DE1622298B2 - Vorbeschichtete Offset-Druckplatte - Google Patents

Vorbeschichtete Offset-Druckplatte

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DE1622298B2
DE1622298B2 DE1622298A DEP0043921A DE1622298B2 DE 1622298 B2 DE1622298 B2 DE 1622298B2 DE 1622298 A DE1622298 A DE 1622298A DE P0043921 A DEP0043921 A DE P0043921A DE 1622298 B2 DE1622298 B2 DE 1622298B2
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Germany
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Francis Peter Basking Ridge N.J. Alles (V.St.A.)
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine vorbeschichtete Offset-Druckplatte gemäß Oberbegriff des Anspruchs.
Aus der GB-PS 7 41 441 sowie der DE-AS 11 94 707 sind Reliefbilder und Reliefdruckformen bekannt, die sich durch eine beträchtliche Dicke der die Druckform ausmachenden Polymerisatschicht auszeichnen und dementsprechend nicht für lithographische Zwecke, sondern nur für Druckarten verwendet werden können, bei denen ein ausgesprochener Höhenunterschied zwischen druckenden und nichtdruckenden Flächen erforderlich ist. Für den Offsetdruck hingegen ist es nötig, sehr viel dünnere Bereiche des Polymerisatbildes zu erzeugen, die sich nach dem Auswaschen nur durch den hydrophilen bzw. oleophilen Charakter unterscheiden.
Für solche Offset-Druckplatten ist daher die absolut saubere und vollständige Entfernung der nichtpolymerisierten Bildbereiche durch das Auswaschen dringende Voraussetzung. Bei den Druckformen gemäß dem Stand der Technik ist dies nicht notwendig, denn dort kommt es praktisch nur auf die saubere Ausbildung der obersten Schichtlage des Reliefbildes an.
Es war auch bereits bekannt, photopolymerisierbare Schichten mit einer transparenten Schutzschicht zu versehen, die nach der Belichtung entfernt wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, vorbeschichtete Offset-Druckplatten anzugeben, die an Luft nur kurze Belichtungszeiten aufweisen und die nach der Entwicklung mit Wasser oder wäßrigen Lösungen einwandfreie oleophile Bildbereiche aufweisen.
Es wurde gefunden, daß es möglich ist, vorbeschichtete Offset-Druckplatten auf Basis photopolymerisierbarer Schichten herzustellen, bei denen die oleophile Beschaffenheit der polymerisierten Bildbereiche völlig erhalten bleibt, obwohl sie vorher mit einer durchgängig anhaftenden festen transparenten sauersioffundurch-
H) lässigen Schutzschicht abgedeckt waren und diese Schutzschicht wegen der Wasserdurchlässigkeit sicherlich auch eine gewisse Hydrophilie besitzen muß.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist somit eine vorbeschichtete Offsetdruckplatte bestehend in der
η Reihenfolge aus
1. einem Schichtträger,
2. einer photopolymerisierbaren Schicht mit einem Schichtgewicht von 1 bis 90 mg/dm2 im trockenen Zustand, enthaltend
a) mindestens eine nicht-gasförmige äthylenisch ungesättigte, beim Normaldruck oberhalb 1000C siedende Verbindung mit wenigstens 2 endständigen äthylenischen Gruppen, die befä-
>■> higt ist, durch photoinitiierte Additionspolymerisation ein Polymeres zu bilden,
b) einen durch aktinisches Licht aktivierbaren Additionspolymerisationskatalysatorund
c) ein organisches polymeres Bindemittel,
3. einer anhaftenden festen transparenten sauerstoffundurchlässigen Schutzschicht,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht ein Schichtgewicht von 2 bis 30 mg/dm2 hat, nicht als
i"> selbsttragender Film abziehbar ist, homogen und undurchlässig gegen Sauerstoff, aber wasserdurchlässig ist und aus mindestens einem makromolekularen organischen Polymeren besteht, das bei 20°C in Wasser oder einer Mischung von Wasser mit einem mit diesem
At) mischbaren organischen Lösungsmittel mit einem Wassergehalt von mindestens 50 Vol.-% löslich ist und daß das in der photopolymerisierbaren Schicht vorliegende organische makromolekulare Bindemittel seitlich angeordnete wasserlösliche Salzgruppen enthält.
■Ti Vorteilhafte Ausgestaltungen bestehen darin, daß die äthylenisch ungesättigte Verbindung wasserunlöslich ist und die Schicht (3) eine oberflächenaktive Substanz enthält. In der photopolymerisierbaren Schicht wird vorzugsweise ein mehrringiger, durch aktinisches Licht
w aktivierbarer und bei oder unterhalb 185°C inaktiver Chinonkatalysator eingesetzt.
Nach einer weiteren Ausführuhgsform ist das Bindemittelpolymere ein Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Mischpolymeres oder ein Styrol/Itacon-
T) säure-Mischpolymerrs. Die Bestandteile a) und c) sollen insbesondere in Gewichtsmengen entsprechend einem Verhältnis von 10 bis 60 und 90 bis 40 vorliegen.
Besonders bewährt hat es sich, wenn die anhaftende Schutzschicht (3) Polyvinylalkohol, 88 bis 99 Gew.-°/o
hii hydrolysiertes Polyvinylacetat, Gelatine, Gummiarabicum oder Polyvinylpyrrolydon und vorzugsweise Triäthylenglykol und/oder eine oberflächenaktive Substanz der Formel
0(CII2CI I2O)1,.,„II
enthält.
Zur Durchführung des Verfahrens der Photopolymerisation arbeitet man unter bildweiser Belichtung des Materials mit aktinischem Licht unter Ausbildung eines unlöslichen Polymerisatbildes in den belichteten Bereichen der photopolymerisierbaren Schicht und entfernt die Schutzschicht gemeinsam mit den unterbelichteten Bereichen der Schicht mit Hilfe eines sie lösenden, wäßrigen Lösungsmittels, das vorzugsweise eine Mischung von 2-n-Butoxyäthanol, Trinatriumphosphat und Wasser ist und außerdem eine oberflächenaktive ι ο Substanz enthält Zweckmäßig entfernt man zuerst die Schutzschicht und erst anschließend die unbelichteten Bereiche.
Besonders gute Ergebnisse erzielt man, wenn das organische makromolekularische Bindemittel entsprechend c) seitlich angeordnete, wasserlösliche Salzgruppen enthält Als polymere Bindemittel kommen beispielsweise Polymere von 95 Gew.-% Methylmethacrylat und 5 Gew.-% Itaconsäure, außerdem die die Säuregruppen enthaltenden organischen Polymeren, >o einschließlich der Additionsmischpolymeren entsprechend den Angaben der US-PS 28 93 868 in Frage, die beispielsweise seitlich angeordnete freie Säuregruppen, wie Sulfonsäure, Carbonsäure und Phosphorsäuregruppen enthalten. Durch Neutralisation der Polymeren 2^ vor der Veresterung werden die freien Säuregruppen in Salzgruppen verwandelt. Die erhaltenen Schichten haben den wesentlichen Vorteil, daß sie durch ein wäßriges Lösungsmittel entsprechend dem nachstehenden Beispiel oder anderen alkalifreien Lösungsmitteln entfernt werden können. Geeignete Säure neutralisierende Substanzen enthalten eine Base, beispielsweise ein Alkalihydroxid, wie Natrium- oder Kaliumhydroxid oder entsprechende Carbonate oder analoge Ammoniumverbindungen; außerdem kommen in Frage: η substituierte Ammoniumbasen, wie Tetrarnethylammoniumhydroxid und Tetraäthylammoniumhydroxid sowie organische Amine, wie Äthanolamin, Äthylendiamin, Diäthylentriamin, 2-Amino-2-hydroxymethyl-1,3-propandiol, 1,3-Diaminopropanol-2und Morpholin. κι
Das nachstehende Beispiel veranschaulicht die Erfindung. Alle Mengenangaben sind, soweit nichts anderes angegeben, als Gewichtsangaben anzusehen.
Beispiel
•Ti
Durch Beschichten einer gekörnten Aluminiumplatte, die mit einer wäßrigen Natriumsilikatlösung vorbehandelt worden war, wurde ein fotopolytnerisierbares Material hergestellt. Aufgebracht wurde eine Lösung in Methyläthylketon/Isopropanol im Verhältnis 3:1, die in 20% Feststoffe nachstehender Zusammensetzung enthielt und die mit Natriumhydroxyd unter Verwendung von Phenolphthalein als Indikator neutralisiert worden war:
Polymeres von 90 Teilen Styrol
und 10 Teilen Itaconsäure 53,8%
Pentaerythrittriacrylat,
enthaltend
0,4% p-Methoxyphenol als
thermischen Inhibitor, 44,1 %
tert-Butylanthrachinon 2,0%
ungefähres Schichtgewicht,
Feststoffe 87 mg/dm2
Nach dem Trocknen wurde das Material 1 Minute auf 130° erhitzt und abgekühlt Die fotopolymerisierbare Schicht wurde mit einer 3%igen wäßrigen Polyvinylalkohollösung (mittlere Viskosität, zu 99% verseift) überschichtet, die 2 Gew.-% eines Polyoxyäthylen-oberflächenaktiven Mittels der Formel I:
ChH17-
C-(CH2CH2CV10H (I)
enthielt.
Das Schichtgewicht der fotopolymerisierbaren Schicht lag bei 86 mg/dm2. Das Polyvinylalkohol-Schichtgewicht betrug 12 mg/dm2.
Das Material wurde 30 Sek. durch ein Negativ belichtet; als Negativ diente ein 2!stufiger, lithografischer Belichtungskeil. Belichtet wurde in einem Vakuumrahmen mit einer handelsüblichen Kohlenbogenlampe in Abstand von 43,2 cm, wobei mit 45 bis 50 Amperes und 1200 W unter Ausbildung einer vollen Sieben gearbeitet wurde, d. h. die ersten sieben Stufen waren ausreichend polymerisiert, um der Entfernung durch die Entwicklung zu widerstehen.
Die Platte wurde durch Auswaschen der nichtbelichteten Teile des Überzugs mit einem Entwickler nachstehender Zusammensetzung entwickelt, der alkalifrei war:
5 ml 2-n-Butoxyäthanol,
1 ml Polyoxyäthylen-oberflächenaktives
Mittel der Formel I,
94 ml Wasser.
Das Material wurde mit der Entwicklerlösung überdeckt und 30 Sek. einweichen gelassen. Die gesamte Schutzschicht wurde gemeinsam mit den nicht belichteten Flächen der fotopolymerisierbaren Schicht durch Reiben mit einem Schwamm entfernt, die entwickelte Platte mit Wasser gespült und getrocknet; dann wurde die getrocknete Platte 5 Min. in einem Vakuumrahmen mit der vorstehend beschriebenen Belichtungsquelle nachbelichtet. Bei Verwendung einer üblichen schwarzen Druckfarbe konnten mit der erhaltenen Druckform mindestens 2000 gute Abdrucke gewonnen werden, ohne daß ein wesentlicher Verschleißauftrat.

Claims (3)

Patentanspruch: Vorbeschichtete Offset-Druckplatte bestehend in der Reihenfolge aus:
1. einem Schichtträger,
2. einer photopolymerisierbaren Schicht mit einem Schichtgewicht von 1 bis 90 mg/dm2 im trockenen Zustand, enthaltend
a) mindestens eine nicht-gasförmige äthylenisch ungesättigte, beim Normaldruck oberhalb 1000C siedende Verbindung mit wenigstens 2 endständigen äthylenischen Gruppen, die befähigt ist, durch photoinitiierte Additionspolymerisation ein Polymeres zu bilden,
b) einen durch aktinisches Licht aktivierbaren Additionspolymerisationskatalysatorund
c) ein organisches polymeres Bindemittel,
3. einer anhaftenden festen transparenten sauerstoffundurchlässigen Schutzschicht,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht ein Schichtgewicht von 2 bis 30 mg/dm2 hat, nicht als selbsttragender Film abziehbar ist, homogen und undurchlässig gegen Sauerstoff, aber wasserdurchlässig ist und aus mindestens einem makromolekularen organischen Polymeren besteht, das bei 2O0C in Wasser oder einer Mischung von Wasser mit einem mit diesem mischbaren organischen Lösungsmittel mit einem Wassergehalt von mindestens 50 Vol.-°/o löslich ist und daß das in der photopolymerisierbaren Schicht vorliegende organische makromolekulare Bindemittel seitlich angeordnete wasserlösliche Salzgruppen enthält.
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Families Citing this family (301)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3617287A (en) * 1967-08-30 1971-11-02 Du Pont Photopolymerizable elements containing a yellow dye
US3652273A (en) * 1967-09-11 1972-03-28 Ibm Process using polyvinyl butral topcoat on photoresist layer
US4530896A (en) * 1970-03-03 1985-07-23 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
US4544619A (en) * 1970-03-03 1985-10-01 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
DE2036585A1 (de) * 1970-07-23 1972-02-03 Kalle AG, 6202 Wiesbaden Biebnch Photopolymensierbares Kopiermaterial
JPS4944935B1 (de) * 1970-12-25 1974-11-30
DE2064080C3 (de) * 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
ZA72345B (en) * 1971-02-04 1973-03-28 Dynachem Corp Polymerization compositions and processes
US3773514A (en) * 1971-08-12 1973-11-20 Fromson H A Light-sensitive structure
US3839037A (en) * 1971-08-12 1974-10-01 Fromson H A Light-sensitive structure
US3883351A (en) * 1972-02-09 1975-05-13 Horizons Inc Method of making a photoresist
GB1425423A (en) * 1972-04-26 1976-02-18 Eastman Kodak Co Photopolymerisable compositions
JPS5034966B2 (de) * 1972-07-24 1975-11-12
JPS527362B2 (de) * 1972-09-04 1977-03-02
US4072528A (en) * 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
US4072527A (en) * 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
US3930857A (en) * 1973-05-03 1976-01-06 International Business Machines Corporation Resist process
JPS50125805A (de) * 1974-03-19 1975-10-03
GB1518141A (en) * 1974-05-02 1978-07-19 Gen Electric Polymerizable compositions
GB1542131A (en) * 1975-02-19 1979-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd Light-sensitive printing plate precursors and process for the production thereof
US4200463A (en) * 1975-12-19 1980-04-29 Motorola, Inc. Semiconductor device manufacture using photoresist protective coating
US4198242A (en) * 1976-03-17 1980-04-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable composition containing an o-nitroaromatic compound as photoinhibitor
GB2049972B (en) * 1977-07-12 1982-06-23 Asahi Chemical Ind Photosensitive element for producing a printed circuit board
JPS5492723A (en) * 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
US4294533A (en) * 1978-03-23 1981-10-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus for pre-conditioning film
US4269933A (en) * 1978-06-08 1981-05-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Methods of developing photopolymerizable compositions containing an 0-nitroaromatic compound as photoinhibitor
JPS55114370A (en) * 1979-02-28 1980-09-03 Fuji Photo Film Co Ltd Treatment of plate
US4299906A (en) * 1979-06-01 1981-11-10 American Hoechst Corporation Light-sensitive color proofing film with surfactant in a light-sensitive coating
ATE2980T1 (de) * 1979-09-21 1983-04-15 Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt Verfahren zur uebertragung eines musters auf eine halbleiterscheibe.
US4293635A (en) * 1980-05-27 1981-10-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable composition with polymeric binder
JPS5734557A (en) * 1980-08-07 1982-02-24 Toray Ind Inc Preventing method for sticking of surface of water-developable photosensitive polyamide resin layer
US4472494A (en) * 1980-09-15 1984-09-18 Napp Systems (Usa), Inc. Bilayer photosensitive imaging article
JPS57183030A (en) * 1981-05-07 1982-11-11 Toshiba Corp Manufacture of semiconductor device
US4341860A (en) 1981-06-08 1982-07-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging compositions containing substituted cyclohexadienone compounds
IT1159073B (it) * 1981-07-22 1987-02-25 Basf Ag Metodo per migliorare la preparazione,l'essiccazione e la immagazzinabilita' di elementi pluristrato adatti per la preparazione di stampi per stampaggio a rilievo
DE3226779A1 (de) * 1981-07-22 1983-02-10 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur verbesserung der herstellung, trocknung und lagerfaehigkeit von zur herstellung von reliefdruckformen geeigneten mehrschichtelementen
JPS58178348A (ja) * 1982-04-13 1983-10-19 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成法
JPS58211141A (ja) * 1982-06-02 1983-12-08 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JPS58224351A (ja) * 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4477556A (en) * 1982-08-18 1984-10-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Acidic o-nitroaromatics as photoinhibitors of polymerization in positive working films
US4504566A (en) * 1982-11-01 1985-03-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers
US4615665A (en) * 1983-05-06 1986-10-07 Dentsply International Inc. Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
US4792506A (en) * 1986-09-19 1988-12-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymerizable compositions containing iodonium photoinitiators and photosensitizers therefor
US4894314A (en) * 1986-11-12 1990-01-16 Morton Thiokol, Inc. Photoinitiator composition containing bis ketocoumarin dialkylamino benzoate, camphorquinone and/or a triphenylimidazolyl dimer
DE3736980A1 (de) * 1987-10-31 1989-05-18 Basf Ag Mehrschichtiges, flaechenfoermiges, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4791045A (en) * 1988-01-25 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts
US4908296A (en) * 1988-05-31 1990-03-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive semi-aqueous developable ceramic coating composition
US5273862A (en) * 1988-07-29 1993-12-28 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
DE3825836A1 (de) * 1988-07-29 1990-02-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3827245A1 (de) * 1988-08-11 1990-02-15 Hoechst Ag Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
JP2549303B2 (ja) * 1988-09-21 1996-10-30 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US5254429A (en) * 1990-12-14 1993-10-19 Anocoil Photopolymerizable coating composition and lithographic printing plate produced therefrom
JPH0580503A (ja) * 1991-06-25 1993-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
US5607814A (en) * 1992-08-07 1997-03-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process and element for making a relief image using an IR sensitive layer
US5719009A (en) * 1992-08-07 1998-02-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser ablatable photosensitive elements utilized to make flexographic printing plates
GB9225687D0 (en) * 1992-12-09 1993-02-03 Minnesota Mining & Mfg Peel-apart proofing system
US6756181B2 (en) 1993-06-25 2004-06-29 Polyfibron Technologies, Inc. Laser imaged printing plates
JPH08101498A (ja) 1994-08-03 1996-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US6238837B1 (en) 1995-05-01 2001-05-29 E.I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic element having an infrared ablatable layer
US5798019A (en) 1995-09-29 1998-08-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements
US5753414A (en) * 1995-10-02 1998-05-19 Macdermid Imaging Technology, Inc. Photopolymer plate having a peelable substrate
US5820932A (en) * 1995-11-30 1998-10-13 Sun Chemical Corporation Process for the production of lithographic printing plates
DE69705137T2 (de) * 1996-02-19 2002-01-31 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Blindplatte für den Offsetdruck
US5786127A (en) * 1996-08-15 1998-07-28 Western Litho Plate & Supply Co. Photosensitive element having an overcoat which increases photo-speed and is substantially impermeable to oxygen
DE19739299A1 (de) * 1997-09-08 1999-03-11 Agfa Gevaert Ag Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および１，３−ジヒドロ−１−オキソ−２ｈ−インデン誘導体化合物
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
US6425327B1 (en) 1999-08-12 2002-07-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for forming a cylindrical photosensitive element
EP1152294B1 (de) 2000-04-18 2012-06-13 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliches Bildaufzeichnungsmaterial
EP1739484B1 (de) * 2000-04-19 2011-08-24 AGFA Graphics NV Lichtempfindliche lithografische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
JP3769171B2 (ja) * 2000-05-17 2006-04-19 東京応化工業株式会社 フレキソ印刷版製造用多層感光材料
US6495310B2 (en) 2000-10-30 2002-12-17 Gary Ganghui Teng Lithographic plate having conformal overcoat and photosensitive layer on a rough substrate
US6387595B1 (en) * 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
EP1364367A2 (de) * 2001-02-27 2003-11-26 TDK Corporation Verfahren zur herstellung einer photoresisten matrize für ein optisches informationsmedium, und verfahren zur herstellung einer druckplatte für ein optisches informationsmedium
US20020197540A1 (en) 2001-03-09 2002-12-26 Creoscitex, Inc. Photosensitive flexographic device with associated thermally addressable mask
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
EP2093055B1 (de) 2003-03-26 2012-05-16 FUJIFILM Corporation Lithografisches Druckverfahren
US7771915B2 (en) 2003-06-27 2010-08-10 Fujifilm Corporation Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method
EP1493590A1 (de) * 2003-07-03 2005-01-05 Sicpa Holding S.A. Verfahren und Mittel für die Herstellung eines magnetisch-induziertes Bildes in einer Beschichtung die magnetische Teilchen enthält
JP2005028774A (ja) 2003-07-07 2005-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版および平版印刷方法
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2005059446A (ja) 2003-08-15 2005-03-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2007506125A (ja) * 2003-09-22 2007-03-15 アグフア−ゲヴエルト 光重合体印刷版前駆体
JP4815113B2 (ja) * 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP4241418B2 (ja) * 2004-02-05 2009-03-18 富士フイルム株式会社 重合性平版印刷版
JP4393236B2 (ja) 2004-03-15 2010-01-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及びそれを用いた画像形成材料
US8142987B2 (en) * 2004-04-10 2012-03-27 Eastman Kodak Company Method of producing a relief image for printing
JP4342373B2 (ja) * 2004-04-30 2009-10-14 東京応化工業株式会社 凸版印刷用感光性印刷原版、凸版印刷版の製造方法、および該製造方法用遮光インク
JP2005326493A (ja) * 2004-05-12 2005-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版の製造方法
EP2246741A1 (de) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Bildaufzeichnungsverfahren
EP2618215B1 (de) 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte
JP2006003570A (ja) * 2004-06-16 2006-01-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 印刷版製造用感光性組成物、並びに、これを用いた感光性印刷原版積層体および印刷版
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
JP2006021396A (ja) 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US20060032390A1 (en) 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US7745090B2 (en) 2004-08-24 2010-06-29 Fujifilm Corporation Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP4429116B2 (ja) 2004-08-27 2010-03-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
US7462437B2 (en) 2004-08-31 2008-12-09 Fujifilm Corporation Presensitized lithographic plate comprising support and hydrophilic image-recording layer
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP4418725B2 (ja) * 2004-09-24 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4411168B2 (ja) 2004-09-24 2010-02-10 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US20060154180A1 (en) 2005-01-07 2006-07-13 Kannurpatti Anandkumar R Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element
EP1798031A3 (de) 2005-01-26 2007-07-04 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren
US7858291B2 (en) 2005-02-28 2010-12-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method for preparation of lithographic printing plate precursor, and lithographic printing method
EP1701213A3 (de) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
JP4538350B2 (ja) 2005-03-18 2010-09-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物および画像記録材料並びに画像記録方法
JP4574506B2 (ja) 2005-03-23 2010-11-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその製版方法
JP4368323B2 (ja) 2005-03-25 2009-11-18 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4457034B2 (ja) 2005-03-28 2010-04-28 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4524235B2 (ja) 2005-03-29 2010-08-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007015147A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 凸版印刷用感光性積層印刷原版の製造方法、凸版印刷用感光性積層印刷原版、および凸版印刷版の製造方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4694324B2 (ja) 2005-09-09 2011-06-08 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
JP2009507680A (ja) * 2005-09-09 2009-02-26 プレステク，インコーポレイテッド 浸透性変化層を有する印刷部材及び関連する方法
JP2007224093A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法
JP4911455B2 (ja) 2006-09-27 2012-04-04 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版原版
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4945432B2 (ja) 2006-12-28 2012-06-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2447780B1 (de) 2007-01-17 2013-08-28 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
JP2008233660A (ja) 2007-03-22 2008-10-02 Fujifilm Corp 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法
ATE471812T1 (de) 2007-03-23 2010-07-15 Fujifilm Corp Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit
EP1974914B1 (de) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
EP1975710B1 (de) 2007-03-30 2013-10-23 FUJIFILM Corporation Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers
JP5075450B2 (ja) 2007-03-30 2012-11-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1975706A3 (de) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
EP2006738B1 (de) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2006091B1 (de) 2007-06-22 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Plattenherstellungsverfahren
ATE484386T1 (de) 2007-07-02 2010-10-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und flachdruckverfahren damit
TWI436163B (zh) 2007-07-17 2014-05-01 Fujifilm Corp 混合物、可光聚合的組成物、彩色濾鏡以及平版印刷的印刷板前驅物
US8470518B2 (en) 2007-09-14 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
EP2042311A1 (de) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
US7955781B2 (en) 2007-09-28 2011-06-07 Fujifilm Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
JP2009086373A (ja) 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp ネガ型平版印刷版の現像方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5066452B2 (ja) 2008-01-09 2012-11-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理方法
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5089422B2 (ja) 2008-02-15 2012-12-05 岡本化学工業株式会社 感光性組成物およびそれを用いた平版印刷版用原版
JP5175582B2 (ja) 2008-03-10 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2009214428A (ja) * 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4940174B2 (ja) 2008-03-21 2012-05-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用自動現像装置
JP2009229771A (ja) 2008-03-21 2009-10-08 Fujifilm Corp 平版印刷版用自動現像方法
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
US7923197B2 (en) 2008-03-25 2011-04-12 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2259137B1 (de) 2008-03-27 2016-08-31 FUJIFILM Corporation Verfahren zur herstellung einer lithografieplatte
JP5183268B2 (ja) 2008-03-27 2013-04-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2105298B1 (de) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit
JP2009244421A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP4914864B2 (ja) 2008-03-31 2012-04-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2110261B1 (de) 2008-04-18 2018-03-28 FUJIFILM Corporation Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte, lithographische Druckplattenträger, Druckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumlegierungsplatte für eine lithographische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplatteträgers
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP5444933B2 (ja) 2008-08-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
JP5364513B2 (ja) 2008-09-12 2013-12-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版用現像液及び平版印刷版の製造方法
JP5466462B2 (ja) 2008-09-18 2014-04-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法及び平版印刷版
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2010097175A (ja) 2008-09-22 2010-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
BRPI0918828A2 (pt) 2008-09-24 2018-04-24 Fujifilm Corporation método de preparação de placa de impressão litográfica
EP2168767A1 (de) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
JP5433351B2 (ja) 2008-09-25 2014-03-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法
JP2010102322A (ja) 2008-09-26 2010-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
JP5140540B2 (ja) 2008-09-30 2013-02-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
AU2009320812A1 (en) 2008-11-26 2010-06-03 Fujifilm Corporation Method for manufacturing lithographic printing plate, developer for original lithographic printing plate, and replenisher for developing original lithographic printing plate
EP2194429A1 (de) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gummierzusammensetzungen mit Nanoteilchen zur Verbesserung der Kratzempfindlichkeit in Bild- und Nicht-Bild-Bereichen von lithografischen Druckplatten
EP2196851A1 (de) 2008-12-12 2010-06-16 Eastman Kodak Company Negativkopier-Lithographiedruckplattenvorläufer, die ein reaktives Bindemittel umfassen, das aliphatische bi- oder polycyclische Teile enthält
EP2204698B1 (de) 2009-01-06 2018-08-08 FUJIFILM Corporation Plattenoberflächenbehandlungsmittel für eine lithografische Druckplatte und Verfahren zur Behandlung der lithografischen Druckplatte
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
JP5374403B2 (ja) 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
JP2010221692A (ja) 2009-02-26 2010-10-07 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5277039B2 (ja) 2009-03-30 2013-08-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版およびその製版方法
JP2010234588A (ja) 2009-03-30 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版およびその製版方法
JP5444831B2 (ja) 2009-05-15 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5449866B2 (ja) 2009-05-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
EP2284005B1 (de) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithografische Druckplattenvorläufer mit Betahydroxy-Alkylamid-Vernetzern
EP2293144B1 (de) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Verfahren zum Trocknen von Lithographiedruckplatten nach einer Einstufenverarbeitung
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
US8883401B2 (en) 2009-09-24 2014-11-11 Fujifilm Corporation Lithographic printing original plate
JP2011148292A (ja) 2009-12-25 2011-08-04 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5498371B2 (ja) 2009-12-28 2014-05-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版
JP5498403B2 (ja) 2010-01-29 2014-05-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版
JP5537980B2 (ja) 2010-02-12 2014-07-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
BR112012023662A2 (pt) 2010-03-19 2016-08-16 Fujifilm Corp composição fotossensível à coloração, precursor de chapa de impressão litográfica e método de fabricação de chapa
EP2554394B1 (de) 2010-03-26 2019-04-24 FUJIFILM Corporation Flachdruck-masterplatte und herstellungsverfahren dafür
US8828646B2 (en) 2010-03-26 2014-09-09 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of producing thereof
DE112011101165T5 (de) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
EP2383118B1 (de) 2010-04-30 2013-10-16 Fujifilm Corporation Lithographiedruckplattenvorläufer und Plattenherstellungsverfahren damit
JP5612531B2 (ja) 2010-04-30 2014-10-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版
JP5572576B2 (ja) 2010-04-30 2014-08-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2012187909A (ja) 2010-07-23 2012-10-04 Fujifilm Corp 平版印刷版用支持体、および、平版印刷版原版
JP5656784B2 (ja) 2010-09-24 2015-01-21 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法
JP5286350B2 (ja) 2010-12-28 2013-09-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製版方法、及び、その平版印刷方法
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
CN102616049B (zh) 2011-01-31 2015-04-01 富士胶片株式会社 平版印刷版载体和预制感光版
JP5205483B2 (ja) 2011-02-04 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
JP5274602B2 (ja) 2011-02-24 2013-08-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版用版面洗浄剤及び平版印刷版の版面処理方法
JP5705584B2 (ja) 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5211187B2 (ja) 2011-02-28 2013-06-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
JP5186574B2 (ja) 2011-02-28 2013-04-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5651538B2 (ja) 2011-05-31 2015-01-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5714544B2 (ja) 2011-09-15 2015-05-07 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
JP5401522B2 (ja) 2011-09-15 2014-01-29 富士フイルム株式会社 コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム
JP5690696B2 (ja) 2011-09-28 2015-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5740275B2 (ja) 2011-09-30 2015-06-24 富士フイルム株式会社 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013111652A1 (ja) 2012-01-24 2013-08-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版
EP2818522B1 (de) 2012-02-23 2018-11-21 FUJIFILM Corporation Chromogene zusammensetzung, chromogene härtbare zusammensetzung, lithografiedruckplattenvorläufer, plattenherstellungsverfahren und chromogene verbindung
JP5579217B2 (ja) 2012-03-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5703417B2 (ja) 2012-03-29 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその印刷方法
WO2014002835A1 (ja) 2012-06-29 2014-01-03 富士フイルム株式会社 現像処理廃液濃縮方法及び現像処理廃液のリサイクル方法
JP5813063B2 (ja) 2012-07-27 2015-11-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版
JP5699112B2 (ja) 2012-07-27 2015-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5786098B2 (ja) 2012-09-20 2015-09-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
BR112015006578A2 (pt) 2012-09-26 2019-12-17 Fujifilm Corp precursor da chapa de impressão litográfica e método de fabricação da chapa
JP5786099B2 (ja) 2012-09-26 2015-09-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
EP2735903B1 (de) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Negativ arbeitende Lithografiedruckplattenvorläufer mit hochverzweigtem Bindemittelmaterial
CN105190436A (zh) 2013-02-27 2015-12-23 富士胶片株式会社 红外线感光性显色组合物、红外线固化性显色组合物、平版印刷版原版和制版方法
EP2778782B1 (de) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negativ arbeitende strahlungsempfindliche Elemente
JP6271594B2 (ja) 2014-01-31 2018-01-31 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、赤外線感光性発色剤
EP3088201B1 (de) 2014-02-04 2019-01-16 Fujifilm Corporation Flachdruckplattenvorläufer, herstellungsverfahren dafür, verfahren zur herstellung einer lithografischen druckplatte und druckverfahren
CN106364209B (zh) * 2016-11-04 2018-11-09 中国科学院理化技术研究所 一种含感热保护层的热敏免处理的平版印刷版材料及应用
WO2018092661A1 (ja) 2016-11-16 2018-05-24 富士フイルム株式会社 輻射線感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
WO2018159640A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
EP3590976A4 (de) 2017-02-28 2020-03-25 Fujifilm Corporation Härtbare zusammensetzung, lithografiedruckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
CN111267466A (zh) * 2017-03-31 2020-06-12 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、其制造方法及其层叠体、平版印刷版的制版方法以及平版印刷方法
CN110719847B (zh) 2017-05-31 2021-08-31 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
JP6934939B2 (ja) 2017-05-31 2021-09-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
EP3632694A4 (de) 2017-05-31 2020-06-17 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer, harzzusammensetzung zur herstellung eines flachdruckplattenvorläufers und herstellungsverfahren für flachdruckplatte
EP3640039B1 (de) 2017-06-12 2024-04-24 FUJIFILM Corporation Lithographische originalplatte, plattenherstellungsverfahren für lithographische platte und lichtempfindliche harzzusammensetzung
CN110809521B (zh) 2017-06-30 2022-01-07 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
JP6621570B2 (ja) 2017-07-13 2019-12-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JP6832431B2 (ja) 2017-07-25 2021-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、発色組成物
EP3677435B1 (de) 2017-08-31 2023-09-06 FUJIFILM Corporation Druckplattenvorläufer und laminat aus druckplattenvorläufern
JP6896112B2 (ja) 2018-01-31 2021-06-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
WO2019151361A1 (ja) 2018-01-31 2019-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JPWO2019150788A1 (ja) 2018-01-31 2021-01-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
EP3845394A4 (de) 2018-08-31 2021-10-27 FUJIFILM Corporation Flachdruckplatte, originalplatte, verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte, flachdruckverfahren und härtbare zusammensetzung
EP3858629A4 (de) 2018-09-28 2021-09-29 FUJIFILM Corporation Originalplatte zum drucken, laminat aus originalplatte zum drucken, verfahren zur herstellung einer druckplatte und druckverfahren
EP3858636B1 (de) 2018-09-28 2024-09-18 FUJIFILM Corporation Druckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung einer druckplatte
WO2020090995A1 (ja) 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020090996A1 (ja) 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020158288A1 (ja) 2019-01-31 2020-08-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3904099B1 (de) 2019-01-31 2024-08-28 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer, verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte und flachdruckverfahren
JP7184931B2 (ja) 2019-01-31 2022-12-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3904100A4 (de) 2019-01-31 2022-06-08 FUJIFILM Corporation Flachdruckplattenvorläufer, verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte und flachdruckverfahren
JP7282886B2 (ja) 2019-06-28 2023-05-29 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3991985A4 (de) 2019-06-28 2022-09-07 FUJIFILM Corporation Flachdruckoriginalplatte, verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte und flachdruckverfahren
WO2020262686A1 (ja) 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262696A1 (ja) 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262692A1 (ja) 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN114051459B (zh) 2019-06-28 2024-07-23 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114072290B (zh) 2019-06-28 2024-04-30 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
JP7389128B2 (ja) 2019-09-30 2023-11-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN118046659A (zh) 2019-09-30 2024-05-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
WO2021065279A1 (ja) 2019-09-30 2021-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP4082791B1 (de) 2019-12-27 2024-10-16 FUJIFILM Corporation Flachdruckverfahren
US11633948B2 (en) 2020-01-22 2023-04-25 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates
JPWO2021241518A1 (de) 2020-05-29 2021-12-02
WO2021241519A1 (ja) 2020-05-29 2021-12-02 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法
EP4186708A4 (de) 2020-07-21 2023-12-13 FUJIFILM Corporation Originalflachdruckplatte vom entwicklungstyp auf einer maschine, verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte und flachdruckverfahren
JPWO2022138880A1 (de) 2020-12-25 2022-06-30
JPWO2023032681A1 (de) 2021-08-31 2023-03-09
WO2023032682A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JPWO2023032868A1 (de) 2021-08-31 2023-03-09
JPWO2023145971A1 (de) 2022-01-31 2023-08-03
JPWO2023145972A1 (de) 2022-01-31 2023-08-03
EP4245542A1 (de) 2022-03-18 2023-09-20 FUJIFILM Corporation Lithografiedruckplattenvorläufer, verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte und lithografiedruckverfahren
JP2024062746A (ja) 2022-10-25 2024-05-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL87862C (de) * 1951-08-20
NL273285A (de) * 1961-01-09
BE625606A (de) * 1961-12-01

Also Published As

Publication number Publication date
FR94517E (fr) 1969-08-29
US3458311A (en) 1969-07-29
DE1622298A1 (de) 1971-11-25

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