JP2000109466A - 炎症の治療のための置換ピラゾリルベンゼンスルホンアミド - Google Patents

炎症の治療のための置換ピラゾリルベンゼンスルホンアミド

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 炎症および炎症関連疾患を治療するための化
合物を提供する。 【解決手段】 あるクラスのピラゾールベンゼンスルホ
ンアミド化合物、特に下記式Iで表わされる化合物およ
びその薬剤学的に許容される塩。 化合物の具体的一例を示すと、4−[1−(4−フルオ
ロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−5−イル]ベンゼンスルホンアミドになる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗炎症性薬剤の分
野に属し、具体的には炎症、および関節炎のような炎症
関連疾患を治療するための化合物、組成物および方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】プロスタグランジン類は、炎症過程にお
いて主要な役割を果たし、プロスタグランジン産生の阻
害、特にPGG2、PGH2およびPGE2の産生の阻害
は抗炎症薬発見の共通の標的であった。しかし、炎症過
程に関連するプロスタグランジン誘導性の疼痛と腫脹の
低減作用を有する普通の非ステロイド性抗炎症薬(NS
AID)はまた、炎症過程に関連しない他のプロスタグ
ランジン調節性の過程にも影響を与える。すなわち、多
くの普通のNSAIDは高用量で使用すると、生命を脅
かす潰瘍を含む重篤な副作用を起こし得るため、これが
NSAIDの治療可能性を限定している。NSAIDに
代わるものとしては、コルチコステロイドの使用がある
が、これは、特に長期治療が行われる時には、さらに強
烈な副作用を有する。
【0003】従来のNSAIDは、酵素シクロオキシゲ
ナーゼ(COX)を含む、ヒトアラキドン酸/プロスタ
グランジン経路における酵素を阻害することによりプロ
スタグランジンの産生を防止することが見い出された。
炎症に関連した誘導可能な酵素(「シクロオキシゲナー
ゼII(COX II)」または「プロスタグランジンG/
HシンターゼII」と名付けられた)の最近の発見は、よ
り有効に炎症を低減して強烈な副作用を少なくする実行
可能な阻害の標的を提供する。ピラゾール化合物は、炎
症の治療に使用できることが記載されている。マツオ
(Matsuo)らの米国特許第5,134,142号は、抗
炎症活性を有するものとして、1,5−ジアリールピラ
ゾール類、具体的には、1−(4−フルオロフェニル)
−5−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−3−ト
リフルオロメチルピラゾールを記載している。
【0004】アール・ハミルトン(R. Hamilton)の米
国特許第3,940,418号は、抗炎症剤として三環
式4,5−ジヒドロベンズ[g]インダゾール類を記載
している。さらに、アール・ハミルトン(R. Hamilto
n)[J. Heterocyclic Chem.,13,545(197
6)]は、抗炎症剤として三環式4,5−ジヒドロベン
ズ[g]インダゾール類を記載している。米国特許第
5,134,155号は、HMG−CoA還元酵素阻害
剤としてピラゾールとフェニル基を架橋する飽和環を有
する縮合三環式ピラゾール類を記載している。1992
年3月25日公開の欧州特許EP477,049号は、
抗精神活性を有するものとして[4,5−ジヒドロ−1
−フェニル−1H−ベンズ[g]インダゾール−3−イ
ル]アミド類を記載している。1989年12月27日
公開の欧州特許EP347,773号は、免疫刺激物質
として[4,5−ジヒドロ−1−フェニル−1H−ベン
ズ[g]インダゾール−3−イル]プロパンアミド類を
記載している。エム・ハシェム(M.Hashem)ら[J. Me
d. Chem.,19,229(1976)]は、抗生物質と
してピラゾールとフェニル基を架橋する飽和環を有する
縮合三環式ピラゾール類を記載している。
【0005】ある種の置換ピラゾリル−ベンゼンスルホ
ンアミド類は、合成中間体として文献に記載されてき
た。具体的には、4−[5−(4−クロロフェニル)−
3−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミドが、血糖低下作用を有する化合物の中間
体としてピラゾリン化合物から調製された[アール・ソ
リマン(R. Soliman)ら,J. Pharm. Sci.,76,62
6(1987)]。4−[5−[2−(4−ブロモフェ
ニル)−2H−1,2,3−トリアゾール−4−イル]
−3−メチル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミドがピラゾリン化合物から調製されて、潜
在的に血糖低下作用を有するものとして記載されている
[エイチ・モクター(H. Mokhtar),Pak. J. Sci. In
d. Res.,31,762(1988)]。同様に、4−
[4−ブロモ−5−[2−(4−クロロフェニル)−2
H−1,2,3−トリアゾール−4−イル]−3−メチ
ル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンア
ミドが調製された[エイチ・モクター(H. Mokhtar)
ら,Pak. J. Sci. Ind. Res.,34,9(199
1)]。ピラゾール誘導体の植物毒性が、具体的には1
−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−フェニ
ル−1H−ピラゾール−3,4−ジカルボン酸について
記載されている[エム・コッコ(M. Cocco)ら,Il. Fa
rmaco-Ed. Sci.,40,272(1985)]。
【0006】抗糖尿病薬としてのスチリルピラゾールエ
ステル類の使用が記載されている[エイチ・モクター
(H. Mokhtar)ら,Pharmazie,33,649−651
(1978)]。抗糖尿病薬としてのスチリルピラゾー
ルカルボン酸類の使用が記載されている[アール・ソリ
マン(R. Soliman)ら,Pharmazie,33,184−5
(1978)]。スルホニル尿素抗糖尿病薬の中間体と
して、4−[3,4,5−トリ置換−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド類、具体的には1−[4
−(アミノスルホニル)フェニル]−3−メチル−5−
フェニル−1H−ピラゾール−4−カルボン酸の使用が
記載されている[アール・ソリマン(R. Soliman)ら,
J. Pharm. Sci.,72,1004(1983)]。一連
の4−[3−置換メチル−5−フェニル−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド類、より具体
的には4−[3−メチル−5−フェニル−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドが抗糖尿病薬
の中間体として調製された[エイチ・ファイド−アラー
(H. Feid-Allah),Pharmazie,36,754(198
1)]。さらに、上記4−[3−メチル−5−フェニル
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド化合物から、1−(4−[アミノスルホニル]フェニ
ル)−5−フェニルピラゾール−3−カルボン酸が調製
された[アール・ソリマン(R. Soliman)ら,J. Phar
m. Sci.,70,602(1981)]。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、炎症
関連疾患を治療するのに有用な化合物を提供することに
ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明により、或る群の
化合物が、炎症関連疾患の治療に有用であることが見出
された。従って、本発明は、下記式Iで表わされる化合
物およびその薬剤学的に許容される塩に関する:
【化4】 [式中、R1は、アリールおよびヘテロアリールより選
択され、ここでR1は、置換可能な位置でスルファミ
ル、ハロ、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、ハロ
アルキルおよび
【化5】 より選択される1つまたはそれ以上の基により置換され
ており;
【0009】R2は、ヒドリド、ハロ、アルキル、ハロ
アルキル、シアノ、ニトロ、ホルミル、カルボキシル、
アルコキシ、アミノカルボニル、アルコキシカルボニ
ル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキ
ル、アミジノ、シアノアミジノ、シアノアルキル、アル
コキシカルボニルシアノアルケニル、アミノカルボニル
アルキル、N−アルキルアミノカルボニル、N−アリー
ルアミノカルボニル、N,N−ジアルキルアミノカルボ
ニル、N−アルキル−N−アリールアミノカルボニル、
シクロアルキルアミノカルボニル、複素環アミノカルボ
ニル、カルボキシアルキルアミノカルボニル、アラルコ
キシカルボニルアルキルアミノカルボニル、アルキルカ
ルボニル、アルキルカルボニルアルキル、ヒドロキシア
ルキル、ハロアラルキル、カルボキシハロアルキル、ア
ルコキシカルボニルハロアルキル、アミノカルボニルハ
ロアルキル、アルキルアミノカルボニルハロアルキル、
N−アルキルアミノ、N,N−ジアルキルアミノ、N−
アリールアミノ、N−アラルキルアミノ、N−アルキル
−N−アラルキルアミノ、N−アルキル−N−アリール
アミノ、アミノアルキル、N−アルキルアミノアルキ
ル、N,N−ジアルキルアミノアルキル、N−アリール
アミノアルキル、N−アラルキルアミノアルキル、N−
アルキル−N−アラルキルアミノアルキル、N−アルキ
ル−N−アリールアミノアルキル、アリールオキシ、ア
ラルコキシ、アリールチオ、アラルキルチオ、アルキル
チオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、N
−アルキルアミノスルホニル、N−アリールアミノスル
ホニル、アリールスルホニル、N,N−ジアルキルアミ
ノスルホニル、N−アルキル−N−アリールアミノスル
ホニル、複素環、
【0010】
【化6】 より選択され;
【0011】R3は、ヒドリド、アルキル、ハロ、ハロ
アルキル、シアノ、ニトロ、ホルミル、カルボキシル、
アルコキシカルボニル、カルボキシアルキル、アルコキ
シカルボニルアルキル、アミジノ、シアノアミジノ、ア
ミノカルボニル、アルコキシ、N−アルキルアミノ、
N,N−ジアルキルアミノ、アミノカルボニルアルキ
ル、N−アルキルアミノカルボニル、N−アリールアミ
ノカルボニル、N,N−ジアルキルアミノカルボニル、
N−アルキル−N−アリールアミノカルボニル、アルキ
ルカルボニル、アルキルカルボニルアルキル、ヒドロキ
シアルキル、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ア
ルキルスルホニル、N−アルキルアミノスルホニル、N
−アリールアミノスルホニル、アリールスルホニル、
N,N−ジアルキルアミノスルホニル、N−アルキル−
N−アリールアミノスルホニル、シクロアルキル、複素
環、複素環アルキルおよびアラルキルより選択され;
【0012】R4は、アラルケニル、アリール、シクロ
アルキル、シクロアルケニルおよび複素環より選択さ
れ、ここでR4 は、置換可能な位置でハロ、アルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、アルキル、アルケニル、ア
ルキルスルホニル、シアノ、カルボキシル、アルコキシ
カルボニル、アミノカルボニル、N−アルキルアミノカ
ルボニル、N−アリールアミノカルボニル、N,N−ジ
アルキルアミノカルボニル、N−アルキル−N−アリー
ルアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒドロキシル、ア
ルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、スル
ファミル、N−アルキルアミノスルホニル、アミノ、N
−アルキルアミノ、N,N−ジアルキルアミノ、複素
環、シクロアルキルアルキル、ニトロ、アシルアミノ、
【化7】 より選択される1つまたはそれ以上の基により随時置換
されているか;または
【0013】R3およびR4は、一緒になって
【化8】 を形成し;mは、1から3までであり;Aは、フェニル
および5員または6員ヘテロアリールより選択され;R
5は、アルキルであり;R6は、ハロ、アルキルチオ、ア
ルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、シアノ、カ
ルボキシル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニ
ル、N−アルキルアミノカルボニル、N−アリールアミ
ノカルボニル、アルキル、アルケニル、N,N−ジアル
キルアミノカルボニル、N−アルキル−N−アリールア
ミノカルボニル、ハロアルキル、ヒドリド、ヒドロキシ
ル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキ
シ、スルファミル、N−アルキルアミノスルホニル、ア
ミノ、N−アルキルアミノ、N,N−ジアルキルアミ
ノ、複素環、シクロアルキルアルキル、ニトロおよびア
シルアミノより選択される1つまたはそれ以上の基であ
り;そして
【0014】R7は、ヒドリド、アルキル、アリールお
よびアラルキルより選択される(但し、R2およびR
3は、ヒドリド、カルボキシルおよびエトキシカルボニ
ルより選択される同一の基ではなく;さらに但し、R3
がヒドリドであり、かつR4がフェニルである時、R
2は、カルボキシルまたはメチルではなく;さらに但
し、R2がメチルである時、R4は、トリアゾリルではな
く;さらに但し、R2がカルボキシル、アミノカルボニ
ルまたはエトキシカルボニルである時、R4は、アラル
ケニルではなく;さらに但し、R2がメチルであり、か
つR3がカルボキシルである時、R4は、フェニルではな
く;さらに但し、R2がトリフルオロメチルである時、
4は、非置換チエニルではなく;そしてさらに但し、
1がスルファミルで置換されていないフェニルである
時、R4は、スルファミルで置換されたアリールである
か、またはR6は、スルファミルである)]により定義
されるか、またはその薬剤学的に許容される塩である。
【0015】上記説明で使用される「さらに但し」とい
う句は、表示された但し書きを他の但し書きと連結して
考えてはならないことを意味するものである。式Iの化
合物は、患者の炎症の治療、および他の炎症関連疾患の
治療(例えば疼痛および頭痛の治療における鎮痛薬とし
て、または発熱の治療のための解熱薬として)に有用で
あるが、これらに限定されるものではない。例えば、式
Iの化合物は、関節炎(慢性関節リウマチ、脊椎関節症
(spondyloarthopathies)、痛風性関節炎、変形性関節
症、全身性エリテマトーデス、および若年性関節炎を含
むが、これらに限定されない)の治療に有用である。式
Iのこのような化合物は、喘息、気管支炎、月経性痙
攣、腱炎、滑液包炎、および皮膚関連症状(例えば、乾
癬、湿疹、火傷および皮膚炎)の治療に有用である。式
Iの化合物はまた、胃腸症状(例えば、炎症性腸疾患、
クローン病、胃炎、過敏性大腸症候群および潰瘍性大腸
炎)を治療するために、および結腸直腸癌の予防に有用
である。式Iの化合物は、血管疾患、偏頭痛、結節性動
脈周囲炎、甲状腺炎、再生不良性貧血、ホジキン病、強
皮症、リウマチ熱、I型糖尿病、重症筋無力症、サルコ
イドーシス、ネフローゼ症候群、ベーチェット症候群、
多発性筋炎、歯肉炎、過敏症、結膜炎、損傷後発生する
腫脹、心筋虚血などの疾患における炎症を治療するのに
有用である。本化合物は、関節炎の治療などの抗炎症薬
として有用であり、さらに有害な副作用が非常に少ない
という利点を有する。
【0016】本発明は、好ましくはシクロオキシゲナー
ゼIよりもシクロオキシゲナーゼIIを選択的に阻害する
化合物を含む。好ましくは本化合物は、シクロオキシゲ
ナーゼIIのIC50は約0.2μM未満であり、またシク
ロオキシゲナーゼI阻害に対するシクロオキシゲナーゼ
II阻害の選択比は少なくとも50であり、より好ましく
は少なくとも100である。さらに好ましくは、本化合
物のシクロオキシゲナーゼIのIC50は、約1μM以
上、さらに好ましくは10μM以上である。このような
好ましい選択性は、一般的なNSAID誘導性副作用の
発生を低下させる能力を示すものであろう。好ましいク
ラスの化合物は、R1は、フェニル、ナフチルおよびビ
フェニル、および5員または6員ヘテロアリールより選
択されるアリールより選択され、ここでR1は、置換可
能な位置でスルファミル、ハロ、低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ヒドロキシル、低級ハロアルキルおよび
【化9】 より選択される1つまたはそれ以上の基により置換され
ており;
【0017】R2は、ヒドリド、ハロ、低級アルキル、
低級ハロアルキル、シアノ、ニトロ、ホルミル、カルボ
キシル、低級アルコキシカルボニル、低級カルボキシア
ルキル、低級アルコキシカルボニルアルキル、アミジ
ノ、シアノアミジノ、低級シアノアルキル、低級アルコ
キシカルボニルシアノアルケニル、アミノカルボニル、
低級アルコキシ、低級アリールオキシ、低級アラルコキ
シ、低級アミノカルボニルアルキル、低級N−アルキル
アミノカルボニル、N−アリールアミノカルボニル、低
級N,N−ジアルキルアミノカルボニル、低級N−アル
キル−N−アリールアミノカルボニル、低級シクロアル
キルアミノカルボニル、低級複素環アミノカルボニル、
低級カルボキシアルキルアミノカルボニル、低級アラル
コキシカルボニルアルキルアミノカルボニル、低級ハロ
アラルキル、低級カルボキシハロアルキル、低級アルコ
キシカルボニルハロアルキル、低級アミノカルボニルハ
ロアルキル、低級アルキルアミノカルボニルハロアルキ
ル、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニル
アルキル、低級アルキルアミノ、低級N,N−ジアルキ
ルアミノ、N−アリールアミノ、低級N−アラルキルア
ミノ、
【0018】低級N−アルキル−N−アラルキルアミ
ノ、低級N−アルキル−N−アリールアミノ、低級アミ
ノアルキル、低級N−アルキルアミノアルキル、低級
N,N−ジアルキルアミノアルキル、低級N−アリール
アミノアルキル、低級N−アラルキルアミノアルキル、
低級N−アルキル−N−アラルキルアミノアルキル、低
級N−アルキル−N−アリールアミノアルキル、アリー
ルチオ、低級アラルキルチオ、低級ヒドロキシアルキ
ル、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低
級アルキルスルホニル、低級N−アルキルアミノスルホ
ニル、N−アリールアミノスルホニル、アリールスルホ
ニル、低級N,N−ジアルキルアミノスルホニル、低級
N−アルキル−N−アリールアミノスルホニル、複素
環、
【化10】 より選択され;
【0019】R3は、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、
低級ハロアルキル、シアノ、ニトロ、ホルミル、カルボ
キシル、低級アルコキシカルボニル、低級カルボキシア
ルキル、低級アルコキシカルボニルアルキル、アミジ
ノ、シアノアミジノ、アミノカルボニル、低級アルコキ
シ、低級N−アルキルアミノ、低級N,N−ジアルキル
アミノ、低級アミノカルボニルアルキル、低級N−アル
キルアミノカルボニル、低級N−アリールアミノカルボ
ニル、低級N,N−ジアルキルアミノカルボニル、低級
N−アルキル−N−アリールアミノカルボニル、低級ア
ルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルアルキル、
低級ヒドロキシアルキル、低級アルキルチオ、低級アル
キルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級N−
アルキルアミノスルホニル、N−アリールアミノスルホ
ニル、アリールスルホニル、低級N,N−ジアルキルア
ミノスルホニル、低級N−アルキル−N−アリールアミ
ノスルホニル、低級シクロアルキル、複素環、低級複素
環アルキルおよび低級アラルキルより選択され;
【0020】R4は、低級アラルケニル、アリール、低
級シクロアルキル、低級シクロアルケニルおよび5〜1
0員複素環より選択され、ここでR4は、置換可能な位
置でハロ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニ
ル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキルスル
ホニル、シアノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボ
ニル、アミノカルボニル、低級N−アルキルアミノカル
ボニル、N−アリールアミノカルボニル、低級N,N−
ジアルキルアミノカルボニル、低級N−アルキル−N−
アリールアミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒドロ
キシル、低級アルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低
級ハロアルコキシ、スルファミル、低級N−アルキルア
ミノスルホニル、アミノ、低級N−アルキルアミノ、低
級N,N−ジアルキルアミノ、5員または6員複素環、
低級シクロアルキルアルキル、ニトロ、アシルアミノ、
【化11】 より選択される1つまたはそれ以上の基により随時置換
されているか;または
【0021】R3およびR4は、一緒になって
【化12】 を形成し;mは、1から3までであり;Aは、フェニル
および5員または6員ヘテロアリールより選択され;R
5は、低級アルキルであり;R6は、ハロ、低級アルキル
チオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホ
ニル、シアノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボニ
ル、アミノカルボニル、低級N−アルキルアミノカルボ
ニル、N−アリールアミノカルボニル、低級アルキル、
低級アルケニル、低級N,N−ジアルキルアミノカルボ
ニル、低級N−アルキル−N−アリールアミノカルボニ
ル、低級ハロアルキル、ヒドリド、ヒドロキシル、低級
アルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコ
キシ、スルファミル、低級N−アルキルアミノスルホニ
ル、アミノ、低級N−アルキルアミノ、低級N,N−ジ
アルキルアミノ、5員または6員複素環、低級シクロア
ルキルアルキル、ニトロおよびアシルアミノより選択さ
れる1つまたはそれ以上の基であり;そして
【0022】R7は、ヒドリド、低級アルキル、アリー
ルおよび低級アラルキルより選択される、式Iの化合
物、またはその薬剤学的に許容される塩よりなる。さら
に好ましいクラスの化合物は、R1は、フェニルであ
り、ここでR1は、置換可能な位置でスルファミル、ハ
ロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシル、低
級ハロアルキルおよび
【化13】 より選択される1つまたはそれ以上の基により置換され
ており;
【0023】R2は、ヒドリド、低級アルキル、低級ハ
ロアルキル、シアノ、カルボキシル、低級アルコキシカ
ルボニル、低級カルボキシアルキル、低級シアノアルキ
ル、低級アルコキシカルボニルシアノアルケニル、低級
ハロアラルキル、低級カルボキシハロアルキル、低級ア
ルコキシカルボニルハロアルキル、低級アミノカルボニ
ルハロアルキル、低級アルキルアミノカルボニルハロア
ルキル、低級N−アルキルアミノ、低級N,N−ジアル
キルアミノ、N−アリールアミノ、低級N−アラルキル
アミノ、低級N−アルキル−N−アラルキルアミノ、低
級N−アルキル−N−アリールアミノ、低級アミノアル
キル、低級N−アルキルアミノアルキル、低級N,N−
ジアルキルアミノアルキル、低級N−アリールアミノア
ルキル、低級N−アラルキルアミノアルキル、低級N−
アルキル−N−アラルキルアミノアルキル、低級N−ア
ルキル−N−アリールアミノアルキル、アリールオキ
シ、低級アラルコキシ、低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、アリールチオ、低級アラルキルチオ、アミノカル
ボニル、低級アミノカルボニルアルキル、低級N−アル
キルアミノカルボニル、N−アリールアミノカルボニ
ル、低級N,N−ジアルキルアミノカルボニル、低級N
−アルキル−N−アリールアミノカルボニル、低級シク
ロアルキルアミノカルボニル、低級カルボキシアルキル
アミノカルボニル、低級アラルコキシカルボニルアルキ
ルアミノカルボニル、低級ヒドロキシアルキル、
【0024】
【化14】 より選択され;
【0025】R3は、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、
シアノ、低級ヒドロキシアルキル、低級アルキルチオ、
低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、
低級アルコキシ、低級N−アルキルアミノ、低級N,N
−ジアルキルアミノ、低級N−アルキルアミノスルホニ
ル、N−アリールアミノスルホニル、アリールスルホニ
ル、低級N,N−ジアルキルアミノスルホニル、低級N
−アルキル−N−アリールアミノスルホニルおよび低級
シクロアルキルより選択され;R4は、低級アラルケニ
ル、アリール、低級シクロアルキル、低級シクロアルケ
ニルおよび5〜10員複素環より選択され、ここでR4
は、置換可能な位置でハロ、低級アルキルチオ、低級ア
ルキルスルフィニル、低級アルキル、低級アルケニル、
低級アルキルスルホニル、シアノ、カルボキシル、低級
アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、低級ハロア
ルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、低級ヒドロキ
シアルキル、低級ハロアルコキシ、スルファミル、低級
アルキルアミノスルホニル、アミノ、低級N−アルキル
アミノ、低級N,N−ジアルキルアミノ、5員または6
員複素環、低級シクロアルキルアルキル、ニトロ、
【化15】 より選択される1つまたはそれ以上の基により随時置換
されているか;または
【0026】R3およびR4は、一緒になって
【化16】 を形成し;mは、2であり;Aは、フェニルおよび5員
または6員ヘテロアリールより選択され;R5は、低級
アルキルであり;
【0027】R6は、ハロ、低級アルキルチオ、低級ア
ルキルスルフィニル、低級アルキル、低級アルケニル、
低級アルキルスルホニル、シアノ、カルボキシル、低級
アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、低級ハロア
ルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、低級ヒドロキ
シアルキル、低級ハロアルコキシ、スルファミル、アミ
ノ、低級N−アルキルアミノ、低級N,N−ジアルキル
アミノ、低級シクロアルキルアルキルおよびニトロより
選択される1つまたはそれ以上の基であり;そしてR7
は、ヒドリド、低級アルキル、アリールおよび低級アラ
ルキルより選択される、式Iの化合物、またはその薬剤
学的に許容される塩よりなる。さらにより好ましいクラ
スの化合物は、R1は、フェニルであり、ここでR1は、
置換可能な位置でスルファミル、ハロ、低級アルキル、
低級アルコキシおよび
【化17】 より選択される1つまたはそれ以上の基により置換され
ており;
【0028】R2は、ヒドリド、低級アルキル、低級ハ
ロアルキル、シアノ、カルボキシル、低級アルコキシカ
ルボニル、低級カルボキシアルキル、低級シアノアルキ
ル、低級アルコキシカルボニルシアノアルケニル、低級
ハロアラルキル、低級カルボキシハロアルキル、低級ア
ルコキシカルボニルハロアルキル、低級アミノカルボニ
ルハロアルキル、低級アルキルアミノカルボニルハロア
ルキル、低級N−アルキルアミノ、低級N,N−ジアル
キルアミノ、N−アリールアミノ、低級N−アラルキル
アミノ、低級N−アルキル−N−アラルキルアミノ、低
級N−アルキル−N−アリールアミノ、低級アミノアル
キル、低級N−アルキルアミノアルキル、低級N,N−
ジアルキルアミノアルキル、低級N−アリールアミノア
ルキル、低級N−アラルキルアミノアルキル、低級N−
アルキル−N−アラルキルアミノアルキル、低級N−ア
ルキル−N−アリールアミノアルキル、低級アルコキ
シ、アリールオキシ、低級アラルコキシ、低級アルキル
チオ、アリールチオ、低級アラルキルチオ、アミノカル
ボニル、低級アミノカルボニルアルキル、
【0029】低級N−アルキルアミノカルボニル、N−
アリールアミノカルボニル、低級N,N−ジアルキルア
ミノカルボニル、低級N−アルキル−N−アリールアミ
ノカルボニル、低級シクロアルキルアミノカルボニル、
低級カルボキシアルキルアミノカルボニル、低級複素環
アミノカルボニル、低級アラルコキシカルボニルアルキ
ルアミノカルボニル、低級ヒドロキシアルキル、
【化18】 より選択され;R3は、ヒドリド、低級アルキル、ハ
ロ、シアノ、低級ヒドロキシアルキル、低級アルコキ
シ、低級N−アルキルアミノ、低級N,N−ジアルキル
アミノ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニルお
よび低級シクロアルキルより選択され;
【0030】R4は、低級アラルケニル、アリール、低
級シクロアルキル、低級シクロアルケニルおよび5〜1
0員複素環より選択され、ここでR4は、置換可能な位
置でハロ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニ
ル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキルスル
ホニル、シアノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボ
ニル、アミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒドロキ
シル、低級アルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低級
ハロアルコキシ、スルファミル、アミノ、低級N−アル
キルアミノ、低級N,N−ジアルキルアミノ、5員また
は6員複素環、低級シクロアルキルアルキル、ニトロ、
【化19】 より選択される1つまたはそれ以上の基により随時置換
されているか;または
【0031】R3およびR4は、一緒になって
【化20】 を形成し;mは、2であり;Aは、フェニルおよび5員
ヘテロアリールより選択され;R5は、低級アルキルで
あり;R6は、ハロ、低級アルキル、低級アルキルスル
ホニル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、スルファ
ミル、アミノおよびニトロより選択される1つまたはそ
れ以上の基であり;そしてR7は、ヒドリド、低級アル
キル、アリールおよび低級アラルキルより選択される、
式Iの化合物、またはその薬剤学的に許容される塩より
なる。
【0032】式Iの中に、R1は、置換可能な位置でハ
ロ、低級アルキル、スルファミルおよび
【化21】 より選択される1つまたはそれ以上の基により置換され
たフェニルであり;R2は、ヒドリド、低級アルキル、
低級ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、低級アルコ
キシカルボニル、低級カルボキシアルキル、低級シアノ
アルキル、低級アルコキシカルボキニルシアノアルケニ
ル、低級ハロアラルキル、低級カルボキシハロアルキ
ル、低級アルコキシカルボニルハロアルキル、低級アミ
ノカルボニルハロアルキル、低級アルキルアミノカルボ
ニルハロアルキル、低級N−アルキルアミノ、低級N,
N−ジアルキルアミノ、N−アリールアミノ、低級N−
アラルキルアミノ、低級N−アルキル−N−アラルキル
アミノ、低級N−アルキル−N−アリールアミノ、低級
アミノアルキル、低級N−アルキルアミノアルキル、低
級N,N−ジアルキルアミノアルキル、低級N−アリー
ルアミノアルキル、低級N−アラルキルアミノアルキ
ル、低級N−アルキル−N−アラルキルアミノアルキ
ル、
【0033】低級N−アルキル−N−アリールアミノア
ルキル、低級アルコキシアリールオキシ、低級アラルコ
キシ、低級アルキルチオ、アリールチオ、低級アラルキ
ルチオ、アミノカルボニル、低級アミノカルボニルアル
キル、低級N−アルキルアミノカルボニル、N−アリー
ルアミノカルボニル、低級N,N−ジアルキルアミノカ
ルボニル、低級N−アルキル−N−アリールアミノカル
ボニル、低級シクロアルキルアミノカルボニル、低級カ
ルボキシアルキルアミノカルボニル、低級アラルコキシ
カルボニルアルキルアミノカルボニル、低級ヒドロキシ
アルキル、
【化22】 より選択され;
【0034】R3は、ヒドリド、低級アルキル、ハロ、
シアノ、低級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシ、低
級アルキルチオ、低級N−アルキルアミノ、低級N,N
−ジアルキルアミノ、低級アルキルスルホニルおよび低
級シクロアルキルより選択され;R4は、低級アラルケ
ニル、アリール、低級シクロアルキル、低級シクロアル
ケニルおよび5〜10員複素環より選択され、ここでR
4は、置換可能な位置でハロ、低級アルキルチオ、低級
アルキルスルフィニル、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキルスルホニル、シアノ、カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、低級ハ
ロアルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、低級ヒド
ロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、スルファミル、
低級アルキルアミノカルボニル、アミノ、低級N−アル
キルアミノ、低級N,N−ジアルキルアミノ、5員また
は6員複素環、低級シクロアルキルアルキル、ニトロ、
【化23】 より選択される1つまたはそれ以上の基により随時置換
されており;
【0035】R5は、低級アルキルであり;そしてR
7は、ヒドリド、低級アルキル、アリールおよび低級ア
ラルキルより選択される化合物、またはその薬剤学的に
許容される塩よりなる、化合物のサブクラスがある。特
に興味ある化合物のクラスは、R1は、置換可能な位置
でフルオロ、クロロ、メチル、スルファミルおよび
【化24】 より選択される1つまたはそれ以上の基により置換され
たフェニルであり;
【0036】R2は、ヒドリド、メチル、エチル、イソ
プロピル、tert−ブチル、イソブチル、ヘキシル、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、
ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジ
フルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチ
ル、ジクロロプロピル、シアノ、カルボキシル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、tert−ブトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、ペントキシカルボニル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチ
ル、シアノメチル、エトキシカルボニルシアノエテニ
ル、1,1−ジフルオロ−1−フェニルメチル、1,1
−ジフルオロ−1−フェニルエチル、ジフルオロアセチ
ル、メトキシカルボニルジフルオロメチル、ジフルオロ
アセトアミジル、N,N−ジメチルジフルオロアセトア
ミジル、
【0037】N−フェニルジフルオロアセトアミジル、
N−エチルアミノ、N−メチルアミノ、N,N−ジメチ
ルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N−フェニルアミ
ノ、N−ベンジルアミノ、N−フェニルエチルアミノ、
N−メチル−N−ベンジルアミノ、N−エチル−N−フ
ェニルアミノ、N−メチル−N−フェニルアミノ、アミ
ノメチル、N−メチルアミノメチル、N,N−ジメチル
アミノメチル、N−フェニルアミノメチル、N−ベンジ
ルアミノメチル、N−メチル−N−ベンジルアミノメチ
ル、N−メチル−N−フェニルアミノメチル、メトキ
シ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メチルチ
オ、フェニルチオ、ベンジルチオ、N−メチル尿素、N
−メチルチオ尿素、N−メチルアセトアミジル、尿素、
尿素メチル、チオ尿素、チオ尿素メチル、アセトアミジ
ル、N−フェニルチオ尿素メチル、N−ベンジルチオ尿
素メチル、N−メチルチオ尿素メチル、N−フェニル尿
素メチル、N−ベンジル尿素メチル、N−メチル尿素メ
チル、N−フェニルアセトアミジルメチル、N−ベンジ
ルアセトアミジルメチル、N−メチルアセトアミジルメ
チル、アミノカルボニル、アミノカルボニルメチル、N
−メチルアミノカルボニル、
【0038】N−エチルアミノカルボニル、N−イソプ
ロピルアミノカルボニル、N−プロピルアミノカルボニ
ル、N−ブチルアミノカルボニル、N−イソブチルアミ
ノカルボニル、N−tert−ブチルアミノカルボニ
ル、N−ペンチルアミノカルボニル、N−フェニルアミ
ノカルボニル、N,N−ジメチルアミノカルボニル、N
−メチル−N−エチルアミノカルボニル、N−(3−フ
ルオロフェニル)アミノカルボニル、N−(4−メチル
フェニル)アミノカルボニル、N−(3−クロロフェニ
ル)アミノカルボニル、N−メチル−N−(3−クロロ
フェニル)アミノカルボニル、N−(4−メトキシフェ
ニル)アミノカルボニル、N−メチル−N−フェニルア
ミノカルボニル、シクロペンチルアミノカルボニル、シ
クロヘキシルアミノカルボニル、カルボキシメチルアミ
ノカルボニル、ベンジルオキシカルボニルメチルアミノ
カルボニル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシメチル、
およびヒドロキシプロピルより選択され;
【0039】R3は、ヒドリド、メチル、エチル、イソ
プロピル、tert−ブチル、イソブチル、ヘキシル、
フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノ、メトキシ、メチル
チオ、メチルスルホニル、N−メチルアミノ、N−エチ
ルアミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチル
アミノ、シクロプロピル、シクロペンチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシメチル、およびヒドロキシエチル
より選択され;そしてR4は、フェニルエテニル、フェ
ニル、ナフチル、ビフェニル、シクロヘキシル、シクロ
ペンチル、シクロヘプチル、1−シクロヘキセニル、2
−シクロヘキセニル、3−シクロヘキセニル、4−シク
ロヘキセニル、1−シクロペンテニル、4−シクロペン
テニル、ベンゾフリル、2,3−ジヒドロベンゾフリ
ル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチル、ベンゾチ
エニル、インデニル、インダニル、インドリル、ジヒド
ロインドリル、クロマニル、ベンゾピラン、チオクロマ
ニル、ベンゾチオピラン、ベンゾジオキソリル、ベンゾ
ジオキサニル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、オキ
サゾリル、フリルおよびピラジニルより選択され、
【0040】ここでR4は、置換可能な位置でフルオ
ロ、クロロ、ブロモ、メチルチオ、メチルスルフィニ
ル、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ter
t−ブチル、イソブチル、ヘキシル、エチレニル、プロ
ペニル、メチルスルホニル、シアノ、カルボキシル、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカ
ルボニル、ペントキシカルボニル、アミノカルボニル、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、
ブロモジフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル、ジ
クロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロ
プロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、ヒドロ
キシル、メトキシ、メチレンジオキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、n−ブトキシ、スルファミル、メチルアミノス
ルホニル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシイソプロピ
ル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、トリフルオ
ロメトキシ、アミノ、N−メチルアミノ、N−エチルア
ミノ、N−エチル−N−メチルアミノ、
【0041】N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチ
ルアミノ、ホルミルアミノ、メチルカルボニルアミノ、
トリフルオロアセトアミノ、ピペラジニル、ピペラジニ
ル、モルホリノ、シクロヘキシルメチル、シクロプロピ
ルメチル、シクロペンチルメチル、ニトロ、
【化25】 より選択される1つまたはそれ以上の基により随時置換
されており;そしてR7は、ヒドリド、メチル、エチ
ル、フェニルおよびベンジルより選択される式Iの化合
物、またはその薬剤学的に許容される塩よりなる。
【0042】式Iの中に、R1は、置換可能な位置でス
ルファミルにより置換されたフェニルであり;R2は、
低級ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、低級アルコ
キシカルボニル、低級カルボキシアルキル、アミノカル
ボニル、低級N−アルキルアミノカルボニル、N−アリ
ールアミノカルボニル、低級N,N−ジアルキルアミノ
カルボニル、低級N−アルキル−N−アリールアミノカ
ルボニル、低級シクロアルキルアミノカルボニルおよび
低級ヒドロキシアルキルより選択され;R3およびR
4は、一緒になって
【化26】 を形成し;mは、2であり;Aは、フェニルおよび5員
ヘテロアリールより選択され;そしてR6は、ハロ、低
級アルキル、低級アルキルスルホニル、低級ハロアルキ
ル、低級アルコキシ、アミノおよびニトロより選択され
る1つまたはそれ以上の基である非常に興味ある化合
物、またはその薬剤学的に許容される塩の第2のサブク
ラスがある。
【0043】特に興味ある化合物のクラスは、R2は、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、
ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジ
フルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチ
ル、ジクロロプロピル、シアノ、カルボキシル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、tert−ブトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、ペントキシカルボニル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチ
ル、アミノカルボニル、N−メチルアミノカルボニル、
N−エチルアミノカルボニル、N−イソプロピルアミノ
カルボニル、N−プロピルアミノカルボニル、N−ブチ
ルアミノカルボニル、N−イソブチルアミノカルボニ
ル、N−tert−ブチルアミノカルボニル、
【0044】N−ペンチルアミノカルボニル、N−フェ
ニルアミノカルボニル、N,N−ジメチルアミノカルボ
ニル、N−メチル−N−エチルアミノカルボニル、N−
(3−フルオロフェニル)アミノカルボニル、N−(4
−メチルフェニル)アミノカルボニル、N−(3−クロ
ロフェニル)アミノカルボニル、N−(4−メトキシフ
ェニル)アミノカルボニル、N−メチル−N−フェニル
アミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、
ヒドロキシプロピル、ヒドロキシメチルおよびヒドロキ
シエチルより選択され;Aは、フェニル、ルリルおよび
チエニルより選択され;そしてR6は、フルオロ、クロ
ロ、ブロモ、メチルスルホニル、メチル、エチル、イソ
プロピル、tert−ブチル、イソブチル、フルオロメ
チル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ
メチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフ
ルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロク
ロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチ
ル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプ
ロピル、メトキシ、メチレンジオキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、n−ブトキシ、アミノ、およびニトロより選択
される1つまたはそれ以上の基である式Iの化合物、ま
たはその薬剤学的に許容される塩よりなる。
【0045】式Iの中に、R1は、フェニル、ナフチ
ル、ビフェニル、および5員または6員ヘテロアリール
より選択され、ここでR1は、置換可能な位置でハロ、
低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシルおよび低
級ハロアルキルより選択される1つまたはそれ以上の基
により置換されており;R2は、低級ハロアルキルより
選択され;R3は、ヒドリドであり;そしてR4は、置換
可能な位置でスルファミルにより置換されたアリールで
ある非常に興味ある化合物、またはその薬剤学的に許容
される塩の第3のサブクラスがある。特に興味ある化合
物のクラスは、R1は、フェニル、ナフチル、ベンゾフ
リル、ベンゾチエニル、インドリル、ベンゾジオキソリ
ル、ベンゾジオキサニル、ピリジル、チエニル、チアゾ
リル、オキサゾリル、フリルおよびピラジニルより選択
され、
【0046】ここでR1は、置換可能位置でフルオロ、
クロロ、ブロモ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、
トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、
トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフル
オロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロプロ
ピル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジ
フルオロプロピル、ジクロロエチル、メチル、エチル、
プロピル、ヒドロキシル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシおよびn−ブトキシより選択される1つまたはそれ
以上の基により置換されており;R2は、フルオロメチ
ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメ
チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフル
オロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロ
ロメチル、ジフルオロエチル、ジクロロフルオロメチ
ル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチルおよびジクロ
ロプロピルより選択され;R3は、ヒドリドであり;そ
してR4は、置換可能な位置でスルファミルにより置換
されたフェニルである式Iの化合物、またはその薬剤学
的に許容される塩よりなる。
【0047】式Iの中に、式II:
【化27】 [式中、R2は、ヒドリド、アルキル、ハロアルキル、
アルコキシカルボニル、シアノ、シアノアルキル、カル
ボキシル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニ
ル、シクロアルキルアミノカルボニル、アリールアミノ
カルボニル、カルボキシアルキルアミノカルボニル、カ
ルボキシアルキル、アラルコキシカルボニルアルキルア
ミノカルボニル、アミノカルボニルアルキル、アルコキ
シカルボニルシアノアルケニルおよびヒドロキシアルキ
ルより選択され;R3は、ヒドリド、アルキル、シア
ノ、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、アルキルス
ルホニルおよびハロより選択され;そして
【0048】R4は、アラルケニル、アリール、シクロ
アルキル、シクロアルケニルおよび複素環より選択さ
れ、ここでR4は、置換可能な位置でハロ、アルキルチ
オ、アルキルスルホニル、シアノ、ニトロ、ハロアルキ
ル、アルキル、ヒドロキシル、アルケニル、ヒドロキシ
アルキル、カルボキシル、シクロアルキル、アルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、アミ
ノカルボニル、アルコキシ、ハロアルコキシ、スルファ
ミル、複素環およびアミノより選択される1つまたはそ
れ以上の基により随時置換されている(但し、R2およ
びR3は、両方がヒドリドではなく;さらに但し、R3
ヒドリドであり、かつR4がフェニルである時、R2は、
カルボキシルまたはメチルではなく;さらに但し、R2
がメチルである時、R4は、トリアゾリルではなく;さ
らに但し、R2がカルボキシル、アミノカルボニルまた
はエトキシカルボニルである時、R4は、アラルケニル
ではなく;さらに但し、R2がメチルであり、かつR3
カルボキシルである時、R4は、フェニルではなく;そ
してさらに但し、R2がトリフルオロメチルである時、
4は、非置換チエニルではない)]で示される非常に
興味ある化合物、またはその薬剤学的に許容される塩の
サブクラスがある。
【0049】特に興味ある化合物のクラスは、R2は、
ヒドリド、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アル
コキシカルボニル、シアノ、低級シアノアルキル、カル
ボキシル、アミノカルボニル、低級アルキルアミノカル
ボニル、低級シクロアルキルアミノカルボニル、アリー
ルアミノカルボニル、低級カルボキシアルキルアミノカ
ルボニル、低級アラルコキシカルボニルアルキルアミノ
カルボニル、低級アミノカルボニルアルキル、低級カル
ボキシアルキル、低級アルコキシカルボニルシアノアル
ケニルおよび低級ヒドロキシアルキルより選択され;R
3は、ヒドリド、低級アルキル、シアノ、低級ヒドロキ
シアルキル、低級シクロアルキル、低級アルキルスルホ
ニルおよびハロより選択され;そしてR4は、アラルケ
ニル、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニルお
よび複素環より選択され、ここでR4は、置換可能な位
置でハロ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニ
ル、シアノ、ニトロ、低級ハロアルキル、低級アルキ
ル、ヒドロキシル、低級アルケニル、低級ヒドロキシア
ルキル、カルボキシル、低級シクロアルキル、低級アル
キルアミノ、低級ジアルキルアミノ、低級アルコキシカ
ルボニル、アミノカルボニル、低級アルコキシ、低級ハ
ロアルコキシ、スルファミル、5員または6員複素環お
よびアミノより選択される1つまたはそれ以上の基によ
り随時置換されている式IIの化合物、またはその薬剤学
的に許容される塩よりなる。
【0050】式Iの中で特に興味ある具体的な化合物の
ファミリーは、以下の化合物およびその薬剤学的に許容
される塩よりなる:4−[5−(4−(N−エチルアミ
ノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−(N−エチル−N−メチルアミノ)フェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3
−フルオロ−4−(N−メチルアミノ)フェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−クロロ
−4−(N−メチルアミノ)フェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(3−メチル−4−(N
−メチルアミノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−(N,N−ジメチルアミノ)
−3−フルオロフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0051】4−[5−(3−クロロ−4−(N,N−
ジメチルアミノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−(N,N−ジメチルアミノ)
−3−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−(N−エチル−N−メチルアミ
ノ)−3−フルオロフェニル)−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(3−クロロ−4−(N−エチル
−N−メチルアミノ)フェニル)−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(4−(N−エチル−N−メチ
ルアミノ)−3−メチルフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;
【0052】4−[5−(4−(N,N−ジエチルアミ
ノ)−3−フルオロフェニル)−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(3−クロロ−4−(N,N−ジ
エチルアミノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−(N,N−ジエチルアミノ)
−3−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;N−[4−[1−[4−(アミノスルホニル)フェ
ニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−5−イル]−3−フルオロフェニル]−N−メチル
アセトアミド;N−[4−[1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−5−イル]−3−クロロフェニル]−N
−メチルアセトアミド;
【0053】N−[4−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−5−イル]−3−メチルフェニル]−N−
メチルアセトアミド;N−[4−[1−[4−(アミノ
スルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−5−イル]−3−フルオロフェニ
ル]−N−メチル尿素;N−[4−[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−5−イル]−3−クロロフェ
ニル]−N−メチル尿素;N−[4−[1−[4−(ア
ミノスルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−5−イル]−3−メチルフェ
ニル]−N−メチル尿素;N−[4−[1−[4−(ア
ミノスルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−5−イル]−3−フルオロフ
ェニル]−N−メチルチオ尿素;
【0054】N−[4−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−5−イル]−3−クロロフェニル]−N−
メチルチオ尿素;N−[4−[1−[4−(アミノスル
ホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−5−イル]−3−メチルフェニル]−
N−メチルチオ尿素;4−[5−(3−(N,N−ジメ
チルアミノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(3−(N−エチル−N−メチルアミ
ノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−クロロ−3−(N−メチルアミノ)フェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−メチル−3−(N−メチルアミノ)フェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0055】N−[3−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−5−イル]フェニル]−N−メチルアセト
アミド;N−[3−[1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−5−イル]−4−フルオロフェニル]−N−メ
チルアセトアミド;N−[3−[1−[4−(アミノス
ルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−5−イル]−4−メチルフェニル]
−N−メチル尿素;N−[3−[1−[4−(アミノス
ルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−5−イル]−4−フルオロフェニ
ル]−N−メチルチオ尿素;4−[5−(2−(N−エ
チル−N−メチルアミノ)−4−メチルフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0056】N−[2−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−5−イル]−4−メチルフェニル]−N−
メチル尿素;N−[2−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−5−イル]−4−フルオロフェニル]−N
−メチルチオ尿素;4−[5−(1H−インドール−5
−イル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(7−フルオロ−1H−インドール−5−イル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(1−エチル
−1H−インドール−5−イル)−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(7−メチル−1H−インドー
ル−5−イル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0057】4−[5−(7−クロロ−1−メチル−1
H−インドール−5−イル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(2,3−ジヒドロ−1H−インド
ール−5−イル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(7−フルオロ−1−メチル−2,3−ジヒド
ロ−1H−インドール−5−イル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[3−アミノメチル−5−フェニル
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[3−(N−メチルアミノ)メチル−5−フェ
ニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[3−(N,N−ジメチルアミノ)メチル
−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;
【0058】4−[5−フェニル−3−(N−フェニル
アミノ)メチル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[3−(N−ベンジルアミノ)
メチル−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;4−[3−(N−ベンジル−
N−メチルアミノ)メチル−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[3
−(N−メチル−N−フェニルアミノ)メチル−5−フ
ェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;N−[[1−[4−(アミノスルホニル)フ
ェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]メチル]アセトアミド;N−[[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−3−イル]メチル]−N−メチルアセトアミ
ド;N−[[1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イル]メ
チル]−N−フェニルアセトアミド;
【0059】N−[[1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]メチル]−N−ベンジルアセトアミド;N−[[1
−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−フェニ
ル−1H−ピラゾール−3−イル]メチル]尿素;N−
[[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
フェニル−1H−ピラゾール−3−イル]メチル]−N
−メチル尿素;N−[[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3
−イル]メチル]−N−フェニル尿素;N−[[1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−フェニル
−1H−ピラゾール−3−イル]メチル]−N−ベンジ
ル尿素;N−[[1−[4−(アミノスルホニル)フェ
ニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イル]
メチル]チオ尿素;N−[[1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−
3−イル]メチル]−N−メチルチオ尿素;
【0060】N−[[1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]メチル]−N−フェニルチオ尿素;N−[[1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−フェニル
−1H−ピラゾール−3−イル]メチル]−N−ベンジ
ルチオ尿素;4−[4−メトキシ−5−フェニル−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4−メチルチオ−
5−フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4−(N−メチルアミノ)−5−フェニル−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[4−(N,N−ジメチル
アミノ)−5−フェニル−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[3−メトキシ−5−フェニル−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0061】4−[3−エトキシ−5−フェニル−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[3−フェノキシ−5−フェニル−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[3−ベン
ジルオキシ−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[3−メチルチオ−
5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[3−ベンジルチオ−5−フェニ
ル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンア
ミド;4−[3−(N−メチルアミノ)−5−フェニル
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[3−(N,N−ジメチルアミノ)−5−フェ
ニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0062】4−[3−(N−ベンジル−N−メチルア
ミノ)−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;N−[1−[4−(アミノス
ルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾー
ル−3−イル]アセトアミド;N−[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−3−イル]−N−メチルアセトアミド;N−
[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−フ
ェニル−1H−ピラゾール−3−イル]−N−ベンジル
アセトアミド;N−[1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]尿素;N−[1−[4−(アミノスルホニル)フェ
ニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イル]
−N−メチル尿素;N−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3
−イル]−N−ベンジル尿素;
【0063】N−[1−[4−(アミノスルホニル)フ
ェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]チオ尿素;N−[1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]−N−メチルチオ尿素;N−[1−[4−(アミノ
スルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾ
ール−3−イル]−N−ベンジルチオ尿素;4−[5−
フェニル−3−(1,1−ジフルオロ−1−フェニルメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−フェニル−3−(1,1−ジフル
オロ−2−フェニルエチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;1−[4−(アミノス
ルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾー
ル−3−ジフルオロ酢酸;1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3
−ジフルオロ酢酸メチル;
【0064】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−ジフルオ
ロアセトアミド;N,N−ジメチル−1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−3−ジフルオロアセトアミド;N−フェニル−
1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−フェ
ニル−1H−ピラゾール−3−ジフルオロアセトアミ
ド;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
フェニル−1H−ピラゾール−3−酢酸;1−[4−
(アミノスルホニル)フェニル]−4−クロロ−5−フ
ェニル−1H−ピラゾール−3−ジフルオロ酢酸;1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−4−ブロモ−
5−フェニル−1H−ピラゾール−3−ジフルオロ酢
酸;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−4−
クロロ−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾー
ル−3−酢酸;
【0065】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−4−ブロモ−5−フェニル−1H−ピラゾール−
3−酢酸;(R)−2−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3
−イル]プロパン酸;(S)−2−[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−3−イル]プロパン酸;(R)−2−[1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−4−クロロ−
5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イル]プロパン
酸;(S)−2−[1−[4−(アミノスルホニル)フ
ェニル]−4−クロロ−5−フェニル−1H−ピラゾー
ル−3−イル]プロパン酸;(R)−2−[1−[4−
(アミノスルホニル)フェニル]−4−ブロモ−5−フ
ェニル−1H−ピラゾール−3−イル]プロパン酸;
(S)−2−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−4−ブロモ−5−フェニル−1H−ピラゾール−
3−イル]プロパン酸;
【0066】2−[1−[4−(アミノスルホニル)フ
ェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−イ
ル]−2−メチルプロパン酸;2−[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−4−クロロ−5−フェニル
−1H−ピラゾール−3−イル]−2−メチルプロパン
酸;2−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]
−4−ブロモ−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−
イル]−2−メチルプロパン酸;2−フルオロ−4−
[5−フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;3−
フルオロ−4−[5−フェニル−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;2−メチル−4−[5−フェニル−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;3−メチル−4−[5−フェニ
ル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0067】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボン酸エチル;1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−(4−メチルフェニル)−1H−
ピラゾール−3−カルボン酸エチル;1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸イソプロピ
ル;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
(4−アミノフェニル)−1H−ピラゾール−3−カル
ボン酸メチル;1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボン酸;1−[4−(アミノスルホニル)フ
ェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾ
ール−3−カルボン酸tert−ブチル;1−[4−
(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフ
ェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸プロピ
ル;
【0068】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボン酸ブチル;1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−
ピラゾール−3−カルボン酸イソブチル;1−[4−
(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフ
ェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸ペンチ
ル;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カル
ボン酸メチル;1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボン酸メチル;1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−(4−メトキシフェニル)−1H
−ピラゾール−3−カルボン酸メチル;1−[4−(ア
ミノスルホニル)フェニル]−5−(4−ブロモフェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチル;
【0069】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−ニトロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボン酸メチル;1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−(4−フルオロフェニル)−1H
−ピラゾール−3−カルボン酸メチル;1−[4−(ア
ミノスルホニル)フェニル]−5−(3,5−ジクロロ
−4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−3−カ
ルボン酸メチル;1−[4−(アミノスルホニル)フェ
ニル]−5−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェ
ニル)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メチル;N
−[4−メチルフェニル]−1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−[3−クロ
ロフェニル]−1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾー
ル−3−カルボキサミド;N−[3−フルオロフェニ
ル]−1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5
−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−
カルボキサミド;
【0070】N−[3−フルオロフェニル]−1−[4
−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロ
フェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;
N−[[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−
5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−
イル]カルボニル]グリシン酸フェニルメチル;1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−ブ
ロモフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミ
ド;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カル
ボキサミド;N−フェニル−1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−(4−メト
キシフェニル)−1−[4−(アミノスルホニル)フェ
ニル]−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾ
ール−3−カルボキサミド;N−(4−メチルフェニ
ル)−1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5
−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カ
ルボキサミド;
【0071】N,N−ジメチル−1−[4−(アミノス
ルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−
1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−メチル−
1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4
−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキ
サミド;N−メチル−N−エチル−1−[4−(アミノ
スルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニル)
−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−フェニ
ル−1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カル
ボキサミド;N−メチル−N−フェニル−1−[4−
(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフ
ェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N
−エチル−1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]
−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3
−カルボキサミド;N−イソプロピル−1−[4−(ア
ミノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;
【0072】N−プロピル−1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H
−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−ブチル−1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−ク
ロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミ
ド;N−イソブチル−1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラ
ゾール−3−カルボキサミド;N−tert−ブチル−
1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4
−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキ
サミド;N−ペンチル−1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−
ピラゾール−3−カルボキサミド;N−シクロヘキシル
−1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−
(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カ
ルボキサミド;N−シクロペンチル−1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;
【0073】4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
(ピロリジノカルボキサミド)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ク
ロロフェニル)−3−(ピペリジノカルボキサミド)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;N−(3−クロロフェニル)−1−[4−(アミノ
スルホニル)フェニル]−5−(4−クロロフェニル)
−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−(2−
ピリジル)−1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボキサミド;N−メチル−N−(3−クロロ
フェニル)−1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボキサミド;1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−5−(4−ニトロフェニル)−1H−
ピラゾール−3−カルボキサミド;1−[4−(アミノ
スルホニル)フェニル]−5−(4−フルオロフェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;
【0074】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−カルボキ
サミド;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−
5−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−1H−ピ
ラゾール−3−カルボキサミド;1−[4−(アミノス
ルホニル)フェニル]−5−(4−メチルチオフェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサミド;1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−メ
トキシフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキサ
ミド;1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5
−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−カ
ルボキサミド;N−メチル−1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−(4−メトキシフェニル)−1
H−ピラゾール−3−カルボキサミド;N−[[1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4−ク
ロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カルボ
ニル]グリシン;
【0075】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(3−ブロモ−4−メトキシフェニル)−1
H−ピラゾール−3−カルボキサミド;1−[4−(ア
ミノスルホニル)フェニル]−5−(3,5−ジクロロ
−4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−3−カ
ルボキサミド;4−[5−(4−ブロモフェニル)−3
−シアノ−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[3−シアノ−5−(4−フルオロフ
ェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
シアノ−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[3−シアノ−5−(4−メトキシフェ
ニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[3−シアノ−5−(4−メチルフェニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0076】4−[3−シアノ−5−(4−メチルチオ
フェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(3−クロロ−4−メトキシ
フェニル)−3−シアノ−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3,5−ジ
クロロ−4−メトキシフェニル)−3−シアノ−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(3−ブロモ−4−メトキシフェニル)−3−シ
アノ−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[3−シアノ−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(4−ニトロフェニル)−3−(シアノ)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4−クロロ−5−(4−フルオロフェニル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0077】4−[4−クロロ−5−(4−クロロフェ
ニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[4−ブロモ−5−(4−クロロフェニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[4−クロロ−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4
−クロロ−5−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェ
ニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[4−ブロモ−5−(4−メチルフェニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[4−クロロ−5−(4−メチルフェニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[4−クロロ−5−(3−クロロ−4−メ
トキシフェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;
【0078】4−[4−クロロ−5−(4−メトキシフ
ェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[4−ブロモ−5−(4−メトキシフ
ェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[4−シアノ−5−(4−メトキシフ
ェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[4−クロロ−5−(3,5−ジフル
オロ−4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4−メチル−
5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[4−フルオロ−5−フェニル−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−クロロフェニル)−4−メチルス
ルホニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;
【0079】4−[4−クロロ−5−(4−クロロフェ
ニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4−エ
チル−5−フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[4−メチル−5−フェニル−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(4−メトキシフェニル)−4
−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−クロロフェニル)−4−メチル−3−(トリフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニル)−
4−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4
−エチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;
【0080】4−[4−エチル−5−(4−メトキシ−
3−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[4−エチル−5−(4−メトキシフェニル)
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4−シクロプ
ロピル−5−フェニル−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[4−エチル−5−(3−フルオロ−4−クロ
ロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4−ヒドロキシメチル−5−フェニル−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(4−フルオロフェニ
ル)−4−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[4−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0081】4−[4−フルオロ−5−フェニル−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4−ブロモ−5−
(4−クロロフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[4−クロロ−5−(3,5−ジクロロ−4−
メトキシフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[4−クロロ−3−(ジフルオロメチル)−5−フェ
ニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[4−ブロモ−3−(ジフルオロメチル)
−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[4−クロロ−3−(ジフルオ
ロメチル)−5−(4−メトキシフェニル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4−クロロ−3−シアノ−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0082】4−[4−クロロ−5−(4−クロロフェ
ニル)−3−シアノ−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[4−クロロ−3−シアノ
−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4−ブロモ
−3−シアノ−5−(4−フルオロフェニル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4−ブロモ−3−シアノ−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;[1−
(4−アミノスルホニルフェニル)−4−ブロモ−5−
(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イ
ル]カルボン酸エチル;[1−(4−アミノスルホニル
フェニル)−4−クロロ−5−フェニル−1H−ピラゾ
ール−3−イル]カルボン酸メチル;[1−(4−アミ
ノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5−(4−クロ
ロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カルボン
酸メチル;
【0083】[1−(4−アミノスルホニルフェニル)
−4−クロロ−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピ
ラゾール−3−イル]カルボン酸エチル;[1−(4−
アミノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5−(4−
フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カ
ルボン酸メチル;[1−(4−アミノスルホニルフェニ
ル)−4−ブロモ−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−イル]カルボン酸メチル;[1−
(4−アミノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5−
(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾ
ール−3−イル]カルボン酸メチル;[1−(4−アミ
ノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5−(3,5−
ジクロロ−4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール
−3−イル]カルボン酸メチル;[1−(4−アミノス
ルホニルフェニル)−5−(3−ブロモ−4−メトキシ
フェニル)−4−クロロ−1H−ピラゾール−3−イ
ル]カルボン酸メチル;[1−(4−アミノスルホニル
フェニル)−4−クロロ−5−フェニル−1H−ピラゾ
ール−3−イル]カルボキサミド;
【0084】[1−(4−アミノスルホニルフェニル)
−4−クロロ−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピ
ラゾール−3−イル]カルボキサミド;[1−(4−ア
ミノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5−(4−フ
ルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カル
ボキサミド;[1−(4−アミノスルホニルフェニル)
−4−ブロモ−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピ
ラゾール−3−イル]カルボキサミド;[1−(4−ア
ミノスルホニルフェニル)−4−ブロモ−5−フェニル
−1H−ピラゾール−3−イル]カルボキサミド;[1
−(4−アミノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5
−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イ
ル]カルボン酸;[1−(4−アミノスルホニルフェニ
ル)−4−クロロ−5−フェニル−1H−ピラゾール−
3−イル]カルボン酸;[1−(4−アミノスルホニル
フェニル)−4−クロロ−5−(3,5−ジクロロ−4
−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]
カルボン酸;
【0085】4−[4−クロロ−3−イソプロピル−5
−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[4−クロロ−3−メチル−5−フ
ェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[4−クロロ−3−ヒドロキシメチル−
5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[4−クロロ−5−(4−クロロ
フェニル)−3−ヒドロキシメチル−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;[1−(4−ア
ミノスルホニルフェニル)−4−クロロ−5−(4−ク
ロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]プロパ
ン酸;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(トリ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;4−[5−フェニル−3−(トリ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;
【0086】4−[5−(4−フルオロフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−シアノ
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(2,6−ジフルオロフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(3,4−ジクロロフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ブロモ
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0087】4−[5−(2,4−ジクロロフェニル)
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−ク
ロロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(4−トリフルオロメチルフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−トリフルオロメトキシフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(4−ニトロフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2−クロロ
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0088】4−[5−(2−フルオロフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−アミノ
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(2−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−フルオロ−2−メチルフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3
−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(4−エトキシフェニル)−3−(トリフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[5−(3,5−ジメチル−4−
メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0089】4−[5−(3−フルオロフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−フルオ
ロ−4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−メチルチオフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロ
−3−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−エチルフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(2,4−ジメチルフェ
ニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(2−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0090】4−[5−(4−メトキシ−3−メチルフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3−ブロモ−4−メチルチオフェニル)−3−(トリ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ヒドロキシ−3
−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−クロロ
−4−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;
【0091】4−[5−(3−エチル−4−メトキシフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−フルオロ−2−メトキシフェニル)−3−(トリ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ヒドロキシメチ
ルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−メトキシ−3−(1−プロペニル)フェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2,4−ジ
メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0092】4−[5−(4−メトキシ−3−プロピル
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−フルオ
ロ−4−メチルチオフェニル)−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(3−シクロプロピルメチル−4
−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5
−イル]安息香酸;4−[5−(3−メチル−4−メチ
ルチオフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(3−クロロ−4−メチルチオフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0093】4−[5−(4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−(N−メチル
アミノ)フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(3−アミノ−4−メチルフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−5−イル]安息香酸メチル;
4−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イ
ル]ベンズアミド;4−[5−(3,5−ジフルオロフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0094】4−[5−(2,4,6−トリフルオロフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(2,6−ジクロロフェニル)−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(2,4,6−トリクロロフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3
−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(3,4−ジメチルフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(1,3−ベ
ンゾジオキソール−5−イル)−3−(トリフルオロメ
チル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(2−フルオロ−4−メトキシフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0095】4−[5−(2−クロロ−4−メトキシフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−クロロ−2−メトキシフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(2−メチルチオフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3
−メチルチオフェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(2−メチルスルフィニルフェニル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−メチ
ルスルフィニルフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−メチルスルフィニルフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0096】4−[5−(2−フルオロ−4−メチルフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−フルオロ−3−メチルフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(2−クロロ−4−メチ
ルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−クロロ−2−メチルフェニル)−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3,4−ジヒドロキシフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(4−イソプロピルフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0097】N−[4−[1−[4−(アミノスルホニ
ル)フェニル]−3−トリフルオロメチル−1H−ピラ
ゾール−5−イル]フェニル]アセトアミド;N−[4
−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−3−
トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル]フ
ェニル]ホルムアミド;N−[4−[1−[4−(アミ
ノスルホニル)フェニル]−3−トリフルオロメチル−
1H−ピラゾール−5−イル]フェニル]トリフルオロ
アセトアミド;4−[5−(4−[N−メチルアミノス
ルホニル]フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(2,5−ジクロロフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−n−ブ
トキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(4−[アミノスルホニル]フェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0098】4−[5−(2,3−ジフルオロフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(2,5−ジフルオロフェニル)−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(2,3,4−トリフルオロフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(2,4,5−トリフル
オロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(2,5,6−トリフルオロフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2,3,
4,5−テトラフルオロフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;
【0099】4−[5−(2,3,4,6−テトラフル
オロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(ペンタフ
ルオロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(2,3,4−トリクロロフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3,4,5
−トリクロロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(2,4,5−トリクロロフェニル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2,5,
6−トリクロロフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0100】4−[5−(2,3,4,5−テトラクロ
ロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(2,3,4,6−テトラクロロフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2,3,
5,6−テトラクロロフェニル)−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(2,3,4,5,6−ペンタ
クロロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(4−tert−ブチルフェニル)−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−イソブチルフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−クロロフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;
【0101】4−[5−(4−トリフルオロメチルフェ
ニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−メチルチオフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−(1−モルホリノ)フェニル)−
3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−メチル
フェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
フェニル−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−メトキシフェニル)−3−(ジフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(3,4−ジメチルフェニル)−3−
(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;
【0102】4−[5−(3−フルオロ−4−メトキシ
フェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[1−
[4−(アミノスルホニル)フェニル]−3−(ジフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]安息香
酸;4−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]
−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−
イル]安息香酸メチル;4−[1−(4−アミノスルホ
ニルフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−5−イル]ベンズアミド;4−[5−(2−
フルオロ−4−メトキシフェニル)−3−(ジフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(4−シアノフェニル)−3−
(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−クロロ−4
−メチルフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0103】4−[5−(3−クロロ−4−メトキシフ
ェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−クロロ−3−メチルフェニル)−3−(ジフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3,
5−ジクロロ−4−メトキシフェニル)−3−(ジフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[5−(3,5−ジフルオロ−4
−メトキシフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(2−メトキシフェニル)−3−(ジフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(3−ブロモ−4−メトキシ
フェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0104】4−[5−(4−メチルスルホニルフェニ
ル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(5−
ブロモ−2−チエニル)−3−(ジフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(5−クロロ−2−チエニル)−3−
(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(1−シクロヘキ
セニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(シクロヘキシル)−3−(ジフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(ビフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(1,4−ベンゾジオキサン−6−イ
ル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0105】4−[3−(ジフルオロメチル)−5−
(4−メチルシクロヘキシル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(メチル
−1−シクロヘキセニル)−3−(ジフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(2−メチル−1−シクロペンテニル)
−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(ベンゾフ
ラン−2−イル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−3
−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2−ピラジ
ニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−(モルホリノ)フェニル)−3−(ジフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0106】4−[5−(2,5−ジメチル−3−フリ
ル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(5−
メチル−2−フリル)−3−(ジフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(1−クロロ−1−メチル−4−シクロヘキ
シル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3,4−ジブロモ−4−メチルシクロヘキシル)−3
−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2−メトキ
シシクロヘキシル)−3−(ジフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(2−チエニル)−3−(ジフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(2,4−ジメチル−3−チエニル)−
3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;
【0107】4−[5−(2,5−ジクロロ−3−チエ
ニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(ベ
ンゾフラン−5−イル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(5−ブロモ−2−チエニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(5−クロロ
−2−チエニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(5−インダニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(5−メチル−2−チエニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2,3−ジ
ヒドロベンゾフラン−5−イル)−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;
【0108】4−[5−(1−シクロヘキセニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(5−ベンゾ
チエニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾピラン−6−
イル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾチオピラン−6
−イル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(2−フェニルエテニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−メチル−1,3−ベンゾジオ
キソール−6−イル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;
【0109】4−[5−(4−メチル−1,3−ベンゾ
ジオキソール−5−イル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(2−ピラジニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド;4−[5−(ビフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(1,2,
3,4−テトラヒドロナフタ−6−イル)−3−(トリ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;4−[5−(2−ナフチル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(2−チアゾ
リル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(2−オキサゾリル)−3−(トリフルオロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;
【0110】4−[5−(シクロヘキシル)−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(シクロペンチル)
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(シクロ
ヘプチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(2−シクロペンテニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(2−フリル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[5−(2−ピリジル)−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(3−ピリジル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0111】4−[5−(6−メチル−3−ピリジル)
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ピ
リジル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3−シクロヘキセニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−シクロヘキセニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−メチル
シクロヘキサ−4−エン−1−イル)−3−(トリフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼン
スルホンアミド;4−[5−(5−クロロ−2−フリ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(5
−ブロモ−2−フリル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;
【0112】4−[5−(6−メトキシ−2−ナフチ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−クロロフェニル)−3−(ヘプタフルオロプロピル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(クロロ
ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−3−(クロロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[3−(クロロジフルオロメチル)−
5−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(フェニル)−3−(フルオロメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0113】4−[3−(ジクロロメチル)−5−(3
−フルオロ−4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[3−
(ブロモジフルオロメチル)−5−(3−フルオロ−4
−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェ
ニル)−3−(フルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−
クロロフェニル)−3−(クロロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(4−クロロフェニル)−3−(ジクロロメチル)−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(ジクロ
ロフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−フルオロフェ
ニル)−3−(トリクロロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0114】4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
(1,1−ジフルオロエチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−ク
ロロフェニル)−3−(1,1−ジフルオロプロピル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(1,1
−ジクロロエチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(1,1−ジクロロプロピル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(4−クロロフェニル)−3−ニトロ−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−クロロフェニル)−3−(アミジノ)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−クロロフェニル)−3−(メチルスルホニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0115】4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
(N−メチル−アミノスルホニル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4
−フルオロフェニル)−3−(イミダゾリル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−フルオロフェニル)−3−(2−ピリジ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(N
−シアノアミジノ)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(テトラゾリル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロ
ロフェニル)−3−(フェニルスルホニル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[5−(4−クロロフェニル)−3−(N−フェニルア
ミノスルホニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;
【0116】4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
(N,N−ジメチルアミノスルホニル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−クロロフェニル)−3−(N−メチル−N−フェ
ニルアミノスルホニル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロ
フェニル)−3−(N−エチルアミノスルホニル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(N−イソプ
ロピルアミノスルホニル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロ
フェニル)−3−(N−メチル−N−エチルアミノスル
ホニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
(N−メチル−N−(3−クロロフェニル)アミノスル
ホニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3−
(N−メチル−N−(2−ピリジル)アミノスルホニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;
【0117】4−[3−メチル−5−フェニル−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[3−イソブチル−5−フェニル−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[3−(3−
ヒドロキシプロピル)−5−フェニル−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−
(4−フルオロフェニル)−3−(3−ヒドロキシプロ
ピル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド;4−[5−(3,5−ジクロロ−4−メトキ
シフェニル)−3−(3−ヒドロキシプロピル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4
−[5−(4−メチルフェニル)−3−(2−ヒドロキ
シイソプロピル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド;1−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピ
ラゾール−3−プロパン酸;
【0118】1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−プロパン酸;1−[4−(アミノスルホニル)フ
ェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾ
ール−3−プロパンアミド;1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−プロパン酸メチル;4−[3−
(3−ヒドロキシメチル)−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5
−(4−クロロフェニル)−3−(3−ヒドロキシメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド;4−[3−(3−ヒドロキシメチル)−5−
(4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(3,5−ジ
クロロ−4−メトキシフェニル)−3−(3−ヒドロキ
シメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;
【0119】4−[5−(3−クロロ−4−メトキシフ
ェニル)−3−(3−ヒドロキシメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;3−[1
−(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(フェニ
ル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−シアノ−2
−プロペン酸エチル;4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(クロロ)−1H−ピラゾール−1−イル]
ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェ
ニル)−3−(ブロモ)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[5−(4−クロロ
フェニル)−3−(フルオロ)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[3−(ジフル
オロメチル)−4,5−ジヒドロ−7−メトキシ−1H
−ベンズ[g]インダゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド;4−[3−(ジフルオロメチル)−4,5
−ジヒドロ−7−メチル−1H−ベンズ[g]インダゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;
【0120】4−[4,5−ジヒドロ−7−メトキシ−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ベンズ[g]イン
ダゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4,5−ジヒドロ−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ベンズ[g]インダゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド;4−[4,5−ジヒドロ−7−メチル−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ベンズ[g]イン
ダゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−
[4,5−ジヒドロ−6,8−ジメチル−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ベンズ[g]インダゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド;4−[4,5−ジヒ
ドロ−6,8−ジメトキシ−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ベンズ[g]インダゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド;[1−(4−アミノスルホニル
フェニル)−4,5−ジヒドロ−7−メトキシ−1H−
ベンズ[g]インダゾール−3−イル]カルボン酸メチ
ル;4−[4,5−ジヒドロ−3−トリフルオロメチル
−1H−チエノ[3,2,g]インダゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド;4−[1−フェニル−3
−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イ
ル]ベンジルスルホンアミド;
【0121】4−[1−(4−クロロフェニル)−3−
(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]
ベンジルスルホンアミド;4−[1−(4−フルオロフ
ェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾー
ル−5−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[1−
(4−メトキシフェニル)−3−(ジフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−5−イル]ベンジルスルホンアミ
ド;4−[1−フェニル−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−5−イル]ベンジルスルホンアミ
ド;4−[1−(4−クロロフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンジ
ルスルホンアミド;4−[1−(4−フルオロフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−5−イル]ベンジルスルホンアミド;および4−[1
−(4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンジルスルホン
アミド。
【0122】式IIの中で特に興味ある具体的な化合物の
ファミリーは、以下の化合物およびその薬剤学的に許容
される塩よりなる:4−[5−(4−クロロフェニル)
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[5−フェニル
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[5−(4−フ
ルオロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンジルスルホンアミド;4
−[5−(4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンジルス
ルホンアミド;4−[5−(4−クロロフェニル)−3
−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンジルスルホンアミド;4−[5−(4−メチル
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[4
−クロロ−5−(4−クロロフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンジ
ルスルホンアミド;
【0123】4−[3−(ジフルオロメチル)−5−
(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンジルスルホンアミド;4−[3−(ジフルオロ
メチル)−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンジルスルホンアミド;4−[3−(ジフルオロ
メチル)−5−(4−メトキシフェニル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[3
−シアノ−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[3
−(ジフルオロメチル)−5−(3−フルオロ−4−メ
トキシフェニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ジルスルホンアミド;4−[5−(3−フルオロ−4−
メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンジルスルホンアミド;
4−[4−クロロ−5−フェニル−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンジルスルホンアミド;4−[5−(4−
クロロフェニル)−3−(ヒドロキシメチル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンジルスルホンアミド;およ
び4−[5−(4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンジルスルホンアミド。
【0124】「ヒドリド」という用語は、単一の水素原
子(H)を意味する。このヒドリド基は、例えば、酸素
原子に結合してヒドロキシル基を形成してもよく、また
は2つのヒドリド基は炭素原子に結合してメチレン(−
CH2)基を形成してもよい。単独または「ハロアルキ
ル」や「アルキルスルホニル」のように他の用語中で
「アルキル」という用語が使用される場合、これは、1
〜約20個の炭素原子、または好ましくは1〜約12個
の炭素原子を有する線状または分枝状基を包含する。さ
らに好ましいアルキル基は、1〜約10個の炭素原子を
有する「低級アルキル」基である。最も好ましいもの
は、1〜約6個の炭素原子を有する低級アルキル基であ
る。このような基の例は、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソ−アミル、
ヘキシルなどを含む。「アルケニル」という用語は、少
なくとも1つの炭素−炭素二重結合を有する、2〜約2
0個の炭素原子、または好ましくは2〜約12個の炭素
原子の線状または分枝状基を包含する。
【0125】さらに好ましいアルキル基は、2〜約6個
の炭素原子を有する「低級アルケニル」基である。この
ような基の例は、エテニル、n−プロペニル、ブテニル
などを含む。「ハロ」という用語は、フッ素、塩素、臭
素またはヨウ素原子のようなハロゲンを意味する。「ハ
ロアルキル」という用語は、任意の1つまたはそれ以上
のアルキル炭素原子が上記で定義されるハロで置換され
ている基を包含する。具体的には、モノハロアルキル、
ジハロアルキルおよびポリハロアルキル基が包含され
る。モノハロアルキル基は、一例として、基の中にヨウ
ド、ブロモ、クロロまたはフルオロ原子のいずれかを含
むことができる。ジハロおよびポリハロアルキル基は、
2つまたはそれ以上の同一のハロ原子または異なるハロ
基の組合せを含むことができる。「低級ハロアルキル」
は、1〜6個の炭素原子を有する基を包含する。ハロア
ルキル基の例は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、
トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、
トリクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロ
エチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメ
チル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジ
フルオロプロピル、ジクロロエチルおよびジクロロプロ
ピルを含む。
【0126】「ヒドロキシアルキル」という用語は、そ
の炭素原子の任意の1つが、1つまたはそれ以上のヒド
ロキシル基で置換されていてよい1〜約10個の炭素原
子を有する線状または分枝状アルキル基を包含する。さ
らに好ましいヒドロキシアルキル基は、1〜6個の炭素
原子と、1つまたはそれ以上のヒドロキシル基を有する
「低級ヒドロキシアルキル」基である。このような基の
例は、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキ
シプロピル、ヒドロキシブチルおよびヒドロキシヘキシ
ルを含む。「アルコキシ」および「アルコキシアルキ
ル」という用語は、メトキシ基のように、各々1〜約1
0個の炭素原子のアルキル部分を有する線状または分枝
状オキシ−含有基を包含する。さらに好ましいアルコキ
シ基は、1〜6個の炭素原子を有する「低級アルコキ
シ」基である。このような基の例は、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシおよびtert−ブトキシを
含む。「アルコキシアルキル」という用語もまた、アル
キル基に結合した2つまたはそれ以上のアルコキシ基を
有するアルキル基を包含し、すなわち、モノアルコキシ
アルキルおよびジアルコキシアルキル基を形成する。
【0127】さらに好ましいアルコキシアルキル基は、
1〜6個の炭素原子と1つまたは2つのアルコキシ基を
有する「低級アルコキシアルキル」基である。このよう
な基の例は、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シエチル、メトキシブチルおよびメトキシプロピルを含
む。「アルコキシ」または「アルコキシアルキル」基
は、フルオロ、クロロまたはブロモのような1つまたは
それ以上のハロ原子でさらに置換されて、「ハロアルコ
キシ」または「ハロアルコキシアルキル」基を提供して
もよい。このような基の例は、フルオロメトキシ、クロ
ロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロエト
キシ、フルオロエトキシおよびフルオロプロポキシを含
む。単独または組合せで用いられる「アリール」という
用語は、1つ、2つまたは3つの環を含有する炭素環式
芳香族系を意味し、これらの環は、ペンダント様に相互
に結合するか、または縮合していてもよい。「アリー
ル」という用語は、フェニル、ナフチル、テトラヒドロ
ナフチル、インダンおよびビフェニルのような芳香族基
を包含する。
【0128】「複素環」という用語は、飽和、部分的飽
和および不飽和の複素原子含有環型基を包含し、ここ
で、複素原子は、窒素、イオウおよび酸素から選択する
ことができる。飽和複素単環基の例は、1〜4個の窒素
原子を含有する飽和3〜6員複素単環基[例えば、ピロ
リジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニ
ルなど];1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子を
含有する飽和3〜6員複素単環基[例えば、モルホリニ
ルなど];1〜2個のイオウ原子と1〜3個の窒素原子
を含有する飽和3〜6員複素単環基[例えば、チアゾリ
ジニルなど]を含む。部分的飽和の複素環基の例は、ジ
ヒドロチオフェン、ジヒドロピラン、ジヒドロフランお
よびジヒドロチアゾールを含む。「ヘテロアリール」と
いう用語は、不飽和複素環基を包含する。
【0129】「ヘテロアリール」とも呼ばれる不飽和複
素環基の例は、1〜4個の窒素原子を含有する不飽和5
〜6員複素単環基(例えば、ピロリル、ピロリニル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、2−ピリジル、3−ピリジ
ル、4−ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダ
ジニル、トリアゾリル[例えば、4H−1,2,4−ト
リアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−
1,2,3−トリアゾリルなど]、テトラゾリル[例え
ば、1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリルなど]な
ど);1〜5個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環
基(例えば、インドリル、イソインドリル、インドリジ
ニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、
インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダ
ジニル[例えば、テトラゾロ[1,5−b]ピリダジニ
ルなど]など);1個の酸素原子を含有する不飽和3〜
6員複素単環基(例えば、ピラニル、2−フリル、3−
フリルなど);1個のイオウ原子を含有する不飽和5〜
6員複素単環基(例えば、2−チエニル、3−チエニル
など);
【0130】1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子
を含有する不飽和5〜6員複素単環基(例えば、オキサ
ゾリル、イソキサゾリル、オキサジアゾリル[例えば、
1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジ
アゾリル、1,2,5−オキサジアゾリルなど]な
ど);1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子を含有
する不飽和縮合複素環基[例えば、ベンズオキサゾリ
ル、ベンズオキサジアゾリルなど];1〜2個のイオウ
原子と1〜3個の窒素原子を含有する不飽和5〜6員複
素単環基(例えば、チアゾリル、チアジアゾリル[例え
ば、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジ
アゾリル、1,2,5−チアジアゾリルなど]など);
1〜2個のイオウ原子と1〜3個の窒素原子を含有する
不飽和縮合複素環基[例えば、ベンゾチアゾリル、ベン
ゾチアジアゾリルなど]などを含む。この用語はまた、
複素環基がアリール基と縮合した基も包含する。このよ
うな縮合二環基の例は、ベンゾフラン、ベンゾチオフェ
ンなどを含む。この「複素環基」は、低級アルキル、ヒ
ドロキシ、オキソ、アミノおよび低級アルキルアミノの
ような1〜3個の置換基を含んでよい。好ましい複素環
基は、5〜10員の縮合基または非縮合基を含む。
【0131】ヘテロアリール基のさらに好ましい例は、
ベンゾフリル、2,3−ジヒドロベンゾフリル、ベンゾ
チエニル、インドリル、ジヒドロインドリル、クロマニ
ル、ベンゾピラン、チオクロマニル、ベンゾチオピラ
ン、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキサニル、ピリジ
ル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリル、フリル、お
よびピラジニルを含む。単独で使用されても、またはア
ルキルスルホニルのように他の用語とつなげて使用され
ても「スルホニル」という用語は、各々二価の−SO2
−基を意味する。「アルキルスルホニル」は、スルホニ
ル基に結合したアルキル基(ここでアルキルは上記で定
義される)を包含する。さらに好ましいアルキルスルホ
ニル基は、1〜6個の炭素原子を有する「低級アルキル
スルホニル」基である。このような低級アルキルスルホ
ニル基の例は、メチルスルホニル、エチルスルホニルお
よびプロピルスルホニルを含む。「アリールスルホニ
ル」という用語は、スルホニル基に結合した上記で定義
されたアリール基を包含する。このような基の例は、フ
ェニルスルホニルを含む。
【0132】「スルファミル」、「アミノスルホニル」
および「スルホンアミジル」という用語は、単独であっ
ても、または「N−アルキルアミノスルホニル」、「N
−アリールアミノスルホニル」、「N,N−ジアルキル
アミノスルホニル」および「N−アルキル−N−アリー
ルアミノスルホニル」のような用語と共に使用されて
も、アミン基で置換されてスルホンアミド(−SO2
2)を形成しているスルホニル基を意味する。「N−
アルキルアミノスルホニル」および「N,N−ジアルキ
ルアミノスルホニル」という用語は、各々1つのアルキ
ル基、または2つのアルキル基で置換されたスルファミ
ル基を意味する。さらに好ましいアルキルアミノスルホ
ニル基は、1〜6個の炭素原子を有する「低級アルキル
アミノスルホニル」基である。このような低級アルキル
アミノスルホニル基の例は、N−メチルアミノスルホニ
ル、N−エチルアミノスルホニルおよびN−メチル−N
−エチルアミノスルホニルを含む。「N−アリールアミ
ノスルホニル」および「N−アルキル−N−アリールア
ミノスルホニル」という用語は、各々1つのアリール
基、または1つのアルキル基と1つのアリール基で置換
されたスルファミル基を意味する。
【0133】さらに好ましいN−アルキル−N−アリー
ルアミノスルホニル基は、1〜6個の炭素原子のアルキ
ル基を有する「低級N−アルキル−N−アリールスルホ
ニル」基である。このような低級N−アルキル−N−ア
リールアミノスルホニル基の例は、N−メチル−フェニ
ルアミノスルホニルおよびN−エチル−フェニルアミノ
スルホニルを含む。「カルボキシ」または「カルボキシ
ル」という用語は、単独で使用されても、または「カル
ボキシアルキル」のように他の用語と共に使用されて
も、−CO2 Hを意味する。「アルカノイル」または
「カルボキシアルキル」という用語は、アルキル基に結
合した、上記で定義されたカルボキシ基を有する基を包
含する。このアルカノイル基は、置換されていてもよ
く、またはホルミル、アセチル、プロピオニル(プロパ
ノイル)、ブタノイル(ブチリル)、イソブタノイル
(イソブチリル)、バレリル(ペンタノイル)、イソバ
レリル、ピバロイル、ヘキサノイルなどのように、非置
換であってもよい。
【0134】「カルボニル」という用語は、単独で使用
されても、または「アルキルカルボニル」のように他の
用語と共に使用されても、−(C=O)−を意味する。
「アルキルカルボニル」という用語は、アルキル基で置
換されたカルボニル基を有する基を包含する。さらに好
ましいアルキルカルボニル基は、1〜6個の炭素原子を
有する「低級アルキルカルボニル」基である。このよう
な基の例は、メチルカルボニルおよびエチルカルボニル
を含む。「アルキルカルボニルアルキル」という用語
は、「アルキルカルボニル」基で置換されたアルキル基
を意味する。「アルコキシカルボニル」という用語は、
酸素原子を介してカルボニル基に結合した、上記で定義
されたアルコキシ基を含有する基を意味する。好ましく
は、「低級アルコキシカルボニル」は、1〜6個の炭素
原子を有するアルコキシ基を包含する。このような「低
級アルコキシカルボニル」エステル基の例は、置換また
は非置換のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルおよびヘキ
シルオキシカルボニルを含む。
【0135】「アルコキシカルボニルアルキル」という
用語は、アルキル基に置換した、上記で定義された「ア
ルコキシカルボニル」を有する基を包含する。さらに好
ましいアルコキシカルボニルアルキル基は、1〜6個の
炭素原子に結合した、上記で定義された低級アルコキシ
カルボニル基を有する「低級アルコキシカルボニルアル
キル」である。このような低級アルコキシカルボニルア
ルキル基の例は、メトキシカルボニルメチル、tert
−ブトキシカルボニルエチル、およびメトキシカルボニ
ルエチルを含む。「アミノカルボニル」という用語は、
これ自身で使用されるか、または「アミノカルボニルア
ルキル」、「N−アルキルアミノカルボニル」、「N−
アリールアミノカルボニル」、「N,N−ジアルキルア
ミノカルボニル」、「N−アルキル−N−アリールアミ
ノカルボニル」、「N−アルキル−N−ヒドロキシアミ
ノカルボニル」および「N−アルキル−N−ヒドロキシ
アミノカルボニルアルキル」のように他の用語と共に使
用される時、式−C(=O)NH2のアミド基を意味す
る。
【0136】「N−アルキルアミノカルボニル」および
「N,N−ジアルキルアミノカルボニル」という用語
は、各々、1つのアルキル基および2つのアルキル基で
置換されたアミノカルボニル基を意味する。さらに好ま
しいものは、アミノカルボニル基に結合した、上記で定
義された低級アルキル基を有する「低級アルキルアミノ
カルボニル」である。「N−アリールアミノカルボニ
ル」および「N−アルキル−N−アリールアミノカルボ
ニル」という用語は、各々1つのアリール基、または1
つのアルキル基と1つのアリール基で置換されたアミノ
カルボニル基を意味する。「アミノカルボニルアルキ
ル」という用語は、アミノカルボニル基で置換されたア
ルキル基を包含する。「N−シクロアルキルアミノカル
ボニル」という用語は、少なくとも1つのシクロアルキ
ル基で置換されたアミノカルボニル基を意味する。さら
に好ましいものは、アミノカルボニル基に結合した、3
〜7個の炭素原子の低級シクロアルキル基を有する「低
級シクロアルキルアミノカルボニル」である。
【0137】「アミノアルキル」という用語は、アミノ
基で置換されたアルキル基を包含する。「アルキルアミ
ノアルキル」という用語は、アルキル基で置換された窒
素原子を有するアミノアルキル基を包含する。「アミジ
ノ」という用語は、−C(=NH)−NH2基を意味す
る。「シアノアミジノ」という用語は、−C(=N−C
N)−NH2基を意味する。「複素環アルキル」という
用語は、複素環で置換されたアルキル基を包含する。さ
らに好ましい複素環アルキル基は、1〜6個の炭素原子
と複素環基を有する「低級複素環アルキル」である。例
としては、ピロリジニルメチル、ピリジルメチルおよび
チエニルメチルのような基を含む。「アラルキル」とい
う用語は、アリールで置換されたアルキル基を包含す
る。好ましいアラルキル基は、1〜6個の炭素原子を有
するアルキル基に結合したアリール基を有する「低級ア
ラルキル」基である。このような基の例は、ベンジル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェニルエチ
ルおよびジフェニルエチルを含む。このようなアラルキ
ル中のアリールは、ハロ、アルキル、アルコキシ、ハロ
アルキルおよびハロアルコキシでさらに置換されていて
もよい。
【0138】ベンジルおよびフェニルメチルという用語
は、相互に交換可能である。「シクロアルキル」という
用語は、3〜10個の炭素原子を有する基を包含する。
さらに好ましいシクロアルキル基は、3〜7個の炭素原
子を有する「低級シクロアルキル」基である。例として
は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシルおよびシクロヘプチルのような基を含
む。「シクロアルケニル」という用語は、シクロブテニ
ル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルおよびシクロ
ヘプテニルのような、3〜10個の炭素原子を有する不
飽和環基を包含する。「アルキルチオ」という用語は、
二価のイオウ原子に結合した、1〜10個の炭素原子の
線状または分枝状アルキル基を含有する基を包含する。
「アルキルチオ」の例は、メチルチオ、(CH3−S
−)である。「アルキルスルフィニル」という用語は、
二価の−S(=O)−原子に結合した、1〜10個の炭
素原子の線状または分枝状アルキル基を含有する基を包
含する。「アミノアルキル」という用語は、アミノ基で
置換されたアルキル基を包含する。さらに好ましいアミ
ノアルキル基は、1〜6個の炭素原子を有する「低級ア
ミノアルキル」である。
【0139】例としては、アミノメチル、アミノエチル
およびアミノブチルを含む。「アルキルアミノアルキ
ル」という用語は、少なくとも1つのアルキル基で置換
された窒素原子を有するアミノアルキル基を包含する。
さらに好ましいアルキルアミノアルキル基は、上記で定
義された低級アミノアルキル基に結合した1〜6個の炭
素原子を有する「低級アルキルアミノアルキル」であ
る。「N−アルキルアミノ」および「N,N−ジアルキ
ルアミノ」という用語は、各々、1つのアルキル基およ
び2つのアルキル基で置換されたアミノ基を意味する。
さらに好ましいアルキルアミノ基は、窒素原子に結合し
た、1〜6個の炭素原子の1つまたは2つのアルキル基
を有する「低級アルキルアミノ」基である。適切な「ア
ルキルアミノ」は、N−メチルアミノ、N−エチルアミ
ノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ
などのようなモノまたはジアルキルアミノであってよ
い。「アリールアミノ」という用語は、N−フェニルア
ミノのような、1つまたは2つのアリール基で置換され
たアミノ基を意味する。この「アリールアミノ」基は、
基のアリール環部分でさらに置換されていてもよい。
【0140】「アラルキルアミノ」という用語は、N−
ベンジルアミノのような、1つまたは2つのアラルキル
基で置換されたアミノ基を意味する。この「アラルキル
アミノ」基は、基のアリール環部分でさらに置換されて
いてもよい。「N−アルキル−N−アリールアミノ」お
よび「N−アラルキル−N−アルキルアミノ」という用
語は、各々、1つのアラルキル基と1つのアルキル基、
または1つのアリール基と1つのアルキル基でアミノ基
に置換したアミノ基を意味する。「N−アリールアミノ
アルキル」および「N−アラルキルアミノアルキル」と
いう用語は、各々、1つのアリール基または1つのアラ
ルキル基で置換された、アミノ基がアルキル基に結合し
ている、アミノ基を意味する。さらに好ましいアリール
アミノアルキル基は、1〜6個の炭素原子に結合したア
リールアミノ基を有する「低級アリールアミノアルキ
ル」である。このような基の例は、N−フェニルアミノ
メチルおよびN−フェニル−N−メチルアミノメチルを
含む。「N−アルキル−N−アリールアミノアルキル」
および「N−アラルキル−N−アルキルアミノアルキ
ル」という用語は、アミノ基がアルキル基に結合してい
る、N−アルキル−N−アリールアミノおよびN−アル
キル−N−アラルキルアミノ基を意味する。
【0141】「アシル」という用語は、単独で使用され
ても、または「アシルアミノ」のように用語の中で使用
されても、有機酸からヒドロキシル基が脱離した後の残
基により与えられる基を意味する。「アシルアミノ」と
いう用語は、アシル基で置換されたアミノ基を包含す
る。「アシルアミノ」基の例は、アセチルアミノまたは
アセトアミド(CH3C(=O)−NH−)であり、こ
こで、このアミンはアルキル、アリールまたはアラルキ
ルでさらに置換されていてもよい。「アリールチオ」と
いう用語は、二価のイオウ原子に結合した、6〜10個
の炭素原子のアリール基を包含する。「アリールチオ」
の例は、フェニルチオである。「アラルキルチオ」とい
う用語は、二価のイオウ原子に結合した、上述のアラル
キル基を包含する。「アラルキルチオ」の例は、ベンジ
ルチオである。「アリールオキシ」という用語は、酸素
原子に結合した、上記で定義されたアリール基を包含す
る。
【0142】このような基の例は、フェノキシを含む。
「アラルコキシ」という用語は、酸素原子を介して他の
基に結合したオキシ−含有アラルキル基を包含する。さ
らに好ましいアラルコキシ基は、上述の低級アルコキシ
基に結合したフェニル基を有する「低級アラルコキシ」
基である。「ハロアラルキル」という用語は、ハロアル
キル基に結合した、上記で定義されたアリール基を包含
する。「カルボキシハロアルキル」という用語は、アル
キル部分に結合したハロ基を有する、上記で定義された
カルボキシアルキル基を包含する。「アルコキシカルボ
ニルハロアルキル」という用語は、ハロアルキル基で置
換された、上記で定義されたアルコキシカルボニル基を
包含する。「アミノカルボニルハロアルキル」という用
語は、ハロアルキル基で置換された、上記で定義された
アミノカルボニル基を包含する。「アルキルアミノカル
ボニルハロアルキル」という用語は、ハロアルキル基で
置換された、上記で定義されたアルキルアミノカルボニ
ル基を包含する。「アルコキシカルボニルシアノアルケ
ニル」という用語は、どちらもアルケニル基で置換され
た、上記で定義されたアルコキシカルボニル基と、シア
ノ基を包含する。
【0143】「カルボキシアルキルアミノカルボニル」
という用語は、上記で定義されたカルボキシアルキル基
で置換されたアミノカルボニル基を包含する。「アラル
コキシカルボニルアルキルアミノカルボニル」という用
語は、上記で定義されたアリールで置換されたアルコキ
シカルボニル基で置換された、アミノカルボニル基を包
含する。
【0144】「シクロアルキルアルキル」という用語
は、上記で定義されたアルキル基に結合した3〜10個
の炭素原子を有するシクロアルキル基を包含する。さら
に好ましいシクロアルキルアルキル基は、上記で定義さ
れた低級アルキル基に結合したシクロアルキル基を有す
る「低級シクロアルキルアルキル」基である。例とし
て、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、およ
びシクロヘキシルエチルのような基を含む。「アラルケ
ニル」という用語は、フェニルブテニル、およびフェニ
ルエテニルすなわちスチリルのような、2〜10個の炭
素原子を有するアルケニル基に結合したアリール基を包
含する。
【0145】本発明は、少なくとも1つの薬剤学的に許
容される担体、補助剤または希釈剤と共に、治療上有効
量の式Iの化合物よりなる、炎症、および関節炎のよう
な炎症関連疾患の治療のための薬剤組成物よりなる。本
発明はまた、患者の炎症または炎症関連疾患を治療する
治療方法よりなり、この方法はこのような炎症または疾
患を有する患者に治療上有効量の式Iの化合物を投与す
ることよりなる。式Iの化合物のファミリーには、その
薬剤学的に許容される塩も含まれる。「薬剤学的に許容
される塩」という用語は、アルカリ金属塩および遊離酸
または遊離塩基の付加塩を形成するのに通常使用される
塩を包含する。薬剤学的に許容される限り、その塩の性
質は決定的に重要ではない。適切な薬剤学的に許容され
る式Iの化合物の酸付加塩は、無機酸または有機酸から
調製することができる。
【0146】このような無機酸の例は、塩酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸およびリン酸があ
る。適切な有機酸は、脂肪族、脂環式、芳香族、芳香脂
肪族、複素環式、カルボン酸およびスルホン酸類の有機
酸(これらの例は、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、コハク
酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸、アスコルビン酸、グルクロン酸、マレイ
ン酸、フマル酸、ピルビン酸、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸、安息香酸、アントラニル酸、メシル酸、サリチ
ル酸、4−ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、マンデ
ル酸、エンボン酸(パモイル酸)、メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パントテン
酸、2−ヒドロキシエタンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、スルファニル酸、シクロヘキシルアミノスルホン
酸、ステアリン酸、アルギン酸、β−ヒドロキシ酪酸、
サリチル酸、ガラクタル酸およびガラクツロン酸であ
る)より選択されてよい。
【0147】適切な薬剤学的に許容される式Iの化合物
の塩基付加塩は、アルミニウム、カルシウム、リチウ
ム、マグネシウム、カリウム、ナトリウムおよび亜鉛か
ら製造される金属塩、またはN,N’−ジベンジルエチ
レンジアミン、クロロプロカイン、コリン、ジエタノー
ルアミン、エチレンジアミン、メグルミン(meglumin
e)(N−メチルグルカミン)およびプロカインから作
成される有機塩を含む。これらの全ての塩は、対応する
式Iの化合物から、例えば、適切な酸または塩基を式I
の化合物と反応させることにより、従来法により調製す
ることができる。 一般的合成方法 本発明の化合物は、下記反応概略図I〜VIII(図中、R
1〜R7の置換基は、別に記載されるものを除いて、上記
式Iで定義された通りである)の方法により合成するこ
とができる。
【0148】反応概略図I
【化28】
【0149】合成反応概略図Iは、出発物質1からのテ
トラ置換ピラゾールの調製を示す。合成反応概略図Iの
工程1で、フェニル−メチルケトン(1)を塩基とアル
キル化試薬(R3X:ここでXは、トシルのような脱離
基を表す)で処理して、置換ケトン(2)を得る。工程
2で、レイド(Reid)とカルビン(Calvin),J.Amer.
Chem. Soc.,72,2948−2952(1950)の
開発した方法と同様の方法で、この置換ケトン(2)を
塩基(例えばナトリウムメトキシド)と、エステル(R
2CO2CH3)またはエステル同等物(R2CO−イミダ
ゾール)で処理して、中間体ジケトン(3)を得る。工
程3で、酢酸またはアルコール性溶媒中でこのジケトン
(3)を置換ヒドラジンと反応させて、ピラゾール
(4)および(5)の混合物を得る。この目的ピラゾー
ル(4)の分離は、クロマトグラフィーまたは再結晶に
より行われる。
【0150】反応概略図II
【化29】
【0151】合成反応概略図IIは、R3が水素原子であ
る、式Iにより包含される化合物の調製を示す。工程1
で、ケトン(1)を塩基(好ましくはNaOMeまたは
NaH)とエステル(またはエステル同等物)で処理し
て、中間体ジケトン(6)を生成させて、これをさらに
精製することなく使用する。工程2で、無水のプロトン
溶媒(例えば、無水エタノールまたは酢酸)中のジケト
ン(6)を、置換ヒドラジンの塩酸塩または遊離塩基で
還流しながら10〜24時間処理して、ピラゾール
(7)および(8)の混合物を得る。ジエチルエーテル
/ヘキサンからの再結晶またはクロマトグラフィーによ
り、通常明黄色または黄褐色の固体として(7)を得
る。
【0152】反応概略図III
【化30】
【0153】合成反応概略図IIIは、式Iにより包含さ
れる4,5−ジヒドロベンズ[g]インダゾール化合物
の調製方法を示す。工程1で、トリフルオロ酢酸エチル
を、プロトン溶媒(例えばメタノール)中の塩基(例え
ば25%ナトリウムメトキシド)および1−テトラロン
誘導体(9)と反応させて、中間体ジケトン(10)を
得る。工程2で、無水プロトン溶媒(例えば、無水エタ
ノールまたは酢酸)中のこのジケトン(10)を、置換
ヒドラジンの遊離塩基または塩酸塩で還流しながら24
時間処理して、ピラゾール(11)と(12)の混合物
を得る。再結晶により、4,5−ジヒドロベンズ[g]
インダゾリル−ベンゼンスルホンアミド(11)を得
る。
【0154】反応概略図IV
【化31】 合成反応概略図IVは、R3が水素である入手可能なピラ
ゾール化合物(7)からの、R3が塩素であるピラゾー
ル化合物(13)の調製を示す。(7)を含有する溶液
に室温で塩素ガス流を通すことにより塩素化する。
【0155】反応概略図V
【化32】
【0156】合成反応概略図Vは、反応概略図Iで使用
されたように市販されていない置換ケトン18の調製を
示す。このケトンは、酸クロリドまたは酸無水物15に
よる、出発物質の置換ベンゼン14の標準的なフリーデ
ル−クラフトアシル化により、調製することができる。
あるいは、このケトンは、標準的有機金属法(ここで、
Mは、リチウム、マグネシウムなどの金属を表す)によ
りフェニルカルボニトリル16から調製することができ
る。別の有機金属経路(ここで、Mは、リチウム、マグ
ネシウムなどの金属を表す)は、アルデヒド17から示
される。適切な酸化剤(例えばCrO3)による酸化に
より、ケトンが生成する。
【0157】反応概略図VI
【化33】 合成反応概略図VIは、ピラゾール21を作成するための
別のレギオ選択的方法を示す。市販のエノン19をエポ
キシ化してエポキシケトン20を得ることができ、これ
を4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩で処理
して、ピラゾール21を得る。
【0158】反応概略図VII
【化34】 合成反応概略図VIIは、出発物質22からのピラゾール
23(ここで、R4は、3−アミノ−4−置換フェニル
である)の調製を示す。適切な5−(4−置換アリー
ル)ピラゾールを、標準的ニトロ化条件下でR基の隣で
ニトロ化することができ、好ましくはヒドラジンとPd
/Cでこのニトロ基をアミノ基に還元する。このアミノ
化合物は、アミノ基のアルキル化によりさらに処理する
ことができる。
【0159】反応概略図VIII
【化35】
【0160】合成反応概略図VIIIは、エステル24から
のピラゾール26の調製を示す。好ましくは水素化アル
ミニウムリチウム(LAH)によりエステル24を還元
してアルコールを得て、次に好ましくはMnO2で酸化
して、アルデヒド25を得る。種々の求核物質(例え
ば、ヒドロキサム酸塩および1,3−ジカルボニル化合
物)をこのアルデヒドと縮合させて、目的のオキシムま
たはオレフィン26を得ることができる。
【0161】
【実施例】以下の実施例は、式I〜IIの化合物の調製方
法の詳細な説明を含む。これらの詳細な説明は本発明の
範囲内であり、本発明の一部をなす上述の一般合成方法
を具体的に示す。これらの詳細な説明は例示目的のみに
与えられるものであり、本発明の範囲になんら制限を加
えるものではない。他に記載がなければ、全ての部は重
量部であり、温度は摂氏度である。HRMSは高分解能
質量分析の略語である。以下の表において、「ND」は
「未測定」を表す。
【0162】実施例1
【化36】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド 工程1:4,4,4−トリフルオロ−1−[4−(クロ
ロ)フェニル]−ブタン−1,3−ジオンの調製
【0163】トリフルオロ酢酸エチル(23.52g、
166mmol)を500mL三つ口丸底フラスコに入れて、
メチルtert−ブチルエーテル(75mL)に溶解し
た。この撹拌溶液に、25%ナトリウムメトキシド(4
0mL、177mmol)を添加ロートにより2分間で添加し
た。次に4’−クロロアセトフェノン(23.21g、
150mmol)をメチルtert−ブチルエーテル(20
mL)に溶解して、この反応物に5分間かけて滴下により
添加した。一晩(15.75時間)撹拌後、3NのHC
l(70mL)を添加した。有機層を集め、食塩水(75
mL)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濾過し、真空下で
濃縮して、35.09gの黄橙色の固体を得た。この固
体をイソ−オクタンから再結晶して、31.96g(8
5%)のジオンを得た:融点66〜67℃。
【0164】工程2:4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(982
mg、4.4mmol、1.1当量)を、エタノール(50m
L)中の工程1からの4,4,4−トリフルオロ−1−
[4−(クロロ)フェニル]−ブタン−1,3−ジオン
(1.00g、4.0mmol)の撹拌溶液に添加した。こ
の反応物を加熱して還流させ、20時間撹拌した(HP
LC面積パーセントは、4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド対このレギオ異性
体(4−[3−(4−クロロフェニル)−5−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド)の比96:3を示した)。室温に冷
却後、この反応混合物を真空下で濃縮した。残渣を酢酸
エチルにとり、水と食塩水で洗浄し、MgSO4 で乾燥
し、濾過し、真空下で濃縮して、明褐色の固体を得て、
これを酢酸エチルとイソ−オクタンから再結晶して、ピ
ラゾール(1.28g、80%、融点143〜145
℃)を得た。HPLCは、精製した物質が4−[5−
(4−クロロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド対このレギオ異性体の99.5:0.5混合物である
ことを示した。 1H NMR(CDC
【0165】l3/CD3OD=10/1)d5.2
(s,2H),6.8(s,1H),7.16(d,j
=8.5Hz,2H),7.35(d,j=8.5H
z,2H),7.44(d,j=8.66,2H),
7.91(d,j=8.66,2H); 13C NMR
(CDCl3/CD3OD=10/1)d106.42
(d,j=0.03Hz),121.0(q,j=27
6Hz),125.5,126.9,127.3,12
9.2,130.1,135.7,141.5,14
3.0,143.9(q,j=37Hz),144.
0;19F NMR(CDCl3/CD3OD=10/1)
d−62.9。EI GC−MS:M+=401。
【0166】実施例2
【化37】 4−[5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド
【0167】工程1:1−(4−メチルフェニル)−
4,4,4−トリフルオロブタン−1,3−ジオンの調
製 4’−メチルアセトフェノン(5.26g、39.2mm
ol)をアルゴン下で25mLのメタノールに溶解して、メ
タノール中のナトリウムメトキシド12mL(52.5mm
ol)(25%)を添加した。この混合物を5分間撹拌し
て、5.5mL(46.2mmol)のトリフルオロ酢酸エチ
ルを添加した。24時間還流後、この混合物を室温に冷
却して濃縮した。100mLの10%HClを添加して、
この混合物を4×75mLの酢酸エチルで抽出した。この
抽出物をMgSO4で乾燥し、濾過して濃縮して、8.
47g(94%)の褐色油状物を得て、これをさらに精
製することなく次に進んだ。
【0168】工程2:4−[5−(4−メチルフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 75mLの無水エタノール中の工程1からのジオン(4.
14g、18.0mmol)に、4.26g(19.0mmo
l)の4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩を
添加した。この反応物をアルゴン下で24時間還流し
た。室温に冷却して濾過後、この反応混合物を濃縮し
て、6.13gの橙色の固体を得た。この固体を塩化メ
チレン/ヘキサンから再結晶して、淡黄色の固体として
3.11g(8.2mmol、46%)の生成物を得た:融
点157〜159℃;元素分析:C17 1432SF3
の理論値:C,53.54;H,3.70;N,11.
02。実測値:C,53.17;H,3.81;N,1
0.90。
【0169】実施例3
【化38】 4−[5−(3,5−ジクロロ−4−メトキシフェニ
ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
【0170】工程1:3,5−ジクロロ−4−メトキシ
アセトフェノンの調製 アルゴン下の25mLのCH2 Cl2 中の7.44g(5
5.8mmol)のAlCl3の冷却溶液(0℃)に、2.
5mLの無水酢酸を滴下により添加した。0.5時間撹拌
後、4.18g(23.6mmol)の2,6−ジクロロア
ニソールを滴下により添加した。この反応物を0℃で1
時間撹拌して、室温に加温して12時間撹拌した。この
反応物を6mLの濃塩酸/80mLの氷水中に注ぎ入れた。
水相を酢酸エチル(3×75mL)で抽出した。合わせた
有機洗浄液をMgSO4で乾燥し、濾過し、ストリッピ
ングして、黄色の油状物として粗生成物を得た。NMR
分析は、メトキシに対してパラ位にのみアシル化が起こ
ったことを示した。この粗油状物をさらに精製すること
なく使用した。
【0171】工程2および3:4−[5−(3,5−ジ
クロロ−4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミドの調製 実施例2の工程1および2と同じ方法で標題化合物を調
製し、10:1ヘキサン/酢酸エチルで溶出する分取プ
レート(prep plate)で精製して、黄色の固体を得た:
元素分析:C171233SF3Cl2・H2Oの理論
値:C,42.16;H,2.91;N,8.68。実
測値:C,42.03;H,2.54;N,8.45。
【0172】実施例4
【化39】 4−[5−(3−エチル−4−メトキシフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド
【0173】工程1:3−エチル−4−メトキシアセト
フェノンの調製 AlCl3(4.9g、36.8mmol)を、塩化メチレ
ン(50mL)中の2−エチルアニソール(2.5g、1
8.4mmol)の溶液に添加した。塩化アセチル(1.3
mL、18.4mmol)をこの反応混合物に滴下により添加
して、次にこれを還流しながら0.5時間撹拌した。室
温に冷却後、この反応物を粉砕した氷に注ぎ入れて、さ
らに塩化メチレン/水で抽出した。有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濾過して濃縮した。この粗生成物を、
溶離液として10%酢酸エチル/90%ヘキサンを用い
て4000ミクロンのクロマトトロン(chromatotron)
プレートでクロマトグラフィーに付して、2.3gの目
的物質を得た。
【0174】工程2および3:4−[5−(3−エチル
−4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミドの調製 実施例2の工程1および2に記載された方法を用いて標
題化合物を調製した:元素分析:C191833SF3
の理論値:C,53.64;H,4.26;N,9.8
8。実測値:C,53.69;H,4.36;N,9.
88。
【0175】実施例5
【化40】 4−[5−(3−メチル−4−メチルチオフェニル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド
【0176】工程1:2−メチルチオアニソールの調製 ヨウ化メチル(0.5mL、8.1mmol)と炭酸カリウム
(1.1g、8.1mmol)を、10mLのDMF中のo−
チオクレゾール(1.0g、8.1mmol)の溶液に添加
した。この反応物を50℃で4時間撹拌して、ヘキサン
と水の中に注ぎ入れた。有機層を分離し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮して、1.1gの目的物質を得た。 工程2、3および4:4−[5−(3−メチル−4−メ
チルチオフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの
調製 実施例4の工程1、2および3の方法を用いて標題化合
物を調製した:元素分析:C18163223の理論
値:C,50.58;H,3.77;N,9.83。実
測値:C,50.84;H,3.62;N,9.62。
【0177】実施例6
【化41】 4−[5−(3−(3−プロペニル)−4−メトキシフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
【0178】工程1:3−アリル−4−メトキシアセト
フェノンの調製 水酸化カリウム(3.2g、56.8mmol)を、125
mLのTHF中の3−アリル−4−ヒドロキシアセトフェ
ノン(10g、56.8mmol)の溶液に添加した。硫酸
ジメチル(過剰)を添加して、反応物を50℃で16時
間撹拌した。この反応物を冷却し、濃縮して、EtOA
cと水の中に注ぎ入れた。有機層を分離し、希水酸化ナ
トリウムで洗浄して、未反応の出発物質を除去した。こ
の酢酸エチル層を乾燥し、濃縮して、9.2gの3−ア
リル−4−メトキシアセトフェノンを得た。 工程2および3:4−[5−(3−(3−プロペニル)
−4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミドの調製 実施例2の工程1および2に記載された方法を用いて標
題化合物を調製した:元素分析:C2018332
の理論値:C,54.92;H,4.15;N,9.6
1。実測値:C,54.70;H,4.12;N,9.
43。
【0179】実施例7
【化42】 4−[5−(3−プロピル−4−メトキシフェニル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド
【0180】工程1:3−n−プロピル−4−メトキシ
アセトフェノンの調製 50mLのエタノール中の実施例6の工程1の生成物(3
g、17.0mmol)の溶液に、触媒量の4%Pd/Cを
添加した。この反応混合物を室温で5psi水素でパー(P
arr)シェーカー中で0.5時間撹拌した。この反応物
を濾過して濃縮して、4gの純粋な3−プロピル−4−
メトキシアセトフェノンを得た。 工程2および3:4−[5−(3−n−プロピル−4−
メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの
調製 実施例2の工程1および2に記載した方法を用いて標題
化合物を調製した:元素分析:C2020333Sの
理論値:C,54.66;H,4.59;N,9.5
6。実測値:C,54.84;H,4.65;N,9.
52。
【0181】実施例8
【化43】 4−[5−(3−シクロプロピルメチル−4−メトキシ
フェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
【0182】工程1:3−シクロプロピルメチル−4−
メトキシアセトフェノンの調製 20mLのEt2O中の実施例6の工程1の生成物(3
g、17.0mmol)と触媒Pd(OAc)2の溶液に、
出発物質が消費されるまでエーテル性ジアゾメタンを添
加した。この反応物を濾過し、濃縮し、4000ミクロ
ンのクロマトトロンプレート(溶離液として20%EA
/80%ヘキサン)でクロマトグラフィーに付して、
2.5gの目的のケトンを得た。 工程2および3:4−[5−(3−シクロプロピルメチ
ル−4−メトキシフェニル)−3−(トリフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミドの調製 実施例2の工程1および2に記載した方法を用いて標題
化合物を調製した:元素分析:C212033SO3
理論値:C,55.87;H,4.47;N,9.3
1。実測値:C,55.85;H,4.27;N,9.
30。
【0183】実施例9
【化44】 4−[5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド 5mLの硫酸中の実施例2の生成物(500mg、1.31
mmol)の溶液に、硝酸(0.6mL、1.31mmol)を添
加して、反応物を室温で0.5時間撹拌した。この混合
物を氷上に注ぎ、固体沈殿物を濾過し、4000ミクロ
ンのプレート(溶離液として20%EtOAc/80%
ヘキサン)でクロマトグラフィーに付して、410mgの
目的物質を得た:元素分析:C171344SF3の理
論値:C,47.89;H,3.07;N,13.1
4。実測値:C,47.86;H,2.81;N,1
3.15。
【0184】実施例10
【化45】 4−[5−(3−アミノ−4−メチルフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド 触媒量の10%Pd/Cを、10mLのエタノール中のヒ
ドラジン水和物(0.022mL、0.7mmol)の溶液に
添加した。この反応混合物を15分間還流して、次に実
施例9からの化合物(100mg、0.23mmol)を添加
して、生じた反応混合物をさらに2時間還流した。この
反応物を冷却し、セライトで濾過して、濃縮し、100
mgの標題化合物を得た:元素分析:C171542SF
3・0.5CO2の理論値:C,50.24;H,3.6
1;N,13.39。実測値:C,50.49;H,
3.44;N,13.37。
【0185】実施例11
【化46】 4−[5−(4−ヒドロキシメチルフェニル)−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:4−[5−(4−ブロモメチルフェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミドの調製 実施例2からの生成物(1.13g、3.0mmol)とN
−ブロモスクシンイミド(NBS、0.64g、3.6
mmol)を40mLのベンゼンに溶解して、UVランプで3
時間照射した。この反応物を室温に冷却し、50mLのH
2Oに注ぎ入れた。有機相を分離し、食塩水で洗浄し、
MgSO4で乾燥した。粗ピラゾールをコハク色の油状
物として得た。この油状物を、30%酢酸エチル/70
%ヘキサンで溶出するラジカルバンド(radical band)
クロマトグラフィーにより精製して、黄色の油状物とし
て4−ブロモメチル化合物を得て、これを静置して結晶
化させた。
【0186】工程2:4−[5−(4−ヒドロキシメチ
ルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 工程1からのブロモメチル化合物を30mLのアセトン/
4mLのH2Oに溶解して、120時間還流した。この反
応物を濃縮して、残渣を50mLの酢酸エチルに溶解し
て、MgSO4 で乾燥した。粗生成物をコハク色の油状
物として得た。この油状物を、30%酢酸エチル/70
%ヘキサンで溶出するラジカルバンドクロマトグラフィ
ーにより精製して、黄色の固体として標題化合物を得
た:元素分析:C171433SF3の理論値:C,5
1.38;H,3.55;N,10.57。実測値:
C,51.28;H,3.59;N,10.31。
【0187】実施例12
【化47】 4−[1−(4−(アミノスルホニル)フェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イ
ル]安息香酸 2mLのアセトン中の実施例11からの生成物に、橙色が
持続するまで1.33Mジョーンズ試薬を添加した。こ
の反応物を20mLの酢酸エチルと20mLのH2O中に注
ぎ入れて、有機層を分離し、飽和重亜硫酸ナトリウムで
洗浄して、MgSO4で乾燥した。粗生成物をシリカゲ
ル/セライトを通して濾過して、黄色の固体として標題
化合物を得た:HRMS m/z 411.0507
(C171234SF3の理論値、411.050
0)。適切なアセトフェノンで置換して、実施例1〜1
2に例示された方法と同様に、以下の表Iの化合物を調
製した。
【0188】
【表1】
【0189】
【表2】
【0190】
【表3】
【0191】
【表4】
【0192】
【表5】
【0193】
【表6】
【0194】
【表7】
【0195】実施例55
【化48】 4−[5−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−
3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド DMF(3mL)中の実施例41の生成物(240mg、
0.58mmol)の溶液に、NaSMe(205mg、2.
9mmol)を添加して、この混合物を2時間加熱して還流
した。この混合物を冷却し、0.1NのHCl中に注ぎ
入れて、EtOAcで抽出(3×)した。合わせた抽出
物をMgSO4 で乾燥して濃縮した。1:1ヘキサン/
酢酸エチルを用いるフラッシュクロマトグラフィーによ
り、31mgの標題化合物を得た:元素分析:C1714
33SF3・0.25H2Oの理論値:C,50.80;
H,3.64;N,10.45。実測値:C,50.7
1;H,3.47;N,10.39。
【0196】実施例56
【化49】 4−[5−(4−(N−メチルアミノ)フェニル)−3
−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド 10mlのメタノール中の実施例53からの生成物(43
1mg、1.0mmol)の溶液に、36mg(0.17mmol)
の塩化ルテニウム(III)水和物を添加し、次に1.5m
Lの30%過酸化水素(14.7mmol)を2時間かけて
添加した。この反応物を、25mLのメタノール中の1M
KOHで停止させて濃縮し、1.24gの褐色の固体
を得た。この固体を、2/97/1のメタノール/塩化
メチレン/塩化アンモニウムで溶出する分取プレートで
精製して、黄色の固体として52mg(0.14mmol、1
2%)の生成物を得た。
【0197】実施例57
【化50】 N−[4−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
−5−イル]フェニル]−N−メチルアセトアミド 19mg(0.051mmol)の実施例56からの生成物
を、室温で12時間、3mLの塩化メチレン中の0.03
mLの無水酢酸(0.32mmol)と0.03mLのトリエチ
ルアミン(0.22mmol)で処理した。反応混合物を濃
縮して、残渣を10mLの酢酸エチルに溶解した。食塩水
(2×10mL)で洗浄後、この溶液をMgSO4で乾燥
し、濾過し、濃縮して、黄色の固体として標題化合物
(18.4mg、74%)を得た:HRMS m/e 4
38.0976(C191743SF 3の理論値、43
8.0974)。
【0198】実施例58
【化51】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(ジフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド 工程1:4,4−ジフルオロ−1−[4−(クロロ)フ
ェニル]−ブタン−1,3−ジオンの調製 ジフルオロ酢酸エチル(24.82g、200mmol)を
500mLの三つ口丸底フラスコに入れて、ジエチルエー
テル(200mL)に溶解した。この撹拌溶液に、メタノ
ール中の25%ナトリウムメトキシド(48mL、210
mmol)を添加ロートにより2分間かけて添加した。次
に、4’クロロアセトフェノン(25.94g、200
mmol)をジエチルエーテル(50mL)に溶解して、この
反応物に5分間かけて滴下により添加した。一晩(18
時間)撹拌後、1NのHCl(250mL)とエーテル
(250mL)を添加した。有機層を集めて、食塩水(2
50mL)で洗浄し、MgSO4 で乾燥し、濾過し、真空
下で濃縮して、46.3gの黄色の固体を得た。この固
体を塩化メチレンとイソ−オクタンから再結晶して、3
1.96g(69%)のジオンを得た:融点65〜6
6.5℃。
【0199】工程2:4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(1.4
5g、6.5mmol、1.3当量)と、工程1からの4,
4−ジフルオロ−1−[4−(クロロ)フェニル]−ブ
タン−1,3−ジオン(1.16g、5mmol)をエタノ
ール(10mL)に溶解した。この反応物を加熱して還流
し、20時間撹拌した。室温に冷却後、この反応混合物
を真空下で濃縮した。残渣を酢酸エチル(100mL)に
とり、水(100mL)と食塩水(100mL)で洗浄し、
MgSO4 で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して、1.
97gの明褐色の固体を得て、これをエタノールと水か
ら再結晶して、4−[5−(4−クロロフェニル)−3
−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド(1.6g、83%)を得
た:融点185〜186℃。
【0200】実施例59
【化52】 4−[5−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−
3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:3’−フルオロ−4’−メトキシアセトフェノ
ンの調製 塩化アルミニウム(80.0g、0.6mol)とクロロ
ホルム(750mL)をメカニカルスターラーを取付けた
2Lの三つ口丸底フラスコに入れて、氷浴により冷却し
た。温度を5〜10℃に維持しながら、この撹拌溶液に
塩化アセチル(51.0g、0.65mol)を滴下によ
り添加した。この混合物を5℃で10分間攪拌し、次い
で5〜10℃で2−フルオロアニソール(62.6g、
0.5mol)を滴下添加した。この混合物を0〜10℃
で1時間撹拌して、氷(1L)中に注ぎ入れた。生じた
層を分離し、水層をジクロロメタン(2×250mL)で
抽出した。合わせた有機層を水(2×150mL)で洗浄
し、MgSO4で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して3
00mLの容量にした。ヘキサンを添加して、白色の固体
を生成させ、これを濾過により単離して空気乾燥した。
この物質をジクロロメタンとヘキサンの混合物から再結
晶して、次の工程で使用するのに適切な(77.2g、
92%)の物質を得た:融点92〜94℃; 1H NM
R(DMSO−d6)7.8(m,2H),7.3
(t,1H)3.9(s,3H),2.5(s,3
H)。
【0201】工程2:4,4−ジフルオロ−1−(3−
フルオロ−4−メトキシフェニル)−ブタン−1,3−
ジオンの調製 ジフルオロ酢酸エチル(4.06g、32.7mmol)を
250mLの三角フラスコに入れて、メチルtert−ブ
チルエーテル(50mL)に溶解した。この撹拌溶液に、
25%ナトリウムメトキシド(7.07g、32.7mm
ol)を添加し、次に工程1からの3’−フルオロ−4’
−メトキシアセトフェノン(5.0g、29.7mmol)
を添加した。16時間撹拌後、1NのHCl(50mL)
を添加した。有機層を集めて、水(2×50mL)で洗浄
し、無水MgSO4で乾燥し、濾過し、ヘキサンに添加
して、黄褐色の固体(7.0g、96%)を沈殿させ
た:融点70〜72℃; 1H NMR(DMSO−
6)8.0(m,3H),7.3(t,1H),6.
9(s,1H),6.5(t,1H),3.9(s,3
H)。
【0202】工程3:4−[5−(3−フルオロ−4−
メトキシフェニル)−3−(ジフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調
製 工程2からの4,4−ジフルオロ−1−(3−フルオロ
−4−メトキシフェニル)−ブタン−1,3−ジオン
(7.0g、28.4mmol)をエタノール(150mL)
に溶解した。この撹拌混合物に4−スルホンアミドフェ
ニルヒドラジン塩酸塩(7.4g、33mmol)を添加し
て、一晩(16時間)還流しながら撹拌した。この混合
物を冷却し、結晶がゆっくり析出するまで水を添加し
た。濾過によりこの生成物を単離して空気乾燥して、明
黄褐色の固体(9.8g、87%)として目的生成物を
得た:融点159〜161℃; 1H NMR(DMSO
−d6)7.85(d,2H),7.5(m,6H),
7.3〜6.9(m,5H),3.8(s,3H)。元
素分析:C17143SO33の理論値:C,51.3
8;H,3.55;N,10.57。実測値:C,5
1.46;H,3.52;N,10.63。
【0203】実施例60
【化53】 4−[3−ジフルオロメチル−5−(4−メトキシフェ
ニル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド
【0204】工程1:4,4,4−トリフルオロメチル
−1−(4−メトキシフェニル)ブタン−1,3−ジオ
ンの調製 500mLの丸底フラスコ中で、ジエチルエーテル(30
0mL)中の4−メトキシアセトフェノン(11.43
g、76.11mmol)とジフルオロ酢酸エチル(8.4
mL、10.4g、83.72mmol)の溶液に、メタノー
ル中のナトリウムメトキシド(25%溶液18.2mL、
79.91mmol)を添加した。この溶液は、30分以内
に暗い藤色になり、次に1.5時間以内に灰色の懸濁液
になった。この反応物を60時間撹拌した。ジエチルエ
ーテル(300mL)を添加して、この混合物を1NのH
Clで酸性(pH2)にした。この混合物を分液ロート
に移して、混合し、分離した。エーテル相を水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥して、濾過した。ヘキサン
を添加して、橙色の固体である5.25gの4,4,4
−トリフルオロメチル−1−(4−メトキシフェニル)
ブタン−1,3−ジオンを沈殿させた。ヘキサンから濃
縮母液を再結晶してさらに3.43gの生成物を得た:
1H NMR(CDCl3)400mHz 15.58
(br s,1H),7.94(d,J=8.87H
z,2H),6.98(d,J=8.87Hz,2
H),6.49(s,1H),6.00(t,J=5
4.55Hz,1H),3.89(s,3H)。
【0205】工程2:4−[5−(4−メトキシフェニ
ル)−3−ジフルオロメチル−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 エタノール(25mL)に溶解した工程1からの4,4,
4−トリフルオロメチル−1−(4−メトキシフェニ
ル)ブタン−1,3−ジオン(2.006g、8.79
mmol)と4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩
(2.065g、9.23mmol)の混合物を、16時間
加熱して還流した。この反応物を室温に冷却し、濃縮し
て、メタノールから再結晶して、綿毛状の黄褐色の結晶
(1.49g、45%)として4−[5−(4−メトキ
シフェニル)−3−ジフルオロメチル−1H−ピラゾー
ル−1−イル]ベンゼンスルホンアミドを得た:融点1
33〜135℃; 1H NMR(CDCl3 )300m
Hz 7.90(d,J=8.863Hz,2H),
7.45(d,J=8.863Hz,2H),7.14
(d,J=8.863Hz,2H),6.88(d,J
=8.863Hz,2H),6.77(t,J=56.
47Hz,1H),6.68(s,1H),4.96
(br s,2H),3.83(s,3H);19NMR
(CDCl3)300mHz−112.70(d,J=
57.9Hz)。高分解能質量分析:C17 1523
3Sの理論値:379.0802。実測値:379.0
839。元素分析:C1715233Sの理論値:
C,53.82;H,3.99;N,11.08。実測
値:C,53.75;H,3.99;N,11.04。
適切なアセトフェノンで置換して、実施例58〜60に
例示された方法と同様に、以下の表IIの化合物を調製し
た。
【0206】
【表8】
【0207】
【表9】
【0208】
【表10】
【0209】実施例82
【化54】 4−[5−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)
−3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド
【0210】工程1:1−(1,3−ベンゾジオキソー
ル−5−イル)−4,4−ジフルオロブタン−1,3−
ジオンの調製 ジフルオロ酢酸エチル(1.72g、11mmol)をエー
テル(25mL)に溶解した。この撹拌溶液に、25%ナ
トリウムメトキシド(2.38g、11mmol)、続いて
3’,4’−(メチレンジオキシ)アセトフェノン
(1.64g、10mmol)を添加した。16時間撹拌
後、1NのHCl(25mL)を添加した。有機層を集め
て、水(2×25mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、濾過して、濃縮した。生じた粗ジオンを、さらに
精製又は性状解析することなく次の工程に使用した。
【0211】工程2:5−(1,3−ベンゾジオキソー
ル−5−イル)−4−[3−(ジフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの
調製 工程1からの1−(1,3−ベンゾジオキソール−5−
イル)−4,4−ジフルオロブタン−1,3−ジオン
(2.4g、10mmol)をエタノール(100mL)に溶
解した。この撹拌混合物に、4−スルホンアミドフェニ
ルヒドラジン塩酸塩(2.46g、11mmol)を添加し
て、16時間加熱して還流した。この混合物を冷却し、
結晶がゆっくり析出するまで水を添加した。濾過により
明黄褐色の固体(3.3g、84%)を得た:融点21
4〜218℃; 1H NMR(D6−DMSO):7.
86(d,J=8.7Hz,2H),7.51(d,J
=8.7Hz,2H),7.49(brs,2H),
7.3〜6.7(m,5H),6.06(s,2H)。
元素分析:C17133SO42の理論値:C,51.
91;H,3.33;N,10.68。実測値:C,5
1.90;H,3.25;N,10.65。
【0212】実施例83
【化55】 4−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4
−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボン
【0213】工程1:4−[4−(クロロ)フェニル]
−2,4−ジオキソブタン酸メチルの調製 シュウ酸ジメチル(23.6g、200mmol)を500
mLの三つ口丸底フラスコに入れて、ジエチルエーテル
(200mL)に溶解した。この撹拌溶液に、メタノール
中の25%ナトリウムメトキシド(48mL、210mmo
l)を添加ロートで2分間かけて添加した。次に4’−
クロロアセトフェノン(25.94g、200mmol)を
ジエチルエーテル(50mL)に溶解し、この反応物に滴
下により3分間かけて添加した。一晩(18時間)撹拌
後、1NのHCl(400mL)と酢酸エチル(750m
L)を添加した。有機層を集めて、食塩水(350mL)
で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮
して、45.7gの黄色の固体を得た。この固体を酢酸
エチルとイソ−オクタンから再結晶して、23g(48
%)のジオンを得た:融点108.5〜110.5℃。
【0214】工程2:4−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラ
ゾール−3−カルボン酸の調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(1.4
5g、6.5mmol、1.3当量)と4−[4−(クロ
ロ)フェニル]−2,4−ジオキソブタン酸メチル
(1.2g、5mmol)をエタノール(50mL)に溶解し
た。この反応物を加熱して還流し、20時間撹拌した。
室温に冷却後、この反応混合物を真空下で濃縮した。残
渣を酢酸エチル(200mL)にとり、水(100mL)と
食塩水(100mL)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濾
過し、真空下で濃縮して、1.7gの明褐色の固体を得
て、これをメタノールと水から再結晶して、1.6g
(85%)の白色の固体を得た。この物質をメタノール
(150mL)と3NのNaOH(75mL)に溶解して、
還流しながら3時間撹拌した。真空下でメタノールを除
去して、水溶液を濃HClで酸性にした。この生成物を
酢酸エチル(200mL)中に抽出し、これを食塩水(1
00mL)で洗浄し、MgSO4 で乾燥し、濾過して、濃
縮し、4−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5
−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カ
ルボン酸1.4g(74%)を得た:融点135℃(分
解)。
【0215】実施例84
【化56】 1−(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(3,5
−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−1−H−ピラ
ゾール−3−カルボン酸メチル
【0216】工程1:3,5−ジフルオロ−4−メトキ
シアセトフェノンの調製 クロロホルム(300mL、アルミナを通して乾燥した)
中のAlCl3(24.05g、180.40mmol)の
撹拌懸濁液に、4℃(氷浴)窒素下で20分間かけて塩
化アセチル(11.0mL、152.65mmol)を添加し
た。この冷却した懸濁液を0℃で30分間撹拌して、
2,6−ジフルオロアニソールを30分間で滴下により
添加した。生じた懸濁液を室温に加温し、一晩撹拌し
た。この反応物を、激しく撹拌した氷/水混合物中にゆ
っくり注ぎ入れることにより反応を停止させた。水層を
塩化メチレン(2×50mL)で抽出し、有機相を合わせ
て、真空下で濃縮して、清澄な流動性の油状物を得た。
50mLの丸底フラスコに、上記の清澄な油状物、DMF
(25mL)、K2CO3(15g)を添加した。ヨウ化メ
チル(6mL)を添加し、この懸濁液を45℃で窒素下で
一晩撹拌した。水(1mL)を添加し、この混合物をさら
に14時間加熱した。この粗反応混合物を室温に冷却
し、水(250mL)で希釈し、ジエチルエーテル(3×
100mL)で抽出した。エーテル相を飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液、重亜硫酸カリウム(0.1N溶液)で洗浄
し、MgSO4で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して、
清澄な流動性の液体を得た。この液体を蒸留(30℃、
1mm)して、12.5gの清澄な液体(3,5−ジフル
オロ−4−メトキシアセトフェノンと3,5−ジフルオ
ロ−4−アセトキシアセトフェノンの85:15の比の
混合物であった)を得た。この比に基づく収率は41%
であった。このケトンをそのまま使用した。
【0217】工程2:1−(4−アミノスルホニルフェ
ニル)−5−(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェ
ニル)−1−H−ピラゾール−3−カルボン酸メチルの
調製 メタノール(80mL)中の工程1からの3,5−ジフル
オロ−4−メトキシアセトフェノン(6.46g、3
4.70mmol)とシュウ酸ジメチル(6.15g、5
2.05mmol)の撹拌溶液に、ナトリウムメトキシド溶
液(25%溶液13.4mL、58.99mmol)を一度に
添加して、この反応物を一晩撹拌した。この粗反応物を
塩化メチレンで希釈し、重亜硫酸カリウム(0.1N溶
液)、食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濾過し、
真空下で濃縮して、白っぽい結晶性固体として4−
(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)−2,
4−ジオキソ−ブタン酸メチルを得て、これをこのまま
使用した。メタノール中に溶解した4−(3,5−ジフ
ルオロ−4−メトキシフェニル)−2,4−ジオキソ−
ブタン酸と4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸
塩(7.76g、34.70mmol)を9時間加温して還
流した。
【0218】この清澄な反応物が室温まで冷却すると結
晶性沈殿物が生成し、これを真空濾過により集めて、白
っぽい固体として5.45g(3,5−ジフルオロ−4
−メトキシアセトフェノンに基づいて37%)の1−
(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(3,5−ジ
フルオロ−4−メトキシフェニル)−1−H−ピラゾー
ル−3−カルボン酸メチルを得た:融点185〜190
℃; 1H NMR(CDCl3 /300mHz)7.9
5(d,J=886,2H),7.49(d,J=8.
86,2H),7.02(s,1H),6.77(m,
2H),4.99(s,2H),4.04(s,3
H),3.98(s,3H);19F NMR(CDCl
3/300mHz)−126.66。元素分析:C17
13233Sの理論値:C,51.06;H,3.5
7;N,9.92。実測値:C,51.06;H,3.
54;N,9.99。
【0219】実施例85
【化57】 [1−(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(4−
クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カル
ボン酸メチル
【0220】工程1:4−[4−(クロロ)フェニル]
−2,4−ジオキソブタン酸メチルの調製 シュウ酸ジメチル(15.27g、0.129mol)と
4’−クロロアセトフェノン(20.0g、0.129
mol)を、マグネティックスターラーを取付けた500m
Lの丸底フラスコに充填し、メタノール(300mL)で
希釈した。ナトリウムメトキシド(メタノール中25
%、70mL)を一度に添加した。この反応物を室温で1
6時間撹拌した。この間反応物が不溶性の塊になった。
この固体を機械的に破砕し、次に濃塩酸(70mL)を添
加し、この白色の懸濁液を室温で60分間激しく撹拌し
た。この懸濁液を0℃に冷却して30分間維持した。こ
の固体を濾過し、フィルターケーキを冷水(100mL)
で洗浄した。乾燥により、エノールとして4−[4−
(クロロ)フェニル]−2,4−ジオキソブタン酸メチ
ル(16.94g、54.4%)を得た: 1H NMR
(CDCl3/300MHz)7.94(d,J=8.
66Hz,2H),7.48(d,J=8.66Hz,
2H),7.04(s,1H),3.95(s,3
H),3.48(s,1H)。
【0221】工程2:[1−(4−アミノスルホニルフ
ェニル)−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾ
ール−3−イル]カルボン酸メチルの調製 マグネティックスターラーと窒素引き入れ口を取付けた
100mLの丸底フラスコに工程1からの4−[4−(ク
ロロ)フェニル]−2,4−ジオキソブタン酸メチル
(5.0g、20.78mmol)、4−スルホンアミジル
フェニルヒドラジン塩酸塩(5.11g、22.86mm
ol)およびメタノール(50mL)を充填した。この反応
容器を加熱して還流して16時間維持した。一晩で沈殿
物が生成した。この懸濁物を0℃に冷却し、0.5時間
維持し、濾過して、冷水で洗浄し、空気乾燥後、7.9
1g(91%)の粗生成物を得た。沸騰エタノールから
3.50gを再結晶して、3.14g(97%)の純粋
な[1−(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(4
−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カ
ルボン酸メチルを得た:
【0222】融点227℃; 1H NMR(CDCl3
/300MHz)7.91(d,J=8.86Hz,2
H),7.44(d,J=8.86Hz,2H),7.
33(d,J=8.66Hz,2H),7.14(d,
J=8.86Hz,2H),7.03(s,1H),
3.96(s,3H)。質量分析:MH+=392。元
素分析:C171434ClSの理論値:C,52.1
1;H,3.60;N,10.72;Cl,9.05;
S,8.18。実測値:C,52.07;H,3.5
7;N,10.76;Cl,9.11;S,8.27。
【0223】実施例86
【化58】 [1−(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(4−
クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カル
ボン酸エチル
【0224】[1−(4−アミノスルホニルフェニル)
−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3
−イル]カルボン酸メチル(実施例85)(0.10
g)を無水エタノール(10mL)に溶解して、触媒量の
21%NaOEt/EtOHを添加した。この反応物を
温度調節なしに72時間撹拌し、次に水(10mL)を添
加した。生成物が結晶化し、この懸濁物を0℃に冷却し
て、30分間維持した。この生成物を濾過し、水(5m
L)で洗浄し、乾燥して、0.071g(70%)の白
色の固体を得た:質量分析:MH+=406。元素分
析:C181634ClSの理論値:C,53.27;
H,3.97;N,10.35;Cl,8.74;S,
7.90。実測値:C,53.04;H,4.00;
N,10.27;Cl,8.69;S,7.97。適切
な試薬で置換して、実施例83〜86に例示した方法と
同様に、以下の表IIIの化合物を調製した。
【0225】
【表11】
【0226】実施例96
【化59】 4−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4
−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボキ
サミド
【0227】4−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール
−3−カルボン酸(実施例83)(1.08g、2.8
6mmol)、HOBt(0.66g、4.3mmol)および
EDC(0.66g、3.4mmol)をジメチルホルムア
ミド(DMF)(20mL)に溶解して、周囲温度で5分
間撹拌した。この溶液にNH4OH(30%、2.9m
L)を添加して、この反応物をさらに18時間撹拌し
た。次に溶液を酢酸エチル(200mL)と1NのHCl
(200mL)に注ぎ入れ、振盪して分離した。有機層を
飽和NaHCO3(150mL)と食塩水(150mL)で
洗浄し、MgSO4で乾燥し、濾過して濃縮し、0.9
gの白色の固体を得て、これを酢酸エチルとイソ−オク
タンから再結晶して、4−[4−(アミノスルホニル)
フェニル]−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラ
ゾール−3−カルボキサミド(0.85g、79%)を
得た:融点108〜110℃。
【0228】実施例97
【化60】 [1−(アミノスルホニルフェニル)−5−(4−フル
オロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カルボ
キサミド
【0229】温度計、ガススパージング管、還流冷却器
およびマグネティックスターラーを取付けた250mLの
三つ口丸底フラスコに、[1−(4−アミノスルホニル
フェニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピ
ラゾール−3−イル]カルボン酸メチル(実施例88)
(3.0g、7.99mmol)、メタノール(100m
L)、および触媒量のシアン化ナトリウムを充填した。
温度調節なしに無水アンモニアガスを反応容器を通して
16時間スパージングした。この時懸濁液は深紅色にな
った。この反応物に室温で20分間無水窒素をスパージ
ングして、0℃に冷却して30分間維持した。この固体
を濾過し、冷水(50mL)で洗浄して、乾燥後、白色の
固体として1.87g(65%)の[1−(アミノスル
ホニルフェニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−イル]カルボキサミドを得た:
【0230】融点214〜216℃; 1H NMR(C
DCl3/CD3OD/300MHz)7.64(d,J
=8.66Hz,2H),7.1 4(d,J=8.6
6Hz,2H),6.95(m,2H),6.82−
6.67(m,6H),6.39(s,1H);19
NMR(CDCl3/CD3OD/282、2MHz)−
112.00(m)。質量分析:MH+=361。元素
分析:C161343FSの理論値:C,53.33;
H,3.64;N,15.55;S,8.90。実測
値:C,53.41;H,3.69;N,15.52;
S,8.96。
【0231】実施例98
【化61】 N−(3−クロロフェニル)−[1−(4−アミノスル
ホニルフェニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−イル]カルボキサミド
【0232】工程1:4−[4−フルオロフェニル]−
2,4−ジオキソブタン酸メチルの調製 シュウ酸ジメチル(18.80g、0.159mol)と
4’−フルオロアセトフェノン(20.0g、0.14
5mol)を1000mLの丸底フラスコに充填して、メタ
ノール(400mL)で希釈した。この反応フラスコを超
音波浴(ブランソニック(Bransonic)1200)に入
れて、ナトリウムメトキシド(メタノール中25%、7
0mL)を25分間かけて添加した。この反応物を45℃
で16時間音波処理した。反応物はこの時不溶性の塊に
なった。この固体を機械的に破砕し、次に塩酸溶液(1
N、500mL)中に注ぎ入れた。マグネティックスター
ラーを添加し、この白色の懸濁液を室温で60分間激し
く撹拌した。この懸濁液を0℃に冷却して30分間維持
した。固体を濾過し、次にフィルターケーキを冷水(1
00mL)で洗浄した。乾燥して、エノールとして4−
[4−フルオロフェニル]−2,4−ジケトブタン酸メ
チル(22.91g、70.6%)を得た: 1H NM
R(CDCl3/300MHz)8.03(ddd,J
=8.86Hz,J=8.66Hz,J=5.03H
z,2H),7.19(dd,J=8.86Hz,J=
8.66Hz,2H),7.04(s,1H),3.9
5(s,3H)。19F NMR(CDCl3 /282.
2MHz)−103.9(m)。
【0233】工程2:4−[1−(4−アミノスルホニ
ルフェニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1H−
ピラゾール−3−イル]カルボン酸メチルの調製 マグネティックスターラーを取付けた500mLの一つ口
丸底フラスコに、工程1からの4−[4−フルオロフェ
ニル]−2,4−ジケトブタン酸メチル(1.00mg、
44.61mmol)、4−スルホンアミジルフェニルヒド
ラジン塩酸塩(10.98g、49.07mmol)および
メタノール(200mL)を充填した。この懸濁液を加熱
して3時間還流して、次いで室温に冷却した。この懸濁
液を0℃に冷却し、30分間維持し、濾過し、水(10
0mL)で洗浄し、乾燥して、白色の固体として14.4
g(86%)の4−[1−(4−アミノスルホニルフェ
ニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾ
ール−3−イル]カルボン酸メチルを得た: 1H NM
R(CDCl3/300MHz)7.85(d,J=
8.66Hz,2H),7.36(d,J=8.66H
z,2H),7.18(ddd,J=8.66Hz,J
=8.46Hz,J=4.85Hz,2H),7.00
(dd,J=8.66Hz,J=8.46Hz,2
H),6.28(s,1H),3.90(s,3H)。
19F NMR(CDCl3/282.2MHz):−1
11.4(m)。質量分析:MH+=376。元素分
析:C1714 34FSの理論値:C,54.40;
H,3.76;N,11.19;S,8.54。実測
値:C,54.49;H,3.70;N,11.25;
S,8.50。
【0234】工程3:[1−(4−アミノスルホニルフ
ェニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラ
ゾール−3−イル]カルボン酸の調製 マグネティックスターラーを取付けた500mLの一つ口
丸底フラスコに、工程2からの4−[1−(4−アミノ
スルホニルフェニル)−5−(4−フルオロフェニル)
−1H−ピラゾール−3−イル]カルボン酸メチル(1
0.0g、26.64mmol)とテトラヒドロフラン(2
00mL)を充填した。水酸化ナトリウム水溶液(2.5
N、27mL)と水(25mL)を添加して、この懸濁液を
加熱して還流し16時間維持した。この固体はこの時全
部溶解した。この反応物を室温に冷却し、塩酸溶液(1
N、110mL)を添加した。この水性懸濁液を塩化メチ
レン(2×200mL)で抽出した。合わせた有機溶液を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空下で濃縮
して油状物を得た。300mLの塩化メチレンで粉砕し
て、濾過と乾燥により、白色の固体として9.0g(9
4%)の[1−(4−アミノスルホニルフェニル)−5
−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−
イル]カルボン酸を得た:融点138〜142℃(分
解); 1H NMR(CD3OD/300MHz)7.
93(d,J=8.66Hz,2H),7.51(d,
J=8.66Hz,2H),7.31(ddd,J=
8.86Hz,J=8.66Hz,J=4.83Hz,
2H),7.11(dd,J=8.86Hz,J=8.
66Hz,2H),7.06(s,1H)。19F NM
R(CD3OD/282.2MHz):−114.01
(m)。
【0235】工程4:N−(3−クロロフェニル)−
[1−(4−アミノスルホニルフェニル)−5−(4−
フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イル]カ
ルボキサミドの調製 マグネティックスターラーを取付けた100mLの一つ口
丸底フラスコに、工程3からの[1−(4−アミノスル
ホニルフェニル)−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−3−イル]カルボン酸(0.500
g、1.38mmol)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル水和物(0.206g、1.522mmol)、1−(3
−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミ
ド塩酸塩(0.318g、1.66mmol)およびN,N
−ジメチルホルムアミド(30mL)を充填した。この溶
液を室温で40分間撹拌して、次に3−クロロアニリン
(0.154mL、1.453mmol)を添加した。この反
応物を室温で16時間維持して、次にクエン酸の水溶液
(5%、100mL)中に注ぎ入れた。この水溶液を酢酸
エチル(2×60mL)で抽出し、合わせた有機溶液をク
エン酸水溶液(60mL)、飽和重炭酸ナトリウム溶液
(2×60mL)および50%飽和塩化ナトリウム溶液
(2×60mL)で洗浄した。
【0236】この有機溶液を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、濾過し、真空下で濃縮して油状物を得た。20mL
のジクロロメタンで粉砕して、濾過と乾燥後、白色の固
体として0.439g(67%)のN−(3−クロロフ
ェニル)−[1−(4−アミノスルホニルフェニル)−
5−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3
−イル]カルボキサミドを得た:融点207〜212
℃; 1H NMR(CDCl3/CD3OD/300MH
z)8.90(s,1H),7.86(d,J=8.6
6Hz,2H),7.79(t,J=2.01Hz,1
H),7.46(dd,J=7.05Hz,J=2.0
1Hz,1H),7.33(d,J=8.86Hz,2
H),7.21〜7.11(m,3H),7.02〜
6.94(m,4H)。19F NMR(CDCl3/C
3OD/282.2MHz):−111.38
(m)。質量分析:MH+=470。元素分析:C22
1643ClFSの理論値:C,56.11;H,3.
42;N,11.90;Cl,6.81;S,7.5
3。実測値:C,55.95;H,3.50;N,1
1.85;Cl,6.82;S,7.50。適切な出発
物質で置換して、実施例96〜98に例示された方法と
同様に、以下の表IVの化合物を調製した。
【0237】
【表12】
【0238】
【表13】
【0239】実施例117
【化62】 4−[3−シアノ−5−(4−フルオロフェニル)−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
【0240】還流冷却器、温度計、等圧化添加ロートお
よびマグネティックスターラーを取付けた乾燥した10
0mlの三つ口フラスコに、無水DMF(20ml)を充填
して0℃に冷却した。塩化オキサリル(0.530mL、
6.105mmol)を20秒間かけて添加して5℃発熱し
た。反応物を0℃に冷却して、生成した白色の沈殿物は
溶解した。この反応物を0℃で10分間維持し、次に無
水DMF中の[1−(アミノスルホニルフェニル)−5
−(4−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール−3−
イル]カルボキサミド(実施例97)の溶液を、激しく
撹拌しているこの溶液に約2分間で添加した。15分
後、この反応物を急冷するため、ピリジン(1.0mL、
12.21mmol)を添加した。この混合物を希塩酸(1
N、100mL)に注ぎ入れて、酢酸エチル(2×75m
L)で抽出した。合わせた有機溶液を1NのHCl(2
×100mL)と50%飽和NaCl(3×100mL)で
洗浄した。有機溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、真空下で濃縮して粗油状物を得た。この油状物をシ
リカゲルのカラムに適用して、酢酸エチルとヘキサン
(40%酢酸エチル)で溶出して、適切な画分の濃縮に
より、白色の固体として0.66g(69%)の4−
[3−シアノ−5−(4−フルオロフェニル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドを得
た:
【0241】融点184〜185℃; 1H NMR(C
DCl3/300MHz)7.94(d,J=8.86
Hz,2H),7.44(d,J=8.86Hz,2
H),7.23〜7.07(m,4H),6.87
(s,1H),4.88(brs,2H);19F NM
R(CDCl3/282.2MHz)−109.90
(m)。質量分析:MH+=343。元素分析:C16
1142FSの理論値:C,56.14;H,3.2
4;N,16.37;S,9.36。実測値:C,5
6.19;H,3.16;N,16.39;S,9.4
1。適切な出発物質で置換して、実施例117に例示さ
れた方法と同様に、以下の表Vの化合物を調製した。
【0242】
【表14】
【0243】実施例128
【化63】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(ヘプタフル
オロプロピル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド
【0244】工程1:4,4,5,5,6,6,6−ヘ
プタフルオロ−1−[4−(クロロ)フェニル]ヘキサ
ン−1,3−ジオンの調製 ヘプタフルオロ酪酸エチル(5.23g、21.6mmo
l)を100mLの丸底フラスコに入れて、エーテル(2
0mL)に溶解した。この撹拌溶液に、25%ナトリウム
メトキシド(4.85g、22.4mmol)を添加し、続
いて4−クロロアセトフェノン(3.04g、19.7
mmol)を添加した。この反応物を室温で一晩(15.9
時間)撹拌して、3NのHCl(17mL)で処理した。
有機層を集めて、食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥
し、真空下で濃縮して、イソ−オクタンから再結晶し
て、白色の固体としてジケトン(4.27g、62%)
を得た:融点27〜30℃; 1H NMR(CDC
3)300MHz 15.20(br s,1H),
7.89(d,J=8.7Hz,2H),7.51
(d,J=8.7Hz,2H),6.58(s,1
H);19F NMR(CDCl3)300MHz:−8
0.94(t),−121.01(t),−127.1
7(s);M+H 351。
【0245】工程2:4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(ヘプタフルオロプロピル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(290
mg、1.30mmol)を、エタノール(5mL)中の工程1
からのジケトン(400mg、1.14mmol)の撹拌溶液
に添加した。この反応物を加熱して還流し、一晩(2
3.8時間)撹拌した。エタノールを真空下で除去し
て、残渣を酢酸エチルに溶解し、水と食塩水で洗浄し、
MgSO4で乾燥し、真空下で濃縮して、白色の固体を
得て、これを、酢酸エチル/ヘキサン(40%)を用い
てシリカゲルのカラムを通して、酢酸エチル/イソオク
タンから再結晶して、白色の固体としてピラゾール
(0.24g、42%)を得た:融点168〜71℃;
1H NMR(CDCl3)300MHz 7.90
(d,J=8.7Hz,2H),7.45(d,J=
8.7Hz,2H),7.34(d,J=8.5Hz,
2H),7.19(d,J=8.5Hz,2H),6.
79(s,1H),5.20(br s,2H);19
NMR(CDCl3)300MHz:−80.48
(t),−111.54(t),−127.07
(s)。
【0246】実施例129
【化64】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(クロロ−ジ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド
【0247】工程1:4−クロロ−4,4−ジフルオロ
−1−[4−(クロロ)フェニル]−ブタン−1,3−
ジオンの調製 2−クロロ−2,2−ジフルオロ酢酸メチル(4.20
g、29mmol)を100mLの丸底フラスコに入れて、エ
ーテル(10mL)に溶解した。この撹拌溶液に、25%
ナトリウムメトキシド(6.37g、29mmol)を添加
し、続いて4’−クロロアセトフェノン(4.10g、
26.5mmol)を添加した。この反応物を室温で一晩
(20.4時間)撹拌し、次に分液ロート中に注ぎ入れ
て、3NのHCl(15mL)、食塩水(20mL)で洗浄
し、MgSO4で乾燥し、真空下で濃縮し、イソ−オク
タンから再結晶して、黄色の固体としてジケトン(3.
78g、53%)を得た:融点53〜55℃; 1H N
MR(CDCl3)300MHz 14.80(br
s,1H),7.87(d,J=8.7Hz,2H),
7.50(d,J=8.7Hz,2H),6.49
(s,1H);19FNMR(CDCl3)300MH
z:−66.03(s);M+ 267。
【0248】工程2:4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−3−(クロロ−ジフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(1.3
9g、6.2mmol)を、エタノール(10mL)中の工程
1からのジケトン(1.43g、5.7mmol)の撹拌溶
液に添加した。この反応物を加熱して還流し、一晩(1
5.75時間)撹拌した。エタノールを真空下で除去
し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水と食塩水で洗浄し、
MgSO4で乾燥し、真空下で濃縮して、白色の固体を
得て、これを酢酸エチル/イソオクタンから再結晶し
て、白色の固体としてピラゾール(0.32g、41
%)を得た:融点130〜33℃; 1H NMR(CD
Cl3)300MHz 7.90(d,J=8.9H
z,2H),7.47(d,J=8.7Hz,2H),
7.35(d,J=8.5Hz,2H),7.19
(d,J=8.7Hz,2H),6.76(s,1
H),5.13(br s,2H); 19F NMR(C
DCl3)300MHz:−48.44(s);M+
417/419。
【0249】実施例130
【化65】 4−[3−(ジクロロメチル)−5−(3−フルオロ−
4−メトキシフェニル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド
【0250】工程1:3’−フルオロ−4’−メトキシ
アセトフェノンの調製 塩化アルミニウム(80.0g、0.6mol)とクロロ
ホルム(750mL)をメカニカルスターラーを取付けた
2Lの三つ口丸底フラスコに入れて、氷浴により冷却し
た。この撹拌溶液に、温度を5〜10℃に維持しながら
塩化アセチル(51.0g、0.65mol)を滴下によ
り添加した。この混合物を5℃で10分間撹拌して、次
に5〜10℃で2−フルオロアニソール(63.06
g、0.5mol)を滴下により添加した。この混合物を
0〜10℃で1時間撹拌して、氷(1L)中に注ぎ入れ
た。生じた層を分離して、水層を塩化メチレン(2×2
50mL)で抽出した。合わせた有機層を水(2×150
mL)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、300mLに
濃縮した。ヘキサンを添加して、この混合物から白色の
固体(77.2g、92%)を結晶化した:融点92〜
94℃; 1H NMR(d6−DMSO)7.8(m,
2H),7.3(t,J=8.7Hz,1H),3.9
(s,3H),2.5(s,3H)。
【0251】工程2:4,4−ジクロロ−1−(3−フ
ルオロ−4−メトキシフェニル)−ブタン−1,3−ジ
オンの調製 ジクロロ酢酸メチル(1.57g、11mmol)をエーテ
ル(25mL)に溶解した。この撹拌溶液に、25%ナト
リウムメトキシド(2.38g、11mmol)を添加し、
続いて工程1からの3’−フルオロ−4’−メトキシア
セトフェノン(1.68g、10mmol)を添加した。1
6時間撹拌後、1NのHCl(25mL)を添加した。有
機層を集めて、水(2×25mL)で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濾過して濃縮した。生じた粗ジオン
を、さらに精製又は性状解析することなく次の工程に使
用した。
【0252】工程3:4−[3−(ジクロロメチル)−
5−(3−フルオロ−4−メトキシフェニル)−1H−
ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 工程2からの4,4−ジクロロ−1−(3−フルオロ−
4−メトキシフェニル)−ブタン−1,3−ジオン
(2.8g、10mmol)をエタノール(100mL)に溶
解した。この撹拌混合物に、4−スルホンアミドフェニ
ルヒドラジン塩酸塩(2.46g、11mmol)を添加
し、加熱して16時間還流した。この混合物を冷却し
て、結晶がゆっくり析出するまで水を添加した。濾過に
より、明黄褐色の固体(2.7g、63%)を得た:融
点190〜193℃; 1H NMR(DMSO−d6
7.84(d,J=8.4Hz,2H),7.53
(s,1H),7.48(d,J=8.4Hz,2
H),7.47(brs,2H),7.3〜7.0
(m,3H),6.95(s,1H),3.85(s,
3H)。元素分析:C17143SO3FCl2の理論
値:C,47.45;H,3.28;N,9.76。実
測値:C,47.68;H,3.42;N,10.0
4。
【0253】実施例131
【化66】 4−[3−フルオロメチル−5−フェニル−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
【0254】工程1:4−フェニル−2,4−ジオキソ
ブタン酸メチルの調製 エーテル(200mL)中のシュウ酸ジメチル(11.8
1g、100mmol)の溶液に、24mLのメタノール中2
5%ナトリウムメトキシドを添加し、続いてエーテル
(20mL)中のアセトフェノン(12.02g、100
mmol)の溶液を添加して、この混合物を一晩室温で撹拌
した。この混合物を1NのHClとEtOAcに分配し
て、有機層を食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃
縮して、18.4gの粗ブタン酸エステルを得た。 工程2:1−[(4−(アミノスルホニル)フェニル]
−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸メ
チルの調製 工程1のブタン酸エステルから、実施例2の工程2に記
載された方法を用いてこのエステルを調製した。
【0255】工程3:4−[3−ヒドロキシメチル−5
−フェニル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミドの調製 50mLのTHF中の工程2のエステル(4.0g、1
0.4mmol)の溶液に、LiAlH4(0.592g、
15.6mmol)を少量ずつ添加して、この混合物を一晩
還流した。この反応物を冷却して、1NのNaHSO4
で急冷し、エーテルで抽出(3×)した。合わせた抽出
物をMgSO4で乾燥し、濃縮して、3.5gの粗アル
コールを得た。1:1ヘキサン/EtOAcを用いるフ
ラッシュクロマトグラフィーにより、標題化合物を得
た。 工程4:4−[3−フルオロメチル−5−フェニル−1
H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの
調製 ジクロロメタン(4mL)中の工程3からのアルコール
(212mg、0.64mmol)の混合物に、三フッ化ジエ
チルアミノイオウ(0.13mL、1.0mmol)を添加し
た。この反応混合物を室温で3時間撹拌して、水とジク
ロロメタンに分配した。水溶液をジクロロメタンで抽出
した。有機溶液を食塩水で洗浄して濃縮した。残渣をシ
リカゲルのクロマトグラフィー(1:1のヘキサン:酢
酸エチル)に付して、目的の生成物(72mg、34%)
を得た:融点162〜163℃;元素分析:C1614
32SFの理論値:C,58.00;H,4.26;
N,12.68。実測値:C,57.95;H,4.0
3;N,12.58。適切な置換アセチルおよび酢酸エ
ステルの出発物質で置換して、実施例128〜131に
例示された方法と同様に、以下の表VIの化合物を調製し
た。
【0256】
【表15】
【0257】実施例137
【化67】 4−[5−(2−ピラジニル)−3−(ジフルオロメチ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド
【0258】工程1:4,4−ジフルオロ−1−(2−
ピラジニル)−ブタン−1,3−ジオンの調製 ジフルオロ酢酸エチル(2.23g、18mmol)を10
0mLの丸底フラスコに入れて、エーテル(10mL)に溶
解した。この撹拌溶液に、25%ナトリウムメトキシド
(4.68g、22mmol)を添加し、続いてアセチルピ
ラジン(2.00g、16mmol)を添加した。室温で2
時間撹拌後、沈殿物が生成し、この反応物にTHF(1
0mL)を添加した。この反応物をさらに25.9時間撹
拌して、次に3NのHCl(10mL)で処理した。有機
層を集めて、食塩水(20mL)で洗浄し、MgSO4
乾燥し、真空下で濃縮して、塩化メチレン/イソ−オク
タンから再結晶して、褐色の固体としてジケトン(2.
23g、68%)を得た;融点103〜110℃; 1
NMR(CDCl3)300MHz 14.00(b
r s,1H),9.31(d,J=1.4Hz,1
H),8.76(d,J=2.4Hz,1H),8.6
8(dd,J=1.4Hz 2.4Hz,1H),7.
20(s,1H),6.03(t,J=54.0Hz,
1H);19FNMR(CDCl3)300MHz:−1
27.16(d);M+ 200。
【0259】工程2:4−[5−(2−ピラジニル)−
3−(ジフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミドの調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(0.3
7g、1.65mmol)を、エタノール(10mL)中の工
程1からのジケトン(0.30g、1.50mmol)の撹
拌懸濁液に添加した。この反応物を加熱して還流し、
5.3時間撹拌した。エタノールを真空下で除去し、残
渣を酢酸エチルにとり、水(20mL)、食塩水(20m
L)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、真空下で濃縮して、
褐色の固体(0.36g)を得て、これを酢酸エチル/
エタノール/イソオクタンから再結晶して、褐色の固体
としてピラゾール(0.20g、38%)を得た:融点
191〜94℃; 1H NMR(アセトンd6)300
MHz 8.94(d,J=1.4Hz,1H),8.
62(d,J=2.4Hz,1H),8.52(dd,
J=1.4Hz 2.4Hz,1H),7.95(d,
J=8.7Hz,2H),7.61(d,J=8.7H
z,2H),7.30(s,1H),7.02(t,J
=54.6Hz,1H),6.73(br s,2
H);19F NMR(アセトンd6)300MHz:−
113.67(d);M+ 351。
【0260】実施例138
【化68】 4−[5−(4−メチル−1,3−ベンゾジオキソール
−5−イル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:4−メチル−1,3−ベンゾジオキソールの調
製 11.6gのアドゲン(Adogen)464と7mLのジブロ
モメタンを50mLのH 2O中でアルゴン下で0.5時間
還流した。3−メチルカテコール(8.89g、71.
6mmol)を2時間で添加し、この混合物をさらに1時間
還流した。この反応混合物から生成物を蒸留して、黄色
の油状物として標題化合物を得た:HRMS m/e
136.0524(C882の理論値、136.05
24)。
【0261】工程2:5−アセチル−4−メチル−1,
3−ベンゾジオキソール(A)と6−アセチル−4−メ
チル−1,3−ベンゾジオキソール(B)の調製 13.8gのポリリン酸と5mLの無水酢酸を、CaSO
4の乾燥管中で融解するまで45℃に加熱した。工程1
からの生成物を添加し、この反応物を45℃で4.5時
間撹拌した。この反応物を室温に冷却し、150mLの氷
水で急冷した。水相を酢酸エチル(4×50mL)で洗浄
した。合わせた有機抽出物をMgSO4で乾燥し、濾過
して、赤色の油状物として粗生成物を得た。この油状物
を10%酢酸エチル/90%ヘキサンで溶出するシリカ
ゲルのクロマトグラフィーに付して、2つの生成物を得
た:A:元素分析:C10103の理論値:C,67.
07;H,5.66。実測値:C,67.41;H,
5.75、およびB:質量分析:M+ 178。
【0262】工程3および4:4−[5−(4−メチル
−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド 実施例2の工程1および2の方法を用いて、生成物Aか
ら標題化合物を調製した:白色の固体:元素分析:C18
1434SF3の理論値:C,50.82;H,3.
22;N,9.88。実測値:C,50.71;H,
3.34;N,9.55。適切な出発物質で置換して、
実施例137〜138に例示した方法と同様に、以下の
表VIIの化合物を調製した。
【0263】
【表16】
【0264】
【表17】
【0265】
【表18】
【0266】
【表19】
【0267】実施例170
【化69】 4−[5−(1−シクロヘキシル)−3−(ジフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド 4−[5−(1−シクロヘキセニル)−3−(ジフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド(実施例142)(0.31g、0.88
mmol)をエタノール(15mL)に溶解し、10%パラジ
ウム担持活性炭を添加し、この懸濁液を水素下(36ps
i)で室温で18.25時間撹拌した。この反応物をセ
ライトで濾過し、エタノールを真空下で除去して、白色
の固体を得て、これを塩化メチレン/イソオクタンから
再結晶した(0.31g、99%):融点199〜20
3℃; 1H NMR(アセトン−d6)300MHz
8.05(d,J=8.7Hz,2H),7.60
(d,J=8.5Hz,2H),6.69(t,J=5
5.0Hz,1H),6.47(s,1H),5.02
(br s,2H),2.67(m,1H),1.71
〜1.88(m,5H),1.24〜1.43(m,5
H);19F NMR(アセトン−d6)300MHz:
−112.86(d)。
【0268】実施例171
【化70】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシメ
チル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミド 4−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4
−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−カルボン
酸(実施例83)(3.8g、10mmol)とテトラヒド
ロフラン(100mL)を室温で撹拌し、この間1.0M
のボラン−テトラヒドロフラン複合体(30mL、30mm
ol)を滴下により添加した。この混合物を加熱して16
時間還流した。この溶液を冷却して、ガスの発生が停止
するまでメタノールを滴下により添加した。酢酸エチル
(100mL)を添加して、この混合物を1N塩酸、食塩
水、飽和重炭酸ナトリウム溶液、および水で逐次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濃縮した。生
じた生成物をエタノール:水
【0269】から再結晶して、2.6g(71%)の白
色の固体を得た:融点192〜194℃; 1H NMR
(d6 −DMSO/300MHz)7.81(d,J=
8.7Hz,2H),7.46(d,J=8.4Hz,
2H),7.42(brs,2H),7.40(d,J
=8.7Hz,2H),7.26(d,J=8.4H
z,2H),6.63(s,1H),5.35(t,J
=8.0Hz,1H),4.50(d,J=8.0H
z,2H)。元素分析:C16146SO2Clの理論
値:C,52.82;H,3.88;N,11.55。
実測値:C,52.91;H,3.88;N,11.5
0。
【0270】実施例172
【化71】 4−[5−フェニル−3−(3−ヒドロキシプロピル)
−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ド 鉱物油中の水素化ナトリウムの60%分散液(4.0
g、100mmol)をヘキサン(各100mL)で2回洗浄
し、窒素流下で乾燥した。エーテル(300mL)を添加
し、続いてエタノール(0.25mL)とγ−ブチロラク
トン(4.0mL、52mmol)を滴下により添加した。こ
の混合物を10℃に冷却し、エーテル(40mL)中のア
セトフェノン(5.8mL、50mmol)を1時間かけて滴
下により添加した。この混合物を25℃に加温し、一晩
撹拌した。この混合物を0℃に冷却し、エタノール(5
mL)、続いて10%硫酸アンモニウム水溶液(100m
L)で反応を停止させた。有機溶液を分離し、Na2SO
4で乾燥して濃縮した。
【0271】残渣を1:1のヘキサン/酢酸エチルによ
りシリカゲルのクロマトグラフィーに付して、油状物と
して目的のジケトン(3.4g)を得た。メタノール
(3mL)中のピリジン(0.34mL、4.2mmol)とこ
のジケトン(700mg、3.4mmol)を、メタノール
(8mL)中の4−スルホンアミドフェニルヒドラジン−
HCl(750mg、3.4mmol)のスラリーに添加し
た。この混合物を25℃で一晩撹拌して、真空下で濃縮
した。残渣を塩化メチレンに溶解し、この溶液を1Nの
HClで洗浄した。この有機溶液を分離し、乾燥して濃
縮した。残渣を、酢酸エチルを用いてシリカゲルのクロ
マトグラフィーに付して、固体として目的のピラゾール
(435mg)を得た:元素分析:C181933Sの理
論値:C,60.49;H,5.36;N,11.7
5。実測値:C,60.22;H,5.63;N,1
1.54。
【0272】実施例173
【化72】 4−[5−(4−フルオロフェニル)−3−(3−ヒド
ロキシプロピル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド アセトフェノンを4−フルオロアセトフェノンに置換す
るほかは、実施例172の方法により、4−[5−(4
−フルオロフェニル)−3−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミドを得た:元素分析:C181833SF・0.2
5H2Oの理論値:C,56.90;H,4.91;
N,11.05。実測値:C,56.80;H,4.6
7;N,11.02。
【0273】実施例174
【化73】 4−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5−(4
−フルオロフェニル)−1H−ピラゾール]−3−プロ
パン酸 ジョーンズ試薬(2.67M溶液を0.64mL)を、ア
セトン(8mL)中の4−[5−(4−フルオロフェニ
ル)−3−(3−ヒドロキシプロピル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド(実施例17
3)(295mg、0.78mmol)の溶液に、滴下により
添加した。この混合物を25℃で2時間撹拌した。この
溶液を濾過して、瀘液を真空下で濃縮した。残渣を酢酸
エチルに溶解して水(3×)で洗浄した。有機溶液をM
gSO4で乾燥して濃縮した。残渣油状物をエーテル/
ヘキサンから結晶化させて、目的の酸(149mg)を得
た:融点180〜182℃;元素分析:C181634
SFの理論値:C,55.52;H,4.14;N,1
0.79。実測値:C,55.47;H,4.22;
N,10.50。
【0274】実施例175
【化74】 4−(3−イソブチル−5−フェニル−1H−ピラゾー
ル−1−イル)ベンゼンスルホンアミド 工程1:2,3−エポキシ−5−メチル−1−フェニル
−3−ヘキサノンの調製 15mLのEtOHと5mLのアセトン中の5−メチル−1
−フェニル−1−ヘキセン−3−オン(2.0g、1
0.6mmol)の溶液に、30%過酸化水素(2mL)と1
NのNaOH(1.5mL)の混合物を滴下により添加し
て、この混合物を25℃で1〜3時間撹拌した。水(5
0mL)を添加して、沈殿物を濾過し、40℃で真空下で
乾燥して、白色の固体として1.9gのエポキシドを得
た:元素分析:C13162・0.1H2Oの理論値:
C,75.77;H,7.92。実測値:C,75.4
7;H,7.56。
【0275】工程2:4−(3−イソブチル−5−フェ
ニル−1H−ピラゾール−1−イル)ベンゼンスルホン
アミドの調製 上記工程1で調製したエポキシド(1.26g、6.1
1mmol)と4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸
塩(1.38g、6.17mmol)を、AcOH(0.5
mL)と共に20mLのEtOH中で撹拌して、この混合物
を3時間還流し、冷却して、50mLのH2Oで急冷し
た。水層を酢酸エチル(3×50mL)で抽出し、合わせ
た抽出物をMgSO4で乾燥して濃縮した。70:30
のヘキサン/酢酸エチルを用いるフラッシュクロマトグ
ラフィーにより、白色の固体として標題化合物(0.4
1g、19%)を得た:C192132Sの理論値:
C,64.20;H,5.96;N,11.82。実測
値:C,64.31;H,6.29;N,11.73。
【0276】実施例176
【化75】 3−[1−[4−(アミノスルホニル)フェニル]−5
−フェニル−1H−ピラゾール−3−イル]−2−シア
ノ−2−プロペン酸エチル 工程1:4−[3−ホルミル−5−フェニル−1H−ピ
ラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 酢酸エチル(20mL)中の実施例131の工程3で調製
したアルコール(1.1g、3.3mmol)の溶液にMn
2 (5g、60mmol)を添加して、この混合物を室温
で一晩撹拌した。この混合物をセライトで濾過して、溶
液を濃縮して、粗アルデヒドを得た。
【0277】工程2:3−[1−[4−(アミノスルホ
ニル)フェニル]−5−フェニル−1H−ピラゾール−
3−イル]−2−シアノ−2−プロペン酸エチルの調製 ベンゼン(18mL)中の工程1からのアルデヒド(1.
2g、3.6mmol)の溶液に、シアノ酢酸エチル(0.
38mL、3.6mmol)、酢酸アンモニウム(50mg、
0.7mmol)および氷酢酸(0.17mL、2.8mmol)
を添加した。この溶液を加熱して18時間還流し、冷却
し、水と酢酸エチルに分配した。有機溶液を飽和重炭酸
ナトリウム水溶液、水および食塩水で洗浄した。有機溶
液を乾燥して濃縮した。残渣をシリカのクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル中40%ヘキサン)に付して、目的の
生成物(1.0g、66%)を得た:元素分析:C21
18 44Sの理論値:C,59.82;H,4.30;
N,13.22。実測値:C,59.70;H,4.2
9;N,13.26。
【0278】実施例177
【化76】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−[[(フェニ
ルメトキシ)イミノ]メチル]−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミド ジクロロメタン(3mL)中の220mg(0.58mmol)
の4−[5−(4−クロロフェニル)−3−ホルミル−
1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
(実施例176の工程1に記載したように調製した)の
懸濁液に、ピリジン(0.12mL、1.3mmol)とO−
ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩(110mg、0.6
8mmol)を添加して、この反応物を室温で18時間撹拌
した。この混合物をpH7の緩衝液とジクロロメタンに
分配して、有機層を水で洗浄し、乾燥して濃縮した。シ
リカゲルのフラッシュクロマトグラフィー(2:1のヘ
キサン/EtOAc)により、標題化合物(151mg、
56%)を得た:融点158〜159℃;元素分析:C
231943SCl・0.25H2Oの理論値:C,5
8.59;H,4.17;N,11.88。実測値:
C,58.43;H,4.03;N,11.85。適切
な出発物質で置換して、実施例171〜177に例示さ
れた方法と同様に、以下の表VIIIの化合物を調製した。
【0279】
【表20】
【0280】実施例187
【化77】 4−[4,5−ジヒドロ−3−(トリフルオロメチル)
−1H−ベンズ[g]インダゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミド
【0281】工程1:2−トリフルオロアセチル−1−
テトラロンの調製 還流冷却器、窒素引き入れ口およびマグネティックスタ
ーラーを取付けた250mLの一つ口丸底フラスコに、ト
リフルオロ酢酸エチル(28.4g、0.2mol)と7
5mLのエーテルを充填した。この溶液に、48mLのメタ
ノール中の25%ナトリウムメトキシド(0.21mo
l)を添加した。50mLのエーテル中の1−テトラロン
(29.2g、0.2mol)の溶液を約5分間で添加し
た。この反応混合物を室温で14時間撹拌して、100
mLの3NのHClで希釈した。相を分離して、有機層を
3NのHCl、食塩水で洗浄し、無水MgSO4 で乾燥
し、濾過して真空下で濃縮した。残渣を70mLの沸騰エ
タノール/水にとり、室温に冷却し、その結果2−トリ
フルオロアセチル−1−テトラロンの結晶が生成し、こ
れを濾過により単離し、空気乾燥して、純粋な化合物
(32g、81%)を得た:融点48〜49℃; 1
NMR CDCl3 δ 2.8(m,2H),2.9
(m,2H),7.2(d,j=3.0Hz,1H),
7.36(m,1H),7.50(m,1H),7.9
8(m,1H);19F NMR CDCl 3 δ−7
2.0。EI GC−MS M+=242。
【0282】工程2:4−[4,5−ジヒドロ−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ベンズ[g]インダゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 還流冷却器、窒素引き入れ口およびマグネティックスタ
ーラーを取付けた100mLの一つ口丸底フラスコに、工
程1からの2−トリフルオロアセチル−1−テトラロン
(1.21g、5.0mmol)、4−スルホンアミドフェ
ニルヒドラジン塩酸塩(1.12g、5.0mmol)およ
び25mLの無水エタノールを充填した。この溶液を加温
して15時間還流して、真空下で濃縮した。残渣を酢酸
エチルに溶解して、水、および食塩水で洗浄し、無水M
gSO4で乾燥し、濾過して真空下で濃縮した。残渣を
酢酸エチルとイソオクタンの混合物から再結晶して、
1.40g、71%の純粋な生成物を得た:融点257
〜258℃; 1H NMR(CDCl3/CD3OD、
4:1)δ 2.7(m,2H),2.9(m,2
H),6.6(m,1H),6.9(m,1H),7.
1(m,1H),7.16(m,1H),7.53
(m,2H),7.92(m,2H);19F NMR
(CDCl3)δ −62.5。FAB−MS M+H
=394。
【0283】実施例188
【化78】 4−[4,5−ジヒドロ−7−メチル−3−(トリフル
オロメチル)−1H−ベンズ[g]インダゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:6−メチル−2−(トリフルオロアセチル)テ
トラロンの調製 トリフルオロ酢酸エチル(5.33g、37.5mmol)
をエーテル(50mL)に溶解し、ナトリウムメトキシド
溶液(メタノール中25%、9.92g、45.9mmo
l)で処理し、続いて6−メチルテトラロン(5.94
g、37.1mmol)で処理した。この反応物を室温で
6.1時間撹拌して、次に3NのHCl(20mL)で処
理した。有機層を集めて、食塩水で洗浄し、MgSO4
で乾燥し、真空下で濃縮して、褐色の油状物(8.09
g)を得て、これをさらに精製することなく次の工程に
使用した。
【0284】工程2:4−[4,5−ジヒドロ−7−メ
チル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ベンズ
[g]インダゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミ
ドの調製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(1.8
0g、8.0mmol)を、エタノール(10mL)中の工程
1からのジケトン(1.86g、7.3mmol)の撹拌溶
液に添加した。この反応物を加熱して還流し、14.8
時間撹拌した。この反応混合物を冷却して濾過した。瀘
液を真空下で濃縮し、酢酸エチルに溶解し、水と食塩水
で洗浄し、MgSO4で乾燥し、再び真空下で濃縮し
て、褐色の固体としてピラゾール(1.90g、64
%)を得た:融点215〜218℃。1H NMR(ア
セトン−d6)300MHz 8.10(d,2H),
7.80(d,2H),7.24(s,1H),6.9
2(d,1H),6.79(br s,2H),6.8
8(d,1H),3.02(m,2H),2.85
(m,2H),2.30(s,3H)。19F NMR
(アセトン−d6)282MHz −62.46
(s)。高分解能質量分析:C1917332Sの理
論値:408.0994。実測値:408.0989。
適切なエステルで置換して、実施例187〜188に例
示した方法と同様に、以下の表IXの化合物を調製した。
【0285】
【表21】
【0286】実施例196
【化79】 4−[4,5−ジヒドロ−3−(トリフルオロメチル)
−1H−チエノ[3,2−g]インダゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド
【0287】工程1:4−ケト−4,5,6,7−テト
ラヒドロチアナフテンの調製 4−(2−チエニル)酪酸(28.42g、167mmo
l)を、無水酢酸(30mL)とリン酸(0.6mL)と共
に丸底フラスコに入れて、加熱して3.2時間還流し
た。この反応混合物を100mLの水に注ぎ入れて、酢酸
エチルで抽出し、食塩水で洗浄し、MgSO4 で乾燥
し、真空下で濃縮して、褐色の油状物(22.60g)
を得て、これを真空蒸留(1mmHg、107〜115
℃)して、白色の固体(13.08g、51%)を得
た:融点34〜40℃; 1H NMR(CDCl3)3
00MHz 7.29(d,J=5.2Hz,1H),
6.99(d,J=5.2Hz,1H),2.95
(t,J=6.0Hz,2H),2.47(m,2
H),2.13(m,2H)。M+H=153。
【0288】工程2:4−ケト−4,5,6,7−テト
ラヒドロ−5−(トリフルオロアセチル)チアナフテン
の調製 トリフルオロ酢酸エチル(11.81g、83.1mmo
l)をエーテル(50mL)に溶解し、ナトリウムメトキ
シド溶液(メタノール中25%、18.35g、84.
9mmol)で処理し、続いてエーテル(25mL)に溶解し
た工程1からの4−ケト−4,5,6,7−テトラヒド
ロチアナフテン(12.57g、82.6mmol)で処理
した。この反応物を室温で69.4時間撹拌し、次に3
NのHCl(40mL)で処理した。有機層を集めて、食
塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、真空で濃縮して、
褐色の固体を得て、これをエーテル/ヘキサンから再結
晶して、褐色の針状物としてジケトン(10.77g、
52%)を得た:融点54〜64℃; 1H NMR(C
DCl3)300MHz 15.80(s,1H),
7.41(d,J=5.2Hz,1H),7.17
(d,J=5.2Hz,1H),3.04(m,2
H),2.91(m,2H);19F NMR(CDCl
3)282MHz −70.37(s)。M+H=24
9。
【0289】工程3:4−[4,5−ジヒドロ−3−
(トリフルオロメチル)−1H−チエノ[3,2−g]
インダゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調
製 4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(2.3
6g、10.6mmol)を、エタノール(20mL)中の工
程2からのジケトン(2.24g、9.0mmol)の撹拌
溶液に添加した。この反応混合物を濾過し、エタノール
および水で洗浄して、白色の固体として目的のピラゾー
ル(2.69g、75%)を得た:融点288〜290
℃; 1H NMR(アセトン−d6)300MHz
8.12(d,J=8.7Hz,2H),7.83
(d,J=8.7Hz,2H),7.27(d,J=
5.2Hz,1H),6.81(br s,2H),
6.59(s,J=5.4Hz,1H),3.18
(m,2H),3.01(m,2H);19F NMR
(アセトン−d6)282MHz −62.46
(s)。高分解能質量分析:C16123322の理
論値:399.0323。実測値:399.0280。
【0290】実施例197
【化80】 4−[5−(4−クロロフェニル)−4−クロロ−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド 工程1:3−[4−(クロロ)フェニル]−プロパン−
1,3−ジオンの調製 ギ酸エチル(8.15g、0.11mol)と4’−クロ
ロアセトフェノン(15.4g、0.1mol)をエーテ
ル(150mL)中で室温で撹拌した。ナトリウムメトキ
シド(25%)(23.77g、0.11mol)を滴下
により添加した。この混合物を室温で16時間撹拌し、
次に150mLの1N塩酸で処理した。相を分離して、エ
ーテル溶液を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過し、真空下で濃縮して、18.3gの黄色の油
状物を得た。生じた粗混合物を精製することなく直接次
の工程に使用した。
【0291】工程2:4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホン
アミドの調製 工程1からの3−[4−(クロロ)フェニル]−プロパ
ン−1,3−ジオン(18.3g、0.1mol)と4−
スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(22.4
g、0.1mol)を150mLの無水エタノールに溶解し
て、16時間加熱して還流した。この溶液を室温に冷却
し、100mLの水で洗浄して、静置して、その結果ピラ
ゾールの結晶が生成し、これを濾過により単離して、
8.4g(25%)の白色の固体を得た:融点185〜
187℃; 1H NMR(CDCl3/300MHz)
7.89(d,J=8.7Hz,2H),7.76
(d,J=1.8Hz,1H),7.43(d,J=
8.7Hz,2H),7.34(d,J=8.7Hz,
2H),7.17(d,J=8.7Hz,2H),6.
53(d,J=1.8Hz,1H),4.93(br
s,2H)。元素分析:C15123SO2Clの理論
値:C,53.97;H,3.62;N,12.59。
実測値:C,54.08;H,3.57;N,12.6
4。
【0292】工程3:4−[5−(4−クロロフェニ
ル)−4−クロロ−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミドの調製 工程2からの4−[5−(4−クロロフェニル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
(3.0g、9mmol)を50mLの酢酸に溶解し、9mLの
酢酸中の1M塩素を滴下により添加した。この混合物を
16時間撹拌し、この時混合物がpH試験紙で中性にな
るまで飽和重炭酸ナトリウム水溶液をゆっくり添加し
た。この混合物を酢酸エチルで抽出(3×50mL)し、
抽出液を合わせて、飽和重炭酸ナトリウム水溶液と食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して、濃
縮した。生じた生成物をイソプロパノールから再結晶し
て、2.6g(78%)の白色の固体を得た:融点16
8〜171℃(分解); 1H NMR(DMSO−d6
/300MHz)8.08(s,1H),7.83
(d,J=8.7Hz,2H),7.55(d,J=
8.7Hz,2H),7.46(brs,2H),7.
44(d,J=8.7Hz,2H),7.35(d,J
=8.7Hz,2H)。元素分析:C15113SO2
2の理論値:C,48.93;H,3.01;N,1
1.41。実測値:C,49.01;H,2.97;
N,11.41。
【0293】実施例198
【化81】 4−(4−フルオロ−5−フェニル−1H−ピラゾール
−1−イル)ベンゼンスルホンアミド
【0294】工程1:2−フルオロアセトフェノンの調
製 100mLのCH2Cl2中の2−ヒドロキシアセトフェノ
ン(2.5g、18.4mmol)の溶液に、−78℃で、
トリフル酸無水物(triflic anhydride)(10g、3
5.4mmol)を添加し、続いて2,6−ルチジン(4.
1mL、35.4mmol)を添加し、この混合物を−78℃
で50分間撹拌した。この混合物をCH 2Cl2と水の中
に注ぎ入れて、CH2Cl2層を分離し、食塩水で洗浄
し、Na2SO4で乾燥し、濃縮して桃色の固体を得た。
100mLのTHF中のこの粗トリフル酸エステルの溶液
に、35mLのTHF中の1Nフッ化テトラブチルアンモ
ニウムを添加した。この混合物を15分間還流し、冷却
して、エーテルと水の中に注ぎ入れた。エーテル層を分
離し、食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥して濃縮し
た。20:1のヘキサン/EtOAcを用いるシリカゲ
ルのフラッシュクロマトグラフィーにより、α−フルオ
ロケトン(0.852g、33.5%)を得た。
【0295】工程2:4−(4−フルオロ−5−フェニ
ル−1H−ピラゾール−1−イル)ベンゼンスルホンア
ミドの調製 2mLのジメチルホルムアミド−ジメチルアセタール中の
2−フルオロアセトフェノン(200mg、1.45mmo
l)の溶液を18時間還流した。この混合物を冷却して
濃縮し、粗エナミノケトンを得た。さらに精製すること
なく、このエナミノケトンを、10mLのEtOH中の4
−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩(0.34
g、1.52mmol)で還流しながら17時間処理した。
この混合物を冷却し、濾過して、瀘液を黄色のゴム状物
になるまで濃縮した。5:1〜2:1のヘキサン/Et
OAc勾配を用いるフラッシュクロマトグラフィーによ
り、0.11gの黄色の固体を得た:エーテル/ヘキサ
ンから再結晶して、淡黄色の固体として生成物を得た;
融点194〜194.5℃;元素分析:C151232
SF・0.2H2Oの理論値:C,56.14;H,
3.89;N,13.09。実測値:C,55.99;
H,3.65;N,12.92。
【0296】実施例199
【化82】 4−[5−(4−クロロフェニル)−3−(トリフルオ
ロメチル)−4−クロロ−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド
【0297】還流冷却器、ガス分散管およびマグネティ
ックスターラーを取付けた100mLの丸底フラスコに、
4−[5−(4−クロロフェニル)−3−トリフルオロ
メチル−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホ
ンアミド(実施例1)(500mg、1.2mmol)と50
mLの氷酢酸を充填した。この溶液を室温で撹拌して、1
5分間塩素ガス流で処理した。次にこの溶液を室温で
1.25時間撹拌し、次いで100mLの水で希釈した。
次にこの溶液をエーテルで3回抽出して、合わせたエー
テル相を食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濾過
し、真空下で濃縮して、白色の固体を得て、これをエー
テル/石油エーテルから再結晶して、390mg(75
%)の4−[5−(4−クロロフェニル)−4−クロロ
−3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミドを得た:融点180〜18
2℃; 1H NMR(CDCl3/300MHz)7.
97(d,J=6.6Hz,2H),7.49(d,J
=6.3Hz,2H),7.45(d,J=6.3H
z,2H),7.25(d,J=6.6Hz,2H),
5.78(brs,2H)。
【0298】実施例200
【化83】 4−[4−フルオロ−5−フェニル−3−(トリフルオ
ロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンス
ルホンアミド
【0299】工程1:4,4,4−トリフルオロ−1−
フェニルブタン−1,3−ジオンの調製 25mLのTHF中の実施例198の工程1からの2−フ
ルオロアセトフェノン(0.48g、3.4mmol)の溶
液に、−78℃で1Nのリチウムビス(トリメチルシリ
ル)アミド(4mL)を添加して、この混合物を−78℃
で45分間撹拌した。1−(トリフルオロアセチル)イ
ミダゾール(0.65mL、5.7mmol)を添加して、こ
の混合物を−78℃で30分間、そして0℃で30分間
撹拌した。この混合物を0.5NのHClで急冷し、エ
ーテルと水の中に注ぎ入れて、エーテル層を分離し、食
塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥して濃縮した。10:
1〜4:1のヘキサン/EtOAc勾配を用いるシリカ
ゲルのフラッシュクロマトグラフィーにより、1,3−
ジケトン(0.34g、43%)を得た。
【0300】工程2:4−[4−フルオロ−5−フェニ
ル−3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−1−
イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 工程1からのジケトン(0.34g、1.45mmol)
を、15mLのEtOH中の4−スルホンアミドフェニル
ヒドラジン塩酸塩(0.35g、1.56mmol)で還流
しながら15時間処理した。この混合物を冷却し、濾過
して、瀘液を黄色のゴム状物になるまで濃縮した。3:
1のヘキサン/EtOAcを用いるフラッシュクロマト
グラフィーにより、0.28gの黄色の固体を得た。C
2Cl2/ヘキサンから再結晶して、淡黄色の固体とし
て生成物を得た:元素分析:C16 1132SF4の理
論値:C,49.87;H,2.88;N,10.9
0。実測値:C,49.79;H,2.88;N,1
0.81。
【0301】実施例201
【化84】 4−[4−メチル−5−フェニル−3−(トリフルオロ
メチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスル
ホンアミド
【0302】工程1:2−メチル−1−フェニル−4,
4,4−トリフルオロブタン−1,3−ジオンの調製 THF(20mL)中のプロピオフェノン(965mg、
7.2mmol)の溶液に、−78℃でナトリウムビス(ト
リメチルシリル)アミド(THF中の1M溶液7.9m
L)を添加した。この溶液を0.5時間−78℃に維持
し、次に1時間かけて−20℃に加温した。この溶液を
−78℃に冷却して、THF(4mL)中の1−(トリフ
ルオロアセチル)イミダゾール(1.5g、9.1mmo
l)をカニューレにより添加した。この溶液を室温に加
温し、一晩撹拌した。この混合物を1NのHClとエー
テルに分配した。有機溶液を乾燥(Na2SO4)し、濃
縮して、粗ジケトン(1.9g)を得た。
【0303】工程2:4−[4−メチル−5−フェニル
−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1
−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 工程1からのジケトンを無水エタノール(25mL)に溶
解して、4−スルホンアミドフェニルヒドラジン塩酸塩
(2.0g、9.0mmol)を添加した。この混合物を加
熱して19時間還流した。真空下で揮発性成分を除去し
て、残渣を酢酸エチルに溶解した。有機溶液を水と食塩
水で洗浄し、乾燥して濃縮した。残渣をシリカのクロマ
トグラフィー(2:1のヘキサン/酢酸エチル)に付し
て、標題ピラゾール(1.52g、49%)を得た:融
点145〜146℃;元素分析:C171432SF3
の理論値:C,53.54;H,3.70;N,11.
01。実測値:C,53.41;H,3.66;N,1
0.92。
【0304】実施例202
【化85】 4−[4−エチル−5−(3−メチル−4−メトキシフ
ェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ
ール−1−イル]ベンゼンスルホンアミド
【0305】工程1:4−メトキシ−3−メチルブチロ
フェノンの調製 ジクロロメタン(40mL)中の塩化アルミニウム(1
0.3g、77.2mmol)の懸濁液に、0℃で、2−メ
チルアニソール(5.0mL、35.3mmol)と酪酸無水
物(5.8mL、35.3mmol)の溶液を滴下により添加
した。この反応溶液を0℃で2時間維持し、次に室温に
加温して一晩撹拌した。この反応溶液を濃HCl(9m
L)と氷水(80mL)中に注ぎ入れた。この反応物をジ
クロロメタンで抽出し、有機層を2NのNaOHと食塩
水で洗浄し、乾燥して濃縮した。残渣をシリカのクロマ
トグラフィー(9:1のヘキサン:酢酸エチル)に付し
て、目的の生成物(5.2g、77%)を得た。
【0306】工程2および3:4−[4−エチル−5−
(3−メチル−4−メトキシフェニル)−3−(トリフ
ルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベンゼ
ンスルホンアミドの調製 実施例201の工程1および2に記載した方法を用い
て、工程1のブチロフェノンから標題化合物を調製し
た:融点135〜136℃;元素分析:C2020 33
SF3の理論値:C,54.66;H,4.59;N,
9.56。実測値:C,54.11;H,4.38;
N,9.43。
【0307】実施例203
【化86】 4−[4−シクロプロピル−5−フェニル−3−(トリ
フルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベン
ゼンスルホンアミド
【0308】工程1:2−シクロプロピルアセトフェノ
ンの調製 ジメチルスルホキシド(20mL)中のシアン化ナトリウ
ム(1.8g、37.0mmol)の懸濁液に、60℃で
(ブロモメチル)シクロプロパン(5.0g、37.0
mmol)を滴下により添加した。反応物の温度を60℃に
維持するような速さでこの添加を行った。添加の終了
後、この反応混合物を80℃に15分間加熱した。この
混合物を冷却して、エーテルと水に分配した。有機溶液
を1NのHClと水で洗浄し、乾燥して濃縮した。残渣
をエーテル(5mL)に溶解し、エーテル(20mL)とベ
ンゼン(25mL)中の臭化フェニルマグネシウム(エー
テル中3M溶液25mL)の溶液に添加した。この反応混
合物を室温で20時間撹拌し、次に1NのHCl溶液中
に注ぎ入れて、1.5時間撹拌した。有機溶液を分離
し、水溶液をジクロロメタンで抽出した。有機溶液を乾
燥して濃縮した。残渣をシリカのクロマトグラフィー
(9:1のヘキサン:酢酸エチル)に付して、目的の生
成物(2.0g、34%)を得た。
【0309】工程2および3:4−[4−シクロプロピ
ル−5−フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H
−ピラゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調
製 実施例201の工程1および2に記載した方法を用い
て、工程1のアセトフェノンから標題化合物を調製し
た:融点173〜174℃;元素分析:C1916 32
SF3の理論値:C,56.01;H,3.96;N,
10.31。実測値:C,55.85;H,3.78;
N,10.19。
【0310】実施例204
【化87】 4−[4−ヒドロキシメチル−5−フェニル−3−(ト
リフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イル]ベ
ンゼンスルホンアミド 工程1:4−[4−ブロモメチル−5−フェニル−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミドの調製 四塩化炭素(9mL)とベンゼン(4mL)中の実施例20
1で調製した4−[4−メチル−5−フェニル−3−
(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−1−イ
ル]ベンゼンスルホンアミド(500mg、1.3mmol)
の溶液に、N−ブロモスクシンイミド(285mg、1.
6mmol)を添加した。この混合物を太陽燈で3.5時間
照射した。この反応混合物をジクロロメタンと水に分配
し、有機溶液を乾燥し、濃縮して、目的の生成物412
mg(69%)を得た。
【0311】工程2:4−[4−ホルミル−5−フェニ
ル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−
1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 ジメチルスルホキシド(7mL)中の工程1で調製した化
合物(362mg、0.79mmol)の溶液に、コリジン
(0.14mL、1.0mmol)を添加した。この溶液を1
20℃に3時間加熱し、次に室温で一晩維持した。この
反応溶液を酢酸エチルと水に分配して、有機溶液を水で
洗浄し、乾燥して濃縮した。残渣をクロマトグラフィー
(1:1のヘキサン:酢酸エチル)に付して、目的の生
成物(205mg、66%)を得た。
【0312】工程3:4−[4−ヒドロキシメチル−5
−フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラ
ゾール−1−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 メタノール(3.5mL)中の工程2で調製したアルデヒ
ド(165mg、0.41mmol)の溶液に、0℃で水素化
ホウ素ナトリウム(16mg、0.41mmol)を添加し
た。この反応溶液を0℃で2.5時間維持した。1Mの
KHSO4水溶液(3mL)の添加により反応を停止させ
た。この混合物をジクロロメタンで抽出し、有機溶液を
乾燥して濃縮した。残渣をシリカのクロマトグラフィー
(1:1のヘキサン:酢酸エチル)に付して、目的の生
成物(36mg、46%)を得た:融点179〜180
℃; 1H NMR d 7.91(m,2H),7.5
3〜7.40(m,5H),6.75(s,2H),
4.53(d,2h,J=5.0Hz),4.30
(t,1H,J=5.0Hz)。
【0313】実施例205
【化88】 4−(4−クロロ−3−イソブチル−5−フェニル−1
H−ピラゾール−1−イル)ベンゼンスルホンアミド CH2Cl2(10mL)中の実施例175で調製したピラ
ゾール(0.15g、0.42mmol)の溶液に、室温で
過剰の塩化スルフリルをゆっくり添加した。この混合物
を室温で2時間撹拌し、水で反応を停止させ、水層を塩
化メチレンで3回抽出した。合わせた有機層をMgSO
4で乾燥し、濃縮して油状物を得て、これを、70:3
0のヘキサン/酢酸エチルを溶離液として用いるシリカ
ゲルのフラッシュクロマトグラフィーにより精製して、
目的の化合物を得た:HRMSm/z 389.097
0(C1920ClN3SO2の理論値、389.096
5)。適切な出発物質で置換して、実施例197〜20
5に例示した方法と同様に、以下の表Xの化合物を調製
した。
【0314】
【表22】
【0315】
【表23】
【0316】
【表24】
【0317】
【表25】
【0318】
【表26】
【0319】
【表27】
【0320】
【表28】
【0321】
【表29】
【0322】
【表30】
【0323】
【表31】
【0324】実施例259
【化89】 4−[4−クロロ−3−シアノ−5−[4−(フルオ
ロ)フェニル]−1H−ピラゾール−1−イル]−N−
[(ジメチルアミノ)メチレン]ベンゼンスルホンアミ
ド 実施例234の精製に使用した溶離液の極性を60%酢
酸エチルまで上昇させて、適切な画分の濃縮により、4
−[4−クロロ−3−シアノ−5−[4−(フルオロ)
フェニル]−1H−ピラゾール−1−イル]−N−
[(ジメチルアミノ)メチレン]ベンゼンスルホンアミ
ド(0.485g、15%)を得た:高分解能質量分析
(MLi+):理論値:438.0779。実測値:4
38.0714。元素分析:C19155 2 FClS
の理論値:C,52.84;H,3.50;N,16.
22;Cl,8.21;S,7.42。実測値:C,5
2.76;H,3.52;N,16.12;Cl,8.
11;S,7.35。
【0325】実施例260
【化90】 4−[4−ブロモ−3−シアノ−5−フェニル−1H−
ピラゾール−1−イル]−N−[(ジメチルアミノ)メ
チレン]ベンゼンスルホンアミド 同様に、実施例235の精製から、4−[4−ブロモ−
3−シアノ−5−フェニル−1H−ピラゾール−1−イ
ル]−N−[(ジメチルアミノ)メチレン]ベンゼンス
ルホンアミドを単離した(0.153g、28%):高
分解能質量分析(M+):理論値:457.0208。
実測値:457.0157。元素分析:C191652
BrSの理論値:C,49.79;H,3.52;N,
15.28;Br,17.43;S,6.99。実測
値:C,49.85;H,3.56;N,15.10;
Br,17.52;S,6.87。
【0326】実施例261
【化91】 4−[1−(4−フルオロフェニル)−3−(トリフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼン
スルホンアミド 工程1:N,N−ビス(4−メトキシベンジル)−4−
(アミノスルホニル)アセトフェノンの調製 ジメチルスルホキシド(25mL)中の4−(アミノスル
ホニル)アセトフェノン(2.0g、9.0mmol)の溶
液に水素化ナトリウム(450mg、19.0mmol)を添
加した。この反応混合物を45分間撹拌して、次にジメ
チルスルホキシド(5mL)中の臭化4−メトキシベンジ
ル(3.5g、19.0mmol)をカニューレにより添加
した。この混合物を室温で24時間撹拌して、酢酸エチ
ルとpH7の緩衝液に分配した。水溶液を酢酸エチルで
抽出した。有機溶液を乾燥(MgSO4)して濃縮し
た。残渣をシリカのクロマトグラフィー(2:1のヘキ
サン/酢酸エチル)に付して、目的の生成物(815m
g、21%)を得た。
【0327】工程2:N,N−ビス(4−メトキシベン
ジル)−4−[1−(4−フルオロフェニル)−3−ト
リフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル]ベン
ゼンスルホンアミドの調製 メタノール(0.2mL)中の25%ナトリウムメトキシ
ド溶液に、トリフルオロ酢酸エチル(75mg、0.53
mmol)と工程1からの保護アセトフェノン(235mg、
0.53mmol)を添加した。THF(0.5mL)を添加
して、この反応混合物を加熱して2時間還流し、次に室
温で一晩撹拌した。この混合物をエーテルと1NのHC
l溶液に分配した。有機溶液を乾燥し、濃縮して、粗ジ
ケトン(279mg)を得て、これを無水エタノール
(2.5mL)で希釈した。このスラリーにピリジン(4
9mg、0.62mmol)と4−フルオロフェニルヒドラジ
ン塩酸塩(80mg、0.50mmol)を添加した。この混
合物を室温で24時間撹拌して、真空下で濃縮した。残
渣を塩化メチレンに溶解して、1NのHClで洗浄し
た。残渣をシリカのクロマトグラフィー(3:1のヘキ
サン:酢酸エチル)に付して、保護ピラゾール(159
mg、51%)を得た。
【0328】工程3:4−[1−(4−フルオロフェニ
ル)−3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5
−イル]ベンゼンスルホンアミドの調製 アセトニトリル(1mL)と水(0.3mL)中の保護ピラ
ゾール(50mg、0.08mmol)の溶液に、硝酸アンモ
ニウムセリウム(360mg、0.65mmol)を添加し
た。この反応溶液を室温で16時間維持した。この溶液
を水(15mL)の中に注ぎ入れて、酢酸エチルで抽出
(2×25mL)した。合わせた抽出物を乾燥(MgSO
4)して濃縮した。残渣をシリカのクロマトグラフィー
(2:1のヘキサン:酢酸エチル)に付して、目的の生
成物(13mg、42%)を得た: 1HNMR(CD3
D)7.88(d,2H),7.46(d,2H),
7.39(dd,2H),7.21(t,2H),7.
06(s,1H)。
【0329】実施例262
【化92】 4−[1−(4−メトキシフェニル)−3−(トリフル
オロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼン
スルホンアミド 実施例261に記載した方法を用いて標題化合物を調製
した:HRMS m/z 397.0702(C1714
33SF3の理論値、397.0708)。
【0330】
【発明の効果】生物学的評価 ラットカラゲニン足蹠浮腫試験 本質的にウィンター(Winter)ら(Proc. Soc. Exp. Bi
ol. Med.,111,544(1962))により記載さ
れた材料、試薬および方法で、カラゲニン足蹠浮腫試験
を行った。可能な限り平均体重が接近するように、オス
のスプレーグ・ドーリー(Sprague-Dawley)ラットを各
群に選択した。試験前16時間ラットを水は自由に摂ら
せながら絶食させた。ラットに、0.5%メチルセルロ
ースと0.025%界面活性剤を含む担体中に懸濁した
化合物、または担体単独を経口投与(1mL)した。1時
間後、0.1mLのカラゲニンの1%溶液/無菌0.9%
生理食塩水を足底下に注射で投与し、注射した足の体積
を、デジタル表示器付の圧力変換器につなげた置換肢体
容積計で測定した。カラゲニンの注射の3時間後、足の
体積を再度測定した。薬剤処理ラット群における足の平
均腫脹をプラセボ処理ラット群と比較し、浮腫の阻害百
分率を決定した(オッターネス(Otterness)とブリベ
ン(Bliven),「NSAID、すなわち非ステロイド性
抗炎症薬を試験するための実験室モデル(Laboratory M
odels for Testing NSAIDs,inNon-steroidal An
ti-Inflammatory Drugs)」,(ジェイ・ロンバルディ
ーノ(J.Lombardino)編(1985))。阻害%は、こ
の方法で測定された対照足蹠体積からの低下%を示し、
本発明の選択された化合物についてのデータを表Iに要
約する。
【0331】ラットのカラゲニン誘導性痛覚脱失試験 本質的にハーグリーブス(Hargreaves)ら(Pain,3
2,77(1988))により記載された材料、試薬お
よび方法で、ラットのカラゲニンを利用する本痛覚脱失
試験を行った。オスのスプレーグ・ドーリー(Sprague-
Dawley)ラットを、カラゲニン足蹠浮腫試験で前述した
ように処理した。カラゲニンの注射の3時間後、底部の
下に位置の設定が可能な放射熱源として高輝度ランプを
付けた透明な底部を有する特殊なプレキシガラス容器に
ラットを入れた。最初の20分が経過後、注射した足ま
たは注射していない反対側の足のいずれかに熱刺激を開
始した。足蹠を引っ込めることにより光が遮られると、
光電池がランプとタイマーを止めた。そしてラットが足
を引っ込めるまでの時間を測定した。対照と薬剤処理群
について引っ込めまでの待ち時間を秒で測定し、痛覚過
敏の足の引っ込めの阻害百分率を決定した。結果を表XI
に示す。
【0332】
【表32】
【0333】インビトロのCOX IとCOX II活性
の評価 本発明の化合物は、インビトロでCOX IIの阻害を示
した。実施例に例示した本発明の化合物のCOX II 阻
害活性は、下記の方法により測定した。 a.組換えCOXバキュロウイルスの調製 ディー・アール・オレイリー(D. R. O' Reilly)ら
(「バキュロウイルス発現ベクター:実験室マニュアル
(Baculovirus Expression Vectors:A LaboratoryManu
al)」(1992))の方法と類似の方法で、ヒトまた
はマウスCOX−IあるいはヒトまたはマウスCOX−
IIのいずれかのコード領域を含有する2.0kb断片を
バキュロウイルストランスファーベクターpVL139
3(インビトロジェン(Invitrogen))のBamH1部
位にクローン化して、COX−IおよびCOX−IIのた
めのバキュロウイルストランスファーベクターを作成し
た。リン酸カルシウム法により線状化した200ngのバ
キュロウイルスプラスミドDNAと共に、4μg のバキ
ュロウイルストランスファーベクターDNAをSF9昆
虫細胞(2×108)中にトランスフェクションするこ
とにより、組換えバキュロウイルスを単離した。
【0334】エム・ディー・サマーズ(M. D. Summer
s)とジー・イー・スミス(G. E. Smith),「バキュロ
ウイルスベクターに関する方法と昆虫細胞培養法のマニ
ュアル(A Manual of Methods for Baculovirus Vector
s and Insect Cell Culture Procedures)」,Texas Ag
ric. Exp. Station Bull.1555(1987)を参
照。3回のプラーク精製により組換えウイルスを精製し
てウイルスの高力価(107〜108pfu/ml)ストック
を調製した。大規模生産のために、SF9昆虫細胞を1
0リットル発酵槽(0.5×106/ml)中で、組換え
バキュロウイルスストックにより感染の多重度が0.1
であるように感染させた。72時間後、細胞を遠心分離
して、細胞ペレットを1%の3−[(3−コラミドプロ
ピル)ジメチルアンモニオ]−1−プロパンスルホン酸
(CHAPS)を含有するトリス/ショ糖(50mM:2
5%、pH8.0)中にホモジナイズした。このホモジ
ネートを10,000×Gで30分間遠心分離して、生
じた上澄液をCOX活性を測定するまで−80℃で保存
した。
【0335】b.COX IとCOX II活性の測定:
放出されるプロスタグランジンをELISAを使用して
検出して、COX活性を形成されたPGE2/μgタンパ
ク質/時間として測定した。適切なCOX酵素を含有す
るCHAPS可溶化昆虫細胞膜を、エピネフリン、フェ
ノール、およびヘムを含有するリン酸カリウム緩衝液
(50mM、pH8.0)中で、アラキドン酸(10μ
M)を添加してインキュベートした。化合物を酵素と共
に10〜20分間プレインキュベートしてからアラキド
ン酸を添加した。10分後37℃/室温で40μlの反
応混合物を160μl ELISA緩衝液および25μM
インドメタシン中に移すことにより、アラキドン酸と酵
素の間の全ての反応が停止した。生成したPGE2を標
準的ELISA法(ケイマン化学(Cayman Chemica
l))により測定した。結果を表XIIに示す。
【0336】
【表33】
【0337】
【表34】
【0338】本発明には、1つまたはそれ以上の非毒性
の薬剤学的に許容しうる担体および/または希釈剤およ
び/または補助剤(集合的に本明細書では「担体」物質
と呼ぶ)と一緒にした、そして必要であれば、他の活性
成分と一緒にした、1つまたはそれ以上の式Iの化合物
を含む薬剤組成物の群も含まれる。本発明の化合物は、
任意の適切な経路により、好ましくはこのような経路に
適する薬剤組成物の形で、かつ目的とする治療に有効な
用量で投与することができる。本化合物と組成物は、例
えば、血管内、腹腔内、皮下、筋肉内または局所に投与
することができる。経口投与のために、本薬剤組成物
は、例えば、錠剤、カプセル剤、懸濁剤または液剤の形
にすることができる。本薬剤組成物は、好ましくは特定
量の活性成分を含有する投薬単位の形に製造される。こ
のような投薬単位の例は、錠剤またはカプセル剤であ
る。本活性成分はまた、適切な担体として例えば生理食
塩水、デキストロースまたは水が使用される組成物とし
て注射により投与してもよい。
【0339】投与される治療活性のある化合物の量、お
よび本発明の化合物および/または組成物により疾患症
状を治療するための投薬法は、患者の年齢、体重、性別
および健康状態、疾患の重篤度、投与の経路と頻度、お
よび使用される特定の化合物を含む、種々の因子に依存
し、従って広く変化しうる。本薬剤組成物は、約0.1
〜2000mgの範囲で、好ましくは0.5〜500mgの
範囲で、そして最も好ましくは約1と100mgの間で活
性成分を含有してよい。1日用量は、約0.01〜10
0mg/kg体重、好ましくは0.1と約50mg/kg体重の
間、そして最も好ましくは約1〜20mg/kg体重が適切
であろう。この1日用量は、1日に1〜4回の投薬で投
与することができる。
【0340】治療目的のために、本発明の化合物は普
通、必要な投与経路に適切な1つまたはそれ以上の補助
剤と合わせられる。経口投与される場合本化合物は、ラ
クトース、ショ糖、デンプン粉末、アルカン酸のセルロ
ースエステル、セルロースアルキルエステル、タルク、
ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、酸化マグネ
シウム、リン酸および硫酸のナトリウム塩およびカルシ
ウム塩、ゼラチン、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウ
ム、ポリビニルピロリドン、および/またはポリビニル
アルコールと混合して、次に投与に便利なように錠剤化
またはカプセル化される。このようなカプセル剤または
錠剤は、活性化合物をヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース中に分散して提供するなど、放出制御処方を含有し
てもよい。非経口投与のための処方は、水性または非水
性の等張性無菌注射液または懸濁剤の形であってよい。
【0341】これらの液剤および懸濁剤は、経口投与の
ための処方に使用のための1つまたはそれ以上の担体ま
たは希釈剤を含む無菌粉末または顆粒から調製すること
ができる。この化合物は水、ポリエチレングリコール、
プロピレングリコール、エタノール、トウモロコシ油、
綿実油、落花生油、ゴマ油、ベンジルアルコール、塩化
ナトリウムおよび/または種々の緩衝液に溶解すること
ができる。他の補助剤や投与の様式は、製薬分野で周知
である。本発明を具体的な実施態様に関して記載した
が、これらの実施態様の詳細を本発明を限定するものと
解釈してはならない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 401/04 C07D 401/04 403/04 403/04 405/04 405/04 409/04 409/04 413/04 413/04 495/04 103 495/04 103 // A61K 31/415 A61K 31/415 31/416 31/416 31/4178 31/4178 31/4245 31/4245 31/4439 31/4439 31/496 31/496 31/497 31/497 31/506 31/506 A61P 19/02 A61P 19/02 29/00 29/00 101 101 (72)発明者 ペンニング,トーマス,ディー. アメリカ合衆国 60126 イリノイ州エル ムハースト,ラーチ 374 (72)発明者 コリンズ,ポール,ダブリュ. アメリカ合衆国 60015 イリノイ州ディ アーフィールド,ホーソーン プレース 1557 (72)発明者 ロジャー,ドナルド,ジェイ.,ジュニア アメリカ合衆国 63017 ミズーリ州チェ スターフィールド,ウエストミード ドラ イブ 1828 (72)発明者 マレチャ,ジェームズ,ダブリュ. アメリカ合衆国 60048 イリノイ州リバ ティービル,トレイシー レーン 1121 (72)発明者 ミヤシロ,ジュリー,エム. アメリカ合衆国 60026 イリノイ州シカ ゴ,ウエスト コロンビア 1260,アパー トメント 1イー (72)発明者 バーテンショウ,スチーブン,アール. アメリカ合衆国 63144 ミズーリ州ブレ ントウッド,パイン アベニュー 8758 (72)発明者 カンナ,イシュ,ケイ. アメリカ合衆国 60061 イリノイ州バー ノン ヒルズ,ブランディーワイン コー ト 149 (72)発明者 グラネッツ,マシュー,ジェイ. アメリカ合衆国 63146 ミズーリ州セン ト ルイス,ボルテアー ドライブ 1510 (72)発明者 ロジャーズ,ローランド,エス. アメリカ合衆国 63117 ミズーリ州リッ チモンド ハイツ,アーリントン ドライ ブ 7431 (72)発明者 カーター,ジェフリー,エス. アメリカ合衆国 63017 ミズーリ州チェ スターフィールド,グラントリー ドライ ブ 15321 (72)発明者 ドクター,スチーブン,エイチ. アメリカ合衆国 60056 イリノイ州マウ ント プロスペクト,マーセラ ロード 320 (72)発明者 ユ,ステラ,エス. アメリカ合衆国 60053 イリノイ州モー トン グロウブ,メイプル ストリート 7801

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I: 【化1】 [式中、R1は、置換可能な位置でスルファミルにより
    置換されたフェニルであり;R2は、C1−C6−ハロア
    ルキル、シアノ、カルボキシル、C1−C6−アルコキシ
    カルボニル、C1−C6−カルボキシルアルキル、アミノ
    カルボニル、C1−C6−N−アルキルアミノカルボニ
    ル、N−アリールアミノカルボニル、C1−C6−N,N
    −ジアルキルアミノカルボニル、C1−C6−N−アルキ
    ル−N−アリールアミノカルボニル、C3−C7−シクロ
    アルキルアミノカルボニルおよびC 1−C6−ヒドロキシ
    アルキルより選択され;R3およびR4は、一緒になって 【化2】 を形成し;mは、2であり;Aは、フェニルおよび5員
    ヘテロアリールより選択され;そしてR6は、ハロ、C1
    −C10−アルキル、C1−C6−アルキルスルホニル、C
    1−C6−ハロアルキル、C1−C6−アルコキシ、アミノ
    およびニトロより選択される1つまたはそれ以上の基で
    あり;アリールはどこにあっても、フェニル、ナフチ
    ル、テトラヒドロナフチル、インダン、ビフェニルを意
    味する]の化合物、またはその薬剤学的に許容される塩
  2. 【請求項2】 R2は、フルオロメチル、ジフルオロメ
    チル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメ
    チル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプ
    タフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロ
    ロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロ
    ピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、シアノ、カ
    ルボキシル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
    ル、イソプロポキシカルボニル、tert−ブトキシカ
    ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
    ル、イソブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、
    アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
    レリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ト
    リフルオロアセチル、アミノカルボニル、N−メチルア
    ミノカルボニル、N−エチルアミノカルボニル、N−イ
    ソプロピルアミノカルボニル、N−プロピルアミノカル
    ボニル、N−ブチルアミノカルボニル、N−イソブチル
    アミノカルボニル、N−tert−ブチルアミノカルボ
    ニル、N−ペンチルアミノカルボニル、N−フェニルア
    ミノカルボニル、N,N−ジメチルアミノカルボニル、
    N−メチル−N−エチルアミノカルボニル、N−(3−
    フルオロフェニル)アミノカルボニル、N−(4−メチ
    ルフェニル)アミノカルボニル、N−(3−クロロフェ
    ニル)アミノカルボニル、N−(4−メトキシフェニ
    ル)アミノカルボニル、N−メチル−N−フェニルアミ
    ノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、ヒド
    ロキシプロピル、ヒドロキシメチルおよびヒドロキシエ
    チルより選択され;Aは、フェニル、フリルおよびチエ
    ニルより選択され;そしてR6は、フルオロ、クロロ、
    ブロモ、メチルスルホニル、メチル、エチル、イソプロ
    ピル、tert−ブチル、イソブチル、フルオロメチ
    ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメ
    チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフル
    オロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロ
    ロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチ
    ル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプ
    ロピル、メトキシ、メチレンジオキシ、エトキシ、プロ
    ポキシ、n−ブトキシ、アミノ、およびニトロより選択
    される1つまたはそれ以上の基である上記化合物または
    その薬剤学的に許容される塩である請求項1に記載の化
    合物。
  3. 【請求項3】 式I: 【化3】 [式中、R1は、フェニル、ナフチル、ビフェニル、お
    よび5員または6員ヘテロアリールより選択され、ここ
    でR1は、置換可能な位置でハロ、C1−C10−アルキ
    ル、C1−C6−アルコキシ、ヒドロキシルおよびC1
    6−ハロアルキルより選択される1つまたはそれ以上
    の基により置換されており;R2は、C1−C6−ハロア
    ルキルより選択され;R3は、ヒドリドであり;そして
    4は、置換可能な位置でスルファミルにより置換され
    たアリールであり;アリールはどこにあっても、フェニ
    ル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダン、ビフ
    ェニルを意味する]の化合物、またはその薬剤学的に許
    容される塩。
  4. 【請求項4】 下記群の化合物およびその薬剤学的に許
    容される塩から選択される請求項3に記載の化合物:4
    −[1−(4−フルオロフェニル)−3−(トリフルオ
    ロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンス
    ルホンアミド;および4−[1−(4−メトキシフェニ
    ル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
    −5−イル]ベンゼンスルホンアミド。
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