JP2006107590A - 半導体集積回路装置及びそのテスト方法 - Google Patents

半導体集積回路装置及びそのテスト方法 Download PDF

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Abstract

【課題】
メモリマクロに対して冗長置き換え情報を記憶する不揮発性記憶回路の数を削減できるとともに、冗長置き換え情報の転送のための入出力回路を簡素化できる半導体集積回路装置を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる半導体集積回路装置では、不良セルを置き換える冗長回路を有する複数のメモリマクロ3と、複数のメモリマクロ3から選択される第1のメモリマクロ3の不良セルを冗長回路に置き換えるための冗長置き換え情報を記憶する複数のヒューズボックス2とを備え、冗長置き換え情報は、ヒューズボックス2からメモリマクロ3へ並列に転送される。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体集積回路装置そのテスト方法に関し、特に、冗長回路を有する半導体集積回路装置及びそのテスト方法に関する。
近年、電子機器の小型化、多機能化が急速に進んでおり、これを実現するために、より集積度の高い半導体集積回路装置が望まれている。このような半導体集積回路装置として、例えば、複数の機能を1つの半導体チップに集約するSOC(System On a Chip)やシステムLSIが知られている。また、システムLSI等の半導体集積回路装置は、信頼性確保のため製造不良がないか否かテストが行われて、テストをパスした良品のみが出荷される。例えば、メモリのテストで不良が発見された場合には、不良箇所を冗長回路に置き換えて不良箇所の救済が行われている。
図10に従来の半導体集積回路装置を示す。この従来の半導体集積回路装置101は、システムLSIであり、機能や用途に応じた複数のメモリマクロ103と、メモリマクロ103の不良セルを救済するための複数のヒューズボックス102を備えている。
メモリマクロ103には、図示しないメモリセルと冗長回路が含まれており、メモリセルのうちの不良セルを冗長回路に置き換えることで、不良セルが救済される。
ヒューズボックス102には、複数のヒューズが設けられており、これらのヒューズの切断状態によって所望のデータを記憶する。ヒューズボックス102は、メモリセルのうちで不良セルを特定するためのアドレス(不良アドレス)を記憶しており、この不良アドレスがメモリマクロ103へ転送されて、該当する不良セルが冗長回路に置き換えられる。
しかしながら、従来の半導体集積回路装置101では、全てのメモリマクロ103と全てのヒューズボックス102とがそれぞれ1対1で接続されるため、メモリマクロ103と同じ数のヒューズボックス102が必要である。レーザ切断や過電流溶断に要するヒューズ本体の物理的大きさや、切断箇所周辺への悪影響を考慮して周辺領域を空けるための面積をも要するといったヒューズの構造上、半導体プロセスが微細化されても、ヒューズの大きさを小さくすることは困難である。したがって、半導体集積回路装置の微細化・高集積化が進むにつれて、半導体集積回路装置の中で、ヒューズの回路面積の占める割合が大きくなってしまう。特に、システムLSIでは、汎用のメモリチップと比べて、記憶容量の小さいメモリマクロが数多く存在するため、ヒューズボックス102の数が多くなりヒューズの回路面積が非常に大きくなってしまう。
このような問題を解決しうる半導体集積回路装置として、特許文献1のものが知られている。特許文献1では、不良アドレス等の冗長置き換え情報を圧縮することでヒューズの数を削減している。
特開2004−133970号公報
しかしながら、上記の特許文献1の方法では、ヒューズボックスからメモリマクロへ冗長置き換え情報の転送時に、データを圧縮・伸張しており、さらに、データをシリアルに転送している。このため、複雑な圧縮・伸張回路やデータ解析回路等が必要になってしまうとともに、データ転送に時間がかかってしまう。データ転送用の入出力回路が複雑になると、回路面積が大きくなってしまい、さらに、メモリマクロ数の変更等の場合には、圧縮・伸張回路やデータ解析回路等を設計しなおす必要があるため拡張性が低く、設計工数が増大してしまう。
このように、従来の半導体集積回路装置では、メモリマクロに対して冗長置き換え情報を記憶する不揮発性記憶回路の数を削減しようとすると、冗長置き換え情報の転送のための入出力回路が複雑になってしまうという問題点があった。
本発明にかかる半導体集積回路装置は、不良セルを置き換える冗長回路を有する複数のメモリマクロと、前記複数のメモリマクロから選択される第1のメモリマクロの不良セルを前記冗長回路に置き換えるための冗長置き換え情報を記憶する複数ビット分の不揮発性記憶素子とを備え、前記冗長置き換え情報を、前記複数ビット分の不揮発性記憶素子から前記複数のメモリマクロへ複数ビット並列に転送するものである。
本発明にかかる半導体集積回路装置によれば、複数ビット分の不揮発性記憶素子(例えば、ヒューズボックス)に複数のうちから選択されるメモリマクロの冗長置き換え情報を記憶することにより、不揮発性記憶素子の数をより少なくすることができる。さらに、冗長置き換え情報を複数ビット並列に転送することにより、冗長置き換え情報を操作することなくそのまま転送できるようになる。これにより、冗長置き換え情報の転送するための入出力回路を簡素化することができる。
また、本発明にかかるテスト方法は、メモリマクロとテスト回路とヒューズボックスとを有する半導体集積回路装置のテスト方法であって、前記テスト回路によって前記メモリマクロをテストし、前記テストの結果に基づいて、前記メモリマクロを識別するメモリマクロ識別情報と前記メモリマクロの前記不良セルを識別する不良アドレスとを含む冗長置き換え情報を前記ヒューズボックスに記憶し、前記冗長置き換え情報に基づいて前記メモリマクロの不良セルを冗長回路に置き換えるものである。これにより、効率よくメモリマクロのテストを行うことができる。
本発明によれば、メモリマクロに対して冗長置き換え情報を記憶する不揮発性記憶回路の数を削減できるとともに、冗長置き換え情報の転送のための入出力回路を簡素化できる半導体集積回路装置を提供することができる。
発明の実施の形態1.
まず、図1乃至図5を用いて、本発明の実施の形態1にかかる半導体集積回路装置について説明する。本実施形態にかかる半導体集積回路装置は、メモリマクロよりも少ない数のヒューズボックスを有し、冗長置き換え情報を一度に転送することを特徴としている。
ここで、図1を用いて、本実施形態にかかる半導体集積回路装置の構成について説明する。図に示されるように、半導体集積回路装置1は、複数のヒューズボックス2と複数のメモリマクロ3を備えており、複数のヒューズボックス2のそれぞれと複数のメモリマクロ3のそれぞれとは、ヒューズバス4を介して接続されている。
半導体集積回路装置1は、例えば、複数の機能を有するシステムLSIであり、図示しないCPUコアや周辺モジュール等(例えば、DSP:Digital Signal Processor)が設けられており、CPUコアや周辺モジュール等は、メモリマクロ3にデータを格納し所望の処理を行っている。
ヒューズボックス2は、複数ビット分の不揮発性記憶素子を有する不揮発性記憶回路であり、複数のうちの一つのメモリマクロ3の冗長置き換え情報を記憶する。冗長置き換え情報は、複数ビットの情報であり、後述するように、不良アドレスを伝達すべきメモリマクロを指定するマクロIDや指定されたメモリマクロ内の不良セルのアドレス(不良アドレス)を含んでいる。例えば、ヒューズボックス2は、不揮発性記憶素子として、複数のヒューズを有しており、これらのヒューズの切断状態によって、冗長置き換え情報を記憶する。ヒューズボックス2に記憶された冗長置き換え情報は、例えば、半導体集積回路装置1の初期化時、CPUコアの制御信号によって、ヒューズボックス2からメモリマクロ3へ転送される。
メモリマクロ3は、記憶回路であり、ヒューズボックス2の冗長置き換え情報に基づいて不良セルを置き換える冗長回路を有している。メモリマクロ3は、CPUコアや周辺モジュール等が動作するために必要なデータを記憶する。メモリマクロ3は、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)やSRAM(Static Random Access Memory)等のRAMであるが、冗長回路に置き換え可能であれば、その他の回路でもよい。
また、メモリマクロ3は、例えば、用途ごとに複数設けられており、メモリマクロ3を識別するためにそれぞれマクロIDが設定されている。例えば、メモリマクロ3は、CPUコア用のメモリであれば、メインメモリや命令記憶用のキャッシュメモリ、もしくは、データ記憶用のキャッシュメモリ等である。さらに、メモリマクロ3は、その用途ごとに記憶容量が異なっている。メモリマクロ3の記憶容量は、内蔵するメモリセルにより規定される。例えば、あるメモリマクロ3には、縦512ワード、横8ビット、つまり4Kビットの容量のメモリセルが設けられ、他のメモリマクロ3には、縦4Kワード、横128ビット、つまり512Kビットの容量のメモリセルが設けられている。
図ではメモリマクロ3が5つ、ヒューズボックス2が2つであるが、メモリマクロ3とヒューズボックス2は、任意の数でもよく、メモリマクロ3の数よりもヒューズボックス2の数が少ないことが好ましい。ヒューズボックス2が少ないほど、ヒューズの数が少なくなるため、回路面積を小さくすることができる。
一般に、システムLSIでは、汎用メモリチップと比べて、各メモリマクロ3の記憶容量が小さく、メモリマクロ3の数が非常に多い構成となる。例えば、1Kビットのメモリマクロ3が数十個程度であり、全てのメモリマクロ3の合計の記憶容量は数Mビットである。このような構成では、メモリマクロ3の記憶容量が小さいため、各メモリマクロ3に不良が発生する確率は小さく、不良の発生しないメモリマクロ3が多数存在することになる。したがって、本実施形態では、ヒューズボックス2の数(又は冗長置き換え情報の数)は、メモリマクロ3の数よりも少なく、メモリマクロ3の全体の不良率に応じた数である。すなわち、メモリマクロ3の数ではなく、全てのメモリマクロ3の記憶容量の合計に対して、不良が発生しうるメモリマクロ3の数であることが好ましい。これにより、ヒューズボックス2を最低限必要な数とすることができる。例えば、上記の例では、メモリマクロ3の数十個に対して、ヒューズボックス2が3個もしくは4個程度でよい。
ヒューズバス4は、ヒューズボックス2に記憶された冗長置き換え情報の複数ビットをメモリマクロ3に転送するバスである。特に、ヒューズバス4は、冗長置き換え情報の全ビットを並列に転送できるバス幅であることが好ましい。例えば、ヒューズボックス2から出力された冗長置き換え情報は、ヒューズバス4によって、全てのメモリマクロ3へ同じタイミングで転送される。
次に、図2を用いて、本実施形態にかかるヒューズボックスの構成について説明する。図に示されるように、ヒューズボックス2は、ヒューズセット21と読み出し回路22を備えている。
ヒューズセット21は、冗長置き換え情報を記憶するための複数のヒューズ211を有している。ヒューズ211は、例えば、レーザによって切断される光ヒューズでもよいし、大電流や大電圧によって切断される電気ヒューズでもよい。
これらのヒューズ211は、記憶する冗長置き換え情報のデータに合わせて、メモリマクロ3のマクロID記憶用と不良アドレス記憶用とに区分されている。例えば、メモリマクロ3のマクロIDを記憶するためのヒューズ列212と、メモリマクロ3の第1の不良アドレスを記憶するヒューズ213と、メモリマクロ3の第2の不良アドレスを記憶するヒューズ列214とに区分されている。メモリマクロ3のメモリセルには2つの領域があり(図4)、第1の領域(メモリコア311a)における不良アドレスが第1の不良アドレスであり、第2の領域(メモリコア311b)における不良アドレスが第2の不良アドレスである。
例えば、1つのヒューズ211は、切断状態によって1ビットのデータを記憶し、ヒューズが未切断状態なら「0」、ヒューズが切断状態なら「1」を表すことができる。図の例では、ヒューズ列212,213,214は、それぞれ5つのヒューズ211を有しており、それぞれ5ビットのデータ、つまり0〜31までのデータを記憶できる。すなわち、ヒューズ列212は32個のうち、いずれか一つのマクロID、ヒューズ列213は32個のうち、いずれか一つの第1の不良アドレス、ヒューズ列214は32個のうち、いずれか一つの第2の不良アドレスを記憶できる。
尚、ヒューズ211が配置される位置は、図の例に限られず、任意の配列でもよい。例えば、読み出し回路22を介して、冗長置き換え情報をヒューズバス4へ並列に出力しやすい構成でもよく、ヒューズ211が1列に配列されていてもよい。
ヒューズセット21に記憶される冗長置き換え情報は、例えば、図3に示すように、マクロID、第1の不良アドレス、第2の不良アドレスから構成され、それぞれ5ビットであれば、全体で15ビットのデータとなる。本実施形態では、このように、1つの冗長置き換え情報は、1つのマクロIDと当該メモリマクロ3の全ての不良アドレスを含んでいる。そして、1つのメモリマクロ3に1つの冗長置き換え情報が対応付けられ、1つのヒューズボックス2に1つの冗長置き換え情報が記憶される。
図2の読み出し回路22は、ヒューズセット21から冗長置き換え情報を読み出す読み出し回路であるとともに、メモリマクロ3へ冗長置き換え情報を並列に出力する出力回路である。例えば、読み出し回路22は、各ヒューズ211のそれぞれに電流を供給し、ヒューズ211との接続ノードの電位によって、記憶されているデータの「0」または「1」を認識し、冗長置き換え情報を読み出すことができる。
そして、読み出し回路22は、読み出した冗長置き換え情報をメモリマクロ3へ転送するためヒューズバス4へ出力する。特に、本実施形態では、読み出し回路22は、冗長置き換え情報の全ビットをヒューズバス4へ並列に出力する。すなわち、読み出し回路22は、ヒューズセット21から冗長置き換え情報を同じタイミングで読み出し、さらに、同じタイミングで一度に冗長置き換え情報を出力する。例えば、冗長置き換え情報のデータ長が15ビットであれば、ヒューズバス4のデータバスのバス幅も15ビットである。この場合、ヒューズバス4の1ビット目から5ビット目にマクロID、6ビット目から10ビット目に第1の不良アドレス、11ビット目から15ビット目に第2の不良アドレスを出力する。
冗長置き換え情報を並列に転送することにより、読み出し回路22では、ヒューズセット21から読み出した冗長置き換え情報をパラレル/シリアル変換等することなく、そのままヒューズバス4へ出力できる
次に、図4を用いて、本実施形態にかかるメモリマクロの構成について説明する。図に示されるように、メモリマクロ3は、メモリセル31、切り替え回路32a,32b、デコーダ33、マクロID記憶回路34を有している。
メモリセル31は、複数のセルが配列されたメモリセルアレイであり、メモリコア311a,311bと冗長回路312a,312bを有している。メモリコア311a,311bは、記憶領域であり、冗長回路312a,312bは、不良セルを置き換えるための冗長回路である。
この例では、メモリセル31は、中心線から線対称に設計されており、中心線側にメモリコア311a,311bを設け、両端側に冗長回路312a,312bを設けている。尚、メモリセル31を中心線から区分せずに1つのメモリコアと1つの冗長回路としてもよいし、その他任意の数のメモリコア及び冗長回路としてもよい。冗長回路の数分、冗長置き換え情報の不良アドレスが必要となる。
メモリセル31は、例えば、行方向(横方向)に複数のワード線と列方向(縦方向)に複数のビット線とを有し、これらが格子状に設けられている。ワード線とビット線の交点には、セル(記憶素子)が設けられており、ドライバー回路(不図示)によってワード線とビット線に所定の電位を与えることで、所望のデータを記憶する。
この例では、冗長回路312a,312bは、列方向に設けられており、不良セルは列方向にのみ置き換え可能である。尚、冗長回路を行方向に設けて、行方向にも置き換えられるようにしてもよいし、列方向と行方向を組み合わせて置き換えられるようにしてもよい。
切り替え回路32a,32bは、メモリセル31とドライバー回路との間のビット線の接続を切り替え、不良セルを救済する。例えば、デコーダ33から不良アドレスに対応する切り替え信号を受け取り、切り替え信号に基づいて不良セルのビット線の接続を切り替える。切り替え方法は、例えば、不良セルに接続されていたビット線のみを、単純に冗長回路312a,312bへ接続するように切り替えてもよいし、図5に示すように、複数のビット線を切り替えてもよい。図5では、不良セルに接続していたビット線を、冗長回路312a,312b側、つまり中心線から両端側へ、1ビットずらすように切り替え、このとき不良セルに接続していたビット線だけでなく、不良セルよりも冗長回路312a,312b側の全てのビット線を1ビットずらして接続する。
マクロID記憶回路34は、例えば、ラッチ回路等の記憶回路であり、マクロIDが記憶されている。マクロIDは、メモリマクロを識別するための識別情報であり、各メモリマクロで異なる値があらかじめ記憶されている。
デコーダ33は、冗長置き換え情報を受け取る入力回路であるとともに、冗長置き換え情報を解析し切り替え信号に変換する回路である。デコーダ33は、例えば、比較回路や変換回路で構成することができる。デコーダ33は、ヒューズバス4から冗長置き換え情報の全ビットが入力され、冗長置き換え情報の解析と変換を行う。例えば、デコーダ33は、ヒューズボックス2からヒューズバス4を介して冗長置き換え情報を受け取ると、比較回路に冗長置き換え情報のマクロIDが入力され、変換回路に冗長置き換え情報の不良アドレスが入力される。比較回路は、冗長置き換え情報に含まれるマクロIDとマクロID記憶回路34のマクロIDとを比較する。例えば、比較回路は、ヒューズバス4の1ビット目から5ビット目の5ビットのデータをマクロIDと比較する。
変換回路は、比較回路の比較結果に基づいて不良アドレスを変換する。変換回路は、マクロIDが一致した場合、不良アドレスを切り替え信号に変換し、切り替え信号を切り替え回路32a,32bへ出力する。例えば、ヒューズバス4の6ビット目から10ビット目の5ビットのデータを第1の不良アドレス、ヒューズバス4の11ビット目から15ビット目の5ビットのデータを第2の不良アドレスとして切り替え信号に変換する。例えば、第1の不良アドレスをメモリコア311aの不良アドレスとすると、第1の不良アドレスを変換した切り替え信号を切り替え回路32aへ出力し、第2の不良アドレスをメモリコア311bの不良アドレスとすると、第2の不良アドレスを変換した切り替え信号を切り替え回路32bへ出力する。また、マクロIDが一致しない場合、変換回路は、変換動作を行わなず、切り替え信号を出力しない。
冗長置き換え情報を並列に転送することにより、デコーダ33では、ヒューズバス4から受け取った冗長置き換え情報をシリアル/パラレル変換等することなく、そのままデータを処理できる。
このような構成により、本実施形態にかかる半導体集積回路装置では、複数のメモリマクロの各記憶容量の合計に対して不良が発生する確率に応じた必要な数の冗長置き換え情報が記憶できる程度に、ヒューズボックスの数を減らすことができ、回路面積を縮小することができる。特に半導体集積回路装置がシステムLSIの場合、不良の発生しないメモリマクロが多数存在することから、非常に少ない数のヒューズボックスで対応することができるため、効果が大きい。
また、ヒューズボックスからメモリマクロへ、マクロIDと不良アドレス等の冗長置き換え情報の全ビットを並列に転送することにより、冗長回路の置き換えに必要な情報を一度に入出力することができ、パラレル/シリアル変換等の変換処理が不要である。さらに、データ形式を変更せずにそのまま転送するため、データの圧縮・伸張や分解・組み立て等の複雑な処理が不要である。したがって、冗長置き換え情報を入出力する入出力回路(転送回路)の構成を簡素化することができ、さらに、冗長置き換え情報の転送の高速化が可能となる。
入出力回路を簡素化することにより、ヒューズボックスやメモリマクロの回路面積を縮小することができるとともに、メモリマクロ数の変更等がある場合でも、簡単に拡張することができる。メモリマクロ数が変更しても、マクロIDが増減するだけなので、入出力回路を変更する必要がなく、設計変更が容易である。例えば、メモリマクロを増設する場合、異なるマクロIDのメモリマクロを既に存在するメモリマクロでも用いるヒューズバスに接続するだけでよい。メモリマクロを減設する場合、メモリマクロをヒューズバスから切り離すだけでよい。
発明の実施の形態2.
次に、図6及び図7を用いて、本発明の実施の形態2にかかる半導体集積回路装置について説明する。本実施形態にかかる半導体集積回路装置は、メモリマクロをテストするBIST(Built In Self Test)回路を有し、BIST回路のテスト結果に基づいてヒューズボックスのヒューズを切断することを特徴としている。
ここで、図6を用いて、本発明の実施の形態2にかかる半導体集積回路装置の構成について説明する。尚、図6において、図1と同一の符号を付されたものは同様の要素であり、それらの説明を省略する。
図に示されるように、この半導体集積回路装置1は、図1の構成に加えてBIST制御回路5と、メモリマクロ3の中にBIST回路35を備えている。例えば、BIST制御回路5と各メモリマクロ3のBIST回路35とはテストバス6を介して接続されている。尚、テストバス6を設けずに、BIST制御回路5とそれぞれのBIST回路35とを直接接続してもよいし、各BIST回路35をチェーン接続して、一部のBIST回路35とBIST制御回路5とを接続してもよい。
さらに、半導体集積回路装置1の外部には、半導体集積回路装置1のテストを行うテスタ7とヒューズを切断する切断装置8が備えられている。尚、テスタ7と切断装置8は、複数の装置でもよいし、1つの装置でもよい。
BIST回路35は、メモリマクロ3のメモリセル31のテストを行う回路である。BIST回路35は、BIST制御回路5からの指示によりテストを開始する。例えば、BIST回路35は、テストパターンを生成し、このテストパターンをメモリセル31に入力する。そして、メモリセル31の出力結果と期待値とを比較し、不良か否か判定する。BIST回路35は、このテスト結果をBIST制御回路5へ出力する。例えば、テスト結果には、図3の冗長切り替え情報と同様に、メモリマクロ3のマクロID、第1の不良アドレス、第2の不良アドレスが含まれている。
BIST制御回路5は、各メモリマクロ3のBIST回路35のテスト動作を制御する。例えば、テスタ7が半導体集積回路装置1の動作モードをテストモードに切り替えたり、テスト開始を示す信号を入力すると、BIST制御回路5は、各BIST回路35へテスト開始を示す信号を出力する。そして、BIST制御回路5は、各BIST回路35からテスト結果を受け取ると、そのテスト結果をテスタ7へ出力する。尚、BIST制御回路5は、テスタ7と直接信号を入出力してもよいし、CPUコア等を介してテスタ7と信号を入出力してもよい。
テスタ7は、テスト時に、半導体集積回路装置1のテスト端子等とプロービングにより電気的に接続され、BIST制御回路5とテスト開始やテスト結果等を示す信号を入出力する。テスタ7は、切断情報生成部71を有しており、BIST制御回路5からテスト結果を受け取ると、切断情報生成部71は、テスト結果をヒューズ切断情報に変換する。すなわち、切断情報生成部71は、テスト結果を冗長置き換え情報としてヒューズボックス2へ記憶させるために、ヒューズ切断情報を生成する。
例えば、ヒューズ切断情報は、図7に示すようなデータである。ヒューズ切断情報は、ヒューズボックスIDと複数のヒューズ切断位置を含んでいる。ヒューズボックスIDは、ヒューズボックス2を識別するための識別情報である。ヒューズボックスIDは、あらかじめヒューズボックス2に割り当てられた識別子でもよい。ヒューズ切断位置は、ヒューズボックス2の中で切断するヒューズ211の位置を示すデータである。例えば、ヒューズボックス2の中で縦方向に何個目や横方向に何個目のように相対的な位置でもよいし、半導体集積回路装置1の全体のレイアウト情報に対応した絶対的な位置もよい。尚、ヒューズ切断位置によって、ヒューズボックスを特定できる場合は、ヒューズ切断情報に、ヒューズボックスIDが含まれていなくてもよい。
図6の切断情報生成部71は、例えば、テスト結果から不良セルありと判定された場合、ヒューズボックス2は、テスト結果(冗長置き換え情報)を格納するヒューズボックス2を決定し、ヒューズボックスIDを取得した後、テスト結果に含まれるマクロID、第1の不良アドレス、第2の不良アドレスをそれぞれヒューズ切断位置に変換する。
切断装置8は、例えば、レーザ装置であり、レーザによって光ヒューズを切断する。切断情報生成部71によって生成されたヒューズ切断情報に基づき、ヒューズ切断位置のヒューズにレーザを照射して溶断する。ヒューズを切断することで、テスト結果(冗長置き換え情報)がヒューズボックス2に記憶される。そして、ヒューズを切断した後は、実施の形態1と同様に、ヒューズボックス2の冗長置き換え情報がメモリマクロ3へ転送され、不良セルが冗長回路に置き換えられる。
このような構成により、本実施形態にかかる半導体集積回路装置では、BIST回路のテスト結果に基づき、ヒューズ切断情報を生成することで、効率よく、ヒューズを切断し、冗長置き換え情報を記憶することができる。
尚、本実施形態では、BIST回路によってメモリセルのテストを行ったが、BIST回路を設けずに、直接テスタからテストパターンを入力してテストを行い、その結果に基づいてヒューズ切断情報を生成してもよい。
発明の実施の形態3.
次に、図8及び図9を用いて、本発明の実施の形態3にかかる半導体集積回路装置及びテスト方法について説明する。本実施形態にかかる半導体集積回路装置は、メモリマクロをテストするBIST回路を有し、BIST回路のテスト結果に基づいて、半導体集積回路装置の内部でヒューズボックスのヒューズを切断することを特徴としている。
ここで、図8を用いて、本発明の実施の形態3にかかる半導体集積回路装置の構成について説明する。尚、図8において、図1及び図6と同一の符号を付されたものは同様の要素であり、それらの説明を省略する。
この半導体集積回路装置1は、図6の構成に加えて、切断情報生成回路9と切断回路10を備えている。すなわち、本実施形態では、図6の切断情報生成部71及び切断装置8と同様の要素を半導体集積回路装置1の内部に設けている。
切断情報生成回路9は、切断情報生成部71と同様に、図7のヒューズ切断情報を生成する。切断情報生成回路9は、BIST制御回路5からテスト結果を受け取る。切断情報生成回路9は、テスト結果(冗長置き換え情報)を格納するヒューズボックス2を決定し、テスト結果に含まれるマクロIDと不良アドレスをヒューズ切断情報に変換し、切断回路10へ出力する。
切断回路10は、切断装置8と同様に、ヒューズを切断する回路であるが、例えば、高電流や高電圧を出力し電気ヒューズを切断する。切断回路10は、切断情報生成回路9から入力されたヒューズ切断情報に基づき、該当するヒューズを切断する。
次に、図9のフローチャートを用いて、本実施形態にかかる半導体集積回路装置のテスト方法について説明する。まず、BIST回路35によりテストを行う(S901)。例えば、テスタ7が半導体集積回路装置の動作モードをテストモードに切り替えると、BIST制御回路5は、各BIST回路35へテスト開始を指示し、各BIST回路35が各メモリセルのテストを行う。各BIST回路35は、そのテスト結果をBIST制御回路5へ出力する。
次いで、テスト結果に不良セルがあるか否か判定する(S902)。例えば、BIST制御回路5は、各BIST回路35から受け取ったテスト結果のそれぞれについて、不良アドレスを参照し、各メモリマクロ3に不良セルがあるかどうか判定する。BIST制御回路5は、不良アドレスがあれば不良セルありと判定し、不良アドレスがなければ不良セルなしと判定する。
S902において、不良セルなしと判定された場合、テストを終了する。また、S902において、不良セルありと判定された場合、ヒューズ切断情報を生成する(S903)。例えば、BIST制御回路5は、不良セルがある場合、そのテスト結果を切断情報生成回路9へ出力する。切断情報生成回路9は、BIST制御回路5からテスト結果を受け取ると、テスト結果(冗長置き換え情報)を格納するヒューズボックス2を決定する。例えば、既にテスト結果を格納したヒューズボックス2が存在する場合、他のヒューズボックス2を選択し、ヒューズボックスIDを決定する。そして、切断情報生成回路9は、テスト結果に含まれるマクロID、第1の不良アドレス、第2の不良アドレスをヒューズ切断情報に変換し、切断回路10へ出力する。
次いで、ヒューズを切断する(S904)。例えば、切断回路10は、切断情報生成回路9から受け取ったヒューズ切断情報に基づいて、該当するヒューズを切断する。切断回路10は、ヒューズ切断情報に含まれるヒューズボックスIDとヒューズ切断位置から決定されるヒューズへ、高電流もしくは高電圧を出力し溶断する。尚、不良セルのあるテスト結果が複数存在する場合には、S903及びS904をテスト結果ごとに行い、それぞれのヒューズボックスのヒューズを切断する。
次いで、不良セルを置き換える(S905)。例えば、BIST制御回路5は、不良セルに対応するヒューズを切断したことをCPUコアへ通知する。CPUコアは、各ヒューズボックス2の読み出し回路22へ、冗長置き換え情報の読み出しを示す信号を順に出力する。読み出し回路22は、ヒューズ211の記憶している冗長置き換え情報を読み出し、ヒューズバス4を介してメモリマクロ3へ出力する。冗長置き換え情報は、並列にほぼ同じタイミングで転送される。そして、冗長置き換え情報のマクロIDが一致するメモリマクロ3は、冗長置き換え情報の第1の不良アドレス及び第2の不良アドレスに対応する不良セルを冗長回路へ置き換える。
その後、冗長回路の置き換え後の状態を確認するため、さらにS901以降の処理を繰り返す。繰り返す回数は、例えば、不良セルがなくなるまででもよいし、所定の回数でもよい。また、所定の不良率を超えた場合に繰り返し処理を中断してもよい。例えば、冗長回路で置き換え可能な数よりも多くの不良セルが検出されたり、ヒューズボックス2で記憶可能な数よりも多くの不良セルが検出された場合、繰り返し処理を中断してもよい。
このような構成により、本実施形態にかかる半導体集積回路装置では、その内部で、BIST回路のテスト結果に基づき、ヒューズを切断し、冗長置き換え情報を記憶することができる。さらに、ヒューズボックスに記憶された冗長置き換え情報によって不良セルを置き換え、置き換えた状態で再度テストを行うことができる。したがって、不良セルの検出、置き換え、置き換え後の確認テストまでを半導体集積回路装置の内部で自動的に行うことができ、効率のよいテストが可能となる。
尚、上述の半導体集積回路装置において、冗長置き換え情報をヒューズボックスのヒューズによって記憶したが、これに限らず、EEPROM(Electronically Erasable and Programmable Read Only Memory)等の不揮発性メモリでもよい。
本発明にかかる半導体集積回路装置の構成を示すブロック図である。 本発明にかかるヒューズボックスの構成を示すブロック図である。 本発明にかかる冗長置き換え情報のデータ構造を示す図である。 本発明にかかるメモリマクロの構成を示すブロック図である。 本発明にかかるメモリマクロの構成を示すブロック図である。 本発明にかかる半導体集積回路装置の構成を示すブロック図である。 本発明にかかるヒューズ切断情報のデータ構造を示す図である。 本発明にかかる半導体集積回路装置の構成を示すブロック図である。 本発明にかかる半導体集積回路装置のテスト方法を示すフローチャートである。 従来の半導体集積回路装置の構成を示すブロック図である。
符号の説明
1 半導体集積回路装置
2 ヒューズボックス
3 メモリマクロ
4 ヒューズバス
5 BIST制御回路
6 テストバス
7 テスタ
8 切断装置
9 切断情報生成回路
10 切断回路
21 ヒューズセット
22 読み出し回路
31 メモリセル
32a,b 切り替え回路
33 デコーダ
34 マクロID記憶回路
71 切断情報生成部
211 ヒューズ
212,213,214 ヒューズ列
311a,311b メモリコア
312a,312b 冗長回路

Claims (9)

  1. 不良セルを置き換える冗長回路を有する複数のメモリマクロと、
    前記複数のメモリマクロから選択される第1のメモリマクロの不良セルを前記冗長回路に置き換えるための冗長置き換え情報を記憶する複数ビット分の不揮発性記憶素子とを備え、
    前記冗長置き換え情報を、前記複数ビット分の不揮発性記憶素子から前記複数のメモリマクロへ複数ビット並列に転送する、
    半導体集積回路装置。
  2. 前記複数のメモリマクロと前記複数ビット分の不揮発性記憶素子とを共通に接続するバスを有し、
    前記バスのバス幅は、前記冗長置き換え情報のデータサイズである、
    請求項1に記載の半導体集積回路装置。
  3. 前記複数ビット分の不揮発性記憶素子が記憶する前記冗長置き換え情報の数は、前記複数のメモリマクロの数よりも少ない、
    請求項1又は2に記載の半導体集積回路装置。
  4. 前記冗長置き換え情報は、前記複数のメモリマクロから前記第1のメモリマクロを識別するためのメモリマクロ識別情報と、前記第1のメモリマクロのメモリセルから前記不良セルを識別するための不良アドレス情報である、
    請求項1乃至3のいずれか一つに記載の半導体集積回路装置。
  5. 前記複数ビット分の不揮発性記憶素子を含む第1及び第2の不揮発性記憶素子群を備え、
    前記第1の不揮発性記憶素子群は、前記メモリマクロ識別情報を記憶し、
    前記第2の不揮発性記憶素子群は、前記不良アドレス情報を記憶する、
    請求項4に記載の半導体集積回路装置。
  6. 前記メモリマクロは、前記冗長置き換え情報に含まれる前記メモリマクロ識別情報が当該メモリマクロのメモリマクロ識別情報と一致する場合、前記冗長置き換え情報に含まれる前記不良アドレスに基づいて、前記不良セルを置き換える、
    請求項4又は5に記載の半導体集積回路装置。
  7. 前記複数ビット分の不揮発性記憶素子は、ヒューズである、
    請求項1乃至6のいずれか一つに記載の半導体集積回路装置。
  8. 前記複数のメモリマクロのメモリセルをテストし不良セルを検出するテスト回路と、
    前記テスト回路のテスト結果に基づいた前記冗長置き換え情報を前記複数の不揮発性記憶素子へ書き込む書き込み回路と、
    を備える請求項1乃至7に記載の半導体集積回路装置。
  9. メモリマクロとテスト回路とヒューズボックスとを有する半導体集積回路装置のテスト方法であって、
    前記テスト回路によって前記メモリマクロをテストし、
    前記テストの結果に基づいて、前記メモリマクロを識別するメモリマクロ識別情報と前記メモリマクロの前記不良セルを識別する不良アドレスとを含む冗長置き換え情報を前記ヒューズボックスに記憶し、
    前記冗長置き換え情報に基づいて前記メモリマクロの不良セルを冗長回路に置き換える、
    半導体集積回路装置のテスト方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009147810A1 (ja) * 2008-06-01 2009-12-10 株式会社アドバンテスト 試験システム、電子デバイス、および、試験装置
JP2012160246A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Sk Hynix Inc 半導体メモリ装置及びそのリペア方法
JP2013522863A (ja) * 2010-03-03 2013-06-13 アルテラ コーポレイション 集積回路における修復可能io
US9236864B1 (en) 2012-01-17 2016-01-12 Altera Corporation Stacked integrated circuit with redundancy in die-to-die interconnects

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005015002A1 (de) * 2005-04-01 2006-10-05 Infineon Technologies Ag Verfahren zum automatischen Bereitstellen von Reparaturpositionsdaten von Fuse-Elementen in einer integrierten Speicherschaltung
JP2007018595A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路装置
JP4364200B2 (ja) * 2006-01-18 2009-11-11 株式会社東芝 半導体集積回路装置
JP2009043328A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Toshiba Corp 半導体集積回路
US7752518B2 (en) * 2008-02-13 2010-07-06 Texas Instruments Incorporated System and method for increasing the extent of built-in self-testing of memory and circuitry
US8375262B2 (en) * 2010-01-20 2013-02-12 Spansion Llc Field programmable redundant memory for electronic devices
US9490033B2 (en) * 2013-09-27 2016-11-08 Cavium, Inc. Auto-blow memory repair
KR102067014B1 (ko) 2014-01-06 2020-02-11 삼성전자주식회사 어드레스 리매핑이 가능한 메모리 시스템
US10747463B2 (en) 2017-08-04 2020-08-18 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for accessing hybrid memory system
US11893276B2 (en) * 2020-05-21 2024-02-06 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for data management in a memory device

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04274096A (ja) * 1990-12-20 1992-09-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 冗長システム
JPH10275494A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Siemens Ag 冗長性半導体メモリにおける融通的ヒューズ配置構成
JP2954220B2 (ja) * 1987-07-27 1999-09-27 株式会社日立製作所 並列計算機のためのデータ転送ネットワーク
JP2000149588A (ja) * 1998-11-11 2000-05-30 Hitachi Ltd 半導体集積回路、メモリモジュール、記憶媒体、及び半導体集積回路の救済方法
JP2000149564A (ja) * 1998-10-30 2000-05-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2000260198A (ja) * 1999-03-11 2000-09-22 Toshiba Corp 半導体メモリ装置及び半導体メモリ装置搭載システム
JP2003085994A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JP2005038526A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JP2005353247A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Ricoh Co Ltd 半導体記憶装置、ヒューズボックス回路、および半導体集積回路
JP2007193879A (ja) * 2006-01-18 2007-08-02 Toshiba Corp 半導体集積回路装置

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2561428B1 (fr) * 1984-03-16 1986-09-12 Bull Sa Procede d'enregistrement dans une memoire a disques et systeme de memoire a disques
WO1988007314A1 (en) * 1987-03-19 1988-09-22 Siemens Aktiengesellschaft Process for operating a multiprocessor central control unit of a relay system
JP2730375B2 (ja) * 1992-01-31 1998-03-25 日本電気株式会社 半導体メモリ
DE69412234T2 (de) * 1994-03-29 1999-06-17 Sgs Thomson Microelectronics Redundanzschaltung für eine Halbleiter-Speicheranordnung
JP3865828B2 (ja) * 1995-11-28 2007-01-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
US5706292A (en) * 1996-04-25 1998-01-06 Micron Technology, Inc. Layout for a semiconductor memory device having redundant elements
US5691946A (en) * 1996-12-03 1997-11-25 International Business Machines Corporation Row redundancy block architecture
US6044437A (en) * 1997-11-12 2000-03-28 Intel Corporation Method for generating and transferring redundancy bits between levels of a cache memory hierarchy
TW411463B (en) * 1998-06-23 2000-11-11 Nat Science Council Built-in self test for multiple memories in a chip
JP2000030483A (ja) * 1998-07-15 2000-01-28 Mitsubishi Electric Corp 大規模メモリ用bist回路
JP3786527B2 (ja) * 1998-10-06 2006-06-14 富士通株式会社 半導体装置及び半導体チップ上レイアウト設計方法
JP4204685B2 (ja) * 1999-01-19 2009-01-07 株式会社ルネサステクノロジ 同期型半導体記憶装置
JP2000285694A (ja) * 1999-03-30 2000-10-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置および半導体記憶装置を搭載する半導体集積回路装置
JP2001101892A (ja) * 1999-09-30 2001-04-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
DE10002139A1 (de) * 2000-01-19 2001-08-02 Infineon Technologies Ag Datenspeicher
JP2002025292A (ja) * 2000-07-11 2002-01-25 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JP2002109899A (ja) * 2000-07-26 2002-04-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置およびそれを備える半導体集積回路装置
JP2002319298A (ja) * 2001-02-14 2002-10-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US6769084B2 (en) * 2001-03-13 2004-07-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Built-in self test circuit employing a linear feedback shift register
US20020133769A1 (en) * 2001-03-15 2002-09-19 Cowles Timothy B. Circuit and method for test and repair
JP2002358797A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Nec Corp 半導体集積回路
JP2003007092A (ja) * 2001-06-25 2003-01-10 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US6988232B2 (en) * 2001-07-05 2006-01-17 Intellitech Corporation Method and apparatus for optimized parallel testing and access of electronic circuits
JP3597501B2 (ja) * 2001-11-20 2004-12-08 松下電器産業株式会社 半導体集積回路
US6735543B2 (en) * 2001-11-29 2004-05-11 International Business Machines Corporation Method and apparatus for testing, characterizing and tuning a chip interface
EP1369878A1 (en) * 2002-06-04 2003-12-10 Infineon Technologies AG System for testing a group of functionally independent memories and for replacing failing memory words
US7123512B2 (en) * 2002-07-19 2006-10-17 Micron Technology, Inc. Contiguous block addressing scheme
US6707718B1 (en) * 2002-07-22 2004-03-16 Advanced Micro Devices, Inc. Generation of margining voltage on-chip during testing CAM portion of flash memory device
JP3862220B2 (ja) * 2002-07-29 2006-12-27 松下電器産業株式会社 半導体記憶装置
JP2004234770A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置とテスト方法
DE10331068A1 (de) * 2003-07-09 2005-02-17 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Auslesen von Fehlerinformationen aus einem integrierten Baustein und integrierter Speicherbaustein
JP4025275B2 (ja) * 2003-09-24 2007-12-19 シャープ株式会社 メモリ装置およびメモリシステム

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2954220B2 (ja) * 1987-07-27 1999-09-27 株式会社日立製作所 並列計算機のためのデータ転送ネットワーク
JPH04274096A (ja) * 1990-12-20 1992-09-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 冗長システム
JPH10275494A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Siemens Ag 冗長性半導体メモリにおける融通的ヒューズ配置構成
JP2000149564A (ja) * 1998-10-30 2000-05-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2000149588A (ja) * 1998-11-11 2000-05-30 Hitachi Ltd 半導体集積回路、メモリモジュール、記憶媒体、及び半導体集積回路の救済方法
JP2000260198A (ja) * 1999-03-11 2000-09-22 Toshiba Corp 半導体メモリ装置及び半導体メモリ装置搭載システム
JP2003085994A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JP2005038526A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JP2005353247A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Ricoh Co Ltd 半導体記憶装置、ヒューズボックス回路、および半導体集積回路
JP2007193879A (ja) * 2006-01-18 2007-08-02 Toshiba Corp 半導体集積回路装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009147810A1 (ja) * 2008-06-01 2009-12-10 株式会社アドバンテスト 試験システム、電子デバイス、および、試験装置
US7847572B2 (en) 2008-06-01 2010-12-07 Advantest Corporation Test system, electronic device, and test apparatus
JPWO2009147810A1 (ja) * 2008-06-01 2011-10-20 株式会社アドバンテスト 試験システム、電子デバイス、および、試験装置
JP2013522863A (ja) * 2010-03-03 2013-06-13 アルテラ コーポレイション 集積回路における修復可能io
JP2012160246A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Sk Hynix Inc 半導体メモリ装置及びそのリペア方法
US9236864B1 (en) 2012-01-17 2016-01-12 Altera Corporation Stacked integrated circuit with redundancy in die-to-die interconnects

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