CN103858028B - 固体摄影装置用滤光器及使用该滤光器的固体摄影装置及照相机模块 - Google Patents

Abstract

本发明的课题为提供一种改良现有的近红外线截止滤光器等滤光器所具有的缺点，在光吸收时散射光少，透过率特性优良的滤光器(optical filter)。本发明的滤光器是以含有方酸(squarylium)系化合物与吸收或猝灭该方酸系化合物的荧光的化合物为特征。优选为本发明的滤光器含有包含方酸系化合物(A)、与选自由酞菁系化合物(B‑1)及花青系化合物(B‑2)所组成的组群中的至少1种化合物(B)的近红外线吸收色素。

Description

固体摄影装置用滤光器及使用该滤光器的固体摄影装置及照 相机模块

技术领域

本发明涉及一种滤光器及使用滤光器的装置。详细而言，涉及一种含有特定溶剂可溶型的色素化合物的滤光器、以及使用该滤光器的固体摄影装置及照相机模块。

背景技术

在摄影机、数字照相机(Digital Still Camera)、附有照相机功能的移动电话等固体摄影装置中使用彩色图像固体摄影元件的电荷耦合器件(Charge Coupled Device，CCD)或互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)图像传感器，这些固体摄影元件中使用对于其受光部中人类的眼睛无法感知的近红外线具有感度的硅光电二极管(silicon photodiode)。这些固体摄影元件中，必须进行调整为对于人类眼睛而言自然的色调的视感度修正，大多使用选择性透过或阻断特定波长区域的光线的滤光器(例如近红外线截止滤光器)。

作为这些近红外线截止滤光器，自过去使用以各种方法所制造的。例如日本专利特开平6-200113号公报(专利文献1)中记载，使用作为基材的透明树脂，在透明树脂中含有近红外线吸收色素的近红外线截止滤光器。

如专利文献1所记载的含有近红外线吸收色素的近红外线截止滤光器等滤光器已广为人知。经本发明人进行详细检讨的结果，发现近红外线吸收色素之中尤其方酸系色素具有急剧吸收或可见光透过率高等优良光学特性，日本专利特开2012-8532号公报(专利文献2)中提出含有方酸系色素的视角广的近红外线截止滤光器的方案。

然而，因为方酸系色素一般在分子结构上具有荧光，故有时在光吸收时会产生散射光，有时会降低照相机的画质。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开平6-200113号公报

专利文献2：日本专利特开2012-8532号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的为提供改良现有的近红外线截止滤光器等滤光器所具有的缺点，在光吸收时散射光也少，透过率特性优良的滤光器及使用该滤光器的装置。

解决问题的技术手段

本发明人们为达成前述课题进行详细检讨的结果，发现通过并用作为近红外线吸收色素的方酸系化合物与吸收或消失该方酸系化合物的荧光的特定化合物，可得到光吸收时的散射光少，透过率特性优良的滤光器，而完成本发明。本申请发明的方面例如以下所示。

[1]一种滤光器，其特征在于，含有包含方酸系化合物(A)、与选自由酞菁(phthalocyanine)系化合物(B-1)及花青(cyanine)系化合物(B-2)所组成的组群中的至少1种化合物(B)的近红外线吸收色素。

[2]如项[1]所记载的滤光器，其特征在于，前述方酸系化合物(A)的吸收最大值相较于前述化合物(B)的吸收最大值而位于短波长侧。

[3]如项[2]所记载的滤光器，其特征在于，前述方酸系化合物(A)在600nm以上，未达800nm的波长区域上具有吸收最大值，且前述化合物(B)在超过600nm，800nm以下的波长区域具有吸收最大值。

[4]如项[1]～项[3]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，将前述近红外线吸收色素全体作为100重量％时，前述方酸系化合物(A)的含有量为20重量％～95重量％，前述化合物(B)的含有量为5重量％～80重量％。

[5]如项[1]～项[4]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，前述方酸系化合物(A)为下述式(I)或式(II)所示化合物。

[化1]

式(I)中，R^a、R^b及Y为满足下述(i)或(ii)的条件。

(i)多个R^a独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基(R^e及R^f分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)，

多个R^b独立地表示氢原子、卤素原子、磺基(sulfo group)、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基(R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e))，

多个Y独立地表示-NR^jR^k基(R^j及R^k分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)，

L¹表示

(L^a)可具有取代基L的碳数1～9的脂肪族烃基、

(L^b)可具有取代基L的碳数1～9的卤素取代烷基、

(L^c)可具有取代基L的碳数3～14的脂环式烃基、

(L^d)可具有取代基L的碳数6～14的芳香族烃基、

(L^e)可具有取代基L的碳数3～14的杂环基、

(L^f)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基、

(L^g)可具有取代基L的碳数1～9的酰基，或

(L^h)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基羰基，

取代基L为选自由碳数1～9的脂肪族烃基、碳数1～9的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的组群中的至少1种，前述L^a～L^h可进一步具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群中的至少1种原子或基。

(ii)1个苯环上的2个R^a中的至少1个与相同苯环上的Y彼此结合，形成至少含有1个氮原子的构成原子数5或6的杂环，该杂环可具有取代基，

R^b及与前述杂环的形成无关的R^a分别独立地与前述条件(i)的R^b及R^a同义。

[化2]

式(II)中，X表示O、S、Se、N-R^c或C-R^dR^d，

多个R^c独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

多个R^d独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，相邻的R^d彼此连结可形成可具有取代基的环，

L^a～L^e、L¹、R^e及R^f与前述式(I)中所定义的L^a～L^e、L¹、R^e及R^f同义。

[6]如项[1]～项[5]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，前述酞菁系化合物(B-1)为下述式(III)所示化合物。

[化3]

式(III)中，M表示含有2个氢原子、，2个1价金属原子、2价金属原子或3价或4价金属原子的取代金属原子，

多个R_a、R_b、R_c及R_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基(silyl)、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_a与R_b、R_b与R_c及R_c与R_d中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，相同芳香环上所结合的R_a、R_b、R_c及R_d中至少1个并非氢原子，

前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有项[5]所记载的式(I)中所定义的取代基L，

L¹与前述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或前述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示羟基或前述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示前述L^a～L^e的任一者。

[化4]

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_a与R_b、R_b与R_c或R_c与R_d的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO2-L³、-N＝N-L⁴(L¹～L⁴与前述式(III)中所定义的L¹～L⁴同义)，前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有前述取代基L。

[7]如项[6]所记载的滤光器，其特征在于，前述式(III)中的M为属于周期表5族～11族且属于第4周期～第5周期的2价过渡金属、3价或4价金属卤化物，或4价金属氧化物。

[8]如项[1]～项[7]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，前述花青系化合物(B-2)为下述式(IV-1)～式(IV-3)的任一个所示化合物。

[化5]

式(IV-1)～式(IV-3)中，X_a ^-表示1价阴离子，

多个D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，

多个R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g、R_h及R_i分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或选自由R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，

前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有如项[5]所记载的式(I)中所定义的取代基L，

L¹与前述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或前述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示氢原子或前述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示前述L^a～L^e的任一者，

Z_a～Z_c及Y_a～Y_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴(L¹～L⁴与前述R_a～R_i中的L¹～L⁴同义)，或选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的可含有至少1个氮原子、氧原子或硫原子的5至6元环的脂环式烃基、

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的碳数6～14的芳香族烃基，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的含有至少1个氮原子、氧原子或硫原子的碳数3～14的杂芳香族烃基，这些脂环式烃基、芳香族烃基及杂芳香族烃基可具有碳数1～9的脂肪族烃基或卤素原子。

[化6]

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³或-N＝N-L⁴(L¹～L⁴与前述式(IV-1)～式(IV-3)中所定义的L¹～L⁴同义)，前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有前述取代基L。

[9]如项[1]～项[8]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，具有含有前述近红外线吸收色素及树脂的树脂制基板。

[10]如项[9]所记载的滤光器，其特征在于，前述近红外线吸收色素全体的含有量对于前述树脂100重量份而言为0.01重量份～5.0重量份。

[11]如项[9]或项[10]所记载的滤光器，其特征在于，前述树脂为选自由环状聚烯烃系树脂(cyclic polyolefin resin)、芳香族聚醚系树脂(aromatic polyether-basedresins)、聚酰亚胺系树脂(polyimide-based resin)、芴聚碳酸酯系树脂(fluorenepolycarbonate resin)、芴聚酯系树脂(fluorene polyester resin)、聚碳酸酯系树脂(polycarbonate resin)、聚酰胺系树脂(polyamide resin)、聚丙烯酸酯系树脂(polyarylate-based resin)、聚砜系树脂(polysulfone resin)、聚醚砜系树脂(polyether sulfone resin)、聚对亚苯基系树脂(poly-p-phenylene-based resin)、聚酰胺酰亚胺系树脂(polyamide-imide resin)、聚萘二甲酸乙二酯系树脂(polyethylenenaphthalate resin)、氟化芳香族聚合物系树脂(fluorinated aromatic polymerresin)、(改性)丙烯酸系树脂((modified)acrylic resin)、环氧系树脂(epoxy-basedresin)、烯丙基酯系硬化型树脂(allyl ester-curable resin)及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂(silsesquioxane-based UV-curable resin)所组成的组群中的至少1种树脂。

[12]一种滤光器，其特征在于，含有方酸系化合物(A)、与吸收该方酸系化合物(A)的荧光的化合物。

[13]如项[1]～项[12]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，进一步含有选自由甲亚胺系化合物(azomethine compound)、吲哚系化合物(indole-based compound)、苯并三唑系化合物(benzotriazole compound)及三嗪系化合物(triazine compound)所组成的组群中的至少1种近紫外线吸收剂。

[14]如项[1]～项[13]中任1项所记载的滤光器，其特征在于，使用于固体摄影装置。

[15]一种固体摄影装置，其特征在于，具备如项[1]～项[13]中任1项所记载的滤光器。

[16]一种照相机模块，其特征在于，具备如项[1]～项[13]中任1项所记载的滤光器。

发明的效果

本发明可提供光吸收时的散射光少，透过率特性优良的滤光器。

附图说明

[图1]图1(a)是表示现有的照相机模块的一例的截面概略图。图1(b)是表示使用本发明的滤光器6'时的照相机模块的一例的截面概略图。

[图2]图2是表示自滤光器的垂直方向进行测定时的透过率的测定方法的概略图。

[图3]图3是表示自相对于滤光器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率的测定方法的概略图。

[图4]图4是表示散射光强度的测定方法的概略图。

[符号的说明]

1：照相机模块

2：镜头镜筒

3：可挠性基板

4：中空封装

5：镜头

6：滤光器

6'：本发明的滤光器

7：CCD或CMOS图像传感器

8：滤光器

9：分光光度计

10：光

11：入射光

12：近红外线截止滤光器

13：透过光

14：散射光

15：积分球

16：传感器

17：康保费得板(CARBONFEATHERSHEET)(以使透过光不会在积分球内呈现慢反射为目的而设置)

具体实施方式

以下对于本发明做具体说明。

有关本发明的滤光器含有方酸系化合物(A)、与吸收或猝灭该方酸系化合物(A)的荧光的化合物。具体为本发明的滤光器含有包含方酸系化合物(A)与选自由酞菁系化合物(B-1)及花青系化合物(B-2)所组成的组群中的至少1种化合物(B)的近红外线吸收色素，优选为具有含有前述近红外线吸收色素及树脂的树脂制基板。此外，本发明的滤光器也可具有近红外线反射膜。

[树脂制基板]

前述树脂制基板可为单层，也可为多层，作为近红外线吸收色素，含有方酸系化合物(A)、与选自由酞菁系化合物(B-1)及花青系化合物(B-2)所组成的组群中的至少1种化合物(B)，其吸收最大值理想为处于波长600nm～800nm的范围。基板的吸收最大值波长在此种范围时，该基板可有效率地选择性阻断近红外线。

将此种树脂制基板使用于近红外线截止滤光器等滤光器时，在波长560nm～800nm的范围中，自滤光器的垂直方向进行测定时的透过率成为50％的波长值(Xa)、与自相对于滤光器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率成为50％的波长值(Xb)的差的绝对值变小，可得到吸收波长的入射角依赖性变小，视角广的滤光器。(Xa)与(Xb)的差的绝对值优选为未达20nm，更优选为未达15nm，特别优选为未达10nm。

根据照相机模块等的用途，在波长400nm～700nm的所谓可见光区域中，将含有方酸系化合物(A)及前述化合物(B)的树脂制基板的厚度设为100μm时的该基板的平均透过率也有时必须为50％以上，优选为必须为65％以上。

前述树脂制基板的厚度可配合所需的用途而做适宜选择，并无特别限制，但优选为调整至该基板具有如前述的入射角依赖改良性，更优选为30μm～250μm，进而更优选为40μm～200μm，特别优选为50μm～150μm。

树脂制基板的厚度在前述范围时，可使使用该基板的滤光器小型化及轻量化，可适用于固体摄影装置等种种用途。尤其，将前述树脂性基板使用于照相机模块等镜头单元时，可实现镜头单元的薄形化，故优选。

前述树脂制基板中除含有方酸系化合物(A)及前述化合物(B)的近红外线吸收色素以外，还可含有选自由甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所组成的组群中的至少1种近紫外线吸收剂。通过使用此种树脂制基板，可得到即便在近紫外线波长区域，入射角依赖性也小，视角也广的滤光器。

前述近红外线吸收色素与前述近紫外线吸收剂可含于同一层或不同层里。含于同一层时，例如可举出前述近红外线吸收色素与前述近紫外线吸收剂同时含于同一树脂制基板中的形态，含于不同层时，例如可举出在含前述近红外线吸收色素的树脂制基板上积层含前述近紫外线吸收剂的层的形态。

前述近紫外线吸收剂与前述近红外线吸收色素含于同一层时更优选，此种情况，比含于不同层的情况更可容易控制前述近红外线吸收色素与前述近紫外线吸收剂的含有量比率。

<近红外线吸收色素>

(1)方酸系化合物(A)

前述方酸系化合物(A)优选为下述式(I)所示化合物或下述式(II)所示化合物(以下也分别称为“化合物(I)”、“化合物(II)”)。

[化7]

式(I)中，R^a、R^b及Y满足下述(i)或(ii)的条件。

(i)多个R^a独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基(R^e及R^f分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)，

多个R^b独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基(R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e))，

多个Y独立地表示-NR^jR^k基(R^j及R^k分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)，

L¹表示

(L^a)可具有取代基L的碳数1～9的脂肪族烃基、

(L^b)可具有取代基L的碳数1～9的卤素取代烷基、

(L^c)可具有取代基L的碳数3～14的脂环式烃基、

(L^d)可具有取代基L的碳数6～14的芳香族烃基、

(L^e)可具有取代基L的碳数3～14的杂环基、

(L^f)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基、

(L^g)可具有取代基L的碳数1～9的酰基，或

(L^h)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基羰基，

取代基L为选自由碳数1～9的脂肪族烃基、碳数1～9的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的组群中的至少1种，前述L^a～L^h可进一步具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群中的至少1种原子或基。前述L^a～L^h中，含有取代基的碳数合计分别优选为50以下，更优选为碳数40以下，特别优选为碳数30以下。碳数比该范围更多时，有时色素合成变得困难，同时每单位重量的吸收强度会有变小的倾向。

(ii)1个苯环上的2个R^a中至少1个与相同苯环上的Y相互结合，形成至少含有1个氮原子的构成原子数5或6的杂环，该杂环可具有取代基，

R^b及与前述杂环的形成无关的R^a分别独立地与前述(i)的R^b及R^a同义。

作为前述L^a及L中的碳数1～9的脂肪族烃基，可举出甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基(n-Pr)、异丙基(i-Pr)、正丁基(n-Bu)、第二丁基(s-Bu)、叔丁基(t-Bu)、戊基、己基、辛基及壬基等烷基；乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、丁烯基、1,3-丁二烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-戊烯基、己烯基及辛烯基等烯基；以及可举出乙炔基、丙炔基、丁炔基、2-甲基-1-丙炔基、己炔基及辛炔基等炔基等。

作为前述L^b及L中的碳数1～9的卤素取代烷基，可举出三氯甲基、三氟甲基、1,1-二氯乙基、五氯乙基、五氟乙基、七氯丙基及七氟丙基等。

作为前述L^c及L中的碳数3～14的脂环式烃基，可举出环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片烷基及金刚烷基等环烷基等。

作为前述L^d及L中的碳数6～14的芳香族烃基，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、1-萘基、2-萘基、蒽基、菲基、苊基、丙烯合萘基、四氢萘基、茚满基及联苯基等。

作为前述L^e及L中的碳数3～14的杂环基，可举出包含呋喃、噻吩、吡咯、吡唑、咪唑、三唑、恶唑、恶二唑、噻唑、噻二唑、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、咔唑、二苯并呋喃、二苯并噻吩、吡啶、嘧啶、吡嗪、哒嗪、喹啉、异喹啉、吖啶及吩嗪等杂环等的基。

作为前述L^f中的碳数1～9的烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、2-甲氧基乙氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基、甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、甲氧基丁基、甲氧基己基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、乙氧基丁基、乙氧基己基、丙氧基甲基、丙氧基丙基、丙氧基己基及丁氧基乙基等。

作为前述L^g中的碳数1～9的酰基，可举出乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰基、异戊酰基及苯甲酰基等

作为前述L^h中的碳数1～9的烷氧基羰基，可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、异丙氧基羰基、丁氧基羰基、2-甲氧基乙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基及辛氧基羰基等。

作为前述L^a，可举出上述“碳数1～9的脂肪族烃基”、及该脂肪族烃基进一步具有前述取代基L的，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基、4-苯基丁基、2-环己基乙基，更优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、叔丁基。

作为前述L^b，可举出上述“碳数1～9的卤素取代烷基”、及该卤素取代烷基进一步具有前述取代基L的，优选为三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基、5-环己基-2,2,3,3-四氟戊基、2,2-二氯-4-苯氧基丁基，更优选为三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基。

作为前述L^c，可举出上述“碳数3～14的脂环式烃基”、及该脂环式烃基进一步具有前述取代基L的，优选为环丁基、环戊基、环己基、4-乙基环己基、环辛基、4-苯基环庚基，更优选为环戊基、环己基、4-乙基环己基。

作为前述L^d，可举出上述“碳数6～14的芳香族烃基”、及该芳香族烃基进一步具有前述取代基L的，优选为苯基、1-萘基、2-萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、3,5-二-叔丁基苯基、4-环戊基苯基、2,3,6-三苯基苯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基(2,3,4,5,6-pentaphenyl phenyl)、4-α-枯基苯氧基(4-α-cumylphenoxy)，更优选为苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基、4-α-枯基苯氧基。

作为前述L^e，可举出上述“碳数3～14的杂环基”、及该杂环基进一步具有前述取代基L的，优选为包含呋喃、噻吩、吡咯、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩等的基，更优选为包含呋喃、噻吩、吡咯等的基。

作为前述L^f，可举出上述“碳数1～9的烷氧基”、及该烷氧基进一步具有前述取代基L的，优选为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、2-甲氧基乙氧基、甲氧基甲基、甲氧基乙基、2-苯基乙氧基、3-环己基丙氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基，更优选为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基。

作为前述L^g，可举出上述“碳数1～9的酰基”、及该酰基进一步具有前述取代基L的，优选为乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、苯甲酰基、4-丙基苯甲酰基，更优选为乙酰基、丙酰基、苯甲酰基。

作为前述L^h，可举出上述“碳数1～9的烷氧基羰基”、及该烷氧基羰基进一步具有前述取代基L的，优选为甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、异丙氧基羰基、丁氧基羰基、2-三氟甲基乙氧基羰基、2-苯基乙氧基羰基，更优选为甲氧基羰基、乙氧基羰基。

前述L^a～L^h可进一步具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群中的至少1种原子或基。作为该例子，可举出包含4-磺基丁基、4-氰基丁基、5-羧基戊基、5-氨基戊基、3-羟基丙基、2-磷酰基乙基、6-氨基-2,2-二氯己基、2-氯-4-羟基丁基、2-氰基环丁基、3-羟基环戊基、3-羧基环戊基、4-氨基环己基、4-羟基环己基、4-羟基苯基、五氟苯基、2-羟基萘基、4-氨基苯基、2,3,4,5,6-五氟苯基、4-硝基苯基、3-甲基吡咯等的基、2-羟基乙氧基、3-氰基丙氧基、4-氟苯甲酰基、2-羟基乙氧基羰基、4-氰基丁氧基羰基等。

作为前述条件(i)中的R^a，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基、正丁基、第二丁基、叔丁基、环己基、苯基、氨基、二甲基氨基、硝基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基。

作为前述R^b，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、叔丁基、环己基、苯基、氨基、二甲基氨基、氰基、硝基、羟基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、N-甲基乙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、二甲基氨基、硝基、羟基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基。

作为前述Y，优选为氨基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二-正丙基氨基、二异丙基氨基、二-正丁基氨基、二-叔丁基氨基、N-乙基-N-甲基氨基、N-环己基-N-甲基氨基，更优选为二甲基氨基、二乙基氨基、二-正丙基氨基、二异丙基氨基、二-正丁基氨基、二-叔丁基氨基。

作为前述式(I)的条件(ii)中，1个苯环上的2个R^a中至少1个与相同苯环上的Y相互结合所形成的至少含有1个氮原子的构成原子数5或6的杂环，例如可举出吡咯烷、吡咯、咪唑、吡唑、哌啶、吡啶、哌嗪、哒嗪、嘧啶及吡嗪等。这些杂环中，优选为构成该杂环，且构成前述苯环的碳原子的邻位的1个原子为氮原子的杂环，更优选为吡咯烷。

[化8]

式(II)中，X表示O、S、Se、N-R^c或C-R^dR^d，

多个R^c独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

多个R^d独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，相邻R^d彼此连结可形成可具有取代基的环，

L^a～L^e、L¹、R^e及R^f与前述式(I)中定义的L^a～L^e、L¹、R^e及R^f同义。

作为前述式(II)中的R^c，优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、苯基、三氟甲基(trifluoromethyl)、五氟乙基，更优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基。

作为前述式(II)中的R^d，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、苯基、甲氧基、三氟甲基、五氟乙基、4-氨基环己基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、三氟甲基、五氟乙基。

作为前述X，优选为O、S、Se、N-Me、N-Et、CH₂、C-Me₂、C-Et₂，更优选为S、C-Me₂、C-Et₂。

前述式(II)中相邻的R^d彼此连结可形成环。作为此种环，例如可举出苯并假吲哚环(benzoindorenin ring)、α-萘并咪唑环(α-naphthimidazole ring)、β-萘并咪唑环(β-naphthimidazole ring)、α-萘并恶唑环(α-naphthoxazole ring)、β-萘并恶唑环(β-naphthoxazole ring)、α-萘并噻唑环(α-naphthothiazole ring)、β-萘并噻二唑环(β-naphthothiazole ring)、α-萘并硒唑环(α-naphthoselenazole ring)、β-萘并硒唑环(β-naphthoselenazole ring)等。

化合物(I)及化合物(II)除如下述式(I-1)及下述式(II-1)的记载方法以外，也可由如下述式(I-2)及下述式(II-2)的得到共振结构般的记载方法来表示结构。换言之，下述式(I-1)与下述式(I-2)的不同、及下述式(II-1)与下述式(II-2)的不同仅在于结构记载方法，作为化合物皆表示相同的。本发明中若无特别说明，以如下述式(I-1)及下述式(II-1)的记载方法来表示方酸系化合物的结构。

[化9]

化合物(I)及化合物(II)若可分别满足上述式(I)及上述式(II)的要件即可，并不特别限定其结构，例如如上述式(I-1)及上述式(II-1)来表示结构时，结合于中央的四元环上的左右取代基可相同也可不同，相同时在合成上容易故优选。且，例如下述式(I-3)所示化合物与下述式(I-4)所示化合物可视为相同化合物。

[化10]

作为前述化合物(I)及前述化合物(II)的具体例，可举出具有下述(I-A)～(I-H)所示基本骨架的下述表1～表3所记载的化合物(a-1)～(a-36)等。

[化11]

[化12]

化合物(I)及化合物(II)由一般已知的方法进行合成即可，例如可参照日本专利特开平1-228960号公报、日本专利特开2001-40234号公报、日本专利专利第3196383号公报等所记载的方法等进行合成。

前述方酸系化合物(A)的吸收最大值波长优选为600nm以上，更优选为620nm以上，特别优选为650nm以上，且优选为未达800nm，更优选为760nm以下，特别优选为740nm以下。吸收最大值波长在该波长范围时，可兼具充分近红外线吸收特性与可见光透过率。

此外，优选为前述方酸系化合物(A)的吸收最大值相较于同时使用的化合物(B)的吸收最大值而位于短波长侧的波长区域。前述方酸系化合物(A)与前述化合物(B)的吸收最大值波长的差，优选为1nm～100nm，更优选为5nm～80nm，进而更优选为10nm～60nm。吸收最大值波长的差在该范围时，可更有效地吸收由方酸系化合物(A)所产生的荧光，可抑制滤光器的散射光强度。

(2)化合物(B)

前述化合物(B)为选自由酞菁系化合物(B-1)及花青系化合物(B-2)所组成的组群中的至少1种化合物，可使用酞菁系化合物(B-1)及花青系化合物(B-2)的双方。

(2-1)酞菁系化合物(B-1)

前述酞菁系化合物(B-1)优选为下述式(III)所示化合物(以下也称为“化合物(III)”)。

[化13]

式(III)中，M表示含有2个氢原子，2个1价金属原子、2价金属原子或3价或4价金属原子的取代金属原子，

多个R_a、R_b、R_c及R_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_a与R_b、R_b与R_c及R_c与R_d中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，相同芳香环上所结合的R_a、R_b、R_c及R_d中至少1个并非氢原子。

前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有前述式(I)中所定义的取代基L，

L¹与前述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或前述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示羟基或前述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示前述L^a～L^e的任一者。

[化14]

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_a与R_b、R_b与R_c或R_c与R_d的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，

前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有前述取代基L，L¹～L⁴与前述式(III)中所定义的L¹～L⁴同义。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中，可具有取代基L的氨基，可举出氨基、乙基氨基、二甲基氨基、甲基乙基氨基、二丁基氨基、二异丙基氨基等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中，可具有取代基L的酰胺基，可举出酰胺基、甲基酰胺基、二甲基酰胺基、二乙基酰胺基、二丙基酰胺基、二异丙基酰胺基、二丁基酰胺基、α-内酰胺基、β-内酰胺基、γ-内酰胺基、δ-内酰胺基等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中，可具有取代基L的酰亚胺基，可举出酰亚胺基、甲基酰亚胺基、乙基酰亚胺基、二乙基酰亚胺基、二丙基酰亚胺基、二异丙基酰亚胺基、二丁基酰亚胺基等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中，可具有取代基L的甲硅烷基，可举出三甲基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中-S-L²，可举出硫醇基、甲基硫醚基、乙基硫醚基、丙基硫醚基、丁基硫醚基、异丁基硫醚基、第二丁基硫醚基、叔丁基硫醚基、苯基硫醚基、2,6-二-叔丁基苯基硫醚基、2,6-二苯基苯基硫醚基、4-枯基苯基硫醚基(4-cumyl phenyl sulfide)等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中-SS-L²，可举出二硫醚基、甲基二硫醚基、乙基二硫醚基、丙基二硫醚基、丁基二硫醚基、异丁基二硫醚基、第二丁基二硫醚基、叔丁基二硫醚基、苯基二硫醚基、2,6-二-叔丁基苯基二硫醚基、2,6-二苯基苯基二硫醚基、4-枯基苯基二硫醚基等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中-SO₂-L³，可举出亚砜基、甲磺酰基、乙基磺酰基、正丁基磺酰基、对甲苯磺酰基等。

作为前述R_a～R_d及R_A～R_L中-N＝N-L⁴，可举出甲基偶氮基、苯基偶氮基、对甲基苯基偶氮基、对二甲基氨基苯基偶氮基等。

作为前述M中1价金属原子，可举出Li、Na、K、Rb、Cs等。

作为前述M中2价金属原子，可举出Be、Mg、Ca、Ba、Ti、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Cu、Zn、Cd、Hg、Sn、Pb等。

作为前述M中含有3价金属原子的取代金属原子，可举出Al-F、Al-Cl、Al-Br、Al-I、Ga-F、Ga-Cl、Ga-Br、Ga-I、In-F、In-Cl、In-Br、In-I、Tl-F、Tl-Cl、Tl-Br、Tl-I、Fe-Cl、Ru-Cl、Mn-OH等。

作为前述M中含有4价金属原子的取代金属原子，可举出TiF₂、TiCl₂、TiBr₂、TiI₂、ZrCl₂、HfCl₂、CrCl₂、SiF₂、SiCl₂、SiBr₂、SiI₂、GeF₂、GeCl₂、GeBr₂、GeI₂、SnF₂、SnCl₂、SnBr₂、SnI₂、Zr(OH)₂、Hf(OH)₂、Mn(OH)₂、Si(OH)₂、Ge(OH)₂、Sn(OH)₂、TiR₂、CrR₂、SiR₂、GeR₂、SnR₂、Ti(OR)₂、Cr(OR)₂、Si(OR)₂、Ge(OR)₂、Sn(OR)₂(R表示脂肪族基或芳香族基)、TiO、VO、MnO等。

作为前述M，优选为属于周期表5族～11族且属于第4周期～第5周期的2价过渡金属、3价或4价金属卤化物或4价金属氧化物，其中就可达成高可见光透过率或稳定性的方面而言，特别优选为Cu、Ni、Co及VO。

前述酞菁系化合物(B-1)通过如下述式(V)的邻苯二甲腈衍生物的环化反应进行合成的方法为已知的一般方法，但所得的酞菁系化合物为混合如下述式(VI-1)～式(VI-4)的4种异构物的混合物。在本发明中，若无特别说明，1种酞菁系化合物仅例示1种异构物，但也可同样地使用其他3种异构物。且，这些异构物可视必要经分离后使用，本发明中一并视为异构物混合物使用。

[化15]

[化16]

作为前述化合物(III)的具体例，可举出具有下述式(III-A)～式(III-J)所示基本骨架的下述表4～表7所记载的(b-1)～(b-56)等。

[化17]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

化合物(III)可由一般已知的方法进行合成，例如可参照日本专利第4081149号公报或《酞菁-化学与功能-》(IPC、1997年)所记载的方法进行合成。

前述酞菁系化合物(B-1)的吸收最大值波长优选为超过600nm，更优选为640nm以上，特别优选为670nm以上，且优选为800nm以下，更优选为780nm以下，特别优选为760nm以下。吸收最大值波长在此种波长范围时，可兼具充分的近红外线吸收特性与可见光透过率，同时可有效地吸收由前述方酸系化合物(A)所产生的荧光，可抑制滤光器的散射光强度。

(2-2)花青系化合物(B-2)

前述花青系化合物(B-2)优选为下述式(IV-1)～式(IV-3)的任一个所示化合物(以下也称为“化合物(IV-1)～化合物(IV-3)”)。

[化18]

式(IV-1)～式(IV-3)中，X_a ^-表示1价阴离子，

多个D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，

多个R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g、R_h及R_i分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，

前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有前述式(I)中所定义的取代基L，

L¹与前述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或前述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示氢原子或前述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示前述L^a～L^e的任一者，

Z_a～Z_c及Y_a～Y_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴(L¹～L⁴与前述R_a～R_i中的L¹～L⁴同义)，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的可含有至少1个氮原子、氧原子或硫原子的5至6元环的脂环式烃基、

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的碳数6～14的芳香族烃基，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的含有至少1个氮原子、氧原子或硫原子的碳数3～14的杂芳香族烃基，这些脂环式烃基、芳香族烃基及杂芳香族烃基可具有碳数1～9的脂肪族烃基或卤素原子。

[化19]

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³或-N＝N-L⁴(L¹～L⁴与前述式(IV-1)～式(IV-3)中所定义的L¹～L⁴同义)，前述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有前述取代基L。

作为前述Z_a～Z_c及Y_a～Y_d中Z彼此或Y彼此相互结合所形成的可含有至少1个氮原子、氧原子或硫原子的5至6元环的脂环式烃基，例如可举出前述取代基L中脂环式烃基及杂环所例示的化合物(杂芳香族烃基除外)。

作为前述Z_a～Z_c及Y_a～Y_d中Z彼此或Y彼此相互结合所形成的碳数6～14的芳香族烃基，例如可举出前述取代基L中芳香族烃基所例示的化合物。

作为前述Z_a～Z_c及Y_a～Y_d中Z彼此或Y彼此相互结合所形成的碳数3～14的杂芳香族烃基，例如可举出前述取代基L中作为杂环基所例示的化合物(含有至少1个氮原子、氧原子或硫原子的脂环式烃基除外)。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中可具有取代基L的氨基，可举出氨基、乙基胺基、二甲基氨基、甲基乙基氨基、二丁基氨基、二异丙基氨基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中可具有取代基L的酰胺基，可举出酰胺基、甲基酰胺基、二甲基酰胺基、二乙基酰胺基、二丙基酰胺基、二异丙基酰胺基、二丁基酰胺基、α-内酰胺基、β-内酰胺基、γ-内酰胺基、δ-内酰胺基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中可具有取代基L的酰亚胺基，可举出酰亚胺基、甲基酰亚胺基、乙基酰亚胺基、二乙基酰亚胺基、二丙基酰亚胺基、二异丙基酰亚胺基、二丁基酰亚胺基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中可具有取代基L的甲硅烷基，可举出三甲基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中-S-L²，可举出硫醇基、甲基硫醚基、乙基硫醚基、丙基硫醚基、丁基硫醚基、异丁基硫醚基、第二丁基硫醚基、叔丁基硫醚基、苯基硫醚基、2,6-二-叔丁基苯基硫醚基、2,6-二苯基苯基硫醚基、4-枯基苯基硫醚基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中-SS-L²，可举出二硫醚基、甲基二硫醚基、乙基二硫醚基、丙基二硫醚基、丁基二硫醚基、异丁基二硫醚基、第二丁基二硫醚基、叔丁基二硫醚基、苯基二硫醚基、2,6-二-叔丁基苯基二硫醚基、2,6-二苯基苯基二硫醚基、4-枯基苯基二硫醚基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中-SO₂-L³，可举出亚砜基、甲磺酰基、乙基磺酰基、正丁基磺酰基、对甲苯磺酰基等。

作为前述R_a～R_i及R_A～R_L中-N＝N-L⁴，可举出甲基偶氮基、苯基偶氮基、对甲基苯基偶氮基、对二甲基氨基苯基偶氮基等。

作为前述化合物(IV-1)～(IV-3)的具体例，可举出下述表8所记载的(c-1)～(c-19)等。

前述化合物(IV-1)～(IV-3)可使用一般已知的方法进行合成，例如可通过日本专利特开2009-108267号公报所记载的方法进行合成。

前述花青系化合物(B-2)的吸收最大值波长优选为超过600nm，更优选为640nm以上，特别优选为670nm以上，且优选为800nm以下，更优选为780nm以下，特别优选为760nm以下。吸收最大值波长在此种波长范围时，可兼具充分近红外线吸收特性与可见光透过率，同时可有效地吸收前述方酸系化合物(A)所产生的荧光，可抑制滤光器的散射光强度。

(3)方酸系化合物(A)及化合物(B)的含有比率

本发明中，将近红外线吸收色素全体作为100重量％时，前述方酸系化合物(A)的含有比率优选为20重量％～95重量％，更优选为25重量％～85重量％，特别优选为30重量％～80重量％，前述化合物(B)的含有比率优选为5重量％～80重量％，更优选为10重量％～70重量％，特别优选为15重量％～60重量％。方酸系化合物(A)与前述化合物(B)的含有比率在前述范围内时，可兼具良好的可见光透过率及入射角依赖改良性与散射光减低效果。此外，方酸系化合物(A)与前述化合物(B)可使用2种以上的各化合物。此外，满足前述含有比率的条件，且不损害本发明的效果的范围中，可使用方酸系化合物(A)及前述化合物(B)以外的近红外线吸收色素。

(4)近红外线吸收色素的含有量

前述树脂制基板中，前述近红外线吸收色素的含有量相对于在树脂制基板制造时所使用的树脂100重量份而言，优选为0.01重量份～5.0重量份，更优选为0.02重量份～3.5重量份，特别优选为0.03重量份～2.5重量份。近红外线吸收色素的含有量在前述范围内时，可兼具良好的近红外线吸收特性与高可见光透过率。

<树脂>

本发明所使用的树脂制基板含有树脂与包含前述方酸系化合物(A)及前述化合物(B)的近红外线吸收色素即可，并无特别限制，作为该树脂，优选为透明树脂。作为此种树脂，只要不损害本发明的效果即可，并无特别限制，例如可举出确保热稳定性及对膜的成形性，且通过在100℃以上的蒸镀温度下进行高温蒸镀而成为可形成介电体多层膜的膜，玻璃转移温度(Tg)优选为110℃～380℃，更优选为110℃～370℃，进而更优选为120℃～360℃的树脂。此外，树脂的玻璃转移温度为140℃以上时，因可获得在更高温下进行蒸镀而形成介电体多层膜的膜，故特别优选。

此外，作为前述树脂，可使用厚度0.1mm下的全光线透过率(JIS K 7105)优选为75％～95％，更优选为78％～95％，特别优选为80％～95％的树脂。若全光线透过率在此范围中，所得的基板作为光学膜显示良好的透明性。

作为前述树脂，例如可举出环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳香族聚酰胺(aramid))系树脂、聚丙烯酸酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对亚苯基系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂。

(1)环状烯烃系树脂

作为前述环状烯烃系树脂，优选为由选自由下述式(X₀)所示单体及下述式(Y₀)所示单体所组成的组群中的至少1个单体所得的树脂，或视必要进一步对前述所得的树脂进行氢化而得的树脂。

[化20]

式(X₀)中，R^x1～R^x4分别独立地表示选自下述(i')～(viii')的原子或基，k^x、m^x及p^x分别独立地表示0或正整数。

(i')氢原子

(ii')卤素原子

(iii')三烷基甲硅烷基

(iv')具有含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基的经取代或未经取代的碳数1～30的烃基

(v')经取代或未经取代的碳数1～30的烃基

(vi')極性基(但(iv')除外)

(vii')表示R^x1与R^x2或R^x3与R^x4相互结合所形成的亚烷基，与该结合无关的R^x1～R^x4分别独立地表示选自前述(i')～(vi')的原子或基。

(viii')表示R^x1与R^x2或R^x3与R^x4相互结合所形成的单环或多环烃环或杂环，与该结合无关的R^x1～R^x4分别独立地表示选自前述(i')～(vi')的原子或基，或R^x2与R^x3相互结合所形成的单环的烃环或杂环，与该结合无关的R^x1～R^x4分别独立地表示选自前述(i')～(vi')的原子或基。

[化21]

式(Y₀)中，R^y1及R^y2分别独立地表示选自前述(i')～(vi')的原子或基，或表示下述(ix')，K^y及P^y分别独立地表示0或正整数。

(ix')表示R^y1与R^y2相互结合所形成的单环或多环的脂环式烃、芳香族烃或杂环。

(2)芳香族聚醚系树脂

前述芳香族聚醚系树脂优选为具有选自由下述式(1)所示结构单位及下述式(2)所示结构单位所组成的组群中的至少1个结构单位。

[化22]

式(1)中，R¹～R⁴分别独立地表示碳数1～12的1价有机基，a～d分别独立地表示0～4的整数。

[化23]

式(2)中，R¹～R⁴及a～d分别独立地与前述式(1)中的R¹～R⁴及a～d同义，Y表示单键、-SO₂-或>C＝O，R⁷及R⁸分别独立地表示卤素原子、碳数1～12的1价有机基或硝基，g及h分别独立地表示0～4的整数，m表示0或1。但，m为0時，R⁷并非氰基。

此外，前述芳香族聚醚系树脂优选为进一步具有选自由下述式(3)所示结构单位及下述式(4)所示结构单位所组成的组群中的至少1个结构单位。

[化24]

式(3)中，R⁵及R⁶分别独立地表示碳数1～12的1价有机基，Z表示单键、-O-、-S-、-SO₂-、>C＝O、-CONH-、-COO-或碳数1～12的2价有机基，e及f分别独立地表示0～4的整数，n表示0或1。

[化25]

式(4)中，R⁷、R⁸、Y、m、g及h分别独立地与前述式(2)中的R⁷、R⁸、Y、m、g及h同义，R⁵、R⁶、Z、n、e及f分别独立地与前述式(3)中的R⁵、R⁶、Z、n、e及f同义。

(3)聚酰亚胺系树脂

作为前述聚酰亚胺系树脂，并无特别限制，只要是重复单位含有酰亚胺键的高分子化合物即可，例如可通过日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报所记载的方法进行合成。

(4)芴聚碳酸酯系树脂

作为前述芴聚碳酸酯系树脂，并无特别限制，只要是含有芴部位的聚碳酸酯树脂即可，例如可通过日本专利特开2008-163194号公报所记载的方法进行合成。

(5)芴聚酯系树脂

作为前述芴聚酯系树脂，并无特别限制，只要是含有芴部位的聚酯树脂即可，例如可通过日本专利特开2010-285505号公报或日本专利特开2011-197450号公报所记载的方法进行合成。

(6)氟化芳香族聚合物系树脂

作为前述氟化芳香族聚合物系树脂，并无特别限制，只要是含有具有至少1个氟的芳香族环、与包含选自由醚键、酮键、砜键、酰胺键、酰亚胺键及酯键所组成的组群中的至少1个结合的重复单位的聚合物即可，例如可通过日本专利特开2008-181121号公报所记载的方法进行合成。

(7)市售品

作为可使用于本发明的透明树脂的市售品，可举出以下市售品等。作为环状烯烃系树脂的市售品，例如可举出JSR股份有限公司制造的ARTON、日本瑞翁(ZEON)股份有限公司制造的ZEONOR、三井化学股份有限公司制造的APEL、宝理塑料(Polyplastics)股份有限公司制造的TOPAS等。作为聚醚砜系树脂的市售品，可举出住友化学股份有限公司制造的SUMIKAEXCEL PES等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，可举出三菱气体化学股份有限公司制造的Neoplim L等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，可举出帝人股份有限公司制造的PureACE等。作为芴聚碳酸酯系树脂的市售品，可举出三菱气体化学股份有限公司制造的Iupizeta EP-5000等。作为芴聚酯系树脂的市售品，可举出大阪气体化学股份有限公司制造的OKP4HT等。作为丙烯酸系树脂的市售品，可举出日本触媒股份有限公司制造的Acryviewa等。作为倍半硅氧烷系UV硬化树脂的市售品，可举出新日铁化学股份有限公司制造的Silplus等。

<近紫外线吸收剂>

可在本发明使用的近紫外线吸收剂优选为选自由甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所组成的组群中的至少1种，优选为在波长300nm～420nm中至少具有1个吸收最大值。通过除前述近红外线吸收色素外，还含有此种近紫外线吸收剂，可得到即使在近紫外波长区域，入射角依赖性也小的滤光器。

(1)甲亚胺系化合物

前述甲亚胺系化合物无特别限定，例如可由下述式(5)所示。

[化26]

式(5)中，R^a1～R^a5分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、碳数1～15的烷基、碳数1～9的烷氧基或碳数1～9的烷氧基羰基。

(2)吲哚系化合物

前述吲哚系化合物虽无特别限定，例如可由下述式(6)所示。

[化27]

式(6)中，R^b1～R^b5分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、氰基、苯基、芳烷基、碳数1～9的烷基、碳数1～9的烷氧基或碳数1～9的烷氧基羰基。

(3)苯并三唑系化合物

前述苯并三唑系化合物无特别限定，例如可由下述式(7)所示。

[化28]

式(7)中，R^c1～R^c3分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、芳烷基、碳数1～9的烷基、碳数1～9的烷氧基，或作为取代基表示具有碳数1～9的烷氧基羰基的碳数1～9的烷基。

(4)三嗪系化合物

前述三嗪系化合物无特别限定，例如可由下述式(8)、式(9)或式(10)所示。

[化29]

[化30]

[化31]

式(8)～式(10)中，R^d1独立地表示氢原子、碳原子数1～15的烷基、碳原子数3～8的环烷基、碳原子数3～8的烯基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数7～18的烷基芳基或芳基烷基。但，这些烷基、环烷基、烯基、芳基、烷基芳基及芳基烷基可由羟基、卤素原子、碳原子数1～12的烷基或烷氧基所取代，也可由氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或亚氨基进行中断。此外，前述取代及中断可进行组合。R^d2～R^d9分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、碳原子数1～15的烷基、碳原子数3～8的环烷基、碳原子数3～8的烯基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数7～18的烷基芳基或芳基烷基。

<其他成分>

前述树脂制基板在不损害本发明的效果的范围内，可进一步含有抗氧化剂、紫外线吸收剂、吸收近红外线的色素、荧光猝灭剂、及金属络合物系化合物等添加剂。此外，通过后述浇铸成形制造树脂制基板时，因添加整平剂或消泡剂，可使树脂制基板的制造容易完成。这些其他成分可单独使用1种或并用2种以上。

作为前述抗氧化剂，例如可举出2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧基-3,3'-二-叔丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、及四[亚甲基-3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等。

作为吸收前述近红外线的色素，例如可举出二硫醇系色素(dithiol-based dye)、二亚铵系色素(diimonium-based dye)、卟啉系色素(porphyrin-based dye)、克酮酸系色素(croconium-based dye)等。这些色素的结构并无特别限定，只要不损害本发明的效果，则可使用一般已知的。

且，这些添加剂在制造树脂制基板时，可同时与树脂等进行混合，也可在制造树脂时添加。此外，添加量是配合所需的特性进行适宜选择，一般对于树脂100重量份而言为0.01重量份～5.0重量份，优选为0.05重量份～2.0重量份。

<树脂制基板的制造方法>

前述树脂制基板例如可通过熔融成形或浇铸成形而形成，视必要在成形后，可通过涂布抗反射剂、硬涂布剂和/或静电防止剂等涂布剂的方法而制造。

(1)熔融成形

前述树脂制基板可通过如下方法而制造：对将树脂与近红外线吸收色素进行熔融混炼后所得的颗粒进行熔融成形的方法；对含有树脂与近红外线吸收色素的树脂组合物进行熔融成形的方法；或对自含有近红外线吸收色素、树脂及溶剂的树脂组合物除去溶剂而得的颗粒进行熔融成形的方法等。作为熔融成形方法，例如可举出射出成形、熔融压出成形或吹塑成形等。

(2)浇铸成形

前述树脂制基板也可通过如下方法而制造：将含有近红外线吸收色素、树脂及溶剂的树脂组合物浇铸于适当基材上，并除去溶剂的方法；将含有抗反射剂、硬涂布剂和/或静电防止剂等涂布剂、近红外线吸收色素、与树脂的树脂组合物浇铸于适当基材上的方法；或将含有抗反射剂、硬涂布剂和/或静电防止剂等涂布剂、近红外线吸收色素、与树脂的硬化性组合物浇铸于适当基材上后使其硬化及干燥的方法等而制造。

作为前述基材，例如可举出玻璃板、钢带(steel belt)、钢鼓(steel drum)及透明树脂(例如聚酯膜、环状烯烃系树脂膜)。

前述树脂制基板可通过自基材进行剥离而得，此外，只要不损害本发明的效果，也可无需自基材剥离而将基材与涂膜的积层体作为前述树脂制基板。

且可通过对玻璃板、石英或透明塑料制品等光学零件涂布前述树脂组合物后使溶剂干燥的方法，或通过涂布前述硬化性组合物后使其硬化及干燥的方法等，在光学零件上直接形成树脂制基板。

优选为利用前述方法所得的树脂制基板中的残留溶剂量尽可能少。具体而言，前述残留溶剂量对于树脂基板的重量而言，优选为3重量％以下，更优选为1重量％以下，进而更优选为0.5重量％以下。残留溶剂量在前述范围时，不容易变形或特性难以产生变化，得到可容易发挥所需功能的树脂制基板。

[近红外线反射膜]

可使用于本发明的近红外线反射膜为具有反射近红外线的能力的膜。作为此种近红外线反射膜，可举出分散由将铝蒸镀膜、贵金属薄膜、氧化铟作为主成分、且含有少量氧化锡的金属氧化物微粒子的树脂膜，或交互积层高折射率材料层与低折射率材料层而成的介电体多层膜等。

本发明中，近红外线反射膜可设置于树脂制基板的单面，也可设置于两面。设置于单面时，制造成本或制造容易性优良，设置于两面时，可得到具有高强度，不容易产生弯曲的滤光器。

在前述近红外线反射膜之中，更优选为交互积层高折射率材料层与低折射率材料层而成的介电体多层膜。

作为构成高折射率材料层的材料，可使用折射率为1.7以上的材料，通常选择折射率的范围为1.7～2.5的材料。作为此种材料，例如可举出将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌，或氧化铟等作为主成分，含有少量的氧化钛、氧化锡和/或氧化铈等(例如相对于主成分而言为0～10％)的等。

作为构成低折射率材料层的材料，可使用折射率为1.6以下的材料，通常选择折射率的范围为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可举出二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠等。

关于积层高折射率材料层与低折射率材料层的方法，只要积层这些材料层后形成介电体多层膜即可，并无特别限定。例如可在前述树脂制基板上直接利用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、溅射法、真空蒸镀法、离子助镀法或离子喷雾法等，形成交互积层高折射率材料层与低折射率材料层而成的介电体多层膜。

关于这些高折射率材料层及低折射率材料层的各层厚度，一般将所要遮断的近红外线波长设为λ(nm)时，优选为0.1λ～0.5λ的厚度。厚度在此范围时，折射率(n)与膜厚(d)的积(n×d)几乎与以λ/4算出的光学膜厚、高折射率材料层及低折射率材料层的各层厚度为相同值，由反射·折射的光学特性的关系来看，有可容易控制特定波长的遮断·透过的倾向。

此外，介电体多层膜中高折射率材料层与低折射率材料层的合计积层数为5层～60层，优选为10层～50层。

且，形成介电体多层膜时基板产生弯曲时，欲解决此问题，可采用在基板两面上形成介电体多层膜，或对基板的形成介电体多层膜的面照射紫外线等电磁波的方法等。且，照射电磁波时，可在介电体多层膜的形成中照射，也可在形成后另外照射。

[其他功能膜]

本发明的滤光器在不损害本发明的效果的范围内，可在树脂制基板与介电体多层膜等近红外线反射膜之间、树脂制基板的设置近红外线反射膜的面的反面，或近红外线反射膜的设置树脂制基板的面的反面上，以提高树脂制基板或近红外线反射膜的表面硬度、提高耐药品性、防止静电及消除损伤等为目的，适宜地设置抗反射膜、硬涂布膜或静电防止膜等功能膜。

本发明的滤光器可含有1层由前述功能膜所成层，也可含有2层以上。本发明的滤光器含有2层以上由前述功能膜所成层时，可含有2层以上的同样的层，也可含有2层以上的不同的层。

作为积层功能膜的方法，并无特别限定，可举出在树脂制基板或近红外线反射膜上，与前述同样对抗反射剂、硬涂布剂和/或静电防止剂等涂布剂进行熔融成形或浇铸成形的方法等。

此外，也可通过如下方式制造：利用棒涂布机等将含有前述涂布剂等的硬化性组合物涂布于树脂制基板或红外线反射膜上后，通过紫外线照射等使其硬化。

作为前述涂布剂，可举出紫外线(UV)/电子线(EB)硬化型树脂或热硬化型树脂等，具体可举出乙烯基化合物类或氨基甲酸酯系、氨基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。作为含有这些涂布剂的前述硬化性组合物，可举出乙烯基系、氨基甲酸酯系、氨基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组合物等。

此外，前述硬化性组合物可含有聚合引发剂。作为前述聚合引发剂，可使用公知的光聚合引发剂或热聚合引发剂，也可并用光聚合引发剂与热聚合引发剂。聚合引发剂可单独使用1种，也可并用2种以上。

前述硬化性组合物中，将硬化性组合物的总量设为100重量％时，聚合引发剂的配合比率优选为0.1重量％～10重量％，更优选为0.5重量％～10重量％，进而更优选为1重量％～5重量％。聚合引发剂的配合比率在前述范围时，可得到硬化性组合物的硬化特性及处理性优良，具有所需硬度的抗反射膜、硬涂布膜或静电防止膜等功能膜。

前述硬化性组合物中可进一步加入作为溶剂的有机溶剂，作为有机溶剂，可使用公知的。作为有机溶剂的具体例，可举出甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲基醚、二乙二醇单丁基醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。这些溶剂可单独使用1种，也可并用2种以上。

前述功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，更优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。

此外，也可以提高树脂制基板与功能膜和/或近红外线反射膜的密着性，或功能膜与近红外线反射膜的密着性为目的，对树脂制基板或功能膜表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。

[滤光器的特性等]

本发明的滤光器具有前述树脂制基板。因此本发明的滤光器透过率特性优良，使用时不受限制。此外，树脂制基板所含的方酸系化合物与花青系化合物皆在波长600nm～800nm具有吸收最大值，故可有效率地吸收近红外光，通过与上述近红外反射膜组合，可得到入射角依赖性小的滤光器。

本发明的滤光器通过使用方酸系化合物与花青系化合物，可兼具良好的吸收特性与可见光透过率，可减小入射角依赖性，且可减低散射光强度。一般已知方酸系化合物在光吸收时会发出荧光，但通过并用花青系化合物，可使荧光再吸收，作为结果可减低所观测的散射光强度。将分光测定中的底线透过光量设为100％时，测定滤光器样品时所观测的散射光强度，优选为0.50％以下，特别优选为0.35％以下。散射光强度在此范围时，可得到图像没有模糊等的良好的照相图像。

[滤光器的用途]

本发明的滤光器视角广，具有优良近红外线阻断能力等。因此，可用于照相机模块的CCD或CMOS图像传感器等固体摄影元件的视感度修正。特别可用于数字照相机(DigitalStill Camera)、移动电话用照相机、数字摄影机、PC照相机、监视摄影机、汽车用照相机、电视机、汽车导航、移动信息终端机、个人计算机、视频游戏机(video game machines)、移动游戏机、指纹认证系统、数字音乐播放机等。且也可用作安装于汽车或建筑物等的玻璃等的热线截止滤光器等。

<固体摄影装置>

本发明的固体摄影装置具备本发明的滤光器。此处，所谓固体摄影装置为具备CCD或CMOS图像传感器等固体摄影元件的图像传感器，具体可使用于数字照相机(DigitalStill Camera)、移动电话用照相机、数字摄影机等用途。

<照相机模块>

本发明的照相机模块具备本发明的滤光器。此处，对于将本发明的滤光器使用于照相机模块的情况做具体说明。图1(a)及图1(b)表示照相机模块1的截面概略图。

图1(a)为现有的照相机模块结构的截面概略图，图1(b)表示使用本发明的滤光器6'时，可采取的一照相机模块结构的截面概略图。且，图1(b)中，将本发明的滤光器6'使用于镜头5的上部，本发明的滤光器6'也可使用于如图1(a)所示的镜头5与传感器7之间。

现有的照相机模块中，必须入射相对于滤光器6几乎垂直的光10。因此滤光器6必须配置于镜头5与传感器7之间。

此处，传感器7为高感度，仅接触5μm左右的尘埃即无法正确操作，故使用于传感器7的上部的滤光器6必须为不会产生尘埃的，且为不含异物的。此外，由前述传感器7的特性来看，在滤光器6与传感器7之间，必须要设定所定间隔，此为阻碍照相机模块的薄形化的原因之一。

相对于此，本发明的滤光器6'的情况为，自滤光器6'的垂直方向所入射的光、与自相对于滤光器6'的垂直方向为30°的角度所入射的光的透过波长并无太大差异(吸收(透过)波长的入射角依赖性小)，因此滤光器6'无需配置于镜头5与传感器7之间，也可配置于镜头的上部。

因此，将本发明的滤光器6'使用于照相机模块1时，该照相机模块的处理性变得容易，此外，因无需在滤光器6'与传感器7之间设定所定间隔，故可使照相机模块1薄形化。

[实施例]

以下依据实施例对本发明做更具体的说明，但本发明并未受到这些实施例任何限定。且“份”若无特别说明则表示“重量份”。此外，各物性值的测定方法及物性的评估方法如以下所示。

<分子量>

树脂的分子量考虑到各树脂对溶剂的溶解性等，以下述(a)或(b)的方法进行测定。

(a)使用沃特世(WATERS)公司制造的凝胶渗透色谱法(GPC)装置(150C型、管柱：东曹(Tosoh)公司制造的H型管柱、展开溶剂：邻二氯苯)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。

(b)使用Tosoh公司制造的GPC装置(HLC-8220型、管柱：TSKgelα-M、展开溶剂：四氢呋喃(tetrahydrofuran，THF))，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。

且，对于后述树脂合成例3所合成的树脂，并非通过上述方法进行分子量测定，而是通过下述方法(c)进行对数粘度的测定。

(c)将聚酰亚胺树脂溶液的一部分投入至无水甲醇中，析出聚酰亚胺树脂，经过滤后自未反应单体分离。在80℃进行12小时真空干燥，将所得的聚酰亚胺0.1g溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮20mL，使用坎农-芬斯克(Cannon-Fenske)粘度计，通过下述式求得30℃的对数粘度(μ)。

μ＝{ln(t_s/t₀)}/C

t₀：溶剂的流下时间

t_s：稀薄高分子溶液的流下时间

C：0.5g/dL

<玻璃转移温度(Tg)>

使用精工纳米科技(SII NanoTechnology)股份有限公司制造的示差扫描热量计(DSC6200)，升温速度：每分钟20℃，在氮气流下进行测定。

<分光透过率>

吸收最大值、各波长区域中的透过率、及(Xa),(Xb)使用日立高新技术(HitachiHigh-Technologies)股份有限公司制造的分光光度计9(U-4100)进行测定。

其中，自滤光器8的垂直方向进行测定时的透过率，如图2所示测定垂直于滤光器的透过光10。此外，自相对于滤光器8的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率，如图3所示测定相对于滤光器的垂直方向为30°的角度下的透过光10。

且，该透过率为除去测定(Xb)的情况，在光垂直于基板及滤光器的入射条件下，使用该分光光度计9进行测定的。测定(Xb)的情况为，在光相对于滤光器的垂直方向以30°的角度入射的条件下使用该分光光度计9进行测定的。

<散射光强度>

使用日立高新技术股份有限公司制造的分光光度计(U-4100)，测定波长700nm～715nm中的散射光的平均强度。

其中，测定散射光14强度时，如图4所示由光反射少的黑色康保费得板(CARBONFEATHERSHEET)17取代分光光度计的积分球15的一部分，以使射入积分球15内的光线不会在积分球15的内部反射·散射。通过使用此种测定方法，可测定在滤光器部分散射的光的强度。且，在此可测定的散射光14中，除在滤光器部分物理性散射的光以外，也含有方酸系化合物在光吸收时所产生的荧光。

[合成例]

在下述实施例所使用的方酸系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、近紫外线吸收剂、及其他色素，可使用一般已知方法进行合成，例如可参照日本专利第3366697号公报、日本专利第2846091号公报、日本专利第2864475号公报、日本专利第3703869号公报、日本专利特开昭60-228448号公报、日本专利特开平1-146846号公报、日本专利特开平1-228960号公报、日本专利第4081149号公报、日本专利特开昭63-124054号公报、《酞菁-化学与功能》(IPC、1997年)、日本专利特开2007-169315号公报、日本专利特开2009-108267号公报、日本专利特开2010-241873号公报、日本专利第3699464号公报、日本专利第4740631号公报等记载的方法进行合成。

<树脂合成例1>

将下述式(a)所示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.1² _, ⁵.1⁷ _, ¹⁰]十二碳-3-烯(以下也称为“DNM”)100份、1-己烯(分子量调节剂)18份及甲苯(开环聚合反应用溶剂)300份，装入以氮气置换的反应容器中，将该溶液加热至80℃。其次在反应容器内的溶液中，添加作为聚合催化剂的三乙基铝的甲苯溶液(0.6mol/公升)0.2份、与甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度0.025mol/公升)0.9份，通过将该溶液在80℃进行3小时加热搅拌而进行开环聚合反应，而得到开环聚合物溶液。该聚合反应中的聚合转化率为97％。

[化32]

将如此所得的开环聚合物溶液1,000份装入高压釜中，在该开环聚合物溶液中添加RuHCl(CO)[P(C₆H₅)₃]₃0.12份，在氢气压100kg/cm²、反应温度165℃的条件下进行3小时加热搅拌并进行氢化反应。

将所得的反应溶液(氢化聚合物溶液)冷却后，将氢气释压。将该反应溶液注入至大量甲醇中并分离回收凝固物，将此干燥后得到氢化聚合物(以下也称为“树脂A”)。所得的树脂A的数量平均分子量(Mn)为32,000，重量平均分子量(Mw)为137,000，玻璃转移温度(Tg)为165℃。

<树脂合成例2>

在3L的4口烧瓶中，添加2,6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)、9,9-双(4-羟基苯基)芴87.60g(0.250mol)、碳酸钾41.46g(0.300mol)、N,N-二甲基乙酰胺(以下也称为“DMAc”)443g及甲苯111g。继而，在4口烧瓶中装上温度计、搅拌机、附有氮气导入管的三向龙头(cock)、Dean-Stark管及冷却管。

其次，将烧瓶内由氮气置换后，将所得的溶液在140℃进行3小时反应，将所生成的水由Dean-Stark管随时取出。在无法认定为有水生成时，缓慢地将温度上升至160℃，在该温度下进行6小时反应。

冷却至室温(25℃)后，将生成的盐以滤纸除去，将滤液投入至甲醇中使其再沉淀，通过过滤分离，分离出过滤物(残渣)。将所得的过滤物在60℃进行一晩真空干燥，得到白色粉末(以下也称为“树脂B”)(产率95％)。所得的树脂B的数量平均分子量(Mn)为75,000，重量平均分子量(Mw)为188,000，玻璃转移温度(Tg)为285℃。

<树脂合成例3>

在具备温度计、搅拌器、氮气导入管、带有侧管的滴定漏斗、Dean-Stark管及冷却管的500mL的5口烧瓶中，在氮气流下放入1,4-双(4-氨基-α,α-二甲基苄基)苯27.66g(0.08摩尔)及4,4’-双(4-氨基苯氧基)联苯基7.38g(0.02摩尔)，溶解于γ-丁内酯68.65g及N,N-二甲基乙酰胺17.16g。使用冰水浴，将所得的溶液冷却至5℃，保持于该温度，一次添加1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐22.62g(0.1摩尔)及作为酰亚胺化催化剂的三乙基胺0.50g(0.005摩尔)。添加结束后，升温至180℃，一边随时馏去馏出液，一边进行6小时回流。反应结束后，空冷至内温到达100℃后，加入N,N-二甲基乙酰胺143.6g并稀释，一边搅拌一边冷却，得到固体成分浓度20重量％的聚酰亚胺树脂溶液264.16g。将该聚酰亚胺树脂溶液的一部分注入至1L的甲醇中，使聚酰亚胺沉淀。将过滤分离的聚酰亚胺以甲醇洗净后，在100℃的真空干燥机中进行24小时干燥并得到白色粉末(以下也称为“树脂C”)。测定所得的树脂C的红外线(Infrared Ray，IR)光谱时，发现酰亚胺基特有的1704cm^-1、1770cm^-1的吸收。树脂C的玻璃转移温度(Tg)为310℃，测定对数粘度的结果为0.87。

<树脂合成例4>

将9,9-双(4-(2-羟基乙氧基)苯基)芴9.167kg(20.90摩尔)、双酚A 4.585kg(20.084摩尔)、二苯基碳酸酯9.000kg(42.01摩尔)、及碳酸氢钠0.02066kg(2.459×10^-4摩尔)放入具备搅拌机及馏出装置的50L反应器，在氮气环境下，760Torr下，经1小时加热至215℃并进行搅拌。其后经15分钟将减压度调整至150Torr，在215℃、150Torr的条件下保持20分钟，进行酯交换反应。进一步在37.5℃/Hr的速度下升温至240℃，在240℃、150Torr下保持10分钟。其后经10分钟调整至120Torr，在240℃、120Torr下保持70分钟。其后经10分钟调整至100Torr，在240℃、100Torr下保持10分钟。进一步经40分钟调整至1Torr以下，在240℃、1Torr以下的条件下进行10分钟搅拌并进行聚合反应。反应结束后，在反应器内导入氮气并使其加压，一边使所生成的聚碳酸酯树脂(以下也称为“树脂D”)颗粒化，一边取出。所得的树脂D的重量平均分子量为41,000，玻璃转移温度(Tg)为152℃。

<树脂合成例5>

在反应器中加入9,9-双{4-(2-羟基乙氧基)-3,5-二甲基苯基}芴0.8摩尔、乙二醇2.2摩尔及间苯二甲酸二甲酯1.0摩尔，一边搅拌一边缓慢地加热熔融进行酯交换反应后，加入氧化锗20×10^-4摩尔，一边缓慢地加热及减压到290℃、1Torr以下，一边除去乙二醇。此后将内容物自反应器取出，得到聚酯树脂(以下也称为“树脂E”)的颗粒。所得的树脂E的数量平均分子量为40,000，玻璃转移温度为145℃。

<树脂合成例6>

在具备温度计、冷却管、气体导入管及搅拌机的反应器中，装入4,4'-双(2,3,4,5,6-五氟苯甲酰基)二苯基醚(BPDE)16.74份、9,9-双(4-羟基苯基)芴(HF)10.5份、碳酸钾4.34份及DMAc 90份。将该混合物加温至80℃，进行8小时反应。反应结束后，一边利用搅拌器将反应溶液激烈搅拌，一边添加至1％乙酸水溶液中。将析出的反应物过滤分离，以蒸馏水及甲醇洗净后，减压干燥，得到氟化聚醚酮(以下也称为“树脂F”)。所得的树脂F的数量平均分子量为71000，玻璃转移温度(Tg)为242℃。

[实施例A1]

在容器中加入合成例1所得的树脂A 100重量份、方酸系化合物(a-16)0.03重量份、酞菁系化合物(b-11)0.01重量份，进一步加入二氯甲烷，由此得到树脂浓度为20重量％的溶液(ex1)。其次，将所得的溶液浇铸于平滑玻璃板上，在20℃进行8小时干燥后，自玻璃板剥离。将剥离的涂膜进一步在减压下以100℃进行8小时干燥，得到厚度0.1mm、纵60mm、横60mm的基板。

测定该基板的分光透过率，求得吸收最大值波长、吸收最大值波长的透过率、及可见光波长区域中的透过率。结果如表10及表11所示。

继而，在所得的基板的单面上，在蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[交互积层二氧化硅(SiO₂：膜厚83nm～199nm)层与二氧化钛(TiO₂：膜厚101nm～125nm)层所成的，积层数20]，进而在基板的另一面上，在蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[交互积层二氧化硅(SiO₂：膜厚77nm～189nm)层与二氧化钛(TiO₂：膜厚84nm～118nm)层所成的，积层数26]，得到厚度0.105mm的滤光器。测定该滤光器的分光透过率，评估各波长区域中的光学特性。结果如表10所示。

波长430nm～580nm中的透过率的平均值为91％，波长800nm～1000nm中的透过率的平均值为1％以下。

[实施例A2]

在实施例A1所得的厚度0.1mm、纵60mm、横60mm的基板的单面上，在蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[交互积层二氧化硅(SiO₂：膜厚120nm～190nm)层与二氧化钛(TiO₂：膜厚70nm～120nm)层所成的，积层数40]，制造厚度0.104mm的滤光器并评估。结果如表10所示。

[实施例A3]～[实施例A23]及[比较例A1]～[比较例A6]

采用表9所示的树脂、溶剂、色素及膜干燥条件，除此以外与实施例A1同样地，制造出厚度0.105mm的滤光器。滤光器的制造条件如表9所示，评估结果如表10及表11所示。且表9中，树脂的添加份数皆为100重量份，树脂溶液的浓度皆为20重量％。此外，实施例及比较例中所使用的树脂A～树脂F、方酸系化合物及酞菁系化合物以外的各种化合物及溶剂如下述所示。

树脂G：环状烯烃系树脂“ZEONOR 1420R”(日本ZEON(股)制造)

树脂H：环状烯烃系树脂“APEL#6015”(三井化学(股)制造)

树脂I：聚碳酸酯系树脂“Pure ACE”(帝人(股)制造)

树脂J：聚醚砜系树脂“Sumilite FS-1300”(住友电木(Sumitomo Bakelite)(股)制造)

树脂K：耐热丙烯酸系树脂“Acryviewa”((股)日本触媒制造)

溶剂(1)：二氯甲烷

溶剂(2)：N,N-二甲基乙酰胺

溶剂(3)：乙酸乙酯/甲苯(重量比：5/5)

溶剂(4)：环己烷/二甲苯(重量比：7/3)

溶剂(5)：环己烷/二氯甲烷(重量比：99/1)

溶剂(6)：N-甲基-2-吡咯烷酮

化合物(11)：下述式(11)所示三嗪系化合物

化合物(12)：下述式(12)所示吲哚系化合物

化合物(13)：下述式(13)所示镍络合物

化合物(14)：下述式(14)所示花青系化合物

此外，表9中实施例及比较例的膜干燥条件如以下所示。

条件(1)：20℃/8hr→减压下100℃/8hr

条件(2)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下140℃/8hr

条件(3)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下100℃/24hr

条件(4)：40℃/4hr→60℃/4hr→减压下100℃/8hr

[化33]

[化34]

[化35]

[化36]

[表11]

[实施例B1]

在容器中加入树脂合成例1所得的树脂A 100重量份、方酸系化合物(a-16)0.03重量份、花青系化合物(c-19)0.01重量份，进一步加入二氯甲烷，由此得到树脂浓度为20重量％的溶液(ex1)。其次将所得的溶液浇铸于平滑的玻璃板上，在20℃进行8小时干燥后，自玻璃板剥离。将剥离的涂膜进一步在减压下以100℃进行8小时干燥，得到厚度0.1mm、纵60mm、横60mm的基板。

测定该基板的分光透过率，求得吸收最大值波长、吸收最大值波长的透过率、及可见光波长区域中的透过率。结果如表13所示。

继而，在所得的基板的单面上，在蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[交互积层二氧化硅(SiO₂：膜厚83nm～199nm)层与二氧化钛(TiO₂：膜厚101nm～125nm)层所成的，积层数20]，进一步在基板的另一面上，在蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[交互积层二氧化硅(SiO₂：膜厚77nm～189nm)层与二氧化钛(TiO₂：膜厚84nm～118nm)层所成的，积层数26]，得到厚度0.105mm的滤光器。测定该滤光器的分光透过率，对各波长区域中的光学特性进行评估。结果如表13所示。

波长430nm～580nm中的透过率的平均值为90％，波长800nm～1000nm中的透过率的平均值为1％以下。

[实施例B2]

在实施例B1所得的厚度0.1mm、纵60mm、横60mm的基板的单面上，在蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[交互积层二氧化硅(SiO₂：膜厚120nm～190nm)层与二氧化钛(TiO₂：膜厚70nm～120nm)层所成的，积层数40]，制造出厚度0.104mm的滤光器并进行评估。结果如表13所示。

[实施例B3]～[实施例B15]及[比较例B1]～[比较例B4]

采用表12所示的树脂、溶剂、色素及膜干燥条件，除此以外与实施例B1同样地，制造出厚度0.105mm的滤光器。滤光器的制造条件如表12所示，评估结果如表13所示。且表12中，树脂的添加份数皆为100重量份，树脂溶液的浓度皆为20重量％。此外，表12中，上述树脂合成例中所制造的树脂A～树脂F以外的树脂G～树脂K、溶剂及膜干燥条件与上述表9中的树脂G～树脂K、溶剂及膜干燥条件同样。

产业上可利用性

本发明的滤光器可适用于数字照相机(Digital Still Camera)、移动电话用照相机、数字摄影机、PC照相机、监视摄影机、汽车用照相机、电视机、汽车导航、移动信息终端机、个人计算机、视频游戏机、移动游戏机、指纹认证系统、数字音乐播放机等。且也可用作安装于汽车或建筑物等的玻璃等的热线截止滤光器等。

Claims (16)

1.一种固体摄影装置用滤光器，其特征在于，含有：

包含方酸系化合物(A)、与选自由酞菁系化合物(B-1)及花青系化合物(B-2)所组成的组群中的至少1种化合物(B)的近红外线吸收色素，

其中所述方酸系化合物(A)的吸收最大值相较于所述化合物(B)的吸收最大值而位于短波长侧，

所述方酸系化合物(A)在620nm以上，740nm以下的波长区域具有吸收最大值，且所述化合物(B)在640nm以上，760nm以下的波长区域具有吸收最大值，

所述方酸系化合物(A)与所述化合物(B)的吸收最大值波长的差为1nm～60nm。

2.根据权利要求1所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，将所述近红外线吸收色素全体作为100重量％时，所述方酸系化合物(A)的含有量为20重量％～95重量％，所述化合物(B)的含有量为5重量％～80重量％。

3.根据权利要求1所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述方酸系化合物(A)为下述式(I)或式(II)所示化合物；

式(I)中，R^a、R^b及Y满足下述(i)或(ii)的条件；

(i)多个R^a独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，R^e及R^f分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

多个R^b独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基，R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基，Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

多个Y独立地表示-NR^jR^k基，R^j及R^k分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

L¹表示

(L^a)可具有取代基L的碳数1～9的脂肪族烃基、

(L^b)可具有取代基L的碳数1～9的卤素取代烷基、

(L^c)可具有取代基L的碳数3～14的脂环式烃基、

(L^d)可具有取代基L的碳数6～14的芳香族烃基、

(L^e)可具有取代基L的碳数3～14的杂环基、

(L^f)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基、

(L^g)可具有取代基L的碳数1～9的酰基，或

(L^h)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基羰基，

取代基L为选自由碳数1～9的脂肪族烃基、碳数1～9的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的组群中的至少1种，所述L^a～L^h进一步可具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群中的至少1种原子或基；

(ii)1个苯环上的2个R^a中至少1个与相同苯环上的Y相互结合，形成含有至少1个氮原子的构成原子数5或6的杂环，所述杂环可具有取代基，

R^b及与所述杂环的形成无关的R^a分别独立地与所述条件(i)的R^b及R^a同义

式(II)中，X表示O、S、Se、N-R^c或C-R^dR^d，

多个R^c独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

多个R^d独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，相邻R^d彼此连结可形成可具有取代基的环，

L^a～L^e、L¹、R^e及R^f与所述式(I)中所定义的L^a～L^e、L¹、R^e及R^f同义。

4.根据权利要求1所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述酞菁系化合物(B-1)为下述式(III)所示化合物；

式(III)中，M表示含有2个氢原子，2个1价金属原子、2价金属原子或3价或4价金属原子的取代金属原子，

多个R_a、R_b、R_c及R_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_a与R_b、R_b与R_c及R_c与R_d中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，相同芳香环上所结合的R_a、R_b、R_c及R_d中至少1个并非氢原子，

所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有根据权利要求3所述的式(I)中所定义的取代基L，

L¹与所述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或所述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示羟基或所述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示所述L^a～L^e的任一者，

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_a与R_b、R_b与R_c或R_c与R_d的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，L¹～L⁴与所述式(III)中所定义的L¹～L⁴同义，所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有所述取代基L。

5.根据权利要求3所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述酞菁系化合物(B-1)为下述式(III)所示化合物；

式(III)中，M表示含有2个氢原子，2个1价金属原子、2价金属原子或3价或4价金属原子的取代金属原子，

多个R_a、R_b、R_c及R_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_a与R_b、R_b与R_c及R_c与R_d中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，相同芳香环上所结合的R_a、R_b、R_c及R_d中至少1个并非氢原子，

所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有根据权利要求3所述的式(I)中所定义的取代基L，

L¹与所述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或所述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示羟基或所述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示所述L^a～L^e的任一者，

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_a与R_b、R_b与R_c或R_c与R_d的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，L¹～L⁴与所述式(III)中所定义的L¹～L⁴同义，所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有所述取代基L。

6.根据权利要求4所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述式(III)中的M为属于周期表5族～11族且属于第4周期～第5周期的2价过渡金属、3价或4价金属卤化物，或4价金属氧化物。

7.根据权利要求5所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述式(III)中的M为属于周期表5族～11族且属于第4周期～第5周期的2价过渡金属、3价或4价金属卤化物，或4价金属氧化物。

8.根据权利要求1所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述花青系化合物(B-2)为下述式(IV-1)～式(IV-3)的任一个所示化合物；

式(IV-1)～式(IV-3)中，X_a ^-表示1价阴离子，

多个D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，

多个R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g、R_h及R_i分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，

所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有根据权利要求3所述的式(I)中所定义的取代基L，

L¹与所述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或所述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示氢原子或所述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示所述L^a～L^e的任一者，

Z_a～Z_c及Y_a～Y_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，L¹～L⁴与所述R_a～R_i中的L¹～L⁴同义，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的至少可含有1个氮原子、氧原子或硫原子的5至6元环的脂环式烃基、

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的碳数6～14的芳香族烃基，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的至少含有1个氮原子、氧原子或硫原子的碳数3～14的杂芳香族烃基，所述脂环式烃基、芳香族烃基及杂芳香族烃基可具有碳数1～9的脂肪族烃基或卤素原子

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³或-N＝N-L⁴，L¹～L⁴与所述式(IV-1)～式(IV-3)中所定义的L¹～L⁴同义，所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有所述取代基L。

9.根据权利要求3所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述花青系化合物(B-2)为下述式(IV-1)～式(IV-3)的任一个所示化合物；

式(IV-1)～式(IV-3)中，X_a ^-表示1价阴离子，

多个D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，

多个R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g、R_h及R_i分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，或R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i中至少1组合进行结合而成的选自由下述式(A)～式(H)所示基所组成的组群中的至少1种基，

所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有根据权利要求3所述的式(I)中所定义的取代基L，

L¹与所述式(I)中所定义的L¹同义，

L²表示氢原子或所述式(I)中所定义的L^a～L^e的任一者，

L³表示氢原子或所述L^a～L^e的任一者，

L⁴表示所述L^a～L^e的任一者，

Z_a～Z_c及Y_a～Y_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，L¹～L⁴与所述R_a～R_i中的L¹～L⁴同义，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的至少可含有1个氮原子、氧原子或硫原子的5至6员环的脂环式烃基、

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的碳数6～14的芳香族烃基，或

选自邻接的两者的Z彼此或Y彼此相互结合所形成的至少含有1个氮原子、氧原子或硫原子的碳数3～14的杂芳香族烃基，所述脂环式烃基、芳香族烃基及杂芳香族烃基可具有碳数1～9的脂肪族烃基或卤素原子，

式(A)～式(H)中，R_x与R_y的组合为R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i的组合，

多个R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、甲硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³或-N＝N-L⁴，L¹～L⁴与所述式(IV-1)～式(IV-3)中所定义的L¹～L⁴同义，所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及甲硅烷基可具有所述取代基L。

10.根据权利要求1所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，具有含有所述近红外线吸收色素及树脂的树脂制基板。

11.根据权利要求10所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述近红外线吸收色素全体的含有量对于所述树脂100重量份而言为0.01重量份～5.0重量份。

12.根据权利要求10所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚丙烯酸酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对亚苯基系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、改性丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂所组成的组群中的至少1种树脂。

13.根据权利要求11所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，所述树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚丙烯酸酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对亚苯基系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、改性丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂所组成的组群中的至少1种树脂。

14.根据权利要求1所述的固体摄影装置用滤光器，其特征在于，进一步含有选自由甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所组成的组群中的至少1种近紫外线吸收剂。

15.一种固体摄影装置，其特征在于，具备根据权利要求1至14中任一项所述的固体摄影装置用滤光器。

16.一种照相机模块，其特征在于，具备根据权利要求1至14中任一项所述的固体摄影装置用滤光器。