TWI398676B - Filter - Google Patents

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TWI398676B
TWI398676B TW095144195A TW95144195A TWI398676B TW I398676 B TWI398676 B TW I398676B TW 095144195 A TW095144195 A TW 095144195A TW 95144195 A TW95144195 A TW 95144195A TW I398676 B TWI398676 B TW I398676B
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Description

濾光器
本發明係關於一種使用具有特定分子結構之方酸鎓(squarylium)化合物的濾光器。該方酸鎓化合物尤其作為圖像顯示裝置用之濾光器中所含有之光吸收劑而較為有用。
於波長500~700 nm之範圍中具有強度較大之吸收的化合物,尤其最大吸收(λmax)在550~620 nm內之化合物,作為光學要素而使用於DVD±R等光學記錄媒體之光學記錄層、或液晶顯示裝置(LCD,liquid crystal display)、電漿顯示器(PDP,plasma display panel)、電致發光顯示器(ELD,electroluminescence panel)、陰極射線管顯示裝置(CRT,cathode-ray tube)、螢光顯示管、電場放射型顯示器等圖像顯示裝置用之濾光器中。
例如,作為圖像顯示裝置用之濾光器中的光學要素之應用,有彩色濾光片之光吸收劑。圖像顯示裝置組合紅、藍、綠三原色之光而顯示彩色圖像,顯示彩色圖像之光中包含綠與紅之間之波長550~600 nm的光等導致顯示品質下降之光,又,亦包含成為波長750~1100 nm之紅外遙控之錯誤操作的原因之光,或成為波長480~500 nm以及540~560 nm之螢光燈等外光反射或映入的原因之光。因此,可使用含有選擇性吸收該等多餘波長之光之光吸收劑的濾光器。
進而,近年來,為使顯示元件之色純度或色分離充分,提高圖像品質,而尋求尤其是選擇性吸收波長560~620 nm之光之光吸收劑。對於該等光吸收劑,要求光吸收特別急遽,亦即λmax之半值寬度較小或不會由於光或熱等失去功能。
作為含有光吸收劑之濾光器,例如於下述專利文獻1中揭示有一種使用方酸鎓化合物之濾光器;於下述專利文獻2中例示有一種應用具有特定結構之方酸鎓化合物之濾光器;於下述專利文獻3中揭示有一種使用於560~620 nm之波長區域中具有最大吸收波長之染料的濾光器,例示有方酸鎓化合物作為該染料之一;於下述專利文獻4中揭示有一種含有方酸鎓化合物或菁化合物之影像顯示機器用前面板。然而,該等濾光器中所使用之化合物並不具有滿足吸收波長特性、或與溶劑或黏合劑樹脂相容性方面之性能。因此,該等濾光器並非於560~620 nm之波長區域中表示充分之性能者。
[專利文獻1]日本專利特開2000-265077號公報[專利文獻2]日本專利特開2001-166131號公報[專利文獻3]日本專利特開2002-228829號公報[專利文獻4]日本專利3641220號公報
因此,本發明之目的在於提供一種濾光器,其於560~620 nm之波長區域中具有急遽之光吸收,尤其適合作為圖像顯示裝置用之濾光器。
本發明者們反覆進行各種研究之結果發現,使用具有特定分子結構之方酸鎓化合物的濾光器於特定之波長區域中具有急遽之光吸收,可顯著改善圖像顯示裝置之圖像特性。
本發明係根據上述見解開發而成者,且提供一種濾光器,其特徵在於含有以下述通式(I)所表示之化合物, (式中,R1 以及R2 分別獨立表示氫原子、碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基或碳原子數7~20之芳烷基;R3 、R4 、R5 以及R6 分別獨立表示氫原子、鹵素原子、碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基、碳原子數7~20之芳烷基、碳原子數2~20之雜環基、胺基、氰基、羥基或硝基;以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之上述碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基、碳原子數7~20之芳烷基、碳原子數2~20之雜環基以及胺基可具有取代基,上述碳原子數1~8之烷基中之亞甲基可由-CH=CH-取代;m以及n分別獨立表示1~4之整數;s以及t分別獨立表示1~5之整數)。
本發明之濾光器係於500~700 nm之波長區域中,尤其於560~620 nm之波長區域中具有急遽之光吸收,適合用於圖像顯示、尤其是電漿顯示器之濾光器。
以下,就其較好實施形態詳細說明本發明之濾光器。
首先,就以上述通式(I)所表示之方酸鎓化合物加以說明。
作為上述通式(I)中以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數1~8之烷基,可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、環己基、庚基、異庚基、第三庚基、正辛基、異辛基、第三辛基、2-乙基己基等,作為以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數6~20之芳基,可列舉苯基、萘基、蒽-1-基、菲-1-基等,作為以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數7~20之芳烷基,可列舉苯甲基、苯乙基、2-苯丙烷、二苯甲基、三苯甲基、苯乙烯基、苯烯丙基等,作為以R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之鹵素原子,可列舉氟、氯、溴、碘,作為以R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數2~20之雜環基,可列舉吡啶基、嘧啶基、噠嗪基、哌嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯烷基、喹啉基、異喹啉基、咪唑基、苯幷咪唑基、三唑基、furyl、furanyl、苯幷呋喃基、噻吩基、苯硫基、苯幷噻吩基、噻二唑基、噻唑基、苯幷噻唑基、噁唑基、苯幷噁唑基、異噻唑基、異噁唑基、吲哚基、吡咯啶()基、嗎啉基、硫嗎啉基、2-比咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2,4-二氧基咪唑啶-3-基、2,4-二氧基噁唑烷-3-基等,作為以R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之胺基,可列舉胺基、乙胺基、二甲胺基、二乙胺基、丁胺基、環戊胺基、2-乙基己基胺基、十二烷基胺基、苯胺基、氯苯胺基、甲苯胺基、甲氧苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯胺基、萘胺基、2-比啶胺基、甲氧羰胺基、苯氧羰胺基、乙醯胺基、苯甲醯胺基、甲醯胺基、三甲基乙醯胺基、月桂醯胺基、胺甲醯胺基、N,N-二甲胺基羰胺基、N,N-二乙胺基羰胺基、嗎啉基羰胺基、甲氧羰胺基、乙氧羰胺基、第三丁氧羰胺基、正十八烷氧羰胺基、N-甲基-甲氧羰胺基、苯氧羰胺基、胺磺醯胺基、N,N-二甲胺基磺醯胺基、甲磺醯胺基、丁磺醯胺基、苯磺醯胺基等。
以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數1~8之烷基,以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6所表示之碳原子數6~20之芳基,以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數7~20之芳烷基,以R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之碳原子數2~20之雜環基以及以R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之胺基中任一者均可具有取代基。作為該取代基,可列舉以下者。再者,R1 ~R6 係上述碳原子數1~8之烷基等含有碳原子之基,且,該等基於具有以下取代基中含有碳原子之取代基之情形時,含有該取代基之R1 ~R6 全部之碳原子數滿足所規定之範圍。
作為上述取代基,例如可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、環丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、環戊基、己基、2-己基、3-己基、環己基、二環己基、1-甲基環己基、庚基、2-庚基、3-庚基、異庚基、第三庚基、正辛基、異辛基、第三辛基、2-乙基己基、壬基、異壬基、癸基等烷基;甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、異丁氧基、戊氧基、異戊氧基、第三戊氧基、己氧基、環己氧基、庚氧基、異庚氧基、第三庚氧基、正辛氧基、異辛氧基、第三辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基等烷氧基;甲硫基、乙硫基、丙硫基、異丙硫基、丁硫基、第二丁硫基、第三丁硫基、異丁硫基、戊硫基、異戊硫基、第三戊硫基、己硫基、環己硫基、庚硫基、異庚硫基、第三庚硫基、正辛硫基、異辛硫基、第三辛硫基、2-乙基己硫基等烷硫基;乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、2-丙烯基、1-甲基-3-丙烯基、3-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基、異丁烯基、3-戊烯基、4-己烯基、環己烯基、二環己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五烯基、二十烯基、三十烯基等烯基;苯甲基、苯乙基、二苯甲基、三苯甲基、苯乙烯基、苯烯丙基等芳烷基;苯基、萘基等芳基;苯氧基、萘氧基等芳氧基;苯硫基、萘硫基等芳硫基;吡啶基、嘧啶基、噠嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯基、喹啉基、異喹啉基、咪唑基、苯幷咪唑基、三唑基、呋喃基、呋喃基、苯幷呋喃基、噻吩基、苯硫基、苯幷噻吩基、噻二唑基、噻唑基、苯幷噻唑基、噁唑基、苯幷噁唑基、異噻唑基、異噁唑基、吲哚基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2,4-二氧基咪唑啶-3-基、2,4-二氧基噁唑烷-3-基等雜環基;氟、氯、溴、碘等鹵素原子;乙醯基、2-氯乙醯基、丙醯基、辛醯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、苯基碳基(苯甲醯基)、鄰苯二甲醯基、4-三氟甲基苯甲醯基、三甲基乙醯基、鄰羥苯甲醯基、、硬脂醯基、甲氧甲醯基、乙氧甲醯基、第三丁氧甲醯基、正十八烷氧甲醯基、胺甲醯基等醯基;乙醯氧基、苯甲醯氧基等醯氧基;胺基、乙胺基、二甲胺基、二乙胺基、丁胺基、環戊胺基、2-乙基己胺基、十二烷基胺基、苯胺基、氯苯胺基、甲苯胺基、甲氧苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯胺基,萘胺基、2-吡啶胺基、甲氧羰胺基、苯氧羰胺基、乙醯胺基、苯甲醯胺基、甲醯胺基、三甲基乙醯胺基、月桂醯胺基、胺甲醯胺基、N,N-二甲胺基羰胺基、N,N-二乙胺基羰胺基、嗎啉基羰胺基、甲氧羰胺基、乙氧羰胺基、第三丁氧羰胺基、正十八烷氧羰胺基、N-甲基-甲氧羰胺基、苯氧羰胺基、胺磺醯胺基、N,N-二甲胺基磺醯胺基、甲磺醯胺基、丁磺醯胺基、苯磺醯胺基等取代胺基;磺醯胺基、磺醯基、羧基、氰基、磺基、羥基、硝基、巰基、醯亞胺基、胺甲醯基、磺醯胺基等,該等基進而可被取代。又,羧基以及磺基可形成鹽。
作為以上述通式(I)所表示之本發明之方酸鎓化合物,較好的是,上述通式(I)中R5 及/或R6 為以鹵素原子取代之碳原子數1~8之烷基者,尤其好的是R5 及/或R6 為氟甲基者,又,以下述通式(II)所表示者因對有機溶劑之溶解性較高故較好, (式中,R1 以及R2 分別獨立表示氫原子、碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基或碳原子數7~20之芳烷基;R5 以及R6 分別獨立為可由鹵素原子取代之碳原子數1~8之烷基;s以及t分別獨立表示1~5之整數)。
以上述通式(I)所表示之本發明之方酸鎓化合物並不特別限定其製造方法,可以利用已知一般反應之方法而獲得,例如可由下述[化3]之根合成, (式中,R1 ~R6 、m、n、s、t與上述通式(I)相同,X表示鹵素原子)。
作為以上述通式(I)所表示之本發明之方酸鎓化合物之較好具體例,可列舉下述化合物No.1~24。
於本發明之濾光器中,以上述通式(I)所表示之本發明之方酸鎓化合物的含量通常為1~1000 mg/m2 ,較好的是5~100 mg/m2 ,該含量不足1 mg/m2 時,無法充分發揮光吸收效果,超過1000 mg/m2 之情形時,可能濾光片之色調過強而使顯示品質等下降,進而亦可能由於光吸收劑之含量增加而降低亮度。
其次,對於本發明之濾光器加以說明。
本發明之濾光器含有以上述通式(I)所表示之方酸鎓化合物。該方酸鎓化合物於560~620 nm之範圍內或其附近具有吸收最大波長,可選擇性地吸收阻斷一部分可見光線,故而含有該方酸鎓化合物之本發明之濾光器特別適合作為用於顯示圖像之高品質化的圖像顯示裝置用之濾光器。本發明之濾光器除了可用於圖像顯示裝置,亦可用於分析裝置、半導體裝置製造、天文觀測、光通訊、眼鏡透鏡等各種用途中。
本發明之濾光器通常配置於顯示器之前面。例如,本發明之濾光器可直接黏貼於顯示器之表面,將前面板設於顯示器之前之情形時,亦可黏貼於前面板之表面(外側)或內側(顯示器側)。
關於本發明之濾光器之形狀,並無特別限制,通常可列舉於透明支持體上根據須要設置底塗層、抗反射層、硬塗層、潤滑層、保護層等各層者。作為使本發明之方酸鎓化合物、或本發明之方酸鎓化合物以外之色素化合物即光吸收劑、各種穩定劑之任意成分含有於本發明之濾光器中之方法,例如可列舉(1)使之含有於透明支持體或任意各層中之方法,(2)對透明支持體或任意各層進行塗佈之方法,(3)於任意各層之外另外設置含有本發明之方酸鎓化合物等光吸收劑等之濾光片層的方法。
作為上述透明支持體之材料,例如可列舉玻璃等無機材料;二醯基纖維素、三醯基纖維素(TAC)、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯丙醯基纖維素、硝基纖維素等纖維素酯;聚醯胺;聚碳酸酯;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸1,4-環己烷二甲酯、聚乙烯-1,2-二苯氧基乙烷-4,4'-二羧酸酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯;聚苯乙烯;聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烴;聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂;聚碳酸酯;聚碸;聚醚碸;聚醚酮;聚醚醯亞胺;聚氧乙烯、降冰片烯樹脂等高分子材料。
上述透明支持體之透過率較好的是80%以上,更好的是86%以上。上述透明支持體之混濁度較好的是2%以下,更好的是1%以下。上述透明支持體之折射率較好的是1.45~1.70。
可於上述透明支持體中添加本發明之方酸鎓化合物以外之其他光吸收劑、紅外線吸收劑、紫外線吸收劑、酚系、磷系等抗氧化劑、阻燃劑、爽滑劑、抗靜電劑、無機微粒子、耐光性賦予劑、芳香族亞硝基化合物、銨化合物、亞胺化合物、雙亞胺化合物、過渡金屬螯合化合物等,又,亦可對上述透明支持體實施各種表面處理。
作為上述本發明之方酸鎓化合物以外之光吸收劑,例如當將濾光器用於圖像顯示裝置中之情形時,可列舉用以調整色調之光吸收劑、用以防止外光之反射或映入之光吸收劑,當圖像顯示裝置為電漿顯示器之情形時,可列舉用以防止紅外遙控誤作動之光吸收劑。
上述用以調整色調之光吸收劑,作為用以除去波長550~600 nm之橙光者,除了可列舉三次甲基吲哚鎓化合物、三次甲基苯幷噁唑鎓化合物、三次甲基苯幷噻唑鎓化合物等三次甲基菁衍生物;五次甲基噁唑鎓化合物、五次甲基噻唑鎓化合物等五次甲基菁衍生物;方酸鎓色素衍生物;次甲基偶氮色素衍生物;二苯幷吡喃色素衍生物;偶氮色素衍生物;Oxonol色素衍生物;苯亞甲基色素衍生物;吡咯亞甲基色素衍生物;偶氮金屬錯合物衍生物:玫瑰紅色素衍生物;酞菁衍生物;卟啉衍生物;二吡咯亞甲基金屬螯合化合物以外,亦可列舉具有以上述通式(I)所表示之本發明之方酸鎓化合物以外之分子結構的方酸鎓化合物等。
作為用以防止上述外光之反射或映入之光吸收劑(對應波長480~500 nm),可列舉三次甲基吲哚鎓化合物、三次甲基噁唑鎓化合物、三次甲基噻唑鎓化合物、亞吲哚基三次甲基噻唑鎓化合物等三次甲基菁衍生物;酞菁衍生物;萘酞菁衍生物;卟啉衍生物;二吡咯亞甲基金屬螯合化合物等。
作為用以防止上述紅外遙控誤作動之光吸收劑(對應波長750~1100 nm),可列舉雙亞胺衍生物;五次甲基苯幷吲哚鎓化合物、五次甲基苯幷噁唑鎓化合物、五次甲基苯幷噻唑鎓化合物等五次甲基菁衍生物;七次甲基吲哚鎓化合物、七次甲基苯幷吲哚鎓化合物、七次甲基噁唑鎓化合物、七次甲基苯幷噁唑鎓化合物、七次甲基噻唑鎓化合物、七次甲基苯幷噻唑鎓化合物等七次甲基菁衍生物;方酸鎓衍生物;雙(芪二硫代雙烯)(bis(stilbene dithiolato))化合物、雙(苯二硫代雙烯)(bis(benzene dithiolato))鎳化合物、雙(樟腦二硫代雙烯)(bis(camphor dithiolato)鎳化合物等鎳錯合物;方酸鎓衍生物;偶氮色素衍生物;酞菁衍生物;卟啉衍生物;二吡咯亞甲基金屬螯合化合物等。
於本發明之濾光器中,上述用以調整色調之光吸收劑、用以防止外光之反射或映入之光吸收劑、以及用以防止紅外遙控誤作動之光吸收劑(近紅外線吸收劑)既可含有於與含有本發明之方酸鎓化合物之層相同之層中,亦可含有於其他層中。該等光吸收劑之含量分別在濾光器之每單位面積中通常為1~1000 mg/m2 之範圍內,較好的是5~100 mg/m2
又,作為可添加至上述透明支持體中之上述無機微粒子,例如可列舉二氧化矽、二氧化鈦、硫酸鋇、碳酸鈣、滑石、陶土等。
作為可對上述透明支持體實施之上述各種表面處理,例如可列舉化學藥品處理、機械處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混酸處理、臭氧氧化處理等。
可設置於本發明之濾光器中之上述底塗層係於任意各層之外另外設置含有光吸收劑之濾光片層之情形時,用於透明支持體與濾光片層之間的層。上述底塗層形成為包含玻璃轉移溫度-60~60℃之聚合物之層、濾光片層側之表面為粗面之層、或含有與濾光片層之黏合劑聚合物具有相容性之聚合物的層。又,上述底塗層設置於並未設置有濾光片層之透明支持體之面上,既可用以改善該透明支持體與設置於其上之層(例如抗反射層、硬塗層)之黏接力,又,亦可用以改善用來黏接濾光器與圖像顯示裝置之黏接劑與濾光器之相容性。上述底塗層之厚度較好的是2 nm~20 μm,更好的是5 nm~5 μm,進而較好的是20 nm~2 μm,尤其好的是50 nm~1 μm,最好的是80 nm~300 nm。含有玻璃轉移溫度為-60~60℃之聚合物之底塗層因有聚合物之黏著性,故黏接透明支持體與濾光片層。玻璃轉移溫度為-60~60℃之聚合物例如可藉由氯乙烯、偏氯乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯、氯丁橡膠、苯乙烯、氯丁二烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈或甲基乙烯醚之聚合或該等之共聚而獲得。玻璃轉移溫度較好的是50℃以下,更好的是40℃以下,進而較好的是30℃以下,尤其好的是25℃以下,最好的是20℃以下。上述底塗層於25℃之彈性率較好的是1~1000 MPa,更好的是5~800 MPa,最好的是10~500 MPa。濾光片層側之表面為粗面之底塗層可藉由於粗面上形成濾光片層,而黏接透明支持體與濾光片層。濾光片層側之表面為粗面之底塗層可藉由塗佈聚合物乳膠而易於形成。乳膠之平均粒徑較好的是0.02~3 μm,更好的是0.05~1 μm。作為與濾光片層之黏合劑聚合物具有相容性之聚合物,可列舉丙烯酸樹脂、纖維素衍生物、海藻酸、白明膠、酪蛋白、澱粉、聚乙烯醇、聚乙烯丁醛、聚乙烯吡咯烷酮、可溶性尼龍以及高分子乳膠等。又,可於本發明之濾光器中設置二層以上之底塗層。亦可於底塗層中添加使透明支持體膨潤之溶劑、褪光劑、界面活性劑、抗靜電劑、塗佈助劑、硬膜劑等。
可設置於本發明之濾光器中之上述抗反射層中,必須含有低折射率層。該低折射率層之折射率低於上述透明支持體之折射率,較好的是1.20~1.55,更好的是1.30~1.50。低折射率層之厚度較好的是50~400 nm,更好的是50~200 nm。低折射率層可形成為包含折射率較低之含氟聚合物之層(揭示於日本專利特開昭57-34526號、日本專利特開平3-130103號、日本專利特開平6-115023號、日本專利特開平8-313702號、日本專利特開平7-168004號各公報中)、或由溶膠-凝膠法所獲得之層(揭示於日本專利特開平5-208811號、日本專利特開平6-299091號、日本專利特開平7-168003號各公報中)、或含有微粒子之層(揭示於日本專利特公昭60-59250號、日本專利特開平5-13021號、日本專利特開平6-56478號、日本專利特開平7-92306號、日本專利特開平9-288201號各公報中)。包含微粒子之層中,作為微粒子間或微粒子內之微孔,可於低折射率層中形成空隙。含有微粒子之層較好的是具有3~50體積%之空隙率,更好的是具有5~35體積%之空隙率。
為防止較廣波長區域之反射,而於上述抗反射層中,除了低折射率層,較好的是積層折射率較高之層(中.高折射率層)。高折射率層之折射率較好的是1.65~2.40,更好的是1.70~2.20。中折射率層之折射率調整為低折射率層之折射率與高折射率層之折射率的中間值。中折射率層之折射率較好的是1.50~1.90,更好的是1.55~1.70。中.高折射率層之厚度較好的是5 nm~100 μm,更好的是10 nm~10 μm,最好的是30 nm~1 μm。中.高折射率層之混濁度較好的是5%以下,更好的是3%以下,最好的是1%以下。中.高折射率層可使用具有比較高之折射率之聚合物黏合劑而形成。作為該具有比較高之折射率之聚合物,可列舉聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚醯胺、三聚氰胺樹脂、苯酚樹脂、環氧樹脂、由環狀(脂環式或芳香族)異氰酸酯與多元醇之反應所獲得之聚胺酯等。具有其他環狀(芳香族、雜環式、脂環式)基之聚合物、或具有氟以外之鹵素原子作為取代基之聚合物的折射率亦較高。亦可使用藉由可導入雙鍵使自由基硬化之單體的聚合反應所形成之聚合物。
進而為獲得較高折射率,可使無機微粒子分散於上述聚合物黏合劑中。該無機微粒子之折射率較好的是1.80~2.80。無機微粒子較好的是由金屬氧化物或硫化物形成。作為金屬氧化物或硫化物,可列舉氧化鈦(例如金紅石、金紅石/銳鈦礦之混合晶、銳鈦礦、非晶質結構)、氧化錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋯、硫化鋅等。該等之中尤其好的是氧化鈦、氧化錫以及氧化銦。無機微粒子以該等金屬之氧化物或硫化物作為主成分,進而可包含其他元素。所謂主成分係指構成粒子成分中含量(質量%)最多之成分。作為其他元素,可列舉Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S等。亦使用因被膜形成性而可分散於溶劑中,或其自身為液狀之無機材料,例如各種元素之醇鹽、有機酸之鹽、與配位性化合物鍵合之配位化合物(例如螯合化合物)、活性無機聚合物,而形成中.高折射率層。
可賦予上述抗反射層之表面防眩功能(使入射光於表面散射,防止膜周圍之景色移至膜表面之功能)。例如可於透明薄膜之表面上形成微細凹凸而於其表面形成抗反射層,或形成抗反射層之後,藉由壓花輥於表面形成凹凸,藉此獲得具有防眩功能之抗反射層。具有防眩功能之抗反射層一般具有3~30%之混濁度。
可設置於本發明之濾光器中之上述硬塗層具有高於上述透明支持體之硬度的硬度。該硬塗層較好的是含有交聯之聚合物。該硬塗層可使用丙烯酸系、胺基甲酸酯系、環氧系聚合物、寡聚物或單體(例如紫外線硬化型樹脂)等而形成。亦可由二氧化矽系材料形成硬塗層。
可於上述抗反射層(低折射率層)之表面形成潤滑層。該潤滑層具有賦予低折射率層表面潤滑性、改善耐損傷性之功能。該潤滑層可使用聚有機矽氧烷(例如矽油)、天然蠟、石油蠟、高級脂肪酸金屬鹽、氟系潤滑劑或其衍生物而形成。該潤滑層之厚度較好的是2~20 nm。
採用上述「(3)於任意各層之外另外設置含有本發明之方酸鎓化合物等光吸收劑等之濾光片層的方法」之情形時,本發明之方酸鎓化合物可直接使用而形成濾光片層,亦可分散於黏合劑中形成濾光片層。作為該黏合劑,例如可使用白明膠、酪蛋白、澱粉、纖維素衍生物、海藻酸等天然高分子材料,或聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯丁醛、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚氯乙烯、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚醯胺等合成高分子材料。
使用上述黏合劑時,亦可同時使用有機溶劑,作為該有機溶劑,該有機溶劑並無特別限定,可適當使用眾所周知之各種溶劑,例如異丙醇等醇類;甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、丁基二甘醇等醚醇類;丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、二丙酮醇等酮類;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基乙酯等酯類;丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等丙烯酸酯類;2,2,3,3-四氟丙醇等氟化醇類;乙烷、苯、甲苯、二甲苯等烴類;二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿等氯化烴類等。該等有機溶劑可單獨或混合使用。
又,上述底塗層、抗反射層、硬塗層、潤滑層、濾光片層等可藉由一般之塗佈方法而形成。作為塗佈方法,可列舉浸漬塗佈法、氣刀塗佈法、簾塗法、輥塗法、線棒塗佈法、凹版印刷塗佈法、使用漏斗之擠出塗佈法(揭示於美國專利第2681294號說明書中)等。亦可藉由同時塗佈兩層以上之層而形成。關於同時塗佈法,揭示於美國專利第2761791號、美國專利第2941898號、美國專利第3508947號、美國專利第3526528號各說明書以及原崎勇次著「塗佈工學」253頁(1973年朝倉書店發行)中。
[實施例]
以下,使用製造例、實施例以及比較例等對本發明加以更詳細地說明。然而,本發明並不限定於以下實施例等。
製造例1以及2表示本發明之方酸鎓化合物之製造例,實施例1~4表示使用於製造例1或2中所獲得之方酸鎓化合物的本發明之濾光器之實施例。
[製造例1]化合物No.1之製造
<步驟1>N-(3,5-雙三氟甲基)-2-甲基吲哚之合成加入11.2 g(85.0 mmol)之2-甲基吲哚、25.0 g(85.0 mmol)之3,5-雙三氟溴苯、1.62 g(8.50 mmol)之碘化銅(I)、1.95 g(17.0 mmol)之1,2-二胺基環乙烷、85.0 ml之甲苯以及36.0 g(85.0 mmol)之K3 PO4 ,加熱回流17小時。冷卻至室溫過濾分離析出物後,自濾液餾去溶劑,利用管柱層析法(正乙烷/乙酸乙酯=4/1;矽膠)進行精製,利用甲醇進行洗淨而獲得白色結晶之N-(3,5-雙三氟甲基)-2-甲基吲哚(產率32%)。
<步驟2>化合物No.1之合成加入5.00 g(15.0 mmol)之於步驟1中所獲得之N-(3,5-雙三氟甲基)-2-甲基吲哚、0.83 g(7.30 mmol)之方酸、16.7 g之正丁醇以及8.40 g之甲苯,一面脫水一面於110℃下加熱4小時。冷卻至室溫過濾分離析出物,利用甲醇進行洗淨,經過乾燥獲得暗綠色固體(產率70%)。對所獲得之暗綠色固體進行各種分析之結果,確認為目的物之化合物No.1。以下分析所獲得之暗綠色固體之分析結果。
(分析結果).1H-NMR(CDCl3 溶劑)(峰值點之化學位移ppm;多重度;質子數)(9.24;s;2H),(8.19;d;2H),(7.85;s;4H),(7.48;d;2H),(7.26;t;2H),(6.82;t;2H),(3.17;s;6H).UV吸收測定(氯仿溶劑)λmax:589.0 nm,ε:1.46×105 .分解溫度(TG-DTA:100 ml/分鐘,氮氣流中,升溫10℃/分鐘)276℃:峰值點.熔點(DSC:100 ml/分鐘,氮氣流中,升溫10℃/分鐘)277℃
[製造例2]化合物No.2之製造
<步驟1>N-(3-三氟甲基)-2-甲基吲哚之合成加入12.1 g(92.0 mmol)之2-甲基吲哚、25.0 g(92.0 mmol)之3-三氟碘苯、1.75 g(9.20 mmol)之碘化銅(I)、2.10 g(18.4 mmol)之1,2-二胺基環乙烷、92.0 ml之甲苯以及39.0 g(183 mmol)之K3 PO4 ,加熱回流19小時。冷卻至室溫過濾分離析出物後,自溶劑餾去濾液,利用管柱層析法(正乙烷/乙酸乙酯=4/1;矽膠)進行精製,獲得淡黃色油狀N-(3-三氟甲基)-2-甲基吲哚(產率68%)。
<步驟2>化合物No.2之合成加入8.00 g(29.0 mmol)之於步驟1中所獲得之N-(3-三氟甲基)-2-甲基吲哚、1.66 g(15.0 mmol)之方酸、27.4 g之正丁醇以及13.7 g之甲苯,一面脫水一面於110℃下加熱2小時。冷卻至室溫過濾分離析出物,利用水以及乙酸乙酯進行洗淨,經過乾燥獲得暗綠色固體(產率53%)。對暗綠色固體進行各種分析之結果,確認為目的物之化合物No.2。以下表示所獲得之暗綠色固體之分析結果。
(分析結果).1H-NMR(CDCl3 溶劑)(峰值點之化學位移ppm;多重度;質子數)(9.25;d;2 H),(7.97-6.83;d;14 H),(3.14;s;6 H).UV吸收測定(氯仿溶劑)λmax:587.0 nm,ε:1.46×105 .分解溫度(TG-DTA:100 ml/分鐘,氮氣流中,升溫10℃/分鐘)280℃:峰值點.熔點(DSC:100 ml/分鐘,氮氣流中,升溫10℃/分鐘)279℃
[評估例1]溶解性評估
就於上述製造例1以及2中所獲得之化合物No.1及No.2以及於下文中所表示之比較化合物No.1以及No.2,對於20℃下對乙基甲基酮之溶解性加以評估。評估係於0.05質量%~1.5質量%之範圍內將化合物以0.05質量%為單位添加至乙基甲基酮中,觀察溶解、不溶。其結果示於表1。
[實施例11]濾光器之製作1
利用塑料研磨機將下述添加物於260℃熔融混練5分鐘。混練之後,自直徑6 mm之噴嘴將其擠出,利用水冷卻製粒機而獲得含色素之顆粒物。使用電壓機使該顆粒物於250℃下成形為0.25 mm厚之薄板,獲得濾光器。利用日立製作所股份有限公司製造之分光計U-3500對該濾光器測定吸收光譜,λmax為589 nm,半值寬度為36 nm。
(組成)IUPILON S-3000 100 g(三菱瓦斯化學股份有限公司製造;聚碳酸酯樹脂)化合物No.1 0.01 g
[實施例2]濾光器之製作2
藉由下述組成製作UV清漆,將該UV清漆利用BARCOATER # 9塗佈於經易密接處理之188 μm厚之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上之後,於80℃下乾燥30秒。其後,利用附有紅外線截止薄膜濾光片之高壓水銀燈照射100 mJ之紫外線,獲得於聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上具有硬化膜厚度約為5 μm之濾光片層之濾光器。利用日立製作所股份有限公司製造之分光計U-3500對該濾光器測定吸收光譜,λmax為589 nm,半值寬度為36 nm。
(組成)ADEKA OPTOMA KRX-571-65 100 g(旭電化工業股份有限公司製造之UV硬化樹脂,樹脂部分80質量%)化合物No.1 0.5 g甲基乙基酮 60 g
[實施例3]濾光器之製作3
除了使用化合物No.2代替化合物No.1以外,其他以與實施例1相同之方式製作濾光器,利用日立製作所股份有限公司製造之分光計U-3010對所獲得之濾光器測定吸收光譜,λmax為587 nm,半值寬度為36 nm。
[實施例4]濾光器之製作4
藉由下述組成製備塗佈液,利用BARCOATER # 9將該塗佈液塗佈於經易密接處理之188 μm厚之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上之後,於100℃下乾燥3分鐘,獲得於聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上具有膜厚10 μm之濾光片層之濾光器。利用日立製作所股份有限公司製造之分光計U-3500對該濾光器測定吸收光譜,λmax為589 nm,半值寬度為36 nm。
(組成)ADEKA ARKLES R-103 100 g(旭電化工業股份有限公司製造之丙烯酸系樹脂黏合劑,樹脂部分50質量%)化合物No.1 0.1 g甲基乙基酮 50 g
自表1所示之評估例1之結果可知,本發明之方酸鎓化合物溶解性優良。又,自實施例1~4可明示,含有本發明之方酸鎓化合物而製成的本發明之濾光器於560~620 nm之波長區域中具有急遽光吸收,適合作為圖像顯示裝置用之濾光器。

Claims (6)

  1. 一種濾光器,其特徵在於:含有以下述通式(I)所表示之化合物, (式中,R1 以及R2 分別獨立表示氫原子、碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基或碳原子數7~20之芳烷基;R3 、R4 、R5 以及R6 分別獨立表示氫原子、鹵素原子、碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基、碳原子數7~20之芳烷基、碳原子數2~20之雜環基、胺基、氰基、羥基或硝基;以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 以及R6 所表示之上述碳原子數1~8之烷基、碳原子數6~20之芳基、碳原子數7~20之芳烷基、碳原子數2~20之雜環基以及胺基亦可具有取代基;上述碳原子數1~8之烷基中之亞甲基亦可由-CH=CH-取代;m以及n分別獨立表示1~4之整數;s以及t分別獨立表示1~5之整數)。
  2. 如請求項1之濾光器,其中上述通式(I)中,R5 及/或R6 為以鹵素原子取代之碳原子數1~8之烷基。
  3. 如請求項1之濾光器,其中上述通式(I)中,R5 及/或R6 為 三氟甲基。
  4. 如請求項2之濾光器,其中上述通式(I)中,R5 及/或R6 為三氟甲基。
  5. 如請求項1至4中任一項之濾光器,其用於圖像顯示裝置中。
  6. 如請求項5之濾光器,其中上述圖像顯示裝置為電漿顯示器。
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