JP6987895B2 - 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents

組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Download PDF

Info

Publication number
JP6987895B2
JP6987895B2 JP2019570325A JP2019570325A JP6987895B2 JP 6987895 B2 JP6987895 B2 JP 6987895B2 JP 2019570325 A JP2019570325 A JP 2019570325A JP 2019570325 A JP2019570325 A JP 2019570325A JP 6987895 B2 JP6987895 B2 JP 6987895B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ring
group
compound
infrared absorbing
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019570325A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2019155770A1 (ja
Inventor
哲志 宮田
拓也 鶴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of JPWO2019155770A1 publication Critical patent/JPWO2019155770A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6987895B2 publication Critical patent/JP6987895B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462—Coatings
    • H01L27/14621—Colour filter arrangements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/007—Squaraine dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • C09B67/0034—Mixtures of two or more pigments or dyes of the same type
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0071—Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
    • C09B67/0084—Dispersions of dyes
    • C09B67/0085—Non common dispersing agents
    • C09B67/009—Non common dispersing agents polymeric dispersing agent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14649—Infrared imagers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02—Details
    • H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

本発明は、近赤外線吸収顔料を含む組成物に関する。また、本発明は、近赤外線吸収顔料を含む組成物を用いた膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサに関する。
近赤外線吸収顔料を含む組成物を用いて、近赤外線カットフィルタを製造することが検討されている。例えば、特許文献１には、透明樹脂と、オキシチタニルフタロシアニンとを含む組成物を用いて近赤外線カットフィルタなどを製造することが記載されている。
特開２００６−３４３６３１号公報
近赤外線カットフィルタは、可視透明性に優れることが望まれている。このため、近赤外線カットフィルタの可視透明性を高めるため、近赤外線吸収顔料は微細化して用いることがある。
しかしながら、本発明者が近赤外線吸収顔料について検討したところ、近赤外線吸収顔料を微細化した場合、組成物中での近赤外線吸収顔料の分散安定性が低下し易く、組成物が経時的に増粘し易いことが分かった。また、組成物の保管時において、液中に近赤外線吸収顔料由来の異物が生成しやすく、得られる膜に異物欠陥が生じやすいことが分かった。
よって、本発明の目的は、近赤外線吸収顔料の分散安定性が良好で、かつ、異物欠陥の抑制された膜を製造できる組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、前述の組成物を用いた膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することにある。
本発明者が近赤外線吸収顔料と溶剤とを含む組成物について検討を行ったところ、組成物中での近赤外線吸収顔料の分散安定性が低下したり、近赤外線吸収顔料由来の異物の生成される原因は次によるものと考えた。近赤外線吸収顔料を含む組成物を用いて形成される膜の可視透明性を向上させるため、近赤外線吸収顔料は微細化して用いられることが多いが、近赤外線吸収顔料を微細化することによる上記の問題は、近赤外線吸収顔料が溶剤に溶解し易くなり、その結果、組成物の保管時において、溶剤にわずかに溶解した近赤外線吸収顔料が再析出して結晶が成長することに起因するものと考えた。そこで、近赤外線吸収顔料の溶解を抑制できれば、近赤外線吸収顔料の分散安定性が良好で、かつ、異物欠陥の抑制された膜を製造できる組成物を提供できると考えた。そして、本発明者は種々検討した結果、近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値と、溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値との差が所定値以上となる組み合わせの素材を選択することにより、近赤外線吸収顔料を微細化しても溶剤に溶解し難くでき、上記の目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。ここで、ハンセン溶解度パラメータは、分散項であるｄ値、分極項であるｐ値、水素結合項であるｈ値の３つのパラメータで構成されているが、このうち、ｄ値のみが相分離に特異的に影響を及ぼすことを見出した。ｄ値のみが相分離に特異的に影響がある詳細な理由は不明であるが、電離し得ない膜中では分散項（ｄ値）の影響が相対的に最大となるためであると推定される。本発明は以下を提供する。
＜１＞ 近赤外線吸収顔料と溶剤とを含む組成物であって、
近赤外線吸収顔料が、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物、および、アニオン性発色団と対カチオンとの塩である色素化合物から選ばれる少なくとも１つであり、
近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となるＤ５０粒子径が１００ｎｍ以下であり、
近赤外線吸収顔料と溶剤とが下記の式（１）の関係を満たす組成物；
｜ｄ１−ｄ２｜≧０．３ＭＰａ0.5 ・・・（１）
ｄ１は、近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、
ｄ２は、組成物に含まれる溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、組成物が溶剤を２種以上含む場合は、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値である。
＜２＞ 近赤外線吸収顔料が、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、クロコニウム化合物およびイミニウム化合物から選ばれる少なくとも１つである、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ 近赤外線吸収顔料は、下記式（Ｄ１）の関係を満たす、＜１＞または＜２＞に記載の組成物；
Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径≦４．０ ・・・（Ｄ１）
Ｄ９０粒子径は、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が９０％となる粒子径であり、
Ｄ５０粒子径は、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となる粒子径である。
＜４＞ 近赤外線吸収顔料は、波長７００〜１８００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞ 更に樹脂を含む、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の組成物。
＜６＞ さらに分散助剤を含む、＜５＞に記載の組成物。
＜７＞ 近赤外線吸収顔料は芳香族環を含み、分散助剤は近赤外線吸収顔料に含まれる芳香族環と共通する構造の芳香族環を有する、＜６＞に記載の組成物。
＜８＞ 分散助剤の極大吸収波長と、近赤外線吸収顔料の極大吸収波長との差の絶対値が２００ｎｍを超える、＜６＞または＜７＞に記載の組成物。
＜９＞ 近赤外線吸収顔料が下記式（Ｓ１）で表される部分構造を有するスクアリリウム化合物であり、分散助剤が近赤外線吸収顔料であるスクアリリウム化合物の、下記式（Ｓ１）の＊１の位置で結合する基または＊２の位置で結合する基に含まれる下記式（Ｓ１）で表される部分構造と共役している構造部位を含む化合物であるか、
あるいは、
近赤外線吸収顔料が下記式（Ｃ１）で表される部分構造を有するクロコニウム化合物であり、分散助剤が近赤外線吸収顔料であるクロコニウム化合物の、下記式（Ｃ１）の＊３の位置で結合する基または＊４の位置で結合する基に含まれる下記式（Ｃ１）で表される部分構造と共役している構造部位を含む化合物である、＜６＞〜＜８＞のいずれかに記載の組成物；
Figure 0006987895
 上記式中、＊１〜＊４はそれぞれ結合手である。
＜１０＞ 近赤外線吸収顔料が式（Ｓ１）で表される部分構造を有するスクアリリウム化合物であり、かつ、式（Ｓ１）の＊１の位置で結合する基、および、＊２の位置で結合する基の少なくとも一方は二以上の環が縮環した構造を含み、分散助剤が近赤外線吸収顔料に含まれる二以上の環が縮環した構造を含む化合物であるか、
あるいは、
近赤外線吸収顔料が式（Ｃ１）で表される部分構造を有するクロコニウム化合物であり、かつ、式（Ｃ１）の＊３の位置で結合する基、および、＊４の位置で結合する基の少なくとも一方は二以上の環が縮環した構造を含み、分散助剤が近赤外線吸収顔料に含まれる二以上の環が縮環した構造を含む化合物である、
＜９＞に記載の組成物。
＜１１＞ 二以上の環が縮環した構造が、ベンゼン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環およびピラジン環から選ばれる少なくとも１つの環を１つ以上含む縮合環である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１２＞ 二以上の環が縮環した構造が、インドレニン環、フルオレン環またはカルバゾール環を含む縮合環である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１３＞ 更に重合性モノマーを含む、＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４＞ 重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を有する基を３個以上有する化合物を含む、＜１２＞に記載の組成物。
＜１５＞ ＜１＞〜＜１４＞のいずれかに記載の組成物から得られる膜。
＜１６＞ ＜１５＞に記載の膜を有する近赤外線カットフィルタ。
＜１７＞ ＜１５＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１８＞ ＜１５＞に記載の膜を有する画像表示装置。
＜１９＞ ＜１５＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
本発明によれば、近赤外線吸収顔料の分散安定性が良好で、かつ、異物欠陥の抑制された膜を製造できる組成物を提供することができる。また、本発明は、前述の組成物を用いた膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
本明細書において、近赤外線とは、波長７００〜２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜組成物＞
本発明の組成物は、近赤外線吸収顔料と溶剤とを含む組成物であって、近赤外線吸収顔料が、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物、および、アニオン性発色団と対カチオンとの塩である色素化合物から選ばれる少なくとも１つであり、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となるＤ５０粒子径が１００ｎｍ以下であり、近赤外線吸収顔料と溶剤とが下記の式（１）の関係を満たす組成物であることを特徴とする。
｜ｄ１−ｄ２｜≧０．３ＭＰａ0.5 ・・・（１）
ｄ１は、近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、ｄ２は、組成物に含まれる溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、組成物が溶剤を２種以上含む場合は、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値である。
本発明の組成物は、Ｄ５０粒子径が１００ｎｍ以下の近赤外線吸収顔料を含むので、可視透明性に優れ、かつ、近赤外線遮蔽性に優れた膜を形成することができる。また、このような微細化された近赤外線吸収顔料を含む組成物は、従来は分散安定性が不十分であったり、得られる膜に異物欠陥が生じやすいことがあったが、本発明の組成物は、近赤外線吸収顔料が、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物、および、アニオン性発色団と対カチオンとの塩である色素化合物から選ばれる少なくとも１つであり、かつ、近赤外線吸収顔料と溶剤とが上記式（１）の関係を満たしていることにより、近赤外線吸収顔料の溶剤への溶解を効果的に抑制して、近赤外線吸収顔料の再析出にともなう結晶成長を抑制できると推測され、その結果、組成物中における近赤外線吸収顔料の分散安定性を向上させ、かつ、異物欠陥の抑制された膜を製造できる。
本発明の組成物において、式（１）における｜ｄ１−ｄ２｜の値は、０．３ＭＰａ0.5以上であることが好ましく、１．０ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、２．０ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましく、３．０ＭＰａ0.5以上であることが特に好ましい。また、式（１）における｜ｄ１−ｄ２｜の値は、組成物中に含まれる他の成分と溶剤との相溶性の観点から１０ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、８ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、６ＭＰａ0.5以下であることが好ましい。
ここで、式（１）におけるｄ１は、近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値を表す。本発明の組成物が近赤外線吸収顔料を２種以上含む場合は、（１）におけるｄ１は、個々の近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値である。したがって、本発明の組成物が近赤外線吸収顔料を２種以上含む場合は、それぞれの近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値と、組成物に含まれる溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値（組成物が溶剤を２種以上含む場合は、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値）とが上記の式（１）の関係を満たしている必要がある。
また、式（１）におけるｄ２は、組成物に含まれる溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、組成物が溶剤を２種以上含む場合は、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値である。ここで、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値とは、以下のことを意味する。
Figure 0006987895
 ｄaveは、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値であり、ｎは２以上の整数であり、Ｍｉは組成物に含まれる溶剤の全量中における溶剤ｉの質量比（溶剤ｉの質量／全溶剤の質量）であり、ｄｉは、溶剤ｉのハンセン溶解度パラメータのｄ値である。
なお、本明細書において、ハンセン溶解度パラメータのｄ値、ｐ値およびｈ値は、ソフトウェアＨａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｉｎ Ｐｒａｃｔｉｃｅ（ＨＳＰｉＰ）ｖｅｒ．４．１．０７によって計算された値である。ただし、ソフトウェア側の都合で計算できない場合は、「ｈｔｔｐｓ：／／ｐｉｒｉｋａ．ｃｏｍ／ｉｎｄｅｘ−ｊ．ｈｔｍｌ」のホームページの山本予稿Ｐａｒｔ１（ｈｔｔｐｓ：／／ｐｉｒｉｋａ．ｃｏｍ／ＨＳＰ／ＨＳＰ−Ｊ／ＨＳＰ５０／Ｐｒｅｐｒｉｎｔ−Ｐａｒｔ１％２０Ｙａｍａｍｏｔｏ．ｐｄｆ）に掲載された論文「Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ５０ｔｈ ａｎｎｉｖｅｒｓａｒｙ ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ、ｐｒｅｐｒｉｎｔ ＰＰ．１−１３、（２０１７）、Ｈｉｒｏｓｈｉ Ｙａｍａｍｏｔｏ、Ｓｔｅｖｅｎ Ａｂｂｏｔｔ、Ｃｈａｒｌｅｓ Ｍ． Ｈａｎｓｅｎ」のＴａｂｌｅ ２を元に計算した値を用いる。前述の論文に記載されたＴａｂｌｅ ２は以下である。
Figure 0006987895
本発明の組成物は、波長７００〜１８００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、波長７００〜１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することがより好ましく、波長７００〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが更に好ましい。また、本発明の組成物は、波長４００〜６００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ａ1と、前述の極大吸収波長における吸光度Ａ2との比であるＡ1／Ａ2が０．３０以下であることが好ましく、０．２０以下であることがより好ましく、０．１５以下であることが更に好ましく、０．１０以下であることが特に好ましい。上記吸光度の条件は、どのような手段によって達成されても良いが、近赤外線吸収顔料の種類および含有量を調整することにより、上記吸光度の条件を好適に達成できる。
ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式により定義される。
Ａλ＝−ｌｏｇ（Ｔλ／１００）
Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。
本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように組成物を塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１２０秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。
以下、本発明の硬化性組成物の各成分について説明する。
＜＜近赤外線吸収顔料＞＞
本発明の組成物は、近赤外線吸収顔料を含有する。本発明の組成物は、後述する溶剤との間で上述した式（１）の条件を満たす材料を選択して用いる。
本発明の組成物に用いられる近赤外線吸収顔料は、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物、および、アニオン性発色団と対カチオンとの塩である色素化合物から選ばれる少なくとも１つである。ここで、色素化合物が同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する場合とは、カチオンとアニオンとが共有結合を介して同一の分子内に存在してベタイン構造（分子内塩構造）を形成していることを意味する。例えば、下記構造の化合物は、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物である。
Figure 0006987895
近赤外線吸収顔料は、単環または縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する化合物であることが好ましい。近赤外線吸収顔料が有するπ共役平面を構成する水素以外の原子数は、１４個以上であることが好ましく、２０個以上であることがより好ましく、２５個以上であることが更に好ましく、３０個以上であることが特に好ましい。上限は、例えば、８０個以下であることが好ましく、５０個以下であることがより好ましい。
近赤外線吸収顔料が有するπ共役平面は、単環または縮合環の芳香族環を２個以上含むことが好ましく、前述の芳香族環を３個以上含むことがより好ましく、前述の芳香族環を４個以上含むことが更に好ましい。上限は、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、３０個以下が更に好ましい。前述の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、クアテリレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、キノキサリン環、ピリミジン環、キナゾリン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピロール環、インドール環、イソインドール環、カルバゾール環、ピラン環、チオピラン環、および、これらの環を有する縮合環が挙げられる。
本発明の組成物に用いられる近赤外線吸収顔料は、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となるＤ５０粒子径が１００ｎｍ以下であり、６０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましい。Ｄ５０粒子径が１００ｎｍ以下であれば、組成物中における近赤外線吸収顔料の分散安定性が良好である。更には、可視透明性に優れた膜を形成することができる。Ｄ５０粒子径の下限は、０．５ｎｍ以上であることが好ましく、１ｎｍ以上であることがより好ましく、２ｎｍ以上であることが更に好ましい。Ｄ５０粒子径が０．５ｎｍ以上であれば、組成物の保管時において、近赤外線吸収顔料由来の異物の生成などを効果的に抑制でき、異物の少ない膜を形成し易い。
また、本発明の組成物に用いられる近赤外線吸収顔料は、下記式（Ｄ１）の関係を満たすことが好ましく、式（Ｄ２）の関係を満たすことがより好ましく、式（Ｄ３）の関係を満たすことが更に好ましく、式（Ｄ４）の関係を満たすことが特に好ましい。この態様によれば、組成物の保管時において、近赤外線吸収顔料由来の異物の生成などを効果的に抑制でき、異物の少ない膜を形成し易い。
Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径≦４．０ ・・・（Ｄ１）
２．０≦Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径≦３．５ ・・・（Ｄ２）
２．０≦Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径≦３．０ ・・・（Ｄ３）
２．０≦Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径≦２．８ ・・・（Ｄ４）
Ｄ９０粒子径は、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が９０％となる粒子径であり、Ｄ５０粒子径は、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となる粒子径である。
なお、本発明において、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布は、動的光散乱法によって測定した値である。測定装置としては、日機装（株）製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣＵＰＡ １５０などが挙げられる。
本発明において、近赤外線吸収顔料は、波長７００〜１８００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましく、波長７００〜１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることがより好ましく、波長７００〜１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが更に好ましい。長波側に極大吸収波長を有する近赤外線吸収顔料は物理強度的に脆い傾向にあるので、このような近赤外線吸収顔料は微細化されやすく、その結果、溶剤に溶解し易くなって、組成物中で再析出し易い傾向にあると推測されるが、本発明によれば、このような近赤外線吸収顔料を用いた場合においても、後述する溶剤との間で上述した式（１）の条件を満たす材料を選択して用いることにより、近赤外線吸収顔料の分散安定性が良好であり、更には、近赤外線吸収顔料由来の異物の生成を効果的に抑制でき、本発明の効果が顕著に発揮される。また、近赤外線吸収顔料は、極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０との比であるＡｍａｘ／Ａ５５０が５０〜５００であることが好ましく、１００〜４００であることがより好ましい。この態様によれば、可視透明性と近赤外線遮蔽性に優れた膜を製造しやすい。
本発明において、近赤外線吸収顔料は、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、クロコニウム化合物およびイミニウム化合物から選ばれる少なくとも１つであることが好ましく、スクアリリウム化合物、シアニン化合物およびクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも１つであることがより好ましく、スクアリリウム化合物またはクロコニウム化合物であることが更に好ましい。
スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ１）で表される化合物であることが好ましい。
Figure 0006987895
 式中、Ａｓ1およびＡｓ2は、それぞれ独立してアリール基、複素環基または式（Ａｓ−１）で表される基を表す；
Figure 0006987895
 式中、＊は結合手を表し、
Ｒｓ1〜Ｒｓ3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ａｓ3は複素環基を表し、
ｎs1は、０以上の整数を表し、
Ｒｓ1とＲｓ2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒｓ1とＡｓ3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒｓ2とＲｓ3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ｎs1が２以上の場合、複数のＲｓ2およびＲｓ3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ａｓ1およびＡｓ2が表わすアリール基の炭素数は、６〜４８が好ましく、６〜２２がより好ましく、６〜１２が特に好ましい。
Ａｓ1、Ａｓ2およびＡｓ3が表わす複素環基は、５員環または６員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２〜８の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が２〜４の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２または３の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２の縮合環の複素環基が特に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。
式（Ａｓ−１）におけるＲｓ1〜Ｒｓ3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表す。Ｒｓ1〜Ｒｓ3が表わすアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。Ｒｓ1〜Ｒｓ3は水素原子であることが好ましい。
式（Ａｓ−１）におけるｎs1は、０以上の整数を表す。ｎs1は０〜２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０が更に好ましい。
式（Ａｓ−１）において、Ｒｓ1とＲｓ2は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒｓ1とＡｓ3は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒｓ2とＲｓ3は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔ、下記式（Ｒ−ＳＱ）で表される基などが挙げられる。式（Ｒ−ＳＱ）中、Ｒsq 1は有機基を表す。Ｒsq 1が表す有機基は、アリール基、複素環基、式（Ａｓ−１）で表される基、後述する式（Ａｓ−１０）で表される基、後述する式（Ａｓ−１１）で表される基、後述する式（Ａｓ−１２）で表される基、後述する式（Ａｓ−２０）で表される基、後述する式（Ａｓ−３０）で表される基、後述する式（Ａｓ−４０）で表される基、後述する式（Ａｓ−４１）で表される基が挙げられる。
Figure 0006987895
式（ＳＱ１）において、Ａｓ1およびＡｓ2が表わす基は置換基を有することが好ましい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ１）において、Ａｓ1およびＡｓ2がそれぞれ独立してアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ａｓ1およびＡｓ2がそれぞれ独立して式（Ａｓ−１）で表される基であることが好ましい。
（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＯＲｔ1、−ＣＯＲｔ1、−ＣＯＯＲｔ1、−ＯＣＯＲｔ1、−ＮＲｔ1Ｒｔ2、−ＮＨＣＯＲｔ1、−ＣＯＮＲｔ1Ｒｔ2、−ＮＨＣＯＮＲｔ1Ｒｔ2、−ＮＨＣＯＯＲｔ1、−ＳＲｔ1、−ＳＯ2Ｒｔ1、−ＳＯ2ＯＲｔ1、−ＮＨＳＯ2Ｒｔ1または−ＳＯ2ＮＲｔ1Ｒｔ2が挙げられる。Ｒｔ1およびＲｔ2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。Ｒｔ1とＲｔ2が結合して環を形成してもよい。なお、−ＣＯＯＲｔ1のＲｔ1が水素の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、−ＳＯ2ＯＲｔ1のＲｔ1が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がより好ましく、２〜８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルキニル基の炭素数は、２〜４０が好ましく、２〜３０がより好ましく、２〜２５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。
ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が２〜８の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が２〜４の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２がより好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した置換基が挙げられる。
式（ＳＱ１）のＡｓ1およびＡｓ2の少なくとも一方は下記式（Ａｓ−１０）で表わされる基であることも好ましい。この態様によれば、耐湿性に優れた膜が得られやすい。
Figure 0006987895
 式（Ａｓ−１０）中、環Ｚ1は１つまたは複数の置換基を有していてもよい、芳香族複素環または芳香族複素環を含む縮合環を表し、環Ｚ2は１つまたは複数の置換基を有していてもよい、４〜９員の炭化水素環または複素環を表し、環Ｚ1および環Ｚ2が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよく、＊は結合手を表す。
式（Ａｓ−１０）において、環Ｚ1は１つまたは複数の置換基を有していてもよい、芳香族複素環または芳香族複素環を含む縮合環を表す。芳香族複素環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環などが挙げられ、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環が好ましい。芳香族複素環を含む縮合環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる１個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の環であってもよく、異なる種類の環であってもよい）と、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、テトラフェン環、ピレン環から選ばれる環（好ましくはベンゼン環、ナフタレン環）との縮合環；イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる２個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の環であってもよく、異なる種類の環であってもよい）の縮合環などが挙げられる。縮合環の縮合数は、より優れた分光特性が得られやすいという理由から２〜６が好ましく、２〜４がより好ましい。
式（Ａｓ−１０）において、環Ｚ2は１つまたは複数の置換基を有していてもよい、４〜９員の炭化水素環または複素環を表す。環Ｚ2が表す炭化水素環および複素環は、５〜７員環であることが好ましく、５または６員環であることがより好ましい。炭化水素環の具体例としては、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロヘプテン環、シクロヘプタジエン環、シクロヘプタトリエン環、シクロオクテン環、シクロオクタジエン環、シクロオクタトリエン環、シクロノネン環、シクロノナジエン環、シクロノナトリエン環、シクロノナテトラエン環等のシクロアルケン環が挙げられ、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環およびシクロオクテン環が好ましく、シクロペンテン環およびシクロヘキセン環がより好ましい。環Ｚ2が表す複素環は、含窒素複素環であることが好ましい。
環Ｚ1および環Ｚ2が有してもよい置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。また、環Ｚ1が有してもよい置換基は、電子求引性基であることも好ましい。ハメットの置換基定数σ値（シグマ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。ここで、ハメット則で求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値がある。これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。本発明においては、ハメットの置換基定数σ値が０．１以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σ値は、０．１５以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３以上が更に好ましい。上限は特に制限はないが、好ましくは１．０以下である。電子求引性基の具体例としては、ハロゲン原子、水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置き換えられているアルキル基、水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置き換えられているアリール基、ニトロ基、シアノ基、シアノメチル基、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）2、−Ｃ（ＣＮ）＝Ｃ（ＣＮ）2、−Ｐ（ＣＮ）2、−Ｎ＝ＮＣＮ、−ＣＯＲEWG、−ＣＯＯＲEWG、−ＯＣＯＲEWG、−ＮＨＣＯＲEWG、−ＣＯＮＨＲEWG、−ＳＯＲEWG、−ＳＯ2ＲEWG、−ＳＯ2ＯＲEWG、−ＮＨＳＯ2ＲEWGまたは−ＳＯ2ＮＨＲEWGが挙げられる。ＲEWGは、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアルキル基、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアリール基、アミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、またはシアノメチル基を表す。ここで、シアノメチル基には、モノシアノメチル基（−ＣＨ2ＣＮ）、ジシアノメチル基（−ＣＨ（ＣＮ）2）およびトリシアノメチル基（−Ｃ（ＣＮ）3）が含まれる。水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアルキル基は、炭素数が１〜６が好ましく、炭素数１〜５がより好ましく、炭素数１〜４がさらに好ましい。水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアリール基は、炭素数６〜１４が好ましく、炭素数６〜１０がより好ましい。これらのアルキル基とアリール基は、水素原子の全部がフッ素原子で置き換えられていてもよく、一部のみがフッ素原子で置き換えられていてもよく、フッ素原子で置き換えられていなくてもよい。
式（Ａｓ−１０）で表される基は、式（Ａｓ−１１）または式（Ａｓ−１２）で表される基であることが好ましい。
Figure 0006987895
式（Ａｓ−１１）中、環Ｚ1aは１つまたは複数の置換基を有していてもよい、５または６員環の含窒素複素環を有する多環芳香族環を表し、環Ｚ2aは、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、４〜９員の炭化水素環または複素環を表す。環Ｚ1aおよび環Ｚ2aが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ5およびＲ7はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表す。
式（Ａｓ−１１）において、環Ｚ1aが表す多環芳香族環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる５または６員環の含窒素複素環を含む縮合環が挙げられ、前述の含窒素複素環から選ばれる１個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）と、ベンゼン環またはナフタレン環との縮合環；前述の含窒素複素環から選ばれる２個以上の環（同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）の縮合環などが挙げられる。
多環芳香族環に含まれる環の数（縮合環の縮合数）は、より優れた分光特性が得られやすいという理由から２〜６が好ましく、２〜４がより好ましい。
式（Ａｓ−１１）において、環Ｚ2aが表す４〜９員の炭化水素環および複素環としては、式（１）の環Ｚ2の項で説明したものが挙げられる。
式（Ａｓ−１１）において、環Ｚ1aおよび環Ｚ2aが有してもよい置換基、並びにＲ5およびＲ7が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。また、環Ｚ1aが有してもよい置換基は、電子求引性基であることも好ましい。電子求引性基としては上述した基が挙げられる。
式（Ａｓ−１２）中、環Ｚ1bは、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、５または６員環の含窒素複素環を有する多環芳香族環を表し、環Ｚ2bは、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、４〜９員の含窒素複素環を表し、環Ｚ1aおよび環Ｚ2aが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。
式（Ａｓ−１２）において、環Ｚ1bが表す多環芳香族環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる５または６員環の含窒素複素環を含む縮合環が挙げられ、前述の含窒素複素環から選ばれる１個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）と、ベンゼン環またはナフタレン環との縮合環；前述の含窒素複素環から選ばれる２個以上の環（同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）の縮合環などが挙げられる。
多環芳香族環に含まれる環の数（縮合環の縮合数）は、より優れた分光特性が得られやすいという理由から２〜６が好ましく、２〜４がより好ましい。
式（Ａｓ−１２）において、環Ｚ2bが表す含窒素複素環は、５〜７員環であることが好ましく、５または６員環であることがより好ましい。
式（Ａｓ−１２）において、環Ｚ1bおよび環Ｚ2bが有してもよい置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。また、環Ｚ1bが有してもよい置換基は電子求引性基であることも好ましい。電子求引性基としては上述した基が挙げられる。
式（ＳＱ１）のＡｓ1およびＡｓ2の少なくとも一方は下記式（Ａｓ−２０）で表わされる基であることも好ましい。この態様によれば、耐光性に優れた膜が得られやすい。
Figure 0006987895
 式（Ａｓ−２０）中、Ｒ11〜Ｒ14はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒ11〜Ｒ14のうち隣接する二つの基同士は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ20はアリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ21は置換基を表し、Ｘ10はＣＯまたはＳＯ2を表す。
式（Ａｓ−２０）において、Ｒ11〜Ｒ14はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒ11〜Ｒ14のうち隣接する二つの基同士は互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ11〜Ｒ14が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（Ａｓ−２０）において、Ｒ20はアリール基またはヘテロアリール基を表し、アリール基であることが好ましい。アリール基の炭素数は、６〜４８が好ましく、６〜２２がより好ましく、６〜１２が特に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は、１〜３０が好ましく、１〜１２がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の種類としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が挙げられる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環がさらに好ましい。アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔや後述する可溶化基が挙げられる。アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有さないものであることが好ましい。
式（Ａｓ−２０）において、Ｒ21は置換基を表す。Ｒ21が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＯＣＯＲｔ1または−ＮＨＣＯＲｔ1が好ましい。Ｒｔ1は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。
式（Ａｓ−２０）において、Ｘ10はＣＯまたはＳＯ2を表す。Ｘ10がＣＯの場合は、より優れた耐熱性が得られやすい。Ｘ10がＳＯ2の場合は、より優れた可視透明性が得られやすい。
式（ＳＱ１）のＡｓ1およびＡｓ2の少なくとも一方は下記式（Ａｓ−３０）で表わされる基であることも好ましい。この態様によれば、耐熱性の向上という効果が期待できる。
Figure 0006987895
 式（Ａｓ−３０）中、Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ20とＲ21は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｘ20は、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ22、セレン原子またはテルル原子を表し、Ｒ22は水素原子または置換基を表し、Ｘ20がＮＲ22である場合、Ｒ22とＲ20は互いに結合して環を形成してもよく、ｎr2は、０〜５の整数を表し、ｎr2が２以上の場合、複数のＲ20は同一であってもよく、異なっていてもよく、複数のＲ20のうち２個のＲ20同士が結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す。
式（Ａｓ−３０）において、Ｒ20およびＲ21が表す置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
Ｒ20は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基（好ましくはフッ化アルキル基）、アリール基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、ハロゲン化アルキル基であることがより好ましく、ハロゲン化アルキル基であることが更に好ましい。Ｒ21は、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式（Ａｓ−３０）において、Ｘ20は、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ22が好ましく、ＮＲ22であることがより好ましい。Ｒ22は水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基が好ましい。Ｘ20がＮＲ22である場合、Ｒ22とＲ20は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ22とＲ20とが結合して形成される環としては、４〜９員の炭化水素環または複素環が挙げられ、５〜７員の炭化水素環または複素環が好ましく、５〜６員の炭化水素環または複素環がより好ましく、５〜６員の炭化水素環が更に好ましく、６員の炭化水素環が特に好ましい。
式（Ａｓ−３０）において、ｎr2は、０〜５の整数を表し、０〜３の整数であることが好ましく、０〜２の整数であることがより好ましく、１〜２の整数であることが更に好ましい。ｎr2が２以上の場合は、複数のＲ20は同一であってもよく、異なっていてもよく、複数のＲ20のうち２個のＲ20同士が結合して環を形成してもよい。Ｒ20同士が結合して形成される環は、炭化水素環であってもよく、複素環であってもよい。また、これらの基同士が結合して形成される環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。
式（ＳＱ１）のＡｓ1およびＡｓ2の少なくとも一方は下記式（Ａｓ−４０）または式（Ａｓ−４１）で表わされる基であることも好ましい。この態様によれば、耐光性の向上という効果が期待できる。
Figure 0006987895
 式（Ａｓ−４０）中、Ｒ35〜Ｒ38はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ35とＲ36、Ｒ36とＲ37、Ｒ37とＲ38は、互いに結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す；
式（Ａｓ−４１）中、Ｒ39〜Ｒ45は互いに独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒ39とＲ45、Ｒ40とＲ41、Ｒ40とＲ42、Ｒ42とＲ43、Ｒ43とＲ44、Ｒ44とＲ45は、互いに結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す。
式（Ａｓ−４０）のＲ35〜Ｒ38が表す置換基、および、式（Ａｓ−４１）のＲ39〜Ｒ45が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
式（Ａｓ−４０）において、Ｒ35とＲ36、Ｒ36とＲ37、Ｒ37とＲ38は、互いに結合して環を形成してもよい。また、式（Ａｓ−４１）において、Ｒ39とＲ45、Ｒ40とＲ41、Ｒ40とＲ42、Ｒ42とＲ43、Ｒ43とＲ44、Ｒ44とＲ45は、互いに結合して環を形成してもよい。
これらの基同士が結合して形成される環は、炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環が好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は単環であってもよく、縮合環であってもよいが縮合環であることが好ましい。
式（Ａｓ−４０）においては、Ｒ35とＲ36とが結合して環を形成していることが好ましい。また、式（Ａｓ−４１）においては、Ｒ40とＲ41、およびＲ44とＲ45とがそれぞれ結合して環を形成していることが好ましい。
式（Ａｓ−４０）で表される基は下記式（Ａｓ−４０ａ）で表される基であることが好ましい。また、式（Ａｓ−４１）で表される基は下記式（Ａｓ−４１ａ）で表される基であることが好ましい。
Figure 0006987895
 式（Ａｓ−４０ａ）中、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ101〜Ｒ106はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、＊は結合手を表す。式（Ａｓ−４１ａ）中、Ｒ39、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ201〜Ｒ212はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、＊は結合手を表す。Ｒ35、Ｒ36、Ｒ101〜Ｒ106が表す置換基およびＲ39、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ201〜Ｒ212が表す置換基は、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
なお、式（ＳＱ１）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure 0006987895
スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ２）で表される化合物または、（ＳＱ３）で表される化合物であることが好ましい。
Figure 0006987895
 Ｒｓ11およびＲｓ12は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す；
Ｒｓ13およびＲｓ14はそれぞれ独立に置換基を表す；
ｎs11およびｎs12はそれぞれ独立に０〜３の整数を表す；
ｎs11が２以上の場合、２個のＲｓ13同士が結合して環を形成していてもよい；
ｎs12が２以上の場合、２個のＲｓ14同士が結合して環を形成していてもよい；
Ｒｓ21〜Ｒｓ24は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す；
Ｒｓ21とＲｓ22、Ｒｓ23とＲｓ24、Ｒｓ21とＲｓ13、Ｒｓ22とＲｓ13、Ｒｓ23とＲｓ14、Ｒｓ24とＲｓ14、Ｒｓ21と２個のＲｓ13同士が結合して形成される環、Ｒｓ23と２個のＲｓ14同士が結合して形成される環は、互いに結合してさらに環を形成してもよい；
式（ＳＱ２）中、Ｒｓ11およびＲｓ12が表わす置換基としては、活性水素を有する基が好ましく、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＮＲX1ＲX2、−ＮＨＣＯＲX1、−ＣＯＮＲX1ＲX2、−ＮＨＣＯＮＲX1ＲX2、−ＮＨＣＯＯＲX1、−ＮＨＳＯ2ＲX1、−Ｂ（ＯＨ）2および−ＰＯ（ＯＨ）2がより好ましく、−ＯＨ、−ＳＨおよび−ＮＲX1ＲX2が更に好ましい。ＲX1およびＲX2は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ＲX1およびＲX2が表す置換基としてはアルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。
式（ＳＱ２）中、Ｒｓ13およびＲｓ14が表わす置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ２）中、Ｒｓ21〜Ｒｓ24はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が２〜８の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が２〜４の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２がより好ましい。アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した置換基が挙げられる。
式（ＳＱ２）中、ｎs11およびｎs12はそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、０〜２の整数を表すことが好ましい。
式（ＳＱ２）において、ｎs11が２以上の場合、２個のＲｓ13同士が結合して環を形成していてもよく、ｎs12が２以上の場合、２個のＲｓ14同士が結合して環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ２）において、Ｒｓ21とＲｓ22、Ｒｓ23とＲｓ24、Ｒｓ21とＲｓ13、Ｒｓ22とＲｓ13、Ｒｓ23とＲｓ14、Ｒｓ24とＲｓ14は、互いに結合して環を形成してもよい。また、２個のＲｓ13同士が結合して環を形成している場合においては、Ｒｓ21と２個のＲｓ13同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成していてもよい。また、２個のＲｓ14同士が結合して環を形成している場合においては、Ｒｓ23と２個のＲｓ14同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。なお、Ｒｓ21と２個のＲｓ13同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成している場合とは、例えば、以下の構造のことである。以下において、Ａ１は、２個のＲｓ13同士が結合して形成される環であり、Ａ２は、環Ａ１とＲｓ22とが結合して形成される環であり、Ｒｓ22は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、Ｒｓ11およびＲｓ13は、水素原子または置換基であり、＊は結合手である。
Ｒｓ23と２個のＲｓ14同士が結合して形成される環とが結合して更に環を形成している場合についても同様である。
Figure 0006987895
Figure 0006987895
 Ｒｓ31〜Ｒｓ34、Ｒｓ36〜Ｒｓ39は、それぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表す；
Ｒｓ31とＲｓ32、Ｒｓ31とＲｓ34、Ｒｓ32とＲｓ33、Ｒｓ36とＲｓ37、Ｒｓ36とＲｓ39、Ｒｓ37とＲｓ38は、互いに結合して環を形成してもよい；
Ｒｓ41およびＲｓ42は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す；
Ｒｓ43およびＲｓ44はそれぞれ独立に置換基を表す；
ｎs21およびｎs22はそれぞれ独立に０〜３の整数を表す；
ｎs21が２以上の場合、２個のＲｓ43同士が結合して環を形成していてもよい；
ｎs22が２以上の場合、２個のＲｓ44同士が結合して環を形成していてもよい。
式（ＳＱ３）中、Ｒｓ31〜Ｒｓ34、Ｒｓ36〜Ｒｓ39が表わすアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した置換基が挙げられる。
式（ＳＱ３）において、Ｒｓ31とＲｓ32、Ｒｓ31とＲｓ34、Ｒｓ32とＲｓ33、Ｒｓ36とＲｓ37、Ｒｓ36とＲｓ39、Ｒｓ37とＲｓ38は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ３）中、Ｒｓ41およびＲｓ42が表わす置換基、Ｒｓ43およびＲｓ44が表わす置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ３）中、ｎs21およびｎs22はそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、０〜２の整数を表すことが好ましい。
式（ＳＱ３）において、ｎs21が２以上の場合、２個のＲｓ43同士が結合して環を形成していてもよく、ｎs22が２以上の場合、２個のＲｓ44同士が結合して環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ１０）、式（ＳＱ１１）または式（ＳＱ１２）
で表される化合物であることも好ましい。
式（ＳＱ１０）
Figure 0006987895
 式（ＳＱ１１）
Figure 0006987895
 式（ＳＱ１２）
Figure 0006987895
式（ＳＱ１０）〜（ＳＱ１２）中、Ｘは、独立して、１つ以上の水素原子がハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよい式（Ｓ１）または式（Ｓ２）で示される２価の有機基である。
−（ＣＨ2）n1− ・・・（Ｓ１）
式（Ｓ１）中、ｎ１は２または３である。
−（ＣＨ2）n2−Ｏ−（ＣＨ2）n3− ・・・（Ｓ２）
式（Ｓ２）中、ｎ２とｎ３はそれぞれ独立して０〜２の整数であり、ｎ２＋ｎ３は１または２である。
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表す。
ｎは２または３である。
本発明で用いられるスクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ２１）または下記式（ＳＱ２２）で表わされる化合物であることも好ましい。この態様によれば、耐湿性の向上という効果が期待できる。
Figure 0006987895
 式（ＳＱ２１）中、環Ｚ11および環Ｚ12はそれぞれ独立して、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、含窒素複素環を有する多環芳香族環を表し、環Ｚ11および環Ｚ12が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよく、Ｒｓ9〜Ｒｓ14はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ａｒ1は下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基を表し、ｎ７は０〜２の整数を表し、Ｒｓ9とＲｓ13、Ｒｓ10とＲｓ14は、互いに結合して環を形成してもよい；
式（ＳＱ２２）中、環Ｚ15および環Ｚ16はそれぞれ独立して、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、含窒素複素環を有する多環芳香族環を表し、環Ｚ15および環Ｚ16が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよく、Ｒｓ15〜Ｒｓ18はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ａｒ2は下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基を表し、ｎ８は０〜２の整数を表し、Ｒｓ15とＲｓ17、Ｒｓ16とＲｓ18は、互いに結合して環を形成してもよい。
式（ＳＱ２１）において、環Ｚ11および環Ｚ12はそれぞれ独立して、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、含窒素複素環を有する多環芳香族環を表す。式（ＳＱ２１）の環Ｚ11および環Ｚ12は、式（Ａｓ−１１）の環Ｚ1aと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ２１）において、環Ｚ11および環Ｚ12が有してもよい置換基、並びにＲｓ9〜Ｒｓ14が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ２１）において、Ｒｓ9とＲｓ13、Ｒｓ10とＲｓ14は、互いに結合して環を形成してもよい。これらの基同士が結合して形成される環としては、炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環であることが好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましく、５または６員環であることが更に好ましい。炭化水素環の具体例としては、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロヘプテン環、シクロヘプタジエン環、シクロヘプタトリエン環、シクロオクテン環、シクロオクタジエン環、シクロオクタトリエン環、シクロノネン環、シクロノナジエン環、シクロノナトリエン環、シクロノナテトラエン環等のシクロアルケン環が挙げられ、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環およびシクロオクテン環が好ましく、シクロペンテン環およびシクロヘキセン環がより好ましい。複素環は、含窒素複素環であることが好ましい。
式（ＳＱ２１）において、Ａｒ1は化合物の極大吸収波長をより長波長側へシフトさせやすく、可視透明性および近赤外遮蔽性を向上させやすいという理由から式（Ａｒ−２）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基であることが好ましい。
式（ＳＱ２１）において、ｎ７は０〜２の整数を表し、０または１であることが好ましい。
式（ＳＱ２２）において、環Ｚ15および環Ｚ16はそれぞれ独立して、１つまたは複数の置換基を有していてもよい、含窒素複素環を有する多環芳香族環を表す。式（ＳＱ２２）の環Ｚ15および環Ｚ16は、式（Ａｓ１−１２）の環Ｚ1bと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ２２）において、環Ｚ15および環Ｚ16が有してもよい置換基、並びにＲｓ15〜Ｒｓ18が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（ＳＱ２２）において、Ｒｓ15とＲｓ17、Ｒｓ16とＲｓ18は、互いに結合して環を形成してもよい。これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員の含窒素複素環であることが好ましく、５〜７員の含窒素複素環であることがより好ましく、５または６員の含窒素複素環であることが更に好ましい。
式（ＳＱ２２）において、Ａｒ2は化合物の極大吸収波長をより長波長側へシフトさせやすく、可視透明性および近赤外遮蔽性を向上させやすいという理由から式（Ａｒ−２）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基であることが好ましい。
式（ＳＱ２２）において、ｎ８は０〜２の整数を表し、０または１であることが好ましい。
Figure 0006987895
式中、Ｘａ1〜Ｘａ8はそれぞれ独立して、硫黄原子、酸素原子またはＮＲｘaを表し、Ｒｘaは水素原子または置換基を表し、＊は結合手を表す。Ｒｘaが表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基あることが好ましい。Ｘａ1およびＸａ2の少なくとも一方、Ｘａ3およびＸａ4の少なくとも一方、Ｘａ5およびＸａ6の少なくとも一方、ならびにＸａ7およびＸａ8の少なくとも一方はそれぞれ独立して酸素原子またはＮＲｘaであることが好ましい。
スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ２３）で表わされる化合物であることも好ましい。この態様によれば、耐熱性および耐光性をより向上させることができる。
Figure 0006987895
 式（ＳＱ２３）中、Ｒｓ19およびＲｓ20はそれぞれ独立して置換基を表し、Ｒｓ21〜Ｒｓ26はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｘ30およびＸ31はそれぞれ独立に炭素原子またはホウ素原子を表し、Ｘ30が炭素原子の場合にはｎ１１は２であり、ホウ素原子の場合にはｎ１１は１であり、Ｘ31が炭素原子の場合にはｎ１２は２であり、ホウ素原子の場合にはｎ１２は１であり、ｎ９およびｎ１０はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、ｎ９が２以上の場合は、複数のＲｓ19は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ19のうち２個のＲｓ19同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１０が２以上の場合は、複数のＲｓ20は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ20のうち２個のＲｓ20同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１１が２の場合は、２個のＲｓ21は同一であっても異なっていてもよく、２個のＲｓ21同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１２が２の場合は、２個のＲｓ22は同一であっても異なっていてもよく、２個のＲｓ22同士が結合して環を形成してもよく、Ａｒ100は上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基を表し、ｎ１００は０〜２の整数を表す。
式（ＳＱ２３）において、Ｒｓ19〜Ｒｓ26が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基が好ましい。
式（ＳＱ２３）において、Ｒｓ23〜Ｒｓ26は水素原子であることが好ましい。
式（ＳＱ２３）において、ｎ９が２以上の場合は、複数のＲｓ19は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ19のうち２個のＲｓ19同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１０が２以上の場合は、複数のＲｓ20は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ20のうち２個のＲｓ20同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１１が２の場合は、２個のＲｓ21は同一であっても異なっていてもよく、２個のＲｓ21同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１２が２の場合は、２個のＲｓ22は同一であっても異なっていてもよく、２個のＲｓ22同士が結合して環を形成してもよい。これらの基同士が結合して形成される環としては、炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環であることが好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましく、５または６員環であることが更に好ましい。
式（ＳＱ２３）において、Ａｒ100は、式（Ａｒ−２）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基であることが好ましい。
式（ＳＱ２３）において、ｎ１００は０〜２の整数を表し、０または１であることが好ましい。
本発明で用いられるスクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ２４）で表わされる化合物であることも好ましい。この態様によれば、耐熱性および耐光性をより向上させることができる。
Figure 0006987895
 式（ＳＱ２４）中、Ｒｓ46〜Ｒｓ49は、それぞれ独立して置換基を表し、Ｒｓ50〜Ｒｓ53は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１６およびｎ１７は、それぞれ独立に０〜５の整数を表し、ｎ１８およびｎ１９は、それぞれ独立に０〜６の整数を表し、ｎ１６が２以上の場合は、複数のＲｓ46は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ46のうち２個のＲｓ46同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１７が２以上の場合は、複数のＲｓ47は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ47のうち２個のＲｓ47同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１８が２以上の場合は、複数のＲｓ48は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ48のうち２個のＲｓ48同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１９が２以上の場合は、複数のＲｓ49は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ49のうち２個のＲｓ49同士が結合して環を形成してもよく、Ａｒ200は上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基を表し、ｎ２００は０〜２の整数を表す。
式（ＳＱ２４）において、Ｒｓ46〜Ｒｓ53が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。Ｒｓ46およびＲｓ47が表す置換基としては、電子求引性基であることもが好ましい。電子求引性基としては上述した基が挙げられる。
式（ＳＱ２４）において、Ｒｓ50〜Ｒｓ53は水素原子であることが好ましい。
式（ＳＱ２４）において、ｎ１６およびｎ１７は、それぞれ独立に０〜５の整数を表し、０〜４が好ましく、０〜３がより好ましく、０〜２が更に好ましい。
式（ＳＱ２４）において、ｎ１８およびｎ１９は、それぞれ独立に０〜６の整数を表し、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が更に好ましい。
式（ＳＱ２４）において、ｎ１６が２以上の場合は、複数のＲｓ46は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ46のうち２個のＲｓ46同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１７が２以上の場合は、複数のＲｓ47は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ47のうち２個のＲｓ47同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１８が２以上の場合は、複数のＲｓ48は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ48のうち２個のＲｓ48同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１９が２以上の場合は、複数のＲｓ49は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ49のうち２個のＲｓ49同士が結合して環を形成してもよい。これらの基同士が結合して形成される環としては、炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環であることが好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましく、５または６員環であることが更に好ましい。
式（ＳＱ２４）において、Ａｒ200は、式（Ａｒ−２）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基であることが好ましい。
式（ＳＱ２４）において、ｎ２００は０〜２の整数を表し、０または１であることが好ましい。
本発明で用いられる近赤外線吸収顔料Ａは、下記式（ＳＱ３０）で表わされる化合物であることも好ましい。この態様によれば、耐光性をより向上させることできる。
Figure 0006987895
 式（ＳＱ３０）中、Ｒｓ27〜Ｒｓ30はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒｓ31およびＲｓ32はそれぞれ独立して、置換基または下記式（１００）で表される基
を表し、Ｒｓ27とＲｓ29、Ｒｓ27とＲｓ31、Ｒｓ29とＲｓ31、Ｒｓ28とＲｓ30、Ｒｓ28とＲｓ32、Ｒｓ30とＲｓ32は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒｓ31とＲｓ32は単結合または連結基を介して連結していてもよく、ｎ１３およびｎ１４はそれぞれ独立に０〜４の整数を表し、ｎ１３が２以上の場合は、複数のＲｓ31は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ31のうち２個のＲｓ31同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１４が２以上の場合は、複数のＲｓ32は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ32のうち２個のＲｓ32同士が結合して環を形成してもよく、Ａｒ300は上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基を表し、ｎ３００は０〜２の整数を表す。
式（ＳＱ３０）において、Ｒｓ27〜Ｒｓ32が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。Ｒｓ27〜Ｒｓ30が表す置換基は、アルキル基、アリール基であることが好ましい。
式（ＳＱ３０）において、Ｒｓ31およびＲｓ32はそれぞれ独立して、下記式（１００）
で表される基であることが好ましい。
式（ＳＱ３０）において、Ｒｓ27とＲｓ29、Ｒｓ27とＲｓ31、Ｒｓ29とＲｓ31、Ｒｓ28とＲｓ30、Ｒｓ28とＲｓ32、Ｒｓ30とＲｓ32は互いに結合して環を形成していてもよい。
これらの基同士が結合して形成される環としては、炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環であることが好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましく、５または６員環であることが更に好ましい。
式（ＳＱ３０）において、Ｒｓ31とＲｓ32は単結合または連結基を介して連結していてもよい。連結基としては、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる基が挙げられる。
式（ＳＱ３０）において、ｎ１３およびｎ１４はそれぞれ独立に０〜４の整数を表し、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が更に好ましい。
式（ＳＱ３０）において、ｎ１３が２以上の場合は、複数のＲｓ31は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ31のうち２個のＲｓ31同士が結合して環を形成してもよい。また、ｎ１４が２以上の場合は、複数のＲｓ32は、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ32のうち２個のＲｓ32同士が結合して環を形成してもよい。これらの基同士が結合して形成される環としては、炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環であることが好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましく、５または６員環であることが更に好ましい。
式（ＳＱ３０）において、Ａｒ300は、式（Ａｒ−２）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基であることが好ましい。
式（ＳＱ３０）において、ｎ３００は０〜２の整数を表し、０または１であることが好ましい。
Figure 0006987895
 式（１００）中、Ｒ33はアリール基またはヘテロアリール基を表し、アリール基であることが好ましい。アリール基の炭素数は、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。ヘテロアリール基は、単環のヘテロアリール基または縮合数が２〜８の縮合環のヘテロアリール基が好ましく、単環のヘテロアリール基または縮合数が２〜４の縮合環のヘテロアリール基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましい。アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（１００）中、Ｒ34は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＯＣＯＲｔ1、または−ＮＨＣＯＲｔ1が好ましい。Ｒｔ1は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。
式（１００）中、Ｘ11はＣＯまたはＳＯ2を表す。
上述した式（ＳＱ３０）で表わされる化合物は、下記式（ＳＱ３０−１）で表わされる化合物であることが好ましい。この態様によれば、可視透明性の向上という効果が期待できる。
Figure 0006987895
 式（ＳＱ３０−１）中、Ｒｓ27〜Ｒｓ30はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒｓ31aおよびＲｓ32aはそれぞれ独立して置換基を表し、Ｒｓ33aおよびＲｓ33bはそれぞれ独立してアリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒｓ34aおよびＲｓ34bはそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒｓ27とＲｓ29、Ｒｓ27とＲｓ31a、Ｒｓ29とＲｓ31a、Ｒｓ27とＲｓ34a、Ｒｓ29とＲｓ34a、Ｒｓ28とＲｓ30、Ｒｓ28とＲｓ32a、Ｒｓ30とＲｓ32a、Ｒｓ28とＲｓ34b、Ｒｓ30とＲｓ34bは互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒｓ34aとＲｓ34bは、単結合または連結基を介して連結していてもよく、Ｘ11aおよびＸ11bはそれぞれ独立してＣＯまたはＳＯ2を表し、ｎ１３ａおよびｎ１４ａはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、ｎ１３ａが２以上の場合は、複数のＲｓ31aは、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ31aのうち２個のＲｓ31a同士が結合して環を形成してもよく、ｎ１４ａが２以上の場合は、複数のＲｓ32aは、同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ32aのうち２個のＲｓ32a同士が結合して環を形成してもよく、Ａｒ300は式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される基を表し、ｎ３００は０〜２の整数を表す。
式（ＳＱ３０−１）のＲｓ27〜Ｒｓ30、Ａｒ300、ｎ３００は、式（ＳＱ３０）のＲｓ27〜Ｒｓ30、Ａｒ300、ｎ３００と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ３０−１）のＲｓ31aおよびＲｓ32aは、式（ＳＱ３０）のＲｓ31およびＲｓ32と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ３０−１）のＲｓ33aおよびＲｓ33bは、式（１００）のＲｓ33と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ３０−１）のＲｓ34aおよびＲｓ34bは、式（１００）のＲｓ34と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ３０−１）のＸ11aおよびＸ11bは、式（１００）のＸ11と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＳＱ３０−１）において、Ｒｓ27とＲｓ29、Ｒｓ27とＲｓ31a、Ｒｓ29とＲｓ31a、Ｒｓ27とＲｓ34a、Ｒｓ29とＲｓ34a、Ｒｓ28とＲｓ30、Ｒｓ28とＲｓ32a、Ｒｓ30とＲｓ32a、Ｒｓ28とＲｓ34b、Ｒｓ30とＲｓ34bは互いに結合して環を形成していてもよい。これらの基同士が結合して形成される環としては炭化水素環および複素環が挙げられ、炭化水素環であることが好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は、４〜９員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましく、５または６員環であることが更に好ましい。
式（ＳＱ３０−１）において、Ｒｓ34aとＲｓ34bは、単結合または連結基を介して連結していてもよく、より優れた耐光性が得られやすいという理由から連結していることが好ましい。連結基としては、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる基が挙げられる。
式（ＳＱ３０−１）において、ｎ１３ａおよびｎ１４ａはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、０〜２が好ましく、０〜１がより好ましく、１または２が更に好ましく、１が特に好ましい。
シアニン化合物は、式（Ｃｙ１）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ）
Figure 0006987895
 Ｒｃｙ1〜Ｒｃｙ5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒｃｙ1〜Ｒｃｙ5のうち、２つが結合して環を形成していてもよい。ｎcy1は０〜２の整数を表し、ｎcy1が２の場合、複数のＲｃｙ4およびＲｃｙ5は同一であってもよく、異なっていてもよい。Ａｃｙ1およびＡｃｙ2は、それぞれ独立にアリール基または複素環基を表す。式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｙは対アニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｙは対カチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
Ｒｃｙ1〜Ｒｃｙ5は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。式（Ｃｙ１）において、Ｒｃｙ1〜Ｒｃｙ5のうち、２つが結合して環を形成していてもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
ｎcy1は０〜２の整数を表し、０または１が好ましい。ｎcy1が２の場合、複数のＲｃｙ4およびＲｃｙ5は同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ａｃｙ1およびＡｃｙ2が表わすアリール基の炭素数は、６〜４８が好ましく、６〜２２がより好ましく、６〜１２が特に好ましい。Ａｃｙ1およびＡｃｙ2が表わす複素環基は、５員環または６員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２〜８の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が２〜４の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２または３の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２の縮合環の複素環基が特に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられ、酸素原子、硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。Ａｃｙ1およびＡｃｙ2が表わす基は置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｙは対アニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。対アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ6 -、ＢＦ4 -またはＣｌＯ4 -、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｙは対カチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。対カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+など）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｂａ2+、Ｓｒ2+など）、遷移金属イオン（Ａｇ+、Ｆｅ2+、Ｃｏ2+、Ｎｉ2+、Ｃｕ2+、Ｚｎ2+など）、その他の金属イオン（Ａｌ3+など）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムなどが挙げられる。
式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｙは存在しない。すなわち、ｃは０である。
（クロコニウム化合物）
クロコニウム化合物は、下記式（Ｃｒ１）で表される化合物であることが好ましい。
Figure 0006987895
 式中、Ａｃ1およびＡｃ2は、それぞれ独立してアリール基、複素環基または式（Ａｃ−１）で表される基を表す；
Figure 0006987895
 式中、＊は結合手を表し、
Ｒｃ1〜Ｒｃ3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
Ａｃ3は複素環基を表し、
ｎc1は、０以上の整数を表し、
Ｒｃ1とＲｃ2は、互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒｃ1とＡｃ3は、互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒｃ2とＲｃ3は、互いに結合して環を形成してもよく、
ｎc1が２以上の場合、複数のＲｃ2およびＲｃ3はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ａｃ1およびＡｃ2が表わすアリール基の炭素数は、６〜４８が好ましく、６〜２２がより好ましく、６〜１２が特に好ましい。
Ａｃ1、Ａｃ2およびＡｃ3が表わす複素環基は、５員環または６員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２〜８の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が２〜４の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２または３の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２の縮合環の複素環基が特に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。
式（Ａｃ−１）におけるＲｃ1〜Ｒｃ3は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表す。Ｒｃ1〜Ｒｃ3が表わすアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。Ｒｃ1〜Ｒｃ3は水素原子であることが好ましい。
式（Ａｃ−１）におけるｎc1は、０以上の整数を表す。ｎc1は０〜２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、１が更に好ましい。
式（Ａｃ−１）において、Ｒｃ1とＲｃ2は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒｃ1とＡｃ3は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒｃ2とＲｃ3は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、炭素数１〜１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（Ｃｒ１）において、Ａｃ1およびＡｃ2が表わす基は置換基を有することが好ましい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
式（Ｃｒ１）において、Ａｃ1およびＡｃ2がそれぞれ独立してアリール基または複素環基であるか、あるいは、Ａｃ1およびＡｃ2がそれぞれ独立して式（Ａｃ−１）で表される基であることが好ましい。また、式（ＣＲ１）において、Ａｃ1およびＡｃ2の少なくとも一方がスクアリリウム化合物の項で説明した式（Ａｓ−１０）で表わされる基、式（Ａｓ−２０）で表わされる基、式（Ａｓ−３０）で表される基、式（Ａｓ−４０）で表される基、式（Ａｓ−４１）で表される基のいずれかであることも好ましい。
なお、式（Ｃｒ１）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure 0006987895
イミニウム化合物は、下記式（Ｉｍ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｉｍ）
Figure 0006987895
 式中、Ｒ11〜Ｒ18は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｖ11〜Ｖ15は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｘは対アニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、ｎ１〜ｎ５は、それぞれ独立に、０〜４である。
Ｒ11〜Ｒ18は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１２がより好ましい。
アルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
Ｖ11〜Ｖ15は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはシアノ基を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１２がより好ましい。アルコキシ基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８が特に好ましい。アルコキシ基直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
ｎ１〜ｎ５は、それぞれ独立に、０〜４である。ｎ１〜ｎ４は、０〜２が好ましく０または１がより好ましい。ｎ５は、０〜３が好ましく、０〜２がより好ましい。
Ｘは対アニオンを表す。対アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＳｂＦ6 -、ＰＦ6 -、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、例えば、２であることが好ましい。
近赤外線吸収顔料の具体例としては、例えば下記構造の化合物が挙げられる。
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
本発明の組成物において、近赤外線吸収顔料の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して、１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。近赤外線吸収顔料の含有量が１０質量％以上であれば、本発明の効果がより顕著に発揮される。更には、近赤外線遮蔽性に優れた膜を形成し易い。また、近赤外線吸収顔料の含有量の上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。近赤外線吸収顔料の含有量が６０質量％以下であれば、十分な処方尤度を確保できるという効果が期待できる。本発明において、近赤外線吸収顔料は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の近赤外線吸収剤＞＞
本発明の硬化性組成物は、上述した近赤外線吸収顔料以外の近赤外線吸収剤（他の近赤外線吸収剤ともいう）を更に含んでもよい。他の近赤外線吸収剤としては、無機粒子が挙げられる。
無機粒子の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。無機粒子としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）粒子、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）粒子、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）粒子、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ2）粒子、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ2）粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀（Ａｇ）粒子、金（Ａｕ）粒子、銅（Ｃｕ）粒子、ニッケル（Ｎｉ）粒子など挙げられる。また、無機粒子は酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。酸化タングステン系化合物の詳細については、特開２０１６−００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の組成物が他の近赤外線吸収剤を含有する場合、他の近赤外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して０．０１〜５０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。また、上述した近赤外線吸収顔料と他の近赤外線吸収剤との合計質量中における他の近赤外線吸収剤の含有量は、１〜９９質量％が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。
また、本発明の組成物は他の近赤外線吸収剤を実質的に含有しないことも好ましい。他の近赤外線吸収剤を実質的に含有しないとは、上述した近赤外線吸収顔料と他の近赤外線吸収剤との合計質量中における他の近赤外線吸収剤の含有量が０．５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、他の近赤外線吸収剤を含有しないことが更に好ましい。
＜＜溶剤＞＞
本発明の組成物は、溶剤を含有する。本発明においては、溶剤として、上述した近赤外線吸収顔料との間で上述した式（１）の条件を満たす材料を選択して用いる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。有機溶剤の例としては、例えば、以下の有機溶剤が挙げられる。エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸シクロヘキシル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、アルキルオキシ酢酸アルキル（例えば、アルキルオキシ酢酸メチル、アルキルオキシ酢酸エチル、アルキルオキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３−アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−アルキルオキシプロピオン酸メチル、３−アルキルオキシプロピオン酸エチル等（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等））、２−アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−アルキルオキシプロピオン酸メチル、２−アルキルオキシプロピオン酸エチル、２−アルキルオキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル））、２−アルキルオキシ−２−メチルプロピオン酸メチル及び２−アルキルオキシ−２−メチルプロピオン酸エチル（例えば、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等が挙げられる。エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等が挙げられる。ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等が挙げられる。芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
本発明において、溶剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の組成物が溶剤を２種以上含む場合、２種以上の溶剤のうち、ハンセン溶解度パラメータのｄ値が最も高い溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値と、ハンセン溶解度パラメータのｄ値が最も低い溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値との差は１０ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、８ＭＰａ0.5以下であることがより好ましく、７ＭＰａ0.
5以下であることが更に好ましい。この態様によれば、室温保管時に片方の溶剤の揮発が生じた際の混合ｄ値の変動を抑制できるという効果が期待できる。
本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。
また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
溶剤の含有量は、組成物の全量に対し、１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜９０質量％であることがより好ましく、３０〜９０質量％であることが更に好ましい。
また、本発明の組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、組成物中における環境規制物質の含有量が５０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、３０質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えばベンゼン；トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類；クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、ＲＥＡＣＨ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ ｏｆ ＣＨｅｍｉｃａｌｓ）規則、ＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ Ｒｅｌｅａｓｅ ａｎｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）法、ＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）
規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、本発明の組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。
環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物（例えば重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液）の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した組成物の段階など、いずれの段階でも可能である。
＜＜樹脂＞＞
本発明の組成物は、樹脂を含有することが好ましい。樹脂は、例えば、近赤外線吸収顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に近赤外線吸収顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００〜２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
本発明で用いる樹脂は、酸基および／または水酸基を有する樹脂を含むことが好ましく、酸基を有する樹脂を含むことがより好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性水酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。
酸基を有する樹脂は、側鎖にカルボキシル基を有する繰り返し単位を含むポリマーであることが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適に用いられる。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）
アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ位置換マレイミドモノマーを用いることもできる。これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみを用いてもよく、２種以上用いてもよい。
酸基を有する樹脂は、更に重合性基を有していてもよい。重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。市販品としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（カルボキシル基含有ポリウレタンアクリレートオリゴマー、Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）、アクリキュアーＲＤ−Ｆ８（（株）日本触媒製）などが挙げられる。
酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。
酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure 0006987895
式（ＥＤ１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
Figure 0006987895
 式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）については、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure 0006987895
 式（Ｘ）において、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。
酸基を有する樹脂については、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５〜０７００）の記載、特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号００７６〜００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。例えば、アクリベースＦＦ−４２６（藤倉化成（株）製）などが挙げられる。
酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
酸基を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure 0006987895
本発明の組成物は、樹脂として、式（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される繰り返し単位を有する樹脂を用いることも好ましい。
Figure 0006987895
式中、Ｒ5は水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ4〜Ｌ7は各々独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｒ10〜Ｒ13は各々独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ14およびＲ15は、各々独立に水素原子または置換基を表す。
Ｒ5が表すアルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ5は、水素原子またはメチル基が好ましい。
Ｌ4〜Ｌ7が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ10−（Ｒ10は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。
Ｒ10〜Ｒ13が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、環状が好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。Ｒ10〜Ｒ13が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６がさらに好ましい。Ｒ10は、環状のアルキル基またはアリール基が好ましい。Ｒ11、Ｒ12は、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。Ｒ13は、直鎖状のアルキル基、分岐状のアルキル基、または、アリール基が好ましい。
Ｒ14およびＲ15が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、−ＮＲa1Ｒa2、−ＣＯＲa3、−ＣＯＯＲa4、−ＯＣＯＲa5、−ＮＨＣＯＲa6、−ＣＯＮＲa7Ｒa8、−ＮＨＣＯＮＲa9Ｒa10、−ＮＨＣＯＯＲa11、−ＳＯ2Ｒa12、−ＳＯ2ＯＲa13、−ＮＨＳＯ2Ｒa14または−ＳＯ2ＮＲa15Ｒa16が挙げられる。Ｒa1〜Ｒa16は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表す。なかでも、Ｒ14およびＲ15の少なくとも一方は、シアノ基または−ＣＯＯＲa4を表すことが好ましい。Ｒa4は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表すことが好ましい。
式（Ａ３−７）で表される繰り返し単位を有する樹脂の市販品としては、ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。また、式（Ａ３−７）で表される繰り返し単位を有する樹脂の詳細については、特開２０１１−１０００８４号公報の段落番号００５３〜００７５、０１２７〜０１３０の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法によりパターン形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。
分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、近赤外線吸収顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００２５〜００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、グラフト共重合体としては特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００７２〜００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure 0006987895
また、本発明において、樹脂（分散剤）は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤を用いることも好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０〜１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系分散剤については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１０２〜０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系分散剤の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、オリゴイミン系分散剤としては、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１６８〜０１７４に記載の樹脂を用いることができる。
Figure 0006987895
分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）、ソルスパース７６５００（日本ルーブリゾール（株）製）などが挙げられる。また、特開２０１４−１３０３３８号公報の段落番号００４１〜０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した酸基を有する樹脂などを分散剤として用いることもできる。
本発明の組成物において、樹脂の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対し、１〜８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。
上限は、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。
また、樹脂として分散剤を含有する場合、分散剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜４０質量％が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。また、分散剤の含有量は、近赤外線吸収顔料の１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、７５質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
＜＜重合性モノマー＞＞
本発明の組成物は、重合性モノマーを含有することが好ましい。重合性モノマーは、多価アルコールから誘導される化合物であることが好ましい。多価アルコールとしては、３価以上のアルコールであることが好ましく、３〜１５価のアルコールであることが好ましく、３〜１０価のアルコールであることがより好ましく、３〜６価のアルコールであることが更に好ましい。また、重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を２個以上有する化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を３個以上有する化合物であることが更に好ましい。重合性モノマーにおけるエチレン性不飽和結合を有する基の数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、１０個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
重合性モノマーの分子量は、５０００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましく、２０００以下であることが更に好ましく、１５００以下であることが一層好ましい。下限は、例えば、１００以上であることが好ましく、２５０以上であることがより好ましい。重合性モノマーは、３〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３〜１０官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。
重合性モノマーは、酸基および水酸基から選ばれる少なくとも１種の基とエチレン性不飽和結合を有する基とを有する化合物であることも好ましい。なかでも、組成物の保存安定性が良好で、更には、得られる膜の耐溶剤性をより向上させやすいという理由から、重合性モノマーは酸基とエチレン性不飽和結合を有する基とを有する化合物であることが更に好ましい。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
重合性モノマーの酸価は、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。重合性モノマーの酸価が上記範囲であれば、組成物の保存安定性、得られる膜の耐光性および耐溶剤性が特に優れる。また、重合性モノマーの水酸基価としては、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、２．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。重合性モノマーの水酸基価が上記範囲であれば、膜の親水化により酸素の侵入が抑制され、耐光性がより向上する。
重合性モノマーのＣ＝Ｃ価は、５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、７ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。重合性モノマーのＣ＝Ｃ価が上記範囲であれば十分な強度を持つ膜が得られやすい。なお、重合性モノマーのＣ＝Ｃ価は、重合性モノマーの１分子中に含まれるエチレン性不飽和結合を有する基の数を重合性モノマーの分子量で割ることで算出した値である。
重合性モノマーは、下記式（Ｍ−１）で表される化合物が好ましい。
（Ａ1）n1−Ｌ1−（Ｂ1）n2 ・・・式（Ｍ−１）
（式（Ｍ−１）中、Ａ1は水酸基または酸基を表し、Ｌ1は、（ｎ１＋ｎ２）価の基を表し、Ｂ1はエチレン性不飽和結合を有する基を表す。ｎ１は０以上の整数を表し、ｎ２は１以上の整数を表し、ｎ１＋ｎ２は３〜１５の整数である）
Ａ1が表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。Ｌ1が表す（ｎ１＋ｎ２）価の基としては、炭化水素基、複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ2−もしくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子が好ましい。炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、環状であってもよく、非環状であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。炭化水素基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基、および、芳香族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基としては、５員環または６員環が好ましい。複素環基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。また、複素環基を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Ｌ1は、炭化水素基を少なくとも含む基が好ましい。Ｌ1を構成する炭素原子の数は、３〜１００であることが好ましく、６〜５０であることがより好ましい。Ｂ1が表すエチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。ｎ１は、０〜２が好ましく、０または１がより好ましい。ｎ２は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましい。ｎ２の上限は、１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、６以下が更に好ましく、４以下が特に好ましい。
重合性モノマーの具体例としては、下記構造の化合物が挙げられる。
Figure 0006987895
重合性モノマーは、アルキレンオキシ基を有する化合物であることも好ましい。アルキレンオキシ基を有する化合物としては、エチレンオキシ基及び／またはプロピレンオキシ基を有する化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４〜２０個有する３〜６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。
重合性モノマーは、下記式（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−５）で表される化合物を好ましく用いることもできる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲに結合する。
Figure 0006987895
上記の式において、ｎは０〜１４であり、ｍは１〜８である。一分子内に複数存在するＲ、Ｔ、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。上記式（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−５）で表される化合物の各々において、複数のＲの内の少なくとも１つは、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ2、又は、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2で表される基を表す。上記式
（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−５）で表される重合性モノマーの具体例としては、特開２００７−２６９７７９号公報の段落０２４８〜０２５１に記載されている化合物が挙げられる。
また、重合性モノマーは、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることも好ましい。カプロラクトン構造を有する化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンとをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する化合物は、下記式（Ｚ−１）で表される化合物が好ましい。
Figure 0006987895
式（Ｚ−１）中、６個のＲは全てが式（Ｚ−２）で表される基であるか、又は６個のＲのうち１〜５個が式（Ｚ−２）で表される基であり、残余が式（Ｚ−３）で表される基、酸基または水酸基である。
Figure 0006987895
 式（Ｚ−２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２の数を示し、「＊」は結合手であることを示す。
Figure 0006987895
 式（Ｚ−３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、「＊」は結合手であることを示す。
重合性モノマーとして、式（Ｚ−４）又は（Ｚ−５）で表される化合物を用いることもできる。
Figure 0006987895
式（Ｚ−４）及び（Ｚ−５）中、Ｅは、各々独立に、−（（ＣＨ2）yＣＨ2Ｏ）−、又は−（（ＣＨ2）yＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）−を表し、ｙは、各々独立に０〜１０の整数を表し、Ｘは、各々独立に、（メタ）アクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
式（Ｚ−４）中、（メタ）アクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは各々独立に０〜１０の整数を表し、各ｍの合計は０〜４０の整数である。式（Ｚ−５）中、（メタ）
アクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは各々独立に０〜１０の整数を表し、各ｎの合計は０〜６０の整数である。
式（Ｚ−４）中、ｍは、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。また、各ｍの合計は、２〜４０の整数が好ましく、２〜１６の整数がより好ましく、４〜８の整数が特に好ましい。式（Ｚ−５）中、ｎは、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。また、各ｎの合計は、３〜６０の整数が好ましく、３〜２４の整数がより好ましく、６〜１２の整数が特に好ましい。また、式（Ｚ−４）又は式（Ｚ−５）中の−（（ＣＨ2）yＣＨ2Ｏ）−又は−（（ＣＨ2）yＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）−は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。
本発明の組成物が重合性モノマーを含有する場合、近赤外線吸収顔料と重合性モノマーとが下記の式（１０）の関係を満たすことが好ましい。この態様によれば、他の層への近赤外線吸収顔料などの移動を抑制できるという効果が期待できる。
｜ｄ１−ｄ１０｜≧０．３ＭＰａ0.5 ・・・（１０）
ｄ１は、近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、ｄ１０は、組成物に含まれる重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、組成物が重合性モノマーを２種以上含む場合は、２種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値である。
式（１０）における｜ｄ１−ｄ１０｜の値は、０．４ＭＰａ0.5以上であることが好ましく、０．５ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、０．７ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましく、０．９ＭＰａ0.5以上であることが特に好ましい。また、式（１０）における｜ｄ１−ｄ１０｜の値は、重合性モノマーと組成物に含まれる溶剤などの他の成分との相溶性の観点から１０ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、９ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、８ＭＰａ0.5以下であることが好ましい。
本発明の組成物において、重合性モノマーの含有量は、組成物の全固形分に対し、５〜６０質量％が好ましい。下限は、８質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、５５質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
＜＜ラジカル重合開始剤＞＞
本発明の組成物は、ラジカル重合開始剤を含有することができる。ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のラジカル重合開始剤の中から適宜選択することができる。ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤などが挙げられ、光ラジカル重合開始剤が好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物などが挙げられる。ラジカル重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３−アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特開２０１４−１３０１７３号公報の段落００６５〜０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
α−ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α−アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
オキシム化合物としては、特開２００１−２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１６−２１０１２号公報に記載などを用いることができる。本発明において好適に用いることができるオキシム化合物としては、例えば、３−ベンゾイルオキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６−１６２）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２−２３２）、特開２０００−６６３８５号公報、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ−１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２−１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）も用いることができる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ−７３０、ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
本発明において、ラジカル重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、ラジカル重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、ラジカル重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２、００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７〜００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 0006987895
Figure 0006987895
オキシム化合物は、波長３５０〜５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０〜４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。
また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１,０００〜３００，０００であることがより好ましく、２,０００〜３００，０００であることが更に好ましく、５,０００〜２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
本発明は、光ラジカル重合開始剤として、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。このような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。
また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。そのような光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０−５２７３３９号公報、特表２０１１−５２４４３６号公報、国際公開ＷＯ２０１５／００４５６５号公報、特表２０１６−５３２６７５号公報の段落番号０４１７〜０４１２、国際公開ＷＯ２０１７／０３３６８０号公報の段落番号００３９〜００５５に記載されているオキシム化合物の２量体や、特表２０１３−５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開ＷＯ２０１６／０３４９６３号公報に記載されているＣｍｐｄ１〜７、特表２０１７−５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７−１６７３９９号公報の段落番号００２０〜００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７−１５１３４２号公報の段落番号００１７〜００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）などが挙げられる。
ラジカル重合開始剤は、オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α−アミノケトン化合物が５０〜６００質量部が好ましく、１５０〜４００質量部がより好ましい。
ラジカル重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましい。ラジカル重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、現像性が良好である。本発明の組成物は、ラジカル重合開始剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。ラジカル重合開始剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜エポキシ化合物＞＞
本発明の組成物は、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）を含有することができる。本発明の組成物にエポキシ化合物を含有させることで、耐溶剤性に優れた膜が得られやすい。 エポキシ化合物としては、単官能または多官能グリシジルエーテル化合物、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物、脂環式エポキシ基を有する化合物、エポキシ基を有する繰り返し単位を含む樹脂などが挙げられる。
エポキシ化合物は、エポキシ基を１分子に１〜１００個有する化合物であることが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。
エポキシ化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、２０００〜１０００００が好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
エポキシ化合物の市販品としては、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ（株）製）、アデカグリシロール ＥＤ−５０５（（株）ＡＤＥＫＡ製、エポキシ基含有モノマー）、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｇ−０１０５ＳＡ、Ｇ−０１３０ＳＰ、Ｇ−０２５０ＳＰ、Ｇ−１００５Ｓ、Ｇ−１００５ＳＡ、Ｇ−１０１０Ｓ、Ｇ−２０５０Ｍ、Ｇ−０１１００、Ｇ−０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）などが挙げられる。また、エポキシ化合物としては、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
本発明の組成物がエポキシ化合物を含有する場合、エポキシ化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。
上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４０質量％以下が更に好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
本発明の組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
本発明において、有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては、以下が挙げることができる。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）、
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５−０２８１４４号公報、特開２０１５−３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。
本発明の組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して１〜５０質量％が好ましい。本発明の組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
また、本発明の組成物は、有彩色着色剤を実質的に含有しないことも好ましい。本発明の組成物が有彩色着色剤を実質的に含有しない場合とは、有彩色着色剤の含有量が組成物の全固形分に対して０．１質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以下であることがより好ましく、含有しないことが更に好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
本発明の組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。
本発明において、可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、本発明において、可視光を遮光する色材は、波長４５０〜６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００〜１３００ｎｍの光を透過する色材であることが好ましい。
本発明において、可視光を遮光する色材は、以下の（１）および（２）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（１）：２種以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（２）：有機系黒色着色剤を含む。
本発明の組成物が、可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、組成物の全固形分に対して３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。下限は、例えば、０．０１質量％以上とすることができ、０．５質量％以上とすることもできる。
＜＜分散助剤＞＞
本発明の組成物は分散助剤を含むことが好ましい。本発明の組成物が分散助剤を含むことで組成物中における顔料の分散性をより向上させることができる。本発明において、分散助剤とは、顔料と分散剤の双方に相互作用できる基を有する化合物のことである。分散剤としては、樹脂（分散樹脂）であることが好ましい。すなわち、本発明で用いられる分散助剤は、顔料と樹脂（分散樹脂）との双方に相互作用できる基を有する化合物であることが好ましい。
本発明の組成物に用いられる分散助剤の極大吸収波長と、本発明の組成物に用いられる近赤外線吸収顔料の極大吸収波長との差の絶対値は、２００ｎｍを超えることが好ましく、３００ｎｍを超えることがより好ましく、４００ｎｍを超えることが更に好ましい。上限は８００ｎｍ以下が好ましく、７５０ｎｍ以下がより好ましい。両者の極大吸収波長の絶対値の差が２００ｎｍを超える組み合わせとすることで近赤外線吸収顔料の分散性をより向上させることができる。分散助剤は、波長２００〜５００ｎｍの範囲（好ましくは波長２５０〜４５０ｎｍの範囲、より好ましくは波長２５０〜４００ｎｍの範囲）に極大吸収波長を有することが好ましい。
近赤外線吸収顔料として芳香族環を含む化合物を用いた場合、分散助剤は近赤外線吸収顔料に含まれる芳香族環と共通する構造の芳香族環を有する化合物を用いることが好ましい。この態様によれば、近赤外線吸収顔料の分散性をより向上させることができる。
また、近赤外線吸収顔料として下記式（Ｓ１）で表される部分構造を有するスクアリリウム化合物を用いた場合、分散助剤は、近赤外線吸収顔料であるスクアリリウム化合物の、下記式（Ｓ１）の＊１の位置で結合する基または＊２の位置で結合する基に含まれる下記式（１）で表される部分構造と共役している構造部位を含む化合物を用いることが好ましい。また、近赤外線吸収顔料として下記式（Ｃ１）で表される部分構造を有するクロコニウム化合物を用いた場合、分散助剤は、近赤外線吸収顔料であるクロコニウム化合物の、下記式（Ｃ１）の＊３の位置で結合する基または＊４の位置で結合する基に含まれる下記式（Ｃ１）で表される部分構造と共役している構造部位を含む化合物を用いることが好ましい。これらの態様によれば、近赤外線吸収顔料の分散性をより向上させることができる。
Figure 0006987895
 上記式中、＊１〜＊４はそれぞれ結合手である。
また、近赤外線吸収顔料が上記式（Ｓ１）で表される部分構造を有するスクアリリウム化合物であり、かつ、式（Ｓ１）の＊１の位置で結合する基、および、＊２の位置で結合する基の少なくとも一方は二以上の環が縮環した構造を含む化合物である場合、分散助剤は、近赤外線吸収顔料に含まれる上記二以上の環が縮環した構造を含む化合物であることが好ましい。また、近外線吸収顔料が上記式（Ｃ１）で表される部分構造を有するクロコニウム化合物であり、かつ、式（Ｃ１）の＊３の位置で結合する基、および、＊４の位置で結合する基の少なくとも一方は二以上の環が縮環した構造を含む化合物である場合、分散助剤が近赤外線吸収顔料に含まれる二以上の環が縮環した構造を含む化合物であることが好ましい。
また、分散助剤に含まれる上記二以上の環が縮環した構造は、ベンゼン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環およびピラジン環から選ばれる少なくとも１種の環を１種以上含む２環以上の縮合環であるか、インドレニン環、フルオレン環またはカルバゾール環を含む縮合環であることが好ましい。これらの態様によれば、近赤外線吸収顔料の分散性をより向上させることができる。
このような化合物としては、例えば下記構造の化合物が挙げられる。
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
本発明の組成物は、分散助剤として顔料誘導体を用いることも好ましい。顔料誘導体としては、色素骨格に、酸基および塩基性基から選ばれる少なくとも１種の基が結合した化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が好ましい。
Figure 0006987895
 式（Ｂ１）中、Ｐは色素骨格を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸基または塩基性基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
Ｐが表す色素骨格としては、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格から選ばれる少なくとも１種が好ましく、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、スクアリリウム色素構造が特に好ましい。
Ｌが表す連結基としては、１〜１００個の炭素原子、０〜１０個の窒素原子、０〜５０個の酸素原子、１〜２００個の水素原子、および０〜２０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換でもよく、置換基を更に有していてもよい。置換基としては、上述した式（ＰＰ）で説明した置換基Ｔが挙げられる。
Ｘが表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基等が挙げられる。カルボン酸アミド基としては、−ＮＨＣＯＲX1で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、−ＮＨＳＯ2ＲX2で表される基が好ましい。イミド酸基としては、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2ＲX3、−ＣＯＮＨＳＯ2ＲX4、−ＣＯＮＨＣＯＲX5または−ＳＯ2ＮＨＣＯＲX6で表される基が好ましい。ＲX1〜ＲX6は、それぞれ独立に、炭化水素基または複素環基を表す。ＲX1〜ＲX6が表す、炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
Ｘが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。
顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭５６−１１８４６２号公報、特開昭６３−２６４６７４号公報、特開平１−２１７０７７号公報、特開平３−９９６１号公報、特開平３−２６７６７号公報、特開平３−１５３７８０号公報、特開平３−４５６６２号公報、特開平４−２８５６６９号公報、特開平６−１４５５４６号公報、特開平６−２１２０８８号公報、特開平６−２４０１５８号公報、特開平１０−３００６３号公報、特開平１０−１９５３２６号公報、国際公開ＷＯ２０１１／０２４８９６号公報の段落番号００８６〜００９８、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９９号公報の段落番号００６３〜００９４等に記載の化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure 0006987895
本発明の組成物が分散助剤を含有する場合、分散助剤の含有量は、近赤外線吸収顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。分散助剤の含有量が上記範囲であれば、近赤外線吸収顔料の分散性を高めて、近赤外線吸収顔料の凝集を効率よく抑制できる。分散助剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、本発明の組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、近赤外線吸収顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、近赤外線吸収顔料の分散性を高めて、近赤外線吸収顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
本発明の組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、本発明の組成物に対して０．００１〜５質量％が好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
本発明の組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチレン基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１８〜００３６に記載の化合物、特開２００９−２４２６０４号公報の段落番号００５６〜００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜１５．０質量％が好ましく、０．０５〜１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
本発明の組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８〜０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明において、界面活性剤は、フッ素系界面活性剤であることが好ましい。本発明の硬化性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を製造することもできる。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００６０〜００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落番号０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０６８、ＳＣ−３８１、ＳＣ−３８３、Ｓ−３９３、ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６−２１６６０２号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure 0006987895
 上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０および段落番号０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、ＮＣＷ−１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ−６１１２、Ｄ−６１１２−Ｗ、Ｄ−６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
界面活性剤の含有量は、本発明の組成物に対して０．０１〜１質量％が好ましい。上限は、０．５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以下であることが更に好ましい。下限は、０．０１５質量％以上であることが好ましい。
また、フッ素系界面活性剤の含有量は、本発明の組成物に対して０．０１〜１質量％が好ましい。上限は、０．５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以下であることが更に好ましい。下限は、０．０１５質量％以上であることが好ましい。界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせてもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、アゾメチン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２−２０８３７４号公報の段落番号００５２〜００７２、特開２０１３−６８８１４号公報の段落番号０３１７〜０３３４、特開２０１６−１６２９４６号公報の段落番号００６１〜００８０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ−５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。インドール化合物としては下記構造の化合物が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
Figure 0006987895
本発明においては、紫外線吸収剤として、式（ＵＶ−１）〜式（ＵＶ−３）で表される化合物を好ましく用いることもできる。
Figure 0006987895
式（ＵＶ−１）において、Ｒ101及びＲ102は、各々独立に、置換基を表し、ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して０〜４を表す。式（ＵＶ−２）において、Ｒ201及びＲ202は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ203及びＲ204は、各々独立に、置換基を表す。式（ＵＶ−３）において、Ｒ301〜Ｒ303は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ304及びＲ305は、各々独立に、置換基を表す。
式（ＵＶ−１）〜式（ＵＶ−３）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure 0006987895
本発明の組成物において、紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］
オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−３０、アデカスタブ ＡＯ−４０、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ−８０、アデカスタブ ＡＯ−３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。
本発明の組成物において、酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．３〜１５質量％であることがより好ましい。
酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分は、特開２００８−２５００７４号公報の段落番号０１０１〜０１０４、０１０７〜０１０９等の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００〜２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０〜２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開ＷＯ２０１４／０２１０２３号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０３０００５号公報、特開２０１７−００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ−５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
本発明の組成物の含水率は、５質量％以下であることが好ましく、２質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが更に好ましく、０．５質量％以下であることが特に好ましい。含水率が５質量％以下であれば、IR色材の加水分解を抑制できるという効果が期待できる。
本発明の組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５−１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
本発明の組成物の用途は、特に限定されない。例えば、近赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。また、本発明の組成物において、更に、可視光を遮光する色材を含有させることで、特定の波長以上の近赤外線のみを透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。
＜組成物の調製方法＞
本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
また、組成物の調製にあたり、近赤外線吸収顔料を分散させるプロセスを含むことが好ましい。近赤外線吸収顔料を分散させるプロセスにおいて、近赤外線吸収顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル
（ビーズミル）における近赤外線吸収顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、近赤外線吸収顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５−１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また近赤外線吸収顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて近赤外線吸収顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５−１９４５２１号公報、特開２０１２−０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６、ナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１〜３．０μｍ程度であり、更に好ましくは０．０５〜０．５μｍ程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジが挙げられる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮIＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。
また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の組成物から得られるものである。本発明の膜は、近赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタとして用いることもできる。本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
支持体として用いられる半導体基材には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、半導体基材には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、半導体基材には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
支持体として用いられる透明基材は、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスにおける銅の含有量は、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．３〜１７質量％であることがより好ましく、０．５〜１５質量％であることが更に好ましい。銅を含有するガラスは、波長７００〜１１００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。下限は８００ｎｍ以上であることが好ましく、９００ｎｍ以上であることがより好ましい。上限は１０５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ−５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長７００〜１８００ｎｍ（好ましくは波長７００〜１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００〜１０００ｎｍ）の範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長４００〜６００ｎｍの光の平均透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。また、波長４００〜６００ｎｍの全ての範囲での透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜は、波長７００〜１８００ｎｍ（好ましくは波長７００〜１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００〜１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましい。また、本発明の膜は、波長４００〜６００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ａ1と、極大吸収波長における吸光度Ａ2との比であるＡ1／Ａ2が０．３以下であることが好ましく、０．２０以下であることがより好ましく、０．１５以下であることが更に好ましく、０．１０以下であることが特に好ましい。
本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本発明の組成物に含んでもよいものとして挙げた有彩色着色剤が挙げられる。
また、本発明の膜に有彩色着色剤を含有させて、近赤外線カットフィルタとカラーフィルタとしての機能を備えたフィルタとしてもよい。
本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
なお、本発明において、近赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光（可視光）を透過させ、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。近赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過させるものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本発明において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本発明において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。
本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
本発明の膜は、本発明の組成物を塗布する工程を経て製造できる。
支持体としては、上述したものが挙げられる。組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット−特許に見る無限の可能性−、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ〜１３３ページ）や、特開２００３−２６２７１６号公報、特開２００３−１８５８３１号公報、特開２００３−２６１８２７号公報、特開２０１２−１２６８３０号公報、特開２００６−１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク温度を１５０℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。プリベーク時間は、１０秒〜３０００秒が好ましく、４０〜２５００秒がより好ましく、８０〜２２０秒がさらに好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
本発明の膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。
パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられ、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
＜＜露光工程＞＞
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３〜２．５Ｊ／ｃｍ2が好ましく、０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ2がより好ましく、０．０８〜０．５Ｊ／ｃｍ2が最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ2〜１０００００Ｗ／ｍ2（例えば、５０００Ｗ／ｍ2、１５０００Ｗ／ｍ2、３５０００Ｗ／ｍ2）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ2、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ2などとすることができる。
＜＜現像工程＞＞
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０〜３０℃が好ましい。現像時間は、２０〜１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
現像液は、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。
アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５〜１００倍の範囲に設定することができる。なお、アルカリ性水溶液を現像液として使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば１００〜２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００〜２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
ドライエッチング法でのパターン形成は、組成物を支持体上などに塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。
特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３−０６４９９３号公報の段落番号００１０〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜近赤外線カットフィルタ＞
次に、本発明の近赤外線カットフィルタについて説明する。本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した本発明の膜を有する。本発明の近赤外線カットフィルタは、波長４００〜６００ｎｍの光の平均透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。また、波長４００〜６００ｎｍの全ての範囲での透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、近赤外線カットフィルタの近赤外線遮蔽性の好ましい範囲は用途によって異なるが、波長７００〜１８００ｎｍ（好ましくは波長７００〜１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００〜１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。近赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有する場合においては、視野角をより広げることができたり、近赤外線遮蔽性をより向上させることができる。また、近赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有する場合においては、紫外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落番号００４０〜００７０、０１１９〜０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号０２５５〜０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ−５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ−６０、ＢＧ−６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。銅錯体としては、国際公開ＷＯ２０１６／０６８０３７号公報の段落番号０００９〜００４９に記載された化合物などが挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜固体撮像素子＞
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明における膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明における膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明における膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２−２２７４７８号公報、特開２０１４−１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３−４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線−高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集−」、技術情報協会、３２６〜３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０〜４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０〜５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０〜６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０〜７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、近赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、近赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
近赤外線カットフィルタ１１１は本発明の組成物を用いて形成することができる。近赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長に応じて選択される。
カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０２１４〜０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。
図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、近赤外線カットフィルタ１１１とは別の近赤外線カットフィルタ（他の近赤外線カットフィルタ）がさらに配置されていてもよい。他の近赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の近赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。
＜粒子径の測定＞
顔料の粒子径について、日機装（株）製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣＵＰＡ １５０を用いて堆積基準で測定し、粒度分布における累積体積が５０％となるＤ５０粒子径、粒度分布における累積体積が９０％となるＤ９０粒子径、およびＤ９０粒子径とＤ５０粒子径との比（Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径）を測定した。
［試験例１］
＜組成物の調製＞
下記の表に記載の原料を混合して、組成物を調製した。なお、分散液は、以下のように調製した分散液を用いた。
下記表の分散液の欄に記載の種類の近赤外線吸収顔料、顔料誘導体、分散剤および溶剤を、それぞれ下記の表の分散液の欄に記載の質量部で混合し、更に直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。
なお、実施例１〜５５および比較例１，２において、近赤外線吸収顔料として以下の混練研磨処理を施したものを用いた。
（混練研磨処理条件）
近赤外線吸収顔料５．３質量部、摩砕剤７４．７質量部および粘結剤１４質量部をラボプラストミル（（株）東洋精機製作所製）に添加し、装置中の混練物の温度が７０℃になるように温度コントロールして、２時間混練した。摩砕剤は中性無水芒硝Ｅ（平均粒子径（体積基準の５０％径（Ｄ５０））＝２０μｍ、三田尻化学製）、粘結剤はジエチレングリコールを使用した。混練研磨後の混練物を、２４℃の水１０Ｌで水洗処理して摩砕剤および粘結剤を取り除き、加熱オーブンで８０℃２４時間の処理を行った。
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
Figure 0006987895
上記表に記載の原料は以下の通りである。なお、ＨＳＰ−ｄの欄に記載の数値は、近赤外線吸収顔料または溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、単位はＭＰａ0.5である。また、平均ＨＳＰ−ｄの欄に記載の数値は、各組成物に含まれる溶剤１〜３のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値であり、単位はＭＰａ0.5である。また、ΔＨＳＰ−ｄの欄に記載の数値は、各組成物に含まれる近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値と、各組成物に含まれる溶剤１〜３のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値（平均ＨＳＰ−ｄの欄に記載の数値）との差の絶対値であり、単位はＭＰａ0.5である。Ｄ５０の欄に記載の数値はＤ５０粒子径（組成物に含まれる顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となる粒子径であり、単位はｎｍ）であり、Ｄ９０の欄に記載の数値はＤ９０粒子径（組成物に含まれる顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が９０％となる粒子径であり、単位はｎｍ）である。Ｄ９０／Ｄ５０の欄に記載の数値は、Ｄ９０粒子径とＤ５０粒子径の比（Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径）である。
（顔料）
Figure 0006987895
Figure 0006987895
上記表の化合物Ｎｏの欄に記載の化合物は下記構造の化合物または近赤外線吸収顔料の具体例の項で示した構造の化合物である。なお、Ａ−２３〜Ａ−４４、Ａ−５３、Ａ−５４、Ａａ−１、Ａｂ−１、Ａｂ−９、Ａｂ−１０、Ａｂ−１２、Ａｂ−１４、Ａｃ−１、Ａｃ−２、Ａｃ−３、Ａｃ−５、Ａｃ−６、Ａｆ−１、Ａｆ−３、Ａｆ−４、Ａｆ−６、Ａｇ−１、Ａｇ−２、Ａｇ−４、Ａｈ−１、Ａｈ−２、Ａｏ−２は同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物であり、Ａ−５０〜Ａ−５２は、カチオン性発色団と対アニオンとの塩からなる色素化合物である。ＨＳＰ−ｄ、ＨＳＰ−ｐ、ＨＳＰ−ｈの欄に記載の数値は、それぞれ、ハンセン溶解度パラメータのｄ値、ｐ値およびｈ値であり、単位はＭＰａ0.5である。なお、近赤外線吸収顔料１〜２７、１０１〜１２２、Ｒ１は、波長７００〜１８００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有していた。
ＰＲ２５４ ：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４（有彩色顔料）
ＰＧ３６ ：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ３６（有彩色顔料）
ＰＢ１５：６ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６（有彩色顔料）
Figure 0006987895
Figure 0006987895
（顔料誘導体）
Ｂ１、Ｂ２：下記構造の化合物。
Figure 0006987895
Ｂａ−２、Ｂａ−５、Ｂａ−６、Ｂａ−７、Ｂａ−８、Ｂａ−９、Ｂｂ−４、Ｂｂ−８、Ｂｂ−１０、Ｂｂ−１２、Ｂｂ−１５、Ｂｂ−１６、Ｂｂ−１８、Ｂｅ−７、Ｂｆ−１、Ｂｆ−２、Ｂｆ−４、Ｂｈ−１、Ｂｈ−２、Ｂｇ−１：上述した分散助剤の具体例で示した構造の化合物Ｂａ−２、Ｂａ−５、Ｂａ−６、Ｂａ−７、Ｂａ−８、Ｂａ−９、Ｂｂ−４、Ｂｂ−８、Ｂｂ−１０、Ｂｂ−１２、Ｂｂ−１５、Ｂｂ−１６、Ｂｂ−１８、Ｂｅ−７、Ｂｆ−１、Ｂｆ−２、Ｂｆ−４、Ｂｈ−１、Ｂｈ−２、Ｂｇ−１
（分散剤）
Ｃ１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２０，０００、酸価＝３０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ２：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２０，０００、酸価＝１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ３：下記構造のブロック型樹脂（アミン価＝９０ｍｇＫＯＨ／ｇ、４級アンモニウム塩価＝３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝９８００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Ｃ４：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２２，９００、酸価＝３２．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ５：下記構造の樹脂（酸価＝８７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝１８０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Ｃ６：下記構造の樹脂（酸価＝８５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝２２０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Ｃ７：下記構造の樹脂（酸価＝４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝９０００）。側鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Ｃ８：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝３８，０００、酸価＝９９．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｃ９：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２１，０００、酸価＝３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure 0006987895
Figure 0006987895
（樹脂）
Ｄ１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝４０，０００、酸価＝１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｄ２：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｄ３：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｄ４：下記構造の樹脂（酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝１００００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Ｄ５：下記構造の樹脂（酸価＝１８４ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝９７００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
Figure 0006987895
Figure 0006987895
（重合性モノマー）
Ｍ１：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：１１．４ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｍ２：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：１０．１ｍｍｏｌ／ｇ、水酸基価：３．４ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｍ３：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：７．５４ｍｍｏｌ／ｇ、酸価：２．５ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｍ４：下記構造の化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３）
Ｍ５：下記構造の化合物の混合物（左側化合物を５５〜６３モル％含有）
Figure 0006987895
（ラジカル重合開始剤）
Ｆ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ製）
Ｆ２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９（ＢＡＳＦ製）
Ｆ３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ製）
Ｆ４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）
（紫外線吸収剤）
ＵＶ１、ＵＶ２：下記構造の化合物
Figure 0006987895
（界面活性剤）
Ｗ１：下記混合物（Ｍｗ＝１４０００、フッ素系界面活性剤）。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
Figure 0006987895
（重合禁止剤）
Ｈ１：ｐ−メトキシフェノール
（酸化防止剤）
Ｉ１：アデカスタブ ＡＯ−８０（(株)ＡＤＥＫＡ製）
（溶剤）
Ｓ１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
Ｓ２：シクロヘキサノン
Ｓ３：酢酸ブチル
Ｓ４：乳酸エチル（ＥＬ）
Ｓ５：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
Ｓ６：酢酸メチル
Ｓ７：シクロヘプタノン
＜評価＞
［分散安定性の評価］
製造直後の組成物の粘度を測定した。粘度を測定した組成物を４５℃の恒温槽で７２時間保管したのち、粘度を測定した。なお、粘度は、組成物の温度を２３℃に調整して測定した。以下の計算式から増粘率を算出し、分散安定性を評価した。
増粘率（％）＝（（４５℃の恒温槽で７２時間保管の組成物の粘度／製造直後の組成物の粘度）−１）×１００
５：組成物の増粘率が５％以下。
４：組成物の増粘率が５％を超えて、７％以下。
３：組成物の増粘率が７％を超えて、１０％以下。
２：組成物の増粘率が１０％を超えて、１５％以下。
１：組成物の増粘率が１５％を超えている。
［欠陥の評価］
製造直後の各組成物を、８インチ（２０．３２ｃｍ）のシリコンウエハ上に、ＣＬＥＡＮ ＴＲＡＣＫ ＡＣＴ−８（東京エレクトロン社製）にて塗布し、続いて１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を実施して、膜厚０．８μｍの膜を作製した。膜が形成されたシリコンウエハをＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製の欠陥検査装置ＣｏｍＰＬＵＳ３にて検査して欠陥部分を検出し、２４６２ｃｍ2あたりの１ｕｍ以上の大きさ欠陥数を抽出した。
５：５個以下
４：５個より多く、２０個以下
３：２０個より多く、５０個以下
２：５０個より多く、１００個以下
１：１００個より多い
［可視透明性の評価］
各組成物をプリベーク後の膜厚が０．８μｍとなるようにスピンコーター（ミカサ（株）製）を用いてガラス基板上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間の加熱（プリベーク）を行った後、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の露光量で全面露光を行った後、再度ホットプレートを用いて２００℃、３００秒間の加熱（ポストベーク）を行い、膜を得た。得られた膜について、波長４００〜１３００ｎｍの光の吸光度を測定し、波長４００〜６００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ａ1と、波長７００〜１３００ｎｍの範囲における極大吸収波長での吸光度Ａ2との比であるＡ1／Ａ2を算出し、以下の基準で分光性能を評価した。
Ａ：Ａ1／Ａ2が０．３以下
Ｂ：Ａ1／Ａ2が０．３より大きい
Figure 0006987895
Figure 0006987895
上記表に示すように、実施例の組成物は分散安定性が良好であり、かつ、欠陥の抑制された膜を製造することができた。また、実施例１〜５５、１０１〜１３４、２０１の組成物を用いて形成された膜は可視透明性にも優れていた。
［試験例２］
実施例１〜５５、１０１〜１３４、２０１の組成物を、製膜後の膜厚が１．０μｍになるように、シリコンウエハ上にスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2の露光量にて、２μｍ四方のＢａｙｅｒパターンを有するマスクを介して露光した。
次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで２μｍ四方のＢａｙｅｒパターン（近赤外線カットフィルタ）を形成した。
次に、近赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターン上に、Ｒｅｄ組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用い、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2の露光量にて、２μｍ四方のＢａｙｅｒパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用い、２００℃で５分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターン上にＲｅｄ組成物をパターニングした。同様にＧｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物を順次パターニングし、赤、緑および青の着色パターンを形成した。
次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物を、製膜後の膜厚が２．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2の露光量にて、２μｍ四方のＢａｙｅｒパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターンの抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
得られた固体撮像素子について、低照度の環境下（０．００１Ｌｕｘ）で赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）光源から光を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。画像上で被写体をはっきりと認識できた。また、入射角依存性が良好であった。
試験例２で使用したＲｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物および赤外線透過フィルタ形成用組成物は以下の通りである。
（Ｒｅｄ組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｒｅｄ組成物を調製した。
Ｒｅｄ顔料分散液 ・・５１．７質量部
樹脂４ ・・・０．６質量部
重合性モノマー４ ・・・０．６質量部
ラジカル重合開始剤１ ・・・０．４質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製） ・・・０．３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ） ・・・４２．６質量部
（Ｇｒｅｅｎ組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール
（株）製）でろ過して、Ｇｒｅｅｎ組成物を調製した。
Ｇｒｅｅｎ顔料分散液 ・・・７３．７質量部
樹脂４ ・・・０．３質量部
重合性モノマー１ ・・・１．２質量部
ラジカル重合開始剤１ ・・・０．６質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製） ・・・０．５質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・１９．５質量部
（Ｂｌｕｅ組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール
（株）製）でろ過して、Ｂｌｕｅ組成物を調製した。
Ｂｌｕｅ顔料分散液 ４４．９質量部
樹脂４ ・・・２．１質量部
重合性モノマー１ ・・・１．５質量部
重合性モノマー４ ・・・０．７質量部
ラジカル重合開始剤１ ・・・０．８質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製） ・・・０．３質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・４５．８質量部
（赤外線透過フィルタ形成用組成物）
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール
（株）製）でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。
顔料分散液１−１ ・・・４６．５質量部
顔料分散液１−２ ・・・３７．１質量部
重合性モノマー５ ・・・１．８質量部
樹脂４ ・・・１．１質量部
ラジカル重合開始剤２ ・・・０．９質量部
界面活性剤１ ・・・４．２質量部
重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール） ・・・０．００１質量部
シランカップリング剤 ・・・０．６質量部
ＰＧＭＥＡ ・・・７．８質量部
Ｒｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物および赤外線透過フィルタ形成用組成物に使用した原料は以下の通りである。
・Ｒｅｄ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４を９．６質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｙｅｌｌｏｗ １３９を４．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を６．８質量部、ＰＧＭＥＡを７９．３質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｒｅｄ顔料分散液を得た。
・Ｇｒｅｅｎ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６を６．４質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｙｅｌｌｏｗ １５０を５．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．２質量部、ＰＧＭＥＡを８３．１質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を得た。
・Ｂｌｕｅ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を９．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３を２．４質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫ
Ｃｈｅｍｉｅ社製）を５．５質量部、ＰＧＭＥＡを８２．４質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ3の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行なった。この分散処理を１０回繰り返し、Ｂｌｕｅ顔料分散液を得た。
・顔料分散液１−１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１−１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）及び黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）からなる混合顔料 ・・・１１．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・９．１質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・７９．１質量部
・顔料分散液１−２
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１−２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）及び紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３）からなる混合顔料 ・・・１２．６質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製） ・・・２．０質量部
・上記樹脂Ｄ３ ・・・３．３質量部
・シクロヘキサノン ・・・３１．２質量部
・ＰＧＭＥＡ ・・・５０．９質量部
・重合性モノマー１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
・重合性モノマー４：下記構造の化合物
Figure 0006987895
 ・重合性モノマー５：下記構造の化合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）
Figure 0006987895
・樹脂４：上記樹脂Ｄ２
・ラジカル重合開始剤１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ製）
・ラジカル重合開始剤２：下記構造の化合物
Figure 0006987895
・界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４０００）の１質量％ＰＧＭＥＡ溶液。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
Figure 0006987895
・シランカップリング剤：下記構造の化合物。以下の構造式中、Ｅｔはエチル基を表す。
Figure 0006987895
１１０：固体撮像素子、１１１：近赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (20)

  1. 近赤外線吸収顔料と溶剤とを含む組成物であって、
    前記近赤外線吸収顔料が、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物、および、アニオン性発色団と対カチオンとの塩である色素化合物から選ばれる少なくとも１つであり、
    前記近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となるＤ５０粒子径が１００ｎｍ以下であり、
    前記近赤外線吸収顔料の含有量が前記組成物の全固形分に対して１０質量％以上であり、
    前記近赤外線吸収顔料と前記溶剤とが下記の式（１）の関係を満たす、近赤外線カットフィルタ用の組成物；
    ｜ｄ１−ｄ２｜≧０．３ＭＰａ0.5 ・・・（１）
    ｄ１は、近赤外線吸収顔料のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、
    ｄ２は、組成物に含まれる溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値であり、組成物が溶剤を２種以上含む場合は、２種以上の溶剤のハンセン溶解度パラメータのｄ値の質量平均値である。
  2. 前記近赤外線吸収顔料が、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、クロコニウム化合物およびイミニウム化合物から選ばれる少なくとも１つである、請求項１に記載の組成物。
  3. 前記近赤外線吸収顔料は、下記式（Ｄ１）の関係を満たす、請求項１または２に記載の組成物；
    Ｄ９０粒子径／Ｄ５０粒子径≦４．０ ・・・（Ｄ１）
    Ｄ９０粒子径は、前記近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が９０％となる粒子径であり、
    Ｄ５０粒子径は、前記近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が５０％となる粒子径である。
  4. 前記近赤外線吸収顔料は、波長７００〜１８００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 前記近赤外線吸収顔料のＤ５０粒子径が０．５〜４０ｎｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 更に樹脂を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. さらに分散助剤を含む、請求項６に記載の組成物。
  8. 前記近赤外線吸収顔料は芳香族環を含み、分散助剤は前記近赤外線吸収顔料に含まれる芳香族環と共通する構造の芳香族環を有する、請求項７に記載の組成物。
  9. 前記分散助剤の極大吸収波長と、前記近赤外線吸収顔料の極大吸収波長との差の絶対値が２００ｎｍを超える、請求項７または８に記載の組成物。
  10. 前記近赤外線吸収顔料が下記式（Ｓ１）で表される部分構造を有するスクアリリウム化合物であり、前記分散助剤が前記近赤外線吸収顔料であるスクアリリウム化合物の、下記式（Ｓ１）の＊１の位置で結合する基または＊２の位置で結合する基に含まれる下記式（Ｓ１）で表される部分構造と共役している構造部位を含む化合物であるか、
    前記近赤外線吸収顔料が下記式（Ｃ１）で表される部分構造を有するクロコニウム化合物であり、前記分散助剤が前記近赤外線吸収顔料であるクロコニウム化合物の、下記式（Ｃ１）の＊３の位置で結合する基または＊４の位置で結合する基に含まれる下記式（Ｃ１）で表される部分構造と共役している構造部位を含む化合物である、請求項７〜９のいずれか１項に記載の組成物；
    Figure 0006987895
     上記式中、＊１〜＊４はそれぞれ結合手である。
  11. 近赤外線吸収顔料が前記式（Ｓ１）で表される部分構造を有するスクアリリウム化合物であり、かつ、前記式（Ｓ１）の＊１の位置で結合する基、および、＊２の位置で結合する基の少なくとも一方は二以上の環が縮環した構造を含み、前記分散助剤が前記近赤外線吸収顔料に含まれる前記二以上の環が縮環した構造を含む化合物であるか、
    あるいは、
    近赤外線吸収顔料が前記式（Ｃ１）で表される部分構造を有するクロコニウム化合物であり、かつ、前記式（Ｃ１）の＊３の位置で結合する基、および、＊４の位置で結合する基の少なくとも一方は二以上の環が縮環した構造を含み、前記分散助剤が前記近赤外線吸収顔料に含まれる前記二以上の環が縮環した構造を含む化合物である、
    請求項１０に記載の組成物。
  12. 前記二以上の環が縮環した構造が、ベンゼン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環およびピラジン環から選ばれる少なくとも１つの環を１つ以上含む縮合環である、請求項１１に記載の組成物。
  13. 前記二以上の環が縮環した構造が、インドレニン環、フルオレン環またはカルバゾール環を含む縮合環である、請求項１１に記載の組成物。
  14. 更に重合性モノマーを含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の組成物。
  15. 前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を有する基を３個以上有する化合物を含む、請求項１４に記載の組成物。
  16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物から得られる膜。
  17. 請求項１６に記載の膜を有する近赤外線カットフィルタ。
  18. 請求項１６に記載の膜を有する固体撮像素子。
  19. 請求項１６に記載の膜を有する画像表示装置。
  20. 請求項１６に記載の膜を有する赤外線センサ。
JP2019570325A 2018-02-06 2018-12-20 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Active JP6987895B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018019248 2018-02-06
JP2018019248 2018-02-06
JP2018172356 2018-09-14
JP2018172356 2018-09-14
PCT/JP2018/046943 WO2019155770A1 (ja) 2018-02-06 2018-12-20 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019155770A1 JPWO2019155770A1 (ja) 2021-02-25
JP6987895B2 true JP6987895B2 (ja) 2022-01-05

Family

ID=67548862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019570325A Active JP6987895B2 (ja) 2018-02-06 2018-12-20 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11513439B2 (ja)
JP (1) JP6987895B2 (ja)
TW (1) TWI795502B (ja)
WO (1) WO2019155770A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7053321B2 (ja) * 2018-03-16 2022-04-12 東友ファインケム株式会社 化合物
TWI822853B (zh) * 2018-09-14 2023-11-21 日商富士軟片股份有限公司 近紅外線吸收性組成物、分散液之製造方法、膜、濾光器、圖案形成方法、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器
WO2021059846A1 (ja) * 2019-09-26 2021-04-01 富士フイルム株式会社 近赤外吸収組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びに、インクジェットインク
TWI767511B (zh) * 2020-01-16 2022-06-11 國立臺灣大學 一種強健性共軛對稱光學元件及其設計方法
JP7419097B2 (ja) * 2020-02-18 2024-01-22 東京応化工業株式会社 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法
WO2021199997A1 (ja) * 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク及び画像記録方法
JP7463887B2 (ja) 2020-07-07 2024-04-09 ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社 着色組成物、および近赤外線カットフィルタ
WO2023176470A1 (ja) * 2022-03-14 2023-09-21 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006343631A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd 固体撮像素子用近赤外線吸収組成物およびこれを用いた固体撮像素子
JP5140923B2 (ja) * 2005-12-19 2013-02-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 クロコニウム化合物
TWI663218B (zh) * 2014-09-04 2019-06-21 日商富士軟片股份有限公司 組成物、組成物的製造方法、硬化性組成物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線感測器、照相機模組及化合物
WO2016052091A1 (ja) * 2014-10-03 2016-04-07 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収組成物、硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、加工色素および加工色素の製造方法
JP6626905B2 (ja) * 2016-01-15 2019-12-25 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ
WO2017159479A1 (ja) * 2016-03-16 2017-09-21 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、遮光膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ
JP6658268B2 (ja) * 2016-04-27 2020-03-04 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ
JP6787083B2 (ja) * 2016-11-30 2020-11-18 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 近赤外線吸収性組成物およびフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
US11513439B2 (en) 2022-11-29
WO2019155770A1 (ja) 2019-08-15
TWI795502B (zh) 2023-03-11
US20200319548A1 (en) 2020-10-08
TW201936797A (zh) 2019-09-16
JPWO2019155770A1 (ja) 2021-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6987895B2 (ja) 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP7049272B2 (ja) 樹脂組成物、樹脂膜、樹脂膜の製造方法、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ
JP6956193B2 (ja) 硬化性組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および光センサ
JP7233477B2 (ja) 積層体、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびキット
JP6931700B2 (ja) 組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6936856B2 (ja) 硬化性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、分散助剤、分散液および分散液の製造方法
JPWO2020054718A1 (ja) 近赤外線吸収性組成物、分散液の製造方法、膜、光学フィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、画像表示装置及び赤外線センサ
JP6923656B2 (ja) 光学フィルタおよび光センサ
JP6804567B2 (ja) 組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP7016356B2 (ja) 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6946443B2 (ja) 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ
JP7041159B2 (ja) 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6870005B2 (ja) 硬化性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6976341B2 (ja) 近赤外線吸収有機顔料、樹脂組成物、近赤外線吸収有機顔料の製造方法、近赤外線吸収有機顔料の分光調整方法、膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6976309B2 (ja) 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6782309B2 (ja) 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2020184245A1 (ja) 着色組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2020196394A1 (ja) 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2022131191A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP6758478B2 (ja) 構造体、キットおよび光センサ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210615

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20210709

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210830

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211124

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6987895

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150