JP2000215693A - 同期型半導体記憶装置およびそのテスト方法 - Google Patents

同期型半導体記憶装置およびそのテスト方法

Info

Publication number
JP2000215693A
JP2000215693A JP11010507A JP1050799A JP2000215693A JP 2000215693 A JP2000215693 A JP 2000215693A JP 11010507 A JP11010507 A JP 11010507A JP 1050799 A JP1050799 A JP 1050799A JP 2000215693 A JP2000215693 A JP 2000215693A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
address
output
test
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11010507A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4204685B2 (ja
JP2000215693A5 (ja
Inventor
Tsukasa Oishi
司 大石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP01050799A priority Critical patent/JP4204685B2/ja
Priority to US09/333,649 priority patent/US6421789B1/en
Publication of JP2000215693A publication Critical patent/JP2000215693A/ja
Priority to US10/190,693 priority patent/US6546503B2/en
Publication of JP2000215693A5 publication Critical patent/JP2000215693A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4204685B2 publication Critical patent/JP4204685B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/14Implementation of control logic, e.g. test mode decoders
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/12015Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising clock generation or timing circuitry

Landscapes

  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 テスト時に観測ピン数を減らすと共に出力デ
ータのデータレートを落として出力することが可能な同
期型半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 入出力回路部に複数のデータ端子に出力
されるデータの一致を検出する一致検出回路250を設
ける。テスト時にはラッチ146、148に同じ結果が
書込まれ、クロック信号に応じて交互に読み出される。
したがって、通常時にダブルデータレートでデータを出
力する端子からテスト結果をデータレートを落として出
力することができる。性能の低いテスタでも観測が可能
であり、テストコストが削減できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、同期型半導体記
憶装置およびそのテスト方法に関し、より特定的にはク
ロックに同期してデータの入出力を行なう入出力回路お
よびそれを備える同期型半導体記憶装置およびそのテス
ト方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置、たとえば半導体記憶
装置に用いられるデータ入出力回路では、出力する複数
のデータを内部クロックに対し位相をずらすことで、ク
ロック周波数より高いレートで半導体記憶装置内部から
半導体記憶装置外部へとデータの転送を行なっていた。
【0003】また、検査コストを下げるために、チップ
自身にメモリセルの読出および書込テストをする機能を
搭載するBIST(ビルトインセルフテスト)を採用す
る場合が増えてきている。
【0004】図67は、従来のBIST(ビルトインセ
ルフテスト)機能付のメモリのブロック構成を示すブロ
ック図である。
【0005】図67を参照して、このメモリは、制御信
号/RAS、/CAS、/WEに応じて内部の動作クロ
ックを発生するクロック発生回路CKGと、外部よりア
ドレス信号AIを受けるアドレスバッファADBと、ク
ロック発生回路CKGが発生するクロックにともに従
い、アドレス信号をデコードするXデコーダXDEC、
YデコーダYDECと、外部とデータの授受と行なうメ
モリセルアレイMAとを備える。
【0006】このメモリは、さらに、セルフテスト回路
STCを備える。セルフテスト回路STCは、コード化
されたテスト手順を記憶するROMと、プログラムカウ
ンタPCと、アドレスカウンタACとデータ発生回路D
Gと、データ比較回路DCおよびテストクロック発生回
路TCGとを含む。
【0007】セルフテスト時には、プログラムカウンタ
PCは搭載したROMから所望の命令を読出すため、そ
の命令が格納されているROMのアドレスを指定する。
そして、ROMは、プログラムカウンタPC、アドレス
カウンタAC、データ発生回路DG、データ比較回路D
Cおよびテストクロック発生回路TCGを制御してメモ
リテストを進めるためのコード化されたテスト手順を順
次出力する。
【0008】このようなセルフテスト回路を半導体記憶
装置に内蔵することにより、高性能なテストを簡易なテ
スタ装置でも実施することが可能であり、テストコスト
の削減を図ることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、データ入出力
回路では、近年の半導体装置の動作の高速化に伴い、複
数のデータをインタリーブすると、外部に接続された回
路がピックアップする際に、データ同士の衝突が発生し
たり、また、誤ったデータをピックアップしてしまうと
いう問題点があった。
【0010】メモリ容量が1Gビットにも及ぶ巨大な同
期型半導体記憶装置になると、内部での信号、特に、チ
ップ全体の動作を制御するクロックのスキューが大きく
なり、このスキューはチップ動作周波数を制限すること
になる。特に、外部から入力される基準クロックをクロ
ックバッファで受信した後、そのクロックをもとにアド
レスやデータ、コマンドの受信を実施する場合等では、
受信したクロックを各アドレスやデータ、コマンドの入
力端子まで分配する必要があり、このクロックの伝達に
要する遅延がチップの性能を制限することになる。同時
に、出力の際にも、出力バッファをクロックをもとに制
御する場合には、クロックスキューの分だけ出力が遅延
することになり、外部で受信される出力データのマージ
ンを損なうこととなる。
【0011】また、第2の問題点として、半導体記憶装
置の動作の高速化に伴い、その製造工程中あるいは製品
出荷前段階における動作テストには、以下のような問題
点が存在している。
【0012】すなわち、半導体記憶装置の記憶容量の増
大に伴い、そのテストに要する時間も増大し、このこと
は、ひいてはテストに要するコストの増大ならびに製品
そのものの製造コストの増大をもたらしている。
【0013】従来、半導体記憶装置の記憶容量の増大に
伴うテスト時間の増加に対する対策としては、まず、複
数の半導体記憶装置を並列してテストすることにより、
テスト効率を向上させることが行なわれている。しかし
ながら、上述したような半導体記憶装置の記憶容量の増
大は、たとえば、半導体記憶装置に与えるアドレス信号
のビット数の増大およびデータ入出力インタフェースの
多ビット化等をもたらし、1つの半導体記憶装置当りの
制御信号の入力ピンの数および入出力ピンの数が増大す
ることによって、同時並列に試験することが可能な半導
体記憶装置の数が制限されることとなっている。
【0014】一度に、テスタ装置において同時測定でき
る半導体記憶装置のチップ数は、テスタ側が有するピン
の数とチップ側が必要とするピンの数の関係で決まり、
一般には以下の式で表わされる。
【0015】(テスタ装置の有するピンの数)/(チッ
プの必要とするピンの数)>(同時測定できるチップ
数) さらには、半導体記憶装置自体の動作速度が向上するの
に合せて、それをテストするためのテスタ装置の動作速
度をも向上させるものとすると、極めて高価なテスタ装
置が必要となり、このことも試験コストの増大をもたら
す。
【0016】第3の問題点として、同期型半導体記憶装
置はBIST(ビルトインセルフテスト)やDLL(デ
ィレイロックドループ)によるクロックの発生等複雑な
システムを採用してコスト低減や機能向上を図っている
が、これらの回路は外部から動作状態を観測することが
難しいという問題点があった。
【0017】この発明の目的は、検査時に使用する端子
数をへらすことにより1台のテスタ装置で同時に測定で
きるチップ数を増やすことや、観測すべき出力データの
データレートを落とすことにより高価な高性能のテスタ
装置を使用することなく検査可能とすることにより、検
査コストを下げることができる同期型半導体記憶装置を
提供することである。
【0018】この発明の他の目的は、動作時には動作が
外部からは直接的に観測できない内部回路の状態を入出
力回路を介して外部から観測可能とすることにより内部
回路の検査や評価が容易な同期型半導体記憶装置を提供
することである。
【0019】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の同期型
半導体記憶装置は、メモリアレイと、メモリアレイから
第1、第2の記憶データをアドレス信号に応じて一括し
て読出しを行う読出回路と、第1、第2の記憶データを
それぞれ受ける第1、第2のデータバスと、第1、第2
のデータバスから第1、第2の記憶データを受ける第1
の入出力回路とを備え、第1の入出力回路は、第1、第
2の記憶データをともに受け、第1、第2の出力データ
を出力するデータ処理部を含み、データ処理部は、通常
動作時には第1、第2の出力データとしてそれぞれ第
1、第2の記憶データを出力し、テスト時には第1、第
2の記憶データに所定の変換処理を施し第1、第2の出
力データを発生し、第1、第2の出力データをそれぞれ
受ける第1、第2のデータ保持回路と、第1、第2のデ
ータ保持回路が保持した第1、第2の出力データをうけ
て、クロック信号に応じて交互に出力する出力回路とを
さらに含み、出力回路の出力を受ける第1の出力ノード
をさらに備える。
【0020】請求項2に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項1に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、通常動作時にメモリアレイから第1、第2の記憶
データとともに一括して読み出される第3、第4の記憶
データを受けて、クロック信号に応じて交互に出力する
第2の入出力回路と、通常動作時に第2の入出力回路の
出力を受ける第2の出力ノードとをさらに備え、データ
処理部は、少なくとも第1の記憶データと第3の記憶デ
ータとの一致判定結果に応じて第1の出力データをテス
ト時に出力する第1の縮退回路と、少なくとも第2の記
憶データと第4の記憶データとの一致判定結果に応じて
第2の出力データをテスト時に出力する第2の縮退回路
とを含む。
【0021】請求項3に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項2に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、通常動作時にメモリアレイから第1、第2の記憶
データとともに一括して読み出される第5、第6の記憶
データを受けて、クロック信号に応じて交互に出力する
第3の入出力回路と、通常動作時に第3の入出力回路の
出力を受ける第3の出力ノードとをさらに備え、第1の
縮退回路は、少なくとも第1の記憶データと第3の記憶
データとの一致判定を行う第1の一致判定回路と、少な
くとも第1の記憶データと第5の記憶データとの一致判
定を行う第2の一致判定回路と、第1、第2の一致判定
回路がともに一致を検出したときに、テスト時に第1の
出力データを活性化する第1のゲート回路とを有し、第
2の縮退回路は、少なくとも第2の記憶データと第4の
記憶データとの一致判定を行う第3の一致判定回路と、
少なくとも第2の記憶データと第6の記憶データとの一
致判定を行う第4の一致判定回路と、第3、第4の一致
判定回路がともに一致を検出したときに、テスト時に第
2の出力データを活性化する第2のゲート回路とを有す
る。
【0022】請求項4に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項1に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、通常動作時にメモリアレイから第1、第2の記憶
データとともに一括して読み出される第3、第4の記憶
データを受けて、クロック信号に応じて交互に出力する
第2の入出力回路と、通常動作時に第2の入出力回路の
出力を受ける第2の出力ノードとをさらに備え、データ
処理部は、少なくとも第1ないし第4の記憶データが一
致することを判定し、判定結果をともに第1、第2の出
力データとしてテスト時に出力する第1の一致判定回路
を含む。
【0023】請求項5に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項4に記載の同期型半導体記憶装置の構成にお
いて、出力回路は、クロック信号の活性化、不活性化に
それぞれ応じて第1、第2の出力データを出力する。
【0024】請求項6に記載の同期型半導体記憶装置
は、メモリアレイと、メモリアレイに対するセルフテス
トの実行を制御し、メモリアレイにアドレス信号とコマ
ンド信号とを与え、かつ、記憶データを授受するBIS
T(ビルトインセルフテスト)制御回路と、セルフテス
トが実行可能かどうかをテストする予備テストを実行す
る予備テストモード時に、予備テストのテスト結果を出
力する第1の端子とを備える。
【0025】請求項7に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、セルフテストの実行を指定するために第1の電源
電位を超える第1の所定電位が加えられる第2の端子
と、第2の端子に所定の電位が与えられたことを検知す
る検知回路と、検知回路の出力に応じてBIST実行フ
ラグがセットされ、BIST実行フラグをBIST制御
回路に対して出力するフラグ保持部と、検知回路が検知
をしたことを予備テストモードにおいて第1の端子に出
力する出力回路とを含む。
【0026】請求項8に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、BIST制御回路は、セルフテストの手順に対応
するテストデータを格納するRAM部と、RAM部に記
憶されたテストデータに基づきセルフテストの制御を行
うパターンジェネレート部とを含み、テスト結果は、R
AM部に記憶されたテストデータを含み、RAM部は、
セルフテスト実行時にパターンジェネレート部によって
選択される単位である第1ないし第n群の記憶ユニット
(nは自然数)を含み、各群の記憶ユニットは、セルフ
テスト実行時には一括して選択され、パターンジェネレ
ート部にテストデータを出力し、予備テストモードにお
いては直列に接続されたシフトレジスタとなる、m個の
記憶ユニットをそれぞれ有し(mは自然数)、予備テス
トモードにおいて、第1群の記憶ユニットは、第1の端
子からテストデータを受けて第2群の記憶ユニットに出
力し、予備テストモードにおいて、第i群(iは2〜n
−1の自然数)の記憶ユニットは、第(i+1)群の記
憶ユニットにテストデータを出力し、予備テストモード
において、第n群の記憶ユニットは、第1の端子にテス
トデータを出力する。
【0027】請求項9に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、BIST制御回路は、セルフテスト実行時におい
て、メモリアレイに不良箇所が発見されると、セルフテ
ストを一時中断し、不良箇所に対応する不良アドレスの
各ビットをシーケンシャルに出力し、各ビットを受けて
外部に出力する第2の端子をさらに備える。
【0028】請求項10に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項9に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、メモリアレイからの複数の読出データの一致を検
出する不良検知回路と、不良検知回路の出力に応じてセ
ルフテストを一時中断するサスペンドフラグを出力する
フラグ保持部と、サスペンドフラグに応じて不良アドレ
ス出力動作を実施するための認識信号を外部に出力する
第3の端子と、外部から不良アドレスの受信が完了した
ことを示す完了信号が入力される第4の端子と、完了信
号に応じてフラグ保持部にサスペンドフラグのリセット
信号を出力する完了検出回路とをさらに備える。
【0029】請求項11に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、メモリアレイは、行列状に配列される複数の正規
のメモリセルと、冗長メモリセルからなる複数の冗長行
と、冗長メモリセルからなる複数の冗長列とを含み、メ
モリアレイからの複数の読出データの一致を検出する不
良検知回路と、不良検知回路の出力に応じて不良箇所に
対応する不良アドレスを受けアドレス処理を行い、対応
する情報を保持し、BIST制御回路が出力するテスト
終了信号に応じて冗長行への置換を実施する行と冗長列
への置換を実施する列とにそれぞれ対応する置換行アド
レスと置換列アドレスとを決定するアドレス処理部と、
不良検知回路の出力に応じてセルフテストを一時中断す
るサスペンドフラグを出力し、アドレス処理部からアド
レス処理の終了を示す処理完了信号を受けてサスペンド
フラグをリセットするフラグ保持部とをさらに備える。
【0030】請求項12に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項11に記載の同期型半導体記憶装置の構成に
加えて、アドレス処理部は、冗長行の数と冗長列の数の
和である第1の数のアドレス保持部を含み、各アドレス
保持部は、不良アドレスの行アドレスを保持する行アド
レスレジスタと、行アドレスレジスタに対応して設けら
れ、行アドレスレジスタが格納している行アドレスの検
出回数を計数する行カウンタと、行アドレスレジスタに
対応して設けられ、行アドレスレジスタが格納している
行アドレスが置換決定されたことを保持する行フラグ設
定部と、不良アドレスの列アドレスを保持する列アドレ
スレジスタと、列アドレスレジスタに対応して設けら
れ、列アドレスレジスタが格納している列アドレスの検
出回数を計数する列カウンタと、列アドレスレジスタに
対応して設けられ、列アドレスレジスタが格納している
列アドレスが置換決定されたことを保持する列フラグ設
定部とを含み、アドレス処理部は、列アドレスカウンタ
および行アドレスカウンタの計数値に基づいて行アドレ
ス置換および列アドレス置換を決定する。
【0031】請求項13に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項11に記載の同期型半導体記憶装置の構成に
加えて、BIST制御回路が出力するテスト終了信号に
応じて、アドレス処理部が決定した置換アドレスを受け
置換アドレスを保持し、メモリアレイの通常読出時の指
定アドレスが置換アドレスと一致した時に置換指示信号
を出力する置換アドレス設定部をさらに備え、置換アド
レス設定部は、テスト終了信号に応じて置換アドレスを
受けて保持する不揮発性記憶素子を含む。
【0032】請求項14に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項11に記載の同期型半導体記憶装置の構成に
加えて、BIST制御回路が出力するテスト終了信号に
応じて、アドレス処理部が決定した置換アドレスを受け
置換アドレスを保持し、メモリアレイの通常読出時の指
定アドレスが置換アドレスと一致した時に置換指示信号
を出力する置換アドレス設定部をさらに備え、置換アド
レス設定部は、テスト終了信号に応じて、アドレスに対
応して導通状態が変更される複数のヒューズ素子を含
む。
【0033】請求項15に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、第1の端子群と、メモリアレイと第1入出力端子
群との間に設けられ、セルフテスト実行時に活性化され
内部回路の状態を示すデータ群を第1の入出力端子群に
出力するデータ伝達回路とをさらに備え、データ群は、
ともにメモリアレイの記憶動作に用いられるコマンドデ
ータとアドレスデータと記憶データに対応するテスト出
力データとを含む。
【0034】請求項16に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項15に記載の同期型半導体記憶装置の構成に
加えて、コマンドデータ、アドレスデータ、記憶データ
のいずれかを縮退し、テスト出力データを出力する縮退
回路をさらに備える。
【0035】請求項17に記載の同期型半導体記憶装置
は、同期型半導体記憶装置のテスト方法であって、同期
型半導体記憶装置は、メモリアレイと、メモリアレイに
対するビルトインセルフテスト(BIST)の実行を制
御し、メモリアレイにアドレス信号とコマンド信号とを
与え、かつ、記憶データを授受するBIST制御回路
と、ビルトインセルフテスト(BIST)が実行可能か
どうかをテストする予備テストを実行する予備テストモ
ード時に、予備テストのテスト結果を出力する第1の端
子とを備え、BIST制御回路は、セルフテストの手順
に対応するテストデータを格納するRAM部と、RAM
部に記憶されたテストデータに基づきセルフテストの制
御を行うパターンジェネレート部とを含み、テスト結果
は、RAM部に記憶されたテストデータを含み、RAM
部は、セルフテスト実行時にパターンジェネレート部に
よって選択される単位である第1ないし第n群の記憶ユ
ニット(nは自然数)を含み、各群の記憶ユニットは、
セルフテスト実行時には一括して選択され、パターンジ
ェネレート部にテストデータを出力し、予備テストモー
ドにおいては直列に接続されたシフトレジスタとなる、
m個の記憶ユニットをそれぞれ有し(mは自然数)、第
1の端子からテストデータを入力し第1群ないし第n群
の記憶ユニットに順次データをシフトして格納する第1
のステップと、テストデータを第1の端子を介して第n
群の記憶ユニットから第1ないし第n群の記憶ユニット
に設定されたテストデータを順にシフトして読出す第2
のステップとを備える。
【0036】請求項18に記載の同期型半導体記憶装置
は、メモリアレイと、クロック信号に応じてメモリアレ
イから一括して読み出される複数の記憶データを受けて
一致を検出する第1の一致検出回路と、一致検出回路の
出力をうけるシフトレジスタとを備え、シフトレジスタ
は、クロック信号に応じて記憶データの取込みおよび保
持データの出力を行う、直列に接続された第1ないし第
nの保持回路を含み(nは2以上の自然数)、第1ない
し第nの保持回路の出力がすべて一致するか否かを判定
する第2の一致検出回路をさらに備える。
【0037】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一符号は同
一または相当部分を示す。
【0038】[実施の形態1]図1は、本発明の同期型
半導体記憶装置1000の全体構成を示す概略ブロック
図である。
【0039】図1を参照して、同期型半導体記憶装置1
000は1Gビットの容量を有するダブルデータレート
のシンクロナスダイナミックランダムアクセスメモリ
(以下DDR SDRAM)である。
【0040】同期型半導体記憶装置1000は、外部よ
り与えられる全体の動作の基準となる相補なクロック信
号CLK、/CLKを受ける端子P1、P2と、チップ
への入力を可能とするイネーブル信号CKEを受ける端
子P3と、コマンドの入力を識別する信号/CSを受け
る端子P4と、ロウ系のコマンドが入力されたことを示
す信号/RASを受ける端子P5と、コラム系のコマン
ドが入力されたことを示す信号/CASを受ける端子P
6と、リード、ライトの識別信号である信号/WEを受
ける端子P7と、リードまたはライト時のデータの無効
を識別するデータマスク信号DM0〜DM3を入出力す
る端子P8と、リードまたはライト時のデータのタイミ
ングを識別するデータストローブ信号QS0〜QS3を
入出力する端子群P9と、入力信号のHレベル/Lレベ
ルを判定する基準電位Vrefが入力される端子P10
と、アドレス信号A0〜A12が入力される端子群P1
1と、内蔵する8個のメモリバンクの3ビットのバンク
アドレスBA0〜BA2を受ける端子群P12と、32
ビットのデータの入出力信号DQ0〜DQ31が入出力
される端子群P13とを備える。
【0041】イネーブル信号CKEが活性化されていな
い間は同期型半導体記憶装置1000は動作しない。こ
の非活性期間中は、同期型半導体記憶装置はスタンドバ
イ状態か、セルフリフレッシュ状態となる。
【0042】信号/CSが活性化されている間は、クロ
ックの立上がりエッジにてコマンドが認識される。デー
タマスク信号DM0〜DM2は、リード時にデータの無
効を示す場合には、半導体記憶装置側からコントローラ
ICへと伝達され、一方、ライト時にデータの無効を示
す場合は、コントローラIC側から半導体記憶装置へと
伝達される。データ入出力信号DQ8個ごとに1個のデ
ータマスク信号DMが割当られる。
【0043】同様にデータストローブ信号QSは、リー
ド時にはデータのタイミングを半導体記憶装置側からコ
ントローラICへと伝達し、ライト時には、コントロー
ラIC側から半導体記憶装置側へと伝達する。データ入
出力信号DQ8個ごとに1個のデータストローブ信号Q
Sが割当てられる。
【0044】アドレス信号A0〜A12は、ロウアドレ
スの入力としては13ビットすべてが使用され、コラム
アドレスの入力としては、13ビットのうち10ビット
が使用される。また、モードレジスタへの書込用として
もアドレス信号の一部が使用される。
【0045】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、入力されるコマンドを認識するモードデコーダ2
と、動作モードを保持するモードレジスタ16と、アド
レス端子からロウアドレスを取込むロウアドレスラッチ
8と、アドレス端子からコラムアドレスを取込むコラム
アドレスラッチ12と、バンクアドレスからバンクアド
レス信号を取込むバンクアドレスラッチ18と、バンク
アドレスラッチ18の出力するバンクアドレスをデコー
ドして対応するバンクを活性化するバンクデコーダ20
とを含む。
【0046】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、リフレッシュ動作時にリフレッシュアドレスを発生
するためにともに設けられるセルフリフレッシュタイマ
4、リフレッシュアドレスカウンタ6と、ロウアドレス
ラッチ8の出力するアドレスとリフレッシュアドレスカ
ウンタ6の出力するアドレスのいずれかを選択するマル
チプレクサ24と、マルチプレクサ24の出力するアド
レスを受けて対応する信号をロウデコーダRDに出力す
るロウプリデコーダ10と、バースト動作時に連続した
コラムアドレスを発生するバーストアドレスカウンタ2
8と、バーストアドレスカウンタ28の出力するアドレ
スを受けて対応する信号をコラムデコーダCDに出力す
るコラムプリデコーダ14とを含む。
【0047】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、外部から入力されるクロックCLKと位相が揃った
クロックCLK(in)を発生するディレーロックドル
ープ(以下DLLと称す)回路30と、データ入出力端
子群P13とグローバル入出力線G−I/Oとの間でデ
ータレートを変換しデータ授受を行なうデータ変換部2
2とをさらに含む。
【0048】グローバル入出力線G−I/Oは8つのメ
モリバンクBANK0〜BANK7とデータの授受を行
なう。
【0049】図2は、本発明の実施の形態1の同期型半
導体記憶装置1000における各ブロックの配置例を示
す概略図である。
【0050】図2を参照して、同期型半導体記憶装置1
000は、外部制御信号入力端子群60を介して与えら
れる外部制御信号/RAS、/CAS、/WE、/CS
等を受けて、これをデコードし、内部制御信号を発生す
るコントロール回路70と、コントロール回路70から
出力される内部制御信号を伝達するコマンドデータバス
53aおよび53bと、メモリセルが行列状に配置され
るメモリセルアレイ100とを備える。
【0051】メモリアレイ100は、図2に示すとお
り、全部で16個のメモリセルブロック100a〜10
0pに分割配置されている。たとえば、同期型半導体記
憶装置1000の記憶容量が1Gビットである場合、各
メモリセルブロックは64Mビットの容量を有する。各
ブロックは、独立にバンクとして動作し得る構成となっ
ている。
【0052】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、クロック信号入力端子66に与えられる外部クロッ
ク信号CLKを受け、コントロール回路70により制御
されて同期動作を開始し、内部クロック信号CLK(i
n)を出力する内部同期信号発生回路18を含む。
【0053】内部同期信号発生回路18は、たとえばD
LL回路等により、外部クロック信号CLKに対して同
期した内部クロック信号CLK(in)を生成する。
【0054】アドレス信号入力端子群62を介して与え
られる外部アドレス信号A0〜A12、BA0〜BA2
は、コントロール回路70の制御の下に、内部クロック
信号CLK(in)に同期して、半導体記憶装置100
0内に取込まれる。
【0055】外部アドレス信号BA0〜BA2は、アド
レスバス51aを介してバンクデコーダ72に与えられ
る。バンクデコーダ72からは、アドレスバス51bお
よび51cを介して、デコードされたバンクアドレスB
0〜B7が各メモリセルブロックに伝達される。
【0056】バンクアドレスB0〜B7は、データ入力
端子DQ0〜DQ15に対応して設けられるメモリセル
ブロックのいずれか1つと、データ入出力端子DQ16
〜DQ31に対応して設けられるメモリセルブロックの
いずれか1つの合計2つのメモリセルブロックを活性化
する。
【0057】一方、アドレス信号入力端子群62に与え
られるその他の外部アドレス信号は、アドレスバス50
aおよび50bを介して、アドレスドライバ52に伝達
される。アドレスドライバ52からさらに、アドレスバ
ス50cを介してアドレス信号は各メモリセルブロック
に伝達される。
【0058】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、メモリセルブロックの対ごとに設けられ、コントロ
ール回路70の制御の下に、アドレスバス50cにより
伝達されたロウアドレスをラッチし、プリデコードする
ロウプリデコーダ36と、ロウプリデコーダ36からの
出力をもとに選択されたメモリセルブロックの対応する
行(ワード線)を選択するロウデコーダ44と、メモリ
セルブロックごとに設けられ、コントロール回路70の
制御の下に、アドレスバス50cにより伝達された列ア
ドレスをラッチし、プリデコードするコラムプリデコー
ダ34と、コラムプリデコーダ34からの出力を伝達す
るコラムプリデコーダ線40と、コラムプリデコーダ線
40からの出力をもとに選択されたメモリセルブロック
の対応する列(ビット線対)を選択するコラムデコーダ
42とを含む。
【0059】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、チップ中央部の長辺方向に沿う領域であって、外部
制御信号入力端子群60およびアドレス信号入力端子群
62が設けられる領域の外側に、それぞれ配置されるデ
ータ入力端子DQ0〜DQ15およびDQ16〜DQ3
1と、データ入出力端子DQ0〜DQ31にそれぞれ対
応して設けられる入出力バッファ回路64a〜64f
と、入出力バッファと対応するメモリセルブロックとの
間でデータの伝達を行なうデータバス54と、メモリセ
ルブロック100a〜100pにそれぞれ対応して設け
られ、データバス54と選択されたメモリセル列との間
でデータの授受を行なうリード/ライトアンプ38とを
含む。
【0060】外部制御信号入力端子群60へ与えられる
信号/RASは、同期型半導体記憶装置1000の内部
動作を開始させ、かつ内部動作の活性期間を決定するロ
ウアドレスストローブ信号である。この信号/RASの
活性化に応じて、ロウデコーダ44等のメモリセルアレ
イ100の行を選択する動作と関連する回路は活性状態
とされる。
【0061】外部制御信号入力端子群60へ与えられる
信号/CASは、コラムアドレスストローブ信号であ
り、メモリセルアレイ100における列を選択する回路
を活性状態とする。
【0062】外部制御信号入力端子群60へ与えられる
信号/CSは、この同期型半導体記憶装置1000が選
択されることを示すチップセレクト信号であり、信号/
WEは、同期型半導体記憶装置1000の書込動作を指
示する信号である。
【0063】信号/CS、信号/RAS、信号/CAS
および信号/WEの取込動作は、内部クロック信号CL
K(in)に同期して行なわれる。
【0064】また、アドレス信号入力端子群62に与え
られるアドレス信号の取込動作も内部クロック信号CL
K(in)に同期して行なわれる。
【0065】[非同期の概念の説明]本発明は、入出力
回路において内部と外部が非同期で動作できるようにす
るものであるが、具体的な構成を説明する前に、非同期
の概念について簡単に説明する。
【0066】図3は、非同期の概念を説明するための動
作波形図である。図3を参照して、外部から入力される
クロックCLKは同期型半導体記憶装置内部のメモリア
レイにデータを読み書きする基準となる。
【0067】時刻t1において、外部からライトコマン
ドが入力される。ライト時には、同期型半導体記憶装置
は外部からデータと同期して入力される信号DQSのタ
イミングに従いデータを取込む。時刻t2において、信
号DQSの立上がりに応じてデータ入出力端子DQに入
力されたデータD1が取込まれ入出力回路部に設けられ
たライト用のラッチに書込まれる。同様に、時刻t3、
t4、t5においてはそれぞれデータD2、D3、D4
がそれぞれ信号DQSの変化するタイミングでライト用
のラッチに取込まれる。
【0068】時刻t6において、ライト用のラッチに取
込まれていたデータD1、D2はクロックCLKの立上
がりに応じてメモリアレイに書込まれる。次に時刻t7
において、ライト用ラッチに取込まれていたデータD
3、D4はメモリアレイに書込まれる。
【0069】時刻t8においてバーストライトが終了し
ライト用のラッチはリセットされる。
【0070】同じく時刻t8において、外部よりリード
コマンドが入力される。時刻t8〜t9の間にクロック
CLKをもとに内部で生成される内部クロックに従っ
て、メモリアレイ部に書込まれていたデータD5、D6
は入出力回路部のリード用のラッチに伝達される。続い
て時刻t9〜t10において、同様にクロックCLKを
もとに内部で生成される内部クロックに従ってメモリア
レイに書込まれていたデータD7、D8が入出力回路部
のリード用のラッチに伝達される。読出時には、入出力
回路部のラッチに保持されているデータは、半導体記憶
装置外部に接続されるシステムがデータを必要とするタ
イミングにて出力され、このタイミングに応じた信号D
QSを同期型半導体記憶装置は外部システムに向かって
送出する。
【0071】時刻t11〜t15の間で信号DQSの変
化に合わせ外部に対しデータD5〜D8が順次出力され
る。
【0072】この場合、図3に示すようにデータを出力
するタイミングは外部から入力されるクロックCLKと
同期されているとは限らない。
【0073】時刻t15においてバーストリードが終了
しリード用のラッチがリセットされる。
【0074】以上説明したように、同期型半導体記憶装
置は、外部から入力されるクロックCLKをもとに内部
で生成される内部クロックに従ってメモリアレイに対し
てデータを読み書きする。一方、外部とのデータの授受
の際には、同期型半導体記憶装置は、外部に接続される
システムの仕様に合せたタイミングを示す信号DQSに
対応してラッチ部にデータを取込んだりラッチ部からデ
ータを送出したりする。
【0075】[入出力回路部の詳細な構成の説明]図4
は、各バンクと各入出力回路の接続を説明するための概
略図である。
【0076】図4は、図2で説明した同期型半導体記憶
装置のバンク100a〜100dとデータ入出力端子D
Q0〜DQ15部分の入出力回路との接続を示している
ためチップの左半分のさらに上半分の256Mビット分
の領域を拡大して示している。図4を参照して、バンク
100aと100bはメインワードドライバMWDを挟
んでそれぞれ偶数アドレスに対応する領域100abe
と奇数アドレスに対応する領域100aboに分割され
ている。
【0077】ダブルデータレート方式では、内部クロッ
クの2倍の周波数でデータを出力する必要がある。この
ように分割することで、奇数アドレスと偶数アドレスに
対応するデータを同時にアクセスすることが可能とな
り、2倍の周波数でのデータ出力動作を容易にしてい
る。
【0078】ただし、これは必ずしも必要条件ではな
い。第1番目に出力するデータのアドレスが奇数が偶数
かで対応する領域のアクセスのタイミングを早めにし、
第2番目にアクセスする領域のアクセスのタイミングを
遅めにすることでも実現は可能である。この方式によ
り、大きな電流ピークが生じるのを防止することもでき
る。ただしアクセスされるアドレスの最初が偶数の場合
と奇数の場合とでアクセスするタイミングの位相を変え
なくてはいけないため、動作の制御は複雑なものとな
る。
【0079】1つのバンクの中の、偶数アドレスの領域
からのデータと奇数アドレスの領域からのデータが同じ
DQ部分に入力される。
【0080】たとえば、データ入出力端子DQ0に対応
して設けられる入出力回路64aには、偶数アドレス領
域100abe、100cdeからデータを読出すリー
ドアンプ102、データを書込むライトアンプ122が
接続されている。入出力回路64aにはさらに、奇数ア
ドレス領域100abo、100cdoからデータを読
出すリードアンプ104、データを書込むライトアンプ
124が接続される。
【0081】データ入出力端子DQ1〜DQ15につい
ても対応して入出力回路が設けられ各々の入出力回路に
は奇数アドレス領域および偶数アドレス領域のリードア
ンプおよびライトアンプが接続される。
【0082】図5は、メモリバンクからデータがデータ
入出力端子DQ0に出力される流れを説明するための図
である。
【0083】バンクの奇数領域のデータが読出される場
合、リードアンプ104によってメモリセルアレイから
読出されたデータがリードデータバスRDBOに出力さ
れる。マルチプレクサ110によってこのデータが選択
され、ラッチ112に一旦保持された後マルチプレクサ
114、出力バッファ116を介して端子に出力され
る。偶数領域からデータを読出す場合は、リードアンプ
102からリードデータバスRDBEを介してマルチプ
レクサ110にデータが与えられる。
【0084】図6は、データ入出力端子DQ0からバン
クへデータが書込まれる流れを説明するための図であ
る。
【0085】図6を参照して、奇数アドレスにデータを
書込む場合は端子から入力されたデータは、入力バッフ
ァ136、デマルチプレクサ134、ラッチ132、デ
マルチプレクサ130を介してライトデータバスWDB
Oに出力され、ライトアンプ124によってメモリアレ
イへと伝達される。偶数アドレスにデータを書込む場合
も同様にデマルチプレクサ130からライトデータバス
WDBEを介してライトアンプ122にデータが伝達さ
れ増幅されてメモリアレイへと伝達される。
【0086】図7は、データ入出力端子DQ0〜DQ1
5の部分の構成の概略を示す図である。
【0087】図7を参照して、データ入出力端子DQ0
〜DQ15は順に並んで配置され、それぞれに対応して
ラッチを含む入出力回路が設けられている。入出力回路
にはリードデータバスRDBおよびライトデータバスW
DBが接続される。このリードデータバスとライトデー
タバスは共通にする場合もある。
【0088】図示しないが、データ入出力端子DQ16
〜DQ31についても同様に入出力回路が設けられてい
る。
【0089】図8は、図7に示したデータ入出力端子D
Q0〜DQ3に対応する部分を拡大して示した図であ
る。
【0090】図8を参照して、データ入出力端子に対応
して設けられる入出力回路はリードデータバスRDBの
データを受取るレシーバ142、143と、レシーバ1
42、143のデータを受けいずれのレシーバのデータ
を先に出力するかに応じてデータを振り分けるマルチプ
レクサ144と、マルチプレクサ144からデータを与
えられ、CASレイテンシ後の奇数クロックエッジでデ
ータを出力する4データ分のラッチ148と、マルチプ
レクサ144からデータを与えられ、CASレイテンシ
後の偶数クロックエッジでデータを出力する4データ分
のラッチ146と、ラッチ148、146から出力され
たデータを増幅し端子に出力する出力バッファ150を
含む。
【0091】この入出力回路は、さらに、入出力端子D
Q0に外部から与えられたデータを増幅する入力バッフ
ァ152と、入力バッファ152が出力するデータをク
ロックの立上がりエッジでラッチする4データ分のラッ
チ156と、入力バッファ152を出力するデータをク
ロックの立下がりエッジで取込む4データ分のラッチ1
54と、入力データ用のラッチ154、156に取込ま
れたデータを内部に伝達する際にアドレスに応じて偶数
アドレス用データバスと奇数アドレス用データバスのい
ずれかにデータを分配するためのマルチプレクサ158
とを含む。マルチプレクサ158の出力は偶数アドレス
用ライトデータバスと奇数アドレス用ライトデータバス
を含むライトデータバスWDBに接続される。
【0092】図9は、同期型半導体記憶装置1000が
入出力回路部を通してデータを授受する概略を説明する
ための図である。
【0093】図9を参照して、信号CLKは外部から与
えられるクロック信号であり、信号CLK(ctr)は
クロック信号CLKをもとに内部で発生されメモリアレ
イの動作の基準となる内部クロックであり、信号/C
S、/RAS、/CAS、/WEは同期型半導体記憶装
置1000にコマンドを認識させるための制御信号であ
る。
【0094】信号L−DQは、データ入出力端子の下位
ビット側つまりデータ入出力端子DQ0〜DQ15に入
出力されるデータ信号であり、信号U−DQはデータ入
出力端子の上位ビット、すなわちデータ入出力端子DQ
16〜DQ31に入出力されるデータ信号を示す。
【0095】信号64−ARRAYは、入出力回路部と
内部のメモリアレイとのデータの入出力をするデータバ
ス上の信号を示す。ここで信号L−Evenは、データ
の下位ビット側の偶数アドレスに相当する領域からのデ
ータを示し、信号L−Oddは、データの下位ビット側
の奇数アドレスに相当する領域からのデータを示す。
【0096】時刻t1において、アクティブコマンド
(ACT)が入力され、時刻t2においてライトコマン
ド(WRITE)が入力される。
【0097】時刻t3以降、データ入出力端子DQ0〜
DQ31にクロックCLKの2倍のデータレートでバー
スト長8の連続データが入力される。
【0098】時刻t3におけるクロックの立上がりエッ
ジと次の立下がりエッジで2データが入出力回路に取込
まれ、時刻t4以降順次メモリアレイへと出力される。
このとき32ビットで外部より入力されたデータは周波
数が2分の1に落とされビット数が2倍に増えた64デ
ータとなり、この64データが一度にメモリアレイに書
込まれる。バースト長8の32ビットのデータは、つま
り、内部クロックCLK(ctr)に同期した64ビッ
トの4データになり内部メモリアレイに書込まれる。
【0099】時刻t5では、リードコマンドが入力され
内部のメモリアレイから64ビットのデータが同時に読
出され、時刻t6以降32ビットのダブルデータレート
のデータが半導体記憶装置から外部へ出力される。
【0100】図10は、実施の形態1に用いられる入出
力回路64の構成を示す回路図である。
【0101】図10を参照して、アドレスバスEVEN
0は、バンク0〜バンク3の偶数アドレス領域に接続さ
れるデータバスであり、アドレスバスODD0は、バン
ク0〜バンク3の奇数アドレス領域に接続されるデータ
バスである。また、アドレスバスEVEN1は、バンク
4〜バンク7の偶数アドレス領域に接続されるデータバ
スであり、アドレスバスODD1は、バンク4〜バンク
7の奇数アドレス領域に接続されるデータバスである。
【0102】入出力回路64は、選択されたバンクおよ
び出力する最初のデータに相当するアドレスの偶数奇数
に応じてアドレスバスEVEN0、ODD0、EVEN
1およびODD1のうちいずれか1つを選択しアドレス
バスから伝達されたデータをレシーバ活性化信号R−E
Nに応じて出力するレシーバ142、143と、リード
クロックRCLK(ctr)でシフト動作を行ないセレ
クト信号を出力するシフトレジスタ162と、シフトレ
ジスタ162の出力するセレクト信号に応じてそれぞれ
レシーバ142、143が出力するデータを内部に取込
むラッチ146、148を含む。
【0103】入出力回路64は、さらに、DLL回路で
生成されたクロックDLLをもとに生成される間引きク
ロックDLLe、DLLoを受けてCASレイテンシお
よびモードレジスタの設定に応じてデータ出力用クロッ
クCK1、CK2として入出力回路内部に伝達するスイ
ッチ166と、出力クロックCK2に応じてデータをシ
フトするシフトレジスタ164と、出力クロックCK1
に応じてデータをシフトするシフトレジスタ172とを
含む。ラッチ146、148はそれぞれシフトレジスタ
172、164の出力に応じてラッチしたデータを選択
し出力する。
【0104】入出力回路64は、さらに、イネーブル信
号OEによって活性化されデータを端子DQ0に対して
出力する出力バッファ150と、出力クロックCK1の
活性化に応じてラッチ148の出力を出力バッファ15
0に与えるスイッチ168と、出力クロックCK2の活
性化に応じてラッチ146の出力を出力バッファ150
に与えるスイッチ170とを含む。
【0105】入出力回路64は、さらに、端子DQ0に
外部から入力されたデータを入力として受けてイネーブ
ル信号WEに応じて増幅する入力バッファ152と、外
部から入力されるストローブ信号に応じて内部で生成さ
れる信号FETCHe、FETCHoにそれぞれ応じて
入力バッファ152の出力を内部に伝達するスイッチ1
76、178と、信号FETCHoをシフトクロックと
して受けセレクト信号を出力するシフトレジスタ174
と、信号FETCHeをシフトクロックとして受けセレ
クト信号を出力するシフトレジスタ180と、シフトレ
ジスタ174が出力するセレクト信号に応じて、スイッ
チ176を介して伝達された信号を取込むラッチ156
と、シフトレジスタ180が出力するセレクト信号に応
じてスイッチ178が伝達する信号を取込むラッチ15
4とを含む。
【0106】入出力回路64は、さらに、ライトクロッ
クWCLK(loc)をシフトクロックとして受けセレ
クト信号を出力するシフトレジスタ182と、シフトレ
ジスタ182が出力するセレクト信号に応じてラッチ1
54、156が出力するデータを受けるバスドライバ1
58とをさらに含む。バスドライバ158は受けたデー
タを書込むバンクおよび最初に外部より受け取ったデー
タを書込むアドレス(ファーストアドレス)が偶数であ
るか奇数であるかに応じてデータバスEVEN0、OD
D0、EVEN1、ODD1にデータを分配して出力す
る。
【0107】動作を簡単に説明すると、バンク0〜バン
ク3の偶数アドレス領域、奇数アドレス領域からくるデ
ータまたはバンク4〜バンク7の偶数アドレス領域、奇
数アドレス領域からくるデータのいずれかがレシーバ1
42、143の入力部に設けられた4点スイッチ部分で
区別され、取込まれる。
【0108】ここにはバンクの上位(4−7)/下位
(0−3)を区別する信号と、バースト読出時の最初の
アドレスが偶数アドレスか奇数アドレスかを示す信号が
入力される。レシーバ143、ラッチ148、スイッチ
168の設けられている経路が最初に出力されるデータ
の経路でありレシーバ142、ラッチ146、スイッチ
170の設けられている経路が2番目のデータが出力さ
れる経路である。レシーバ143、142の入力部のス
イッチを経たデータはアンプで増幅されラッチ148、
146の入力部のセレクタ部分に転送される。ここで、
セレクタはラッチに含まれる4経路のうち1つを選択す
る。この経路の選択は、セレクト信号をラッチに入力す
るシフトレジスタ162に与えられるリード用の内部ク
ロックRCLK(ctr)に応じて順次シフトされ、入
力されてきたデータは順次ラッチされる。
【0109】ラッチに格納されたデータは、ラッチに入
力されたときのクロックと異なるクロックを基準として
出力される。出力側のクロックDLLe、DLLoに応
じてシフト動作を行なうシフトレジスタ164、172
が出力するセレクト信号によって順次、ラッチの出力側
の選択経路がシフトする。出力データのうち奇数番目に
出すデータがラッチ148に格納されており、偶数番目
に出力するデータがラッチ146に格納されている。し
たがって、リードコマンドを認識したリードクロックR
CLK(ctr)からデータを外部に出力するまでのレ
イテンシにより、クロックDLLeとクロックDLLo
のいずれがスイッチ168に制御信号として入力される
かが決まり、スイッチ170には他方のクロックが制御
信号として入力される。たとえば、レイテンシが、1.
5ならばクロックDLLoがスイッチ168に制御信号
として入力され、クロックDLLeがスイッチ170の
制御信号として入力される。
【0110】ライト時には、外部より最初に入力される
データは無条件にラッチ156に転送され、次に入力さ
れるデータは無条件にラッチ154に転送され、以降ラ
ッチ156、154に交互にデータが転送される。
【0111】ラッチされたデータは、ライト用の内部ク
ロックWCLK(loc)に応じてバスドライバ158
に伝達される。バスドライバ158はバンクアドレスと
バーストデータの最初のアドレスに応じて対応するデー
タバスにデータを出力する。
【0112】図10では入出力回路の回路構成を示した
が、ライト時にデータマスクとして用いるデータの入力
部に関しても、同型回路を用いて同じマージンで動作さ
せることも考えられる。この場合には、データの入力側
の回路のみでよいが、容量バランスをとるために出力系
の回路も動作はさせないものの、ダミー配置させる場合
がある。
【0113】データの出力に関するストローブ端子につ
いても同様である。この場合には、データの出力側の回
路のみでよいが、容量バランスをとるために入力系回路
も動作はさせないものの、ダミー配置させる場合があ
る。
【0114】また、両者を1つに兼ねる場合もある。出
力データのストローブとライトマスクデータの入力とは
衝突することがない場合には同じバスを利用できる。こ
の場合には、データ入出力端子DQに用いられる入出力
回路と同じ回路構成で、出力側に出力データのストロー
ブの回路を割当て、入力側にライトマスクデータの回路
を割当てることができる。
【0115】図11は、図10に示したリード時にデー
タを保持するラッチ148の構成を示す回路図である。
【0116】図11を参照して、ラッチ148は、メモ
リアレイから読出されるデータRINを受けて内部に取
込み保持し、出力信号ROUTとして出力する4つのラ
ッチ148a〜148dを含む。ラッチ148aは、入
力信号RINを選択信号SELAの活性化に応じて内部
ノードN1に与えるPチャネルMOSトランジスタ19
2と、ソースが電源電位に結合されゲートがノードN1
に接続されドレインがノードN2に接続されたPチャネ
ルMOSトランジスタ194と、ゲートがノードN1に
接続されソースがノードN3に接続されドレインがノー
ドN2に接続されたNチャネルMOSトランジスタ19
6と、セレクト信号SELBの活性化に応じてノードN
2の電位を出力信号ROUTとしてラッチ外部に与える
NチャネルMOSトランジスタ198と、入力にノード
N2、N4が接続され出力がノードN1に接続されたN
OR回路200とを含む。
【0117】ラッチ148b、148c、148dは1
48aと同様の構成を有するので説明は繰返さない。
【0118】ラッチ148は、さらに、ラッチ148a
〜148dに共通して設けられリードフラグREAD
(FLAG)の活性化に応じてノードN3を接地電位と
結合するNチャネルMOSトランジスタ202と、リー
ドフラグREAD(FLAG)が非活性化時に反転して
リセット信号を出力しノードN4に与えるインバータ2
04をさらに含む。
【0119】ラッチ内部に使用されるトランジスタ19
4、196は低電圧で高速動作させるためしきい値電圧
の低いものが使用され、リード動作が行なわれていない
ときにトランジスタ194、196に流れるサブスレッ
ショルド電流を抑えるためにNチャネルMOSトランジ
スタ202にはしきい値電圧の高いトランジスタが使用
される。
【0120】図10におけるラッチ146もラッチ14
8と同様の構成を有するので説明は繰返さない。
【0121】図12は、図10に示したデータ書込時に
データを保持するラッチ回路156の構成を示す回路図
である。
【0122】図12を参照して、ラッチ回路156は、
データ入出力端子に入力されるデータ信号WINを受け
て保持しさらにメモリアレイに向けて出力信号WOUT
として出力する4つのラッチ156a〜156dを含
む。
【0123】ラッチ156aは、入力信号WINを選択
信号SELCの活性化に応じてノードN5に与えるPチ
ャネルMOSトランジスタ212と、ノードN5がゲー
トに接続されソースが電源電位に結合されドレインがノ
ードN6に接続されたPチャネルMOSトランジスタ2
14と、ゲートがノードN5に接続されドレインとソー
スがそれぞれノードN6、N7に接続されるNチャネル
MOSトランジスタ216と、選択信号SELDの活性
化に応じてノードN6の電位を出力信号WOUTとして
与えるNチャネルMOSトランジスタ218とを含む。
ラッチ156aは、さらに、ノードN6、N8が入力に
接続され出力がノードN5に接続されたNOR回路22
0を含む。
【0124】ラッチ156b、156c、156dはラ
ッチ156aと同様の構成を有するため説明は繰返さな
い。
【0125】ラッチ156は、さらに、ラッチ156a
〜156dに共通して設けられライトフラグWRITE
(FLAG)の活性化に応じてノードN7を接地電位に
結合するNチャネルMOSトランジスタ222と、ライ
トフラグWRITE(FLAG)が非活性化時に反転し
ノードN8にリセット信号として与えるインバータ22
4を含む。
【0126】ラッチ内部に使用されるトランジスタ21
4、216は低電圧で高速動作させるためしきい値電圧
の低いものが使用され、ライト動作が行なわれていない
ときにトランジスタ214、216に流れるサブスレッ
ショルド電流を抑えるためにNチャネルMOSトランジ
スタ222にはしきい値電圧の高いトランジスタが使用
される。
【0127】図10におけるラッチ154もラッチ15
6と同様の構成を有するので説明は繰返さない。
【0128】図11、図12を参照して、ラッチ14
8、156はリセット信号により動作していないときに
はラッチの入力側がLレベルに、出力側がHレベルにリ
セットされる。このため、トランスファゲートとして使
用しているMOSトランジスタの導電型を変えている。
【0129】トランスファゲート用のMOSトランジス
タは動作スピードの高速化のため、低いしきい値電圧の
ものを使用する。入力ノードがLレベルとなるためラッ
チの入力側にはPチャネル型のトランジスタを使用し、
出力ノードがHレベルのため出力側にはNチャネル型の
トランジスタを使用する。このとき、スタンドバイ時の
ラッチのノード電位に対するゲート電位つまりゲート−
ソース間電圧が負となることでそれぞれのトランジスタ
はしきい値電圧が低くともリーク電流が発生しにくい。
(図示しないが、前後の回路部によりリセット時の出力
ノードおよび入力ノードは制御されている。) 以上説明したようにデータの読出、書込時におけるバー
スト動作の終了時にラッチをリセットし、インバータ部
の接地側に共通して設けられたしきい値電圧の高いNチ
ャネルMOSトランジスタによって接地電位とインバー
タを分離することにより待機時のサブスレッショルド電
流を小さく抑えることができる。
【0130】図11、12では、NOR回路によってイ
ンバータの入力ノードがL(ロウ)レベルにリセットさ
れる例を示したがH(ハイ)レベルにリセットされても
よい。その場合はインバータの電源ノード側にしきい値
電圧の絶対値の大きいPチャネルMOSトランジスタが
設けられ、ラッチにデータを入出力するトランスファゲ
ートのMOSトランジスタの導電型はリセット論理に応
じて選択される。
【0131】図13は、図10に示したシフトレジスタ
162の構成を示す回路図である。図13を参照して、
シフトレジスタ162は、リードフラグREAD(FL
AG)、リセット信号RESET、内部信号CO2、内
部信号CO11を受け、内部信号CO1を発生するパル
ス発生回路501と、内部信号CO1を入力ノードDに
受け出力ノードQから内部信号CO2を出力するフリッ
プフロップ514と、内部信号CO2を入力ノードDに
受け出力ノードQから内部信号CO3を出力するフリッ
プフロップ516と、内部信号CO3を入力ノードDに
受け出力ノードQから内部信号CO4を出力するフリッ
プフロップ518と、内部信号CO4を入力ノードDに
受け出力ノードQから内部信号CO11を出力するフリ
ップフロップ512と、内部信号CO1、CO2、CO
3、CO4およびクロック信号SCLKを受けセレクト
信号C1、C2、C3、C4を出力する出力回路519
とを含む。
【0132】フリップフロップ512、514、51
6、518のクロックノードCKにはシフトクロックと
してクロック信号SCLKが入力されリセット入力ノー
ドRにはリセット信号RESETが入力される。
【0133】パルス発生回路501は、リードフラグR
EAD(FLAG)を一方の入力に受けるNOR回路5
02と、NOR回路502の出力とリセット信号RES
ETと内部信号CO2とを入力に受けNOR回路502
の他方の入力ノードに否定和を出力する3入力のNOR
回路504と、NOR回路502の出力を受けて反転す
るインバータ506と、インバータ506の出力と内部
信号CO11とを受けるNOR回路508と、NOR回
路508の出力を受けて反転し内部信号CO1を出力す
るインバータ510とを含む。
【0134】出力回路519は、内部信号CO1とクロ
ック信号SCLKとを受けるNAND回路520と、N
AND回路520の出力を受けて反転しセレクト信号C
1を出力するインバータ522と、内部信号CO2とク
ロック信号SCLKを受けるNAND回路524と、N
AND回路524の出力を受けて反転しセレクト信号S
2を出力するインバータ526と、内部信号CO3とク
ロック信号SCLKとを受けるNAND回路528と、
NAND回路528の出力を受けて反転しセレクト信号
S3を出力するインバータ530と、内部信号CO4と
クロック信号SCLKとを受けるNAND回路532
と、NAND回路532の出力を受けて反転しセレクト
信号S4を出力するインバータ534とを含む。
【0135】図14は、図13に示したフリップフロッ
プ512の構成を示す回路図である。
【0136】図14を参照して、フリップフロップ51
2は、クロックノードCKが入力に接続されるインバー
タ570と、インバータ570の出力を受けて反転する
インバータ572と、入力ノードDが入力に接続される
インバータ542と、インバータ542の出力ノードと
ノードNF1との間に並列に接続されるPチャネルMO
Sトランジスタ544およびNチャネルMOSトランジ
スタ546と、ノードNF1とリセット入力ノードRと
が入力に接続されるNOR回路548と、NOR回路5
48の出力を受けて反転するインバータ550と、イン
バータ550の出力ノードとノードNF1との間に並列
に接続されるPチャネルMOSトランジスタ554およ
びNチャネルMOSトランジスタ552とを含む。
【0137】PチャネルMOSトランジスタ544のゲ
ートおよびNチャネルMOSトランジスタ552のゲー
トはインバータ570の出力を受ける。NチャネルMO
Sトランジスタ546のゲートおよびPチャネルMOS
トランジスタ554のゲートはインバータ572の出力
を受ける。
【0138】フリップフロップ512は、さらに、NO
R回路548の出力ノードとノードNF2との間に並列
に接続されるPチャネルMOSトランジスタ556およ
びNチャネルMOSトランジスタ558と、ノードNF
2が入力に接続されるインバータ560と、インバータ
560の出力ノードとリセット入力ノードRとが入力に
接続されるNOR回路562と、NOR回路562の出
力ノードとノードNF2との間に並列に接続されるPチ
ャネルMOSトランジスタ564およびNチャネルMO
Sトランジスタ566と、インバータ560の出力を受
けて反転し出力ノードQに反転結果を出力するインバー
タ568とを含む。
【0139】PチャネルMOSトランジスタ556のゲ
ートとNチャネルMOSトランジスタ566のゲートは
インバータ572の出力を受ける。NチャネルMOSト
ランジスタ558のゲートとPチャネルMOSトランジ
スタ564のゲートはともにインバータ570の出力を
受ける。
【0140】図13に示したフリップフロップ514、
516、518もフリップフロップ512と同様の構成
を有するので説明は繰返さない。
【0141】次にシフトレジスタ162の動作を簡単に
説明する。まず初期状態においてはリセット信号RES
ETによりフリップフロップ512〜518が保持して
いるデータはクリアされる。次にリードフラグREAD
(FLAG)が入力されると内部信号CO1がHレベル
に立上がる。
【0142】そしてクロック信号SCLKが入力される
とこの内部信号CO1がフリップフロップ514に取込
まれ内部信号CO2がHレベルに立上がる。同時にパル
ス発生回路501は内部信号CO2によってリセットが
かかり内部信号CO1はLレベルに立下がる。以降は内
部信号CO2のHレベルがフリップフロップ516、5
18、512、514によって順次伝達される。つまり
内部信号CO1、CO2、CO3、CO4のいずれか1
つがHレベルであり、このHレベルとなった信号はクロ
ック信号SCLKのエッジに同期して順次シフトするこ
とになる。
【0143】内部信号CO1、CO2、CO3、CO4
は1クロック周期の幅を有するパルスであるので、出力
回路519によってクロック信号と論理積をとることに
よりセレクト信号C1、C2、C3、C4にはクロック
信号SCLKのパルス幅を有する信号出力され、この信
号は順次シフトされることになる。
【0144】図10に示したシフトレジスタ164、1
72、174、182、180もシフトレジスタ162
と同様の構成を有するので説明は繰返さない。
【0145】[実施の形態1における読出テスト]実施
の形態1において説明した、入出力回路を備える場合に
おける動作テスト時のデータの読出について説明する。
【0146】動作テスト時にテスタ装置に接続する観測
用端子の数を少なくし、かつ観測するデータレートを落
とすことができれば性能の低いテスタ装置でも測定可能
になり検査コストを下げることができる。
【0147】図15は、実施の形態1におけるデータの
読出テストの概念を説明するための概念図である。
【0148】図15を参照して、入出力回路部には、メ
モリアレイの奇数アドレス領域からのデータを受ける一
致検出回路MAT1と、一致検出回路MAT1の出力を
受けるラッチL1と、メモリアレイの偶数アドレス領域
からのデータを受ける一致検出回路MAT2と、一致検
出回路MAT2の出力を受けるラッチL2と、ラッチL
1、L2の出力を受けクロック信号に応じてラッチL
1、L2からのデータを交互に出力するマルチプレクサ
MPXと、マルチプレクサMPXの出力を受けて増幅し
端子DQiに出力するバッファ回路OBUFとが設けら
れる。
【0149】図16は、図15に対応したより詳しい入
出力回路641の構成を示す回路図である。
【0150】図16を参照して、この入出力回路641
は、レシーバ143、142の出力を受け縮退処理をし
ラッチ148、146にそれぞれ出力する一致検出回路
230をさらに含み、ラッチ156、154の出力をテ
スト時に他の端子に対応して設けられる入出力回路に対
して与える出力回路232とをさらに含む点が、図10
に示した入出力回路64と異なる。他の構成は入出力回
路64と同様であるので説明は繰返さない。
【0151】一致検出回路230は、信号ODQ0a〜
ODQ3aを受けるEXOR回路234と、通常動作時
には信号ODQ0aをラッチ148に与え、テスト動作
時にEXOR回路234の出力をラッチ148に与える
切換回路236と、信号ODQ0b〜ODQ3bを入力
に受けるEXOR回路238と、通常動作時には信号O
DQ0bをラッチ146に与え、テスト時にはEXOR
238の出力をラッチ146に与える切換回路240と
を含む。ここで、信号ODQ0a〜ODQ3aは、デー
タ端子DQ0〜DQ3にそれぞれ対応して設けられる入
出力回路64のレシーバ143の出力信号である。ま
た、信号ODQ0b〜ODQ3bは、データ端子DQ0
〜DQ3にそれぞれ対応して設けられる入出力回路64
に含まれるレシーバ142の出力信号である。
【0152】出力回路232は、信号IDQ0aをテス
ト時に信号IDQ1a〜IDQ3aとして与えるスイッ
チ回路242〜244と、信号IDQ0bを信号IDQ
1b〜IDQ3bとして与えるスイッチ回路246〜2
48を含む。
【0153】ここで、信号IDQ0aは、データ端子D
Q0に対応して設けられる入出力回路641のラッチ1
56の出力信号であり、信号IDQ1a〜IDQ3a
は、データ端子DQ1〜DQ3にそれぞれ対応して設け
られる入出力回路64におけるバスドライバ158の入
力信号である。また、信号IDQ0bは、データ端子D
Q0に対応して設けられる入出力回路641が含むラッ
チ154の出力信号であり、信号IDQ1b〜IDQ3
bは、データ端子DQ1〜DQ3にそれぞれ対応して設
けられる入出力回路64におけるバスドライバ158の
入力信号である。
【0154】図17は、実施の形態1のデータ読出テス
トの動作を説明するための動作波形図である。
【0155】図17を参照して、時刻t1において、リ
ードコマンドが入力されデータ入出力端子DQ0、DQ
4、DQ8、DQ12、DQ16、DQ20、DQ2
4、DQ28からそれぞれ読出されたデータが出力され
る。
【0156】時刻t3において、データ入出力端子DQ
0からは、通常動作時においてデータ入出力端子DQ0
〜DQ3に読出される偶数アドレス領域のデータDLE
0が一致回路にて縮退されて出力される。
【0157】0.5クロック後には、データ端子DQ0
からは、同様にデータDQ0〜DQ3に通常時には出力
される奇数アドレス領域のデータDLO0が一致検出回
路にて縮退されて出力される。同様に、他のデータ入出
力端子DQ(4i)からは、データ入出力端子DQ(4
i+1)、DQ(4i+2)、DQ(4i+3)に通常
時に出力されるデータが縮退されて出力される(iは1
〜7の自然数)。以降奇数アドレス領域、偶数アドレス
領域のデータが交互に読出される。
【0158】このような構成とすることで、データ出力
をモニタするために必要なデータ入出力端子の数を減ら
すことができ、半導体記憶装置の検査においてテスタが
使用するチャネル数を減らすことができる。したがっ
て、半導体記憶装置の検査コストを下げることができ
る。
【0159】図18は、実施の形態1における読出テス
トにて不良検出率がさらに改善される構成を示す概念図
である。
【0160】図18を参照して、実施の形態1において
は、一致検出回路MAT1、MAT2に代えて一致検出
回路MAT11、MAT12を含む点が図15に示した
構成と異なる。他の構成は、図15に示した構成と同様
であり説明は繰返さない。
【0161】図19は、図18に示した一致検出回路M
AT11、MAT12の構成を示す回路図である。
【0162】図19を参照して、一致検出回路MAT1
1は、信号ODQ0a〜ODQ3aを受けるEXOR回
路E111と、信号ODQ0a、ODQ8a、ODQ1
2aを受けるEXOR回路E112と、EXOR回路E
111、E112の出力を受けるOR回路E113とを
含む。OR回路E113の出力は図18に示したラッチ
L1に対して出力される。
【0163】一致検出回路MAT12は、信号ODQ0
b〜ODQ3bを受けるEXOR回路E121と、信号
ODQ0b、ODQ4b、ODQ8b、ODQ12bを
受けるEXOR回路E122と、EXOR回路E12
1、E122の出力を受けるOR回路E123とを含
む。OR回路E123の出力は図18に示したラッチL
2に対して出力される。
【0164】ここで、信号ODQiaは、データ入出力
端子DQiに対応して設けられる入出力回路64に含ま
れるレシーバ143の出力信号であり、信号ODQib
は、レシーバ142の出力信号である(i=0〜1
2)。
【0165】実施の形態1の一致検出回路では、たとえ
ば、データ入出力端子DQ0〜DQ3から読出されるデ
ータのすべてが誤った値を出力した場合には、一致を検
出してしまい、正常な読出が実行されたように判定をし
てしまう。
【0166】図19のような回路とすれば、隣接したデ
ータ入出力端子(DQ0〜DQ3)に出力されるデータ
の一致結果が確認され、さらに、隣接していないデータ
端子(DQ0、DQ4、DQ8、DQ12)に出力され
るデータの一致も確認し、両方とも一致が確認された場
合に出力としてLレベルを出力する。したがって、実施
の形態1における一致検出回路よりも誤判定をする確率
が大幅に少なくなる。
【0167】[実施の形態1の変形例1]図20は、実
施の形態1の変形例1における読出テストの概念を示す
概念図である。
【0168】図20を参照して、実施の形態1の変形例
1の場合においては、メモリアレイからの複数の読出デ
ータを受け、一致を検出する一致検出回路MAT3が設
けられ、一致検出回路MAT3の出力がともにラッチL
1、L2に入力される点が図15に示した構成と異な
る。他の構成は図15に示した場合と同様であり説明は
繰返さない。
【0169】図21は、実施の形態1の変形例1におけ
る入出力回路642の構成を示す回路図である。
【0170】図21を参照して、入出力回路642は、
一致検出回路230に代えて、一致検出回路250を備
える点が図16に示した入出力回路641と異なる。他
の点は、入出力回路641と同様であり説明は繰返さな
い。
【0171】一致検出回路250は、信号ODQ0a〜
ODQ3a、ODQ0b〜ODQ3bを受けるEXOR
回路251と、通常動作時には信号ODQ0aをラッチ
148に与え、テスト時にはEXOR回路251の出力
をラッチ148に与える切換回路252と、通常動作時
には信号ODQ0bをラッチ146に与え、テスト動作
時にはEXOR回路251の出力をラッチ146に与え
る切換回路254とを含む。
【0172】図22は、実施の形態1の変形例1におけ
る読出テストの動作を説明するための動作波形図であ
る。
【0173】図21、22を参照して、時刻t11にお
いてリードコマンドが入力された後に時刻t3以降を外
部に対してデータ入出力端子DQ0、DQ4、DQ8、
DQ12、DQ16、DQ20、DQ24、DQ28か
らそれぞれ読出データが出力される。このデータは、E
XOR回路251によってデータ入出力端子DQ0〜D
Q3に対応して出力される偶数アドレス領域のデータお
よび奇数アドレス領域のデータのすべての一致がとられ
た結果が出力される。したがって,図17で説明した場
合よりもデータ出力レートが半分になっている。
【0174】以上のような構成とすることにより、テス
タ装置に接続する観測用端子の数を減らすことができ
る。したがって、1台のテスタ装置により測定できるチ
ップの数を増やすことができ、検査コストを下げること
ができる。また、観測するデータのデータレートを落と
すことができ、性能のさほど高くないテスタ装置でも、
検査することが可能になる。
【0175】[実施の形態1の変形例2]図16に示し
た実施の形態1の入出力回路641の構成では、通常動
作時にデータ入出力端子DQ0〜DQ3に出力されるデ
ータを、テスト時においてEXORで一致を判定して出
力した。しかし、期待値と比較しているわけではなく、
読出データの相互比較を行っているだけであるので、す
べての読出データが誤りであった場合には、EXOR回
路の出力は正常時と同じ値を出力してしまう。
【0176】図23は、実施の形態1の変形例2におけ
るデータ読出テストの概念を示す概念図である。
【0177】メモリアレイからの複数のデータを受ける
一致検出回路MAT4と一致検出回路の出力信号である
DOUTをともに受けるラッチL1,L2と、ラッチL
1、L2を交互に出力するマルチプレクサMPXと、一
致検出回路MAT4の出力信号BENがHレベルのとき
は非活性化されLレベルのときはマルチプレクサMPX
の出力を増幅してデータ入出力端子DQiに出力する出
力バッファOBUFが設けられる。また、データ読出テ
ストを実行する際には、半導体記憶装置外部において、
データ入出力端子DQiは抵抗R11を介して電源電位
と結合され、また、データ入出力端子DQiは、抵抗R
12を介して接地電位と結合される。
【0178】したがって、出力バッファOBUFの出力
がハイインピーダンス状態のときは、入出力端子DQi
の電位レベルは中間電位レベルとなる。
【0179】図24は、図23における一致検出回路M
AT4の構成を示す回路図である。図24を参照して、
一致検出回路MAT4は、信号ODQ0a〜ODQ3
a、ODQ0b〜ODQ3bを受け、それらがすべて一
致状態のときはHレベルを出力し、それ以外の場合はL
レベルを出力するゲート回路E41と、信号ODQ0a
およびゲート回路E41の出力を受けるAND回路E4
2とを含む。
【0180】AND回路E42の出力信号は信号DOU
Tである。また、ゲート回路E41の出力信号は信号B
ENである。
【0181】図25は、実施の形態1の変形例2におけ
る読出テストの説明をするための動作波形図である。
【0182】図23、25を参照して、時刻t1におい
て、リードコマンドが入力されると、応じて、時刻t2
以降において、データ入出力端子DQiから読出結果が
出力される。この読出結果は、メモリアレイからのすべ
てのデータが一致している場合には、一致検出回路MA
T4によりメモリアレイからのデータが出力され、一致
検出回路MAT4がメモリアレイからのデータの一致を
検出しない場合は、出力バッファOBUFがハイインピ
ーダンス状態とされるためデータ入出力端子DQiの電
位レベルは中間レベルとなる。
【0183】時刻t2、t3、t4、t5、t6、t7
における出力の期待値がそれぞれH、L、H、L、H、
Lである場合を考える。
【0184】時刻t2、t3、t5、t7においては、
出力された結果と期待値が一致しており、対応するメモ
リセルが正常に読出を行なったことがわかる。
【0185】時刻t4においては、データ入出力端子D
Qiの電位レベルが中間レベルであるため、図24に示
したアレイから読出されたデータ信号ODQ0a〜OD
Q3a、ODQ0b〜ODQ3bのいずれかが誤ったデ
ータを読出していることが観測できる。
【0186】時刻t6においては、期待値がHであるに
もかかわらず、出力結果がLであり、図24に示した信
号ODQ0a〜ODQ3a、ODQ0b〜ODQ3bの
すべてが誤ったデータ値(Lレベル)を読出したことが
観測できる。
【0187】このような構成とすることにより、読出デ
ータ同士の一致検出回路による判定と、テスタ装置によ
る読出データと外部における期待値との比較という判定
とを二重に行なうことにより、不良検出率をさらに上げ
ることができる。
【0188】[実施の形態1の変形例3]実施の形態1
の変形例3においても、実施の形態1の変形例2の場合
と同様、誤判定の確率を下げ、不良検出率をさらに上げ
る構成を説明する。
【0189】図26は、実施の形態1の変形例3におけ
るデータ読出テストの概念を示す概念図である。
【0190】図26を参照して、実施の形態1の変形例
3においては、メモリアレイからの複数のデータを受け
る一致検出回路MAT5が設けられ、一致検出回路MA
T5の出力信号DOUTを受けるラッチL1と、一致検
出回路MAT5の出力信号DOUT、SINVを受け対
応する値を出力する反転スイッチ回路IVSWと、IV
SWの出力を受けるラッチL2と、ラッチL1、L2の
出力を交互に出力するマルチプレクサMPXと、マルチ
プレクサMPXの出力を増幅し、データ入出力端子DQ
iに出力する出力バッファOBUFとが設けられる。
【0191】図27は、一致検出回路MAT5および反
転スイッチ回路IVSWの構成を示す回路図である。
【0192】図27を参照して、一致検出回路MAT5
は、信号ODQ0a〜ODQ3a、ODQ0b〜ODQ
3bを受け、すべてが一致したときにHレベルを出力
し、一致しない場合はLレベルを出力するゲート回路E
51と、信号ODQ0aおよびゲート回路E51の出力
信号SINVを受け出力信号DOUTを出力するAND
回路E52とを含む。
【0193】反転スイッチIVSWは、出力信号DOU
Tを受けて反転するインバータE53と、出力信号SI
NVを受けて反転するインバータE55と、出力信号S
INVがHレベルのときにインバータE53の出力をラ
ッチL2に与えるNチャネルMOSトランジスタE54
と、インバータE55の出力がHレベルのときに出力信
号DOUTをラッチL2に与えるNチャネルMOSトラ
ンジスタE56とを含む。
【0194】図28は、実施の形態1の変形例3におけ
る読出テストを説明するための動作波形図である。
【0195】図26、図28を参照して、時刻t0にお
いて、リードコマンドが与えられる。応じて、時刻t1
以降データ入出力端子DQiからはデータ読出結果が出
力される。今、時刻t1a、t2a、t3a、t4a、
t5a、t6aに対応するメモリアレイからの出力デー
タの期待値はそれぞれH、H、L、L、H、Hであると
する。
【0196】メモリアレイからのデータ読出値がHレベ
ルであり一致検出回路MAT5が一致を検出した場合
は、ラッチL1にはHがデータとして読込まれ、ラッチ
L2には反転スイッチIVSWによってデータが反転さ
れ、Lがデータとして読込まれる。したがって、外部で
観測すると、データ出力端子DQiにはラッチL1のデ
ータ、ラッチL2のデータの順でデータが出力されるた
め、HレベルからLレベルへと立下がる立下がりエッジ
が観測される。
【0197】メモリアレイからのデータがLレベルの場
合で一致検出回路MAT5が一致を検出した場合には、
逆にLレベルからHレベルへと立上がる立上がりエッジ
が観測される。したがって、時刻t1a、t2aにおい
ては立下がりエッジが観測され、時刻t3a、t4aに
おいては立上がりエッジが観測され、この波形と出力期
待値を比較することによって結果はすべてパスとなる。
【0198】また、一致検出回路MAT5が一致を検出
しない場合は、ラッチL1、L2には同じデータが書込
まれるので、立上がりエッジおよび立下がりエッジは検
出されず、時刻t5aにおいて判定はフェイルとなる。
【0199】また、信号ODQ0a〜ODQ3a、OD
Q0b〜ODQ3bとしてすべて誤ったデータが読出さ
れた場合に、一致検出回路MAT5が一致を検出してし
まった時でも、たとえば、時刻t6aにおけるように比
較値とエッジの立上がりとを比較することにより結果が
フェイルであることが判別可能である。
【0200】したがって、実施の形態1の変形例3にお
いては、不良検出率をさらに向上させることができる。
【0201】[実施の形態2]図29は、実施の形態2
の同期型半導体記憶装置に用いられるテスト結果出力回
路TOCの構成を示す回路図である。
【0202】図29を参照して、テスト結果出力回路T
OCは、メモリアレイから一括して読出される読出結果
信号R0〜Rnを受けるEXOR回路G1と、リセット
信号RESETによって出力がリセットされ、シフトク
ロックSCLKに同期してデータを取込みと保持データ
の出力を行う、直列に接続されるフリップフロップDF
1〜DF9と、フリップフロップDF1〜DF9の出力
を受け、テスト結果出力信号ROUTを出力するEXO
R回路G2を含む。
【0203】フリップフロップDF1〜DF9は、EX
OR回路G1の出力信号RRを受け、シフトクロックS
CLKに同期してシフトするシフトレジスタを構成す
る。このシフトレジスタは、同期型半導体記憶装置がデ
ータ出力する際のバースト長に1を加えた個数のフリッ
プフロップで構成される。
【0204】図30は、テスト結果出力回路TOCの動
作を説明するための動作波形図である。
【0205】図29、図30を参照して、クロック信号
CLKは、外部に接続されるテスト装置から同期型半導
体記憶装置に入力されるクロック信号であり、シフトク
ロックSCLKは、クロック信号CLKに基づいて同期
型半導体記憶装置内部で、たとえばフェーズロックドル
ープ(PLL)回路等によって発生されるクロック信号
である。
【0206】同期型半導体記憶装置のデータ出力は、通
常時においては、シフトクロックSCLKの周期で行な
われる。
【0207】時刻t1において、リセット信号RESE
TがHレベルからLレベルへと立下がる。応じて、フリ
ップフロップDF1〜DF9はリセットが解除され、縮
退されたテスト結果を示す信号RRの取込を開始する。
【0208】読出結果信号R0〜Rnは、複数のデータ
入出力端子に対してそれぞれ出力されるデータ読出結果
である。しかし、たとえば、同時に複数のバンクにデー
タ書込を行ない同時に複数のバンクからデータ読出を行
なうテストモードを備えるような場合には、複数のバン
クからの読出結果であってもよい。
【0209】時刻t1〜t5において、バースト長に相
当する読出結果(この場合は8データ)が連続して読出
される。
【0210】このとき、時刻t2〜t3において、メモ
リセルの一部に欠陥があり、読出結果信号R1が、他の
読出結果信号と異なる出力となった場合、縮退された信
号RRはHレベルとなる。しかし、この信号RRの変化
を検出しようとすると、内部の動作クロックであるSC
LKの周波数に対応可能な試験装置(テスタ)が必要で
ある。性能の低いテスタ装置の場合は、テスタ装置がデ
バイスに与える基本クロックであるクロック信号CLK
の1周期内では、出力信号の観測は1ポイントでしか行
なうことができない。たとえば、時刻t1、t4、t
5、t6の矢印で示すように、クロック信号CLKの立
上がりエッジにおいてのみしかデータ信号の観測をする
ことができない。
【0211】時刻t3において、信号RRはフリップフ
ロップDF1〜DF9によって構成されるシフトレジス
タに取込まれる。応じて、外部にて観測されるテスト結
果出力信号ROUTは、一定期間Hレベルとなる。図2
9に示した回路の場合は、この一定期間は、シフトクロ
ックSCLKの9クロック分となる。この場合は、時刻
t4、t5においてテスト結果出力信号ROUTのHレ
ベルが観測できるので、読出結果に異常が生じたことを
性能の低いテスタでも検知することができる。
【0212】製品の良品/不良品の判別をするだけであ
れば、テスト結果出力信号ROUTがLレベルであるこ
とを観測しているだけでよく、性能の低いテスタにおい
ても同期型半導体記憶装置の良品/不良品の判別ができ
る。
【0213】また、不良品の不良箇所特定のために解析
が必要な場合は、シフトレジスタの出力信号RMONを
テストモードにおいて外部の端子に出力する。RMON
を観測することで、どのタイミングで読出結果信号R0
〜Rnに読出エラーが生じたか解析が可能で、対応する
アドレスを知る手掛かりを得ることができる。
【0214】つまり、実施の形態2の同期型半導体記憶
装置においては、動作確認試験においてメモリアレイか
らの読出結果を連続して出力する場合に、途中で読出に
誤りがあったかどうかを検出し、パルス幅を広げて外部
に出力する。シフトレジスタは初期にリセットされ正常
な場合に対応するデータが格納されており、リードサイ
クルごとに、メモリアレイからの読出データが縮退され
てシフトレジスタに入力される。正常値が入力されてい
る限りは、テスト結果出力信号ROUTはLレベルを保
持するが、読出誤りが生じた場合は、テスト結果出力信
号ROUTはHレベルとなる。
【0215】テスト結果出力信号ROUTの観測は、バ
ースト長に相当するシフトクロックの入力数に対して最
低限1回行なえばよく、この少ない観測回数において
も、同期型半導体記憶装置の良品/不良品の判別は可能
である。不良判定となった場合に、シフトレジスタの出
力信号を観測することで、不良が発生したアドレスを知
る手掛かりを得ることも可能である。
【0216】[実施の形態3]実施の形態3ではBIS
T(Built In Self Test)回路を内
蔵する同期型半導体装置での例を示す。
【0217】図31は、実施の形態3の同期型半導体記
憶装置2100の全体構成を示す概略ブロック図であ
る。
【0218】図31を参照して、同期型半導体記憶装置
2100は、実施の形態1で説明した同期型半導体記憶
装置1000の構成において、データ入出力端子P13
からのデータがラッチされるデータ変換部303からの
データ入力と制御関連の端子P4〜P7およびアドレス
端子群P11、P12から入力されるデータとをマルチ
プレクスして内部ブロックに伝えるマルチプレクサ30
2と、テスト時に外部クロックをうけて外部クロックよ
り周期の短いテスト用クロックTCLKを発生するPL
L回路650と、BIST回路649をさらに含む点が
図1に示した同期型半導体記憶装置1000と異なる。
他の構成は同期型半導体記憶装置1000と同様である
ので説明は繰返さない。
【0219】BIST回路649は、外部からテスト開
始コマンドの入力が与えられると、自動的にテストに必
要なコマンド、アドレス、データ等の信号を生成し同期
型半導体記憶装置の動作テストを実行し、読出データ等
の出力結果からテスト結果の可否を判断しその判断を所
定の出力端子に出力する。
【0220】したがって、BIST回路を内蔵した同期
型半導体記憶装置の動作テストに必要なピンは、テスト
装置との同期を確保するためのクロック端子と、判断結
果の出力に使用するデータ端子のみである。すなわち最
も少ない場合は、テスト時に使用される端子はクロック
端子1ピンとデータ端子1ピンの合計2ピンとなる。
【0221】図32は、同期型半導体記憶装置2100
のBISTを実施する際の入出力バッファを介してのデ
ータ入力を説明するための図である。
【0222】図32を参照して、BISTを実行するパ
ターンジェネレート部PGと、BIST用のテスト手順
を保持するRAM部BRAMと、RAM部BRAMにク
ロックを供給するクロックゲート回路CKGと、データ
バスからRAM部BRAMにデータを取込む入力ゲート
DIGと、BISTモードへの移行指示を検知する検知
回路SVIHDECと、RAM部BRAMに転送するデ
ータ入力するための入出力回路64とが設けられる。B
ISTを実行するための回路ブロックは、パターンジェ
ネレート部PGとRAM部BRAMに分かれている。B
ISTは、RAM部に予め記憶されているデータが読出
されデコードされ、デコード結果に従ったパターンが発
生されることで実行される。
【0223】そこで、まずBIST実行前に、RAM部
BRAMにデータを書込む必要がある。このデータは、
テストシーケンスの内容を所定の数値にコード化したも
のであり、ベクタ形式と呼ばれる形式で表わされてい
る。
【0224】チップの任意の入力ピン(ここではDQ
j、DQk)が所定の組合せであるときに、特定ピン
(ここではDQ0)に電源電位を超える所定の電位が印
加されたことを検知してパターンジェネレート部PGに
BISTの実行フラグを出力する検知回路SVIHDE
Cが設けられる。このフラグの設定に伴って、内部での
テストクロック発生器によるテストクロックTCLKの
発生(同期クロック発生)の動作が開始される(図示せ
ず)。このテストクロックに従ってRAM部BRAMに
BISTのテスト用のベクタとなるデータが書込まれ
る。
【0225】RAM部BRAMは、後に説明するように
シフトレジスタを構成しており、データ入力ゲートDI
Gから入力されたデータが順次内部シフトされていく構
成となっている。したがって、RAM部BRAMに含ま
れるシフトレジスタの数だけのシフトクロックSCKの
サイクル数の期間が経過すると、データのRAM部への
入力が完結する。
【0226】このデータの書込は、所定のデータ入出力
端子DQiから入出力回路64を介して、データバスD
Bに含まれるデータ線DBLiを通じて行なわれる。入
出力回路64の構成は、図10で示した構成と同様であ
るので説明は繰返さない。
【0227】通常動作時は、データ入出力端子DQiか
ら入力されるデータは、外部クロックに同期してラッチ
156、154に取込まれ、内部クロックに同期してデ
ータバスDBにデータが送出される。
【0228】しかし、BISTを実行する際の、初期の
RAM部BRAMへのデータの入力時には、内部クロッ
クを発生させるクロック発生回路が十分安定していな
い。これは、内部クロックの安定化にはクロック発生回
路に外部クロックが一定期間入力されることが必要だか
らである。
【0229】そこで、BIST初期におけるRAM部B
RAMへのデータの入力時には、入出力回路64のラッ
チ回路156、154からデータパスへのデータの送出
は外部クロックに基づいて行なわれる。データバスに出
力されたデータは、外部クロックに基づいて発生された
シフトクロックに応じて、データ入力ゲートDIGを介
して順次RAM部BRAMの内部のシフトレジスタに取
込まれる。
【0230】RAM部BRAM内部のシフトレジスタへ
の一連のデータの入力が終了すると、プログラムカウン
タの順序に従って、RAM部BRAMからデータが読出
され、デコードされてBISTが実行される。図33
は、図32における検知回路SVIHDECに関する構
成を示す回路図である。
【0231】図33を参照して、データ入出力端子DQ
0のレベルが所定の電圧値以上となったことを検知する
高電圧検知回路650と、データ入出力端子DQj〜D
Qkに入力された信号が所定の組合せであるかをデコー
ドするデコード回路667と、高電圧検知回路650の
出力信号/SVCC0とデコード回路667の出力とを
受け、信号/SVCCを出力するOR回路665と、信
号/SVCC0を受けて反転し信号SVCC0を出力す
るインバータ669と、信号/SVCCによりセットさ
れテストが終了したことを示す信号TESTENDによ
ってリセットされるラッチ回路666と、ラッチ回路6
66の出力に応じてカウントを開始し信号QS1、QS
2を出力するとともに、所定の時間後にイネーブル信号
STENを一定期間出力するカウンタ682が設けられ
る。
【0232】高電圧検知回路650は、データ入出力端
子DQ0とノードNVCとの間に直列にダイオード接続
されたNチャネルMOSトランジスタ652、654
と、ソースが接地ノードに接続されゲートとドレインが
接続されるNチャネルMOSトランジスタ658と、N
チャネルMOSトランジスタ658のドレインとノード
NVCとの間に接続されゲートに電源電位Vccが与え
られるPチャネルMOSトランジスタ656と、電源ノ
ードとノードNVDとの間に接続される定電流源662
と、ノードNVDと接地ノードとの間に接続されゲート
がNチャネルMOSトランジスタ658のドレインに接
続されるNチャネルMOSトランジスタ660と、ノー
ドNVDが入力に接続されるインバータ663と、イン
バータ663の出力を受けて反転し高電圧検知信号/S
VCC0を出力するインバータ664とを含む。
【0233】ラッチ回路666は、信号/SVCCを一
方の入力ノードに受けるNAND回路668と、NAN
D回路668の出力と信号TESTENDを受けるNA
ND回路670とを含む。NAND回路670の出力は
NAND回路668の他方の入力に接続される。NAN
D回路668の出力は、BISTフラグBISTFであ
る。
【0234】図34は、RAM部BRAMの構成例を説
明するためのブロック図である。図34を参照して、R
AM部BRAMは、パターンジェネレート部PGに含ま
れるデコーダIDECと読出信号線RL12〜RLnに
よって接続される。また、パターンジェネレート部PG
に含まれるプログラムカウンタPCと選択信号線PC0
〜PCmによって接続される。
【0235】入力部には、BIST開始前のRAM部B
RAMにデータを書込むときのクロックを発生するクロ
ックゲート回路CKGが設けられる。クロックゲート回
路CKGは、外部クロック信号ext.CLKとイネー
ブル信号STENとを受けてデータ取込用のクロック信
号GCKを出力するAND回路CKG1と、外部クロッ
ク信号ext.CLKとイネーブル信号BRAMREと
を受けるAND回路CKG3と、AND回路CKG3の
出力とクロック信号GCKとを受けるOR回路CKG2
とを含む。OR回路CKG2の出力はRAM部BRAM
に含まれるシフトレジスタをシフトするためのシフトク
ロックSCKである。
【0236】データバス線DBLiとRAM部BRAM
との間には、データ入力ゲートDIGが設けられる。デ
ータ入力ゲートDIGは、データ取込用のクロック信号
GCKに応じてデータの取込を行なう。
【0237】RAM部BRAMは、データ入力ゲートD
IGから入力されるデータを受ける直列に接続されたn
個のフリップフロップR♯01〜R♯0nを含む。フリ
ップフロップR♯01〜R♯0nにそれぞれ対応して、
トランスファゲートTG♯01〜TG♯0nが設けられ
る。
【0238】トランスファゲートTG♯01〜TG♯0
nは、信号PC0によって活性化され、それぞれシフト
レジスタR♯01〜R♯0nと読出信号線RL1〜RL
nとを接続する。
【0239】RAM部BRAMは、さらに、フリップフ
ロップR♯0〜nの出力を受ける直列に接続されたn個
のフリップフロップR♯11〜R♯1nと、信号線PC
1によって活性化され、フリップフロップR♯11〜R
♯1nと読出信号線RL1〜RLnとをそれぞれ接続す
るトランスファゲートTG♯11〜TG♯1nとを含
む。
【0240】同様に、RAM部BRAMは、i−1行に
おける最終段のフリップフロップの出力を受ける直列に
接続されたn個のフリップフロップが、i行目に対応し
て設けられる。
【0241】この行は、m行設けられる。シフトレジス
タの最終段であるフリップフロップR♯mnの出力は、
信号RAMOUTとして外部に対して読出が可能なよう
になっている。
【0242】このような構成とすることにより、少ない
端子数でRAMのテストが実行可能である。
【0243】図35は、図34におけるフリップフロッ
プR♯mnおよびトランスファゲートTG♯mnの構成
を示す回路図である。
【0244】フリップフロップR♯mnは、入力信号I
Nを受けて反転するインバータIV1と、インバータI
V1の出力を受けて反転しインバータIV1の入力に与
えるインバータIV2と、インバータIV1の出力とノ
ードND0との間に接続されシフトクロック/SCKを
ゲートに受けるPチャネルMOSトランジスタMP1
と、インバータIV1の出力とノードND0との間に接
続されゲートにシフトクロックSCKを受けるNチャネ
ルMOSトランジスタMN1と、ノードND0に入力が
接続されるインバータIV3と、インバータIV3の出
力を反転してノードND0に出力するインバータIV4
と、インバータIV3の出力と出力ノードNoutとの
間に接続されゲートにシフトクロックSCKを受けるP
チャネルMOSトランジスタMP2と、インバータIV
3の出力と出力ノードNoutとの間に接続され、ゲー
トにシフトクロック/SCKを受けるNチャネルMOS
トランジスタMN2とを含む。
【0245】トランスファゲートTG♯mnは、インバ
ータIV3の出力と読出信号線RLnとの間に接続され
ゲートに信号PCmが与えられるNチャネルMOSトラ
ンジスタMN3を含む。
【0246】RAM部BRAMに設定されるデータは、
通常のデータ入力に使用されるデータバスを兼用してデ
ータ入力端子より入力される。イネーブル信号STEN
は、カウンタ682により発生される。この入ネーブル
信号は、RAM部BRAMに含まれるシフトレジスタの
数だけのクロックパルスをデータ入力ゲートに与える。
カウンタの回数分データが取込まれ順次シフトされるこ
とによりRAM部BRAMへのデータの格納が完了す
る。
【0247】再び、図34を参照して、シフトクロック
SCKは、RAM部BRAMの動作を確認するテストを
実施する際にデータを取出す必要があるため、OR回路
CKG2によって読出テスト実施時にも入力される。
【0248】RAM部のデータは、プログラムカウンタ
PCが出力する信号PC0〜PCmによって選択され、
読出信号線RL1〜RLnを介してデコーダIDECに
送られる。デコーダIDECは、送られてきたデータを
解読して、対応する動作を実行する。
【0249】[BIST実行用回路自身のテスト]図3
6は、BISTを実行するための回路のテストに関する
シーケンスを示す図である。
【0250】図36を参照して、ステップST1におい
てBISTを実施する回路のチェックがスタートする。
次いでステップST2において、BISTを実施するた
めのモードに突入するエントリチェックが行われる。次
いで、ステップST3において、BISTを終了し、テ
ストモードから抜けるためのチェックが行なわれる。
【0251】次いで、ステップST4において、BIS
T用のテスト内容が格納されるRAM部BRAMのチェ
ックが実施される。次いで、ステップST5において、
BISTを実施するための回路のパターンジェネレート
部PGのチェックが行なわれる。
【0252】以上のステップがすべて問題なければ、ス
テップST6においてBISTを実施するためのテスト
回路のテストが完了する。
【0253】このようなテストが実施された後にBIS
Tを実施するための回路を用いてBISTが実施され
る。
【0254】まず、ステップST2およびステップST
3において実行されるエントリチェックおよびモードか
ら抜け出るチェックを実施するための構成について説明
する。
【0255】図37は、エントリテストを実施するため
の構成を説明するためのブロック図である。
【0256】図37を参照して、エントリテストを実施
するために、SVIH検出回路SVIHDECが出力す
る検知信号SVCC0をゲートに受けデータ入力端子D
Qiと接地ノードとの間に接続されるNチャネルMOS
トランジスタMN4が設けられる。データ入出力端子D
Q0に電源電位以上の所定の電圧値が印加されると、検
知信号SVCC0が活性化し、NチャネルMOSトラン
ジスタMN4は導通状態となる。データ入出力端子DQ
iは、テスト時において、外部で負荷抵抗LRに接続さ
れプルアップされているため、通常はHレベルになって
いるが、データ入出力端子DQ0に電源電位を超える所
定の電位が与えられている間は、データ入出力端子DQ
iのレベルはLレベルとなる。
【0257】このレベルを外部で観測することにより、
検知回路SVIHDECが正常に動作しているか否かが
判別可能である。
【0258】さらに、検知回路SVIHDECが高電圧
を検知したことによって選択されるBISTフラグのセ
ットが正常に行なわれたか否かをチェックするために、
BISTフラグが、入出力回路64における出力データ
ラッチ部に書込まれる。このラッチに書込まれたデータ
を読出すことにより、BISTフラグが正常に設定され
たか否かを判別することができる。
【0259】図38は、エントリテストおよびRAM部
へのデータ書込を説明するための動作波形図である。
【0260】図37、図38を参照して、時刻t1にお
いて、任意の端子の組合せ(ここではデータ入出力端子
DQj〜DQkがすべてLレベル)が設定され、データ
入出力端子DQ0の電位が、電源電位Vccを超える一
定電位に設定されると、検知回路SVIHDECが高電
圧を検知する。応じて検知信号SVCC0はLレベルと
なり、BISTフラグBISTFがセットされ、また、
データ入出力端子DQiに接続されているNチャネルM
OSトランジスタMN4が導通する。応じて、データ入
出力端子DQiの電位はLレベルとなる。このデータ入
出力端子DQiがLレベルになったことを外部から観測
しておれば、検知回路SVIHDECの電圧検出部の動
作が正常であることが確認できる。
【0261】時刻t2において、検知回路SVIHDE
Cに含まれるカウンタが、BISTフラグBISTFが
セットされたことを受けてカウントを開始し、イネーブ
ル信号STENがHレベルとなる。イネーブル信号ST
ENがHレベルになったことを受けて、外部クロック信
号ext.CLKから取込クロック信号GCKおよびシ
フトクロック信号SCKが発生される。
【0262】これらのクロックに基づいて、データ入出
力端子DQiからRAM部BRAMに書込まれるテスト
用のデータが入力される。
【0263】時刻t3において、所定のクロック数のシ
フトクロックSCKが入力されると、イネーブル信号S
TENはLレベルとなる。応じてシフトクロックSCK
の発生は停止され、RAM部BRAMのデータは固定さ
れる。そしてパターンジェネレート部PGに入力される
クロックは外部クロックから内部でPLL回路等によっ
て発生される高速なクロックに切換わりBISTが実行
される。
【0264】時刻t4において外部からセルフリフレッ
シュモードもしくはモードレジスタセットサイクルへの
設定がなされると、BISTフラグBISTFは解除さ
れ、BISTは終了する。
【0265】図39は、RAM部BRAMのテストにつ
いて説明するためのブロック図である。
【0266】図39を参照して、テスト内容が設定され
た後スイッチSW01が導通し、RAM部BRAMのデ
ータを入出力回路64の内部のデータ出力用ラッチに伝
達するための経路が形成される。この経路は、外部から
のデータがRAM部BRAMに入力された後に形成され
る。
【0267】BISTフラグが設定され、データ入出力
端子DQj〜DQkの所定の組合せが解除された後も、
さらにデータ入出力端子DQ0への高電圧の印加が継続
されていると、高電圧の印加が継続されている期間イネ
ーブル信号BRAMREがHレベルとなりスイッチSW
01が導通し、パスが形成される。また、この期間は、
入出力回路64は、出力のバッファ動作を行なう。
【0268】図40は、RAM部BRAMのテストにつ
いて説明するためのフローチャートである。
【0269】図40を参照して、まず、ステップSR1
において、RAM部BRAMのテストが開始され、ステ
ップSR2にて図38を用いて説明したようにRAM部
BRAMへのデータ書込がされる。
【0270】つぎに、ステップSR3においてこの書込
まれたデータを外部に対して読出す。外部では、読出さ
れたデータが書込んだデータと同じかどうか比較され
る。書込んだデータが正常に読み出されればRAM部B
RAMは正常に動作することが分かる。したがって、B
ISTを実行することが可能となる。
【0271】そして、ステップSR4においてRAMの
テストが終了し、続いてステップSR5においてBIS
Tテストを行うための手順に対応したデータが書込まれ
る。ステップSR6においてBISTが実施される。こ
の手順に対応したデータに基づき、例えば、チェッカパ
ターンや、マーチパターンなどのテストが実施される。
【0272】図41は、RAM部BRAMの読出テスト
実行の説明をするための動作波形図である。
【0273】図39、図41を参照して、まず、時刻t
11以前においてRAM部BRAMへのテスト用データ
の書込が完了していることとする。
【0274】時刻t11においてデータ入出力端子DQ
j〜DQkが所定の組合せに設定されかつデータ入出力
端子DQ0が電源電位Vccを超える所定の電位に設定
されると、検知信号/SVCCはLレベルとなり応じて
データ入出力端子DQiはLレベルとなる。
【0275】データ入出力端子DQj〜DQkの所定の
組合せが解除されてもデータ入出力端子DQ0が所定の
高電位レベルの印加を受けておれば、RAM部BRAM
の読出テストが実行される。このときは、時刻t12に
おいてイネーブル信号BRAMREがHレベルとなり、
応じてシフトクロック信号はSCKが外部クロック信号
ext.CLKに基づいて発生される。シフトクロック
SCKが入力されることにより、RAM部BRAMに設
定されていたデータはデータ入出力端子DQiから読出
される。
【0276】時刻t13において、データ端子DQ0の
高電位レベルが解除されると、イネーブル信号BRAM
REはLレベルに立下がり、RAM部BRAMからのデ
ータ読出は終了する。そして、検知回路SVIHDEC
におけるカウンタのカウントが開始され、所定のクロッ
ク数イネーブル信号STENがHレベルとなる。応じ
て、時刻t14までRAM部BRAMへのテスト用デー
タが書込まれる。
【0277】時刻t14以降はBISTが実行されて時
刻t15においてセルフリフレッシュもしくはモードレ
ジスタセットサイクルになるとBISTフラグBIST
Fが解除され、BISTは終了する。
【0278】[BIST実行中における内部データのモ
ニタ]BIST実行中においては、テスト結果のみが外
部に対して出力されるのが通常であるため、BISTが
正常に実行されているのか否かが不明な場合があり、チ
ップの故障解析をするためには、BIST実行時におい
ても内部データを外部に出力させることができれば便利
である。
【0279】図42は、BIST実行時において内部デ
ータを外部に対して出力する構成を示す図である。
【0280】図42を参照して、CS、/RASなどの
コマンドやアドレス、検査データ、期待値データなどを
縮退する縮退回路RDCと、テスト信号TEBXに応じ
て縮退回路RDCの出力をデータ入出力端子DQiに出
力するための出力データとして与えるスイッチSW02
とが設けられる。
【0281】他の構成は、図39で説明した場合と同様
であるので説明は繰返さない。図43は、データ入出力
端子から外部にテスト実行状況を出力する様子を説明す
るための動作波形図である。
【0282】BISTを実行する際には、図31におけ
るBIST回路649はコマンド、アドレスおよびデー
タを内部で自動的に発生する。そして、これらの情報を
外部にてモニタすることができるように出力する。
【0283】図43を参照して、時刻t1以前にはBI
STの動作を開始する設定がされているとする。時刻t
1において、BISTにて内部でアクティブコマンドA
CTが実行されると、対応して内部で設定されるコマン
ドやアドレスのデータがデータ列D11として各データ
入出力端子から出力される。
【0284】時刻t2において内部でライトコマンドが
実行される。応じて実行されているコマンドおよび使用
されているアドレスのデータがデータ列D12として出
力される。
【0285】時刻t3において、内部でリードコマンド
が実行されると、応じてデータ入出力端子から内部で使
用されているコマンドおよびアドレスに対応するデータ
が出力される。
【0286】時刻t4以降では、内部のメモリアレイか
ら読出されたデータが各データ入出力端子から出力され
る。
【0287】このように、BISTモードにおいても内
部の情報をデータ入出力端子より外部に読み出せば、B
ISTの場合でも内部の状態を観測することが可能とな
る。すなわち、すべてのテスト結果についての可否、す
なわち、判断結果のみを出力させるのではなく、たとえ
ば、スペアのメモリアレイによる救済が正しく実施され
ているかどうかを確かめるために、冗長メモリアレイに
よる救済単位で比較結果を出力させることも可能であ
る。
【0288】同期型半導体記憶装置に内部状態を表わす
データを出力させる際には、ストローブ信号QSも出力
させることでデータ出力期間の認識をテスト装置が行な
えるようにする。
【0289】したがって、BISTを実行する際に、内
部の状態もテスト装置でモニタできるため、動作確認の
結果がより一層確実にできるとともに、不具合が発生し
た場合の原因解明等がやりやすくなるという効果があ
る。
【0290】図44は、BISTの内部情報を出力する
際に用いられる縮退回路RDCの構成を示す回路図であ
る。
【0291】このデータ縮退回路は、BIST実施時に
内部状態を出力する際に出力データの周期を落としたり
ピン数を減らしたりするのに用いられる。
【0292】図44を参照して、信号SIG1〜SIG
nには内部コマンドを示す信号やアドレスデータ等が与
えられる。このデータ縮退回路は、信号SIG1、SI
G2、…、SIGn−1、SIGnに対応してそれぞれ
設けられる切換回路684、685、…、686、68
7と、切換回路687の出力を受け増幅するセンスアン
プ688を含む。
【0293】切換回路684の入力ノードNI1、NI
2にはそれぞれ電源電位、接地電位が与えられる。
【0294】切換回路684の出力ノードNO1、NO
2は、それぞれ、切換回路685の入力ノードNI1、
NI2に接続される。同様にして切換回路686の出力
ノードNO1、NO2はそれぞれ、切換回路687の入
力ノードNI1、NI2にそれぞれ接続される。切換回
路685と686との間には直列に複数の切換回路が接
続されており、m(自然数)番目の入力信号SIGmに
対応して設けられる切換回路の入力ノードNI1、NI
2には、それぞれm−1番目の入力信号に対応して設け
られる切換回路の出力ノードNO1、NO2が接続され
る。
【0295】最終段であるn番目に接続される切換回路
687の出力ノードNO1、NO2はセンスアンプ68
8の入出力ノードNOA、NOBにそれぞれ接続され
る。
【0296】切換回路684は、信号SIG1を受けて
反転するインバータ690と、入力ノードNI1と出力
ノードNO1との間に接続されゲートに信号SIG1を
受けるNチャネルMOSトランジスタ691と、入力ノ
ードNI2と出力ノードNO2との間に接続されゲート
に信号SIG1を受けるNチャネルMOSトランジスタ
692と、入力ノードNI1と出力ノードNO2との間
に接続されゲートにインバータ690の出力を受けるN
チャネルMOSトランジスタ694と、入力ノードNI
2と出力ノードNO1との間に接続されゲートにインバ
ータ690の出力を受けるNチャネルMOSトランジス
タ693とを含む。
【0297】切換回路685〜687は切換回路684
と同様の構成を有するため説明は繰返さない。
【0298】センスアンプ688は、入出力ノードNO
Aと入出力ノードNOBとの間に直列に接続されるNチ
ャネルMOSトランジスタ696、697と、入出力ノ
ードNOAと入出力ノードNOBとの間に直列に接続さ
れるPチャネルMOSトランジスタ698、699と、
NチャネルMOSトランジスタ696、697の接続ノ
ードと接地ノードとの間に接続されゲートに論理判定信
号LJSを受けるNチャネルMOSトランジスタ695
と、PチャネルMOSトランジスタ698、699の接
続ノードと電源ノードとの間に接続され論理判定信号/
LJSをゲートに受けるPチャネルMOSトランジスタ
700とを含む。
【0299】NチャネルMOSトランジスタ697、P
チャネルMOSトランジスタ699のゲートはともに入
力ノードNOAに接続される。NチャネルMOSトラン
ジスタ696、PチャネルMOSトランジスタ698の
ゲートはともに入力ノードNOBに接続される。
【0300】このデータ圧縮回路の動作を簡単に説明す
ると、入力される信号SIG1〜SIGnのうち論理レ
ベルがHレベルである信号の数が偶数であれば出力信号
OUTAがHレベルとなり出力信号OUTBがLレベル
となる。一方、入力信号SIG1〜SIGnのうち論理
レベルがHである信号の数が奇数であれば出力信号OU
TAはLレベルに、出力信号OUTBはHレベルにな
る。
【0301】これは、第1番目の切換回路684の入力
ノードNI1、NI2にはそれぞれHレベル、Lレベル
のデータが与えられ、入力信号SIG1がHレベルの場
合はデータをそのまま対応する出力ノードNO1、NO
2に伝達し、入力信号SIG1がLレベルの場合は、入
力ノードNI1に与えられたデータは出力ノードNO2
に出力されて入力ノードNI2に与えられたデータは出
力ノードNO1に出力される。
【0302】つまり切換回路684〜687は入力され
る信号SIGnがHレベルの場合は入力データをそのま
ま対応する出力ノードに出力し、入力信号SIGnがL
レベルの場合は入力ノードNI1、NI2に与えられた
データを入れ替えて出力ノードNO1、NO2に出力す
るのである。このため、入力信号SIG1〜SIGnの
うちHレベルとなっている信号の数の偶数/奇数が判別
できる。
【0303】信号SIG1〜SIGnにはコマンドを表
わす信号やアドレス信号等を入力することができる。
【0304】したがって、たとえば、4サイクル分の信
号をラッチで保持しておき、縮退回路44を通して出力
すれば、図43にてデータ列D11のように4サイクル
で出力されていたデータを1サイクルにして出力するこ
とが可能である。
【0305】図45は、コマンドやアドレスデータを縮
退させて使用した場合の動作を説明するための動作波形
図である。
【0306】図45を参照して、時刻t1においてアク
ティブコマンドACTに対応する内部データ情報D11
1が出力される。図44で示した回路を用いることによ
り図43のデータ列D11をこのように圧縮して出力す
ることが可能となる。同様に時刻t2、t3において
も、コマンド等に対応したデータが圧縮して出力され
る。また時刻t4以降は、データも同様に圧縮して出力
することにより、図43の場合の半分のデータレートで
出力データをチェックできる。
【0307】データの判定結果は、各サイクルでの64
のデータを4DQに振分けて出力する。結果の出力はス
トローブ信号QSがLレベルである期間に出力させる。
このようにすることにより出力データのデータピン数を
少なくすることができ、また出力データのデータレート
も落とすことができるので、性能の低い安価なテスタで
も出力をモニタすることが可能となる。
【0308】[BISTにおける不良アドレスの保持]
図46は、BIST実行時において不良アドレスを外部
に読出すための構成を示すブロック図である。
【0309】図46を参照して、この同期型半導体記憶
装置には、コマンド、データ、アドレスを自動発生する
BIST制御部649と、BIST制御部649が発生
するコマンド、データ、アドレスを受けてデータの読出
/書込動作を行なうメモリアレイMAと、メモリアレイ
MAから一括して読出される複数のデータの一致を検出
し不良判定を行う不良検知回路801とが設けられる。
【0310】不良検知回路801は、メモリアレイMA
から同時に読出される複数の読出信号の一致を検出する
一致検出回路802〜808と、一致検出回路802、
804の出力を受けるゲート回路810と、一致検出回
路806、808の出力を受けるゲート回路812とを
含む。
【0311】この一致検出回路は、図19で説明したよ
うな構成をしており、不良検出率が向上されている。ゲ
ート回路810、812の出力はゲート回路814にて
論理積がとられ不良メモリセルが発見されていない場合
はゲート回路814の出力はHレベルを保持する。
【0312】図示しないが、メモリアレイMAから一括
して読出されるデータの数に応じて、不良検知回路80
1に含まれる一致検出回路およびゲート回路は適宜追加
される。
【0313】不良メモリセルが発見されると、ゲート回
路814の出力はLレベルへと変化する。不良検知回路
801は、この変化を検出しワンショットパルスを発生
するエッジ検出回路816をさらに含む。
【0314】この同期型半導体記憶装置は、ワンショッ
トパルスを受けてゲート回路810〜812のいずれの
出力が変化したかを検知し対応するメモリアレイMAの
アドレス信号をDQ前ラッチ部826に対して出力す
る、アドレス選択回路をさらに含む。
【0315】この同期型半導体記憶装置は、エッジ検出
回路816の出力を受けてサスペンドフラグを出力する
フラグ保持部818と、サスペンドフラグに応じて導通
し、出力バッファ828の出力ノードであるデータ入出
力端子DQmをLレベルへと固定するNチャネルMOS
トランジスタ830とをさらに含む。
【0316】この同期型半導体記憶装置は、外部からア
ドレスを読出す指定をする入出力端子DQnから信号を
うける入力バッファ832と、入力バッファ832の出
力信号ADRDに応じて、DQ前ラッチ部826に保持
されていたアドレスを出力バッファ834へと出力させ
る出力コントロール回路824とをさらに含む。クロッ
ク信号ADOUTに従ってデータ端子DQlから不良ア
ドレスデータが出力される。
【0317】図47は、アドレスの出力を説明するため
の動作波形図である。図46、図47を参照して、時刻
t1において、BISTによるテスト実行中にメモリセ
ルの不良が検出され検知信号DETAが変化する。応じ
て、サスペンドフラグSUSPENDがHレベルに立上
がる。そして、データ入出力端子DQmの電位はLレベ
ルとなる。
【0318】このサスペンドフラグの変化をデータ入出
力端子DQmの変化によってテスタ装置が検知すると、
時刻t2において外部に接続されたテスタ装置はチップ
に対してアドレスを出力するようにデータ入出力端子D
Qnの電位をHレベルへと立上げる。
【0319】応じて時刻t3において、信号ADRDが
Hレベルへと変化すると、出力コントロール回路824
がアドレス出力クロックとして信号ADOUTを変化さ
せる。応じてデータ入出力端子DQlからアドレス信号
が出力される。
【0320】アドレスの読取をテスタ装置が終了する
と、データ入出力端子DQnの電位をテスタ装置はHレ
ベルからLレベルへと立下げる。応じて、信号ADRD
はLレベルへと立下がり、そして、サスペンドフラグS
USPENDは解除される。
【0321】時刻t5において、サスペンドフラグSU
SPENDが解除されたことをBIST制御部649は
検知し、BISTを再スタートさせる。
【0322】このようにしてBISTを実行する場合で
も、内部で検知された不良アドレスを外部に接続される
テスタ装置等に対して出力することが可能であるので、
出力されたアドレスを用いて、冗長置換を実行すること
が可能となる。
【0323】さらに、冗長置換の自動化を進める場合を
次に述べる。図48は、BIST実行時に検出された不
良アドレスをもとに自ら冗長置換を行なう第1の構成を
示す図である。
【0324】図48を参照して、この構成は、アドレス
選択回路822の出力を受けるアドレス処理部842
と、BIST制御部649が出力するBISTの終了を
示す信号のエッジを検出するエッジ検出回路846と、
エッジ検出回路846の出力に応じてアドレス処理部8
42に設定されたアドレスを出力するゲート回路844
と、ゲート回路844が出力するアドレスをラッチする
冗長判定回路部に設けられるアドレスプログラムラッチ
848とを含む点が、図46に示した構成と異なる。他
の構成は図46に示した構成と同様であるので説明は繰
返さない。
【0325】アドレス処理部842は、不良アドレスが
検出されてその不良アドレスを受取ると、所定のアドレ
ス処理を実行する。その間、エッジ検出回路820に対
してHレベルの信号を出力する。
【0326】エッジ検出回路820は、アドレス処理部
のアドレス処理が終了し出力する信号がLレベルに立下
がったことを検知し、フラグ保持部818が保持するサ
スペンドフラグを解除する。そして、BIST制御部6
49は、引続きBISTを実行する。
【0327】BISTが終了すると、BIST制御部6
49は、終了を示す信号をエッジ検出回路846に対し
て出力する。エッジ検出回路846の検出した終了信号
に応じて、ゲート回路844はアドレス処理部に保持さ
れている不良アドレスを冗長判定回路部のアドレスプロ
グラムラッチに伝達し、不良アドレスが置換アドレスと
してアドレスプログラムラッチに入力される。このアド
レスプロクラムラッチには、例えば電気的に書き換え可
能な不揮発性メモリ等が用いられる。
【0328】図49は、BIST終了後に冗長置換を行
なう第2の構成を示すブロック図である。
【0329】図49を参照して、BIST制御部649
が出力するBIST終了信号を検知したエッジ検出回路
854は、信号HBREAKを出力する。
【0330】アドレス選択回路822からアドレスを受
けて処理するアドレス処理部852には、電気ヒューズ
が内蔵されており、信号HBREAKが入力されること
により保持されているアドレスが固定化される。この固
定化されたアドレスは、冗長判定回路部のアドレスプロ
グラムラッチ856に伝達され不良アドレスの置換が行
なわれる。
【0331】以上の点でこの構成は図48に示した構成
と異なる。図50は、図49におけるアドレス処理部8
52に含まれるアドレス固定を行うための構成を示す図
である。
【0332】図50を参照して、アドレス処理部852
は、アドレスを固定時にヒューズを破壊するために使用
される高電圧を発生する高電圧発生回路902と、BI
ST終了時に信号HBREAK0をうけてレベル変換を
行うレベル変換回路904#0と、レベル変換回路90
4#0の出力をゲートに受けるNチャネルMOSトラン
ジスタ908#0と、NチャネルMOSトランジスタ9
08#0が導通時に高電圧を受け所定のアドレス信号A
ddB0〜AddBnに応じてアドレス固定が行われる
アドレス固定部906とを含む。図49における信号H
BREAKはm個のアドレス固定部に対応する信号HB
REAK0〜HBREAKmを含んでおり(mは自然
数)、図50には、信号HBREAK0に関する構成が
代表的に示される。
【0333】アドレス固定部906は、アドレス信号ビ
ットAddB0〜AddBnに対応するアドレス固定部
906#0〜906#nを含み、アドレス固定部906
#0〜906#nからは図49におけるアドレスプログ
ラムラッチ856にむけて置換アドレスを示す信号OU
B0〜OUBnがそれぞれ出力される。
【0334】アドレス処理部852は、図示しないが信
号HBREAK1〜HBREAKmを受けてレベル変換
を行うレベル変換回路904#1〜904#mをさらに
含み、レベル変換回路904#1〜904#mの出力は
NチャネルMOSトランジスタ908#1〜908#m
に与えられる。図示しないが、NチャネルMOSトラン
ジスタ908#1〜908#mにそれぞれ対応して、ア
ドレス固定部906と同様な回路が設けられる。
【0335】レベル変換回路904#0は、信号HBR
EAK0をゲートに受け、ソースが接地ノードに接続さ
れるNチャネルMOSトランジスタ914と、信号HB
REAK0を受けて反転するインバータ918と、イン
バータ918の出力をゲートに受け、ソースが接地ノー
ドに接続されるNチャネルMOSトランジスタ916
と、NチャネルMOSトランジスタ914のドレインと
電源ノードの間に接続され、ゲートがNチャネルMOS
トランジスタ916のドレインと接続されるPチャネル
MOSトランジスタ910と、NチャネルMOSトラン
ジスタ916のドレインと電源ノードの間に接続され、
ゲートがNチャネルMOSトランジスタ914のドレイ
ンと接続されるPチャネルMOSトランジスタ912
と、ゲートが電源ノードに接続され、NチャネルMOS
トランジスタ916のドレインとレベル変換回路904
#0の出力ノードとの間に接続されるNチャネルMOS
トランジスタ920とを含む。
【0336】図示しないが、レベル変換回路904#1
〜904#mもレベル変換回路904#0と同様な構成
を有する。
【0337】アドレス固定部906#0は、信号HBR
EAK0に応じて高電圧が印加されるノードNVgとノ
ードNyとの間に接続されるNチャネルMOSトランジ
スタ922と、ノードNYとノードNXとの間に接続さ
れるヒューズ素子924と、信号AddB0をゲートに
受け、ノードNXと接地ノードとの間に接続されるNチ
ャネルMOSトランジスタ926と、信号AddB0を
受けてレベル変換しNチャネルMOSトランジスタ92
2のゲートに与えるレベル変換回路942と、ノードN
Xが入力に接続され信号OUB0を出力するバッファ回
路928とを含む。
【0338】ヒューズ素子924は、キャパシタであ
り、通常時は電極間が絶縁されているが、ノードNXと
ノードNYとの間に高電圧が印加されると絶縁が破壊さ
れる。
【0339】レベル変換回路942は、信号AddB0
をゲートに受け、ソースが接地ノードに接続されるNチ
ャネルMOSトランジスタ934と、信号AddB0を
受けて反転するインバータ938と、インバータ938
の出力をゲートに受け、ソースが接地ノードに接続され
るNチャネルMOSトランジスタ936と、Nチャネル
MOSトランジスタ934のドレインと電源ノードの間
に接続され、ゲートがNチャネルMOSトランジスタ9
36のドレインと接続されるPチャネルMOSトランジ
スタ930と、NチャネルMOSトランジスタ936の
ドレインと電源ノードの間に接続され、ゲートがNチャ
ネルMOSトランジスタ934のドレインと接続される
PチャネルMOSトランジスタ932と、ゲートが電源
ノードに接続され、NチャネルMOSトランジスタ93
6のドレインとレベル変換回路942の出力ノードとの
間に接続されるNチャネルMOSトランジスタ940と
を含む。
【0340】図51は、図49におけるアドレスプログ
ラムラッチ856の構成を示す回路図である。
【0341】図51を参照して、アドレスプログラムラ
ッチ856は、アドレス処理部852から与えられる信
号OUB0を信号TGに応じて伝達するスイッチ950
#0と、スイッチ950#0を介して与えられる信号O
UB0をラッチし信号R0、/R0を出力するラッチ回
路952#0と、信号R0、/R0、AddR0、/A
ddR0の組合せに応じてコモンノードNZを接地ノー
ドと接続するビット比較部954#0とを含む。
【0342】アドレスプログラムラッチ856は、さら
に、アドレス処理部852から与えられる信号OUBi
を信号TGに応じて伝達するスイッチ950#iと、ス
イッチ950#iを介して与えられる信号OUBiをラ
ッチし信号Ri、/Riを出力するラッチ回路952#
iと、信号Ri、/Ri、AddRi、/AddRiの
組合せに応じてコモンノードNZを接地ノードと接続す
るビット比較部954#iとを含む(iは1〜nの自然
数)。
【0343】ラッチ回路952#0は、スイッチ950
#0に入力が接続され信号/ROを出力するインバータ
958と、信号/R0を入力に受けて反転しインバータ
958の入力ノードに与えるインバータ960と、信号
/R0を受けて反転し信号ROを出力するインバータ9
62とを含む。
【0344】ラッチ回路952#1〜952#nは、そ
れぞれスイッチ950#1〜950#nを介して信号O
UB1〜OUBnを受け、信号R1〜Rnを出力する。
ラッチ回路952#1〜952#nは、ラッチ回路95
2#0と同様の構成を有するので説明は繰返さない。
【0345】ビット比較部954#0は、コモンノード
NZと接地ノードとの間に直列に接続されるNチャネル
MOSトランジスタ964、966、968を含む。N
チャネルMOSトランジスタ964、966、968の
ゲートはそれぞれ電源電位、信号/RO、信号/Add
R0を受ける。
【0346】ビット比較部954#0は、さらに、コモ
ンノードNZと接地ノードとの間に直列に接続されるN
チャネルMOSトランジスタ974、976、978を
含む。NチャネルMOSトランジスタ974、976、
978のゲートはそれぞれ電源電位、信号RO、信号A
ddR0を受ける。
【0347】ビット比較部954#1〜954#nは、
ビット比較部954#0と同様の構成を有するため説明
は繰返さない。
【0348】アドレスプログラムラッチ856は、さら
に、プリチャージ信号/PCに応じてコモンノードNZ
をプリチャージし、コモンノードの電位を保持するラッ
チ回路956とを含む。
【0349】ラッチ回路956は、プリチャージ信号/
PCをゲートに受けコモンノードNZと電源ノードとの
間に接続されるPチャネルMOSトランジスタ982
と、コモンノードNZが入力に接続され、置換指示信号
REPLを出力するインバータ986と、コモンノード
NZと電源ノードとの間に接続され、ゲートに置換指示
信号REPLを受けるPチャネルMOSトランジスタ9
82とを含む。
【0350】図52は、アドレス処理部においてアドレ
ス固定が行われる様子を説明するための動作波形図であ
る。
【0351】図50、図52を参照して、アドレス処理
部852では図示しない回路部分においてBISTにて
検出された不良アドレスの蓄積に基づき置換すべき冗長
行、冗長列のアドレスAddBが決定される。アドレス
固定部906にはアドレスAddBの各アドレスビット
に対応する信号AddB0〜AddBnが与えられる。
BISTが終了し、信号HBREAK0がアドレス処理
部852に与えられると、時刻t1において高電圧VP
PがノードNYに与えられる。この時対応する信号Ad
dB0がHレベルであればノードNXの電位はLレベル
となり、ヒューズ素子であるキャパシタ924の電極間
の電位差が大きくなり絶縁破壊がおこりヒューズ素子は
導通状態となる。
【0352】時刻t2においてアドレスAddB0が解
除されると、ノードNXはノードNYと破壊されたヒュ
ーズ(キャパシタ)によって導通しているため所定の電
位になる。
【0353】時刻t3、t4においてヒューズの破壊に
よって設定されたアドレスの確認が行われる。時刻t3
においては設定していないアドレスがAdd(ext)
として入力された状態、時刻t4においては設定された
アドレスとアドレスAdd(ext)とが一致した場合
を示す。ここでアドレスAdd(ext)はBIST回
路が外部から入力されるアドレスのかわりに発生するア
ドレスである。
【0354】時刻t5までにNチャネルMOSトランジ
スタ908#1〜908#mに対応するアドレス固定部
の個数分、アドレスの設定とチェックが繰返される。時
刻t5においてプログラムサイクルが終了し、最終的に
アドレスのプログラムが正常に行われたか否かの判定が
行われ、判定結果が未プログラムを示していれば、ヒュ
ーズの破壊が不十分な場合が考えられるので再度プログ
ラムを繰返す。
【0355】図53は、アドレス固定後における電源投
入後の動作を説明する動作波形図である。
【0356】図53を参照して、アドレス固定がされた
のちにおいては、電源投入後の所定の時間が経過した時
刻t1においてコマンドCKEが入力される。この時、
信号AddB0〜AddBnを一旦すべてHレベルにす
ることで、ノードNXをLレベルに初期化する。
【0357】時刻t2以降は、図49におけるアドレス
処理部852内でヒューズの破壊により保持されている
置換アドレスが、順次アドレスプロクラムラッチ856
に転送され保持される。時刻t2では転送指示PRGR
EAD1によって、アドレス処理部852からアドレス
プログラムラッチ856に第1の置換アドレスの転送が
実施される。続いて、時刻t3では転送指示PRGRE
AD2によって、アドレス処理部852からアドレスプ
ログラムラッチ856に第2の置換アドレスの転送が実
施される。
【0358】この転送は、DLL回路等のクロックリカ
バリ回路の設定時間を用いて複数回にわけて行われる
が、冗長行および冗長列の数が少ない場合は一度で行っ
ても良い。一度で転送を行う場合には、コマンドレジス
タ設定サイクル等を用いる。
【0359】図48〜図53で説明したように、BIS
T実施後に自身で冗長置換を行う構成とすれば、高価な
試験装置が無くとも不良アドレスの検出および冗長置換
がチップ自身で実行できるので、さらにコスト低減を図
ることができる。
【0360】[BIST実行時における不良アドレスの
処理]以降は、BISTを実行した際に、不良アドレス
の保持および冗長置換をチップ内部にて行なう構成につ
いて説明する。
【0361】図54は、メモリアレイにおけるメモリセ
ルのテストについて説明するための図である。
【0362】図54を参照して、メモリアレイMA♯に
は、2行の冗長行RREDと、4列の冗長列CREDと
が設けられる。
【0363】矢印ARに示すように、メモリセルの検査
は行方向に向かって逐次行なわれ1行分のメモリセルの
検査が完了すると次の行に移る。今、このメモリアレイ
には、不良メモリセルが7つある。各々の不良メモリセ
ルのアドレスを不良アドレスと呼ぶこととすると、不良
アドレスは、(ロウアドレス、コラムアドレス)=(R
a,Cb)、(Ra,Cc)、(Ra,Cd)、(R
a,Ce)、(Ra,Cf)、(Rb,Ca)、(R
c,Ca)の以上の7つである。
【0364】これらの不良アドレスを冗長行および冗長
列を用いて置換を行なう場合には、従来においては、テ
スタ装置で動作テストを実施する際に不良アドレスをテ
スタ装置が記憶していた。テスタ装置はフェイルビット
メモリに不良のビットを表示することができる。たとえ
ば、64MbitのDRAMを試験する際には、テスタ
装置は64Mbit空間を表示することができる。
【0365】BISTをチップ内蔵のテスト回路によっ
て実施する際には、チップ上にはこのようなフェイルビ
ットメモリを配置することは不可能なため、不良アドレ
スを逐一記憶しておかなければならない。
【0366】この場合に困難な点は、不良アドレスがど
のような配置となるかによって、冗長列、冗長行をいず
れの不良メモリセルの置換に用いるかの組合せが変化す
ることである。
【0367】最も簡単な手法は、発生した不良アドレス
に冗長行または冗長列を逐一割当てていけばよいのであ
るが、それでは、最大救済ビット数は(冗長行の数+冗
長列の数)でしかなく、救済効率が悪い。
【0368】たとえば、図54におけるロウアドレスR
a上には5つの不良メモリセルが存在するため、たとえ
ば、すべて冗長列を使用して救済する場合は5個の冗長
列が必要であるが、冗長行を用いてロウアドレスRaを
置換すれば、1個の冗長列で5つの不良メモリセルを救
済することができてしまう。このような効率の良い救済
をいかに判断させるかが工夫が必要となる点である。
【0369】実施の形態3の半導体記憶装置は、アドレ
ス保持と不良アドレスの出現回数をカウントするカウン
タを設けることによりこの判断を可能とする。
【0370】図55は、図48に示したアドレス処理部
842の概略構成を説明するための概略図である。
【0371】図55を参照して、不良メモリセルが発見
された際の不良ロウアドレスを格納するアドレスレジス
タRA♯1〜RA♯6と、アドレスレジスタRA♯1〜
RA♯6にそれぞれ対応して設けられ、アドレスレジス
タRA♯1〜RA♯6に格納されたロウアドレスと入力
された不良ロウアドレスとを比較し一致すればカウント
値を1インクリメントするカウンタCR♯1〜CR♯6
と、アドレスレジスタRA♯1〜RA♯6に対応して設
けられ、格納されたロウアドレスに冗長行を置換するこ
とが決定したことを示すフラグ保持部FR♯1〜FR♯
6とが設けられる。
【0372】同様に、コラムアドレスに対しては、不良
メモリセルに対応する不良コラムアドレスを格納するア
ドレスレジスタCA♯1〜CA♯6と、アドレスレジス
タCA♯1〜CA♯6に対応して設けられ、アドレスレ
ジスタCA♯1〜CA♯6に格納されたコラムアドレス
と入力された不良コラムアドレスとを比較し一致すれば
カウント値を1インクリメントするるカウンタCC♯1
〜CC♯6と、アドレスレジスタCA♯1〜CA♯6に
対応して設けられ、格納されたロウアドレスに冗長行を
置換することが決定したことを示すフラグ保持部FC♯
1〜FC♯6とが設けられる。
【0373】このように、アドレスレジスタとカウンタ
とをセットで配置することで一度出現したアドレスが何
度重複して出現するかを観測する。そしてカウント数が
一定値を超えた場合に対応する行または列のアドレスの
置換を行なうことを決定する。
【0374】図54を再び参照して、冗長列が4列ある
場合に、同一ロウアドレスRa上のコラム方向の不良ア
ドレスが5個以上発見される場合には、そのすべてを冗
長列で救済することは不可能である。このような場合に
は、冗長行を用いるしかない。
【0375】つまり、カウンタの値をモニタして、同一
ロウアドレスの出現に対しては、冗長列の数すなわち4
を超えるカウンタの値となったときに、そのロウアドレ
スは冗長行で救済されることが決定する。そして、以後
同一のロウアドレスが確認された場合には、すべてこの
冗長行で救済される。したがって、冗長行による救済が
決定されたロウアドレス上に存在するメモリセルのコラ
ムアドレスは以降アドレス保持の対象から除外される。
【0376】冗長行を使用することが決定されると、そ
の後は使用可能な冗長行は1だけ減ることになる。した
がって、同一コラムアドレスの不良個数を計数するカウ
ンタのリミット値が1だけ減少される。図54では、ロ
ウアドレスRaの行を冗長行で救済することが決定され
た後には、使用可能な冗長行の数は(2−1=1)とな
り、不良コラムアドレスCaのカウンタ値が2になった
時点でコラムアドレスCaは冗長列を用いてしか救済で
きないことになる。
【0377】この動作を繰返していくことで、不良アド
レスを蓄積していく。テストが完了したときに、配置さ
れているアドレスレジスタのセット(冗長行の数+冗長
列の数)、すなわち図54では(2+4=6)を超えて
不良アドレスの観測がされなければ、そのメモリアレイ
は救済可能であると判定される。しかし、テスト途中
で、救済可能数以上に、相互に異なる不良アドレスが検
知されると、その時点で救済不可能という判定になる。
以降、図54の不良メモリセルの配置の場合におけるア
ドレス格納の変化の様子を説明する。
【0378】図56は、アドレス格納の第1段階の状態
を示す図である。図54、図56を参照して、アドレス
(Ra,Cb)に達するまではメモリセルの不良は検出
されない。そして、アドレス(Ra,Cb)に対応する
メモリセルのチェックを行なった際にそのメモリセルが
不良であれば、ロウアドレスのアドレスレジスタRA♯
1にはロウアドレスRaが格納され、不良アドレスカウ
ント部CR♯1にはカウント数1がセットされる。同様
に、コラムアドレスを格納するアドレスレジスタCA♯
1にはコラムアドレスCbが格納され、不良アドレスカ
ウント部CC♯1はカウント数1を保持する。
【0379】図57は、アドレス格納の第2段階の状態
を示す図である。図54、図57を参照して、アドレス
(Ra,Cc)に対応するメモリセルをチェックしそれ
が不良であったため、アドレスレジスタRa♯2にはロ
ウアドレスRaが格納され、アドレスレジスタCA♯2
にはコラムアドレスCcが格納される。不良アドレスカ
ウント部CR♯1、CR♯2のカウント値はロウアドレ
スRaの出現が2回目であるため増加しカウント2が保
持される。
【0380】不良アドレスカウント部CC♯1のカウン
ト値は変化せず、不良アドレスカウント部CC♯2には
1が保持される。
【0381】図58は、アドレス格納の第3段階の状態
を示す図である。図54、図58を参照して、アドレス
(Ra,Cd)のメモリセルの不良を検知して、アドレ
スレジスタRA♯3にはロウアドレスRaが格納され、
アドレスレジスタCA♯3にはコラムアドレスCdが格
納される。ロウアドレスRaの出現は3回目であるた
め、不良アドレスカウント部CR♯1〜CR♯3のカウ
ント数は1増加し3となる。また、不良アドレスカウン
ト部CC♯3にはカウント値1が保持される。
【0382】図59は、アドレス格納の第4段階の状態
を示す図である。図54、図59を参照して、アドレス
(Ra,Ce)の不良メモリセルが検出され、アドレス
レジスタRA♯4にはロウアドレスRaが格納され、ア
ドレスレジスタCA♯4にはコラムアドレスCeが格納
される。不良アドレスカウント部CR♯1〜CR♯4の
カウント値は4となり、また、不良アドレスカウント部
CC♯4にはカウント値1が保持される。
【0383】図60は、アドレス格納の第5段階の状態
を示す図である。図54、図60を参照して、アドレス
(Ra,Cf)に不良メモリセルが検出されると、ロウ
アドレスRaの検出数は5となり、これは、すべての冗
長行CREDを割当てても置換不可能な状態であるの
で、ロウアドレスRaは冗長行RREDのいずれか1本
によって置換されることが決定する。
【0384】フラグ保持部FR♯1にはフラグが設定さ
れ、アドレスレジスタRA♯1に格納されたロウアドレ
スRaはアドレスが固定化される。また、以降は、不良
メモリセルのロウアドレスがRaであれば、コラムアド
レスは保持する必要がなくなる。したがって、アドレス
レジスタCA♯1はアドレスフリーな状態となる。ま
た、アドレスレジスタRA♯2〜RA♯4、CA♯2〜
CA♯4に設定されていたアドレスはクリアされる。
【0385】図61は、アドレス格納の第6段階の状態
を示す図である。図54、図61を参照して、アドレス
(Rb,Ca)に不良メモリセルが発見され、アドレス
レジスタRA♯2にはロウアドレスRbが設定され、不
良アドレスカウント部CR♯2には1が保持される。ま
た、アドレスレジスタCA♯2にはコラムアドレスCa
が格納され、不良アドレスカウント部CC♯2にはカウ
ント値1が保持される。
【0386】図62は、アドレス格納の第7段階の状態
を示す図である。図54、図62を参照して、アドレス
(Rc,Ca)に不良メモリセルが検出されると、アド
レスレジスタRA♯1にはロウアドレスRcが格納さ
れ、不良アドレスカウント部CR♯3には1が保持され
る。また、アドレスレジスタCA♯3にはコラムアドレ
スCaが格納され、不良アドレスカウント部CC♯2、
CC♯3のカウント値は2となる。
【0387】図63は、検査完了後のアドレス格納の状
態を示す図である。図54、図63を参照して、検査終
了後にカウント値が1を超える場合には、効率のよい救
済を達成するため、最終的にアドレスレジスタCA♯
2、CA♯3がともに格納しているロウアドレスCaが
置換列と設定され、フラグ保持部FC♯2にはフラグが
立ち、アドレスレジスタRA♯2に設定されていたロウ
アドレスはフリーな状態となる。また、アドレスレジス
タRA♯3、CA♯3に設定されていたアドレスはクリ
アされる。
【0388】以上のようにして、最終的に、冗長行およ
び冗長列がどのように置換されるかが決定される。
【0389】以上説明した、アドレス処理部の動作をフ
ローチャートを用いて再度説明する。
【0390】図64、図65は、検査時の不良アドレス
の格納および検査終了後の救済判定のフローを示すフロ
ーチャートである。
【0391】図64、図65を参照して、BIST実行
中においてサスペンドフラグからの不良アドレスを受け
ると、ステップS01においてアドレス格納処理がスタ
ートする。次いで、ステップS02においてフリー化さ
れているアドレスと不良アドレスの一致が判定される。
ここで、フリー化されているアドレスとは、行置換がさ
れることが確定したロウアドレスを有し、その後さらに
発見された不良メモリセルのコラムアドレス、または、
列置換されることが確定したコラムアドレスを有し、そ
の後さらに発見された不良メモリセルのロウアドレスで
ある。
【0392】フリー化されているアドレスにあてはまら
ない場合は、ステップS03に進みアドレスレジスタへ
の書込が実施される。
【0393】次にステップS04において、既にアドレ
スレジスタに格納されているアドレスとの一致比較が行
なわれる。一致した場合はステップS07に進み、一致
しない場合はステップS05に進む。
【0394】ステップS05においては、アドレスが格
納されたアドレスレジスタが冗長列および冗長行の数を
超えているか否かが判断される。超えている場合はステ
ップS15に進み、検査されているチップの救済が不可
能であることが判断される。そしてBISTは中断され
る。
【0395】アドレスが格納されているアドレスレジス
タの数が冗長列および冗長行の数を超えない場合は、ス
テップS06に進む。
【0396】ステップS06では、それぞれのアドレス
レジスタに対応して設けられているカウンタの値に1が
加算される。そして次にステップS14に進み不良アド
レスの格納処理が終了しBISTが継続される。
【0397】ステップS02においてフリー化されてい
るアドレスとの一致が検出された場合は、その不良アド
レスは既に救済されることが決定しているため、アドレ
スを格納する必要はなく、ステップS14に進みアドレ
ス格納処理が終了される。
【0398】ステップS04において、既に格納された
不良アドレスとロウアドレスまたはコラムアドレスが一
致した場合は、ステップS07に進む。ステップS07
では、一致したアドレスがロウアドレスか否かが判断さ
れる。
【0399】一致したアドレスがロウアドレスである場
合は、ステップS08に進み、一致したロウアドレスに
対応するカウンタの値がインクリメントされる。
【0400】そして、ステップS09に進む。ステップ
S09では、インクリメントされたカウンタの値がコラ
ムのリミット値(使用可能冗長数)を超えているか否か
が判断される。リミット値を超えている場合は、ステッ
プS10に進み、ロウアドレスの救済が決定されロウア
ドレスが固定され対応するフラグ保持部にフラグが立
つ。そして、重複した同一アドレスのレジスタがクリア
され、アドレスレジスタの内容が再配置される。すなわ
ち、クリアされたレジスタ部にアドレスが詰められる。
そして、固定化されたロウアドレスに対応するコラムア
ドレス分がフリー化されそしてコラムリミット値が−1
される。
【0401】ステップS09の結果が否定的な場合はス
テップS14に進みアドレス格納処理が終了される。
【0402】ステップS07において、一致したアドレ
スがロウアドレスでない場合はステップS11に進む。
【0403】この場合は一致したアドレスはコラムアド
レスである。ステップS11では、一致するコラムアド
レスに対応して設けられているカウンタの値がインクリ
メントされる。続いてステップS12において、インク
リメントされたカウンタの値がロウのリミット値(使用
可能冗長数)を超えているか否かが判断される。超えて
いない場合はステップS14に進みアドレス格納処理が
終了する。
【0404】ロウのリミット値を超えている場合は、コ
ラムアドレスの救済が決定されコラムアドレスが固定さ
れ対応するフラグ保持部にフラグが立つ。そして、同一
コラムアドレスを格納していたレジスタがクリアされア
ドレスレジスタの内容の再配置が行なわれる。アドレス
レジスタの内容の再配置とは、クリアされたレジスタに
クリアされないアドレスを順に詰めることである。そし
て、ロウアドレスがフリー化されロウのリミット値が−
1される。そして、ステップS14に進み、アドレス格
納処理が終了しBISTが継続される。
【0405】ステップS01からステップS14までの
アドレス格納処理のサイクルを繰返し、最後にBIST
が終了すると、BIST終了フラグが出力されステップ
S16に進む。ステップS16ではアドレスの固定化が
行なわれる。このアドレスの固定化は対応するカウンタ
のカウント値が多い順に行なわれる。そして次にステッ
プS17において、救済判定が終了する。すなわち、冗
長列が置換される列アドレスおよび冗長行が置換される
行アドレスが決定される。そして、決定された置換アド
レスはアドレスプログラム部への転送もしくは置換処理
に対応する電気ヒューズの破壊処理の段階へと進む。
【0406】図66は、救済用アドレスがアドレス処理
部842から各バンクのプログラム処理部に転送される
様子を説明するための図である。
【0407】図66を参照して、アドレス処理部842
には、ロウアドレス処理系としてフラグ保持部FR、不
良アドレスカウント部CR、ロウアドレスレジスタR
A、コラムアドレス処理系として、フラグ保持部FC、
不良アドレスカウント部CC、コラムアドレスレジスタ
CAが設けられる。
【0408】さらに、アドレス処理部からロウ系のアド
レスに関するデータを順に受ける接続シフト部RSF
T、アドレスラッチRLAT♯1〜RLAT♯4、デマ
ルチプレクサRDEMが設けられ、各バンクに対応し
て、置換するためのロウアドレスを設定する設定部RS
ETと、設定部RSETに設定されたロウアドレスがデ
ータ読出時に入力されるロウアドレスと一致するか否か
を判定するアドレス比較部RCMPとが設けられる。
【0409】さらに、アドレス処理部からコラム系のア
ドレスに関するデータを順に受ける接続シフト部CSF
T、アドレスラッチCLAT♯1〜CLAT♯2、デマ
ルチプレクサCDEMが設けられる。
【0410】各バンクに対応して、置換を行うコラムア
ドレスが設定される設定部CSETと設定部CSETに
設定されたコラムアドレスとデータ読出時に入力される
コラムアドレスとを比較し一致を検出するアドレス比較
部CCMPとが設けられる。
【0411】今、BISTが終了しフラグ保持部FRに
ロウアドレスRAに対応する部分にフラグが立ってお
り、コラムアドレスCAに対応するフラグ保持部FCに
フラグが立っている場合を考える。接続シフト部RSF
Tは、フラグ保持部FRにフラグが立っているアドレス
のみをアドレスラッチRLAT♯1に転送する。デマル
チプレクサRDEMは、BISTがバンクごとに実施さ
れるときに対応するバンクに対してアドレスラッチが保
持するアドレスを転送する。アドレス情報の伝達に合わ
せて、設定部RSETには信号HBREAKによって高
電圧が印加され、設定されたロウアドレスに対応するヒ
ューズが破壊され、置換アドレスが固定される。
【0412】このようにして、置換アドレスの設定が終
了すると、アドレス比較部RCMPにロウアドレスが入
力された際に、設定された置換アドレスと一致が検出さ
れた場合は一致検出信号RHIT11が活性化し、不良
メモリセルを含む行は非活性化され、代わりに冗長行が
活性化される。
【0413】同様な動作がコラムアドレス処理に関して
も行なわれる。以上説明したように、実施の形態3の同
期型半導体記憶装置は、BISTを実施する際に内部情
報を外部に出力し、動作解析に役立てたり、冗長置換の
アドレスを得たりすることが可能である。さらには、検
査結果の内部情報を内部に保持し自身で冗長置換を実施
したりすることが可能である。したがって、同期型半導
体記憶装置の検査コストの削減ができる。
【0414】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【0415】
【発明の効果】請求項1,2に記載の同期型半導体記憶
装置は、データ出力をモニタするために必要なデータ入
出力端子の数を減らすことができ、半導体記憶装置の検
査においてテスタが使用するチャネル数を減らすことが
できる。したがって、半導体記憶装置の検査コストを下
げることができる。
【0416】請求項3に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項1に記載の同期型半導体記憶装置の奏する効
果に加え、不良検出率を大幅に改善することが可能とな
る。
【0417】請求項4、5に記載の同期型半導体記憶装
置は、請求項1に記載の同期型半導体記憶装置の奏する
効果に加えて、観測するデータのデータレートを落とす
ことができ、性能のさほど高くないテスタ装置でも、検
査することが可能になる。
【0418】請求項6,7に記載の同期型半導体記憶装
置は、BISTテストを行う前に、予めBISTを制御
する回路の動作を確認することが可能となる。
【0419】請求項8に記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置の奏する効
果に加えて、BIST用のRAM部が正常に動作するか
どうかが分かる。またRAMのテストに必要となるピン
数を減らすことができる。
【0420】請求項9、10に記載の同期型半導体記憶
装置は、BISTを実行する場合でも、内部で検知され
た不良アドレスを外部に接続されるテスタ装置等に対し
て出力することが可能であるので、BISTの結果出力
されたアドレスを利用して、冗長置換を実行することが
可能となる。
【0421】請求項11〜14に記載の同期型半導体記
憶装置は、高価な試験装置が無くとも不良アドレスの検
出および冗長置換がチップ自身で実行できるので、さら
にコスト低減を図ることができる。
【0422】請求項15、16に記載の同期型半導体記
憶装置は、BISTを実行する際に、内部の状態もテス
ト装置でモニタできるため、動作確認の結果がより一層
確実にできるとともに、不具合が発生した場合の原因解
明等がやりやすくなるという効果がある。
【0423】請求項17に記載の同期型半導体記憶装置
のテスト方法は、BIST用のRAM部が正常に動作す
るかどうかが分かる。またRAMのテストに必要となる
ピン数を減らすことができる。
【0424】請求項18に記載の同期型半導体記憶装置
は、テスト結果出力信号の少ない観測回数においても、
同期型半導体記憶装置の良品/不良品の判別は可能とな
り、性能の低いテスタにおいても同期型半導体記憶装置
の良品/不良品の判別ができる。不良判定となった場合
に、シフトレジスタの出力信号を観測することで、不良
が発生したアドレスを知る手掛かりを得ることも可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の同期型半導体記憶装置1000の全
体構成を示す概略ブロック図である。
【図2】 本発明の実施の形態1の同期型半導体記憶装
置1000における各ブロックの配置例を示す概略図で
ある。
【図3】 非同期の概念を説明するための動作波形図で
ある。
【図4】 各バンクと各入出力回路の接続を説明するた
めの概略図である。
【図5】 メモリバンクからデータがデータ入出力端子
DQ0に出力される流れを説明するための図である。
【図6】 データ入出力端子DQ0からバンクへデータ
が書込まれる流れを説明するための図である。
【図7】 データ入出力端子DQ0〜DQ15の部分の
構成の概略を示す図である。
【図8】 図7に示したデータ入出力端子DQ0〜DQ
3に対応する部分を拡大して示した図である。
【図9】 同期型半導体記憶装置1000が入出力回路
部を通してデータを授受する概略を説明するための図で
ある。
【図10】 実施の形態1に用いられる入出力回路64
の構成を示す回路図である。
【図11】 図10に示したリード時にデータを保持す
るラッチ148の構成を示す回路図である。
【図12】 図10に示したデータ書込時にデータを保
持するラッチ回路156の構成を示す回路図である。
【図13】 図10に示したシフトレジスタ162の構
成を示す回路図である。
【図14】 図13に示したフリップフロップ512の
構成を示す回路図である。
【図15】 実施の形態1におけるデータの読出テスト
の概念を説明するための概念図である。
【図16】 図15に対応したより詳しい入出力回路6
41の構成を示す回路図である。
【図17】 実施の形態1のデータ読出テストの動作を
説明するための動作波形図である。
【図18】 実施の形態1における読出テストの動作を
説明するための概念図である。
【図19】 図18に示した一致検出回路MAT11、
MAT12の構成を示す回路図である。
【図20】 実施の形態1の変形例1における読出テス
トの概念を示す概念図である。
【図21】 実施の形態1の変形例1における入出力回
路642の構成を示す回路図である。
【図22】 実施の形態1の変形例1における読出テス
トの動作を説明するための動作波形図である。
【図23】 実施の形態1の変形例2におけるデータ読
出テストの概念を示す概念図である。
【図24】 図23における一致検出回路MAT4の構
成を示す回路図である。
【図25】 実施の形態1の変形例2における読出テス
トの説明をするための動作波形図である。
【図26】 実施の形態1の変形例3におけるデータ読
出テストの概念を示す概念図である。
【図27】 一致検出回路MAT5および反転スイッチ
回路IVSWの構成を示す回路図である。
【図28】 実施の形態1の変形例3における読出テス
トを説明するための動作波形図である。
【図29】 実施の形態2の同期型半導体記憶装置に用
いられるテスト結果出力回路TOCの構成を示す回路図
である。
【図30】 テスト結果出力回路TOCの動作を説明す
るための動作波形図である。
【図31】 実施の形態3の同期型半導体記憶装置21
00の全体構成を示す概略ブロック図である。
【図32】 同期型半導体記憶装置2100のBIST
を実施する際の入出力バッファを介してのデータ入力を
説明するための図である。
【図33】 図32における検知回路SVIHDECに
関する構成を示す回路図である。
【図34】 RAM部BRAMの構成例を説明するため
のブロック図である。
【図35】 図34におけるフリップフロップR♯mn
およびトランスファゲートTG♯mnの構成を示す回路
図である。
【図36】 BISTを実行するための回路のテストに
関するシーケンスを示す図である。
【図37】 エントリテストを実施するための構成を説
明するためのブロック図である。
【図38】 エントリテストおよびRAM部へのデータ
書込を説明するための動作波形図である。
【図39】 RAM部BRAMのテストについて説明す
るためのブロック図である。
【図40】 RAM部BRAMのテストについて説明す
るためのフローチャートである。
【図41】 RAM部BRAMの読出テスト実行の説明
をするための動作波形図である。
【図42】 BIST実行時において内部データを外部
に対して出力する構成を示す図である。
【図43】 データ入出力端子から外部にテスト実行状
況を出力する様子を説明するための動作波形図である。
【図44】 BISTの内部情報を出力する際に用いら
れる縮退回路RDCの構成を示す回路図である。
【図45】 コマンドやアドレスデータを縮退させて使
用した場合の動作を説明するための動作波形図である。
【図46】 BIST実行時において不良アドレスを外
部に読出すための構成を示すブロック図である。
【図47】 アドレスの出力を説明するための動作波形
図である。
【図48】 BIST実行時に検出された不良アドレス
をもとに冗長置換を行なう第1の構成を示す図である。
【図49】 BIST終了後に冗長置換を行なう第2の
構成を示すブロック図である。
【図50】 図49におけるアドレス処理部852に含
まれるアドレス固定を行うための構成を示す図である。
【図51】 図49におけるアドレスプログラムラッチ
856の構成を示す回路図である。
【図52】 アドレス処理部においてアドレス固定が行
われる様子を説明するための動作波形図である。
【図53】 アドレス固定後における電源立ち上げ後の
動作を説明する動作波形図である。
【図54】 メモリアレイにおけるメモリセルのテスト
について説明するための図である。
【図55】 図48に示したアドレス処理部842の概
略構成を説明するための概略図である。
【図56】 アドレス格納の第1段階の状態を示す図で
ある。
【図57】 アドレス格納の第2段階の状態を示す図で
ある。
【図58】 アドレス格納の第3段階の状態を示す図で
ある。
【図59】 アドレス格納の第4段階の状態を示す図で
ある。
【図60】 アドレス格納の第5段階の状態を示す図で
ある。
【図61】 アドレス格納の第6段階の状態を示す図で
ある。
【図62】 アドレス格納の第7段階の状態を示す図で
ある。
【図63】 検査完了後のアドレス格納の状態を示す図
である。
【図64】 検査時の不良アドレスの格納および検査終
了後の救済判定のフローを示すフローチャートである。
【図65】 検査時の不良アドレスの格納および検査終
了後の救済判定のフローを示すフローチャートである。
【図66】 救済用アドレスがアドレス処理部から各バ
ンクのプログラム処理部に選択される様子を説明するた
めの図である。
【図67】 従来のBIST(ビルトインセルフテス
ト)機能付のメモリのブロック構成を示すブロック図で
ある。
【符号の説明】
10 ロウプリデコーダ、14 コラムプリデコーダ、
RD ロウデコーダ、CD コラムデコーダ、22 デ
ータ変換部、30 DLL回路、64,64a〜64
f,641,642 入出力回路、102,104 リ
ードアンプ、122,124 ライトアンプ、RDB
リードデータバス、WDB ライトデータバス、14
6,148,154,156,L1,L2 ラッチ、1
42,143レシーバ、158 バスドライバ、16
2,164,172,174,180,182 シフト
レジスタ、150 出力バッファ、152 入力バッフ
ァ、302,MPX マルチプレクサ、MAT1〜MA
T4,MAT11〜MAT12,230,250 一致
検出回路、OBUF 出力バッファ、DQi,DQj,
DQk データ入出力端子、234,238、E11
1,E112,E121,E122,251,G1,G
2 EXOR回路、236,240,252,254
切換回路、E113,E123 OR回路、E41,E
51 ゲート回路、E42,E52 AND回路、IV
SW 反転スイッチ、DF1〜DF9,R#00〜R#
mn フリップフロップ、650 PLL回路、649
BIST回路、PG パターンジェネレート部、BR
AM RAM部、SR1〜SR6 ステップ、666
ラッチ回路、682 カウンタ、IDEC デコーダ、
TG#00〜TG#mn トランスファゲート、MN4
NチャネルMOSトランジスタ、SVIHDEC 検
知回路、SW01,SW02 スイッチ回路、RDC縮
退回路、801 不良検知回路、816,820 エッ
ジ検出回路、RRED冗長行、CRED 冗長列、84
2 アドレス処理部、848 アドレスプログラムラッ
チ、FR#1〜FR#6,FC#1〜FC#6 フラグ
保持部、RA♯1〜RA♯6,CA♯1〜CA♯6 ア
ドレスレジスタ、CR♯1〜CR♯6,CC♯1〜CC
♯6 カウンタ、1000,2000 同期型半導体記
憶装置。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリアレイと、 前記メモリアレイから第1、第2の記憶データをアドレ
    ス信号に応じて一括して読出しを行う読出回路と、 前記第1、第2の記憶データをそれぞれ受ける第1、第
    2のデータバスと、 前記第1、第2のデータバスから前記第1、第2の記憶
    データを受ける第1の入出力回路とを備え、 前記第1の入出力回路は、 前記第1、第2の記憶データをともに受け、第1、第2
    の出力データを出力するデータ処理部を含み、 前記データ処理部は、通常動作時には前記第1、第2の
    出力データとしてそれぞれ前記第1、第2の記憶データ
    を出力し、テスト時には前記第1、第2の記憶データに
    所定の変換処理を施し前記第1、第2の出力データを発
    生し、 前記第1、第2の出力データをそれぞれ受ける第1、第
    2のデータ保持回路と、 前記第1、第2のデータ保持回路が保持した前記第1、
    第2の出力データをうけて、クロック信号に応じて交互
    に出力する出力回路とをさらに含み、 前記出力回路の出力を受ける第1の出力ノードをさらに
    備える、同期型半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 通常動作時に前記メモリアレイから前記
    第1、第2の記憶データとともに一括して読み出される
    第3、第4の記憶データを受けて、前記クロック信号に
    応じて交互に出力する第2の入出力回路と、 通常動作時に前記第2の入出力回路の出力を受ける第2
    の出力ノードとをさらに備え、 前記データ処理部は、 少なくとも前記第1の記憶データと前記第3の記憶デー
    タとの一致判定結果に応じて前記第1の出力データを前
    記テスト時に出力する第1の縮退回路と、 少なくとも前記第2の記憶データと前記第4の記憶デー
    タとの一致判定結果に応じて前記第2の出力データを前
    記テスト時に出力する第2の縮退回路とを含む、請求項
    1に記載の同期型半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 通常動作時に前記メモリアレイから前記
    第1、第2の記憶データとともに一括して読み出される
    第5、第6の記憶データを受けて、前記クロック信号に
    応じて交互に出力する第3の入出力回路と、 通常動作時に前記第3の入出力回路の出力を受ける第3
    の出力ノードとをさらに備え、 前記第1の縮退回路は、 少なくとも前記第1の記憶データと前記第3の記憶デー
    タとの一致判定を行う第1の一致判定回路と、 少なくとも前記第1の記憶データと前記第5の記憶デー
    タとの一致判定を行う第2の一致判定回路と、 前記第1、第2の一致判定回路がともに一致を検出した
    ときに、前記テスト時に前記第1の出力データを活性化
    する第1のゲート回路とを有し、 前記第2の縮退回路は、 少なくとも前記第2の記憶データと前記第4の記憶デー
    タとの一致判定を行う第3の一致判定回路と、 少なくとも前記第2の記憶データと前記第6の記憶デー
    タとの一致判定を行う第4の一致判定回路と、 前記第3、第4の一致判定回路がともに一致を検出した
    ときに、前記テスト時に前記第2の出力データを活性化
    する第2のゲート回路とを有する、請求項2に記載の同
    期型半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 通常動作時に前記メモリアレイから前記
    第1、第2の記憶データとともに一括して読み出される
    第3、第4の記憶データを受けて、前記クロック信号に
    応じて交互に出力する第2の入出力回路と、 通常動作時に前記第2の入出力回路の出力を受ける第2
    の出力ノードとをさらに備え、 前記データ処理部は、 少なくとも前記第1ないし第4の記憶データが一致する
    ことを判定し、判定結果をともに前記第1、第2の出力
    データとして前記テスト時に出力する第1の一致判定回
    路を含む、請求項1に記載の同期型半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記出力回路は、前記クロック信号の活
    性化、不活性化にそれぞれ応じて前記第1、第2の出力
    データを出力する、請求項4に記載の同期型半導体記憶
    装置。
  6. 【請求項6】 メモリアレイと、 前記メモリアレイに対するセルフテストの実行を制御
    し、前記メモリアレイにアドレス信号とコマンド信号と
    を与え、かつ、記憶データを授受するBIST(ビルト
    インセルフテスト)制御回路と、 前記セルフテストが実行可能かどうかをテストする予備
    テストを実行する予備テストモード時に、前記予備テス
    トのテスト結果を出力する第1の端子とを備える、同期
    型半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 前記セルフテストの実行を指定するため
    に第1の電源電位を超える第1の所定電位が加えられる
    第2の端子と、 前記第2の端子に前記所定の電位が与えられたことを検
    知する検知回路と、 前記検知回路の出力に応じてBIST実行フラグがセッ
    トされ、前記BIST実行フラグを前記BIST制御回
    路に対して出力するフラグ保持部と、 前記検知回路が前記検知をしたことを前記予備テストモ
    ードにおいて前記第1の端子に出力する出力回路とを含
    む、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記BIST制御回路は、 前記セルフテストの手順に対応するテストデータを格納
    するRAM部と、 前記RAM部に記憶された前記テストデータに基づき前
    記セルフテストの制御を行うパターンジェネレート部と
    を含み、 前記テスト結果は、 前記RAM部に記憶された前記テストデータを含み、 前記RAM部は、 前記セルフテスト実行時に前記パターンジェネレート部
    によって選択される単位である第1ないし第n群の記憶
    ユニット(nは自然数)を含み、 各前記群の記憶ユニットは、 前記セルフテスト実行時には一括して選択され、前記パ
    ターンジェネレート部に前記テストデータを出力し、前
    記予備テストモードにおいては直列に接続されたシフト
    レジスタとなる、m個の記憶ユニットをそれぞれ有し
    (mは自然数)、 前記予備テストモードにおいて、前記第1群の記憶ユニ
    ットは、前記第1の端子から前記テストデータを受けて
    前記第2群の記憶ユニットに出力し、 前記予備テストモードにおいて、前記第i群(iは2〜
    n−1の自然数)の記憶ユニットは、前記第(i+1)
    群の記憶ユニットに前記テストデータを出力し、 前記予備テストモードにおいて、前記第n群の記憶ユニ
    ットは、前記第1の端子に前記テストデータを出力す
    る、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記BIST制御回路は、前記セルフテ
    スト実行時において、前記メモリアレイに不良箇所が発
    見されると、前記セルフテストを一時中断し、前記不良
    箇所に対応する不良アドレスの各ビットをシーケンシャ
    ルに出力し、 各前記ビットを受けて外部に出力する第2の端子をさら
    に備える、請求項6に記載の同期型半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 前記メモリアレイからの複数の読出デ
    ータの一致を検出する不良検知回路と、 前記不良検知回路の出力に応じて前記セルフテストを一
    時中断するサスペンドフラグを出力するフラグ保持部
    と、 前記サスペンドフラグに応じて前記不良アドレス出力動
    作を実施するための認識信号を外部に出力する第3の端
    子と、 外部から前記不良アドレスの受信が完了したことを示す
    完了信号が入力される第4の端子と、 前記完了信号に応じて前記フラグ保持部にサスペンドフ
    ラグのリセット信号を出力する完了検出回路とをさらに
    備える、請求項9に記載の同期型半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】 前記メモリアレイは、 行列状に配列される複数の正規のメモリセルと、 冗長メモリセルからなる複数の冗長行と、 冗長メモリセルからなる複数の冗長列とを含み、 前記メモリアレイからの複数の読出データの一致を検出
    する不良検知回路と、 前記不良検知回路の出力に応じて前記不良箇所に対応す
    る不良アドレスを受け、アドレス処理を行い、対応する
    情報を保持し、前記BIST制御回路が出力するテスト
    終了信号に応じて前記冗長行への置換を実施する行と冗
    長列への置換を実施する列とにそれぞれ対応する置換行
    アドレスと置換列アドレスとを決定するアドレス処理部
    と、 前記不良検知回路の出力に応じて前記セルフテストを一
    時中断するサスペンドフラグを出力し、前記アドレス処
    理部から前記アドレス処理の終了を示す処理完了信号を
    受けて前記サスペンドフラグをリセットするフラグ保持
    部とをさらに備える、請求項6に記載の同期型半導体記
    憶装置。
  12. 【請求項12】 前記アドレス処理部は、 冗長行の数と冗長列の数の和である第1の数のアドレス
    保持部を含み、 各前記アドレス保持部は、 不良アドレスの行アドレスを保持する行アドレスレジス
    タと、 前記行アドレスレジスタに対応して設けられ、前記行ア
    ドレスレジスタが格納している行アドレスの検出回数を
    計数する行カウンタと、 前記行アドレスレジスタに対応して設けられ、前記行ア
    ドレスレジスタが格納している行アドレスが置換決定さ
    れたことを保持する行フラグ設定部と、 不良アドレスの列アドレスを保持する列アドレスレジス
    タと、 前記列アドレスレジスタに対応して設けられ、前記列ア
    ドレスレジスタが格納している列アドレスの検出回数を
    計数する列カウンタと、 前記列アドレスレジスタに対応して設けられ、前記列ア
    ドレスレジスタが格納している列アドレスが置換決定さ
    れたことを保持する列フラグ設定部とを含み、 前記アドレス処理部は、前記列アドレスカウンタおよび
    前記行アドレスカウンタの計数値に基づいて前記行アド
    レス置換および列アドレス置換を決定する、請求項11
    に記載の同期型半導体記憶装置。
  13. 【請求項13】 前記BIST制御回路が出力するテス
    ト終了信号に応じて、前記アドレス処理部が決定した前
    記置換アドレスを受け置換アドレスを保持し、前記メモ
    リアレイの通常読出時の指定アドレスが前記置換アドレ
    スと一致した時に置換指示信号を出力する置換アドレス
    設定部をさらに備え、 前記置換アドレス設定部は、 前記テスト終了信号に応じて前記置換アドレスを受けて
    保持する不揮発性記憶素子を含む、請求項11に記載の
    同期型半導体記憶装置。
  14. 【請求項14】 前記BIST制御回路が出力するテス
    ト終了信号に応じて、前記アドレス処理部が決定した前
    記置換アドレスを受け置換アドレスを保持し、前記メモ
    リアレイの通常読出時の指定アドレスが前記置換アドレ
    スと一致した時に置換指示信号を出力する置換アドレス
    設定部をさらに備え、 前記置換アドレス設定部は、 前記テスト終了信号に応じて、アドレスに対応して導通
    状態が変更される複数のヒューズ素子を含む、請求項1
    1に記載の同期型半導体記憶装置。
  15. 【請求項15】 第1の端子群と、 前記メモリアレイと前記第1入出力端子群との間に設け
    られ、前記セルフテスト実行時に活性化され前記内部回
    路の状態を示すデータ群を前記第1の入出力端子群に出
    力するデータ伝達回路とをさらに備え、 前記データ群は、 ともに前記メモリアレイの記憶動作に用いられるコマン
    ドデータとアドレスデータと記憶データに対応するテス
    ト出力データとを含む、請求項6に記載の同期型半導体
    記憶装置。
  16. 【請求項16】 前記コマンドデータ、前記アドレスデ
    ータ、前記記憶データのいずれかを縮退し、前記テスト
    出力データを出力する縮退回路をさらに備える、請求項
    15に記載の同期型半導体記憶装置。
  17. 【請求項17】 同期型半導体記憶装置のテスト方法で
    あって、 前記同期型半導体記憶装置は、 メモリアレイと、 前記メモリアレイに対するビルトインセルフテスト(B
    IST)の実行を制御し、前記メモリアレイにアドレス
    信号とコマンド信号とを与え、かつ、記憶データを授受
    するBIST制御回路と、 前記ビルトインセルフテスト(BIST)が実行可能か
    どうかをテストする予備テストを実行する予備テストモ
    ード時に、前記予備テストのテスト結果を出力する第1
    の端子とを備え、 前記BIST制御回路は、 前記セルフテストの手順に対応するテストデータを格納
    するRAM部と、 前記RAM部に記憶された前記テストデータに基づき前
    記セルフテストの制御を行うパターンジェネレート部と
    を含み、 前記テスト結果は、 前記RAM部に記憶された前記テストデータを含み、 前記RAM部は、 前記セルフテスト実行時に前記パターンジェネレート部
    によって選択される単位である第1ないし第n群の記憶
    ユニット(nは自然数)を含み、 各前記群の記憶ユニットは、 前記セルフテスト実行時には一括して選択され、前記パ
    ターンジェネレート部に前記テストデータを出力し、前
    記予備テストモードにおいては直列に接続されたシフト
    レジスタとなる、m個の記憶ユニットをそれぞれ有し
    (mは自然数)、 前記第1の端子から前記テストデータを入力し前記第1
    群ないし第n群の記憶ユニットに順次データをシフトし
    て格納する第1のステップと、 前記テストデータを前記第1の端子を介して前記第n群
    の記憶ユニットから第1ないし第n群の記憶ユニットに
    設定された前記テストデータを順にシフトして読出す第
    2のステップとを備える、同期型半導体記憶装置のテス
    ト方法。
  18. 【請求項18】 メモリアレイと、 クロック信号に応じて前記メモリアレイから一括して読
    み出される複数の記憶データを受けて一致を検出する第
    1の一致検出回路と、 前記一致検出回路の出力をうけるシフトレジスタとを備
    え、 前記シフトレジスタは、 前記クロック信号に応じて前記記憶データの取込みおよ
    び保持データの出力を行う、直列に接続された第1ない
    し第nの保持回路を含み(nは2以上の自然数)、 前記第1ないし第nの保持回路の出力がすべて一致する
    か否かを判定する第2の一致検出回路をさらに備える、
    同期型半導体記憶装置。
JP01050799A 1999-01-19 1999-01-19 同期型半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP4204685B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01050799A JP4204685B2 (ja) 1999-01-19 1999-01-19 同期型半導体記憶装置
US09/333,649 US6421789B1 (en) 1999-01-19 1999-06-16 Synchronous semiconductor memory device capable of reducing test cost and method of testing the same
US10/190,693 US6546503B2 (en) 1999-01-19 2002-07-09 Synchronous semiconductor memory device capable of reducing test cost and method of testing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01050799A JP4204685B2 (ja) 1999-01-19 1999-01-19 同期型半導体記憶装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008205696A Division JP2008293652A (ja) 2008-08-08 2008-08-08 同期型半導体記憶装置およびそのテスト方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2000215693A true JP2000215693A (ja) 2000-08-04
JP2000215693A5 JP2000215693A5 (ja) 2006-02-23
JP4204685B2 JP4204685B2 (ja) 2009-01-07

Family

ID=11752139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01050799A Expired - Fee Related JP4204685B2 (ja) 1999-01-19 1999-01-19 同期型半導体記憶装置

Country Status (2)

Country Link
US (2) US6421789B1 (ja)
JP (1) JP4204685B2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001202798A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Fujitsu Ltd 半導体装置
JP2004152476A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Hynix Semiconductor Inc テスト性能が改善された半導体メモリ装置
JP2008047243A (ja) * 2006-08-18 2008-02-28 Fujitsu Ltd 集積回路
US7457176B2 (en) 2006-10-12 2008-11-25 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory and memory module
US7562269B2 (en) 2003-04-08 2009-07-14 Elpida Memory, Inc. Semiconductor storage device
US7584315B2 (en) 2003-04-10 2009-09-01 Panasonic Corporation Integrated circuit monitoring an internal signal converted from an analog input signal
JP2021503091A (ja) * 2017-11-15 2021-02-04 プロテアンテクス リミテッド 集積回路マージン測定および故障予測装置
US11391771B2 (en) 2017-11-23 2022-07-19 Proteantecs Ltd. Integrated circuit pad failure detection
US11740281B2 (en) 2018-01-08 2023-08-29 Proteantecs Ltd. Integrated circuit degradation estimation and time-of-failure prediction using workload and margin sensing
US11762789B2 (en) 2018-12-30 2023-09-19 Proteantecs Ltd. Integrated circuit I/O integrity and degradation monitoring
US11762013B2 (en) 2018-04-16 2023-09-19 Proteantecs Ltd. Integrated circuit profiling and anomaly detection
US11929131B2 (en) 2019-12-04 2024-03-12 Proteantecs Ltd. Memory device degradation monitoring

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19831572A1 (de) * 1998-07-14 2000-01-20 Siemens Ag Anordnung und Verfahren zum Speichern der mit einer BIST-Schaltung erhaltenen Testergebnisse
JP4056672B2 (ja) * 2000-02-29 2008-03-05 シャープ株式会社 半導体装置および表示装置モジュール
JP4782271B2 (ja) * 2000-07-06 2011-09-28 株式会社アドバンテスト 半導体デバイス試験方法・半導体デバイス試験装置
US7036064B1 (en) 2000-11-13 2006-04-25 Omar Kebichi Synchronization point across different memory BIST controllers
JP4712183B2 (ja) * 2000-11-30 2011-06-29 富士通セミコンダクター株式会社 同期型半導体装置、及び試験システム
US6529428B2 (en) * 2001-05-22 2003-03-04 G-Link Technology Multi-bit parallel testing for memory devices
US20030065931A1 (en) * 2001-07-11 2003-04-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit, method for testing semiconductor integrated circuit, and semiconductor storage apparatus
DE60237301D1 (de) * 2001-10-22 2010-09-23 Rambus Inc Phaseneinstellvorrichtung und verfahren für ein speicherbaustein-signalisierungssystem
JP3966718B2 (ja) * 2001-11-28 2007-08-29 富士通株式会社 半導体記憶装置
JP3795822B2 (ja) * 2002-04-03 2006-07-12 Necエレクトロニクス株式会社 組込み自己テスト回路及び設計検証方法
US7319728B2 (en) * 2002-05-16 2008-01-15 Micron Technology, Inc. Delay locked loop with frequency control
US6801070B2 (en) * 2002-05-16 2004-10-05 Micron Technology, Inc. Measure-controlled circuit with frequency control
US6917215B2 (en) * 2002-08-30 2005-07-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit and memory test method
EP1447813B9 (en) * 2003-02-12 2008-10-22 Infineon Technologies AG Memory built-in self repair (MBISR) circuits / devices and method for repairing a memory comprising a memory built-in self repair (MBISR) structure
US7251761B2 (en) * 2003-02-13 2007-07-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Assembly for LSI test and method for the test
JP4601305B2 (ja) * 2004-02-27 2010-12-22 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置
JP4401205B2 (ja) * 2004-03-19 2010-01-20 Necエレクトロニクス株式会社 テスト回路及び回路テスト方法
DE102004022326B4 (de) * 2004-05-06 2008-04-03 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers
DE102004024668A1 (de) * 2004-05-18 2005-12-15 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Testen von elektronischen Schaltungseinheiten und Testvorrichtung
KR100604888B1 (ko) * 2004-07-16 2006-07-31 삼성전자주식회사 개선된 테스트 회로를 구비하는 집적회로 장치 및집적회로 장치 테스트 방법
JP2006107590A (ja) * 2004-10-04 2006-04-20 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置及びそのテスト方法
DE102005011893B3 (de) * 2005-03-15 2006-09-21 Infineon Technologies Ag Halbleiterspeicherbauelement und Verfahren zum Prüfen von Halbleiterspeicherbauelementen mit eingeschränktem Speicherbereich (Partial-Good-Memorys)
DE102005011892A1 (de) * 2005-03-15 2006-09-21 Infineon Technologies Ag Halbleiterspeicherbauelement und Verfahren zum Prüfen von Halbleiterspeicherbauelementen mit eingeschränktem Speicherbereich (Partial-Good-Memorys)
DE102005011874B4 (de) * 2005-03-15 2009-08-13 Qimonda Ag Halbleiterspeicherbauelement und Verfahren zum Prüfen von Halbleiterspeicherbauelementen mit eingeschränktem Speicherbereich (Partial-Good-Memorys)
JP4997824B2 (ja) * 2005-12-07 2012-08-08 ソニー株式会社 半導体装置およびデータ記憶装置
US7685491B2 (en) * 2006-04-05 2010-03-23 Xijiang Lin Test generation methods for reducing power dissipation and supply currents
KR100850204B1 (ko) * 2006-11-04 2008-08-04 삼성전자주식회사 고속 반도체 메모리 장치를 테스트하기 위한 고주파 커맨드 신호 및 어드레스 신호 생성 방법 및 장치
KR100791348B1 (ko) * 2006-12-15 2008-01-03 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 그 병렬 비트 테스트 방법
TWI336890B (en) * 2007-12-21 2011-02-01 Nat Univ Tsing Hua Built-in self-repair method for nand flash memory and system thereof
JP2009176375A (ja) * 2008-01-25 2009-08-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
US8112681B2 (en) * 2008-01-29 2012-02-07 Arm Limited Method and apparatus for handling fuse data for repairing faulty elements within an IC
JP2009187615A (ja) * 2008-02-05 2009-08-20 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置
JP2010281797A (ja) * 2009-06-08 2010-12-16 Toshiba Corp 半導体試験装置およびそれを用いた試験方法
WO2010143489A1 (ja) * 2009-06-10 2010-12-16 シャープ株式会社 表示用駆動回路およびそれを備える基板モジュール
JP4947395B2 (ja) * 2010-01-07 2012-06-06 横河電機株式会社 半導体試験装置
US8943377B2 (en) * 2012-08-15 2015-01-27 International Business Machines Corporation On-chip detection of types of operations tested by an LBIST
US9202532B2 (en) * 2012-09-13 2015-12-01 Winbond Electronics Corp. Burst sequence control and multi-valued fuse scheme in memory device
KR101991900B1 (ko) * 2013-03-13 2019-06-24 삼성전자주식회사 메모리 장치의 동작 방법, 이를 이용한 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템
JP2015046205A (ja) 2013-08-27 2015-03-12 マイクロン テクノロジー, インク. 半導体装置
KR20150033950A (ko) * 2013-09-25 2015-04-02 에스케이하이닉스 주식회사 어드레스 검출회로, 메모리 및 메모리 시스템
JP2015207334A (ja) 2014-04-23 2015-11-19 マイクロン テクノロジー, インク. 半導体装置
KR102204390B1 (ko) * 2014-09-12 2021-01-18 삼성전자주식회사 빠른 불량 셀 구제 동작의 메모리 장치
KR20160075175A (ko) * 2014-12-19 2016-06-29 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치
US9536625B1 (en) * 2015-06-22 2017-01-03 Qualcomm Incorporated Circuitry and method for critical path timing speculation in RAMs
US20170263299A1 (en) * 2016-03-11 2017-09-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device
US10685733B2 (en) * 2016-12-27 2020-06-16 SK Hynix Inc. Electronic device for changing short-type defective memory cell to open-type defective memory cell by applying stress pulse
US10134482B2 (en) * 2017-01-17 2018-11-20 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for high speed writing test mode for memories
JP6901682B2 (ja) * 2017-09-12 2021-07-14 富士通株式会社 記憶装置、演算処理装置及び記憶装置の制御方法
US11705214B2 (en) * 2020-03-30 2023-07-18 Micron Technologv. Inc. Apparatuses and methods for self-test mode abort circuit
KR20220014236A (ko) * 2020-07-28 2022-02-04 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치 및 그 동작 방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5157781A (en) * 1990-01-02 1992-10-20 Motorola, Inc. Data processor test architecture
EP0640986A1 (de) 1993-08-26 1995-03-01 Siemens Aktiengesellschaft Halbleiterspeicheranordnung und Verfahren zum Testen dieser Halbleiterspeicheranordnung
US5721860A (en) * 1994-05-24 1998-02-24 Intel Corporation Memory controller for independently supporting synchronous and asynchronous DRAM memories
US5577236A (en) * 1994-12-30 1996-11-19 International Business Machines Corporation Memory controller for reading data from synchronous RAM
US6467054B1 (en) * 1995-03-13 2002-10-15 Compaq Computer Corporation Self test for storage device
JP3089192B2 (ja) 1995-07-20 2000-09-18 日立電子エンジニアリング株式会社 Ic試験装置
JPH09231743A (ja) 1996-02-22 1997-09-05 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置および試験方法
US6141768A (en) * 1998-03-12 2000-10-31 Winbond Electronics Corp. Self-corrective memory system and method
JP2000011691A (ja) * 1998-06-16 2000-01-14 Mitsubishi Electric Corp 半導体試験装置
US6415403B1 (en) * 1999-01-29 2002-07-02 Global Unichip Corporation Programmable built in self test for embedded DRAM

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001202798A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Fujitsu Ltd 半導体装置
JP2004152476A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Hynix Semiconductor Inc テスト性能が改善された半導体メモリ装置
US7562269B2 (en) 2003-04-08 2009-07-14 Elpida Memory, Inc. Semiconductor storage device
US7584315B2 (en) 2003-04-10 2009-09-01 Panasonic Corporation Integrated circuit monitoring an internal signal converted from an analog input signal
JP2008047243A (ja) * 2006-08-18 2008-02-28 Fujitsu Ltd 集積回路
US7457176B2 (en) 2006-10-12 2008-11-25 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory and memory module
JP2021503091A (ja) * 2017-11-15 2021-02-04 プロテアンテクス リミテッド 集積回路マージン測定および故障予測装置
US11385282B2 (en) 2017-11-15 2022-07-12 Proteantecs Ltd. Integrated circuit margin measurement and failure prediction device
JP7130757B2 (ja) 2017-11-15 2022-09-05 プロテアンテクス リミテッド 集積回路マージン測定および故障予測装置
US11841395B2 (en) 2017-11-15 2023-12-12 Proteantecs Ltd. Integrated circuit margin measurement and failure prediction device
US11391771B2 (en) 2017-11-23 2022-07-19 Proteantecs Ltd. Integrated circuit pad failure detection
US11740281B2 (en) 2018-01-08 2023-08-29 Proteantecs Ltd. Integrated circuit degradation estimation and time-of-failure prediction using workload and margin sensing
US11762013B2 (en) 2018-04-16 2023-09-19 Proteantecs Ltd. Integrated circuit profiling and anomaly detection
US11762789B2 (en) 2018-12-30 2023-09-19 Proteantecs Ltd. Integrated circuit I/O integrity and degradation monitoring
US11929131B2 (en) 2019-12-04 2024-03-12 Proteantecs Ltd. Memory device degradation monitoring

Also Published As

Publication number Publication date
JP4204685B2 (ja) 2009-01-07
US6546503B2 (en) 2003-04-08
US20020194546A1 (en) 2002-12-19
US6421789B1 (en) 2002-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4204685B2 (ja) 同期型半導体記憶装置
JP3346827B2 (ja) 同期型半導体記憶装置
US7275200B2 (en) Transparent error correcting memory that supports partial-word write
US20190198090A1 (en) Systems and methods for performing row hammer refresh operations in redundant memory
US5917764A (en) Semiconductor memory device
JP2000076853A (ja) 同期型半導体記憶装置
US6625072B2 (en) Semiconductor integrated circuit device provided with a self-testing circuit for carrying out an analysis for repair by using a redundant memory cell
JP2000207900A (ja) 同期型半導体記憶装置
JP2001236797A (ja) 自己試験回路及びそれを内蔵するメモリデバイス
JPH08297999A (ja) 自己試験機能を有するdram
US11276456B2 (en) Systems and methods for capture and replacement of hammered word line address
JPH06267298A (ja) 並列ビットテストモード内蔵半導体メモリ
CN111833957A (zh) 用于存储器装置的可配置相关联修复地址以及电路
JP2002343100A (ja) プリチャージ制御信号生成回路及びこれを用いた半導体メモリ装置
US6304502B1 (en) Semiconductor memory device connected to memory controller and memory system employing the same
JP2002352595A (ja) リダンダンシー回路を有する半導体メモリ装置
WO2006066946A1 (en) Internal column counter for testing a memory in a compression test mode and method of operation thereof
JP4044538B2 (ja) 半導体装置
JP2003187600A (ja) 半導体集積回路装置
US6198667B1 (en) Plural memory banks device that can simultaneously read from or write to all of the memory banks during testing
US8274854B2 (en) Semiconductor storage device and method for producing semiconductor storage device
JP2002251900A (ja) 半導体記憶装置
JP3866818B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2008293652A (ja) 同期型半導体記憶装置およびそのテスト方法
US20210280267A1 (en) Configurable Soft Post-Package Repair (SPPR) Schemes

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060104

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060104

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080624

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080808

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081007

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081015

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131024

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees