CN101437903B - 化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料 - Google Patents

化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料 Download PDF

Info

Publication number
CN101437903B
CN101437903B CN2007800166946A CN200780016694A CN101437903B CN 101437903 B CN101437903 B CN 101437903B CN 2007800166946 A CN2007800166946 A CN 2007800166946A CN 200780016694 A CN200780016694 A CN 200780016694A CN 101437903 B CN101437903 B CN 101437903B
Authority
CN
China
Prior art keywords
compound
spectral filter
optical recording
carbonatoms
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2007800166946A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101437903A (zh
Inventor
柳泽智史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Nabtesco Corp
Original Assignee
Asahi Denka Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Denka Kogyo KK filed Critical Asahi Denka Kogyo KK
Publication of CN101437903A publication Critical patent/CN101437903A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101437903B publication Critical patent/CN101437903B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/30—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having nitrogen atoms of imino groups quaternised
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/18—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D207/20—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10—Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/14—Radicals substituted by nitrogen atoms, not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/72—Nitrogen atoms
    • C07D213/74—Amino or imino radicals substituted by hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/02—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from diarylmethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
    • C09B23/06—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups three >CH- groups, e.g. carbocyanines
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Abstract

本发明提供一种下述通式(I)表示的化合物，
Figure D2007800166946A00011
式中，环A及环B各自独立地表示可以具有取代基的苯环、萘环或杂环，R1及R2各自独立地表示可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基，R1和R2可以连接形成环，所述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基也可以被—O—或—CH＝CH—取代，Anq-表示q价的阴离子，q为1或2，p表示保持电荷为中性的系数。

Description

化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料
技术领域
本发明涉及由二芳基乙烯衍生的新型化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料。该化合物作为光学元件等有用，尤其是作为图像显示装置用的滤光器中所含的光吸收剂、以及在通过激光进行记录、再生的光学记录介质的光学记录层中使用的光学记录材料中所含的光学记录剂有用。 
背景技术
在450nm～1100nm的范围内具有高强度吸收的化合物、特别是最大吸收(λmax)在480～620nm的化合物通常在DVD±R等光学记录介质的光学记录层或液晶显示装置(LCD)、等离子体显示板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线管显示装置(CRT)、荧光显示管、场致发射型显示器等图像显示装置用的滤光器中被用作光学元件。 
例如，作为图像显示装置中的光学元件的用途，有滤色器的光吸收剂。图像显示装置通过红、蓝、绿三原色的光的组合来显示彩色图像，但是，在显示彩色图像的光中，包含绿和红之间的550～600nm等导致显示质量降低的光，此外，还包含750～1100nm的成为红外遥控的误操作的原因的光。因此，正在使用含有选择性地吸收这些不需要的波长的光的光吸收性化合物(光吸收剂)的滤光器。 
另外，还要求滤光器具有防止荧光灯等外部光线的反射和映入(映り込み)的功能。为了防止反射和映入，滤光器除了具有上述的选择性地吸收不需要的波长的光的功能之外，还需要吸收波长为480～500nm的光。该区域的光接近图像显示所必需的亮线。因此，为了不对图像质量造成影响，要求光吸收剂的光吸收特别陡峭，即要求λmax的半幅值小。 
此外，还要求光吸收剂不会由于光或热等而丧失功能。 
作为含光吸收剂的滤光器，例如，下述专利文献1公开了使用在440～510nm具有最大吸收波长的二吡咯亚甲基金属螯合物的滤光器，下述专利 文献2公开了使用了在440～510nm具有最大吸收波长的卟啉化合物的滤光器。但是，这些滤光器中使用的化合物在吸收波长特性、或与溶剂或者粘合剂树脂的亲和性的方面无法得到令人满意的性能。因此，这些滤光器在480～500nm下无法显示出充分的性能。 
此外，在上述的光学记录介质中，在记录以及再生中使用的半导体激光的波长是，对CD-R而言为750～830nm，对DVD±R而言为620nm～690nm，而且为了实现容量的进一步增加，正在研究使用短波长激光的光盘，例如正在研究使用380～420nm的光作为记录光的光盘。 
在短波长记录用的光学记录介质中，各种化合物被用于光学记录层的形成中。例如，专利文献3中报告了花青类色素，专利文献4中报告了三唑化合物的金属配位化合物，专利文献5中报告了卟啉化合物。但是，这些化合物作为用于形成光学记录层的光学记录材料，其吸收波长特性以及耐光性未必合适。 
专利文献1：日本特开2003-57436号公报 
专利文献2：日本特开2004-45887号公报 
专利文献3：日本特开2001-301333号公报 
专利文献4：日本特开2004-174838号公报 
专利文献5：日本特开2005-59601号公报 
发明内容
因此，本发明的目的是提供吸收波长特性以及耐光性优良的、特别适合作为在图像显示装置用的滤光器以及利用激光的光学记录材料中使用的光学元件的化合物。 
本发明人等经过反复研究，结果发现具有由二芳基乙烯衍生的特定的结构的化合物在吸收波长特性以及耐光性方面优良，通过使用该化合物可以解决上述问题。 
本发明基于上述发现而完成，因此，通过提供下述通式(I)表示的化合物来实现上述目的。
Figure G2007800166946D00031
(式中，环A及环B各自独立地表示可以具有取代基的苯环、萘环或杂环，R1及R2各自独立地表示可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基，R1和R2可以连接形成环，上述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基也可以被—O—或—CH＝CH—取代，Anq-表示q价的阴离子，q为1或2，p表示保持电荷为中性的系数。) 
此外，本发明通过提供下述通式(II)表示的化合物来实现上述目的。 
Figure G2007800166946D00032
(式中，R1、R2、Anq-、q以及p与上述通式(I)相同，R3及R4各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、硝基、氨基、卤原子、氰基或碳原子数为2～20的杂环基，m及n各自独立地为1～5的整数，上述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基也可以被—O—或—CH＝CH—取代。) 
此外，本发明通过提供下述通式(III)表示的化合物来实现上述目的。
Figure G2007800166946D00041
(式中，R1、R2、Anq-、q以及p与上述通式(I)相同，R11及R12各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、硝基、氨基、卤原子、氰基或碳原子数为2～20的杂环基，R13及R14各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或下述通式(IV)表示的取代基，s及t各自独立地为1～5的数，上述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基也可以被—O—或—CH＝CH—取代。) 
Figure G2007800166946D00042
(式中，Ra～Ri各自独立地表示氢原子、羟基或碳原子数为1～4的烷基，该烷基中的亚甲基也可以被—O—或—CO—取代，Z表示直接键合或可以具有取代基的碳原子数为1～8的亚烷基，该亚烷基中的亚甲基也可以被—O—、—S—、—CO—、—COO—、—OCO—、—SO2—、—NH—、—CONH—、—NHCO—、—N＝CH—或—CH＝CH—取代，M表示Fe、Co、Ni、Ti、Cu、Zn、Zr、Cr、Mo、Os、Mn、Ru、Sn、Pd、Rh、Pt或Ir。) 
此外，本发明提供一种滤光器，其特征在于，该滤光器含有至少一种 上述化合物，由此实现了上述目的。 
此外，本发明提供一种光学记录材料，其特征在于，该光学记录材料含有至少一种上述化合物，由此实现了上述目的。 
此外，本发明提供一种光学记录介质，其特征在于，在基体上具有由上述光学记录材料形成的光学记录层，由此实现了上述目的。 
具体实施方式
下面，基于优选的实施方式对本发明的化合物、以及含有该化合物而形成的滤光器及光学记录材料进行详细的说明。 
首先，说明上述通式(I)表示的本发明的化合物。 
作为上述通式(I)中的环A以及环B表示的可以具有取代基的杂环，没有特别的限定，可以使用四氢吡喃环、吡喃环、呋喃环、噻吩环、吡咯环、苯并呋喃环、苯并噻吩环、吲哚环、假吲哚环、哌啶环、哌嗪环、吡咯烷环、吗啉环、硫代吗啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、三嗪环、喹啉环、异喹啉环、咪唑环、噁唑环、咪唑烷环、吡唑烷环、噁唑烷环、异噁唑烷环、异噻唑烷等，这些环也可以与其它的环稠合，或者可以被取代。 
作为上述通式(I)中的R1以及R2表示的可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基，可以举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、环己基、环己基甲基、环己基乙基、庚基、异庚基、叔庚基、正辛基、异辛基、叔辛基、2-乙基己基等。 
作为上述通式(I)中的R1与R2连接而成的环结构，可以举出哌啶环、哌嗪环、吡咯烷环、吗啉环、硫代吗啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、三嗪环、喹啉环、异喹啉环、咪唑环、噁唑环、咪唑烷环、吡唑烷环、异噁唑烷环、异噻唑烷环等，这些环可以与其它环稠合，或者可以被取代。 
环A以及环B表示的苯环、萘环及杂环、以及R1与R2表示的碳原子数为1～8的烷基均可以具有取代基。作为该取代基，可以举出以下基团。另外，R1及R2为上述的碳原子数为1～8的烷基等含碳原子的基团，且这 些基团在为以下的取代基中也具有含碳原子的取代基的情况下，包括该取代基的R1及R2的总碳原子数满足规定的范围。 
作为上述取代基，可以列举出例如甲基、乙基、丙基、异丙基、环丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、环戊基、己基、2-己基、3-己基、环己基、二环己基、1-甲基环己基、庚基、2-庚基、3-庚基、异庚基、叔庚基、正辛基、异辛基、叔辛基、2-乙基己基、壬基、异壬基、癸基等烷基；甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异丁氧基、戊氧基、异戊氧基、叔戊氧基、己氧基、环己氧基、庚氧基、异庚氧基、叔庚氧基、正辛氧基、异辛氧基、叔辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基等烷氧基；甲硫基、乙硫基、丙硫基、异丙硫基、丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、异丁硫基、戊硫基、异戊硫基、叔戊硫基、己硫基、环己硫基、庚硫基、异庚硫基、叔庚硫基、正辛硫基、异辛硫基、叔辛硫基、2-乙基己基硫基等烷基硫基；乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、2-丙烯基、1-甲基-3-丙烯基、3-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基、异丁烯基、3-戊烯基、4-己烯基、环己烯基、二环己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五烯基、二十烯基、二十三烯基等链烯基；苄基、苯乙基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、肉桂基等芳烷基；苯基、萘基等芳基；苯氧基、萘氧基等芳氧基；苯硫基、萘硫基等芳硫基；吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基(furyl)、呋喃基(furanyl)、苯并呋喃基(benzofuranyl)、噻嗯基、噻吩基、苯并噻吩基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、噁唑基、苯并噁唑基、异噻唑基、异噁唑基、吲哚基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2，4-二氧代咪唑烷-3-基、2，4-二氧代噁唑烷-3-基等杂环基；氟、氯、溴、碘等卤原子；乙酰基、2-氯代乙酰基、丙酰基、辛酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯基羰基(苯甲酰基)、邻苯二甲酰基、4-三氟甲基苯甲酰基、新戊酰基、水杨酸酰基、乙酰基(oxaloyl)、十八烷酰基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基、氨基甲酰基等酰基；乙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基；氨基、乙基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、丁基氨基、环戊基氨基、2-乙基己基氨基、十二烷基氨基、苯胺基、氯代苯基氨基、甲苯氨基、茴香氨基、N-甲基-苯 胺基、二苯基氨基、萘基氨基、2-吡啶基氨基、甲氧羰基氨基、苯氧羰基氨基、乙酰胺基、苯甲酰基氨基、甲酰氨基、新戊酰氨基、月桂酰氨基、氨基甲酰氨基、N，N-二甲基氨基羰基氨基、N，N-二乙基氨基羰基氨基、吗啉基羰基氨基、甲氧基羰基氨基、乙氧基羰基氨基、叔丁氧基羰基氨基、正十八烷氧基羰基氨基、N-甲基-甲氧基羰基氨基、苯氧基羰基氨基、氨磺酰基氨基、N，N-二甲基氨基磺酰基氨基、甲基磺酰氨基、丁基磺酰氨基、苯基磺酰氨基等取代氨基；磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基等，这些基团也可以进一步被取代。另外，羧基和磺基也可以形成盐。 
上述通式(1)中，作为由Anq-表示的阴离子，其中，例如作为一价的阴离子，可以举出氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子、氟阴离子等卤素阴离子；高氯酸阴离子、氯酸阴离子、硫氰酸阴离子、六氟化磷酸阴离子、六氟化锑阴离子、四氟化硼阴离子等无机阴离子；苯磺酸阴离子、甲苯磺酸阴离子、三氟甲磺酸阴离子、联苯胺-4-磺酸阴离子、2-氨基-4-甲基-5-氯代苯磺酸阴离子、2-氨基-5-硝基苯磺酸阴离子、在日本特开平8-253705号公报、特表2004-503379号公报、特开2005-336150号公报、国际公开2006/28006号公报等中记载的磺酸阴离子等有机磺酸阴离子；辛基磷酸阴离子、十二烷基磷酸阴离子、十八烷基磷酸阴离子、苯基磷酸阴离子、壬基苯基磷酸阴离子、2，2’-亚甲基双(4，6-二叔丁基苯基)膦酸阴离子等有机磷酸类阴离子；双三氟甲基磺酰亚胺阴离子、双全氟丁烷磺酰亚胺阴离子、全氟-4-乙基环己烷磺酸盐阴离子、四(五氟苯基)硼酸阴离子、四(五氟苯基)镓阴离子、三(氟代烷基磺酰基)碳负离子、二苯甲酰基酒石酸阴离子等；作为二价的阴离子，例如可以举出苯二磺酸阴离子、萘二磺酸阴离子等。此外，根据需要也可以使用具有使处于激发态的活性分子去激发(淬灭)功能的淬灭剂阴离子、和在环戊二烯基环上具有羧基、膦酸基、磺酸基等阴离子性基团的二茂铁、二茂钌等金属茂化合物阴离子等。 
作为上述淬灭剂阴离子，例如可以举出下述通式(A)、(B)或下述通式(C)、(D)表示的、在日本特开昭60-234892号公报、日本特开平5-43814号公报、特开平5-305770号公报、特开平6-239028号公报、特开平9-309886号公报、特开平9-323478号公报、特开平10-45767号公报、特开平11-208118 号公报、特开2000-168237号公报、特开2002-201373号公报、特开2002-206061号公报、特开2005-297407号公报、特公平7-96334号公报、国际公开98/29257号公报等中记载的阴离子。 
Figure G2007800166946D00081
(式中，M表示Fe、Co、Ni、Ti、Cu、Zn、Zr、Cr、Mo、Os、Mn、Ru、Sn、Pd、Rh、Pt或Ir，R5及R6表示卤原子、碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为6～30的芳基或-SO2-G基，G表示可以被烷基、卤原子取代的芳基、二烷基氨基、二芳基氨基、哌啶基或吗啉基，a及b各自独立地表示0～4的数。另外，R7、R8、R9及R10各自独立地表示烷基、烷基苯基、烷氧基苯基或卤代苯基。) 
在上述通式(I)表示的化合物中，由下述通式(II)或(III)表示的化合物由于制备成本低、且特别适合形成吸收波长特性为380～420nm的短波长用激光用的光学记录介质的光学记录层，因此优选。 
(式中，R1、R2、Anq-、q以及p与上述通式(I)相同，R3及R4各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、硝基、氨基、卤原子、氰基或碳原子数为2～20的杂环基，m及n各自独立地为1～5的数，上述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基可以被—O—或—CH＝CH—取代。) 
Figure G2007800166946D00092
(式中，R1、R2、Anq-、q以及p与上述通式(I)相同，R11及R12各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基、可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基、硝基、氨基、卤原子、氰基或碳原子数为2～20的杂环基，R13及R14各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或下述通式(IV)表示的取代基， s及t各自独立地为1～5的数，上述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基可以被—O—或—CH＝CH—取代。) 
Figure G2007800166946D00101
(式中，Ra～Ri各自独立地表示氢原子、羟基或碳原子数为1～4的烷基，该烷基中的亚甲基可以被—O—或—CO—取代，Z表示直接键合或可以具有取代基的碳原子数为1～8的亚烷基，该亚烷基中的亚甲基可以被—O—、—S—、—CO—、—COO—、—OCO—、—SO2—、—NH—、—CONH—、—NHCO—、—N＝CH—或—CH＝CH—取代，M表示Fe、Co、Ni、Ti、Cu、Zn、Zr、Cr、Mo、Os、Mn、Ru、Sn、Pd、Rh、Pt或Ir。) 
作为由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11、R12、R13及R14表示的可以具有取代基的碳原子数为1～8的烷基，可以举出作为上述通式(I)中的R3及R4所例示的基团。作为由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11、R12、R13及R14表示的可以具有取代基的碳原子数为6～20的芳基，可以举出苯基、萘基、蒽-1-基、菲-1-基等；作为由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11、R12、R13及R14表示的可以具有取代基的碳原子数为7～20的芳烷基，可以举出苄基、苯乙基、2-苯基丙烷、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、肉桂基等。 
作为由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11及R12表示的卤原子，可以举出氟、氯、溴、碘等。作为由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11及R12表示的碳原子数为2～20的杂环基，可以举出吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三 嗪基、吡咯基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基(furyl)、呋喃基(furanyl)、苯并呋喃基(benzofuranyl)、噻嗯基、噻吩基、苯并噻吩基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、噁唑基、苯并噁唑基、异噻唑基、异噁唑基、吲哚基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2，4-二氧代咪唑烷-3-基、2，4-二氧代噁唑烷-3-基等。 
作为由上述通式(IV)中的Ra～Ri表示的碳原子数为1～4的烷基，可以举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基等；作为该烷基中的亚甲基被—O—取代的基团，可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、甲氧基甲基、乙氧基甲基、2-甲氧基乙基等；作为该烷基中的亚甲基被—CO—取代的基团，可以举出乙酰基、1-羰基乙基、乙酰基甲基、1-羰基丙基、2-氧代丁基、2-乙酰基乙基、1-羰基异丙基等。作为上述通式(IV)中的Z表示的可以具有取代基的碳原子数为1～8的亚烷基，可以举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、甲基亚乙基、亚丁基、1-甲基亚丙基、2-甲基亚丙基、1，2-二甲基亚丙基、1，3-二甲基亚丙基、1-甲基亚丁基、2-甲基亚丁基、3-甲基亚丁基、4-甲基亚丁基、2，4-二甲基亚丁基、1，3-二甲基亚丁基、亚戊基、亚己基、亚庚基、亚辛基、乙烷-1，1-二基、丙烷-2，2-二基等；作为该亚烷基中的亚甲基被—O—、—S—、—CO—、—COO—、—OCO—、—SO2—、—NH—、—CONH—、—NHCO—、—N＝CH—或—CH＝CH—取代的基团，可以举出亚甲基氧基、亚乙基氧基、氧代亚甲基、硫代亚甲基、羰基亚甲基、羰基氧基亚甲基、亚甲基羰基氧基、磺酰基亚甲基、氨基亚甲基、乙酰基氨基、亚乙基羧基酰胺基、乙烷酰亚胺基、亚乙烯基、亚丙烯基等。 
由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11、R12、R13及R14表示的碳原子数为1～8的烷基、由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11、R12、R13及R14表示的碳原子数为6～20的芳基、由上述通式(III)中的R11、R12、R13及R14表示的碳原子数为7～20的芳烷基、由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11以及R12表示的氨基、由上述通式(II)中的R3及R4以及上述通式(III)中的R11以及R12表示的杂环基、由上述通式(IV)中的Z表示的碳原子数为1～8的亚烷基均可以具有取代基。作为该取代基，可以举出上述例示的基团。
作为本发明的由上述通式(I)表示的化合物的具体例子，可以举出下述化合物No.1～16。另外，在以下示例中，用省略了阴离子的阳离子来表示。在本发明的化合物中，双键也可以采用共振结构。 
化合物No.1      化合物No.2       化合物No.3 
化合物No.4      化合物No.5       化合物No.6 
化合物No.7      化合物No.8       化合物No.9 
化合物No.10     化合物No.11      化合物No.12 
Figure G2007800166946D00124
化合物No.13           化合物No.14 
化合物No.15           化合物No.16 
Figure G2007800166946D00132
由上述通式(I)表示的化合物的制备方法没有特别的限定，可以通过利用了公知的一般的反应的方法来制备。例如，如下述[化学式13]所示的反应式所示，该化合物通过如下方法来合成：使酮化合物和甲基溴化镁进行格利雅(Grignard)反应，然后脱水得到乙烯化合物，使得到的乙烯化合物与甲酰胺衍生物反应。 
[化学式13] 
Figure G2007800166946D00133
(式中，环A、环B、R1、R2、Anq-、q以及p与上述通式(I)相同。) 
上述本发明的化合物适合作为对450nm～1100nm的范围的光的光学元件、尤其适合作为对480nm～620nm的范围的光的光学元件。该“光学元件”是指通过吸收特定的光而发挥功能的元件，具体地可以举出光吸收 剂、光学记录剂、光敏剂等。例如，光学记录剂可以用于DVD±R等光学记录介质的光学记录层，光吸收剂可以用于液晶显示装置(LCD)、等离子体显示板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线管显示装置(CRT)、荧光显示管、场致发射型显示器等图像显示装置用、或者分析装置用、半导体装置制造用、天文观测用、光通信用等的滤光器。 
下面说明含有至少一种本发明的上述通式(I)表示的化合物的本发明的滤光器。 
本发明的滤光器中含有的本发明的化合物的用量是，特别是在用于图像显示装置中时，每单位面积的滤光器通常为1～1000mg/m2，优选为5～100mg/m2。用量不满1mg/m2时，无法充分发挥光吸收效果，用量超过1000mg/m2时，滤光器的色调过强，存在显示质量等降低的可能，而且还存在亮度降低的可能。 
本发明的滤光器用于图像显示装置时，通常设置在显示器的前面。例如，本发明的滤光器可以直接贴附在显示器的表面，在显示器的前面设置有前面板的情况下，也可以将滤光器贴附在前面板的表侧(外侧)或内侧(显示器侧)上。 
用作图像显示装置时，为了调整色调等，在本发明的滤光器中可以使用除本发明的化合物之外的光吸收剂，或者为了防止外部光线的反射和映入，也可以使用除本发明的化合物之外的对应于480～500nm的光吸收剂。此外，在图像显示装置为等离子体显示器的情况下，也可以使用对应于750～1100nm的近红外线吸收剂。 
作为色调调整用的上述光吸收剂，作为为了除去550～600nm的橙光而使用的光吸收剂，可以举出三次甲基吲哚鎓盐化合物、三次甲基苯并噁唑鎓盐化合物、三次甲基苯并噻唑鎓盐化合物等三次甲基花青衍生物；五次甲基噁唑鎓盐化合物、五次甲基噻唑鎓盐化合物等五次甲基花青衍生物；方酸内鎓盐色素衍生物；偶氮甲碱色素衍生物；呫吨色素衍生物；偶氮色素衍生物；吡咯亚甲基色素衍生物；偶氮金属配位化合物衍生物；若丹明色素衍生物；酞菁衍生物；卟啉衍生物；二吡咯亚甲基金属螯合物等。 
此外，作为防止外部光线的映入用的对应于480～500nm的上述光吸收剂，可以举出三次甲基吲哚鎓盐化合物、三次甲基噁唑鎓盐化合物、三 次甲基噻唑鎓盐化合物、亚吲哚基三次甲基噻唑鎓盐化合物等三次甲基花青衍生物；酞菁衍生物；萘菁(naphthalo cyanine)衍生物；卟啉衍生物；二吡咯亚甲基金属螯合物等。 
另外，作为用于防止红外遥控的误操作的对应于750～1100nm的近红外线吸收剂，可以举出二亚胺鎓盐(bisiminium)衍生物；五次甲基苯并吲哚鎓盐化合物、五次甲基苯并噁唑鎓盐化合物、五次甲基苯并噻唑鎓盐化合物等五次甲基花青衍生物；七次甲基吲哚鎓盐化合物、七次甲基苯并吲哚鎓盐化合物、七次甲基噁唑鎓盐化合物、七次甲基苯并噁唑鎓盐化合物、七次甲基噻唑鎓盐化合物、七次甲基苯并噻唑鎓盐化合物等七次甲基花青衍生物；方酸内鎓盐衍生物；二(二苯乙烯二硫醇盐基)镍化合物、二(苯二硫醇盐基)镍化合物、二(樟脑二硫醇盐基)镍化合物等镍配位化合物；方酸内鎓盐衍生物；偶氮色素衍生物；酞菁衍生物；卟啉衍生物；二吡咯亚甲基金属螯合物等。 
本发明的滤光器中，上述用于调整色调的光吸收剂、对应于480～500nm的光吸收剂、以及近红外线吸收剂可以在与本发明的化合物的同一层中含有，也可以在其它层中含有。相对于每单位面积的通常的滤光器，这些光吸收剂的用量分别为1～1000mg/m2的范围，优选为5～100mg/m2。 
作为本发明的滤光器的代表结构，可以举出根据需要在透明支撑体上设置底涂层、防反射层、硬涂层、润滑层等各层的结构。作为使得本发明的滤光器中含有本发明的化合物和作为除本发明的化合物之外的色素化合物的光吸收剂、各种稳定剂的任意成分的方法，可以举出例如：(1)在透明支撑体或任意的各层中含有的方法；(2)在透明支撑体或任意的各层上涂布的方法；(3)在选自透明支撑体和任意的各层中的任意的相邻两者之间的粘接剂层中含有的方法；(4)与任意的各层分开地设置含有本发明的化合物等光吸收剂等的光吸收层的方法。优选通过上述(3)的方法使得粘接剂层中含有本发明的化合物、或者通过上述(4)的方法使得光吸收材料中含有本发明的化合物。 
作为上述透明支撑体的材料，可以举出例如玻璃等无机材料；二乙酰基纤维素、三乙酰基纤维素(TAC)、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰基丙酰基纤维素、硝基纤维素等纤维素酯；聚酰胺；聚碳酸酯；聚对苯二 甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚(1，4-环己烷二亚甲基对苯二甲酸酯)、聚亚乙基-1，2-二苯氧基乙烷-4，4’-二羧酸酯、聚对苯二甲酸丁二酯等聚酯；聚苯乙烯；聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烃；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类树脂；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚醚酰亚胺；聚氧化乙烯、降冰片烯树脂等高分子材料。透明支撑体的透过率优选为80％以上，更优选为86％以上。雾度优选为2％以下，更优选为1％以下。折射率优选为1.45～1.70。 
在上述透明支撑体中可以添加红外线吸收剂、紫外线吸收剂、酚类、磷类等抗氧化剂、阻燃剂、润滑剂、防静电剂、无机微粒等。此外，在上述透明支撑体上还可以实施各种表面处理。 
作为上述无机微粒，可以举出例如二氧化硅、二氧化钛、硫酸钡、碳酸钙、滑石、高岭土等。 
作为上述各种表面处理，可以举出例如化学处理、机械处理、电晕放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、高频处理、辉光放电处理、活性等离子体处理、激光处理、混酸处理、臭氧氧化处理等。 
在设置含有光吸收剂的光吸收层时，上述底涂层为用于透明支撑体和光吸收层之间的层。上述底涂层形成为含玻璃化转变温度为—60～60℃的聚合物的层、光吸收层侧的表面为粗糙面的层、或者含有与光吸收层的聚合物具有亲和性的聚合物的层。此外，底涂层可以设置在未设置光吸收层的透明支撑体的面上，用于改善透明支撑体和其上设置的层(例如，防反射层、硬涂层)的粘接力，也可以改善用于粘接滤光器和图像显示装置的粘接剂与滤光器的亲和性。底涂层的厚度优选为2nm～20μm，更优选为5nm～5μm，进一步优选为20nm～2μm，更进一步优选为50nm～1μm，最优选为80nm～300nm。含有玻璃化转变温度为—60～60℃的聚合物的底涂层通过聚合物的粘着性粘接透明支撑体和过滤层。玻璃转移温度为—60～60℃的聚合物可以通过例如氯乙烯、偏氯乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯、氯丁橡胶、苯乙烯、氯丁二烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈、或甲基乙烯基醚的聚合或它们的共聚来得到。玻璃化转变温度优选为50℃以下，更优选为40℃以下，进一步优选为30℃以下，更进一步优选为25℃以下，最优选为20℃以下。底涂层在25℃下的弹性模量优选为1～1000MPa，更 优选为5～800MPa，最优选为10～500MPa。光吸收层的表面为粗糙面的底涂层通过在粗糙面上形成光吸收层，由此将透明支撑体和光吸收层粘接。光吸收层的表面为粗糙面的底涂层可以通过聚合物胶乳的涂布而容易地形成。胶乳的平均粒径优选为0.02～3μm，更优选为0.05～1μm。作为与光吸收层的粘合剂聚合物具有亲和性的聚合物，可以举出丙烯酸树脂、纤维素衍生物、明胶、酪蛋白、淀粉、聚乙烯醇、可溶性尼龙以及高分子胶乳等。此外，在本发明的滤光器中也可以设置两层以上的底涂层。底涂层中也可以添加使透明支撑体溶胀的溶剂、消光剂、表面活性剂、防静电剂、涂布助剂、硬膜剂等。 
在上述防反射层中，低折射率层是必须的。低折射率层的折射率比上述透明支撑体的折射率低。低折射率层的折射率优选为1.20～1.55，更优选为1.30～1.50。低折射率层的厚度优选为50～400nm，更优选为50～200nm。低折射率层可以形成为由折射率低的含氟聚合物形成的层(记载在日本特开昭57-34526号、日本特开平3-130103号、特开平6-115023号、特开平8-313702号、特开平7-168004号的各公报中)、由溶胶凝胶法得到的层(记载在日本特开平5-208811号、特开平6-299091号、特开平7-168003号的各公报中)、或者含微粒的层(记载在日本特公昭60-59250号、特开平5-13021号、特开平6-56478号、特开平7-92306号、特开平9-288201号的各公报中)。在含微粒的层中，作为微粒间或微粒内的微孔，可以在低折射率层中形成空隙。含微粒的层优选具有3～50体积％的空隙率，更优选具有5～35体积％的空隙率。 
为了防止宽波长区域的反射，在上述防反射层中，除了低折射率层之外，优选层叠折射率高的层(中、高折射率层)。高折射率层的折射率优选为1.65～2.40，更优选为1.70～2.20。中折射率层的折射率调整为低折射率层的折射率和高折射率层的折射率中间的值。中折射率层的折射率优选为1.50～1.90，更优选为1.55～1.70。中、高折射率层的厚度优选为5nm～100μm，更优选为10nm～10μm，最优选为30nm～1μm。中、高折射率层的雾度优选为5％以下，更优选为3％以下，最优选为1％以下。中、高折射率层可以使用具有较高的折射率的聚合物粘合剂形成。作为折射率高的聚合物，可以举出聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、三聚氰胺树脂、 酚醛树脂、环氧树脂、由环状(脂环式或芳香族)异氰酸酯与多元醇反应得到的聚氨酯等。其它的具有环状(芳香族、杂环式、脂环式)基团的聚合物和具有除氟之外的卤原子作为取代基的聚合物也具有高折射率。也可以使用通过引入双键并能使自由基固化的单体的聚合反应而形成的聚合物。 
为了得到更高的折射率，也可以在上述聚合物粘合剂中分散无机微粒。无机微粒的折射率优选为1.80～2.80。无机微粒优选由金属的氧化物或硫化物形成。作为金属的氧化物或硫化物，可以举出氧化钛(例如金红石、金红石/锐钛矿混晶、锐钛矿、无定形结构)、氧化锡、氧化铟、氧化锌、氧化锆、硫化锌等。其中，特别优选为氧化钛、氧化锡以及氧化铟。无机微粒将这些金属的氧化物或硫化物作为主要成分，还可以含有其它元素。主要成分是指构成粒子的成分中含量(重量％)最高的成分。作为其它元素，可以举出Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S等。也可以使用具有覆膜成形性且能分散到溶剂中或本身为液态的无机材料例如可以是各种元素的醇盐、有机酸的盐、与配位性化合物结合的配位化合物(例如螯合物)、活性无机聚合物来形成中、高折射率层。 
在上述防反射层的表面可以赋予抗眩光功能(使入射光在表面散射，从而防止膜周围的景色转移到膜表面的功能)。例如，在透明薄膜的表面形成微细的凹凸，从而在其表面形成防反射层，或者在形成防反射层之后，通过压花辊在表面形成凹凸，从而得到具有抗眩光功能的防反射层。具有抗眩光功能的防反射层一般具有3～30％的雾度。 
上述硬涂层具有比上述透明支撑体的硬度更高的硬度。硬涂层优选含有交联的聚合物。硬涂层可以用丙烯酸类、聚氨酯类、环氧类的聚合物、低聚物或单体(例如紫外线固化型树脂)等来形成。还可以由二氧化硅类材料形成硬涂层。 
上述防反射层(低折射率层)的表面也可以形成润滑层。润滑层具有对低折射率层表面赋予润滑性、改善耐损伤性的功能。润滑层可以使用聚有机硅氧烷(例如硅油)、天然蜡、石油蜡、高级脂肪酸金属盐、含氟类润滑剂或其衍生物来形成。润滑剂的厚度优选为2～20nm。
在滤光器中含有本发明的化合物时，在采用上述“(3)在选自透明支撑体以及任意的各层中的任意相邻两者之间的粘接剂层中含有的方法”的情况下，可以在粘接剂中含有本发明的化合物等之后，使用该粘接剂，将上述透明支撑体以及任意各层中的相邻两者粘接。作为该粘接剂，可以使用硅酮类、聚氨酯类、丙烯酸类、聚乙烯醇缩丁醛类、乙烯—乙酸乙烯酯类等公知的层压玻璃用透明粘接剂。此外，使用该粘接剂时，可以根据需要使用金属螯合物类、异氰酸酯类、环氧类等交联剂作为固化剂。此外，粘接剂层的厚度优选为2～400μm。 
在采用上述“(4)与任意的各层分开地设置含有本发明的化合物等光吸收剂的光吸收层的方法”时，可以直接使用本发明的化合物形成光吸收层，也可以分散到粘合剂中而形成光吸收层。作为该粘合剂，例如可以使用明胶、酪蛋白、淀粉、纤维素衍生物、海藻酸等天然高分子材料、或者聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚氯乙烯、苯乙烯—丁二烯共聚物、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺等合成高分子材料。 
使用上述粘合剂时，也可以同时使用有机溶剂，作为该有机溶剂，没有特别的限定，可以适当使用公知的各种溶剂，例如可以举出异丙醇等醇类；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二乙二醇丁醚等醚醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、二丙酮醇等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基乙酯等酯类；丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等丙烯酸酯类；2，2，3，3-四氟丙醇等氟代醇类；己烷、苯、甲苯、二甲苯等烃类；二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿等氯代烃类等。这些有机溶剂可以单独使用，或者混合使用。 
此外，上述的底涂层、防反射层、硬涂层、润滑层、光吸收层等可以通过常规的涂布方法形成。作为涂布方法，可以使用浸涂法、气刀涂布法、帘幕涂布法、辊涂法、环棒涂布(wire bar coat)法、凹版涂布法、使用给料器的挤出式涂布法(记载在美国专利第2681294号说明书中)等。也可以通过同时涂布形成两层以上。关于同时涂布，记载在美国专利第2761791号、美国专利第2941898号、美国专利第3508947号、美国专利第3526528号的各说明书和原崎勇次著《コ—テイング工学》253页(1973年朝仓书 店发行)中。 
下面对在基体上形成有光学记录层的光学记录介质的该光学记录层中使用的、含有本发明的化合物而形成的本发明的光学记录材料进行说明。 
上述通式(I)表示的本发明的化合物对于在通过将信息通过激光等赋予为热信息图案来进行记录的光学介质的光学记录层中使用的光学记录材料也有用，特别适合用于DVD—R、DVD+R等光学记录层中使用的光学记录材料。另外，本发明的光学记录材料是为了形成光学记录层而使用的材料，是由上述通式(I)表示的本发明的化合物以及其与后述的有机溶剂和各种化合物的混合物。 
对于使用含有由上述通式(I)表示的化合物的本发明的光学记录材料来形成光学记录介质的光学记录层的方法，没有特别的限定。一般可以使用湿式涂布法，也可以使用蒸镀法、溅射法等，所述湿式涂布法是在有机溶剂中溶解本发明的化合物以及根据需要的后述的各种化合物，制作溶液状的光学记录材料，并将该光学记录材料通过旋转涂布、喷涂、浸涂等涂布到基体上；所述有机溶剂可以是甲醇、乙醇等低级醇类；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二乙二醇丁醚等醚醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、二丙酮醇等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基乙酯等酯类；丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等丙烯酸酯类；2，2，3，3-四氟丙醇等氟代醇类；苯、甲苯、二甲苯等烃类；二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿等氯代烃类等。在使用上述有机溶剂时，其用量优选为，使本发明的光学记录材料中的上述通式(I)表示化合物的含量达到0.1～10质量％的量。 
上述光学记录层形成为薄膜，其厚度通常为0.001～10μm，优选为0.01～5μm的范围。 
此外，在本发明的光学记录材料中，上述通式(I)表示的化合物的含量为，在本发明的光学记录材料所含有的固体成分中优选为10～100质量％。上述光学记录层优选形成为在光学记录层中含有50～100质量％的由上述通式(I)表示的化合物，为了形成这样的化合物含量的光学记录层，以本发明的光学记录材料中所含的固体成分为基准，本发明的光学材料更优选含有50～100质量％的由上述通式(I)表示的化合物。 
本发明的光学记录材料中所含的上述固体成分为从该光学记录材料中 除去有机溶剂等固体成分之外的成分，在上述光学记录材料中，该固体成分的含量优选为0.01～100质量％，更优选为0.1～10质量％。 
本发明的光学记录材料除了本发明的化合物之外，根据需要还可以含有：偶氮类化合物、酞菁类化合物、氧杂菁(oxonol)类化合物、方酸内鎓盐类化合物、吲哚类化合物、苯乙烯类化合物、卟吩类化合物、甘菊环型鎓盐(azulenium)类化合物、克酮酸次甲酯(chroconicmethine)类化合物、吡喃鎓盐类化合物、硫代吡喃鎓盐类化合物、三芳基甲烷类化合物、联苯基甲烷类化合物、四氢胆碱类化合物、靛酚类化合物、蒽醌类化合物、萘醌类化合物、呫吨类化合物、噻嗪类化合物、吖啶类化合物、噁嗪类化合物、螺吡喃类化合物、芴类化合物、若丹明类化合物等通常用于光学记录层的化合物；聚乙烯、聚酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯等树脂类；表面活性剂；防静电剂；润滑剂；阻燃剂；受阻胺等自由基捕获剂；二茂铁衍生物等凹点(pit)形成促进剂；分散剂；抗氧化剂；交联剂；耐光性赋予剂等。另外，本发明的光学记录材料也可以含有作为单态氧等的淬灭剂的芳香族亚硝基化合物、铵鎓盐(aminium)化合物、亚胺鎓盐化合物(iminium)、二亚胺鎓盐化合物、过渡金属螯合物等。在本发明的光学记录材料中，这些各种化合物在本发明的光学记录材料中所含的固体成分中以0～50质量％的范围的量使用。 
设置这种光学记录层的上述基体的材质相对于写入(记录)光以及读取(再生)光实质上为透明的材料即可，没有特别的限定，例如可以使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯等树脂、玻璃等。此外，基体的形状根据用途可以使用条状、筒状、带状、盘状等任意的形状。 
此外，也可以通过蒸镀法或溅射法使用金、银、铝、铜等在上述光学记录层上形成反射膜，也可以用丙烯酸树脂、紫外线固化性树脂等形成保护层。 
实施例 
下面，通过制造例以及实施例对本发明进行更详细的说明。但是，本发明并不受以下实施例等的任何限制。 
下述制造例1～3表示作为用于获得由上述通式(I)表示的化合物的 原料的乙烯化合物的制造例，实施例1～7表示由上述通式(I)表示的化合物的制造例。实施例8～15表示使用了实施例1以及3得到的本发明的化合物的本发明的滤光器的制作例。 
此外，下述实施例16～22表示使用了实施例1～7得到的本发明的化合物的本发明的光学记录材料以及光学记录介质的实施例；比较例1表示使用了与本发明的化合物不同的结构的化合物的光学记录材料以及光学记录介质的例子。此外，下述评价例1中，对实施例2、5、6以及7得到的本发明的化合物以及比较化合物进行了耐光性的评价，下述评价例2中，对实施例16～20得到的光学记录介质进行了是否适合利用短波长激光的记录以及再生的评价。 
[制造例1～3]乙烯化合物的制造 
采用如下所示的合成方法，合成乙烯化合物1(双(N，N-二乙基氨基苯基)乙烯)、乙烯化合物2(双(甲氧基苯基)乙烯)、和乙烯化合物3(双(N-甲基吲哚基)乙烯)。通过1H-NMR分析来鉴定得到的化合物(参照[表1])。 
(合成例) 
将49.9mmol的酮化合物溶解到40g的甲苯中，加入含64.4mmol甲基溴化镁的1.0mol/l的四氢呋喃溶液，并加热回流1小时。滴加17g乙酸和17g水的混合物，再加热回流1小时。冷却到室温后，进行油水分离。用无水硫酸镁干燥有机层，蒸馏除去溶剂，通过再结晶精制残留物，得到作为目标物的乙烯化合物。 
[表1] 
  
  乙烯化合物 1H-NMR(DMS0-d6)
制造例1 乙烯化合物1 7.25(d，4H，J＝8.8Hz).6.62(d，4H，J＝8.8Hz)，5.14(s，2H)，3.34(d，8H，J＝7.1Hz)，1.15(1，12H，J＝7.1Hz)                     
制造例2 乙烯化合物2 7.27(d，4H，J＝8.3Hz)，6.86(d，4H，J＝8.3Hz)，5.29(s，2H)，3.82(s.6H)                                                         
制造例3        乙烯化合物3            7.76(d，2H，J＝8.1Hz)，7.32(d，2H，J＝8.3Hz)，7.24(dd，2H，       J＝7.8，7.3Hz)，7.10(dd，2H，J＝7.8，7.3Hz)，7.06(s，2H)，5.54(s，2H)，3.73(s，6H)                                                  
[实施例1～5]上述通式(I)表示的化合物的PF6盐的制造 
用如下所示的合成方法合成化合物No.1～No.3、No.13以及No.15的PF6盐。通过IR分析以及1H-NMR分析来鉴定得到的化合物(参照[表3] 以及[表4])。在[表2]中显示了得到的化合物的收率以及特性值[溶液状态下的光吸收特性(λmax以及λmax中的ε)、熔点以及分解点]的测定结果。 
另外，在[表2]中，分解点为在10℃/分的升温速度下的差示热分析的质量减少开始的温度。 
(合成例)化合物No.1～No.3、No.13以及No.15的PF6盐的合成 
在23.8mmol的甲酰胺衍生物中在冰冷却下滴加7.5mmol的三氯氧磷，在冰冷却下搅拌1小时。然后，在冰冷却下，分别加入5.0mmol的制造例1～3得到的乙烯化合物，在100℃下搅拌3小时。添加混合43.5mmol的KPF6后，加入100ml的水以及100ml的乙酸乙酯而进行油水分离。有机层通过无水硫酸镁干燥，蒸馏除去溶剂，通过柱色谱法或再结晶精制残留物，得到作为目标物的化合物No.1～No.3、No.13以及No.15的PF6盐。 
[实施例6以及7]化合物No.2以及No.3的淬灭剂阴离子盐的合成 
将5.0mmol的制造例1以及2得到的乙烯化合物分别溶解到20ml的丙酮中，滴加将5.0mmol的化学式[C]所示的阴离子的三乙胺盐溶解在122ml的丙酮中所得到的溶液，再加入20ml丙酮，并加热回流3小时。冷却至室温后，将反应物滴加到800ml的水中，在室温下搅拌13小时。将析出的固体过滤，干燥，分别得到作为目标物的化合物No.2以及No.3的淬灭剂阴离子盐。 
[表2] 
  
        化合物 收率    (％) λmax     (nm)  ε            (×104) 熔点    (℃) 分解点      (℃)  
实施例1 化合物No.1的PF6盐 1.6 495.5 7.68 142 279
实施例2 化合物No.2的PF6盐 88 404.0 3.81 — 253
实施例3 化合物No.3的PF6盐 70 490.0 7.19 161 271
实施例4 化合物No.13的PF6盐 2.5 502.0 8.27 — 269
实施例5 化合物No.15的PF6盐 70 490.0 7.19 161 271
实施例6 化合物No.2的淬灭剂阴离子盐 81 545.5 6.29 164 253
实施例7 化合物No.3的淬灭剂阴离子盐 49 502.5 12.2 — 270
[0123] [表3] 
  
  化合物 IR吸收光谱(cm-1)
实施例1 化合物No.1的PF6盐 2967，1590，1410，1354，1193，841
实施例2 化合物No.2的PF6盐 2960，1625，1598，1573，1258，1175，1028，841
实施例3 化合物No.3的PF6盐 2975，1592，1508，1410，1354，1270，1241，1193，1142，839
实施例4 化合物No.13的PF6盐 1589，1569，1411，1353，1249，1190，1156，841
实施例5 化合物No.15的PF6盐 1627，1518，1460，1236，1081，839
实施例6 化合物No.2的淬灭剂阴离子盐 2967，1609，1459，1389，1321，1284，1261，1170，1141，1072
       实施例7                           化合物No.3的淬灭剂阴离子盐 2971，1609，1590，1466，1390，1343，1321，1283，1263， 1141，1073
[表4] 
  
  化合物 1H-NMR(DMS0-d6)
实施例1                      化合物No.1的PF6盐                        7.73(d，1H，J＝11.2Hz)，7.38(d，2H，J＝8.8Hz)，7.13(d，2H，J＝8.8Hz)，6.80(d，2H，J＝9.3Hz)，6.78(d，2H，J＝9.3Hz)，6.65(d，1H，J＝11.0Hz)，3.79(t，2H，J＝7.6Hz)，3.65(t.2H，J＝7.1Hz)，3.53-3.38(m，8H)，1.80-1.55(m，4H)，1.40(tq，2H，J＝7.6，7.6Hz)，1.29(tq，2H，J＝7.6，7.6Hz)，1.15(t，6H，J＝7.1Hz)，1.13(t，6H，J＝7.1Hz)，0.95(t.3H，J＝7.3Hz)，0.90(t，3H，J＝7.3Hz) 
实施例2                      化合物No.2的PF6盐                        8.03(d，1H，J＝10.7Hz).7.51(d，2H，J＝8.8Hz).7.28(d，2HJ＝8.5Hz).7.14(d，2H，J＝8.5Hz)，7.12(d，1H，J＝10.5Hz)，7.09(d，2H，J＝9.0Hz)，3.98(t，2H，J＝7.8Hz)，3.89(s，3H)，3.86(s，3H)，3.80(t，2H，J＝7.6Hz)，1.82-1.60(m，4H)，1.44(tq，2H，J＝7.6，7.6Hz)，1.30(tq，2H，J＝7.6，7.6Hz)，0.96(t，3H，J＝7.3Hz)，0.91(t.3H，J＝7.3Hz)                                        
实施例3        化合物No.3的PF6盐    7.78(d，1H，J＝11.2Hz)，7.39(d，2H，J＝9.0Hz)，7.18(d，2H，J＝8.5Hz)，6.90-6.70(m，4H).6.62(d，1H，J＝11.0Hz),3.53-3.38(m，14H).1.16(l，6H，J＝7.1    Hz)，1.14(t，6H，J＝7.1Hz)                                                 
实施例4               化合物No.13的PF6盐                7.97(d，1H，J＝11.2Hz)，7.48-7.33(m，10H)，7.31(d，2H，J＝9.3Hz)，7.16(d，2H，J＝9.0Hz)，6.80-6.72(m，5H)，5.07(s，2H)，4.90(s，2H)，3.47(q，4H，   J＝6.6Hz)，3.44(q，4H，J＝6.8Hz)，1.17(t，6H，J＝7.1Hz).1.12(t，6H，J＝7.1Hz)                                                                       
实施例5               化合物No.15的PF6盐                7.95(s，1H)，7.77(d，1H，J＝11.0Hz)，7.70-7.61(br，1H)，7.57(s，1H)，7.46   (d，1H，J＝9.0Hz)，7.44(d，1H，J＝9.3Hz)，7.37(dd，1H，J＝8.1，8.1Hz)，7.34-7.20(m，3H)，7.06(dd，1H，J＝7.8，7.3Hz)，6.67(d，1H，J＝11.0Hz)，4.01(s，3H)，3.85(s，3H)，3.47(s，3H)，3.42(s，3H)                                  
实施例6                                           化合物  No.2的  淬灭剂  阴离子盐                         9.01(d，2H，J＝2.9Hz)，7.98(d，1H，J＝10.7Hz)，7.85(dd，2H，J＝9.3，2.9Hz)，7.65(d，2H，J＝9.3Hz)，7.47(d，2H，J＝8.8Hz)，7.25(d，2H，J＝8.5Hz)，7.12   (d，2H，J＝8.8Hz)，7.08(d，1H，J＝10.7Hz)，7.06(d，2H，J＝8.8Hz)，6.55(d，  2H，J＝9.3Hz)，6.35(dd，2H，J＝9.5，2.7Hz)，5.74(d，2H，J＝2.7Hz)，3.93(t， 2H，J＝7.8Hz)，3.86(s，3H)，3.84(s.3H)，3.76(t，2H，J＝7.3Hz)，3.50-3.20    (m，8H)，1.80-1.58(m，4H)，1.40(tq，2H，J＝7.6，7.6Hz)，1.27(tq，2H，       J＝7.6，7.3Hz)，1.01(l，12H，J＝6.8Hz)，0.93(t.3H，J＝7.3H2)，0.89(t，3H，  J＝7.3Hz)                                                                   
实施例7                             化合物  No.3的  淬灭剂  阴离子盐         9.01(d.2H，J＝2.7Hz).7.85(dd，2H，J＝9.0，2.7Hz)，7.76(d，1H，J＝11.0Hz)， 7.65(d，2H，J＝9.3Hz)，7.37(d，2H，J＝9.0Hz)，7.15(d，2H，J＝8.8Hz)，6.79  (d，2H，J＝8.5Hz)，6.74(d，2H，J＝9.0Hz)，6.57(d，1H，J＝10.2Hz)，6.55(d， 2H，J＝9.3Hz)，6.35(dd.2H，J＝9.5，2.4Hz)，5.74(d，2H，J＝2.4Hz)，3.50-3.38(m，14H)，3.29(q，8H，J＝6.8Hz)，1.15(t，6H，J＝6.8Hz)，1.13(t，6H，J＝7.1 Hz)，1.019(t，12HJ＝7.1Hz)                                                 
[0127] (实施例8)滤光器的制作1 
按照下述的配方调制涂布液，将该涂布液通过刮棒涂布机#9涂布到经易密着处理的188μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，然后在100℃下干燥3分钟，得到在聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上具有膜厚为10μm的薄膜层的滤光器(化合物No.1的含量为2.0mg/m2)。通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对该滤光器进行吸收光谱的测定，λ max为495nm，半幅值为67nm。 
(配方) 
SUMIPEX LG                2.5g 
(住友化学株式会社制丙烯酸类树脂粘合剂，树脂成分40质量％) 
化合物No.1的PF6盐         2mg 
甲基乙基酮                2.5g 
(实施例9)滤光器的制作2 
按照下述的配方调制粘接剂溶液，将该粘接剂溶液通过刮棒涂布机#30涂布到经易密着处理的188μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，然后在100℃下干燥10分钟，得到在聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上具有厚度为10μm的粘接剂层的滤光器(化合物No.1的含量为2.0mg/m2)。通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对该滤光器进行测定，λmax为495.5nm，半幅值为67.5nm。 
(配方) 
化合物No.1的PF6盐                  2.0mg 
丙烯酸类粘接剂(DB Bond5541：Diabond社制)    20g 
甲基乙基酮                         80g 
(实施例10)滤光器的制作3 
将下述的配方通过搅拌机(Plastmil)在260℃下熔融混炼5分钟。混炼后，从直径为6mm的喷嘴中挤出，通过水冷却造粒机得到含有色素的粒料。将该粒料用电气式压制机在250℃下成形为0.25mm厚的薄板(化合物No.1的含量为2.0mg/m2)。通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分 光光度计V-570对该薄板进行吸收光谱的测定，λmax为495.5nm，半幅值为67.4nm。 
(配方) 
Iupilon S—3000100g 
(三菱瓦斯化学株式会社制；聚碳酸酯树脂) 
化合物No.1的PF6盐          0.01g 
(实施例11)滤光器的制作4 
按照下述的配方调制UV清漆，将该UV清漆通过刮棒涂布机#9涂布到经易密着处理的188μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，然后在80℃下干燥30秒。然后，通过带有红外线截止膜过滤器的高压水银灯以100mJ照射紫外线，得到具有固化膜的厚度为约5μm的过滤层的滤光器(化合物No.1的含量为2.0mg/m2)。通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对该滤光器进行吸收光谱的测定，λmax为495.5nm，半幅值为67.6nm。 
(配方) 
ADEKA OPTOMER KRX-571-65               100g 
(旭电化工业株式会社制UV固化树脂，树脂成分80质量％) 
化合物No.1的PF6盐                       0.5g 
甲基乙基酮                                60g 
(实施例12)滤光器的制作5 
按照下述的配方调制涂布液，将该涂布液通过刮棒涂布机#9涂布到经易密着处理的188μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，然后在100℃下干燥3分钟，得到在聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上具有膜厚为约10μm的薄膜层的滤光器(化合物No.1的含量为2.0mg/m2)。通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对该滤光器进行测定，λmax为495nm，半幅值为67.3nm。 
(配方) 
POLYESTER TP-220                 100g
(日本合成化学制聚酯树脂) 
化合物No.1的PF6盐               1.0g 
甲基乙基酮                        60g 
(实施例13)滤光器的制作6 
除了用2mg的化合物No.3的PF6盐代替2mg的化合物No.1的PF6盐之外，按照与实施例1相同的步骤制作滤光器，通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对得到的滤光器进行测定，λmax为490.0nm，半幅值为65.6nm。 
(实施例14)滤光器的制作7 
除了用2mg的化合物No.13的PF6盐代替2mg的化合物No.1的PF6盐之外，按照与实施例1相同的步骤制作滤光器，通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对得到的滤光器进行测定，λmax为505.0nm，半幅值为69.2nm。 
(实施例15)滤光器的制作8 
除了用2mg的化合物No.15的PF6盐代替2mg的化合物No.1的PF6盐之外，按照与实施例1相同的步骤制作滤光器，通过日本分光株式会社制的紫外可见近红外分光光度计V-570对得到的滤光器进行测定，λmax为434.0nm，半幅值为56.8nm。 
显然使用了本发明的上述通式(I)表示的化合物的实施例8～15的滤光器在特定波长(380～550nm)下具有尖锐的吸收，作为图像显示装置、尤其是等离子体显示器用的滤光器的性能优良。 
[实施例16～22]光学记录材料以及光学记录介质的制造 
将上述实施例1～7得到的化合物分别溶解到2，2，3，3-四氟丙醇溶剂中，使得化合物的浓度为1.0质量％，制成2，2，3，3-四氟丙醇溶液，从而分别得到实施例16～22的光学记录材料。在经涂布钛螯合物(T-50：日本曹达社制)并水解后设置了基底层(0.01μm)的直径为12cm的聚碳酸酯圆盘基 板上，通过旋转涂布法涂布上述光学记录材料，形成厚度为100nm的光学记录层，分别得到实施例16～22的光学记录介质No.1～No.7。 
[比较例1] 
除了用下述比较化合物No.1代替化合物No.1的PF6盐之外，按照与实施例16相同的步骤制作比较例1的光学记录材料，用该光学记录材料获得比较例1的光学记录介质。 
比较化合物No.1 
Figure G2007800166946D00281
[评价例1-1～1-8以及比较评价例1-1～1-2]上述通式(I)所示的化合物的耐光性评价 
对实施例2、5、6以及7得到的化合物No.2及化合物No.15的PF6盐以及No.2及No.3的淬灭剂阴离子盐、以及比较化合物1进行耐光性评价。 
首先，将本发明的化合物以1质量％的浓度溶解到2，2，3，3-四氟丙醇中，制成2，2，3，3-四氟丙醇溶液，将得到的溶液通过旋转涂布法以2000rpm的转速用60秒的时间涂布到20×20mm的聚碳酸酯板上，制成试验片。按照如下方法进行评价：在该试验片上照射55000勒克斯的光，分别照射24小时、48小时后，测定照射前的UV吸收光谱在λmax下的吸光度残留率。另外，在[表5]中，作为并用物，使用了下述[化学式15]所示的二亚铵鎓盐(Diimmonium)化合物。结果如[表5]所示。
[表5] 
Figure G2007800166946D00291
[化学式15] 
从[表5]可以看出，本发明的上述通式(I)表示的化合物在照射48小时后，吸光度残留率也很高，在并用二亚铵鎓盐化合物时，照射48小时后，也未发现吸光度残留率降低。另外，比较化合物在照射24小时后发现吸光度残留率降低，此外，照射48小时后发现吸光度残留率显著降低。而且，在并用比较化合物和二亚铵鎓盐化合物时，照射24小时后、照射48小时后，均发现吸光度残留率降低，耐光性不好。
[评价例2-1～2-5] 
对实施例16～20得到的光学记录介质No.1～No.5进行UV光谱吸收的测定。结果如[表6]所示。 
[表6] 
  
  光学记录介质 λmax(nm)
评价例2-1 光学记录介质No.1 490.0
评价例2-2 光学记录介质No.2 394.0
评价例2-3 光学记录介质No.3 483.0
评价例2-4 光学记录介质No.4 *564.0，419.0
评价例2-5 光学记录介质No.5 516
*表示淬灭剂阴离子部的吸收(564.0nm) 
从[表6]可以看出，具有由本发明的光学记录材料形成的光学记录层的光学记录介质在UV光谱吸收中在380～550nm附近显示λmax，可以确认任意的光学记录介质均能通过380～420nm的激光进行记录。 
根据本发明，可以提供适合作为光学元件的吸收波长特性以及耐光性优良的新型化合物。此外，使用了该化合物的滤光器适合作为图像显示用的滤光器，含有该化合物的光学记录材料适合用于光学记录介质的光学记录层的形成。

Claims (8)

1.一种下述通式（II）表示的化合物，
Figure FDA00002859341800011
式中，R1和R2各自独立地表示碳原子数为1～8的烷基，Anq－表示PF6 -或下述通式（C）表示的阴离子，p表示保持电荷为中性的系数，R3及R4各自独立地表示碳原子数为1～8的烷基、硝基、氨基、卤原子或氰基，m及n各自独立地为1～5的整数，所述碳原子数为1～8的烷基中的亚甲基也可以被－O－取代，
2.一种下述通式（III）表示的化合物，
Figure FDA00002859341800013
式中，R1和R2各自独立地表示碳原子数为1～8的烷基，Anq-表示PF6 -，p表示保持电荷为中性的系数，R11及R12各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基，R13及R14各自独立地表示碳原子数为1～8的烷基，s及t各自独立地为1～5的数。
3.一种滤光器，其特征在于，该滤光器含有至少一种权利要求1或2所记载的化合物。
4.根据权利要求3所记载的滤光器，其特征在于，该滤光器具有包含粘接剂层的多层结构，所述化合物含在所述粘接剂层中。
5.根据权利要求3所记载的滤光器，其中，该滤光器用于图像显示装置。
6.根据权利要求5所记载的滤光器，其中，所述图像显示装置为等离子体显示器。
7.一种光学记录材料，其特征在于，该光学记录材料含有至少一种权利要求1或2所记载的化合物。
8.一种光学记录介质，其特征在于，在基体上具有由权利要求7所记载的光学记录材料形成的光学记录层。
CN2007800166946A 2006-05-08 2007-03-05 化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料 Expired - Fee Related CN101437903B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006129404 2006-05-08
JP129404/2006 2006-05-08
JP042375/2007 2007-02-22
JP2007042375A JP5078386B2 (ja) 2006-05-08 2007-02-22 新規化合物、該化合物を用いた光学フィルター及び光学記録材料
PCT/JP2007/054190 WO2007129503A1 (ja) 2006-05-08 2007-03-05 新規化合物、該化合物を用いた光学フィルター及び光学記録材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101437903A CN101437903A (zh) 2009-05-20
CN101437903B true CN101437903B (zh) 2013-06-12

Family

ID=38667613

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800166946A Expired - Fee Related CN101437903B (zh) 2006-05-08 2007-03-05 化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7695793B2 (zh)
EP (1) EP2019130B1 (zh)
JP (1) JP5078386B2 (zh)
KR (1) KR101491755B1 (zh)
CN (1) CN101437903B (zh)
TW (1) TWI397560B (zh)
WO (1) WO2007129503A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1394422B1 (it) * 2009-06-05 2012-06-15 Roviello Composti metallorganici colorati molto stabili, solubili e compatibili con cristalli liquidi per dispositivi elettroottici.
KR102649800B1 (ko) * 2015-12-28 2024-03-20 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 광 흡수성 화합물, 그리고 그 화합물을 포함하는 폴리머 조성물, 폴리머 필름 및 경화막
CN109923447B (zh) * 2016-11-14 2021-03-30 日本板硝子株式会社 光吸收性组合物及滤光器
JP7008467B2 (ja) * 2017-10-24 2022-01-25 リンテック株式会社 粘着シートおよび表示体
KR102444739B1 (ko) * 2020-02-20 2022-09-19 주식회사 엘지화학 점착제 조성물, 점착 필름, 점착 광학 필터 및 디스플레이 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD122525A1 (zh) * 1975-12-22 1976-10-12

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE513714A (zh) 1951-08-23 1900-01-01
BE545464A (zh) 1955-02-23 1900-01-01
US2941898A (en) 1957-12-16 1960-06-21 Ilford Ltd Production of multilayer photographic materials
GB1159598A (en) 1965-10-28 1969-07-30 Fuji Photo Film Co Ltd Multiple Coating Process and Apparatus
US3508947A (en) 1968-06-03 1970-04-28 Eastman Kodak Co Method for simultaneously applying a plurality of coated layers by forming a stable multilayer free-falling vertical curtain
JPS5734526A (en) 1980-08-11 1982-02-24 Seiko Epson Corp Liquid crystal display cell
CS221362B1 (cs) * 1981-11-26 1983-04-29 Vladimir Kral Diaralkylidenmaíondialdehydy a způsob jejich přípravy
JPS6059250A (ja) 1983-09-08 1985-04-05 大根　弘行 防湿養生シ−ト及びその施行法
JPS60234892A (ja) 1984-05-08 1985-11-21 Tdk Corp 光記録媒体
FR2621038B1 (fr) * 1987-09-28 1989-12-29 Rhone Poulenc Sante Derives d'alcadienes, leurs preparations, les medicaments les contenant et produits intermediaires
DE3738237A1 (de) * 1987-11-11 1989-05-24 Bayer Ag Bis-indolyl-ethylen
US4996328A (en) * 1989-03-08 1991-02-26 Appleton Papers Inc. Bis-(indolyl)ethylenes
US5268478A (en) 1990-11-30 1993-12-07 Teijin Limited Sulfur compound-coordinate bonded organic coloring matter, compositions of same, and photorecording media containing same
JP3178009B2 (ja) 1991-07-05 2001-06-18 株式会社日立製作所 反射防止体及びその利用装置
JPH05208811A (ja) 1992-01-29 1993-08-20 Central Glass Co Ltd フッ化マグネシウムオルガノゾル溶液の製造方法とこの溶液による膜の形成方法
JPH05305770A (ja) 1992-04-28 1993-11-19 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体
JP3266323B2 (ja) 1992-07-31 2002-03-18 住友大阪セメント株式会社 複合機能材
JPH06115023A (ja) 1992-10-07 1994-04-26 Asahi Glass Co Ltd 反射防止性フィルム
JPH06239028A (ja) 1993-02-17 1994-08-30 Canon Inc 光記録媒体およびその製造方法
JPH06299091A (ja) 1993-04-13 1994-10-25 Asahi Optical Co Ltd 反射防止膜形成用コーティング組成物
JP3361857B2 (ja) 1993-09-24 2003-01-07 大日本印刷株式会社 ハード性を有する高屈折率膜、反射防止フィルム及びその製造方法
JP2715243B2 (ja) 1993-09-28 1998-02-18 株式会社ミヤマエ 湾曲ベント管の製造装置
JP3531192B2 (ja) 1993-10-18 2004-05-24 旭硝子株式会社 反射防止層を有する光学物品
JPH07168004A (ja) 1993-11-24 1995-07-04 Seiko Epson Corp 反射防止膜の形成方法
US5541235A (en) 1995-03-06 1996-07-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Organic soluble cationic dyes with fluorinated alkylsulfonyl counterions
JPH08313702A (ja) 1995-05-12 1996-11-29 Nippon Kayaku Co Ltd 反射防止体およびその製造方法
JPH09323478A (ja) 1996-06-06 1997-12-16 Tdk Corp 光記録媒体
JPH09288201A (ja) 1995-12-07 1997-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜及びそれを用いた画像表示装置
JP3922596B2 (ja) 1996-07-31 2007-05-30 住友精化株式会社 置換ベンゼンジチオール金属錯体およびその製法
JP3485227B2 (ja) 1996-03-21 2004-01-13 住友精化株式会社 置換ベンゼンジチオール金属錯体およびその製造方法
DE69728971T2 (de) 1996-12-27 2005-04-07 Tdk Corp. Optisches aufzeichnungsmedium
JPH11208118A (ja) 1997-11-20 1999-08-03 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報記録媒体
JP2000168237A (ja) 1998-12-07 2000-06-20 Tdk Corp 光記録媒体
JP2001301333A (ja) 2000-02-16 2001-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 情報記録媒体および記録方法
JP2002206061A (ja) 2000-07-05 2002-07-26 Hayashibara Biochem Lab Inc スチリル色素
AU2001276447A1 (en) 2000-07-13 2002-01-30 Rhodia Chimie Composition and compound based on metal and acid salt(s) having a sulphonyl group borne by a perhalogenated carbon and their use as lewis acid
JP4743994B2 (ja) 2000-10-27 2011-08-10 株式会社林原生物化学研究所 耐光性改善剤
JP4617029B2 (ja) * 2001-08-20 2011-01-19 山本化成株式会社 光学フィルター
JP3916523B2 (ja) 2002-07-12 2007-05-16 三井化学株式会社 光学フィルター
US7074938B2 (en) * 2002-11-19 2006-07-11 The Regents Of The University Of California Method for the synthesis of soritin compounds
JP2004174838A (ja) 2002-11-26 2004-06-24 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体および情報記録方法
JP2005336150A (ja) 2003-11-10 2005-12-08 Nippon Kayaku Co Ltd ジイモニウム化合物及びその用途
JP4482701B2 (ja) 2004-04-13 2010-06-16 株式会社東芝 追記型情報記録媒体
CA2578107A1 (en) 2004-09-06 2006-03-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Diimmonium compound and use thereof
JP4721682B2 (ja) * 2004-09-27 2011-07-13 株式会社Ａｄｅｋａ 複素環化合物及び光学記録材料
JP3716856B2 (ja) 2004-09-30 2005-11-16 三菱化学株式会社 光学記録媒体

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD122525A1 (zh) * 1975-12-22 1976-10-12

Non-Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
#972 *
auml *
ber die Reaktion vinyloger S&amp *
ber die Reaktion vinyloger S&auml
Mikl&#972
Mikl&amp *
s Nyerges, et al..The generation and reactivity of N-substituted, stabilized α,β:γ,δ-unsaturated azomethine ylides.《Tetrahedron》.2002,第58卷第989-995页. *
sNyerges et al..The generation and reactivity of N-substituted
urechloride und VILSMEIER Reagentien mit 4-(4-Nitrobenzyl)-pyridin (NBP).《Journal f. prakt. Chemie.》.1975,第317卷(第5期),第779-790页. *
Uuml *
Von GERHARD W. FISCHER.Vinyloge Acylverbindungen. XIV &amp *
Von GERHARD W. FISCHER.Vinyloge Acylverbindungen. XIV &Uuml

Also Published As

Publication number Publication date
KR101491755B1 (ko) 2015-02-11
EP2019130B1 (en) 2012-12-05
TWI397560B (zh) 2013-06-01
JP2007327032A (ja) 2007-12-20
EP2019130A1 (en) 2009-01-28
JP5078386B2 (ja) 2012-11-21
US7695793B2 (en) 2010-04-13
WO2007129503A1 (ja) 2007-11-15
EP2019130A4 (en) 2011-05-18
TW200745269A (en) 2007-12-16
US20090137800A1 (en) 2009-05-28
KR20090006850A (ko) 2009-01-15
CN101437903A (zh) 2009-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101151331B (zh) 花青化合物、滤光器和光学记录材料
CN101589113B (zh) 花青化合物、使用了该化合物的滤光器以及光学记录材料
CN101120271B (zh) 滤光器
CN101008688B (zh) 滤光器
CN101055328B (zh) 滤光器
CN101410460B (zh) 花青化合物以及光学记录材料
CN102015909B (zh) 颜色修正材料、薄膜形成用组合物以及滤光器
CN102575107A (zh) 色调修正剂、方酸内鎓盐化合物及滤光器
CN101437903B (zh) 化合物、使用了该化合物的滤光器及光学记录材料
CN1989208B (zh) 花青化合物、滤光器和光学记录材料
CN101238100B (zh) 吲哚化合物、滤光器以及光学记录材料
CN101410373A (zh) 交联型花青化合物和使用了该化合物的光学记录材料
CN101415780B (zh) 吲哚鎓化合物以及光学记录材料
CN102341460B (zh) 有机盐化合物、使用了该有机盐化合物的光学记录材料及光学记录介质
CN101519414B (zh) 花青化合物以及使用该化合物的滤光器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130612

Termination date: 20180305