DE3249007C2 - Verfahren zur Herstellung von geschältem Schnellkochreis und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von geschältem Schnellkochreis nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 und eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.

Der erfindungsgemäß hergestellte Reis muß zum Quellen lediglich fünf Mi­ nuten in Konakt mit heißem, nicht notwendigerweise siedendem Wasser stehen, um ihn für den Verbrauch zuzubereiten, wobei die Hauptmenge der Nährstoffe beibehalten wird.

Üblicher, polierter weißer Reis muß vor dem Verzehr im allgemeinen 20 bis 35 min in siedendem Wasser gekocht werden. Neben der für Reis er­ forderlichen langen Kochzeit wird die Stärke in dem Reis in bestimmten Fällen nicht vollständig gelatiniert. Beim Reis kann dies zu einem Platzen einer größeren Anzahl von Stärkezellen führen unter Bildung einer visko­ sen, klebrigen, pastenartigen gekochten Masse. Dieser und andere Grün­ de führte während vieler Jahre nur zu einem eingeschränkten Verbrauch von Reis. Dabei wurden erhebliche Anstrengungen unternommen, schnellkochenden Reis herzustellen.

Im allgemeinen wird "Schnellkochreis" als Reis definiert, der in verschie­ denem Ausmaß hydratisiert und/oder gelatiniert und in solcher Weise ge­ trocknet worden ist, daß einzelne Körner gebildet werden, die anschlie­ ßend während einer kurzen Zeitdauer in siedendem oder heißem Wasser gekocht werden können.

Eine ausgezeichnete Diskussion über Schnellkochreis fin­ det sich in "Rice Chemistry and technology", herausgege­ ben von D. F. Houston, veröffentlicht durch die American Association of Cereal Chemists, Incorporated, St. Paul, Minnesota, Kapitel 15 "Quick Cooking Rice", Robert L. Roberts, Seiten 381 bis 399.

Im allgemeinen umfassen die meisten herkömmlichen Ver­ fahren zur Herstellung von Schnellkochreis das Einwei­ chen des Reises in Wasser, wie dies beispielsweise in den US-Patentschriften 24 38 939, 27 33 147, 27 40 719 und 28 28 209 beschrieben wird. Die Einweich­ methode ist jedoch zeitraubend, führt zu Verlusten an der wertvollen Reisstärke und bringt ein Abwasserver­ schmutzungsproblem mit sich. Das Einweichen umfaßt die Verwendung überschüssigen Wassers, was notwendigerwei­ se dazu führt, daß sich die Reisstärke in dem Wasser löst, wodurch nicht nur der Nährwert des Reises (Ver­ lust an Kohlenhydraten und somit an Brennwert vermindert, son­ dern auch ein stärkehaltiges Abwasser gebildet wird, welches beseitigt werden muß.

Ein weiteres Verfahren zur Herstellung von Schnellkoch­ reis umfaßt eine Rißbildungsbehandlung des Reises, wo­ bei solche Methoden in verschiedenen Patentschriften, wie in der US-PS 31 57 514 und in der NO-PS 1 07 170 beschrieben sind. Die US-PS 31 57 514 leidet an dem Nachteil, daß es unerläßlich ist, als Ausgangsmaterial hydratisierten Reis einzusetzen. Weiterhin umfaßt diese US-PS 31 57 514 die Einweichmethode und das Kühlen des Reises vor dem Trocknen (eine sehr energieaufwendige Behandlungsstufe). Das Reisprodukt der US-PS 31 57 514 ist nicht vollstän­ dig gelatiniert, so daß es gekocht werden muß, um den Reis für den Verzehr ge­ eignet zu machen. Der nach dem Verfahren der NO-PS 1 07 170 hergestellte Reis ist ebenfalls nicht vollständig gelatiniert und muß daher vor dem Verbrauch in Was­ ser gekocht werden.

Ein weiteres Verfahren zur Herstellung von Schnellkochreis offenbart die US-PS 29 37 946, welches das Besprühen mit heißem Wasser zum Gelatinieren des Reises lehrt. Diese Methode erfordert die Anwendung großer Mengen heißen Wassers und ist daher sehr energieaufwendig. Auch das Verfahren der US-PS 29 37 946 be­ nötigt eine große Zeitdauer zur Erzielung der Gelatinierung.

So ist in der US-A-30 86 867 ein Verfahren zur Herstellung von schnellkochen­ dem braunen Reis beschrieben, bei dem der Reis in ein Wasserbad eingetaucht und darin gekocht wird. So beschreibt die DE-AS 12 02 115 ebenfalls ein Verfahren zur Herstellung eines schnellkochenden Reisproduktes, nach dem der Reis zunächst in Wasser mit einer Temperatur oberhalb 55°C eingeweicht und vorgequollen wird, wonach eine Behandlung mit Wasser und Dampf zunächst bei einer Tempe­ ratur oberhalb 55°C und dann bei einer Temperatur unterhalb 55°C durchgeführt wird. Dieses Verfahren besitzt außerdem den großen Nachteil, daß durch das Ein­ weichen des Reises und das Kühlen des Reises durch Besprühen mit überschüssi­ gem kalten Wasser erhebliche Umweltverschmutzungen durch stärkehaltiges Abwasser verursacht werden. Schließlich ist aus der DE-AS 11 55 664 ein Verfah­ ren zur Herstellung trockenkochender Reiskörner bekannt, wonach der Reis zu­ nächst während 12 bis 20 min bei einer Reistemperatur von 75° bis 130°C ge­ dämpft, dann mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung auf einen Feuchtigkeitsge­ halt von 16 bis 24% gebracht, temperiert und anschließend bei einem Überdruck von 0,3 bis 1 atü mit Dampf während 2 bis 20 min erhitzt und anschließend getrocknet wird.

Das Trocknen von gelatiniertem Reis führt im allgemeinen zu einer starken Bela­ stung des Reises, was zu einer Zerstörung der Zellwandungen führt. Je häufiger der Reis getrocknet wird, um so mehr Zellwandungen werden zerstört. Das Er­ gebnis ist, daß der Reis seine Fähigkeit verliert, beim Einweichen in Wasser seine ursprüngliche Form wieder herzustellen und wieder anzunehmen. Die Er­ fahrung zeigt, daß, bei Mehrfachtrocknung von Reis, seine Wiederherstellungsfähigkeit um 40 bis 60% vermindert ist. Andererseits ist bei Reis, der lediglich einmal getrocknet worden ist, die Fähigkeit zur Absorption von Wasser und zur Wiederer­ langung der ursprünglichen Form um lediglich 5 bis 10% vermindert.

Daher ist es wichtig, ein Verfahren zu fin­ den, welches ausreichend getrocknetem Reis ein geeignetes Wasserabsorptionsvermögen verleiht.

Der hierin verwendete Ausdruck "vollständig gelatiniert" steht für den Zustand des Reises, bei dem die gesamte Stärke des Reises vollständig erweicht und in der Weise umgewandelt ist, daß der Reis in heißem Wasser quillt.

Der hierin angesprochene "Zyklus" umfaßt einen Wasser­ sprühvorgang gefolgt von einem Dampfsprühvorgang.

Die hierin angesprochene "Gelatinierung" steht für den Zustand von Reis nach dem Behandeln bei ei­ ner bestimmten Temperatur in einer ausreichenden Menge Feuchtigkeit, so daß die Stärke in dem Reis erweicht ist, strukturell abgebaut ist und in der Weise umgewandelt ist, daß der Reis in heißem Wasser quillt.

Der hier verwendete Begriff "Feuchtigkeit" steht für Was­ ser, Dampf oder eine Mischung aus Wasser und Dampf.

Die Ausdrücke "Dampf" oder "trockener Dampf" stehen für Wasserdampf (in der Gasphase), der keinerlei Wasserteil­ chen enthält. Dampf (trockener Dampf) zeigt eine Steige­ rung der Temperatur, wenn eine Wärmezufuhr bewirkt wird. Dampf, der Wasserteilchen enthält, wird hierin als "Naß­ dampf" bezeichnet.

Der hierin verwendete Begriff "Wasser" steht für Wasser in flüssiger Phase und schließt Wasser in der Gasphase, wie Dampf, nicht ein.

Es wurde nunmehr ein Verfahren zur Herstellung eines Schnellkochreises gefunden, mit dem die Hauptmenge des Kohlenhydrat- und Nährwertbestandteils beibehalten wird und bei dem die strukturelle Integrität des Reises beibehalten wird. In Abhängigkeit von der Art verwendeten Reises besitzt das mit Hilfe dieses neuen Verfahrens hergestellte Reisprodukt einen Stär­ kegehalt, der 15 bis 20% höher ist als der eines entsprechenden Reisprodukts, welches mit Hilfe eines herkömmlichen absatzweise geführten Verfahrens her­ gestellt worden ist. Der Reis, der mit Hilfe dieses neuen Verfahrens hergestellt worden ist, kann in etwa 3 bis 5 min durch Quellen in heißem Wasser gegart werden. Das neue erfindungsgemäße Verfahren ist auch wirtschaftlich, spart Energie und Zeit und ergibt ein Minimum an stärkehaltigem Abwasser. Das Ver­ fahren kann auch in einer geschlossenen Kammer durchgeführt werden, so daß eine unnötige Verschmutzung des Bereichs, in dem der Reis behandelt wird, ver­ mieden wird.

Die Erfindung betrifft ein kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von ge­ schältem Schnellkochreis durch Gelatinierung des Reises durch Besprühen mit Wasser und Dampf auf einen Feuchtigkeitsgehalt im Bereich von 24 bis 78 Gew.-%, wobei der Reis in einem Gelatinierungsabschnitt auf einem perforierten För­ derband an Wasser- und Dampfdüsen vorbeigeführt wird, und anschließendes Trocknen des gelatinierten Reises in einem Trocknungsabschnitt auf einen End­ feuchtigkeitsgehalt von 10 bis 14 Gew.-%, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man das Besprühen mit Wasser und Dampf entweder alternierend oder gleichzeitig so lange durchführt, bis die Temperatur des gelatinierten Reises im Bereich von 79 bis 100°C liegt, wobei trockener Dampf mit einer Temperatur im Bereich von 135 bis 160°C verwendet wird und die Temperatur des Wassers im Be­ reich von 10 bis 20°C liegt, und der gelatinierte Reis in noch heißem Zustand ge­ trocknet wird.

Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin­ dungsgemäßen Verfahrens, sowie das Produkt.

Die Erfindung wird im folgenden an Hand einer Zeichnung näher erläutert, in der zeigt

Fig. 1 eine Schnittansicht einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Durchführung des kontinuierlichen erfindungs­ gemäßen Verfahrens,

Fig. 2 eine Kurvendarstellung der Behandlungszeit zur Erzielung einer vollständigen Gelati­ nierung des Reises in Abhängigkeit von dem Gewichtsprozentsatz der Feuchtigkeit in dem Reis;

Fig. 3 eine Schnittansicht längs der Linie 3-3 der Fig. 1, die den Vortrocknungsabschnitt der in der Fig. 1 dargestellten Vorrichtung ver­ deutlicht; und

Fig. 4 eine Schnittansicht längs der Linie 4-4 der Fig. 1, die den Gelatinierungsabschnitt der in der Fig. 1 dargestellten Vorrichtung ver­ deutlicht.

Wenn Reis mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens be­ handelt wird, wird geschälter Reis verwendet. Beispiele für Reissorten, die erfindungsgemäß behandelt werden können, ohne daß hierdurch die Erfindung eingeschränkt werden soll, schließen weißen Reis, braunen Reis, Lang­ kornreis, Mittelkornreis, Kurzkornreis und Parboiledreis ein.

Wenngleich unbehandelter Reis bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzt werden kann, d. h. üblicherweise geschälter unvorbehandelter Reis, ist es bevorzugt, ei­ ner Rißbehandlung unterworfene (feine Risse aufweisende) Reiskörner zu verwenden. Ohne daß irgendwelche Einschrän­ kungen durch theoretische Annahmen verursacht werden sol­ len, wird angenommen, daß die Rißbildungsbehandlung oder die Erzeugung von feinen Rissen in dem Reis zur Folge hat, daß die Flüssigkeit schnell in die Körner eindringt. Das bevorzugte Verfahren zur Erzeugung dieser Risse be­ steht in einem Vorerhitzen des Reises. Dieses Vorerhit­ zen wird vorzugsweise in der Weise durchgeführt, daß man den Reis mit einem heißen Gas, wie beispielsweise Luft, Sauerstoff, Stickstoff etc. in Kontakt bringt. Das Aus­ maß der Vorerhitzung zur Erzeugung der Rißbildung hängt von der Reisqualität, beispielsweise seinem Stärkege­ halt ab. Das notwendige Ausmaß des Vorerhitzens zur Er­ zielung der Rißbildung ist empirisch und muß experimen­ tell ermittelt werden. Im allgemeinen liegt die Tempe­ ratur bei dem Vorerhitzen zwischen 110 und 150°C und vorzugsweise zwischen 130 und 140°C. Die Dauer des Vorerhitzens liegt zwischen 10 und 15 min und vorzugsweise zwischen 11 und 13 min.

Der entweder unbehandelte oder vorbehandelte Reis wird durch intermittierendes Besprü­ hen mit Wasser und Dampf vollständig gelatiniert, wobei ein bestimmter vorbestimmter Feuchtigkeitsgehalt erreicht wird. Wenn vorerhitzter Reis verwendet wird, wird der Reis noch in heißem Zustand besprüht.

Während des Sprühvorgangs wird eine gesteuerte Menge Wasser und Dampf verwendet, um den Reis vollständig zu gelatinieren.

Der Feuchtigkeitsgehalt des Reises bei der vollständigen Gelatinierung liegt zwischen 24 und 78 Gew.-%. Vorzugsweise erzielt man einen Feuchtigkeits­ gehalt zwischen 52 und 73 Gew.-% und noch bevorzugter einen Feuchtigkeitsgehalt zwischen 68 und 71 Gew.-%.

Die für den vollständig gelatinierten Reis erreichte Temperatur liegt zwischen 79 und 100°C. Vor­ zugsweise erreicht man eine Temperatur des gelatinierten Reises zwischen 87 und 95°C, wobei es noch bevorzugter ist, eine Temperatur zwischen 90 und 93°C zu erreichen.

Das Besprühen des Reises mit Was­ ser und Dampf kann gleichzeitig unter Verwendung von Naßdampf oder mit Hilfe eines oder mehrerer Zyklen mit Sprühvorgängen mit Wasser und Dampf (wobei ein Zyklus einen Sprühvorgang mit Wasser und einen Sprühvorgang mit Dampf umfaßt) entweder alternierend oder gleichzei­ tig, wobei die alternierende Sprühbehandlung bevorzugt ist, erreicht werden. Jeder einzelne Sprühvorgang mit Wasser erstreckt sich zwischen 5 und 40 s, vorzugsweise zwischen 10 und 40 s. Die Temperatur des verwendeten Wassers liegt zwischen 10 und 20°C. Als Wasser kann man Leitungswasser und destilliertes Wasser verwenden. Man kann sowohl hartes als auch weiches Wasser einsetzen.

Die Anzahl der Sprühbehandlungszyklen bei der Verarbei­ tung von Reis nach dem erfindungsgemäßen Verfahren kann zwischen etwa 3 und etwa 7 liegen. Die tatsächliche An­ zahl der Sprühzyklen hängt von dem Stärkegehalt des Reises ab. Italienischer Reis besitzt beispielsweise einen Stärkegehalt zwischen 85 und 87 Gew.-% und wird vorzugsweise mit fünf Zyklen behan­ delt. Amerikanischer Reis besitzt andererseits einen Stärkegehalt zwischen 87 und 90 Gew.-% und wird vorzugsweise fünf oder sechs Zyklen längerer Sprüh- und Dampfbehandlungen unterworfen.

Das Besprühen des Reises kann unter Anwendung alternie­ render getrennter Sprühvorgänge mit Wasser und Dampf oder unter Anwendung von Naßdampf bewirkt werden.

Der beim Behandeln verwendete Dampf sollte einen Druck zwischen 3,7 und 5,9 bar und eine ent­ sprechende Temperatur zwischen 135 und 160°C aufweisen. Jeder einzelne Sprühvorgang mit Dampf dauert zwischen 0,5 und 4 min und vorzugsweise zwischen 1 und 3 min.

Ein typisches Schema bei der Sprühbehandlung von Reis mit Wasser und Dampf ist das folgende: zunächst wird Wasser während 10 bis 30 s (beispielsweise etwa 15 s) auf den Reis aufge­ sprüht, wonach sich ein Dampfsprühvorgang zwischen 0,25 und 3 min (beispielsweise etwa 2 min) anschließt. Dieser Zyklus des Besprühens von Reis mit Wasser und Dampf wird bis zu etwa 7mal wieder­ holt, in Abhängigkeit von der Art des verwendeten Reises, der Dauer der Sprühvorgänge, der Temperatur der Sprühme­ dien etc., bis der Reis vollständig gelatiniert ist.

Die Gesamtkontaktdauer zwischen den intermittierenden Sprühbehandlungen des Reises mit Dampf und Wasser liegt zwischen 2 und 26 min, vorzugswei­ se zwischen 2 und 20 min und noch bevorzugter zwischen 3 und 17 min. Bevorzugt bewirkt man das Besprühen des Reises mit Was­ ser und Dampf in der Weise, daß der Reis auf einem be­ wegten perforierten Bett oder Förderband vorliegt, wo­ bei der Sprühstrahl den Reis entweder von oben oder von unten oder sowohl von oben als auch von unten erreicht. Vorzugsweise sollte die Dicke der Reisschicht auf dem Förderband oder dem Bett zwischen 3 und 10 mm und noch bevorzugter zwischen 5 und 7 mm liegen. Das Besprühen kann zur Vermeidung von Ver­ unreinigungen in einer geschlossenen Kammer durchge­ führt werden.

Der Reis kann auch unter Anwen­ dung alternierender Stoßbehandlungen mit Wasser, Dampf und Wärme besprüht werden. In diesem Fall wird der Reis alternierend mit Wasser und Dampf besprüht, dann erhitzt, dann mit Wasser und Dampf besprüht, dann erhitzt usf. bis zu einer entsprechenden Anzahl von Zyklen des Besprühens mit Wasser und Dampf und des Erhitzens.

Es ist bevorzugt, das Besprühen in der Weise zu bewirken, daß der Reis auf einem perforierten Bett oder Förderband be­ wegt wird, so daß die Sprühmedien den Reis entweder von oben oder von unten oder sowohl von oben als auch von unten erreichen können.

Das Besprühen des Reises kann zur Vermeidung von Verunreinigungen in einer geschlossenen Kammer durchgeführt werden.

Die Gelatinierung kann während des Besprühens vollständig bewirkt werden. In sel­ tenen Fällen kann die Gelatinierung in geringem Umfang auch bei der sich anschließenden Trocknungsbehandlung er­ folgen. Es ist jedoch bevorzugt und angestrebt, die ge­ samte Gelatinierung während der Sprühbehandlung zu bewir­ ken.

Die Gesamtmenge der dem Reis zuge­ führten Feuchtigkeit hängt von verschiedenen Variablen ab, wie der Art und des Typs des Reises, dem Druck und der Temperatur des Dampfs, der Tem­ peratur des Wassers, der Behandlungsdauer (Kontaktzeit) und dem Gewicht und der spezifischen Oberfläche des Rei­ ses die mit dem Behandlungsmate­ rial in Kontakt gebracht wird. Die Zeitdauer zur Er­ zielung einer vollständigen Gelatinierung hängt neben an­ deren Variablen von der Qualität des Reises ab, beispielsweise seinem Kohlenhydratgehalt.

Die Dampfbehandlungszeit während des Sprühvorgangs hängt von der Dicke der zu behandelnden Reisschicht ab. Je ge­ ringer die Dicke ist, um so kürzer ist die Behandlungs­ dauer. Während des Dämpfens kann die Dicke der Reis­ schicht sich durch Quellen vergrößern.

Nach dem Besprühen des Reises mit Wasser und Dampf wird der Reis, der nunmehr vollständig gelatiniert ist und einen Feuchtigkeitsgehalt zwischen 24 und 78 Gew.-%, beispielsweise etwa 70 Gew.-%, und eine Temperatur zwischen 79 und 100°C, beispiels­ weise etwa 90°C aufweist, noch in heißem Zustand getrock­ net.

Dieses Trocknen kann in der Weise erreicht werden, daß man den Reis auf dem bewegten Bett einem Trocknungsabschnitt zuführt. Es ist wichtig, daß bei der Handhabung des Reises zwischen dem Sprühvorgang und dem Trocknungsvorgang der Reis nicht gerührt oder be­ wegt wird, um zu verhindern, daß er eine klebrige Masse bildet.

Während des Trocknungsvorgangs wird der Feuchtigkeitsge­ halt des gelatinierten Reises auf eine Endfeuchtigkeit zwischen 10 und 14 Gew.-% vermindert.

Vorzugsweise bewirkt man das Trocknen in zwei Stufen, nämlich einer Vortrocknung und einer Endtrocknung. Die Vortrocknung umfaßt das Vermindern des Feuchtigkeitsgehalts auf 25 bis 35 Gew.-%, während das Endtrocknen darin besteht, den Feuchtigkeitsgehalt auf zwischen 10 und 14 Gew.-% zu bringen. In dieser Weise kann ein Vor­ trocknungsabschnitt bei einer Temperatur zwischen 100 und 140°C betrieben werden bei einer Trock­ nungsdauer zwischen 2 und 3 min. Der Endtrocknungsabschnitt kann bei einer Temperatur zwischen 50 und 70°C bei einer Trocknungsdauer zwischen 20 und 30 min betrieben wer­ den.

Das Trocknen kann in irgend­ einer geeigneten Weise bewirkt werden, beispielsweise in einem Trocknungstunnel. Verfahren zur Durchführung die­ ses Trocknungsvorgangs umfassen die Anwendung von Heiß­ luft, von indirekten Wärmeaustauschern (Dampf-Wärmeaus­ tauscher), Mikrowellenöfen, elektrischen Widerstandsheiz­ öfen, Brennerheizeinrichtungen etc. Während der Trocknung sollte Sorge dafür getragen werden, die Außenhärtung des Reises zu vermeiden.

Wenn Heißluft verwendet wird, beträgt die optimale Ge­ schwindigkeit der Luft während der Vortrocknungsstufe et­ wa 125 m/min bei einem anwendbaren Bereich von 100 bis 140 m/min. In der Endtrocknungs­ stufe beträgt die optimale Geschwindigkeit etwa 90 m/min bei einem anwendbaren Bereich zwischen 75 und 110 m/min. Nach der Trocknung kann man den Reis in einen Temperabschnitt (Kühl­ abschnitt) einführen. In dem Temperabschnitt kann man Kalt­ luft mit einer Temperatur zwischen 25 und 30°C anwenden. Nach dem Tempern kann der fertiggestellte Schnellkochreis der Verpackung oder Lagerung zugeführt werden.

Wie in der Fig. 1 näher dargestellt ist, in der gleiche Teile mit gleichen Bezugsziffern bezeichnet sind, wird nichtvorerhitzter oder vorerhitzter Reis, der schematisch mit der Bezugsziffer 10 bezeichnet ist, über einen Einfülltrichter 14 in die Vorrichtung 12 zur Herstellung von Schnellkochreis einge­ führt. Der Pfeil 11 weist auf die Einfüllstelle hin. Mit Hilfe des Einfülltrichters 14 wird der Reis 10 auf ein perforiertes Förderband 16 aus rostfreiem Stahl aufgebracht. Das Förderband 16 bewegt sich über die Räder 18 und 20. Ein mit einem Antriebsrie­ men 24 versehener Elektromotor 22 treibt das Rad 20 an, das seinerseits das Förderband 16 bewegt.

Während der Bewegung mit Hilfe des Förderbands 16 wird der Reis 10 alternierend mit Was­ ser aus den Sprüheinrichtungen 26 und Dampf aus den Sprüh­ einrichtungen 28, die sowohl oberhalb als auch unterhalb des Förderbands 16 in dem Gelatinierabschnitt 30 angeord­ net sind, in Kontakt gebracht. Die Abluftöffnung 32 in der oberen Wand des Gelatinier­ abschnitts 30 ermöglicht die Abfuhr des Dampfes. Der Auslaß 34 in der Bodenwandung des Gelatinierabschnitts 30 ermöglicht das Abziehen des Wassers.

Nach dem Kontakt mit Wasser und Dampf wird der Reis 10 in einen Vortrocknungsabschnitt 36 gefördert. Heißluft wird über den Gasverteiler 38 in dem Vortrocknungsabschnitt 36 verteilt. Die Abluftöff­ nung 40 in der oberen Wandung des Vortrocknungsabschnitts 36 ermöglicht das Austreten der heißen Gase. Der Auslaß 42 in der Bodenwandung des Vortrocknungsabschnitts 36 er­ möglicht das Abziehen des Kondensats.

Nach der Vortrocknung wird der Reis 10 durch den Trichter 44 geführt und auf das För­ derband 46 in dem Trocknungstunnel 48 abgeschieden. Das Förderband 46 bewegt sich über die Räder 50 und 52. Ein Elektromotor 54 treibt über einen Treibriemen 56 das Rad 50 an, welches seinerseits das Förderband 46 bewegt. Wenngleich es in der Zeichnung nicht dargestellt ist. Kann der Trocknungstunnel 48 mehrere Trocknungsabschnit­ te aufweisen, wobei jeder Abschnitt mit Hilfe einer ge­ trennten Wärmequelle erhitzt wird, beispielsweise mit Hilfe des dargestellten indirekten Wärmeaustauschers 58. In dem Wärmeaustauscher 58 fließt Dampf oder heißes Was­ ser von der Einfüllöffnung 60 zu der Austrittsöffnung 62.

Der letzte Abschnitt des Trocknungstunnels 48 umfaßt ei­ nen Kühlabschnitt 64. Der Reis 10 wird am Auslaß 66 aus dem Kühlabschnitt 64 ausgetragen. Der fertig behandelte Schnellkochreis 10 ist dann zum Transport zur Verpackungs- und/oder Lagerungseinrichtung fertiggestellt.

Die Fig. 3 verdeutlicht den Vortrocknungsabschnitt 36 im Detail. Die umgebende Luft 68 wird mit Hilfe eines Geblä­ ses 70 über die Leitung 72 einer Heizeinrichtung 74 zuge­ führt, beispielsweise einem elektrischen Widerstandsofen oder einem Wärmeaustauscher. Die aus der Heizeinrichtung 74 austretende Heißluft wird dann über die Leitung 78 ei­ nem Verteiler 76 zugeführt. Der Verteiler 76 ist unter­ halb des Reises 10 auf dem Förderband 16 angeordnet.

Die Fig. 4 verdeutlicht den Gelatinierungsabschnitt 30 genauer. Die oberhalb des Reises 10 auf dem Förderband 16 angeordneten Sprühdüsen 80 und 82 werden über die Leitung 84 mit Wasser und/oder Dampf versorgt. Über die Leitung 86 wird Dampf der Leitung 84 zugeführt. Die Strömungsmenge des Dampfs in der Leitung 86 wird mit Hilfe des Ventils 88 gesteuert. Das Wasser strömt über die Leitung 90 in die Leitung 84 ein, wobei die Strömungsmenge des Wassers in der Leitung 90 mit Hil­ fe des Ventils 92 gesteuert und mit Hilfe der Strömungs­ meßeinrichtung 94 gemessen wird. Das Absperrventil 96 verhindert, daß Dampf aus der Leitung 86 in die Wasser­ leitung 90 eindringt.

Die unterhalb des Reises 10 auf dem Förderband 16 angeordnete Sprühdüse 98 wird über die Lei­ tung 100 mit Wasser und/oder Dampf versorgt. Der Dampf strömt über die Leitung 102 in die Leitung 100 ein. Die Dampfmenge in der Leitung 102 wird mit Hilfe des Ventils 104 gesteuert. Das Wasser wird über die Leitung 106 in die Leitung 100 eingespeist. Die Strömungsmenge des Was­ sers in der Leitung 106 wird mit Hilfe des Ventils 108 gesteuert und mit Hilfe der Strömungsmeßeinrichtung 110 gemessen. Das Absperrventil 112 verhindert das Eindrin­ gen von Dampf aus der Leitung 102 in die Wasserleitung 106.

Die Erfindung ist besonders vorteilhaft dadurch, daß ein überlegenes Schnellkochreisprodukt erhalten werden kann. Das erhaltene Reisprodukt muß, um für den Verzehr geeignet zu sein, nicht in der üblichen Weise während längerer Zeitdauern in siedendem Wasser gekocht werden. Das mit Hilfe des er­ findungsgemäßen Verfahrens erhaltene Reisprodukt benötigt lediglich eine Quellzeit von einigen wenigen Minuten (3 bis 5 min) in heißem Wasser, be­ vor es serviert werden kann. Weiterhin ist das mit Hil­ fe des erfindungsgemäßen Verfahrens erhaltene Reisprodukt nahrhafter als die mit Hilfe der herkömm­ lichen Verfahren erhaltenen Produkte dadurch, daß die Hauptmenge der Proteine, Mineralstoffe, Fettbestandtei­ le und Stärken in dem Reis erhalten bleiben und nicht während der Behandlung verlorengehen. Bei herkömmlichen Verfahren, bei denen eine relativ lan­ ge Kochzeit notwendig ist, lösen sich diese wertvollen Nährstoffe in dem Kochwasser und gehen dadurch verloren.

Im Vergleich zu herkömmlichen Verfahren zur Herstellung von Schnellkochreis besitzt das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil, daß es weniger Zeit, Energie und Arbeitsaufwand benötigt. Darüber hin­ aus ist das erfindungsgemäße Verfahren umweltfreundli­ cher als herkömmliche Verfahren und läßt sich wirtschaft­ licher durchführen.

Beispiele 1 bis 3

Man bringt eine Reisschicht, die auf einem perforierten Stahlboden einer nichtisolierten Kammer vorliegt, mit Naßdampf in Kontakt. Dieser Naßdampf wird über Düsen auf­ gesprüht, die sowohl oberhalb als auch unterhalb der Reisschicht angeordnet sind.

Nach dem Besprühen des Reises mit Naßdampf wird der Reis durch Vortrocknen des heißen Materials während 1 bis 2 min bei 120°C getrocknet. Dann wird der Reis vor­ sichtig gewendet und während etwa 10 bis 30 min bei 60 bis 65°C nachgetrocknet. Um die Bildung einer klebri­ gen Masse zu verhindern, muß das überschüssige Wasser schnell entfernt werden. Zur Erzielung dieser Trocknung wird Luft mit einer hohen Geschwindigkeit von etwa 100 m/min verwendet. Die in den Beispielen 1 bis 3 angewand­ ten Bedingungen sind in der nachfolgenden Tabelle I zu­ sammengestellt. Die Ergebnisse der Beispiele 1 bis 3 sind gut. Bei jedem Beispiel wird der Reis vollständig gelatiniert.

Die Bestimmung des Wassergehalts des fertigen trockenen Reisprodukts wird unter Anwendung einer Sauter-Waage durchgeführt, bei der oberhalb der Waagenschale eine Infrarotlampe angeordnet ist, wie es an sich gut be­ kannt ist. Dann wird eine 10-g-Probe des Reises auf der Waage eingewogen und es wird die Lampe während einer Zeitdauer von etwa 10 min eingeschaltet. Nach Ablauf der 10minütigen Behandlung wird die Probe erneut gewogen, wobei die Gewichtsdifferenz dem Wasserverlust entspricht.

Beispiele 4 bis 15

Bei diesen Beispielen 4 bis 15 wird eine halbtechnische Anlage, die im Prinzip der in der Fig. 1 dargestellten Vorrichtung entspricht, verwendet. Bei den Beispielen 4 bis 15 werden Wasser und Dampf getrennt alternierend und progressiv von getrennten Öffnungen auf den Reis ge­ sprüht.

Bei den Beispielen 5 bis 9 ergibt sich, daß der gelati­ nierte Reis vor dem Trocknen einen Feuchtigkeitsgehalt zwischen etwa 65 und 70 Gew.-% aufweist. Bei den Bei­ spielen 10 bis 12 variiert der Feuchtigkeitsgehalt des Reises nach dem Gelatinieren zwischen 62 und 70 Gew.-%. Bei den Beispielen 13 bis 15 beträgt der Feuchtigkeits­ gehalt des Reises nach dem Gelatinieren zwischen etwa 63 und 70 Gew.-%. Die Gelatinierungsbedingungen der Bei­ spiele 4 bis 15 sind in der nachfolgenden Tabelle II zu­ sammengestellt. Die sich anschließende Tabelle III ver­ deutlicht die Vortrocknungs- und Nachtrocknungsbedingun­ gen und die Ergebnisse der Beispiele 4 bis 15.

Bei den Beispielen 13 bis 15 wird unbehandelter Reis als Ausgangsmaterial verwendet, d. h. üblicher, geschälter, weißer Reis, der nicht vorerhitzt worden ist. Die Bei­ spiele 13 bis 15 lassen deutlich erkennen, daß das er­ findungsgemäße Verfahren gut mit dieser Art von Reis durchgeführt werden kann, wenngleich die Behandlungsdauer länger und der Verlust an Stärkematerial größer ist.

Es hat sich gezeigt, daß die Zeit zur Erzielung einer vollständigen Gelatinierung neben anderen Variablen von der Reisqualität abhängt. Die Fig. 2 gibt eine Kurven­ darstellung wieder, in der die Behandlungszeit zur Er­ zielung der vollständigen Gelatinierung in Abhängigkeit von dem Gewichtsprozentsatz der Feuchtigkeit in dem Reis dargestellt ist. Im Hinblick auf die Fig. 2 ergibt sich die Zeit von Punkt A zu Punkt B und von Punkt B zu Punkt C für verschiedene Arten von Reis, unter der Vorausset­ zung, daß eine konstante Temperatur zwischen etwa 90°C und etwa 93°C aufrechterhalten wird, wie folgt:

Wenn die Behandlungszeit über den Punkt C hinaus verlän­ gert wird, wird der Reis zerstört, so daß er seine Form und seine Konsistenz verliert.

Die Dampfbehandlungszeit hängt ebenfalls von der Dicke der Reisschicht auf dem perforierten Bett ab. Bei den Beispielen 4 bis 15 beträgt die Schichtdicke 5 mm und vergrößert sich während des Gelatinierungsprozesses auf 25 mm. Dies ist eine Folge des Quellens der Reiskörner.

Wenngleich man Reis beliebiger Qualität bei dem erfin­ dungsgemäßen Verfahren verwenden kann, erzielt man die besten Ergebnisse bei der Verwendung von 3-Minutenreis, da der Dampf schnell die Außenschicht durchdringt und das Gelatinieren im Inneren des Reiskorns bewirkt. 3-Mi­ nutenreis benötigt auch die kürzeste Dampfbehandlungs­ zeit. Das am besten kaufähige und temperaturstabile Pro­ dukt erhält man jedoch unter Anwendung von normalem, ge­ schältem, weißem Langkornreis, der nicht vorerhitzt wor­ den ist.

Tabelle II

Claims (23)

1. Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von geschältem Schnell­ kochreis durch Gelatinierung des Reises durch Besprühen mit Wasser und Dampf auf einen Feuchtigkeitsgehalt im Bereich von 24 bis 78 Gew.-%, wobei der Reis in einem Gelatinierungsabschnitt auf einem perforierten Förderband an Wasser- und Dampfdüsen vorbeigeführt wird, und an­ schließendes Trocknen des gelatinierten Reises in einem Trocknungsab­ schnitt auf einen Endfeuchtigkeitsgehalt von 10 bis 14 Gew.-%, dadurch gekennzeichnet, daß man das Besprühen mit Wasser und Dampf entwe­ der alternierend oder gleichzeitig so lange durchführt, bis die Temperatur des gelatinierten Reises im Bereich von 79 bis 100°C liegt, wobei trockener Dampf mit einer Temperatur im Bereich von 135 bis 160°C verwendet wird und die Temperatur des Wassers im Bereich von 10 bis 20°C liegt, und der gelatinierte Reis in noch heißem Zustand getrocknet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man den Reis vor dem Besprühen einer Rißbildungsbehandlung unterwirft.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Riß­ bildungsbehandlung des Reises darin besteht, ihn vor dem Besprühen während einer Zeitdauer zwischen 10 und 15 min auf eine Temperatur zwischen 110 und 150°C zu erhitzen.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das Besprühen mit Wasser und Dampf durch die Verwendung von Naßdampf bewirkt.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das alternierende Besprühen des Reises mit sowohl Wasser als auch Dampf während einer Gesamtdauer von zwischen 2 und 26 min durchführt.

6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man beim Trocknen des gelatinierten Reises den Reis auf einen Feuchtigkeits­ gehalt zwischen 25 und 30 Gew.-% vortrocknet.

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man zu­ nächst den Reis in Form einer Schicht mit einer Dicke zwischen 3 und 10 mm auf das Förderband aufbringt.

8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Feuchtigkeitsgehalt des gelatinierten Reises vor dem Trocknen zwischen 52 und 73 Gew.-% liegt.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Feuchtigkeitsgehalt zwischen 68 und 71 Gew.-% liegt.

10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Tem­ peratur des gelatinierten Reises vor dem Trocknen zwischen 87 und 95°C liegt.

11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur zwischen 90 und 93°C liegt.

12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man den Reis von beiden Seiten des Förderbands mit Wasser und Dampf behandelt.

13. Schnellkochreis, hergestellt nach dem Verfahren nach einem der An­ sprüche 1 bis 12.

14. Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung eines Schnellkochrei­ ses nach den Ansprüchen 1 bis 12, mit einer selektiv verschließbaren Kammer, einem in der Kammer angeordneten, porösen Förderband (16) zur Aufnahme des Reises mit mindestens einer Gruppe von Düsen (26, 28), wobei jede Gruppe von Düsen eine Wasserdüse (26) neben einer Dampfdü­ se (28) zum Aufsprühen von Wasser und Dampf auf den Reis umfaßt, und mit Einrichtungen (36, 48) zum Trocknen des besprühten Reises.

15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe der Düsen (26, 28) oberhalb des Bandes angeordnet ist.

16. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe der Düsen (26, 28) unterhalb des Bandes angeordnet ist.

17. Vorrichtung nach Anspruch 14, gekennzeichnet durch mindestens zwei Gruppen von Düsen (26, 28), wobei mindestens eine Gruppe von Dü­ sen oberhalb des Bandes und mindestens eine Gruppe von Düsen unter­ halb des Bandes angeordnet ist.

18. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum Trocknen eine Vortrocknungseinrichtung und eine Nachtrocknungseinrichtung umfassen.

19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Vortrocknungseinrichtung (36) eine Einrichtung zum Trocknen des be­ sprühten Reises mit Heißluft umfaßt.

20. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Nachtrocknungseinrichtung (48) eine Einrichtung zur Trocknung des be­ sprühten Reises mit Heißluft umfaßt.

21. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Nachtrocknungseinrichtung eine Einrichtung zum Trocknen (58) des be­ sprühten Reises durch indirekten Wärmeaustausch umfaßt.

22. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine nach den Einrichtungen zum Trocknen (36, 48) angeordnete Kühlein­ richtung (64) umfaßt.

23. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Förderband (16) aus perforiertem rostfreiem Stahl besteht.