JP5115615B2 - 画像形成方法、及び画像形成装置 - Google Patents
画像形成方法、及び画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5115615B2 JP5115615B2 JP2010232876A JP2010232876A JP5115615B2 JP 5115615 B2 JP5115615 B2 JP 5115615B2 JP 2010232876 A JP2010232876 A JP 2010232876A JP 2010232876 A JP2010232876 A JP 2010232876A JP 5115615 B2 JP5115615 B2 JP 5115615B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- carrier
- resin
- toner
- developing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 73
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 225
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 57
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims abstract description 52
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 57
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 33
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 8
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 118
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 118
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 92
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 55
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 50
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 47
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 39
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 38
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- -1 ethylene, propylene, butylene, isoprene Chemical class 0.000 description 26
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 24
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 19
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 18
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 17
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 11
- 230000009471 action Effects 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 11
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 9
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 9
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 9
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 9
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 8
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical class NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 4
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QJNYIFMVIUOUSU-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate;furan-2,5-dione Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C.O=C1OC(=O)C=C1 QJNYIFMVIUOUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLUXVUVEVXYICG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.ClC(Cl)=C QLUXVUVEVXYICG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N alizarin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1 RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine powder Natural products NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 2
- PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M molport-000-691-708 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[Ga](Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007634 remodeling Methods 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- BWYOPNXBWMRLFC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetranitrofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C3=C([N+]([O-])=O)C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=C3C(=O)C2=C1 BWYOPNXBWMRLFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003920 1,2,4-triazines Chemical class 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical class ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRMDGSNYHCUCL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2-trifluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)Cl YMRMDGSNYHCUCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBNAYEYTRHHEOB-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-triphenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound N1N(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 FBNAYEYTRHHEOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBJUGBUEKUQDOP-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-methoxyphenyl)-1-benzofuran Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=C(C=2C=CC(OC)=CC=2)C2=CC=CC=C2O1 YBJUGBUEKUQDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-7-fluoroquinazolin-4-amine Chemical compound FC1=CC=C2C(N)=NC(Cl)=NC2=C1 FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMXSHNIXAVHELO-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4-(2-phenylethenyl)quinazoline Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC(C1=CC=CC=C1N=1)=NC=1C1=CC=CC=C1 OMXSHNIXAVHELO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIZIGUQDQIALBQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2,2-diphenylethenyl)-n,n-diphenylaniline Chemical class C=1C=C(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NIZIGUQDQIALBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 4-[(diphenylhydrazinylidene)methyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;oxirane Chemical compound C1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZGVMZRBRRYLIP-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)O1 UZGVMZRBRRYLIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DUZLHGMYNVZMCO-UHFFFAOYSA-N 6-[2-[3-[2-(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)ethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]ethyl]-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(CCC2OCC3(CO2)COC(CCC=2N=C(N)N=C(N)N=2)OC3)=N1 DUZLHGMYNVZMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910020203 CeO Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Divinylene sulfide Natural products C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N acetoguanamine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(N)=N1 NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004204 candelilla wax Substances 0.000 description 1
- 235000013868 candelilla wax Nutrition 0.000 description 1
- 229940073532 candelilla wax Drugs 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUJAMGNYPWYUPM-UHFFFAOYSA-N hentriacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC IUJAMGNYPWYUPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical compound C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 229940002712 malachite green oxalate Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012184 mineral wax Substances 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004206 montan acid ester Substances 0.000 description 1
- 235000013872 montan acid ester Nutrition 0.000 description 1
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 description 1
- ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- HILCQVNWWOARMT-UHFFFAOYSA-N non-1-en-3-one Chemical compound CCCCCCC(=O)C=C HILCQVNWWOARMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBRNKSXHHJRNHK-UHFFFAOYSA-L p0997 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[Sn](Cl)(Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 BBRNKSXHHJRNHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012169 petroleum derived wax Substances 0.000 description 1
- 235000019381 petroleum wax Nutrition 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002382 photo conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- INAAIJLSXJJHOZ-UHFFFAOYSA-N pibenzimol Chemical compound C1CN(C)CCN1C1=CC=C(N=C(N2)C=3C=C4NC(=NC4=CC=3)C=3C=CC(O)=CC=3)C2=C1 INAAIJLSXJJHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940099800 pigment red 48 Drugs 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003246 quinazolines Chemical class 0.000 description 1
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 description 1
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000700 radioactive tracer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Natural products CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L water blue Chemical compound CC1=CC(/C(\C(C=C2)=CC=C2NC(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=C(\C=C2)/C=C/C\2=N\C(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1N.[Na+].[Na+] XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L 0.000 description 1
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone powder Natural products C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/06—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
- G03G15/08—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer
- G03G15/09—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer using magnetic brush
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/0819—Developers with toner particles characterised by the dimensions of the particles
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/10—Developers with toner particles characterised by carrier particles
- G03G9/107—Developers with toner particles characterised by carrier particles having magnetic components
- G03G9/1075—Structural characteristics of the carrier particles, e.g. shape or crystallographic structure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/00953—Electrographic recording members
- G03G2215/00957—Compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/06—Developing structures, details
- G03G2215/0602—Developer
- G03G2215/0604—Developer solid type
- G03G2215/0607—Developer solid type two-component
- G03G2215/0609—Developer solid type two-component magnetic brush
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Dry Development In Electrophotography (AREA)
- Cleaning In Electrography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
例えば、特許文献1には、「表面抵抗が1×1010〜1×1016Ωである電荷注入層を有する静電潜像担持体を磁性粒子で構成された磁気ブラシにより帯電する帯電工程を有する画像形成方法において、該磁性キャリアは、バインダー樹脂及び金属酸化物粒子を少なくとも含有し、個数平均粒径Dnが5〜25μmであり、比抵抗が25V〜500V印加時に5.0×1013Ωcm以上であり、真比重が3.0〜4.9g/cm3であり、1キロエルステッドにおける磁化の強さが100〜300emu/cm3であり、磁性キャリア粒子表面の溶出鉄元素濃度に対するFe(II)含有量が0.001〜5.0重量%であり、特定の条件式を満足する画像形成方法。」ついて開示されている、
請求項1に係る発明は、
フッ素樹脂粒子を含む硬化膜で構成された最表面層を持つ像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電された前記像保持体の表面を露光して静電潜像を形成する潜像形成手段と、
静電潜像現像剤を収納すると共に、現像剤保持体を有する現像手段であって、前記現像剤保持体の表面に形成した前記静電潜像現像剤によるブラシ粗さ300μm以上850μm以下の磁気ブラシを前記像保持体に接触させ、前記像保持体に形成された前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記像保持体に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
前記像保持体の表面に接触し、前記像保持体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備えた画像形成装置に用いられ、
体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下のトナーと、印加磁場1kエルステッドにおける一個のキャリア粒子当たりの平均磁化が3.0×10−16AM2/個以上3.0×10−15AM2/個以下のキャリアと、を含む静電潜像現像剤。
フッ素樹脂粒子を含む硬化膜で構成された最表面層を持つ像保持体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電された前記像保持体の表面を露光して静電潜像を形成する潜像形成工程と、
体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下のトナーと印加磁場1kエルステッドにおける一個のキャリア粒子当たりの平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下のキャリアとを含む静電潜像現像剤によるブラシ粗さ300μm以上850μm以下の磁気ブラシを現像剤保持体に形成すると共に、前記磁気ブラシを前記像保持体に接触させ、前記像保持体に形成された前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、
前記像保持体に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、
前記像保持体の表面をクリーニングブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、
を有する画像形成方法。
フッ素樹脂粒子を含む硬化膜で構成された最表面層を持つ像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電された前記像保持体の表面を露光して静電潜像を形成する潜像形成手段と、
体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下のトナーと印加磁場1kエルステッドにおける一個のキャリア粒子当たりの平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下のキャリアとを含む静電潜像現像剤を収納すると共に、現像剤保持体を有する現像手段であって、前記現像保持体の表面に形成した前記静電潜像現像剤によるブラシ粗さ300μm以上850μm以下の磁気ブラシを前記像保持体に接触させ、前記像保持体に形成された前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記像保持体に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
前記像保持体の表面に接触し、前記像保持体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備えた画像形成装置。
請求項2に係る発明によれば、フッ素樹脂粒子を含む硬化膜で構成された最表面層を持つ像保持体を備えた画像形成装置において、上記平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下のキャリアを含む静電潜像現像剤を採用しない場合に比べ、体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下といった小径のトナーであっても、像保持体表面におけるフッ素樹脂成分などの偏在による筋状のカブリの発生が抑制された画像が得られる画像形成装置を提供することができる。
ここでの、磁気ブラシとは、現像剤保持体内に内包されている磁石の磁力により、トナーが付着した複数のキャリアが現像剤保持体の表面上に直線状に連なり穂立ちを形成した状態を指す。
加えて、静電潜像現像剤(以下、単に現像剤と称することがある)として、体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下のトナー(以下、小径のトナーと称することがある)と、印加磁場1kエルステッドにおける一個の粒子当たりの平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下のキャリア(以下、低磁化キャリアと称することがある。)と、を含む現像剤を採用すると共に、現像剤保持体の表面に形成する静電潜像現像剤による磁気ブラシのブラシ粗さを300μm以上850μm以下とする。
なお、トナーの体積平均粒径とは、トナーを構成するトナー粒子の体積平均粒径を意味する。
これは、最表面層自体が硬化膜で構成されていることから、クリーニングブレードによる削り量(磨耗量)が少なくなるので、それに伴い時間当たり(像担持体回転数あたり)フッ素樹脂粒子の露出量も少なくなり、露出したフッ素樹脂粒子がクリーングブレードにより軸方向に塗り広げられることなく、像保持体の周方向にのみ引き伸ばされ、筋状に塗布される。つまり、フッ素樹脂が像保持体の表面全面に塗布されず像保持体の周方向に筋状にフッ素樹脂が塗布されない領域が発生する。
そして、このような状態で小径のトナーを採用した場合には、トナーの像保持体に対する非静電的な付着力が大きい分、フッ素樹脂が塗布されていない箇所に筋状のカブリの発生が顕著に画像に現れることになる。
このような磁気ブラシは、密度が密で且つブラシ長さが揃った状態であることから、現像の際、クリーニングブレードにより露出したフッ素樹脂粒子が像保持体に筋状に塗布されたフッ素樹脂と接触する確率が高くなり、磁気ブラシにおける像保持体の軸方向の振動により、像保持体に筋状に塗布されたフッ素樹脂が像保持体の軸方向に引き伸ばされるように、塗布されるものと考えられる。その結果、フッ素樹脂が像保持体の表面全面に均一に塗布され易くなるものと考えられる(図3参照)。
低磁化キャリアを採用した場合、現像保持体に保持された現像剤が現像領域(現像保持体と像保持体とが対向した領域)に突入したとき、キャリア粒子同士の引力的作用が小さいことから、現像領域において、連なったキャリア粒子同士の切断やすべりが生じ易く、その結果、キャリア粒子の再配列が生じ易くなり、磁気ブラシは密度が密な状態になると考えられる(図4参照)。また、磁気ブラシの長さも揃い易くなると考えられる。このため、低磁化キャリアを採用した場合、上記範囲のブラシ粗さを持つ磁気ブラシが形成されると考えられる。
加えて、低磁化キャリアは、キャリア粒子同士の引力的作用が小さいことから、磁気ブラシは柔軟になると考えられる。このため、磁気ブラシの像保持体の軸方向の振動の振れ幅が大きくなり、フッ素樹脂を像保持体の軸方向に引き伸ばす度合いが大きくなり、フッ素樹脂が像保持体の表面全面に塗布され易くなるものと考えられる。
加えて、一粒子当たりの磁化が高いキャリアは、キャリア粒子同士の引力的作用が大きいことから、磁気ブラシは剛直になると考えられる。このため、磁気ブラシの像保持体の軸方向の振動の振れ幅が小さくなり、フッ素樹脂に接触したとしても、フッ素樹脂を像保持体の軸方向に引き伸ばす度合いが小さく、フッ素樹脂が像保持体の表面全面に塗布され難くなるものと考えられる(図5参照)。
なお、フッ素樹脂粒子の含有量を増加させることで、筋状のカブリの発生が抑制されるものと考えられるが、当該フッ素樹脂粒子の含有量を増加させると、層内部で光散乱が発生し易くなり、線・文字の再現性が悪化すると共に、粒状性も悪化し、筋状のカブリの発生以外の画像結果が生じる結果となり易い(例えばフッ素樹脂粒子の含有量が20質量%を超えた量、より顕著に生じるのは30質量%を超えた量)。
このため、本実施形態では、フッ素樹脂粒子の含有量を抑えつつ(例えば30質量%以下、より望ましくは20質量%以下)、筋状のカブリの発生が抑制された画像が得られるといった有利な点もある。
まず、図7に示すように、装置から現像装置を取り出し、撮影装置にセットする。
そして、現像保持体(現像ロール)上の現像剤を除去して、現像保持体自体の表面を撮影する(図8(A)参照:画像1)。
次に、現像保持体を回転させ、現像保持体の表面に形成された磁気ブラシを撮影する(図8(B)参照:画像2)。
ここで、撮影には、撮影装置として、Keyence VHX600 デジタルマイクロスコープ(レンズ光学倍率×0.6、撮影画像サイズ600×800pix、視野9.2×12.2mm)を用いた。観察は、現像ロールの主極位置の接線方向から撮影を行った。
次に、現像領域(像保持体との対向位置)における磁気ブラシの画像3から、現像保持体面を境界にして、Sleeve面を境界にして、縦300pix×横1100pixを切り出し、二値化画像(白黒画像)を作製する(図8(D):画像4)。
そして、このμmへ変換した画像を基に、JIS B 0601−2001 Rzjisに従い、10点平均荒さを算出する。これを、磁気ブラシのブラシ粗さとする。
図1は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
現像剤は、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤である。そして、キャリアとしては、上記低磁化キャリアが採用される。
トナーは、例えば、結着樹脂、着色剤、及び必要に応じて離型剤等の他の添加剤を含むトナー粒子と、必要に応じて外添剤と、を含んで構成される。
結着樹脂としては、特に制限はないが、スチレン類(例えばスチレン、クロロスチレン等)、モノオレフィン類(例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等)、α−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等)、ビニルエーテル類(例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等)、ビニルケトン類(例えばビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等)等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
また、代表的な結着樹脂としては、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。
離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス;カルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス;モンタンワックス等の合成或いは鉱物・石油系ワックス;脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス;などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
トナー粒子は、平均形状係数(形状係数=(ML2/A)×(π/4)×100で表される形状係数の個数平均、ここでMLは粒子の最大長を表し、Aは粒子の投影面積を表す)が100以上150以下であることが望ましく、105以上145以下であることがより望ましく、110以上140以下であることがさらに望ましい。
トナー粒子の体積平均粒径D50vが上記範囲であっても、筋状のカブリの発生が抑制される。
なお、トナー粒子の粒径を小径化することで、画像の粒状性(画質)が良化する一方で、2.0μmを下回ると、トナー粒子一粒あたりの電荷が小さくな過ぎてしまい、カブリの発生、転写不良が発生することがある。
まず、分散剤として界面活性剤(望ましくはアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム)の5質量%水溶液2ml中に、測定試料を0.5mg以上50mg以下加え、これを電解液100ml以上150ml以下中に添加した。この測定試料を懸濁させた電解液を超音波分散器で約1分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーII型(ベックマン−コールター社製)により、アパーチャー径が100μmのアパーチャーを用いて、粒径が2.0μm以上60μm以下の範囲の粒子の粒度分布を測定する。測定する粒子数は50,000とする。
得られた粒度分布を分割された粒度範囲(チャンネル)に対し、小粒径側から体積累積分布を引いて、累積50%となる粒径を体積平均粒径D50vとする。
外添剤としては、例えば、無機粒子が挙げられ、該無機粒子として、SiO2、TiO2、Al2O3、CuO、ZnO、SnO2、CeO2、Fe2O3、MgO、BaO、CaO、K2O、Na2O、ZrO2、CaO・SiO2、K2O・(TiO2)n、Al2O3・2SiO2、CaCO3、MgCO3、BaSO4、MgSO4等が挙げられる。
まず、トナー粒子は、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナー粒子が使用される。
キャリアは、印加磁場1kエルステッドにおける一個のキャリア粒子当たりの平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下(望ましくは3.5×10 −10 AM2/個以上2.5×10 −9 AM2/個以下、より望ましくは4.0×10 −10 AM2/個以上2.0×10 −9 AM2/個以下)のキャリアである。
なお、1[エルステッド:Oe]=103/4π[A/m]である。
式:σs=σ×4π(r/2)3ρ/(3×10 15 )
σ:キャリアの磁化(AM2/kg)
r:キャリアの体積平均粒径D50v(μm)
ρ:キャリア(被覆キャリアの場合、芯材)の真比重(g/cm3)
キャリアの磁化は、例えば、被覆キャリアの場合、用いる磁性粉の種類、大きさ等により調整され、磁性粉分散型キャリアの場合、用いる磁性粉の種類、量等により調整される。
また、キャリアの体積平均粒度分布指標GSDvにおいて、例えば、粒径45μm以上のキャリア粒子がキャリア全体で10%以下(望ましくは8%以下、より望ましくは5%以下)であることがよい。
キャリアの体積平均粒度分布指標GSDvは、粗大側粒子(粒径45μm以上のキャリア粒子)の存在が多すぎると、磁気ブラシのブラシ粗さが大きくなる傾向となり、筋状のカブリが発生し易くなることから、上記関係を満たすことがよい。
レーザー散乱粒度測定装置(日機装(株)製、マイクロトラック)で測定されたキャリアの粒度分布を基にして分割された粒度範囲(チャネル)に対して体積をそれぞれ小径側から累積分布を描いて、累積50%となる粒径が体積平均粒径D50vとし、体積平均粒度分布指標GSDvにおいて、チャネルから粒径45μmの粒子の比率を求めた。
キャリアの真比重は、次のようにして求められる値である。
キャリアの真比重ρは、例えば、被覆キャリアの場合、用いる磁性粉の種類により調整され、磁性粉分散型キャリアの場合、用いる磁性粉の種類、磁性粉充填量等により調整される。
なお、磁性粉分散型キャリア、樹脂含浸型キャリアは、マトリックス樹脂中に磁性粉が分散・配合された粒子や、多孔質の磁性粉に樹脂を含浸させた粒子を芯材とし、これに被覆樹脂により被覆したキャリアであってもよい。
なお、芯材に被覆する被覆樹脂や、磁性粉を分散・配合する樹脂には、導電材料等、その他添加剤を含ませてもよい。
具体的な樹脂被覆方法としては、芯材を被覆層形成用溶液中に浸漬する浸漬法、被覆層形成用溶液を芯材表面に噴霧するスプレー法、芯材を流動エアーにより浮遊させた状態で被覆層形成用溶液を噴霧する流動床法、ニーダーコーター中でキャリアの芯材と被覆層形成溶液とを混合し、溶剤を除去するニーダーコーター法等が挙げられる。
芯材が露出し過ぎてしまうと、現像の際、磁気ブラシが感光体(像保持体)と接触したとき、それを構成するキャリアの硬い芯材が感光体(像保持体)の表面に接触し、強い
掻き取り力が発生してしまい、感光体(像保持体)の表面に塗布されたフッ素樹脂が逆に取り除かれ易くなってしまうことがあり、カブリが発生することがある。
また、露出した芯材が感光体(像保持体)と接触すると、電荷リークが生じ易くなることがある。
このため、被覆樹脂の芯材に対する被覆量は、上記範囲であることがよい。
溶剤可溶の被覆樹脂の場合は、精量したキャリアを可溶溶剤(例えば、トルエン)に溶解させ、磁性粉を磁石で保持し、被覆樹脂が溶解した溶液を洗い流す。これを数度繰り返す事により、被服樹脂が取り除かれた磁性粉が残る。乾燥させ、磁性粉の質量を測定し、差分をキャリア量で割る事により被覆量が算出される。
具体的には、キャリア20.0gを計り取り、ビーカーに入れ、トルエン100gを加え攪拌翼で10分攪拌する。ビーカーの底に磁石をあて、芯材(磁性粉)が流れ出さないようにトルエンを流す。これを4回繰り返し、洗い流した後のビーカーを乾燥させる。乾燥後磁性粉量を測定し、式[(キャリア量−洗浄後の磁性粉量)/キャリア量]で被覆量を算出する。
一方、溶剤不溶の被覆樹脂の場合は、Rigaku社製Thermo plus EVOII 差動型示差熱天秤 TG8120を用い、窒素雰囲気下で、室温(25℃)以上1000℃以下の範囲で加熱し、その質量減少から被覆量を算出する。
電子写真感光体10としては、例えば、1)導電性基体上に下引層が設けられ、その上に電荷発生層、電荷輸送層、及び保護層が順次形成された構造を有するもの、2)導電性基体上に下引層が設けられ、その上に、電荷輸送層、電荷発生層、及び保護層が順次形成された構造を有するもの、3)導電性基体上に下引層が設けられ、その上に単層型感光層、保護層が順次形成された構造を有するもの、等が挙げられる。
なお、電荷発生層及び電荷輸送層は機能分離型の感光層である。また、電子写真感光体10において、下引層は設けてもよいし、設けなくてもよい。
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜(例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)等の膜)を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体粒子は、例えば体積抵抗率が107Ω・cm未満の導電性を有するものがよい。
下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤(例えばカップリング剤)等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが望ましく、より望ましくは40質量%以上80質量%以下である。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.7゜、9.3゜、16.9゜、17.5゜、22.4゜及び28.8゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。
電荷輸送層は、電荷輸送材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。そして、電荷輸送層が最表面層に該当する場合、上記如く、電荷輸送層は、上記比表面積を持つフッ素樹脂粒子を含む。
なお、電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上40μm以下の範囲に設定される。
単層型感光層は(電荷発生/電荷輸送層)、例えば、電荷発生材料の含有量が10質量%以上85質量%以下(、望ましくは20質量%以上50質量%以下)であり、電荷輸送材料の含有量が5質量%以上50質量%以下とすることが望ましい。
単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)の膜厚は。例えば、5μm以上50μm以下程度が望ましく、10μm以上40μm以下とするのが更に望ましい。
保護層は、フッ素樹脂粒子を含む硬化膜から構成される。
具体的には、例えば、保護層は、フッ素樹脂粒子と硬化性樹脂と電荷輸送材料とを含む硬化性樹脂組成物の硬化膜で構成されることがよい。
熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン、ポリイミド樹脂、硬化性アクリル樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの熱硬化性樹脂は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いてもよい。
但し、硬化性樹脂としては、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種の他、他の硬化性樹脂(例えば、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等)や、スピロアセタール系グアナミン樹脂(例えば「CTU−グアナミン」(味の素ファインテクノ(株)))などを併用してもよい。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格(構造)を有する化合物であり、単量体であってもよいし、多量体であってもよい。ここで、多量体は、単量体を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下(望ましくは2以上100以下)である。
グアナミン化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン(R)L−148−55、スーパーベッカミン(R)13−535、スーパーベッカミン(R)L−145−60、スーパーベッカミン(R)TD−126”以上DIC社製、”ニカラックBL−60、ニカラックBX−4000”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。
グアナミン化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
メラミン化合物は、メラミン骨格(構造)であり、単量体であってもよいし、多量体であってもよい。ここで、多量体は、単量体を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下(望ましくは2以上100以下)である。
メラミン化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
特定の電荷輸送性材料としては、例えば、−OH、−OCH3、−NH2、−SH、及び−COOHから選択される置換基(以下単に「特定の反応性官能基」と称す場合がある)の少なくとも1つを持つものが好適に挙げられる。特に、特定の電荷輸送性材料としては、上記特定の反応性官能基を少なくとも2つ持つものが好適に挙げられ、さらには3つ持つものが好適に挙げられる。
一般式(I)中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0または1を示し、n2は1以上4以下の整数を示し、n3は0または1を示す。Xは酸素、NH、または硫黄原子を示し、Yは−OH、−OCH3、−NH2、−SH、又は−COOH(即ち上記特定の反応性官能基)を示す。
フッ素樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、4フッ化エチレン樹脂(PTFE)、3フッ化塩化エチレン樹脂、6フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、2フッ化2塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から1種あるいは2種以上を選択するのが望ましいが、さらに望ましくは4フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂であり、特に望ましくは4フッ化エチレン樹脂である。
なお、フッ素樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置LA−920(堀場製作所製)を用いて、フッ素樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率1.35で測定した値をいう。
フッ素樹脂粒子の含有量は、多くすれば、筋状のカブリの発生が抑制されるものの、
層内部で光散乱が発生し易くなり、線・文字の再現性が悪化すると共に、粒状性も悪化し易くなるため、上記範囲であることがよい。
フッ化アルキル基含有共重合体としては、特に限定されるものではないが、下記構造式(1)および構造式(2)で表される繰り返し単位を含むフッ素系グラフトポリマーであることが望ましく、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、等からなるマクロモノマーおよびパーフルオロアルキルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロアルキル(メタ)アクリレートを用いて例えばグラフト重合により合成される樹脂であることがより望ましい。ここで、(メタ)アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを示す。
保護層には、界面活性剤、酸化防止剤、硬化触媒、その他添加物を含んでいてもよい。
帯電装置20としては、例えば、導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置20としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置20としては、接触型帯電器がよい。
なお、本実施形態では、直流に交流を重畳した電圧を印加する方式の帯電器を採用しても、放電生成物が生じ易い方式であるが、このような方式を採用しても、電子写真感光体10に放電生成物の付着・堆積が抑制され、画像の白抜けが抑制される。
露光装置30としては、例えば、電子写真感光体10表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体10の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザーの波長としては、例えば、780nm前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、露光装置30としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
現像装置40は、例えば、現像領域で電子写真感光体10に対向して配置されており、例えば、トナー及びキャリアを含む現像剤(2成分現像剤)を収容する現像容器41(現像装置本体)と、補給用現像剤収納容器(トナーカートリッジ)47と、を有している。現像容器41は、現像容器本体41Aとその上端を塞ぐ現像容器カバー41Bとを有している。
一次転写装置51、及び二次転写装置52としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
クリーニング装置70は、筐体71と、筐体71から突出するように配設されるクリーニングブレード72と、を含んで構成されている。
なお、クリーニングブレード72は、筐体71の端部で支持された形態であってもよし、別途、支持部材(ホルダー)により支持される形態であってもよいが、本実施形態では、筐体71の端部で支持された形態を示している。
クリーニングブレード72は、電子写真感光体10の回転軸に沿った方向に延びた板状のものであって、電子写真感光体10の回転方向(矢印a)の上流側に、先端部が圧力を掛けつつ接触されるように設けられている。
クリーニングブレード72を構成する材料としては、ウレタンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴム等が挙げられる。これらの中で、ウレタンゴムがよい。
ウレタンゴム(ポリウレタン)は、例えば、通常ポリウレタンの形成に用いられるものであれば特に限定されないが、例えばポリエチレンアジペート、ポリカプロラクトンなどのポリエステルポリオールなどのポリオールとジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートとからなるウレタンプレポリマー及びたとえば1,4−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコールやこれらの混合物などの架橋剤を原料とするものよい。
プロセスカートリッジ101Aの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体10と現像装置40とクリーング装置70を備えてえればよく、その他、例えば、帯電装置20、露光装置30、及び一次転写装置51から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。
(電子写真感光体1の作製)
−下引層の形成−
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g)100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、n−酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175質量部、メチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン45質量部およびビスフェノールZポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量:5万)55質量部をクロルベンゼン800質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
4フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンL−2(ダイキン工業製)5質量部、および下記構造式(4)で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体(重量平均分子量50,000、l:m=1:1、s=1、n=60)0.25質量部を、シクロペンタノン(環状脂肪族ケトン化合物)17質量部に十分に攪拌混合して、4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
(トナー1の作製)
−ポリエステル樹脂分散液の調製−
・テレフタル酸 30mol%
・フマル酸 70mol%
・ビスフェノールAエチレンオキサイド2モル付加物 20mol%
・ビスフェノールAプロピレンオキサイド2モル付加物 80mol%
攪拌装置、窒素導入管、温度センサー、精留塔を備えた内容量5リットルのフラスコに上記モノマーを仕込み、1時間を要して190℃まで上げ、反応系内が攪拌されていることを確認した後、ジブチル錫オキサイド1.2質量部を投入した。
さらに生成する水を留去しながら同温度から6時間を要して240℃まで温度を上げ、240℃でさらに3時間脱水縮合反応を継続し、酸価が12.0mg/KOH、重量平均分子量9700である非晶質ポリエステル樹脂を得た。
別途準備した水性媒体タンクには試薬アンモニア水をイオン交換水で希釈した0.37質量%濃度の希アンモニア水を入れ、熱交換器で120℃に加熱しながら毎分0.1リットルの速度で、上記非晶質ポリエステル樹脂1溶融体と同時にキャビトロンCD1010(株式会社ユーロテック製)に移送した。
回転子の回転速度が60Hz、圧力が5kg/cm2の条件でキャビトロンを運転し、平均粒径0.16μm、固形分量30質量部のポリエステル樹脂からなる樹脂分散液を得た。
・シアン顔料(銅フタロシアニンB15:3:大日精化社製) 45質量部
・イオン性界面活性剤ネオゲンRK(第一工業製薬社製) 5質量部
・イオン交換水 200質量部
上記成分を混合溶解し、ホモジナイザー(IKAウルトラタラックス)により10分間分散し、中心粒径168nm、固形分量22.0質量部の着色剤分散液を得た。
・パラフィンワックス HNP9(融点75℃:日本精鑞社製) 45質量部
・カチオン性界面活性剤 ネオゲンRK(第一工業製薬社製) 5質量部
・イオン交換水 200質量部
上記成分を95℃に加熱して、IKA製ウルトラタラックスT50にて分散後、圧力吐出型ゴーリンホモジナイザーで分散処理し、中心径200nm、固形分量20.0質量部の離型剤分散液を得た。
・ポリエステル樹脂分散液 278.9質量部
・着色剤分散液 27.3質量部
・離型剤分散液 35質量部
その後、0.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液で系内のpHを9.0にした後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁力シールを用いて攪拌を継続しながら96℃まで加熱し、5時間保持した。
反応終了後、冷却し、濾過、イオン交換水で洗浄した後、ヌッチェ式吸引濾過により固液分離を施した。これを更に40℃のイオン交換水1Lに再分散し、15分300rpmで攪拌・洗浄した。
これを更に5回繰り返し、濾液のpHが7.5、電気伝導度7.0μS/cmtとなったところで、ヌッチェ式吸引濾過によりNo5Aろ紙を用いて固液分離を行った。次いで真空乾燥を12時間継続した。
ゾルゲル法により、ジメチルシリコーンオイルによる表面処理量が5質量%、平均一次粒径が100nmであるシリカ粒子を作製した。
トナー粒子100質量部に、シリカ粒子3質量部及びシリカ粒子(R972(日本アエロジル社製)):1質量部を加え、5リットルヘンシェルミキサーを用い、周速30m/sで15分間ブレンドを行った後、45μmの目開きの篩を用いて粗大粒子を除去し、トナー1を作製した。
トナー1の作製において、トナー粒子の作製に際、加熱用オイルバスでフラスコを攪拌し昇温する温度を41℃とし、41℃で60分保持した以外は、同様の手順で、トナー粒子を作製した。
得られたトナー粒子は、体積平均粒径D50が3.0μm、粒度分布係数GSDが1.18であった。また、ルーゼックスによる形状観察より求めたトナー粒子の形状係数は0.969であることが観察された。
そして、得られたトナー粒子を用い、トナー1と同様にしてトナー2を作製した。
トナー1の作製において、トナー粒子の作製に際、加熱用オイルバスでフラスコを攪拌し昇温する温度を55℃とし、55℃で60分保持した以外は、同様の手順で、トナー粒子を作製した。
得られたトナー粒子は、体積平均粒径D50が6.1μm、粒度分布係数GSDが1.12であった。また、ルーゼックスによる形状観察より求めたトナー粒子の形状係数は0.972であることが観察された。
そして、得られたトナー粒子を用い、トナー1と同様にしてトナー3を作製した。
(キャリア1の作製)
・綜研化学社製「ポリメタクリル酸メチル(PMMA)樹脂(Mw72,000、Mn36,000): 3質量部
・和光純薬工業株式会社 トルエン(特級): 30質量部
・芯材[パウダーテック社製磁性粉「Mn−Mgフェライトコア(平均粒径25μm、飽和磁化55A/m2/kg(1kOe時)、真比重4.6g/cm3)]: 100質量部
まず、上記組成のうち、PMMA樹脂をトルエンに溶解させPMMA樹脂のトルエン溶液を作製する。
次に、芯材であるフェライトコア(磁性粉)を80℃に加熱したニーダーに投入し、攪拌させる。
フェライトコアが50℃になった時点で、PMMAのトルエン溶液を投入し、密閉し10分攪拌させる。
次に、攪拌したまま、真空にし、トルエンを蒸発させる。30分後真空を解除し、取り出す。
そして、放置冷却させ30℃になった後、45μm篩分を実施し、キャリア1を得る。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(フェライトコア[真比重4.6]:磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア2を作製した。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(フェライトコア[真比重4.6]:磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア3を作製した。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア4を作製した。
但し、芯材(磁性粉)としては磁性粉分散型コア(戸田工業社製のコア:真比重3.6)を用いた。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(磁性粉)を用い、樹脂被覆量であるPMMA樹脂量を2.2質量部とした以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア5を作製した。
但し、芯材(磁性粉)としては磁性粉分散型コア(戸田工業社製のコア:真比重3.6)を用いた。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(フェライトコア[真比重4.6]:磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア6を作製した。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(磁性粉)を用い、樹脂被覆量であるPMMA樹脂量を1.5質量部とした以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア7を作製した。
但し、芯材(磁性粉)としては磁性粉分散型コア(戸田工業社製のコア:真比重3.6)を用いた。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(フェライトコア[真比重4.6]:磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア比較キャリア1を作製した。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(フェライトコア[真比重4.6]:磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア比較キャリア2を作製した。
但し、芯材(磁性粉)としては磁性粉分散型コア(戸田工業社製のコア:真比重3.6)を用いた。
得られるキャリアが表1に示す磁化/粒径となるように、磁化/粒径を調整した芯材(フェライトコア[真比重4.6]:磁性粉)を用いた以外は、キャリア1の作製と同様にキャリア比較キャリア3を作製した。
表2に従った組み合わせで、キャリアに対するトナーの質量比を8%となるようにして、トナーとキャリアとを、V型ブレンダーで5分間攪拌して、各現像剤を作製した。
また、装置の設定条件は、以下の通りとした。ここで、装置の設定条件の括弧内の数値範囲及び条件は、少なくとも同じ評価結果が得られた条件の範囲である。
ここで、図10、図12には、実施例1における、磁気ブラシをその先端側及びその側面側から見た様子を示す模式図をそれぞれ示す。また、図11、図13には、比較例1における、磁気ブラシをその先端側及びその側面側から見た様子を示す模式図をそれぞれ示す。
−磁気ブラシのブラシ粗さRzJIS−
磁気ブラシのブラシ粗さRzJISについて、測定した。
中央部に1mm幅の細線からなるチャートを用い、背景部における筋状のカブリについて評価した。
具体的には、電子写真感光体上の現像像を、3M社製スコッチメンディングテープ810−3−24を用いて感光体軸方向の両端部までテープ転写を行い、これを富士ゼロックス社製OHP(Over Head Projector)に貼り付けXriteにて濃度を測定した。濃度は感光体端部から2.5cm間隔で10点測定した。
事前にOHPにテープをそのまま貼り付けたテープ自体の濃度を同様に読み取りこの平均値をテープ濃度とした。
濃度は、濃度Δ値=(テープ転写濃度)−(テープ濃度)として算出し、全10点の平均値からグレード付けを行った。
評価基準は以下の通りである。なお。濃度Δ値が0.01未満であれば転写後の紙上カブリが目視で確認できないことからから、合格とし、それ以上のものを不合格とした。
G1:濃度Δ値が0.002以下
G2:濃度Δ値が0.003以上0.005以下
G3:濃度Δ値が0.006以上0.009以下
G4:濃度Δ値が0.01以上0.02以下
G5:濃度Δ値が0.02を超える
そして、筋状のカブリの評価は、初期(画像出し1枚目)、経時(画像出し50000枚目)の双方の画像出し時において評価した。
キャリア飛散は、A3用紙に全面ソリッドの画像を出力し、50倍の倍率ルーペで画像上のキャリア数、白抜け数を数えた。A3用紙10枚のキャリア飛散量の合計を表に示した。
評価基準は以下の通りである。なお、A3用紙10枚当たり9個以下であれば合格、10個以上を不合格とした。
G1:キャリア飛散量が0個
G2:キャリア飛散量が1個以上3個以下
G3:キャリア飛散量が4個以上9個以下
G4:キャリア飛散量が10個以上30個以下
G5:キャリア飛散量が30個を超える
−クリーニング条件−
・クリーニングブレードのゴム硬度80°(70°以上85°以下)
・クリーニングブレードのゴム反発弾性率45%(20%以上55%以下)
・クリーニングブレードの感光体に対する接触角度10°(10°以上30°以下)
・クリーニングブレードの感光体に対する線圧2.7gf/mm(2gf/mm以上4gf/mm以下)
・現像ロールと感光体との対向間距離(DRS)300μm(200μm以上600μm以下)
・現像ロール上の現像剤量(MOS)400g/m2(200g/m2以上600g/m2以下)
・現像ロールの回転速度(プロセススピード)330mm/sec(50mm/sec以上1500mm/sec以下)
・現像ロールの回転方向(MRS):感光体と同方向(with方向)で周速比1.7(感光体と同方向(with方向)で周速比1.0以上3.0以下、感光体と逆方向(against方向)で周速比0.6以上2.0以下)
・現像ロール表面形状・粗さ:サンドブラストRz25μm(10μm以上50μm以下)、溝スリーブ0.8mmピッチ(0.2mmピッチ以上2mmピッチ以下)
・現像ロールの径Φ18mm(Φ10mm以上Φ40mm以下)
・現像ロール上の現像極磁力125mmT(50mT以上150mT以下)
・現像ロールのマグネットセットアングル(MSA):上流側3°(3°−10°以上3°+10°以下)
・現像ロールに印加する電圧の直流成分電圧550V(300V以上650V以下)
・現像ロールに印加する電圧の直流成分電圧と画像の背景部に対応する感光体表面電位との差(Vcln)125V(50V以上200V以下)
・現像ローラ印加する直流成分電圧(DC)に重畳する交流成分電圧(現像ACバイアス)波形:sine波(矩形波)
・現像ACバイアスの振幅(Vp−p:peak to peak電圧)0.75kV(0kV以上2.0kV以下)
・印加電圧の交流成分電圧が占める割合(現像ACバイアスDuty)50%(20%以上80%以下)
・現像ACバイアスの周波数10kHz(3kHz以上40kHz以下)
・感光体径φ84mm(φ30mm以上168mm以下)
露出したフッ素樹脂粒子がクリーングブレードにより軸方向に塗り広げられることなく、感光体の周方向にのみ引き伸ばされ、筋状に塗布される、つまり、フッ素樹脂が感光体の表面全面に塗布されず感光体の周方向に筋状にフッ素樹脂が塗布されない領域が発生したためと推定される。
そして、このような状態で小径のトナーを採用するため、トナーの感光体に対する非静電的な付着力が大きい分、フッ素樹脂が塗布されていない箇所に筋状のカブリの発生が顕著に画像に現れたものと推定される。
このような磁気ブラシは、密度が密で且つブラシ長さが揃った状態であることから、現像の際、クリーニングブレードにより露出したフッ素樹脂粒子が感光体に筋状に塗布されたフッ素樹脂と接触する確率が高くなり、磁気ブラシにおける感光体の軸方向の振動により、感光体に筋状に塗布されたフッ素樹脂が感光体の軸方向に引き伸ばされるように、塗布されたものと推定される。その結果、フッ素樹脂が感光体の表面全面に均一に塗布され易くなるものと推定される。この作用は、フッ素樹脂の露出と塗り広げられたことを意味する結果として、図14及び図15に示すように、感光体表面の接触角(水に対する接触角)の結果からも確認することができる。
ここで、図14は、実施例1及び比較例1における、感光体の回転数と感光体表面の接触角(水に対する接触角)との関係を示すグラフである。図14では、実施例1は、比較例1に比べ、感光体の回転数に応じて感光体の表面の接触角が上昇していることを示している。
また、図15は、感光体の表面に対する潤滑剤の被覆率と感光体表面の接触角(水に対する接触角)との関係を示すグラフである。図15では、潤滑剤の被覆率が上昇するのに応じて、感光体の表面の接触角も上昇していることを示している。
低磁化キャリアを採用した場合、感光体に保持された現像剤が現像領域(感光体と現像ロールとが対向した領域)に突入したとき、キャリア粒子同士の引力的作用が小さいことから、現像領域において、連なったキャリア粒子同士の切断やすべりが生じ易く、その結果、キャリア粒子の再配列が生じ易くなり、磁気ブラシは密度が密な状態になると推定される(図4参照)。また、磁気ブラシの長さも揃い易くなると推定される。このため、低磁化キャリアを採用した場合、上記範囲のブラシ粗さを持つ磁気ブラシが形成されたものと推定される。
Claims (2)
- フッ素樹脂粒子を含む硬化膜で構成された最表面層を持つ像保持体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電された前記像保持体の表面を露光して静電潜像を形成する潜像形成工程と、
体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下のトナーと印加磁場1kエルステッドにおける一個のキャリア粒子当たりの平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下のキャリアとを含む静電潜像現像剤によるブラシ粗さ300μm以上850μm以下の磁気ブラシを現像保持体に形成すると共に、前記磁気ブラシを前記像保持体に接触させ、前記像保持体に形成された前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、
前記像保持体に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、
前記像保持体の表面をクリーニングブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、
を有する画像形成方法。 - フッ素樹脂粒子を含む硬化膜で構成された最表面層を持つ像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電された前記像保持体の表面を露光して静電潜像を形成する潜像形成手段と、
体積平均粒径が2.0μm以上6.5μm以下のトナーと印加磁場1kエルステッドにおける一個のキャリア粒子当たりの平均磁化が3.0×10 −10 AM2/個以上3.0×10 −9 AM2/個以下のキャリアとを含む静電潜像現像剤を収納すると共に、現像保持体を有する現像手段であって、前記現像保持体の表面に形成した前記静電潜像現像剤によるブラシ粗さ300μm以上850μm以下の磁気ブラシを前記像保持体に接触させ、前記像保持体に形成された前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記像保持体に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
前記像保持体の表面に接触し、前記像保持体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備えた画像形成装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010232876A JP5115615B2 (ja) | 2010-10-15 | 2010-10-15 | 画像形成方法、及び画像形成装置 |
| US13/204,316 US20120093543A1 (en) | 2010-10-15 | 2011-08-05 | Electrostatic latent image developer, method for forming image, and image forming apparatus |
| CN201110271941.5A CN102455614B (zh) | 2010-10-15 | 2011-09-09 | 静电潜像显影剂、成像方法和成像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010232876A JP5115615B2 (ja) | 2010-10-15 | 2010-10-15 | 画像形成方法、及び画像形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012088398A JP2012088398A (ja) | 2012-05-10 |
| JP5115615B2 true JP5115615B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=45934265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010232876A Expired - Fee Related JP5115615B2 (ja) | 2010-10-15 | 2010-10-15 | 画像形成方法、及び画像形成装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20120093543A1 (ja) |
| JP (1) | JP5115615B2 (ja) |
| CN (1) | CN102455614B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6015264B2 (ja) * | 2012-09-12 | 2016-10-26 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP2014102341A (ja) * | 2012-11-19 | 2014-06-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 現像装置及び画像形成装置 |
| US8942587B2 (en) * | 2012-12-21 | 2015-01-27 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrostatic image developer and image forming apparatus |
| JP6099535B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2017-03-22 | 住友理工株式会社 | 導電性ロールおよびその製造方法 |
| JP2015094796A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-18 | シャープ株式会社 | 画像形成装置 |
| JP6222120B2 (ja) * | 2015-01-19 | 2017-11-01 | コニカミノルタ株式会社 | 静電潜像現像用二成分現像剤 |
| JP6168086B2 (ja) * | 2015-03-25 | 2017-07-26 | コニカミノルタ株式会社 | 静電潜像現像用二成分現像剤 |
| JP2017032657A (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置用ユニット、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP2017032656A (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置用ユニット、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP6645234B2 (ja) * | 2016-02-10 | 2020-02-14 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像剤、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
| US10520884B2 (en) * | 2017-12-15 | 2019-12-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Cartridge and image forming apparatus |
| CN109466174A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-03-15 | 安徽同和包装制品有限公司 | 一种自带集尘器的印刷设备 |
| JP2021086079A (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 株式会社リコー | 現像装置及びプロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4345834A (en) * | 1978-11-02 | 1982-08-24 | Mita Industrial Company Limited | Transfer type electrostatic copying apparatus |
| JPH06175394A (ja) * | 1992-12-09 | 1994-06-24 | Konica Corp | カラートナー |
| JP3754723B2 (ja) * | 1994-06-22 | 2006-03-15 | キヤノン株式会社 | 二成分系現像剤及び画像形成方法 |
| JPH08286505A (ja) * | 1995-04-19 | 1996-11-01 | Konica Corp | 現像装置 |
| JP2002278269A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-09-27 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP4099113B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2008-06-11 | 株式会社リコー | 電子写真用キャリア、現像剤、及び画像形成装置 |
| JP4123118B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2008-07-23 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 画像形成方法及び画像形成装置 |
| US7396629B2 (en) * | 2004-04-26 | 2008-07-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming method and image forming apparatus |
| JP2006154071A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 画像形成方法及び画像形成装置 |
| US7664439B2 (en) * | 2005-12-08 | 2010-02-16 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, and carrier, toner and developer used therein for reducing foggy images |
-
2010
- 2010-10-15 JP JP2010232876A patent/JP5115615B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-08-05 US US13/204,316 patent/US20120093543A1/en not_active Abandoned
- 2011-09-09 CN CN201110271941.5A patent/CN102455614B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102455614A (zh) | 2012-05-16 |
| JP2012088398A (ja) | 2012-05-10 |
| US20120093543A1 (en) | 2012-04-19 |
| CN102455614B (zh) | 2016-03-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5115615B2 (ja) | 画像形成方法、及び画像形成装置 | |
| JP6244883B2 (ja) | 静電荷現像用現像剤、及び画像形成装置 | |
| JP2007025270A (ja) | 画像形成装置、画像形成方法、及びプロセスカートリッジ | |
| CN101464649B (zh) | 成像设备 | |
| JP5239691B2 (ja) | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
| JP2020148903A (ja) | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
| JP3524386B2 (ja) | 電子写真装置、画像形成方法及びプロセスカートリッジ | |
| JP2013134428A (ja) | 非磁性一成分トナー、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 | |
| JP2001194810A (ja) | 電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
| JP6575144B2 (ja) | 画像形成装置及び画像形成方法 | |
| JP5609030B2 (ja) | プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JP4965898B2 (ja) | 補給用現像剤、現像方法及び補給用現像剤の製造方法 | |
| JP2005181776A (ja) | 非磁性一成分現像方法 | |
| JP2005010328A (ja) | 画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び該画像形成装置に用いられる現像装置 | |
| JP2010151894A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2011145584A (ja) | 電子写真画像形成方法 | |
| JPH11190916A (ja) | 画像形成方法 | |
| JP2005234282A (ja) | 画像形成装置及び画像形成方法 | |
| JP5349895B2 (ja) | 現像剤担持体、現像剤担持体の製造方法、及び現像装置 | |
| JP5458601B2 (ja) | 画像形成装置、及びプロセスカートリッジ | |
| JP5458602B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2011186308A (ja) | 画像形成装置、及びプロセスカートリッジ | |
| JP2019168617A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2025177384A (ja) | 画像形成方法 | |
| JP2016004050A (ja) | 二成分現像剤用キャリア、二成分現像剤、画像形成方法、及び、画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120427 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20120427 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20120524 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120605 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120806 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120918 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121001 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5115615 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |