガル、ローダミンB、アリザリンレ
ーキ等が使用できる。イエローの着色剤としては、例え
ば、クロムイエロー、ベンジジンイエロー、ハンザイエ
ロー、ナフトールイエロー、モリブデンオレンジ、キノ
リンイエロー、タートラジン等が使用できる。
トナーとしても使用し得る。磁性トナー中に含まれる磁
性材料としては、マグネタイト、ヘマタイト、フェライ
ト等の酸化鉄、鉄、コバルト、ニッケルのような金属あ
るいはこれらの金属とアルミニウム、コバルト、銅、
鉛、マグネシウム、スズ、亜鉛、アンチモン、ベリリウ
ム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、マンガン、セ
レン、チタン、タングステン、バナジウムのような金属
の合金及びその混合物などが挙げられる。これらの強磁
性体は平均粒径が0.1〜2μm程度のものが望まし
く、トナー中に含有させる量としては、樹脂成分100
重量部に対し約20〜200重量部、特に好ましくは、
樹脂成分100重量部に対し40〜150重量部であ
る。
酸化セリウム、酸化ケイ素、酸化チタン、炭化ケイ素等
の無機微粉体がある。この中でも特にコロイダルシリカ
が好ましい。
えば鉄粉、フェライト粉、ニッケル粉の如き磁性を有す
る粉体及びその表面を樹脂等で処理したものなどが挙げ
られる。本発明に用いられるトナーの摩擦帯電性をより
安定化させ、潜像を忠実に現像させるために本発明に用
いられるキャリアは、樹脂及び/またはシリコーン化合
物で被覆してあることが好ましい。これによって、トナ
ーの荷電制御を目的として行なうこともできる。
しては、例えばシリコーン系化合物、フッ素系樹脂等を
好ましく用いることができる。キャリアの被覆層を形成
するためのフッ素系樹脂としては、例えば、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリトリフルオロエチ
レン、ポリトリフルオルクロルエチレンのようなパーフ
ルオロポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリパ
ーフルオルプロピレン、フッ化ビニリデンとアクリル単
量体との共重合体、フッ化ビニリデンとトリフルオルク
ロルエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと
ヘキサフルオロプロピレンとの共重合体、フッ化ビニル
とフッ化ビニリデンとの共重合体、フッ化ビニリデンと
テトラフルオロエチレンとの共重合体、フッ化ビニリデ
ンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体、テトラフ
ルオロエチレンとフッ化ビニリデン及び非フッ素化単量
体のターポリマーのようなフルオロターポリマー等が好
ましく用いられる。キャリアの被覆層の形成において
は、上記の如きフッ素系樹脂をそれぞれ単独で用いても
よいし、あるいはこれらをブレンドしたものを用いても
よい。また、これらにさらにその他の重合体をブレンド
したものを用いてもよい。
シリコン系化合物としては、ポリシロキサン、例えばジ
メチルポリシロキサン、フェニルメチルポリシロキサン
等が全て用いられ、また、アルキド変性シリコン、エポ
キシ変性シリコン、ポリエステル変性シリコン、ウレタ
ン変性シリコン、アクリル変性シリコン等の変性樹脂も
使用可能である。また、変性形態として、ブロック共重
合体、グラフト共重合体、くし形グラフトポリシロキサ
ン等いずれも使用可能である。
上記樹脂を浸漬法あるいは流動床法等により磁性粒子に
噴霧する方法等がとられる。
としては、例えば、表面酸化または未酸化の鉄、ニッケ
ル、コバルト、マンガン、クロム、希土類等の金属及び
それらの合金または酸化物などが使用できるが、好まし
くは金属酸化物、より好ましくはフェライト粒子が使用
できる。また、その製造方法としては、特別な制約はな
い。本発明のキャリア並びにトナーの使用量としては、
トナー粒子がキャリア粒子のキャリア表面に付着して、
その表面積の30〜90%を占める程度に両粒子を混合
するのが好ましい。
を図面に沿って説明する。図2は、本発明に使用する電
子写真感光体を表わす断面図であり、導電性支持体(4
1)上に、電荷発生物質と電荷輸送物質を主成分とする
単層感光層(43)が設けられ、感光層上に保護層(4
9)が設けられている。図3は、本発明に使用する電子
写真感光体の別の構成例を示す断面図であり、感光層
が、電荷発生物質を主成分とする電荷発生層(45)
と、電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層(47)と
が積層された構成であり、電荷輸送層(47)上に保護
層(49)が設けられている。図4は、本発明に使用す
る電子写真感光体の更に別の構成例を示す断面図であ
り、感光層が、電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層
(47)と電荷発生物質を主成分とする電荷発生層(4
5)とが積層された構成であり、電荷発生層(45)上
に保護層(49)が設けられている。
1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えば、アル
ミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、
白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属
酸化物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム
状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、
あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケ
ル、ステンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引
き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩な
どの表面処理した管などを使用することができる。ま
た、特開昭52−36016号公報に開示されたエンド
レスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導
電性支持体(41)として用いることができる。
簡便に行なうことのできるアルミニウムからなる円筒状
支持体が最も良好に使用できる。ここでいうアルミニウ
ムとは、純アルミ系あるいはアルミニウム合金のいずれ
をも含むものである。具体的には、JIS1000番
台、3000番台、6000番台のアルミニウムあるい
はアルミニウム合金が最も適している。陽極酸化皮膜は
各種金属、各種合金を電解質溶液中において陽極酸化処
理したものであるが、中でもアルミニウムもしくはアル
ミニウム合金を電解質溶液中で陽極酸化処理を行なった
アルマイトと呼ばれる被膜が本発明に用いる感光体には
最も適している。特に、反転現像(ネガ・ポジ現像)に
用いた際に発生する点欠陥(黒ポチ、地汚れ)を防止す
る点で優れている。
リン酸、硼酸、スルファミン酸などの酸性浴中において
行なわれる。このうち、硫酸浴による処理が最も適して
いる。一例を挙げると、硫酸濃度:10〜20%、浴
温:5〜25℃、電流密度:1〜4A/dm2、電解電
圧:5〜30V、処理時間:5〜60分程度の範囲で処
理が行なわれるが、これに限定するものではない。この
ように作製される陽極酸化皮膜は、多孔質であり、ま
た、絶縁性が高いため、表面が非常に不安定な状況であ
る。このため、作製後の経時変化が存在し、陽極酸化皮
膜の物性値が変化しやすい。これを回避するため、陽極
酸化皮膜を更に封孔処理することが望ましい。封孔処理
には、フッ化ニッケルや酢酸ニッケルを含有する水溶液
に陽極酸化皮膜を浸漬する方法、陽極酸化皮膜を沸騰水
に浸漬する方法、加圧水蒸気により処理する方法などが
ある。このうち、酢酸ニッケルを含有する水溶液に浸漬
する方法が最も好ましい。封孔処理に引き続き、陽極酸
化皮膜の洗浄処理が行われる。これは、封孔処理により
付着した金属塩等の過剰なものを除去することが主な目
的である。これが支持体(陽極酸化皮膜)表面に過剰に
残存すると、この上に形成する塗膜の品質に悪影響を与
えるだけでなく、一般的に低抵抗成分が残ってしまうた
め、逆に地汚れの発生原因にもなってしまう。洗浄は純
水1回の洗浄でも構わないが、通常は他段階の洗浄を行
なう。この際、最終の洗浄液が可能な限りきれいな(脱
イオンされた)ものであることが好ましい。また、他段
階の洗浄工程のうち1工程に接触部材による物理的なこ
すり洗浄を施すことが望ましい。以上のようにして形成
される陽極酸化皮膜の膜厚は、5〜15μm程度が望ま
しい。これより薄すぎる場合には陽極酸化皮膜としての
バリア性の効果が充分でなく、これより厚すぎる場合に
は電極としての時定数が大きくなりすぎて、残留電位の
発生や感光体のレスポンスが低下する場合がある。
な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性
支持体(41)として用いることができる。この導電性
粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラッ
ク、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、
亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、IT
Oなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時
に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−
アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重
合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレ
ート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セ
ルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、
熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このよ
うな導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当
な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタ
ン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布
することにより設けることができる。
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
(登録商標)などの素材に、前記導電性粉体を含有させ
た熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるもの
も、本発明の導電性支持体(41)として良好に用いる
ことができる。
単層でも積層でもよいが、説明の都合上、先ず電荷発生
層(45)と電荷輸送層(47)で構成される場合から
述べる。電荷発生層(45)は、電荷発生物質を主成分
とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いること
もある。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材
料を用いることができる。
ァスセレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲ
ン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等
が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダ
ングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネ
ートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープした
ものが良好に用いられる。一方、有機系材料としては、
公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロ
シアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン
系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン
顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニ
ルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格
を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するア
ゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジ
アゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を
有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有
するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するア
ゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環
キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン
及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフ
トキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、イン
ジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが
挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または2種
以上の混合物として用いることができる。
ニン顔料が有効に用いられる。特に下記構造式(A)で
表わされるアゾ顔料、およびチタニルフタロシアニン
(特にCuKαの特性X線に対するブラッグ角2θの回
折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜
に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン)が
有効に使用できる。
でも異なっていても良い。 R201,R202はそれ
ぞれ、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル
基、C1〜C4のアルコキシ基、シアノ基のいずれかを
表わし、同一でも異なっていても良い。またCp1,C
p2は下記(B)式で表わされ、
のアルキル基、フェニル基などのアリール基を表わす。
R204,R205,R206,R207,R 208は
それぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリフルオロメ
チル基、メチル基、エチル基などのアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ジアルキルアミ
ノ基、水酸基を表わし、Zは置換もしくは無置換の芳香
族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構
成するのに必要な原子群を表わす。特に、前記Cp1と
Cp2が異なる構造の非対称アゾ顔料は、Cp1とCp
2が同一構造である対象型のアゾ顔料よりも、光感度が
良好な場合が多く、感光体の小径化、使用プロセスの高
速化に対応できるものであり、有効に使用される。ま
た、ブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として
27.2゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシ
アニンの中でも、最低角として7.3゜にピークを有す
るチタニルフタロシアニン(特開2001−19871
号公報に記載)が特に有効に使用できる。これら電荷発
生物質は単独でも、2種以上混合してもかまわない。
れる結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エ
ポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコン
樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ
スルホン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリ
ルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェ
ノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢
酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリ
ビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられ
る。結着樹脂の量は、電荷発生物質100重量部に対し
0〜500重量部、好ましくは10〜300重量部が適
当である。
真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法と
が大きく挙げられる。前者の方法には、真空蒸着法、グ
ロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法、反応性スパッタリング法、CVD法等が用いら
れ、電荷発生層(45)として、上述した無機系材料、
有機系材料が良好に形成できる。また、後述のキャステ
ィング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無
機系もしくは有機系電荷発生物質を、必要ならばバイン
ダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジオキサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を
用いてボ−ルミル、アトライター、サンドミル等により
分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、
形成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビ
ードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコ
ート等の方法を用いることができる。電荷発生層(4
5)の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好
ましくは0.1〜2μmである。
び結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗
布、乾燥することにより形成できる。また、必要により
可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加することも
できる。
送物質とがある。電荷輸送物質としては、例えば、クロ
ルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テト
ラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−
フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フ
ルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサント
ン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,
8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフ
ェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオ
フェン−5,5−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等
の電子受容性物質が挙げられる。
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘
導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、
α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジ
アリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9
−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジ
ビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘
導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチル
ベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙
げられる。これらの電荷輸送物質は単独、または2種以
上混合して用いられる。
ン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアレ
ート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロ
ース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン
樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬
化性樹脂が挙げられる。
に対し、20〜300重量部、好ましくは40〜150
重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は5〜1
00μm程度とすることが好ましい。ここで用いられる
溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロ
エタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセ
トンなどが用いられる。
る重合体を含有させることもできる。電子供与性基を有
する重合体とは、電荷輸送物質としての機能とバインダ
ー樹脂の機能を持った高分子電荷輸送物質、あるいは電
荷輸送層の成膜時には電子供与性基を有するモノマーあ
るいはオリゴマーの状態で、成膜後に硬化反応あるいは
架橋反応をさせることで、最終的に2次元あるいは3次
元の架橋構造を有する重合体も含むものである。
電荷輸送層、あるいは架橋構造を有する重合体は耐摩耗
性に優れたものである。通常、電子写真プロセスにおい
ては、帯電電位(未露光部電位)は一定であるため、繰
り返し使用により感光体の表面層が摩耗すると、その分
だけ感光体にかかる電界強度が高くなってしまう。この
電界強度の上昇に伴い、地汚れの発生頻度が高くなるた
め、感光体の耐摩耗性が高いことは、地汚れに対して有
利である。
電荷輸送層は、自身が高分子化合物であるため成膜性に
優れ、低分子分散型高分子からなる電荷輸送層に比べ、
電荷輸送部位を高密度に構成することが可能で電荷輸送
能に優れたものである。このため、高分子電荷輸送物質
を用いた電荷輸送層を有する感光体には、高速応答性が
期待できる。高分子電荷輸送物質としては、公知の材料
が使用できるが、特に、トリアリールアミン構造を主鎖
および/または側鎖に含むポリカーボネートが良好に用
いられる。中でも、一般式(I)〜一般式(X)で表わ
される高分子電荷輸送物質が良好に用いられ、これらを
以下に例示し、具体例を示す。
無置換のC1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子、R
4は水素原子又はC1〜C4の置換もしくは無置換のア
ルキル基、R5 ,R6は置換もしくは無置換のアリール
基、o,p,qはそれぞれ独立して0〜4の整数、k,
jは組成を表わし、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9、
nは繰り返し単位数を表わし、5〜5000の整数であ
る。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪族の2価基、または
下記一般式で表わされる2価基を表わす。
のC1〜C4のアルキル基、アリール基またはハロゲン
原子を表わす。l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭
素原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアル
キレン基、−O−,−S−,−SO−,−SO2−,−
CO−,−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族
の2価基を表わす。)または、
数、R103、R104は置換または無置換のC1〜C4のア
ルキル基又はアリール基を表わす。)を表わす。ここ
で、R101とR102,R103とR104は、それぞれ同一でも
異なってもよい。
r1,Ar2,Ar3は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。X,k,jおよびnは、一般式(I)の場合と同じ
である。
Ar4,Ar5,Ar6は同一又は異なるアリレン基を表
わす。 X,k,jおよびnは、一般式(I)の場合と
同じである。
Ar7,Ar8,Ar9は同一又は異なるアリレン基、
X,k,jおよびnは、一般式(I)場合と同じであ
る。
Ar10,Ar11,Ar 12は同一又は異なるアリレン基、
X1,X2は置換もしくは無置換のエチレン基、又は置換
もしくは無置換のビニレン基を表わす。X,k,jおよ
びnは、一般式(I)の場合と同じである。
アリール基、Ar13,Ar14,Ar15,Ar16は同一又
は異なるアリレン基、Y1,Y2,Y3は単結合、置換も
しくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシ
クロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエ
ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし、
同一であっても異なってもよい。X,k,jおよびn
は、一般式(I)の場合と同じである。
リール基を表わし、R 19とR20は環を形成していてもよ
い。Ar17,Ar18,Ar19は同一又は異なるアリレン
基を表わす。X,k,jおよびnは、一般式(I)の場
合と同じである。
r20,Ar21,Ar22,Ar23は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。X,k,jおよびnは、一般式(I)の
場合と同じである。
アリール基、Ar24,Ar25,Ar26,Ar27,Ar28
は同一又は異なるアリレン基を表わす。X,k,jおよ
びnは、一般式(I)の場合と同じである。
Ar29,Ar30,Ar 31は同一又は異なるアリレン基を
表わす。X,k,jおよびnは、一般式(I)の場合と
同じである。
も構わないが、他の高分子電荷輸送物と2種以上混合し
て用いても構わない。また、低分子電荷輸送物質を併用
することも可能である。その他の電子供与性基を有する
重合体としては、公知の単量体の共重合体や、ブロック
重合体、グラフト重合体、スターポリマーや、また、例
えば特開平3−109406号公報、特開20000−
206723号公報、特開2001−34001号公報
等に開示されているような電子供与性基を有する架橋重
合体などもその範疇に含まれるものであり、良好に使用
できる。
7)中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑
剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
トなど一般の樹脂の可塑剤として使用されているものが
そのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂に対して0
〜30重量%程度が適当である。レベリング剤として
は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコ
ーンオイルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフ
ルオロアルキル基を有するポリマー、あるいはオリゴマ
ーが使用され、その使用量は結着樹脂に対して、0〜1
重量%が適当である。
ついて述べる。少なくとも上述した電荷発生物質を結着
樹脂中に分散した感光層が使用できる。単層感光層は、
電荷発生物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし
分散し、これを塗布、乾燥することによって形成でき
る。さらに、この感光層には上述した電荷輸送材料を添
加した機能分離タイプとしても良く、良好に使用でき
る。また、必要により、可塑剤やレベリング剤、酸化防
止剤等を添加することもできる。
7)で挙げた結着樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発
生層(45)で挙げた結着樹脂を混合して用いてもよ
い。もちろん、先に挙げた高分子電荷輸送物質も良好に
使用できる。結着樹脂100重量部に対する電荷発生物
質の量は5〜40重量部が好ましく、電荷輸送物質の量
は0〜190重量部が好ましく、更に好ましくは50〜
150重量部である。単層感光層は、電荷発生物質、結
着樹脂を必要ならば電荷輸送物質とともにテトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン
等の溶媒を用いて分散機等で分散した塗工液を、浸漬塗
工法やスプレーコート、ビードコート、ノズルコート、
スピナーコート、リングコート等の方法を用いることが
できる。単層感光層の膜厚は、5〜100μm程度が適
当である。
(41)と感光層との間に下引き層を設けることができ
る(図示せず)。下引き層は一般には樹脂を主成分とす
るが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布する
ことを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高
い樹脂であることが望ましい。このような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸
ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシ
メチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成す
る硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層には、モ
アレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリ
カ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化イン
ジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えて
もよい。
適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。更
に、本発明の下引き層として、シランカップリング剤、
チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用
することもできる。この他、本発明の下引き層には、A
l2O3を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレ
ン(パリレン)等の有機物やSiO2、SnO2、TiO
2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄膜作成法にて設
けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のもの
を用いることができる。下引き層の膜厚は0〜5μmが
適当である。
目的で、最表層として保護層(49)が感光層の上に設
けられる。保護層に使用される材料としては、ABS樹
脂、ACS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合
体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹
脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレ
ン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチル
ベンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、
ポリスルホン、ポリスチレン、AS樹脂、ブタジエン−
スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられ
る。
的で、ポリテトラフルオロエチレンのような弗素樹脂、
シリコーン樹脂、及びこれらの樹脂に酸化チタン、酸化
錫、チタン酸カリウム、シリカ等の無機フィラー、また
有機フィラーを分散したもの等を添加することができ
る。中でも金属酸化物が良好に使用され、特にアルミ
ナ、酸化チタン、シリカが良好に使用される。
光感度向上、高速応答性のため、電荷輸送物質が添加さ
れることが好ましい。添加される電荷輸送物質は、前述
の電荷輸送層(45)の説明の部分に記載された低分子
電荷輸送物質が用いられる。また、前述の高分子電荷輸
送物質も耐摩耗性向上、高速応答性等の点で、更に良好
に使用される。保護層の形成法としては通常の塗布法が
採用される。なお、保護層の厚さは0.1〜10μm程
度が適当である。
酸価が10〜400(mgKOH/g)の有機化合物を
添加させることによって実現される。ここでいう酸価と
は、1g中に含まれる遊離脂肪酸を中和するのに要する
水酸化カリウムのミリグラム数で定義される。これらの
酸価が10〜400(mgKOH/g)の有機化合物と
しては、一般に知られている有機脂肪酸や高酸価樹脂
等、酸価が10〜400(mgKOH/g)の有機化合
物であれば使用することができる。しかし、非常に低分
子の有機酸やアクセプター等はフィラーの分散性を大幅
に低下させてしまう可能性があるため、残留電位低減効
果が充分に発揮されなくなる場合がある。従って、感光
体の残留電位を低減させ、かつ、フィラーの分散性を高
めるためには低分子量ポリマーや樹脂、共重合体等、さ
らにはそれらを混合させて使用することが好ましい。そ
れらの有機化合物の構造としては、立体障害が少ないリ
ニアの構造を有することがより好ましい。分散性を向上
させるためにはフィラーとバインダー樹脂との双方に親
和性を持たせることが必要であり、立体障害が大きな材
料は、それらの親和性が低下することにより、分散性が
低下し、前述のような多くの問題を発生させることにつ
ながる。
有機化合物としては、特に、ポリカルボン酸の使用が好
ましい。ポリカルボン酸としては、カルボン酸をポリマ
ーあるいはコポリマー中に含む構造を有する化合物であ
って、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アクリル酸や
メタクリル酸を用いた共重合体、スチレンアクリル共重
合体等、カルボン酸を含む有機化合物あるいはその誘導
体はすべて使用することが可能である。また、これらの
材料は2種以上混合して用いることが可能であり、かつ
有用である。場合によっては、これらの材料と有機脂肪
酸とを混合させることによって、フィラーの分散性ある
いはそれに伴う残留電位の低減効果が高まることがあ
る。これらの酸価が10〜400(mgKOH/g)の
有機化合物の添加量としては、含有されるフィラーに対
して0.01wt%〜50wt%、好ましくは0.1w
t%〜20wt%であるが、必要最小量に設定すること
がより好ましい。添加量を必要以上に多くすると、画像
ボケの影響が現れることがあり、添加量が少なすぎると
残留電位の低減効果が充分に発揮されなくなる。また、
有機化合物の酸価としては、10〜400mgKOH/
gが好ましいが、より好ましくは30〜200mgKO
H/gである。酸価が必要以上に高いと抵抗が下がりす
ぎて画像ボケの影響が大きくなり、酸価が低すぎると添
加量を多くする必要が生じる上、残留電位の低減効果が
不充分となる。ここで、有機化合物の酸価は前記添加量
とのバランスにより決めることが必要である。ただし、
有機化合物の酸価は残留電位低減効果に直接影響するも
のではなく、用いる有機化合物の構造、あるいは分子
量、フィラーの分散性等によって大きく影響される。
層との間に中間層を設けることも可能である(図示せ
ず)。中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分とし
て用いる。これらの樹脂としては、ポリアミド、アルコ
ール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げ
られる。中間層の形成法としては、前述のごとく通常の
塗布法が採用される。なお、中間層の厚さは0.05〜
2μm程度が適当である。
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、各層に酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸
収剤、低分子電荷輸送物質およびレベリング剤を添加す
ることができる。これらの化合物の代表的な材料を以下
に記す。
ば下記のものが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。 (a)フェノ−ル系化合物 2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エ
チルフェノール、n−オクタデシル−3−(4’−ヒド
ロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェノール)、
2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼ
ン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−
t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ
−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]グ
リコールエステル、トコフェロール類など。
アミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−
フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p
−フェニレンジアミン、N,N'−ジメチル−N,N'−
ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノ
ン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t
−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オ
クタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
アリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シル−3,3’−チオジプロピオネートなど。
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキ
シ)ホスフィンなど。
記のものが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。 (a)リン酸エステル系可塑剤 リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ
オクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロ
ルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリ−2−エチルヘキシル、リン酸トリフェ
ニルなど。
ブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタ
ル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチ
ル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジノニル、フ
タル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸
ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシク
ロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチル
ラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチル
デシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。
−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。
ジピン酸ジ−2−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−n−
オクチル、アジピン酸−n−オクチル−n−デシル、ア
ジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼラ
イン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、
セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸
ジ−n−オクチル、セバシン酸ジ−2−エチルヘキシ
ル、セバシン酸ジ−2−エトキシエチル、コハク酸ジオ
クチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸
ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−n−オクチルな
ど。
ル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトー
ルエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、
トリアセチン、トリブチリンなど。
チル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルク
エン酸トリブチルなど。
アリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキ
システアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジ
ル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキ
シヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。
リコールジ−2−エチルブチラートなど。
チル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。
ト、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。
ミド、p−トルエンスルホンエチルアミド、o−トルエ
ンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−N−エチ
ルアミド、p−トルエンスルホン−N−シクロヘキシル
アミドなど。
エン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセ
チルクエン酸トリ−2−エチルヘキシル、アセチルクエ
ン酸−n−オクチルデシルなど。
−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン
酸メチルなど。
記のものが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。 (a)炭化水素系化合物 流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワック
ス、低重合ポリエチレンなど。
酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。
ド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステア
ロアミドなど。
ールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。
リコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール
など。
酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。
ボタロウ、モンタンロウなど。
えば下記のものが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。 (a)ベンゾフェノン系 2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,2’,4−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ4−メトキシベン
ゾフェノンなど。
3,5−ジ−t−ブチル4ヒドロキシベンゾエートな
ど。
(2’−ヒドロキシ5’−メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、(2’−ヒドロキシ5’−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ3’−ターシ
ャリブチル5’−メチルフェニル)5−クロロベンゾト
リアゾールなど。
ト、メチル2−カルボメトキシ3(パラメトキシ)アク
リレートなど。
ル(2,2’チオビス(4−t−オクチル)フェノレー
ト)ノルマルブ チルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニ
ッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロ
ヘキシルジチオホスフェートなど。
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピリジン、
8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オ
クチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4,5〕ウンデ
カン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンなど。
を詳しく説明する。図5は、本発明の電子写真装置を説
明するための概略図であり、下記するような変形例も本
発明の範疇に属するものである。図5において、感光体
(11)は導電性支持体上に感光層とフィラーを含有す
る最表層が設けられてなる。感光体(11)はドラム状
の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状
のものであっても良い。
は近接配置されている。これらの帯電部材は、コロトロ
ン、スコロトロンに代表わされるチャージャによるコロ
ナ帯電に比べ、低抵抗物質の発生源となるオゾンや窒素
酸化物の発生が少なく、良好に使用される。特に、帯電
部材と感光体表面が200μm以下(好ましくは100
μm以下)に近接配置された非接触帯電ローラは、繰り
返し使用における帯電部材の汚染が極めて少なく良好に
使用される。必要に応じて、転写前チャージャ(2
2)、転写チャージャ、分離チャージャ、クリーニング
前チャージャ(27)が配置され、コロトロン、スコロ
トロン、固体帯電器(ソリッド・ステート・チャージャ
ー)、帯電ローラを始めとする公知の手段が用いられ
る。帯電用部材により感光体に帯電を施す際、帯電部材
に直流成分に交流成分を重畳した電界により感光体に帯
電を与えることにより、帯電ムラを低減することが可能
で効果的である。転写手段には、一般に上記の帯電器が
使用できるが、図5に示されるように転写ベルトを使用
したものが有効に使用できる。
(17)等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、
ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオー
ド(LED)、半導体レーザー(LD)、エレクトロル
ミネッセンス(EL)などの発光物全般を用いることが
できる。そして、所望の波長域の光のみを照射するため
に、シャープカットフィルター、バンドパスフィルタ
ー、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルタ
ー、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種
フィルターを用いることもできる。
に光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング
工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、
感光体に光が照射される。
(11)上に現像されたトナーは、転写紙(24)に転
写されるが、全部が転写されるわけではなく、感光体
(11)上に残存するトナーも生ずる。このようなトナ
ーは、ファーブラシ(28)およびクリーニングブラシ
(29)により、感光体より除去される。クリーニング
は、クリーニングブラシだけで行なわれることもあり、
クリーニングブラシにはファーブラシ、マグファーブラ
シを始めとする公知のものが用いられる。電子写真感光
体に正(負)帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体
表面上には正(負)の静電潜像が形成される。これを負
(正)極性のトナー(検電微粒子)で現像すれば、ポジ
画像が得られるし、また正(負)極性のトナーで現像す
れば、ネガ画像が得られる。かかる現像手段には、公知
の方法が適用されるし、また、除電手段にも公知の方法
が用いられる。
アリン酸亜鉛を供給する部材を設けても良い。感光体表
面上にステアリン酸亜鉛を供給することにより耐摩耗性
が良好な状態でのフィルミング抑制が可能であり、さら
にまた、該感光体を具備する電子写真プロセスにおい
て、非画像形成時に感光体上へのトナー付着とクリーニ
ング部でのトナー回収動作の繰り返しにより、耐摩耗性
を保持した上での画像流れ抑制に効果を有するものであ
る。また、前記ステアリン酸亜鉛の供給手段として、現
像部中に存在する現像剤(トナー)中に、ステアリン酸
亜鉛を含有させることは非常に有効な手段である。
は、多すぎる場合には転写出力画像上への出力量も多く
なり、定着不良の原因となり好ましくない。また、ステ
アリン酸亜鉛の供給過剰により感光体表面の摩擦係数が
0.1程度に低下した場合には画像濃度低下を引き起こ
し好ましくない。一方、少ない場合にはトナー成分の感
光体上へのフィルミングが発生し、画像流れや中間調の
不均一性を招き好ましくない。例えば、トナー中にステ
アリン酸亜鉛を含有させ感光体表面に供給する場合に
は、トナー中に0.1〜0.2重量%の含有量が好まし
い。
は、非画像形成時に感光体へのトナー付着とクリーニン
グ部でのトナー回収動作により耐摩耗性を保持した状態
で感光耐表面へのフィルミングの抑制と、さらに帯電に
よる生成物の付着、堆積の抑制を達成することが可能で
ある。これは感光体上の各種付着物がトナーとともに排
出される清浄効果を有しているためと考えられる。この
トナー付着及び回収動作は、中間調程度のトナー付着量
と30秒程度の動作時間(感光体径30mm、線速12
5mm/sの場合)で効果的であり、これ以上の付着
量、動作時間は、クリーニング部への負荷増大とトナー
消費量の増加を考え好ましくない。感光体径、線速が異
なる場合においては、上記と同様の動作条件になるよう
に適宜調整すれば良い。
挙げて本発明をより詳細に説明する。 (トナーの製造) スチレン−アクリル樹脂(三洋化成社製、ハイマー75) 85部 カーボンブラック(三菱化学社製、#44) 8部 含金属アゾ染料(オリエント化学社製、ボントロンS−34) 2部 カルナウバワックス(セラリカ野田社製、WA−03) 5部 上記処方の混合物を140℃の熱ロールで溶融混練した
後、冷却固化せしめ、これをジェットミルで粉砕し分級
して平均粒径8.0μmのトナーを得た。このトナー1
00重量部に対して、疎水性シリカR−972(日本ア
エロジル社製)0.7%をヘンシェルミキサーで混合し
てトナーを得た。
・ダウコーニングシリコーン製SR−2411)100
gにトルエン100gを加えてコート液とした。この溶
液をキャリア芯材(平均粒径60μmCu−Znフェラ
イト)1kgに流動床コーティング法により、スプレー
塗布後、約5分間乾燥させ、200℃にて1時間加熱
し、冷却後、篩にて篩い、本発明のキャリアを製造し
た。キャリアの平均粒径を変更してコーティングすると
きは、膜厚を一定にするために、表面積換算してシリコ
ーン樹脂量を調整する。
した。
40mmのアルミニウムシリンダー(材質:JIS10
50)上に下記組成の下引き層塗工液、電荷発生層塗工
液、および電荷輸送層塗工液を、順次塗布・乾燥し、
3.5μmの下引き層、0.2μmの電荷発生層、22
μmの電荷輸送層、2μmの保護層からなる電子写真感
光体を形成した。 ◎下引き層塗工液 二酸化チタン粉末 400部 メラミン樹脂 65部 アルキッド樹脂 120部 2−ブタノン 400部 ◎電荷発生層塗工液 下記構造のビスアゾ顔料 8部
層塗工液中、物質のアルミナ微粒子を使用しないこと以
外は、同様にして感光体bを得た。
層塗工液中、アルミナ微粒子に変えて、テトラフルオロ
エチレン粒子を用いた以外は感光体aと同様に感光体を
作成した。
層塗工液中、電荷輸送物質を用いない以外は感光体aと
同様に感光体を作成した。
層塗工液を以下の組成のものに変更した以外は、感光体
aと同様に感光体を作成した。
層塗工液を以下の組成のものに変更した以外は、感光体
aと同様に感光体を作成した。
発生層塗工液を下記組成のものに変更した以外は、感光
体aと同様に感光体を作成した。
て、導電性支持体を以下の陽極酸化皮膜処理を行い、次
いで下引き層を設けずに、感光体作製例hと同様に電荷
発生層、電荷輸送層、保護層を設け、感光体を作成し
た。
浄を行った後、液温20℃、硫酸15vol%の電解浴
に浸し、電解電圧15Vにて30分間陽極酸化皮膜処理
を行なった。更に、水洗浄を行なった後、7%の酢酸ニ
ッケル水溶液(50℃)にて封孔処理を行なった。その
後純水による洗浄を経て、6μmの陽極酸化皮膜が形成
された支持体を得た。
び感光体を用いて、複写機(リコー製imagio M
F250)にて、表1に示す条件で、現像剤の搬送性を
評価した。なお、スリーブの表面粗さ(Rz)は加工条
件を変えることにより適宜調整した。また、現像ギャッ
プ(Gp)、規制体と現像剤担持体とのギャップ(G
d)は、マシンのセッティングにより調整した。次に、
A4、6%チャートを用いて30000枚連続コピーを
取った後の感光体の摩耗量を測定した。キャリアの表面
状態をSEMにて観察し、膜剥がれの状態及びスペント
の状態を評価した。 (搬送性評価方法) ・搬送性:A3黒ベタ画像を連続5枚取り、その5枚め
の画像のベタの埋まり具合(均一性)を評価する。現像
剤の搬送がうまく行かないと、ベタが薄くなったり穂跡
画像が発生したりする。
スコロトロンチャージャーに変更・改造して、実施例2
と同様に30000枚の連続コピーを実施した。この
際、感光体の未露光部電位が実施例2と同じ(−800
V)になるように調整した。
ーラから、下記に記載の帯電ローラに変更・改造して、
実施例2と同様に30000枚の連続コピーを実施し
た。印加電圧は実施例2と同様にDC成分のみである。
ーラの両端5mm(この領域は非画像形成部)に厚さ1
00μmのテフロンテープを巻き付けて、近接配置用帯
電ローラを形成した。
実施例19と同様に連続コピーを実施した。
した。
000枚連続コピー後、高温高湿下(30℃−90%R
H)でハーフトーン画像を出力し、画像評価を行なっ
た。結果を表2に示す。
いずれも実使用上問題になるレベルではないが、実施例
20の条件が最も優れている。
た。
ニング部材と帯電部材の間にステアリン酸亜鉛供給部材
を設けた(棒状のステアリン酸亜鉛が複写100枚後と
に10秒間押し当てられる機構)。この条件下で、実施
例21と同様に耐久性試験を行なった。
15%の粉末状ステアリン酸亜鉛を添加した以外は、実
施例21と同様に耐久性試験を行なった。
成動作として明部電位までの露光とそれに対する現像部
によるトナー現像及びクリーニング部による感光体表面
のトナー回収動作のみの繰り返しを20秒間実施した以
外は実施例23と同様に耐久性試験を行なった。
で、画像出力を行なった。また、実験終了後に感光体の
表面観察を行なった。結果を表3に示す。
で耐久性試験を行なうと、感光体表面にわずかにフィル
ミングを生じ、これに伴う画像抜けが発生した(ただ
し、問題になるレベルではない)。これに対し、実施例
22、23の様にステアリン酸亜鉛を感光体表面に供給
することにより、フィルミングを防止することができ
た。更に、実施例24のように感光体表面清浄化動作を
行なわせることで、高温高湿下(30℃90%RH)で
も画像ボケを完全になくすことができた。
なように、本発明によれば、Gp/Gd=0.7〜1.
0にし、更にフィラーを含有する保護層を設けた感光体
を用いることによって感光体摩耗量を抑えることがで
き、現像剤の搬送性との両立ができ、また、サンドブラ
スト加工することにより一層の効果が得られ、更にま
た、2≦D/Rz≦3にすることにより、現像剤の搬送
性が一層良好になるという極めて優れた効果を奏するも
のである。また、フィラーを含有する保護層に電荷輸送
物質あるいは特定の酸価を有する有機化合物を併用する
ことにより、感光体の繰り返し使用による露光部電位の
上昇を抑制することができ、良好な画像が得ることがで
きる。また、画像形成装置における感光体の帯電条件を
適当なものを選択することにより、感光体表面への低抵
抗物質の付着を減少させることが可能になり、本発明の
効果がより一層顕著なものとなる。更に、感光体表面へ
ステアリン酸亜鉛を供給する手段を併用することによ
り、本発明の効果がより一層顕著なものとなる。
示した図である。
面図である。
す断面図である。
す断面図である。
説明するための概略図である。
ニンのXDスペクトルを示す図である。
Claims (16)
- 【請求項1】 内部に固定された磁石体を有し、表面上
に現像剤を担持しつつ回転する現像剤担持体と、前記磁
石体に対向して該現像剤担持体に担持された現像剤の量
を規制する剛性または剛性かつ磁性を有する材料からな
る現像剤量規制体とを備えた現像装置と、最表層にフィ
ラーを含有している潜像担持体を用い、磁性キャリアと
トナーよりなる二成分系現像剤で静電潜像の現像を行な
う画像形成装置において、現像ギャップ(Gp)と磁気
ブラシの高さ、量を規制するための規制体と現像剤担持
体とのギャップ(Gd)との比(Gp/Gd)が0.7
〜1.0であり、現像剤用キャリアの重量平均粒径が2
0〜60μmであることを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項2】 現像スリーブの表面粗さRzが、10〜
30μmであることを特徴とする請求項1に記載の画像
形成装置。 - 【請求項3】 現像スリーブがサンドブラスト加工によ
り、表面加工されたものであることを特徴とする請求項
1または2に記載の画像形成装置。 - 【請求項4】 現像剤用キャリアの重量平均粒径(D)
と表面粗さ(Rz)との比(D/Rz)が2≦D/Rz
≦3であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1
に記載の画像形成装置。 - 【請求項5】 前記潜像担持体の最表層に含有されるフ
ィラーが金属酸化物であることを特徴とする請求項1乃
至4の何れか1に記載の画像形成装置。 - 【請求項6】 前記潜像担持体の最表層に電荷輸送物質
を含有することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1
に記載の画像形成装置。 - 【請求項7】 前記電荷輸送物質が電子供与性基を有す
る重合体であることを特徴とする請求項6に記載の画像
形成装置。 - 【請求項8】 前記潜像担持体の最表層に酸価が10〜
400(mgKOH/g)の有機化合物を含有すること
を特徴とする請求項1乃至7の何れか1に記載の画像形
成装置。 - 【請求項9】 前記潜像担持体に含有される電荷発生物
質が、CuKαの特性X線に対するブラッグ角2θの回
折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜
に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニンであ
ることを特徴とする請求項1乃至8の何れか1に記載の
画像形成装置。 - 【請求項10】 前記潜像担持体に含有される電荷発生
物質が、下記構造式(A)で表わされるアゾ顔料である
ことを特徴とする請求項1乃至8の何れか1に記載の画
像形成装置。 【化1】 式中、Cp1,Cp2はカップラー残基を表わし、同一
でも異なっていても良い。 R201,R202はそれ
ぞれ、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル
基、C1〜C4のアルコキシ基、シアノ基のいずれかを
表わし、同一でも異なっていても良い。またCp1,C
p2は下記(B)式で表わされ、 【化2】 式中、R203は、水素原子、メチル基、エチル基など
のアルキル基、フェニル基などのアリール基を表わす。
R204,R205,R206,R207,R 208は
それぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリフルオロメ
チル基、メチル基、エチル基などのアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ジアルキルアミ
ノ基、水酸基を表わし、Zは置換もしくは無置換の芳香
族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構
成するのに必要な原子群を表わす。 - 【請求項11】 前記潜像担持体の導電性支持体表面が
陽極酸化皮膜処理されたものであることを特徴とする請
求項1乃至10の何れか1に記載の画像形成装置。 - 【請求項12】 前記電子写真装置において、帯電手段
が帯電部材を潜像担持体に接触もしくは近接配置したも
のであることを特徴とする請求項1乃至11の何れか1
に記載の画像形成装置。 - 【請求項13】 前記帯電部材と潜像担持体間の空隙が
200μm以下であることを特徴とする請求項12に記
載の画像形成装置。 - 【請求項14】 前記電子写真装置において、帯電部材
に直流成分に交流成分を重畳し、潜像担持体に帯電を与
えることを特徴とする請求項12又は13に記載の画像
形成装置。 - 【請求項15】 前記電子写真装置において、潜像担持
体表面にステアリン酸亜鉛を供給塗布することを特徴と
する請求項1乃至14の何れか1に記載の画像形成装
置。 - 【請求項16】 前記電子写真装置において、現像部に
供給されるトナー中に粉末状ステアリン酸亜鉛を含有す
ることを特徴とする請求項15に記載の画像形成装置。
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