JP4785541B2 - 光学フィルター - Google Patents
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Description
本発明は、特定の分子構造を有するスクアリリウム化合物を用いた光学フィルターに関する。該スクアリリウム化合物は、特に画像表示装置用の光学フィルターに含有させる光吸収剤として有用である。
波長500〜700nmの範囲に強度の大きい吸収を有する化合物、特に極大吸収(λmax)が550〜620nmにある化合物は、DVD±R等の光学記録媒体の光学記録層や、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置用の光学フィルターにおいて、光学要素として用いられている。
例えば、画像表示装置用の光学フィルターにおける光学要素の用途としては、カラーフィルターの光吸収剤がある。画像表示装置は、赤、青、緑の三原色の光の組合せでカラー画像を表示しているが、カラー画像を表示する光には、緑と赤の間の波長550〜600nmの光等の表示品質の低下をきたす光が含まれており、また、波長750〜1100nmの赤外リモコンの誤作動の原因となる光、あるいは波長480〜500nm及び540〜560nmの蛍光灯等の外光の反射や映り込みの原因となる光も含まれている。そこで、これらの不要な波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含有する光学フィルターが使用されている。
更に近年、表示素子の色純度や色分離を十分にし、画像品質を高いものにするために、特に波長560〜620nmの光を選択的に吸収する光吸収剤が求められている。これらの光吸収剤には、光吸収が特別に急峻であること、即ちλmax の半値幅が小さいこと、また光や熱等により機能が失われないことが求められる。
光吸収剤を含有する光学フィルターとして、例えば、下記特許文献1には、スクアリリウム化合物を使用した光学フィルターが開示されており、下記特許文献2には、特定の構造を有するスクアリリウム化合物の用途の一つとして光学フィルターが例示されており、下記特許文献3には、560〜620nmの波長領域に極大吸収波長を有する染料を使用した光学フィルターが開示されていて、該染料の一つとしてスクアリリウム化合物が例示されており、下記特許文献4には、スクアリリウム化合物又はシアニン化合物を有する映像表示機器用前面板が開示されている。しかし、これらの光学フィルターに使用される化合物は、吸収波長特性、あるいは溶媒やバインダー樹脂との親和性の点で満足のいく性能を有していない。従って、これらの光学フィルターは、560〜620nmの波長領域において充分な性能を示すものではなかった。
従って、本発明の目的は、特に560〜620nmの波長領域において急峻な光吸収を有する、画像表示装置用の光学フィルターとして特に好適な光学フィルターを提供することにある。
本発明者等は、種々検討を重ねた結果、特定の分子構造を持つスクアリリウム化合物を使用してなる光学フィルターが、特定の波長領域において急峻な光吸収を有し、画像表示装置の画像特性を著しく改善しうることを知見した。
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルターを提供するものである。
本発明の光学フィルターは、500〜700nmの波長領域、特に560〜620nmの波長領域において急峻な光吸収を有し、画像表示用途、特にプラズマディスプレイ用途に好適な光学フィルターである。
以下、本発明の光学フィルターを、その好ましい実施形態について詳細に説明する。
まず、上記一般式(I)で表されるスクアリリウム化合物について説明する。
上記一般式(I)におけるR1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられ、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセン−1−イル、フェナントレン−1−イル等が挙げられ、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、R3 、R4 、R5 及びR6 で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数2〜20の複素環基としては、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等が挙げられ、R3 、R4 、R5 及びR6 で表されるアミノ基としては、アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等が挙げられる。
上記一般式(I)におけるR1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられ、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセン−1−イル、フェナントレン−1−イル等が挙げられ、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、R3 、R4 、R5 及びR6 で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数2〜20の複素環基としては、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等が挙げられ、R3 、R4 、R5 及びR6 で表されるアミノ基としては、アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等が挙げられる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数1〜8のアルキル基、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数6〜20のアリール基、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、R3 、R4 、R5 及びR6 で表される炭素原子数2〜20の複素環基及びR3 、R4 、R5 及びR6 で表されるアミノ基は、いずれも、置換基を有していてもよい。該置換基としては、以下のものが挙げられる。尚、R1 〜R6 が、上記の炭素原子数1〜8のアルキル基等の炭素原子を含有する基であり、且つ、それらの基が、以下の置換基の中でも、炭素原子を含有する置換基を有する場合は、該置換基を含めたR1 〜R6 全体の炭素原子数が、規定された範囲を満たすものとする。
上記置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基;メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、n−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、2−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基;ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、2−プロペニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、イソブテニル、3−ペンテニル、4−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基;ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基;フェニル、ナフチル等のアリール基;フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基;フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基;ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等の複素環基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;アセチル、2−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル(ベンゾイル)、フタロイル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基;アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基;スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は塩を形成していてもよい。
上記置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基;メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、n−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、2−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基;ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、2−プロペニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、イソブテニル、3−ペンテニル、4−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基;ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基;フェニル、ナフチル等のアリール基;フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基;フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基;ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等の複素環基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;アセチル、2−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル(ベンゾイル)、フタロイル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基;アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基;スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は塩を形成していてもよい。
上記一般式(I)で表される本発明に係るスクアリリウム化合物としては、上記一般式(I)中、R5 及び/又はR6 がハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜8のアルキル基であるもの、特にR5 及び/又はR6 がトリフルオロメチル基であるものが好ましく、また下記一般式(II)で表されるものが、有機溶媒に対する溶解性が高いので好ましい。
上記一般式(I)で表される本発明に係るスクアリリウム化合物は、その製造方法は特に限定されず、周知一般の反応を利用した方法で得ることができるが、例えば、下記〔化3〕のルートで合成することができる。
上記一般式(I)で表される本発明に係るスクアリリウム化合物の好ましい具体例としては、下記化合物No.1〜24が挙げられる。
本発明の光学フィルターにおいて、上記一般式(I)で表される本発明に係るスクアリリウム化合物の含有量は、通常1〜1000mg/m2 、好ましくは5〜100mg/m2 であり、該含有量が1mg/m2 未満では、光吸収効果を十分に発揮することができず、1000mg/m2 を超えて含有する場合には、フィルターの色目が強くなりすぎて表示品質等を低下させるおそれがあり、さらには、光吸収剤の含有量が増えることにより明度が低下するおそれもある。
次に、本発明の光学フィルターについて説明する。
本発明の光学フィルターは、上記一般式(I)で表されるスクアリリウム化合物を含有する。該スクアリリウム化合物は、吸収極大波長を560〜620nmの範囲内又はその付近に持ち、一部の可視光線を選択的に吸収して遮断することができるので、該スクアリリウム化合物を含有する本発明の光学フィルターは、表示画像の高品質化に用いられる画像表示装置用の光学フィルターとして特に好適なものである。本発明の光学フィルターは、画像表示装置用の他に、分析装置用、半導体装置製造用、天文観測用、光通信用、眼鏡レンズ等の各種用途にも用いることができる。
本発明の光学フィルターは、上記一般式(I)で表されるスクアリリウム化合物を含有する。該スクアリリウム化合物は、吸収極大波長を560〜620nmの範囲内又はその付近に持ち、一部の可視光線を選択的に吸収して遮断することができるので、該スクアリリウム化合物を含有する本発明の光学フィルターは、表示画像の高品質化に用いられる画像表示装置用の光学フィルターとして特に好適なものである。本発明の光学フィルターは、画像表示装置用の他に、分析装置用、半導体装置製造用、天文観測用、光通信用、眼鏡レンズ等の各種用途にも用いることができる。
本発明の光学フィルターは、通常、ディスプレイの前面に配置される。例えば、本発明の光学フィルターは、ディスプレイの表面に直接貼り付けてもよく、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側(外側)または裏側(ディスプレイ側)に貼り付けてもよい。
本発明の光学フィルターの形状に関しては、特に制限されるものではないが、通常、透明支持体に、必要に応じて下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、保護層等の各層を設けたものが挙げられる。本発明に係るスクアリリウム化合物や、本発明に係るスクアリリウム化合物以外の色素化合物である光吸収剤、各種安定剤の任意成分を本発明の光学フィルターに含有させる方法としては、例えば、(1)透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、(2)透明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、(3)任意の各層とは別に、本発明に係るスクアリリウム化合物等の光吸収剤等を含有するフィルター層を設ける方法が挙げられる。
上記透明支持体の材料としては、例えば、ガラス等の無機材料;ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル;ポリアミド;ポリカーボネート;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル;ポリスチレン;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリエーテルイミド;ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂等の高分子材料が挙げられる。
上記透明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。上記透明支持体のヘイズは、2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。上記透明支持体の屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましい。
上記透明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。上記透明支持体のヘイズは、2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。上記透明支持体の屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましい。
上記透明支持体中には、本発明に係るスクアリリウム化合物以外の他の光吸収剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、フェノール系、リン系等の酸化防止剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、無機微粒子、耐光性付与剤、芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物等を添加することができ、また、上記透明支持体には、各種の表面処理を施すこともできる。
上記の本発明に係るスクアリリウム化合物以外の光吸収剤としては、例えば、光学フィルターを画像表示装置用途に用いる場合には、色調調整用の光吸収剤、外光の反射や映り込み防止用の光吸収剤が挙げられ、画像表示装置がプラズマディスプレイの場合には、赤外リモコン誤作動防止用の光吸収剤が挙げられる。
上記の色調調整用の光吸収剤としては、波長550〜600nmのオレンジ光の除去のために用いられるものとして、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンベンゾオキサゾリウム化合物、トリメチンベンゾチアゾリウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体;ペンタメチンオキサゾリウム化合物、ペンタメチンチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体;スクアリリウム色素誘導体;アゾメチン色素誘導体;キサンテン色素誘導体;アゾ色素誘導体;オキソノール色素誘導体;ベンジリデン色素誘導体;ピロメテン色素誘導体;アゾ金属錯体誘導体:ローダミン色素誘導体;フタロシアニン誘導体;ポルフィリン誘導体;ジピロメテン金属キレート化合物の他、上記一般式(I)で表される本発明に係るスクアリリウム化合物以外の分子構造を持つスクアリリウム化合物等が挙げられる。
上記の外光の反射や映り込み防止用の光吸収剤(波長480〜500nm対応)としては、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンオキサゾリウム化合物、トリメチンチアゾリウム化合物、インドリデントリメチンチアゾニウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体;フタロシアニン誘導体;ナフタロシアニン誘導体;ポルフィリン誘導体;ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。
上記の赤外リモコン誤作動防止用の光吸収剤(波長750〜1100nm対応)としては、ビスイミニウム誘導体;ペンタメチンベンゾインドリウム化合物、ペンタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ペンタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体;ヘプタメチンインドリウム化合物、ヘプタメチンベンゾインドリウム化合物、ヘプタメチンオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンチアゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のヘプタメチンシアニン誘導体;スクアリリウム誘導体;ビス(スチルベンジチオラト)化合物、ビス(ベンゼンジチオラト)ニッケル化合物、ビス(カンファージチオラト)ニッケル化合物等のニッケル錯体;スクアリリウム誘導体;アゾ色素誘導体;フタロシアニン誘導体;ポルフィリン誘導体;ジピロメテン金属キレート化合物等が挙げられる。
本発明の光学フィルターにおいて、上記の色調調整用の光吸収剤、外光の反射や映り込み防止用の光吸収剤、及び赤外リモコン誤作動防止用の光吸収剤(近赤外線吸収剤)は、本発明に係るスクアリリウム化合物を含有させる層と同一の層に含有させてもよく、別の層に含有させてもよい。これらの光吸収剤の含有量はそれぞれ、通常、光学フィルターの単位面積当たり1〜1000mg/m2 の範囲であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。
また、上記透明支持体に添加することができる上記無機微粒子としては、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン等が挙げられる。
上記透明支持体に施すことができる上記の各種の表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙げられる。
本発明の光学フィルターに設けることができる上記下塗り層は、任意の各層とは別に光吸収剤を含有するフィルター層を設ける場合に、透明支持体とフィルター層との間に用いる層である。上記下塗り層は、ガラス転移温度が−60〜60℃のポリマーを含む層、フィルター層側の表面が粗面である層、又はフィルター層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。また、上記下塗り層は、フィルター層が設けられていない透明支持体の面に設けて、該透明支持体とその上に設けられる層(例えば、反射防止層、ハードコート層)との接着力を改善するために設けてもよく、また光学フィルターと画像表示装置とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。上記下塗り層の厚みは、2nm〜20μmが好ましく、5nm〜5μmがより好ましく、20nm〜2μmがさらに好ましく、50nm〜1μmが特に好ましく、80nm〜300nmが最も好ましい。ガラス転移温度が−60〜60℃のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が−60〜60℃のポリマーは、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合又はこれらの共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、50℃以下であることが好ましく、40℃以下であることがより好ましく、30℃以下であることがさらに好ましく、25℃以下であることが特に好ましく、20℃以下であることが最も好ましい。上記下塗り層の25℃における弾性率は、1〜1000MPaであることが好ましく、5〜800MPaであることがさらに好ましく、10〜500MPaであることが最も好ましい。フィルター層側の表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成することで、透明支持体とフィルター層とを接着する。フィルター層側の表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径は、0.02〜3μmであることが好ましく、0.05〜1μmであることがさらに好ましい。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーとしては、アクリル樹脂、セルロース誘導体、アルギン酸、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス等が挙げられる。また、本発明の光学フィルターには、二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤、硬膜剤等を添加してもよい。
本発明の光学フィルターに設けることができる上記反射防止層においては、低屈折率層を有することが必須である。該低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低く、1.20〜1.55であることが好ましく、1.30〜1.50であることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、50〜400nmであることが好ましく、50〜200nmであることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層(特開昭57−34526号、特開平3−130103号、特開平6−115023号、特開平8−313702号、特開平7−168004号の各公報記載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5−208811号、特開平6−299091号、特開平7−168003号の各公報記載)、あるいは微粒子を含む層(特公昭60−59250号、特開平5−13021号、特開平6−56478号、特開平7−92306号、特開平9−288201号の各公報に記載)として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、3〜50体積%の空隙率を有することが好ましく、5〜35体積%の空隙率を有することがさらに好ましい。
広い波長領域の反射を防止するためには、上記反射防止層において、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.65〜2.40であることが好ましく、1.70〜2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.90であることが好ましく、1.55〜1.70であることがさらに好ましい。中・高屈折率層の厚さは、5nm〜100μmであることが好ましく、10nm〜10μmであることがさらに好ましく、30nm〜1μmであることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することができる。該比較的高い屈折率を有するポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン共重合体、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアミド、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、環状(脂環式又は芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン等が挙げられる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応により形成されたポリマーを用いてもよい。
さらに高い屈折率を得るため、上記ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。該無機微粒子の屈折率は、1.80〜2.80であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は硫化物としては、酸化チタン(例えば、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛等が挙げられる。これらの中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S等が挙げられる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物(例えばキレート化合物)、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。
上記反射防止層の表面には、アンチグレア機能(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能)を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成してその表面に反射防止層を形成するか、あるいは、反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を有する反射防止層を得ることができる。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3〜30%のヘイズを有する。
本発明の光学フィルターに設けることができる上記ハードコート層は、上記透明支持体の硬度よりも高い硬度を有する。該ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。該ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー又はモノマー(例えば紫外線硬化型樹脂)等を用いて形成することができる。シリカ系材料からハードコート層を形成することもできる。
上記反射防止層(低屈折率層)の表面に、潤滑層を形成してもよい。該潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。該潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例えばシリコンオイル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することができる。該潤滑層の厚さは、2〜20nmであることが好ましい。
上記「(3)任意の各層とは別に、本発明に係るスクアリリウム化合物等の光吸収剤等を含有するフィルター層を設ける方法」を採用する場合、本発明に係るスクアリリウム化合物は、そのまま使用してフィルター層を形成することもできるし、バインダーに分散させてフィルター層を形成することもできる。該バインダーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、あるいは、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料が用いられる。
上記バインダーを使用する際には、同時に有機溶媒を使用することもでき、該有機溶媒としては、特に限定されることなく公知の種々の溶媒を適宜用いることができ、例えば、イソプロパノール等のアルコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類;アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類;ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類;メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で又は混合して用いることができる。
また、上記の下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、フィルター層等は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ホッパーを使用するエクストルージョンコート法(米国特許第2681294号明細書記載)等が挙げられる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、米国特許第2761791号、米国特許第2941898号、米国特許第3508947号、米国特許第3526528号の各明細書及び原崎勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉書店発行)に記載がある。
以下、製造例、実施例及び比較例等をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
製造例1及び2は本発明に係るスクアリリウム化合物の製造例を示し、実施例1〜4は、製造例1又は2で得られたスクアリリウム化合物を用いた本発明の光学フィルターの実施例を示す。
製造例1及び2は本発明に係るスクアリリウム化合物の製造例を示し、実施例1〜4は、製造例1又は2で得られたスクアリリウム化合物を用いた本発明の光学フィルターの実施例を示す。
[製造例1] 化合物No.1の製造
<ステップ1>N−(3,5−ジトリフルオロメチル)−2−メチルインドールの合成
2−メチルインドール11.2g(85.0mmol)、3,5−ジトリフルオロブロモベンゼン25.0g(85.0mmol)、ヨウ化銅(I)1.62g(8.50mmol)、1,2−ジアミノシクロヘキサン1.95g(17.0mmol)、トルエン85.0ml及びK3 PO4 の36.0g(85.0mmol)を仕込み、17時間加熱還流した。室温まで冷却して析出物をろ別後、ろ液から溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1;シリカゲル)により精製を行い、メタノールにより洗浄して白色結晶のN−(3,5−ジトリフルオロメチル)−2−メチルインドールを得た(収率32%)。
<ステップ1>N−(3,5−ジトリフルオロメチル)−2−メチルインドールの合成
2−メチルインドール11.2g(85.0mmol)、3,5−ジトリフルオロブロモベンゼン25.0g(85.0mmol)、ヨウ化銅(I)1.62g(8.50mmol)、1,2−ジアミノシクロヘキサン1.95g(17.0mmol)、トルエン85.0ml及びK3 PO4 の36.0g(85.0mmol)を仕込み、17時間加熱還流した。室温まで冷却して析出物をろ別後、ろ液から溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1;シリカゲル)により精製を行い、メタノールにより洗浄して白色結晶のN−(3,5−ジトリフルオロメチル)−2−メチルインドールを得た(収率32%)。
<ステップ2>化合物No.1の合成
ステップ1で得られたN−(3,5−ジトリフルオロメチル)−2−メチルインドール5.00g(15.0mmol)、スクエア酸0.83g(7.30mmol)、n−ブタノール16.7g及びトルエン8.40gを仕込み、脱水しながら110℃で4時間加熱した。室温まで冷却して析出物をろ別し、メタノールにより洗浄し、乾燥を経て暗緑色固体を得た(収率70%)。得られた暗緑色固体は、各種分析の結果、目的物である化合物No.1であることを確認した。得られた暗緑色固体についての分析結果を以下に示す。
ステップ1で得られたN−(3,5−ジトリフルオロメチル)−2−メチルインドール5.00g(15.0mmol)、スクエア酸0.83g(7.30mmol)、n−ブタノール16.7g及びトルエン8.40gを仕込み、脱水しながら110℃で4時間加熱した。室温まで冷却して析出物をろ別し、メタノールにより洗浄し、乾燥を経て暗緑色固体を得た(収率70%)。得られた暗緑色固体は、各種分析の結果、目的物である化合物No.1であることを確認した。得られた暗緑色固体についての分析結果を以下に示す。
(分析結果)
・1H−NMR(CDCl3 溶媒)
(ピークトップのケミカルシフトppm;多重度;プロトン数)
(9.24;s;2H)、(8.19;d;2H)、(7.85;s;4H)、(7.48;d;2H)、(7.26;t;2H)、(6.82;t;2H)、(3.17;s;6H)
・UV吸収測定(クロロホルム溶媒)
λmax;589.0nm、ε;1.46×105
・分解温度(TG−DTA:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
276℃;ピークトップ
・融点(DSC:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
277℃
・1H−NMR(CDCl3 溶媒)
(ピークトップのケミカルシフトppm;多重度;プロトン数)
(9.24;s;2H)、(8.19;d;2H)、(7.85;s;4H)、(7.48;d;2H)、(7.26;t;2H)、(6.82;t;2H)、(3.17;s;6H)
・UV吸収測定(クロロホルム溶媒)
λmax;589.0nm、ε;1.46×105
・分解温度(TG−DTA:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
276℃;ピークトップ
・融点(DSC:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
277℃
[製造例2] 化合物No.2の製造
<ステップ1>N−(3−トリフルオロメチル)−2−メチルインドールの合成
2−メチルインドール12.1g(92.0mmol)、3−トリフルオロヨードベンゼン25.0g(92.0mmol)、ヨウ化銅(I)1.75g(9.20mmol)、1,2−ジアミノシクロヘキサン2.10g(18.4mmol)、トルエン92.0ml及びK3 PO4 の39.0g(183mmol)を仕込み、19時間加熱還流した。室温まで冷却して析出物をろ別後、ろ液から溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1;シリカゲル)により精製を行い、淡黄色オイル状のN−(3−トリフルオロメチル)−2−メチルインドールを得た(収率68%)。
<ステップ1>N−(3−トリフルオロメチル)−2−メチルインドールの合成
2−メチルインドール12.1g(92.0mmol)、3−トリフルオロヨードベンゼン25.0g(92.0mmol)、ヨウ化銅(I)1.75g(9.20mmol)、1,2−ジアミノシクロヘキサン2.10g(18.4mmol)、トルエン92.0ml及びK3 PO4 の39.0g(183mmol)を仕込み、19時間加熱還流した。室温まで冷却して析出物をろ別後、ろ液から溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1;シリカゲル)により精製を行い、淡黄色オイル状のN−(3−トリフルオロメチル)−2−メチルインドールを得た(収率68%)。
<ステップ2>化合物No.2の合成
ステップ1で得られたN−(3−トリフルオロメチル)−2−メチルインドール8.00g(29.0mmol)、スクエア酸1.66g(15.0mmol)、n−ブタノール27.4g及びトルエン13.7gを仕込み、脱水しながら110℃で2時間加熱した。室温まで冷却して析出物をろ別し、水及び酢酸エチルで洗浄し、乾燥を経て暗緑色固体を得た(収率53%)。得られた暗緑色固体は、各種分析の結果、目的物である化合物No.2であることを確認した。得られた暗緑色固体についての分析結果を以下に示す。
ステップ1で得られたN−(3−トリフルオロメチル)−2−メチルインドール8.00g(29.0mmol)、スクエア酸1.66g(15.0mmol)、n−ブタノール27.4g及びトルエン13.7gを仕込み、脱水しながら110℃で2時間加熱した。室温まで冷却して析出物をろ別し、水及び酢酸エチルで洗浄し、乾燥を経て暗緑色固体を得た(収率53%)。得られた暗緑色固体は、各種分析の結果、目的物である化合物No.2であることを確認した。得られた暗緑色固体についての分析結果を以下に示す。
(分析結果)
・1H−NMR(CDCl3 溶媒)
(ピークトップのケミカルシフトppm;多重度;プロトン数)
(9.25;d;2H)、(7.97−6.83;d;14H)、(3.14;s;6H)
・UV吸収測定(クロロホルム溶媒)
λmax;587.0nm、ε;1.46×105
・分解温度(TG−DTA:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
280℃;ピークトップ
・融点(DSC:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
279℃
・1H−NMR(CDCl3 溶媒)
(ピークトップのケミカルシフトppm;多重度;プロトン数)
(9.25;d;2H)、(7.97−6.83;d;14H)、(3.14;s;6H)
・UV吸収測定(クロロホルム溶媒)
λmax;587.0nm、ε;1.46×105
・分解温度(TG−DTA:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
280℃;ピークトップ
・融点(DSC:100ml/分窒素気流中、昇温10℃/分)
279℃
[評価例1] 溶解性評価
上記製造例1及び2で得た化合物No.1及びNo.2並びに以下に示す比較化合物No.1及びNo.2について、20℃でのエチルメチルケトンへの溶解性を評価した。評価は、化合物を0.05質量%〜1.5質量%の範囲において0.05質量%刻みでエチルメチルケトンに加え、溶解、不溶を観察して行った。その結果を表1に示す。
上記製造例1及び2で得た化合物No.1及びNo.2並びに以下に示す比較化合物No.1及びNo.2について、20℃でのエチルメチルケトンへの溶解性を評価した。評価は、化合物を0.05質量%〜1.5質量%の範囲において0.05質量%刻みでエチルメチルケトンに加え、溶解、不溶を観察して行った。その結果を表1に示す。
[実施例1] 光学フィルターの作成1
下記の配合物をプラストミルで260℃にて5分間溶融混練した。混練後、直径6mmのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを、電気プレスを用いて250℃で0.25mm厚の薄板に成形し、光学フィルターを得た。この光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3500で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が589nmで半値幅が36nmであった。
下記の配合物をプラストミルで260℃にて5分間溶融混練した。混練後、直径6mmのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを、電気プレスを用いて250℃で0.25mm厚の薄板に成形し、光学フィルターを得た。この光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3500で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が589nmで半値幅が36nmであった。
(配合)
ユーピロンS−3000 100g
(三菱瓦斯化学(株)製;ポリカーボネート樹脂)
化合物No.1 0.01g
ユーピロンS−3000 100g
(三菱瓦斯化学(株)製;ポリカーボネート樹脂)
化合物No.1 0.01g
[実施例2] 光学フィルターの作成2
下記の配合にてUVワニスを作成し、易密着処理した188μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該UVワニスをバーコーター#9により塗布した後、80℃で30秒乾燥させた。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を100mJ照射し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に硬化膜厚約5μmのフィルター層を有する光学フィルターを得た。この光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3500で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が589nmで半値幅が36nmであった。
下記の配合にてUVワニスを作成し、易密着処理した188μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該UVワニスをバーコーター#9により塗布した後、80℃で30秒乾燥させた。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を100mJ照射し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に硬化膜厚約5μmのフィルター層を有する光学フィルターを得た。この光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3500で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が589nmで半値幅が36nmであった。
(配合)
アデカオプトマーKRX−571−65 100g
(旭電化工業(株)製UV硬化樹脂、樹脂分80質量%)
化合物No.1 0.5g
メチルエチルケトン 60g
アデカオプトマーKRX−571−65 100g
(旭電化工業(株)製UV硬化樹脂、樹脂分80質量%)
化合物No.1 0.5g
メチルエチルケトン 60g
[実施例3] 光学フィルターの作成3
化合物No.1に代えて化合物No.2を用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルターを作成し、得られた光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3010で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が587nmで半値幅が36nmであった。
化合物No.1に代えて化合物No.2を用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルターを作成し、得られた光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3010で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が587nmで半値幅が36nmであった。
[実施例4] 光学フィルターの作成4
下記の配合にて塗工液を調製し、易密着処理した188μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該塗工液をバーコーター#9により塗布した後、100℃で3分乾燥させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に膜厚10μmのフィルター層を有する光学フィルターを得た。この光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3500で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が589nmで半値幅が36nmであった。
下記の配合にて塗工液を調製し、易密着処理した188μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該塗工液をバーコーター#9により塗布した後、100℃で3分乾燥させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に膜厚10μmのフィルター層を有する光学フィルターを得た。この光学フィルターを(株)日立製作所製スペクトロフォトメーターU−3500で吸収スペクトルを測定したところ、λmax が589nmで半値幅が36nmであった。
(配合)
アデカアークルズR−103 100g
(旭電化工業(株)製アクリル系樹脂バインダー、樹脂分50質量%)
化合物No.1 0.1g
メチルエチルケトン 50g
アデカアークルズR−103 100g
(旭電化工業(株)製アクリル系樹脂バインダー、樹脂分50質量%)
化合物No.1 0.1g
メチルエチルケトン 50g
表1に示した評価例1の結果から、本発明に係るスクアリリウム化合物は、溶解性に優れることが分かる。また、実施例1〜4から明らかなように、本発明に係るスクアリリウム化合物を含有してなる本発明の光学フィルターは、560〜620nmの波長領域において急峻な光吸収を有しており、画像表示装置用の光学フィルターとして好適であることが分かる。
Claims (5)
- 下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルター。
- 上記一般式(I)中、R5 及び/又はR6 がハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜8のアルキル基であることを特徴とする請求項1記載の光学フィルター。
- 上記一般式(I)中、R5 及び/又はR6 がトリフルオロメチル基であることを特徴とする請求項1又は2記載の光学フィルター。
- 画像表示装置用である請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルター。
- 上記画像表示装置がプラズマディスプレイである請求項4記載の光学フィルター。
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