JP4979384B2 - シアニン化合物、光学フィルター及び光学記録材料 - Google Patents

Description

本発明は、新規なシアニン化合物、光学フィルター及び光学記録材料に関する。該シアニン化合物は、光学要素等、特に、画像表示装置用の光学フィルターに含有させる光吸収剤又はレーザ光による光学記録材料に用いられる光学記録剤として有用である。

５００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲に強度の大きい吸収を有する化合物、特に極大吸収（λmax）が５５０〜６２０ｎｍにある化合物は、ＤＶＤ−Ｒ等の光学記録媒体の記録層や、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置用の光学フィルターにおいて、光学要素として用いられている。

上記の光学要素としては、例えば、下記特許文献１に、メタロセン結合基を含むシアニン化合物が報告されているが、該シアニン化合物は、特に光学フィルターにおいて使用した場合、目的の波長領域における透過率が低下し、満足のいく性能が得られていなかった。また、下記特許文献２には、インドール環及びスクアリリウム構造を有するシアニン化合物が報告されているが、該シアニン化合物は、耐光性が不十分であり、光学要素としての機能の持続性について満足できるものではなかった。

特開２００３−１７１５７１号公報 特開２００４−９９７１３号公報

従って、本発明の目的は、特に画像表示装置用の光学フィルター及びレーザ光による光学記録材料に用いられる光学要素に適した、耐光性に優れた化合物を提供することにある。

本発明者等は、検討を重ねた結果、スクアリリウム構造及びメタロセン結合基を有する特定のシアニン化合物が、耐光性に優れ、しかも有機溶剤に対する溶解性にも優れることを見出した。

本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、下記一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物、該シアニン化合物を含有してなる光学フィルター、及び、基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、該シアニン化合物を含有してなる光学記録材料を提供するものである。

先ず、本発明のシアニン化合物について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。

上記一般式（Ｉ）における環Ａ¹、上記一般式（II）におけるＡ²及び上記一般式（III）におけるＡ³で表される置換基を有してもよいベンゼン環の置換基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等のアルキル基；該アルキル基のハロゲン置換体；メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、プロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等のアルコキシ基；該アルコキシ基のハロゲン置換体；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ等のアルキルチオ基；フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニル、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリール基；ニトロ基；シアノ基等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹及び上記一般式（III）におけるＲ⁴で表される炭素原子数１〜８で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ、Ｒ¹及びＲ⁴で表される炭素原子数６〜３０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニル、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹、上記一般式（II）におけるＹ²及び上記一般式（III）におけるＹ³で表される炭素原子数１〜３０の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、１−フェニルプロペン−３−イル等のアルケニル基、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基、これらがエーテル結合又はチオエーテル結合で中断されたもの、例えば、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、３−メトキシブチル、２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル、２−メチルチオエチル、２−フェニルチオエチル等が挙げられ、更にこれらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。

上記一般式（IV）におけるＲ^a〜Ｒⁱで表される炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ、該アルキル基中のメチレン基が−Ｏ−で置換された基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、２−メトキシエチル等が挙げられ、該アルキル基中のメチレン基が−ＣＯ−で置換された基としては、アセチル、１−カルボニルエチル、アセチルメチル、１−カルボニルプロピル、２−オキソブチル、２−アセチルエチル、１−カルボニルイソプロピル等が挙げられる。上記一般式（IV）におけるＺで表される置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、１−メチルプロピレン、２−メチルプロピレン、１，２−ジメチルプロピレン、１，３−ジメチルプロピレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチレン、３−メチルブチレン、４−メチルブチレン、２，４−ジメチルブチレン、１，３−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン−１，１−ジイル、プロパン−２，２−ジイル等が挙げられる。

上記一般式（II）におけるＸ中の基であるＲ²及びＲ³で表される炭素原子数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ、Ｒ²及びＲ³が連結して形成される３〜１０員環の基としては、シクロプロパン−１，１−ジイル、シクロブタン−１，１−ジイル、２，４−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、３−ジメチルシクロブタン−１，１−ジイル、シクロペンタン−１，１−ジイル、シクロヘキサン−１，１−ジイル、テトラヒドロピラン−４，４−ジイル、チアン−４，４−ジイル、ピペリジン−４，４−ジイル、Ｎ−置換ピペリジン−４，４−ジイル、モルホリン−２，２−ジイル、モルホリン−３，３−ジイル、Ｎ−置換モルホリン−２，２−ジイル、Ｎ−置換モルホリン−３，３−ジイル等が挙げられ、そのＮ−置換基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等のアルキル基；該アルキル基のハロゲン置換体；メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、プロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ等のアルコキシ基；該アルコキシ基のハロゲン置換体；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ等のアルキルチオ基；ニトロ基；シアノ基等が挙げられる。Ｘ中の基であるＹ’で表される炭素原子数１〜３０の有機基としては、上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹で表される炭素原子数１〜３０の有機基と同様の基が挙げられる。

上記一般式（Ｖ）において、Ｒ⁵〜Ｒ⁸で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられ、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、トリフルオロメチルオキシ等が挙げられ、Ｒ⁵及びＲ⁶が結合して形成される環構造としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロペンタジエン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ジヒドロピロール環、ピリジン環、ピラン環、イソキサゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、ポリダジン環、ピラゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、キノリン環、カルバゾール環等が挙げられ、これらの環はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい。

上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹、上記一般式（II）におけるＹ’及びＹ²、並びに上記一般式（III）におけるＹ³の導入方法は、特に制限されるものではないが、例えば、Ｙ¹は、１Ｈ−インドール誘導体のＮＨ基とＨａｌ−Ｙ¹（Ｈａｌ：フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）等のハロゲン化有機化合物とを反応させることで導入することができる。Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ’及びＹ³は、炭素原子数が大きくなると分子量が大きくなり、これらの基を有する上記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物のモル吸光係数が低下する場合があるので、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ’及びＹ³それぞれの炭素原子数は、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましい。

上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（II）で表される基である場合は、上記一般式（Ｉ）における環Ａ¹が置換基を有してもよいベンゼン環であるもの；上記一般式（II）における環Ａ²が置換基を有してもよいベンゼン環であるもの；上記一般式（II）におけるＸが−ＣＲ²Ｒ³−であるものが、特にコスト及び耐光性の点で優れる。上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（II）で表される基である場合の特に好ましい代表例としては、下記一般式（VI）で表されるシアニン化合物が挙げられる。

また、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（III）で表される基である場合は、上記一般式（Ｉ）における環Ａ¹が置換基を有してもよいベンゼン環であるもの；上記一般式（III）における環Ａ³が置換基を有してもよいベンゼン環であるものが、特にコスト及び耐光性の点で優れる。上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（III）で表される基である場合の特に好ましい代表例としては、下記一般式（VII）で表されるシアニン化合物が挙げられる。

また、本発明のシアニン化合物の中でも、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（II）で表される基である場合は、上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹及び上記一般式（II）におけるＹ²のどちらか一方が上記一般式（IV）で表される置換基であるものが、コスト及びモル吸光係数の点で優れるため特に好ましい。

また、本発明のシアニン化合物の中でも、上記一般式（Ｉ）においてＢが上記一般式（III）で表される基である場合、上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹及び上記一般式（III）におけるＹ³のどちらか一方が上記一般式（IV）で表される置換基であるものが、コスト及びモル吸光係数の点で優れるため特に好ましい。

また、本発明のシアニン化合物が有する上記一般式（IV）で表される置換基は、上記一般式（IV）におけるＺが置換基を有してもよい炭素原子数１〜８のアルキレン基であり、ＭがＦｅである。従って、上記一般式（IV）で表される置換基は、下記一般式（VIII）で表される。

本発明のシアニン化合物の具体例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜４０、４２〜４９、５１〜６０、６４〜７２、７４、８０、８１、８３、８８〜９０、９７〜９９、１０６〜１２６が挙げられる。尚、下記化合物のうち、以上に挙げた化合物以外は参考化合物である。

上記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物は、その製造方法は特に限定されず、周知一般の反応を利用した方法で得ることができるが、上記一般式（Ｉ）におけるＢが上記一般式（II）で表される基である場合は、例えば、下記[化２２]に示されるのルートの如く、該当する構造を有する環構造を誘導する化合物及びスクエア酸誘導体の反応により合成することができる。

尚、上記[化２２]において、Ｄで表されるハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、Ｄで表されるスルホニルオキシとしては、フェニルスルホニルオキシ、４−メチルスルホニルオキシ、４−クロロスルホニルオキシ等が挙げられる。

また、上記一般式（Ｉ）におけるＢが上記一般式（III）で表される基である場合は、本発明のシアニン化合物は、例えば、下記[化２３]に示されるルートにより合成することができる。

上述した本発明のシアニン化合物は、５００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の光に対する光学要素、特に５５０〜６２０ｎｍの範囲の光に対する光学要素として好適である。光学要素とは、特定の光を吸収することにより機能を発揮する要素のことであり、具体的には、光吸収剤、光学記録剤、光増感剤等が挙げられる。例えば、光学記録剤は、ＤＶＤ−Ｒ等の光学記録媒体における光学記録層に用いることができ、光吸収剤は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置用の光学フィルターに用いることができる。

本発明のシアニン化合物は、光学特性及び光安定性に優れるばかりでなく、有機溶剤に対する溶解性が大きいという特徴も有している。この特徴は、光学記録媒体や光学フィルターへの応用に有利である。

例えば、光学記録媒体へ応用する場合、光学ディスク等の光学記録層の形成には、光学記録剤を有機溶剤に溶解した溶液をスピンコートやスプレー等で塗布する方法が一般的に用いられているので、光学記録剤として用いる化合物は、有機溶剤に対する溶解性が大きい方が光学記録層形成プロセスマージンが大きくなり有利である。また、一般に、有機溶剤への溶解性が大きい化合物は、合成樹脂との相溶性も良好であるので、合成樹脂中へ光学要素を均一に分散又は相溶させることが必要である、光学フィルターの製造においても有利である。

本発明のシアニン化合物を含有してなる本発明の光学フィルターについて、以下に説明する。
本発明のシアニン化合物は、吸収の半値幅が小さいので、画像表示に必要な光の吸収が小さく、本発明のシアニン化合物を含有する本発明の光学フィルターは、表示画像の高品質化に用いられる画像表示装置用の光学フィルターとして特に好適なものである。尚、本発明の光学フィルターは、画像表示装置用以外に、分析装置用、半導体装置製造用、天文観測用、光通信用等の用途にも用いることができる。

本発明の光学フィルターは、画像表示装置用として用いる場合、通常ディスプレイの前面に配置される。例えば、本発明の光学フィルターは、ディスプレイの表面に直接貼り付けてもよく、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）又は裏側（ディスプレイ側）に貼り付けてもよい。

本発明の光学フィルターにおいて、本発明のシアニン化合物の使用量は、光学フィルターの単位面積当たり、通常１〜１０００ｍｇ／ｍ²、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²である。１ｍｇ／ｍ²未満の使用量では、光吸収効果を十分に発揮することができず、１０００ｍｇ／ｍ²を超えて使用した場合には、フィルターの色目が強くなりすぎて表示品質等を低下させるおそれがあり、さらには、明度が低下するおそれもある。

本発明の光学フィルターの代表的な構成としては、透明支持体に、必要に応じて、下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層等の任意の各層を設けたものが挙げられる。本発明のシアニン化合物や、本発明のシアニン化合物以外の色素化合物、各種安定剤等の任意成分を本発明の光学フィルターに含有させる方法としては、例えば、透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、透明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、各層間の接着剤に混入させる方法、各層とは別に本発明のシアニン化合物等の光吸収剤等を含有する光吸収層を設ける方法等が挙げられる。本発明のシアニン化合物は、各層間の接着剤に混入させる方法及び光吸収層を設ける方法に好適である。

上記透明支持体の材料としては、例えば、ガラス等の無機材料；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイミド；ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂等の高分子材料が挙げられる。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましい。

これらの透明支持体中には、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、無機微粒子等を添加することができ、また、透明支持体には、各種の表面処理を施すことができる。

上記無機微粒子としては、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン等が挙げられる。

上記各種表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙げられる。

上記下塗り層は、光吸収剤を含有する光吸収層を設ける場合に、透明支持体と光吸収層との間に用いる層である。上記下塗り層は、ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む層、光吸収層側の表面が粗面である層、又は光吸収層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。また、下塗り層は、光吸収層が設けられていない透明支持体の面に設けて、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコート層）との接着力を改善するために設けてもよく、光学フィルターと画像表示装置とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２ｎｍ〜２０μｍが好ましく、５ｎｍ〜５μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜２μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがさらにまた好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍが最も好ましい。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーは、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合又はこれらの共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることがより好ましく、３０℃以下であることがさらに好ましく、２５℃以下であることがさらにまた好ましく、２０℃以下であることが最も好ましい。下塗り層の２５℃における弾性率は、１〜１０００ＭＰａであることが好ましく、５〜８００ＭＰａであることがさらに好ましく、１０〜５００ＭＰａであることが最も好ましい。光吸収層側の表面が粗面である下塗り層は、粗面の上に光吸収層を形成することで、透明支持体と光吸収層とを接着する。光吸収層側の表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。光吸収層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーとしては、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス等が挙げられる。また、本発明の光学フィルターにおいては、二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤、硬膜剤等を添加してもよい。

上記反射防止層においては、低屈折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３号、特開平６−１１５０２３号、特開平８−３１３７０２号、特開平７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、特開平６−２９９０９１号、特開平７−１６８００３号の各公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、特開平６−５６４７８号、特開平７−９２３０６号、特開平９−２８８２０１号の各公報に記載）として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。

広い波長領域の反射を防止するためには、上記反射防止層において、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５５〜１．７０であることがさらに好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン等が挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応により形成されたポリマーを用いてもよい。

さらに高い屈折率を得るため、上記ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物又は硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は硫化物としては、酸化チタン（例えば、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛等が挙げられる。これらの中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ等が挙げられる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例えばキレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。

上記反射防止層の表面には、アンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成してその表面に反射防止層を形成するか、あるいは、反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を有する反射防止層を得ることができる。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。

上記ハードコート層は、上記透明支持体の硬度よりも高い高度を有する。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー又はモノマー（例えば紫外線硬化型樹脂）等を用いて形成することができる。シリカ系材料からハードコート層を形成することもできる。

上記反射防止層（低屈折率層）の表面には、潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例えばシリコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体等を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであることが好ましい。

上述した各層とは別に光吸収層を設ける場合は、本発明のシアニン化合物をそのまま使用することもでき、バインダーを使用することもできる。バインダーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、あるいは、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料が用いられる。

上記の下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、光吸収層等は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ホッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書記載）等が挙げられる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、例えば、米国特許第２７６１７９１号、米国特許第２９４１８９８号、米国特許第３５０８９４７号、米国特許第３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年、朝倉書店発行）に記載がある。

次に、基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、本発明のシアニン化合物を含有してなる本発明の光学記録材料について、以下に説明する。
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物は、情報をレーザ等による熱的情報パターンとして付与することにより記録する光学記録媒体における光学記録層に使用される光学記録材料にも有用であり、特にＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ等の光学記録媒体の光学記録層に使用される光学記録材料に好適である。なお、本発明の光学記録材料は、光学記録層を形成するために用いられる材料であり、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物、及び前記一般式（Ｉ）で表される本発明のシアニン化合物と後述する有機溶媒や各種化合物との混合物のことである。

上記光学記録媒体の光学記録層の形成方法としては、一般には、メタノール、エタノール等の低級アルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類；アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等の有機溶媒に、本発明のシアニン化合物及び各種化合物を溶解した溶液を、基体上に、スピンコート、スプレー、ディッピング等で塗布する湿式塗布法、蒸着法、スパッタリング法等が挙げられる。

上記光学記録層の厚さは、通常０．００１〜１０μｍであり、好ましくは０．０１〜５μｍである。

また、本発明の光学記録材料中における本発明のシアニン化合物の含有量は、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、１０〜１００重量％が好ましい。

本発明の光学記録材料は、本発明のシアニン化合物の他に、必要に応じて、他のシアニン系化合物、アゾ系化合物、フタロシアニン系化合物、オキソノール系化合物、スクアリリウム系化合物、スチリル系化合物、ポルフィン系化合物、アズレニウム系化合物、クロコニックメチン系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、トリアリールメタン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、テトラヒドロコリン系化合物、インドフェノール系化合物、アントラキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、キサンテン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系化合物、オキサジン系化合物、スピロピラン系化合物、フルオレン系化合物、ローダミン系化合物等の、光学記録層に通常用いることができる化合物；ポリエチレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート等の樹脂類；界面活性剤；帯電防止剤；滑剤；難燃剤；ヒンダードアミン等のラジカル捕捉剤；フェロセン誘導体等のピット形成促進剤；分散剤；酸化防止剤；架橋剤；耐光性付与剤等を含有してもよい。さらに、本発明の光学記録材料は、一重項酸素等のクエンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物等を含有してもよく、クエンチャーアニオンを用いてもよい。本発明の光学記録材料において、これらの各種化合物は、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、好ましくは０〜５０重量％の範囲となる量で使用される。

また、上記光学記録層上には、金、銀、アルミニウム、銅等を用いて蒸着法あるいはスパッタリング法により反射膜を形成することもできるし、アクリル樹脂、紫外線硬化性樹脂等により保護層を形成することもできる。

以下、製造例、実施例、比較例及び評価例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
下記製造例１及び２は、本発明のシアニン化合物の実施例を示し、下記評価例１及び２ににおいては、製造例１及び２で得られた本発明のシアニン化合物並びに比較化合物について、溶解性及び耐光性の評価を行った。また、下記実施例１〜６は、製造例１及び２で得られた本発明のシアニン化合物を用いた本発明の光学フィルターの実施例を示し、下記比較例１〜３は、比較化合物を用いた光学フィルターの実施例を示す。また、下記実施例７及び８は、本発明の光学記録材料の実施例を示す。

[製造例１]化合物Ｎｏ．１の合成
＜ステップ１＞中間体１の合成
窒素置換した反応フラスコに、インドール０．７ｇ（６ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム０．５ｇ（９ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０８ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン４ｇを仕込み、６０℃で１時間攪拌した。フェロセンブタノールトシルエステル２．５ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃でさらに３時間攪拌した。室温に冷却し、キシレン７５ｍｌを加えて水層が中性になるまで水洗を行った。硫酸ナトリウムによる脱水、脱溶媒を行い、黄色透明オイルとして目的物である中間体１の２．１ｇ（粗収率９６％）を得た。

＜ステップ２＞中間体２の合成
窒素置換した反応フラスコに、Ｎ−イソアミル−２，３，３−トリメチル−３Ｈ−インドリウムヨウ素塩１０．６ｇ（０．０３ｍｏｌ）、トリエチルアミン４．５ｇ（０．０４５ｍｏｌ）及びエタノール４５ｇを仕込み、室温で均一になるまで攪拌した。スクエア酸ジブチルエステル８．０ｇ（０．０３ｍｏｌ）を滴下し、室温でさらに５時間攪拌した。固体をろ別し、メタノールで洗浄して黄色結晶として目的物である中間体２の７．２ｇ（収率６４％）を得た。

＜ステップ３＞中間体３の合成
窒素置換した反応フラスコに、ステップ２で得られた中間体２の７．０ｇ（０．０１８ｍｏｌ）、酢酸６０ｇ及び水３０ｇを仕込み、１００℃で５時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液を減圧下で濃縮乾固し、残渣を酢酸エチルで洗浄し、析出した固体をろ別して、緑色結晶として目的物である中間体３の４．２ｇ（収率７０％）を得た。

＜ステップ４＞化合物Ｎｏ．１の合成
窒素置換した反応フラスコにステップ１で得られた中間体１の２．１ｇ（６ｍｍｏｌ）、ステップ３で得られた中間体３の１．９ｇ（６ｍｍｏｌ）、ブタノール１１．９ｇ及びトルエン１１．９ｇを仕込み、生成する水を除去しながら１００℃で７時間加熱還流した。室温に冷却後、溶媒を留去し、カラム精製(シリカゲル、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１)を行い、次いで、トルエンから再結晶を行い、紫色結晶を１．０ｇ（収率２６％、ＨＰＬＣ純度９９％）得た。得られた紫色結晶は、目的物である化合物Ｎｏ．１であることが確認された。得られた紫色結晶についての分析結果を以下に示す。

（分析結果）
(1)¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）（１．０８；ｄ；６）、（１．５５；ｑ；２）、（１．７３；ｍ；２）、（１．８２；ｍ；１）、（１．８６；ｓ；６）、（１．９４；ｍ；２）、（２．３７；ｔ；２）、（４．０２；ｔ＋ｔ；４）、（４．０６；ｓ；５）、（４．１２；ｄ；２）、（４．１８；ｔ；２）、（６．１７；ｓ；１）、（７．１１；ｄ；１）、（７．２７；ｄ；１）、（７．３０；ｄ；１）、（７．３２；ｔ；１）、（７．３８；ｔ；１）、（７．３９；ｔ；１）、（７．４５；ｄ；１）、（８．４０；ｓ；１）、（８．８４；ｔ；１）
(2)ＩＲ吸収（ｃｍ^-1）２９６０、１６０２、１５７２、１４８３、１４５８、１３８８、１３１１、１２９２、１１９９、１１４３、１０９３
(3)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
濃度：３．５×１０^-6ｍｏｌ/ｌ
λｍａｘ；５９０ｎｍ、ε；１．９３×１０⁵
(4)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：窒素気流（１００ｍｌ／分）中、昇温速度１０℃／分）
２７０℃；ピークトップ

[製造例２]化合物Ｎｏ．１０の合成
＜ステップ１＞中間体４の合成
窒素置換した反応フラスコに、２−メチルインドール０．６６ｇ（５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム０．４２ｇ（７．５ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０６ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン９．３ｇ及びフェロセンブタノールトシルエステル２．１ｇ（５ｍｍｏｌ）を仕込み、９０℃で８時間攪拌した。室温に冷却し、トルエン８０ｍｌを加えて水層が中性になるまで水洗を行った。硫酸ナトリウムによる脱水、脱溶媒を行い、褐色透明オイルとして目的物である中間体４の１．８ｇ（粗収率９５％）を得た。

＜ステップ２＞化合物Ｎｏ．１０の合成
窒素置換した反応フラスコにステップ１で得られた中間体４の１．８ｇ（４．８ｍｍｏｌ）、ブタノール５．９ｇ、トルエン３．０ｇ及びスクエア酸ジブチルエステル０．２７ｇ（２．４ｍｍｏｌ）を仕込み、生成する水を除去しながら１２０℃で４時間加熱還流した。室温に冷却後、結晶をろ別してトルエンで洗浄し、濃緑色結晶を０．５８ｇ（収率２９％、ＨＰＬＣ純度１００％）得た。得られた濃緑色結晶は、目的物である化合物Ｎｏ．１０であることが確認された。得られた濃緑色結晶についての分析結果を以下に示す。

（分析結果）
(1)¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．６０；ｍ；４）、（１．８３；ｍ；４）、（２．４０；ｍ；４）、（３．２９；ｓ；６）、（４．０２；ｔ；４）、（４．０６；ｓ；１０）、（４．０８；ｄ；４）、（４．１２；ｔ；４）、（７．２１；ｔ；２）、（７．２７；ｔ；２）、（７．３０；ｄ；２）、（９．２０；ｄ；２）
(2)ＩＲ吸収（ｃｍ^-1）
２９２９、１６１０、１５７１、１４８３、１４２６、１３９３、１３３８、１２１０、１１６１、１１３５、１０９９
(3)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
濃度：３．０×１０^-6ｍｏｌ/ｌ
λｍａｘ；５８２ｎｍ、ε；１．６０×１０⁵
(4)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：窒素気流（１００ｍｌ／分）中、昇温速度１０℃／分）
２１９℃；ピークトップ

[製造例３]化合物Ｎｏ．８の合成
＜ステップ１＞中間体５の合成
窒素置換した反応フラスコに、２，３，３−トリメチルインドレニン３．２ｇ（２０ｍｍｏｌ）、１−ヨードプロピルフェロセン７．８ｇ（２２ｍｍｏｌ）及びジメチルアセトアミド１．０ｇを仕込み、１００℃で４時間撹拌した。８０℃に冷却して酢酸エチル３０．８ｇを滴下し、３０分間加熱還流した。室温に冷却し、析出した固体をろ別し、酢酸エチルによる洗浄、乾燥を経て、白色固体として目的物である中間体５の６．４ｇ（収率６３％）を得た。

＜ステップ２＞中間体６の合成
窒素置換した反応フラスコに、ステップ１で得られた中間体５の６．４ｇ（１２ｍｏｌ）及びエタノール１３ｇを仕込み、均一に混合した。トリエチルアミン１．９ｇ（１９ｍｍｏｌ）、続いてスクエア酸ジブチルエステル２．８ｇ（１２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で一晩撹拌した。析出した固体をろ別し、メタノールで洗浄して、乾燥して黄色固体として目的物である中間体６の４．５ｇ（収率６６％）を得た。

＜ステップ３＞中間体７の合成
窒素置換した反応フラスコに、ステップ２で得られた中間体６の４．５ｇ（８．３ｍｍｏｌ）、３５％塩酸０．１５ｇ（４．２ｍｍｏｌ）、酢酸８ｇ及び水８ｇを仕込み、３時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体をろ別して、メタノールで洗浄後乾燥し、緑色結晶として目的物である中間体７の３．７ｇ（収率９３％）を得た。

＜ステップ４＞化合物Ｎｏ．８の合成
窒素置換した反応フラスコにステップ３で得られた中間体７の１．９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）、１−メチルインドール０．５１ｇ（４．３ｍｍｏｌ）及びブタノール６．６ｇを仕込み、８５〜９０℃で７時間撹拌した。室温に冷却後、溶媒を留去し、カラム精製(シリカゲル、アセトン：クロロホルム＝１：９)を行った後、クロロホルム／酢酸ブチル混合溶媒から再結晶を行い、ろ過、酢酸ブチルによる洗浄を経て、緑色固体を１．４ｇ（収率６０％、ＨＰＬＣ純度１００％）得た。得られた緑色固体は、目的物である化合物Ｎｏ．８であることが確認された。得られた緑色固体についての分析結果を以下に示す。

（分析結果）
（１）¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．７７；ｓ；６）、（２．０４；ｍ；２）、（２．４０；ｔ；２）、（３．９２；ｓ；３）、（４．０２；ｔ＋ｔ；４）、（４．０９；ｓ；５）、（４．３５；ｔ；２）、（６．１１；ｓ；１）、（７．２５−７．６７；ａｒｏｍ；８）、（８．３８；ｓ；１）
(２)ＩＲ吸収（ｃｍ^-1）
２９５２、１６１０、１５８１、１４８２、１４４９、１３７６、１３２２、１２５３、１１５６、１１４１、１０９９
(３)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
濃度：３．５×１０^-6ｍｏｌ/ｌ
λｍａｘ；５９０ｎｍ、ε；１．８５×１０⁵
(４)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：１００ｍｌ／分窒素気流中、昇温１０℃／分）
２７３℃；ピークトップ

[製造例４]化合物Ｎｏ．７の合成
窒素置換した反応フラスコに製造例３のステップ３で得られた中間体７の１．８ｇ（３．８ｍｍｏｌ）、５−フルオロインドール０．５１ｇ（３．８ｍｍｏｌ）及びブタノール６．８ｇを仕込み、８５〜９０℃で７時間撹拌した。室温に冷却後、溶媒を留去し、カラム精製(シリカゲル、アセトン：クロロホルム＝１：３)を行った後、クロロホルム／酢酸エチル混合溶媒から再結晶を行い、ろ過、酢酸エチルによる洗浄、乾燥を経て、緑色固体を１．０ｇ（収率４４％、ＨＰＬＣ純度１００％）得た。得られた緑色固体は、目的物である化合物Ｎｏ．７であることが確認された。得られた緑色固体についての分析結果を以下に示す。

（分析結果）
（１）¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ溶媒）
（ピークトップのケミカルシフトｐｐｍ；多重度；プロトン数）
（１．７７；ｓ；６）、（２．０４；ｍ；２）、（２．４１；ｔ；２）、（４．０１；ｔ＋ｔ；４）、（４．１２；ｓ；５）、（４．３５；ｔ；２）、（６．１３；ｓ；１）、（７．０５−７．６９；ａｒｏｍ；７）、（８．３８；ｓ；１）、（１２．３；ｓ；１）
(２)ＩＲ吸収（ｃｍ^-1）
３４４８、２９５５、１６０４、１５７２、１４８３、１４４９、１３８９、１３２１、１２５２、１１７９、１１４１、１０９５
(３)ＵＶ吸収測定（クロロホルム溶媒）
濃度：３．５×１０^-6ｍｏｌ/ｌ
λｍａｘ；５７６ｎｍ、ε；１．５２×１０⁵
(４)分解温度（ＴＧ−ＤＴＡ：１００ｍｌ／分窒素気流中、昇温１０℃／分）
２７５℃；ピークトップ

[評価例１]溶解性評価
上記の製造例１で得た化合物Ｎｏ．１、製造例２で得た化合物Ｎｏ．１０、並びに以下に示す比較化合物１及び２について、２０℃でのメチルエチルケトンへの溶解性を評価した。評価は、シアニン化合物を０．１〜０．３重量％の濃度範囲で、０．０５重量％刻みでメチルエチルケトンに加え、溶解、不溶を観察することにより行った。結果を表１に示す。

[評価例２]耐光性評価
エチルメチルケトンと２，２，３，３−テトラフルオロプロパン−１−オールとの体積比１：１の混合溶媒を用いて、表２に記載のシアニン化合物の１重量％溶液を調製した。これらの溶液を用いて、２０×２０ｍｍのポリカーボネート板上に２０００ｒｐｍ、６０秒でスピンコートを行い試験片をそれぞれ作成した。得られた試験片についてＵＶ吸収スペクトルを測定した後、該試験片に５５０００ルクスの光を照射し、照射前のＵＶ吸収スペクトルのλmaxでの吸光度に対する照射後の吸光度残率が５０％になるまでの時間を測定した。結果を表２に示す。

表２から明らかなように、本発明のシアニン化合物は、優れた耐光性を有している。しかも、特に前記一般式（II）で表される基を有する本発明のシアニン化合物は、表１から明らかなように、溶解性にも優れている。

[実施例１]
下記の配合をプラストミルで２６０℃にて５分間溶融混練した。混練後、直径６ｍｍのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを電気プレスを用いて２５０℃で０．２５ｍｍ厚の薄板に成形した。この薄板を（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが５８９ｎｍで半値巾が２８ｎｍであった。

（配合）
ユーピロンＳ−３０００ １００ｇ
（三菱瓦斯化学（株）製；ポリカーボネート樹脂）
化合物Ｎｏ．１ ０．０１ｇ

[実施例２]
化合物Ｎｏ．１の代わりに化合物Ｎｏ．１０を用いた以外は、実施例１と同一の方法で薄板を成形し測定を行ったところ、λmaxが５８２ｎｍで半値巾が３２ｎｍであった。

[比較例１]
化合物Ｎｏ．１の代わりに下記[化２５]に示す比較化合物Ｎｏ．３を用いた以外は、実施例１と同一の方法で薄板を成形し測定を行ったところ、λmaxが５９６ｎｍで半値巾が６４ｎｍであった。

[実施例３]
下記の配合にてＵＶワニスを作成し、易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに、該ＵＶワニスをバーコーター＃９により塗布した後、８０℃で３０秒乾燥させた。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を１００ｍＪ照射し、硬化膜厚約５ミクロンのフィルムを得た。これを（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが５９０ｎｍで半値巾が２８ｎｍであった。

（配合）
アデカオプトマーＫＲＸ−５７１−６５ １００ｇ
（旭電化工業（株）製ＵＶ硬化樹脂、樹脂分８０重量％）
化合物Ｎｏ．１ ０．５ｇ
メチルエチルケトン ６０ｇ

[実施例４]
化合物Ｎｏ．１の代わりに化合物Ｎｏ．１０を用いた以外は、実施例３と同一の方法でフィルムを作成し測定を行ったところ、λmaxが５８３ｎｍで半値巾が３１ｎｍであった。

[比較例２]
化合物Ｎｏ．１の代わりに比較化合物Ｎｏ．３を用いた以外は、実施例３と同一の方法でフィルムを作成し測定を行ったところ、λmaxが５９６ｎｍで半値巾が６５ｎｍであった。

[実施例５]
下記の配合にてバインダー組成物を作成し、易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、該バインダー組成物をバーコーター＃９により塗布し、８０℃で３０秒乾燥させた。その後、このフィルムを０．９ｍｍ厚アルカリガラス板に１００℃で熱圧着し、ガラス板とＰＥＴフィルムとの間のバインダー層に光吸収性色素を含有するＰＥＴ保護ガラス板を作成した。これについて（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxは５９０ｎｍで半値巾は２８ｎｍであった。

（配合）
アデカアークルズＲ−１０３ １００ｇ
（旭電化工業（株）製アクリル樹脂系バインダー、樹脂分５０重量％）
化合物Ｎｏ．１ ０．１ｇ

[実施例６]
化合物Ｎｏ．１の代わりに化合物Ｎｏ．１０を用いた以外は、実施例５と同一の方法でＰＥＴ保護ガラス板を作成し測定を行ったところ、λmaxは５８２ｎｍで半値巾は３２ｎｍであった。

[比較例３]
化合物Ｎｏ．１の代わりに比較化合物Ｎｏ．３を用いた以外は、実施例５と同一の方法でＰＥＴ保護ガラス板を作成しを行ったところ、λmaxが５９６ｎｍで半値巾が６４ｎｍであった。

比較例１〜３の光学フィルターは、特定の波長（５５０〜６２０ｎｍ）に吸収を有するものの、半値巾が大きく、必要な光まで吸収してしまうおそれがある。これに対し、本発明のシアニン化合物を使用した実施例１〜６の光学フィルターは、特定の波長（５５０〜６２０ｎｍ）にシャープな吸収（半値巾５０ｎｍ以下）を有しており、光学フィルターとしての性能に優れることが明らかである。

[実施例７]
化合物Ｎｏ．１を用い、前記評価例２と同様にして試験片を作成した。この試験片について、薄膜の吸収ＵＶスペクトル及び入射角５°の反射光のＵＶスペクトルを測定したところ、吸収λmaxは６１３ｎｍであり、反射光λmaxは６５０ｎｍであった。

[実施例８]
化合物Ｎｏ．１０を用い、前記評価例２と同様にして試験片を作成した。この試験片について、薄膜の吸収ＵＶスペクトル及び入射角５°の反射光のＵＶスペクトルを測定したところ、吸収λmaxは６１２ｎｍであり、反射光λmaxは６４８ｎｍであった。

光学記録媒体は、反射光の吸収において、使用するレーザ光の波長に近いところで大きい吸収強度を示すものほど好ましい。実施例７及び８の結果から、本発明のシアニン化合物は、ＤＶＤ−Ｒ等の６５０ｎｍのレーザ光を用いる光学記録媒体に用いられる光学記録材料に好適であることが明らかである。

本発明によれば、耐光性及び溶解性に優れ、光学要素として適した新規シアニン化合物を提供できる。また、該シアニン化合物を用いた光学フィルターは、画像表示用光学フィルターとして好適であり、該シアニン化合物を含有してなる光学記録材料は、光学記録媒体の光学記録層の形成に好適である。

Claims (8)

1. 下記一般式（Ｉ）で表されるシアニン化合物。
   

   

   

   

   
2. 上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹及び上記一般式（II）におけるＹ²のどちらか一方が、上記一般式（IV）で表される置換基である請求の範囲第１項記載のシアニン化合物。
3. 上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹及び上記一般式（II）におけるＹ²が、上記一般式（IV）で表される置換基である請求の範囲第１項記載のシアニン化合物。
4. 上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹及び上記一般式（III）におけるＹ³のどちらか一方が、上記一般式（IV）で表される置換基である請求の範囲第１項記載のシアニン化合物。
5. 上記一般式（Ｉ）におけるＹ¹及び上記一般式（III）におけるＹ³が、上記一般式（IV）で表される置換基である請求の範囲第１項記載のシアニン化合物。
6. 請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載のシアニン化合物を含有してなる光学フィルター。
7. 画像表示装置用である請求の範囲第６項に記載の光学フィルター。
8. 基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載のシアニン化合物を含有してなる光学記録材料。