JP5140923B2 - クロコニウム化合物 - Google Patents

Description

本発明は、新規なクロコニウム化合物に関するものである。

一般に近赤外線を吸収する染料を用いた光学フィルターは良く知られており、その用途としてはサングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車、電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。

また、最近では大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、ＰＤＰ用フィルターとしても、８００〜１１００ｎｍの近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を含有したフィルターの要求がある。

上述のような近赤外線吸収フィルターとしては、銅や鉄などの金属イオンを含有させたもの、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ジチオール金属錯体化合物、アミノチオフェノール金属錯体化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン化合物、インモニウム化合物、ジインモニウム化合物、ナフトキノン化合物、アントラキノン化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物等の近赤外線吸収色素を含有させたものなど種々検討がなされている。上記近赤外線吸収染料のうち、８００〜１１００ｎｍに極大吸収を持ち、且つ可視部に吸収が少ないという特性を有するものは少なく、またこれらの光学特性が良好であっても、耐光性、耐熱性及び耐湿性が低く、光学フィルターとしての性能が損なわれる場合も多い。

現在、光学フィルター用として最もよく用いられている染料としては、ジチオール金属錯体化合物とジインモニウム化合物との併用である（例えば、特許文献１〜３参照。）。しかしながら、上記ジインモニウム化合物は少量の劣化でも色素が黄色味を帯びてしまうという問題や、他の色素類とは別層にしてフィルターを作製する必要があるという問題がある。

この問題を解決するために、ジインモニウム化合物を用いなくても近赤外線を吸収できる金属錯体が記載されている（例えば、特許文献４参照。）。しかしながら、特許文献４に記載の化合物では可視部の吸収が大きく色調が悪いという問題点があった。
特開平１０−２８３９３９号公報 特開平１１−７３１１５号公報 特開平１１−２３１１０６号公報 特開２００４−２９４３６号公報

本発明の目的は、耐光性、耐熱性及び耐湿性が高く、色調に優れた光学フィルターなどの用途に資する新規クロコニウム化合物を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。

１．下記一般式（３）で表される、クロコニウム化合物。

（式中、Ｒ_１１及びＲ_１２は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｘ_３１及びＸ_３２は各々独立に酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ_３３を表し、Ｒ_３３はアルキル基またはアリール基を表す。Ａ_３１は非置換の、または、２−イソブチルオキシ基もしくは２−イソペンチルオキシ基で置換されたアルキル基を表し、Ａ_３２は非置換の、または、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、メチル基、もしくはメトキシ基で置換されたアリール基を表す。）

２．前記一般式（３）で表される化合物において、Ｘ_３１及びＸ_３２が共に酸素原子であることを特徴とする前記１に記載のクロコニウム化合物。

３．前記一般式（３）で表される化合物において、Ｘ_３１及びＸ_３２が共に硫黄原子であることを特徴とする前記１に記載のクロコニウム化合物。

４．メチルエチルケトン中での極大吸収波長が８５０〜９５０ｎｍであることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項-に記載のクロコニウム化合物。
５．前記１〜４のいずれか１項に記載のクロコニウム化合物を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。

本発明によって、耐光性、耐熱性及び耐湿性が高く、色調に優れた光学フィルターなどの用途に資する新規クロコニウム化合物を提供することができた。

以下、本発明を詳細に説明する。

前記一般式（１）において、Ｒ₁₁及びＲ₁₂は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ベンジル基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。好ましくはアルキル基であり、更に好ましくはメチル基またはエチル基である。

Ｘ₁₁及びＸ₁₂は各々独立に酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ₁₃を表し、Ｒ₁₃はアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。Ａ₁₁〜Ａ₁₄は各々独立に置換基を表し、置換基としてはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。Ａ₁₁〜Ａ₁₄が全てアリール基の場合、Ａ₁₁及びＡ₁₃に置換する基としてはアルキルオキシ基が好ましく、特に好ましくはｏ−アルキルオキシ基である。

前記一般式（２）において、Ｒ₁₁及びＲ₁₂は前記一般式（１）のＲ₁₁及びＲ₁₂と同義である。Ｘ₂₁は酸素原子または硫黄原子を表す。Ｒ₂₃はアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。Ａ₁₁〜Ａ₁₄は前記一般式（１）のＡ₁₁〜Ａ₁₄と同義である。

Ｘ₂₁が硫黄原子の場合、Ａ₁₃及びＡ₁₄が共にアルキル基であることが好ましく、Ｘ₂₁が酸素原子の場合、Ａ₁₃及びＡ₁₄が共にアリール基であることが好ましい。

前記一般式（３）において、Ｒ₁₁及びＲ₁₂は前記一般式（１）のＲ₁₁及びＲ₁₂と同義である。Ｘ₃₁及びＸ₃₂は各々独立に酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ₃₃を表し、Ｒ₃₃はアルキル基またはアリール基を表す。

Ａ₃₁及びＡ₃₂は各々独立に置換基を表し、置換基としてはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられ、これらの基は更に置換基を有していてもよい。但し、Ａ₃₁とＡ₃₂が互いに同一の置換基であることはない。好ましくはＡ₃₁がアルキル基、且つＡ₃₂がアリール基の場合である。

以下に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２０００，６５，２２３６−２２３８に記載の方法に準じて合成できる。以下に、合成例を示すが、本発明はこの合成例に限定されない。

例示化合物Ｃ−４の合成

中間体Ａの合成
水素化ナトリウム２８．０ｇとジエチレングリコールジメチルエーテル（以下、ＤＭＥと称す）１５０ｍｌを混合し、加熱還流を行った。加熱還流下、ベンゾイルアセトン２２．８ｇ、中間体１、４３．４ｇ及びＤＭＥ１５０ｍｌを混合した溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、加熱還流を４時間行った後、ＤＭＥを２３０ｍｌ留去した。反応液を水で冷却し、メタノール３０ｍｌをゆっくり加えた。更に反応溶液を氷水冷却し、水１Ｌを加え、１時間撹拌を行った。酢酸エチル２００ｍｌ、濃塩酸３６ｍｌを順次加え、有機層を分取した。分取した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮で溶媒を留去することにより中間体Ａを３７ｇ得た。

中間体Ｂの合成
濃硫酸３００ｍｌを氷水冷却し、中間体Ａをトルエン３７ｍｌに溶解した溶液を加えた。氷水冷却下、２時間撹拌を行った後、反応溶液を氷水冷却した水３Ｌに滴下した。酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を分取した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌで順次洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｂを２２．７ｇ得た。

中間体Ｃの合成
窒素雰囲気下、中間体Ｂ、４．２ｇをテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと称す）２４ｍｌに溶解した。臭化メチルマグネシウム（０．８４Ｍ、ＴＨＦ溶液）２４．７ｍｌを滴下し、室温で１時間撹拌した。飽和臭化アンモニウム水溶液１２０ｍｌをゆっくりと加えた後、酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮で溶媒を留去し、中間体Ｃを４．７ｇ得た。

例示化合物Ｃ−４の合成
中間体Ｃ、４．７ｇ、クロコン酸０．８４ｇ、メタノール２０ｍｌ、ピリジン０．９４ｇを順次混合し、３時間加熱還流を行った。反応溶液を放冷後、氷水冷却下で５時間撹拌を行い、析出結晶をろ取した。得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、例示化合物Ｃ−４を２．６ｇ得た。λｍａｘ＝９０９．５ｎｍ（酢酸エチル中）、ε＝２８５，０００（酢酸エチル中）。

例示化合物Ｃ−４と同様の合成処方で、例示化合物Ｃ−８を合成した。λｍａｘ＝８８９．０ｎｍ（酢酸エチル中）、ε＝１８７，０００（酢酸エチル中）。

例示化合物Ｃ−２５

中間体Ｄの合成
氷水冷却下、臭化エチルマグネシウム（０．９６Ｍ、ＴＨＦ溶液）６９．３ｍｌに３，３−ジメチル−１−ブチン５ｇを滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌し、溶液Ａとした。

氷水冷却下、臭化エチルマグネシウム（０．９６Ｍ、ＴＨＦ溶液）６９．３ｍｌにエチニルベンゼン６．２ｇを滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌し、溶液Ｂとした。

ＴＨＦ４５ｍｌに蟻酸エチル４．５ｇを溶解した。−５℃に冷却し、溶液Ａを滴下した。滴下終了後、−５℃で２時間撹拌を行った後、反応溶液へ溶液Ｂを滴下した。滴下終了後、−５℃で２時間撹拌を行った後、更に５℃で２時間撹拌を行った。反応溶液にＴＨＦ２０ｍｌ、６Ｍ塩酸４０ｍｌを順次加えた。反応溶液を室温まで戻し、エーテル１００ｍｌを加え、有機層を分取した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｄを６．７ｇ得た。

中間体Ｅの合成
中間体Ｄ、６．７ｇをトルエン６７ｍｌに溶解し、２酸化マンガン粉末３．６ｇを加えて４０℃で１時間撹拌を行った。反応溶液に２酸化マンガン３．６ｇを加え、更に４０℃で２時間撹拌を行った。更に２酸化マンガン３．６ｇを加え、４０℃で３時間撹拌を行った後、２酸化マンガンをろ別した。ろ液を減圧濃縮で留去することにより中間体Ｅを６．３ｇ得た。

中間体Ｆの合成
中間体Ｅ６．３ｇをナトリウムエトキシド（０．０５Ｍ、エタノール溶液）１１４ｍｌに溶解し、室温で１時間撹拌を行い、溶液Ｃとした。

硫黄１．９ｇにナトリウムエトキシド（０．５Ｍ、エタノール溶液）１８０ｍｌを加え、更に水素化ホウ素ナトリウム２．５ｇを加えた。反応溶液を６０℃に加熱して３０分撹拌を行った後、加熱を止め、溶液Ｃを添加した。室温で３０分間撹拌を行った後、減圧濃縮でエタノール２３０ｍｌを留去し、反応溶液に飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮で溶媒を留去することにより中間体Ｆを５．８ｇ得た。

中間体Ｇの合成
窒素雰囲気下、中間体Ｆ、５．８ｇをＴＨＦ３０ｍｌに溶解した。臭化メチルマグネシウム（０．８４Ｍ、ＴＨＦ溶液）３４ｍｌを滴下し、室温で１時間撹拌した。飽和臭化アンモニウム水溶液１２０ｍｌをゆっくりと加えた後、酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を分取した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮で溶媒を留去し、中間体Ｇを６．９ｇ得た。

例示化合物Ｃ−２５の合成
中間体Ｇ、６．９ｇ、クロコン酸１．５ｇ、メタノール３５ｍｌ、ピリジン１．６８ｇを順次混合し、３時間加熱還流を行った。反応溶液を放冷後、氷水冷却下で５時間撹拌を行い、析出結晶をろ取した。得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、例示化合物Ｃ−２５を１．８ｇ得た。λｍａｘ＝１００５．５ｎｍ（酢酸エチル中）、ε＝２３７，０００（酢酸エチル中）。

例示化合物Ｃ−２５と同様の合成処方で、例示化合物Ｃ−２８を合成した。λｍａｘ＝１００９．０ｎｍ（酢酸エチル中）。

本発明のクロコニウム化合物は、８００〜１１００ｎｍの近赤外線を吸収するため光学フィルターとして有用である。光学フィルターは一般的に透明支持体とフィルター層が積層されており、本発明のクロコニウム化合物は透明支持体またはフィルター層のいずれか、あるいはその両者に含まれていてもよい。

フィルター層には褪色防止剤、酸化防止剤、紫外線防止剤を添加してもよい。

光学フィルターは、更にポリマーバインダーを含むことが好ましい。天然ポリマー（例、ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸）または合成ポリマー（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド）をポリマーバインダーとして用いることができる。親水性ポリマー（例えば、上記天然ポリマー、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、水溶性ポリアミド）が特に好ましい。

透明支持体の例には、セルロースエステル（例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４′−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリアリレート（例えば、ビスフェノールＡとフタル酸の縮合物）、ポリスチレン（例えば、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、アクリル（ポリメチルメタクリレート）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド及びポリオキシエチレンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。

透明支持体の厚みは５μｍ以上５ｃｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上１ｃｍ以下であることが更に好ましく、８０μｍ以上１．２ｍｍ以下であることが最も好ましい。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。ヘイズは２％以下であることが好ましく、１％以下であることが更に好ましい。屈折率は１．４５〜１．７０であることが好ましい。

透明支持体に紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤の添加量は透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることが更に好ましい。更に滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、タルク及びカオリンが含まれる。

透明支持体に表面処理を施すことが好ましい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、及びオゾン酸化処理を挙げることができ、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理及び火炎処理が好ましく、コロナ放電処理が更に好ましい。

このような光学フィルターとしては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。更にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及び陰極管表示装置（ＣＲＴ）の前面板として使用すると、顕著な効果が得られる。特に、本発明のクロコニウム化合物をプラズマディスプレイパネルの前面板に使用する場合、発光強度の大きい８５０〜９５０ｎｍに吸収を有する染料が有効である。

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。

実施例１
〔試料１００の作製〕
《支持体１の作製》
透明のポリエチレンテレフタレートフィルムベース（厚み１００μｍ）の片方の面に、０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ²のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Ａを用いて下引き層Ａが乾燥膜厚０．２μｍになるように塗設した。更に、もう一方の表面に同様に０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ²のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Ｂ、Ａを用い、下引き層Ｂ、Ａがそれぞれ乾燥膜厚０．１μｍ、０．２μｍなるように塗設した。その後、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で１３０℃にて１５分熱処理を行い、支持体１を作製した。

〈下引き塗布液Ａ〉
ブチルアクリレート４０質量％、ｔ−ブチルアクリレート１０質量％、スチレン２５質量％、及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）２７０ｇと界面活性剤（ＵＬ−１）０．６ｇ及びケン化度８０％のポリビニルアルコール１ｇを混合した。更にシリカ粒子（サイロイド３５０、富士シリシア製）１．３ｇを、水１００ｇ中に予め超音波分散機〔アレックス社（ＡＬＥＸ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製、商品名：ウルトラソニック・ジェネレーター（Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）、周波数２５ｋＨｚ、６００Ｗ〕にて３０分、分散した液を加え、最後に水で１０００ｍｌに仕上げて、下引き塗布液Ａとした。

（コロイド状酸化スズ分散液）
塩化第２スズ水和物６５ｇを水／エタノール混合溶液２０００ｍｌに溶解して、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し、共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈殿を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し、塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈殿物に蒸留水を添加し、全量を２０００ｍｌとする。更に３０％アンモニア水を４０ｍｌ加え、水溶液中で加温した後で、更に加温して４７０ｍｌになるまで濃縮して、コロイド状酸化スズ分散液を得た。

〈下引き塗布液Ｂ〉
前記コロイド状酸化スズ分散液３７．５ｇ、ｎ−ブチルアクリレート１０質量％、ｔ−ブチルアクリレート３５質量％、スチレン２７質量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２８質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）３．７ｇ、ｎ−ブチルアクリレート４０質量％、スチレン２０質量％、グリシジルメタクリレート４０質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）１４．８ｇと塗布助剤として界面活性剤（ＵＬ−１）０．１ｇを混合し、水で１０００ｍｌに仕上げて下引き塗布液Ｂとした。

〈近赤外線吸収染料層塗布液（Ａ−０）の調製〉
ポリビニルブチラール粉末（ＢＬ−５Ｚ、積水化学製）２０ｇを室温でメチルエチルケトン８０ｇに溶解した後、日本化薬製ＩＲＧ−０２２、０．５ｇを撹拌しながら添加し、近赤外線吸収染料層塗布液Ａ−０を調製した。

〔近赤外線吸収フィルム（試料１００）の作製〕
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ａ−０を支持体１の下引き層Ｂ、Ａを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５５℃で３０分間乾燥し、試料１００を作製した。

〔試料１０１の作製〕
〈近赤外線吸収染料層塗布液（Ａ−１）の調製〉
ポリビニルブチラール粉末（ＢＬ−５Ｚ、積水化学製）２０ｇを室温でメチルエチルケトン８０ｇに溶解した後、赤外染料Ｆ−１、０．０４ｇ、Ｃ−４、０．１１ｇ、Ｃ−２５、０．０６ｇを撹拌しながら添加し、近赤外線吸収染料層塗布液Ａ−１を調製した。

〔近赤外線吸収フィルム（試料１０１）の作製〕
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ａ−１を支持体１の下引き層Ｂ、Ａを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５５℃で３０分間乾燥し、試料１０１を作製した。

支持体に対して試料１０１の近赤外線吸収層の反対側に、下記の反射防止膜、ハードコート膜を塗布した。これらの機能性膜の塗布は試料１０１を作製した後、以下の処方で塗布した。反射防止膜及びハードコート膜は、反対側の近赤外線吸収の性能を損なうものではなかった。

ハードコート膜
紫外線硬化型アクリル樹脂（アロニックスＵＶ−３７００：東亜合成化学製）２５．０質量部、インジウムをドーピングした酸化スズ（粒子径：０．２〜２．０μｍ）８．０質量部、メチルエチルケトン２４．０質量部及びトルエン３３．０質量部からなるハードコート層用塗料をメイヤーバーにて塗布し、高圧水銀灯により紫外線を１〜２秒照射して、ハードコート膜を得た。

反射防止膜
上記ハードコート膜上に、更に下記低屈折率層用塗工液を乾燥後の膜厚が１００μｍになるように塗工し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、本発明に係る光学フィルムを得た（低屈折率層の屈折率＝１．４２）。得られた光学フィルムの全光線透過率は９４．０％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長領域での最低反射率は０．５であり、反射防止性に優れていた。

〈低屈折率層形成用塗工液の調製〉
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ（調製方法は下記に示す） １０３質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学（株）製、ＫＢＭ５０３）
１質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（日本ユニカー社（株）製、ＦＺ−２２０７） ０．１質量部
中空シリカ系微粒子（触媒化成工業（株）製、Ｐ−４） ５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２７０質量部
イソプロピルアルコール ２７０質量部
（テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製）
テトラエトキシシラン２５ｇとエタノール２２２ｇを混合し、これにクエン酸一水和物の１．５％水溶液５４ｇを添加した後に、室温にて３時間撹拌して調製した。

〔試料１０２の作製〕
《支持体２の作製》
支持体とする厚さ１００μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面を１００Ｗ／ｍ²・分コロナ処理した後、片面に屈折率１．５５、２５℃における弾性率１００ＭＰａ、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を３００ｎｍの厚さに塗布し、下塗り層を形成した。

この下塗り層の上には、屈折率１．５０、２５℃における弾性率１２０ＭＰａ、ガラス転移温度５０℃のアクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アクリル（株）製）を乾燥後の厚さ８０ｎｍとなるように塗布し、第２下塗り層を形成した。更に、もう一方の表面に同様に０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ²のコロナ放電処理を施した後、その上に上記の下引き塗布液Ｂ、Ａを用い、下引き層Ｂ、Ａがそれぞれ乾燥膜厚０．１μｍ、０．２μｍなるように塗設した。その後、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、１３０℃にて１５分熱処理を行い、支持体２を作製した。

（赤外染料のポリマー分散物（Ｂ−１）の調製）
酢酸エチル２１ｇにポリビニルブチラール（積水化学製 ＢＬ−Ｓ）３ｇを溶解した後、更に赤外染料Ｆ−１、０．１ｇ、Ｃ−４、０．２８ｇ、Ｃ−２５、０．１５ｇを添加し、撹拌溶解した。別の容器に純水７２ｇ、ゼラチン８ｇ、ＤＢＳ（ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム）１８．３％溶液、４ｇを添加し、溶解した。上記ゼラチン溶液中に撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加した後、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−１を調製した。

〈近赤外線吸収染料層塗布液（Ａ−２）の調製〉
ゼラチン４ｇを純水６０ｇに４０℃にて溶解した後、上記ポリマー分散物（Ｂ−１）を３６ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ａ−２を調製した。

〔近赤外線吸収フィルム（試料１０２）の作製〕
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ａ−１を支持体２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料１０２を作製した。

〔試料１０３の作製〕
〔近赤外線吸収フィルム（試料１０３）の作製〕
固有粘度０．６８のポリエチレンテレフタレートを２８０℃で溶融した後に、赤外染料Ｆ−１、Ｃ−４、Ｃ−２５を練り込み、キャスティングドラム上に静電印加させながら押し出しし、膜厚約１ｍｍのＰＥＴシートを得た。このシートを７５℃に予熱させた後に、赤外ヒーターで加熱しながら縦方向に３．３倍に延伸した。この後テンター内で８０℃に予熱した後に、横方向に３．４倍延伸し、２２０℃で熱固定しながら横方向に約３％緩和させることにより膜厚１００μｍの試料１０３を得た。なお、赤外染料Ｆ−１、Ｃ−４、Ｃ−２５については、１００μｍのペットフィルムに製膜後にそれぞれ０．０４ｇ／ｍ²、０．１１ｇ／ｍ²、０．０６ｇ／ｍ²の付き量になるように添加した。

（耐光性の評価）
得られた試料１００〜１０３について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。耐光性劣化試験はスガ試験機製スーパーキセノンウエザーメーターＳＸ７５を使用し、相対湿度５０％、照射強度５０Ｗ／ｍ²、１００時間試験後の吸収劣化の割合を評価した。評価した結果を表１に示す。

（耐湿性の評価）
得られた試料１００〜１０３について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、６０℃、９０％の環境にて５００時間暗所保存し、吸収劣化の割合を評価した。保存後の評価した結果を表１に示す。

（耐熱性の評価）
得られた試料１００〜１０３について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、８０℃（湿度は成り行き）の環境にて５００時間暗所保存し、吸収劣化の割合を評価した。保存後の評価した結果を表１に示す。

（色調の評価）
得られた試料１００〜１０３について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、下記評価基準により目視にて５段階評価した。

５：全く着色がなく、無色透明である
４：かすかに着色が認められる
３：着色が認められるが、ほとんど気にならないレベル
２：着色が認められ、実用できないレベル
１：強い着色が認められる。

表１から、本発明に係る光学フィルムは上記評価項目のいずれにおいても、比較に対して優れていることは明らかである。

実施例２
パイオニア製プラズマディスプレイ（ＰＤＰ−４３５ＨＤＬ）の前面に貼られた光学フィルターを剥がし、白表示をさせて、Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ製超小型スペクトロメータ ＵＳＢ２０００にて赤外の発光スペクトルを測定したところ、８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍに強いピークが認められた。その後、試料１０１（３０ｃｍ×３０ｃｍ）をパネル表面に貼付し、ＵＳＢ２０００で同様の測定をした所、赤外の発光スペクトルは全て消失していることを確認した。

Claims (5)

1. 下記一般式（３）で表される、クロコニウム化合物。
   （式中、Ｒ_１１及びＲ_１２は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｘ_３１及びＸ_３２は各々独立に酸素原子、硫黄原子またはＮ−Ｒ_３３を表し、Ｒ_３３はアルキル基またはアリール基を表す。Ａ_３１は非置換の、または、２−イソブチルオキシ基もしくは２−イソペンチルオキシ基で置換されたアルキル基を表し、Ａ_３２は非置換の、または、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、メチル基、もしくはメトキシ基で置換されたアリール基を表す。）
2. 前記一般式（３）で表される化合物において、Ｘ_３１及びＸ_３２が共に酸素原子であることを特徴とする請求項１に記載のクロコニウム化合物。
3. 前記一般式（３）で表される化合物において、Ｘ_３１及びＸ_３２が共に硫黄原子であることを特徴とする請求項１に記載のクロコニウム化合物。
4. メチルエチルケトン中での極大吸収波長が８５０〜９５０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のクロコニウム化合物。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載のクロコニウム化合物を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。