CN104364681B - 固体摄影组件用光学滤波器及其用途 - Google Patents

固体摄影组件用光学滤波器及其用途 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供一种固体摄影组件用光学滤波器以及使用该光学滤波器的装置，上述光学滤波器对现有的近红外线截止滤波器等光学滤波器所具有的缺点进行改良，于近紫外波长区域，入射角度相关性亦少，且可见光穿透率特性优异。本发明的固体摄影组件用光学滤波器包括透明树脂制基板，其含有于波长300nm～420nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及于波长600nm～800nm下具有最大吸收值的化合物(Y)；以及近红外线反射膜，其位于该基板的至少一面。

Description

固体摄影组件用光学滤波器及其用途
技术领域
本发明涉及一种固体摄影组件用光学滤波器及其用途。详细而言，涉及一种包括含有于特定波长下具有最大吸收值的化合物的透明树脂制基板的固体摄影组件用光学滤波器、以及使用该光学滤波器的固体摄影装置及相机模块。
背景技术
摄影机(video camera)、数字静态相机(digital still camera)、带有相机功能的移动电话等的固体摄影装置中使用彩色影像的固体摄影组件即电荷耦合组件(ChargeCoupled Device，CCD)或互补金属氧化物半导体(Complementary Metal-OxideSemiconductor，CMOS)影像传感器(image sensor)，但该些固体摄影组件于其受光部使用对人类的眼睛所无法感知的近红外线具有感度的硅光二极管。该些固体摄影组件中，必须进行可见度修正，以使上述近红外线成为在人类的眼睛看来为自然的色调，经常使用使特定的波长区域的光线选择性地穿透或者截止的光学滤波器。
以前，如上所述的光学滤波器是使用以各种方法来制造的光学滤波器。例如，使用透明树脂作为基材且使该透明树脂中含有近红外线吸收色素的近红外线截止滤波器等光学滤波器已广为人知(例如参照专利文献1)。然而，专利文献1中揭示的光学滤波器存在近红外线吸收能力未必充分的情况。
另外，本申请人提出含有具有特定结构的方酸内鎓盐(squarylium)系化合物的光学滤波器(参照专利文献2)。于使用如上所述的光学滤波器的情况下，可降低近红外波长区域的光学特性的入射角度相关性，与现存的光学滤波器相比较，可改善视角。
然而，于仅使用在近红外波长区域具有吸收的化合物的情况下，存在无法充分改善波长300nm～420nm的近紫外波长区域的光学特性的入射角度相关性的情况。例如，如图1所示，于在光学滤波器6的表面与透镜5的表面反射的近紫外光B以大于0度的角度射入光学滤波器6中的情况下，无法充分截止反射光，存在产生紫色或蓝色的不鲜明影像等使相机画质下降的情况。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开平6-200113号公报
[专利文献2]日本专利特开2012-8532号公报
发明内容
发明解决的课题
本发明的目的在于提供一种固体摄影组件用光学滤波器以及使用该光学滤波器的装置，上述光学滤波器对现有的近红外线截止滤波器等光学滤波器所具有的缺点进行改良，于近紫外波长区域，入射角度相关性亦少，且可见光穿透率特性优异。
解决课题的技术手段
本发明人们为了解决上述课题而积极研究。结果发现，藉由包括含有于波长300nm～420nm下具有最大吸收值的化合物以及于波长600nm～800nm下具有最大吸收值的化合物的透明树脂制基板的光学滤波器，能够解决上述课题，从而完成本发明。以下表示本发明的实施方式的例子。
[1]一种固体摄影组件用光学滤波器，其包括：透明树脂制基板，其含有于波长300nm～420nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及于波长600nm～800nm下具有最大吸收值的化合物(Y)；以及近红外线反射膜，其位于该基板的至少一面。
[2]如项[1]所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中上述化合物(X)为选自由偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所组成组群中的至少1种。
[3]如项[1]或项[2]所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中相对于构成上述基板的透明树脂的含量100重量份，上述化合物(X)的含量为0.006重量份～3.0重量份，且上述化合物(Y)的含量为0.004重量份～2.0重量份。
[4]如项[1]至项[3]中任一项所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中构成上述基板的透明树脂为选自由环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、茀聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂以及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂所组成组群中的至少1种。
[5]如项[1]至项[4]中任一项所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中用于固体摄影装置。
[6]一种固体摄影装置，其包括：如项[1]至项[5]中任一项所述的固体摄影组件用光学滤波器。
[7]一种相机模块，其包括：如项[1]至项[5]中任一项所述的固体摄影组件用光学滤波器。
发明的效果
依据本发明，可提供一种于近紫外波长区域，入射角度相关性亦少，且可见光穿透率特性优异的固体摄影组件用光学滤波器。
附图说明
图1是表示在光学滤波器6的表面及透镜5的表面反射的光线以大于0度的入射角度射入光学滤波器6中的情况的概略图。
图2(a)是表示现有的相机模块的一例的剖面概略图。图2(b)是表示使用本发明的固体摄影组件用光学滤波器6′的情况下的相机模块的一例的剖面概略图。
图3是表示对自固体摄影组件用光学滤波器的垂直方向测定时的穿透率进行测定的方法的概略图。
图4是表示对相对于固体摄影组件用光学滤波器的垂直方向而自30度的角度测定时的穿透率进行测定的方法的概念图。
图5是使用现有的固体摄影组件用光学滤波器，自垂直方向、以及相对于垂直方向而自30度的角度进行测定的穿透波谱的一例。
符号说明：
1：相机模块
2：透镜镜筒
3：可挠性基板
4：中空封装
5：透镜
6：(固体摄影组件用)光学滤波器
6′：本发明的固体摄影组件用光学滤波器
7：(CCD或者CMOS)影像传感器
8：光学滤波器
9：分光亮度计
10：自垂直方向(0度)测定时的穿透率
11：相对于垂直方向而自30度测定时的穿透率
12：波长(H)
13：波长(H)的前后20nm的波长区域
14：最大值(U)
A：近紫外光
B：来自透镜的反射光
C：光
具体实施方式
以下，对本发明进行具体说明。
[固体摄影组件用光学滤波器]
本发明的固体摄影组件用光学滤波器(以下亦简称为“本发明的光学滤波器”)包括透明树脂制基板，其含有于波长300nm～420nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及于波长600nm～800nm下具有最大吸收值的化合物(Y)，并且于该基板的至少一面包括近红外线反射膜。上述化合物(X)与上述化合物(Y)可包含于透明树脂制基板中的同一层中，亦可包含于分别不同的层中。于包含于同一层中的情况下，例如可列举上述化合物(X)与上述化合物(Y)均包含于同一透明树脂制基板中的形态，于包含于分别不同的层中的情况下，例如可列举于包含上述化合物(Y)的透明树脂制基板上积层有包含上述化合物(X)的层的形态。上述化合物(X)与上述化合物(Y)更佳为包含于同一层中，于如上所述的情况下，较包含于分别不同的层中的情况而言，更容易控制上述化合物(X)与上述化合物(Y)的含量。
[透明树脂制基板]
构成本发明的光学滤波器的透明树脂制基板(以下亦称为“树脂制基板”)含有透明树脂、上述化合物(X)及上述化合物(Y)，能够选择性地且效率良好地截止近紫外线及近红外线。
藉由将如上所述的树脂制基板用于光学滤波器，可获得如下光学滤波器：于自光学滤波器的垂直方向测定的情况下，在300nm～450nm的波长区域，穿透率成为50％的最长波长侧的波长(H)的前后20nm的波长区域的各波长下的穿透率，与在相同波长区域，相对于光学滤波器的垂直方向而自30度的角度测定的情况下的各波长下的穿透率之差的绝对值的最大值(以下称为“最大值(U)”)变小；并且入射角相关性小，视角广。
此处，关于波长(H)及最大值(U)，参照图5来进行说明，该图5是使用现有的固体摄影组件用光学滤波器，自垂直方向测定的穿透率10的波谱、以及相对于垂直方向而自30度的角度测定的穿透率11的波谱的一例。于图5的情况下，于300nm～450nm的波长区域，自光学滤波器的垂直方向测定的穿透率10成为50％的波长(H)是以符号12表示的415nm，于波长(H)的前后20nm的波长区域(395nm～435nm)的各波长下，穿透率10与穿透率11之差的绝对值的最大值(U)是以符号14所表示的39％(穿透率10：5％，穿透率11：44％，波长403nm)。
上述最大值(U)较佳为小于25％，更佳为小于20％，特佳为小于15％。
相机模块等用途中，于波长400nm～700nm的所谓可见光区域，将含有上述化合物(X)及上述化合物(Y)的树脂制基板的厚度设为100μm时的该基板的平均穿透率必须为50％以上，较佳为65％以上。
上述树脂制基板的厚度可根据所需用途来适当选择，并无特别限制，较佳为以该基板具有如上所述的入射角依存改良性的方式进行调整，更佳为30μm～250μm，尤佳为40μm～200μm，特佳为50μm～150μm。
若树脂制基板的厚度在上述范围内，则能够使利用该基板的光学滤波器小型化及轻量化，可适宜用于固体摄影装置等多种用途。尤其于将上述树脂性基板用于相机模块等透镜单元的情况下，能够实现透镜单元的低背化，故而较佳。
〈化合物(X)〉
本发明中使用的于波长300nm～420nm下具有最大吸收值的化合物(X)通常被称为近紫外线吸收剂，亦可于上述波长范围具有2个以上的最大吸收值。如上所述的化合物(X)并无特别限定，较佳为选自由偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所组成组群中的至少1种。
(A)偶氮次甲基系化合物
上述偶氮次甲基系化合物并无特别限定，例如可由下述式(1)表示。
式(1)中，Ra1～Ra5分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、碳数1～15的烷基、碳数1～9的烷氧基或者碳数1～9的烷氧基羰基。
(B)吲哚系化合物
上述吲哚系化合物并无特别限定，例如可由下述式(2)表示。
式(2)中，Rb1～Rb5分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、氰基、苯基、芳烷基、碳数1～9的烷基、碳数1～9的烷氧基或者碳数1～9的烷氧基羰基。
(C)苯并三唑系化合物
上述苯并三唑系化合物并无特别限定，例如可由下述式(3)表示。
式(3)中，Rc1～Rc3分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、芳烷基、碳数1～9的烷基、碳数1～9的烷氧基、或者具有碳数1～9的烷氧基羰基作为取代基的碳数1～9的烷基。
(D)三嗪系化合物
上述三嗪系化合物并无特别限定，例如可由下述式(4)、式(5)或者式(6)表示。
式(4)～式(6)中，Rd1独立地表示氢原子、碳原子数1～15的烷基、碳原子数3～8的环烷基、碳原子数3～8的烯基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数7～18的烷基芳基或者芳基烷基。其中，该些烷基、环烷基、烯基、芳基、烷基芳基及芳基烷基可经羟基、卤素原子、碳原子数1～12的烷基或者烷氧基取代，亦可由氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或者亚胺基中断。另外，上述取代及中断可组合。Rd2～Rd9分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、碳原子数1～15的烷基、碳原子数3～8的环烷基、碳原子数3～8的烯基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数7～18的烷基芳基或者芳基烷基。
〈化合物(Y)〉
本发明中使用的于波长600nm～800nm、较佳为波长620nm～780nm、特佳为波长650nm～750nm的范围内具有最大吸收值的化合物(Y)通常被称为近红外线吸收色素，亦可于上述波长范围内具有2个以上的最大吸收值。如上所述的化合物(Y)并无特别限定，例如可列举：方酸内鎓盐系化合物、酞菁(phthalocyanine)系化合物、萘酞菁(naphthalocyanine)系化合物及花青(cyanine)系化合物等。藉由使用化合物(Y)，除了近紫外波长区域以外，于近红外波长区域亦可改良光学滤波器的入射角相关性，能够获得视角广的光学滤波器。
(A)方酸内鎓盐系化合物
方酸内鎓盐系化合物较佳为包含选自由式(I)所表示的方酸内鎓盐系化合物及式(II)所表示的方酸内鎓盐系化合物所组成组群中的至少1种。以下，亦分别称为“化合物(I)”及“化合物(II)”。
式(I)中，Ra、Rb及Y满足下述(i)或者(ii)的条件。
条件(i)
存在多个的Ra分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NReRf基。Re及Rf分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le。
存在多个的Rb分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NRgRh基。Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld、-Le或-C(O)Ri基(Ri表示-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le)。
存在多个的Y分别独立地表示-NRjRk基。Rj及Rk分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le。
L1为La、Lb、Lc、Ld、Le、Lf、Lg或Lh。
上述La～Lh表示：
(La)可具有取代基L的碳数1～9的脂肪族烃基、
(Lb)可具有取代基L的碳数1～9的卤代烷基、
(Lc)可具有取代基L的碳数3～14的脂环式烃基、
(Ld)可具有取代基L的碳数6～14的芳香族烃基、
(Le)可具有取代基L的碳数3～14的杂环基、
(Lf)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基、
(Lg)可具有取代基L的碳数1～9的酰基、或者
(Lh)可具有取代基L的碳数1～9的烷氧基羰基。
取代基L为选自由碳数1～9的脂肪族烃基、碳数1～9的卤代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成组群中的至少1种。
上述La～Lh可进而具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及胺基所组成组群中的至少1种原子或者基团。
上述La～Lh较佳为包含取代基的碳数的合计分别为50以下，尤佳为碳数40以下，特佳为碳数30以下。若碳数多于该范围，则存在色素的合成变得困难的情况，并且存在每单位重量的吸收强度减小的倾向。
条件(ii)
1个苯环上的2个Ra中的至少1个与相同苯环上的Y相互键结而形成包含至少1个氮原子的构成原子数5或6的杂环，上述杂环可具有取代基，Rb以及不参与上述杂环的形成的Ra分别独立地与上述(i)的Rb及Ra含义相同。
式(II)中，X表示O、S、Se、N-Rc或者C-RdRd；存在多个的Rc分别独立地表示氢原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le；存在多个的Rd分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NReRf基，相邻的Rd彼此可连结而形成可具有取代基的环；La～Le、L1、Re及Rf与上述式(I)中所定义的La～Le、L1、Re及Rf含义相同。
除了如下述式(I-1)及下述式(II-1)所述的记载方法以外，化合物(I)及化合物(II)还可以如下述式(I-2)及下述式(II-2)那样采取共振结构的记载方法来表示结构。即，下述式(I-1)与下述式(I-2)的差异、以及下述式(II-1)与下述式(II-2)的差异仅为结构的记载方法不同，任一个均表示同一化合物。本发明中只要无特别说明，则设为利用如下述式(I-1)及下述式(II-1)那样的记载方法来表示方酸内鎓盐系化合物的结构。
化合物(I)及化合物(II)只要分别满足上述式(I)及上述式(II)的必要条件，则结构并无特别限定，例如于以上述式(I-1)及上述式(II-1)的方式表示结构的情况下，键结于中央的四元环上的左右取代基可相同亦可不同，相同的容易合成，故而较佳。此外，例如下述式(I-3)所表示的化合物与下述式(I-4)所表示的化合物可视为同一化合物。
(B)酞菁系化合物
上述酞菁系化合物的结构并无特别限定，例如可列举下述式(III)所表示的化合物。
式(III)中，M表示包含2个氢原子、2个1价金属原子、2价金属原子、或者3价或4价金属原子的取代金属原子，
存在多个的Ra、Rb、Rc及Rd分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、胺基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N＝N-L4。或者，存在多个的Ra、Rb、Rc及Rd表示Ra与Rb、Rb与Rc及Rc与Rd中的至少1个组合进行键结而成的，选自由下述式(A)～式(H)所表示的基团所组成组群中的至少1种基团。其中，键结于相同芳香环上的Ra、Rb、Rc及Rd中至少1个不为氢原子。
上述胺基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有上述式(I)中所定义的取代基L，
L1与上述式(I)中所定义的L1含义相同，
L2表示氢原子或者上述式(I)中所定义的La～Le的任一个，
L3表示羟基或者上述La～Le的任一个，
L4表示上述La～Le的任一个。
式(A)～式(H)中，Rx与Ry的组合为Ra与Rb、Rb与Rc或者Rc与Rd的组合，
存在多个的RA～RL分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、胺基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N＝N-L4，
上述胺基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有上述取代基L，L1～L4与上述式(III)中所定义的L1～L4含义相同。
(C)萘酞菁系化合物
上述萘酞菁系化合物的结构并无特别限定，例如可列举下述式(IV)所表示的化合物。
式(IV)中，M与上述式(7)中的M含义相同，Ra、Rb、Rc、Rd、Re及Rf分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、胺基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N＝N-L4。
(D)花青系化合物
上述花青系化合物的结构并无特别限定，例如可列举下述式(V-1)～式(V-3)所表示的化合物。
式(V-1)～式(V-3)中，Xa -表示1价阴离子，
存在多个的D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或者硫原子，
存在多个的Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、Rh及Ri分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、胺基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N＝N-L4，或者Rb与Rc、Rd与Re、Re与Rf、Rf与Rg、Rg与Rh以及Rh与Ri中的至少1个组合进行键结而成的选自由下述式(A)～式(H)所表示的基团所组成组群中的至少1种基团，
上述胺基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有上述式(I)中所定义的取代基L，
L1与上述式(I)中所定义的L1含义相同，
L2表示氢原子或者上述式(I)中所定义的La～Le的任一个，
L3表示氢原子或者上述La～Le的任一个，
L4表示上述La～Le的任一个，
Za～Zd及Ya～Yd分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、胺基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N＝N-L4(L1～L4与上述Ra～Ri中的L1～L4含义相同)，或者
选自邻接的两个中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的可包含至少1个氮原子、氧原子或硫原子的5元至6元环的脂环式烃基，
选自邻接的两个中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数6～14的芳香族烃基，或者
选自邻接的两个中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成，且包含至少1个氮原子、氧原子或硫原子的碳数3～14的杂芳香族烃基；该些脂环式烃基、芳香族烃基及杂芳香族烃基可具有碳数1～9的脂肪族烃基或者卤素原子。
式(A)～式(H)中，Rx与Ry的组合为Rb与Rc、Rd与Re、Re与Rf、Rf与Rg、Rg与Rh以及Rh与Ri的组合，
存在多个的RA～RL分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、胺基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3或-N＝N-L4(L1～L4与上述式(V-1)～式(V-3)中所定义的L1～L4含义相同)，上述胺基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有上述取代基L。
〈其他色素〉
本发明中，除了上述化合物(X)及上述化合物(Y)以外，可使用于超过800nm且1300nm以下的波长下具有最大吸收值的色素(Z)作为其他色素。如上所述的色素(Z)并无特别限定，例如可列举：酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、花青系化合物、方酸内鎓盐系化合物、克酮酸(croconium)系化合物、二硫酚(dithiol)系化合物、二亚铵(diimonium)系化合物及卟啉(porphyrin)系化合物等。该些色素例如可使用日本专利特开2006-284756号公报、日本专利特开2008-303130号公报、日本专利第4919629号公报、日本专利第4083730号公报中例示的色素。色素(Z)的含量只要是不损及本发明效果的范围，则无特别限定，相对于构成树脂制基板的树脂100重量份，上述色素(Z)的含量较佳为0.01重量份～10.0重量份。藉由使用色素(Z)，可获得波长800nm以下的长波长域的吸收特性更良好的光学滤波器，能够达成良好的相机画质。
(化合物(X)与化合物(Y)的含量〉
上述树脂制基板中，相对于构成树脂制基板的树脂100重量份，上述化合物(X)的含量较佳为0.006重量份～3.0重量份，更佳为0.02重量份～2.5重量份，特佳为0.05重量份～2.0重量份。相对于构成树脂制基板的树脂100重量份，上述化合物(Y)的含量较佳为0.004重量份～2.0重量份，更佳为0.01重量份～1.5重量份，特佳为0.02重量份～1.0重量份。若上述化合物(X)与上述化合物(Y)的含量处于上述范围内，则能够于各个吸收波长域中兼具良好的吸收特性与高的可见光穿透率。
〈树脂〉
上述树脂制基板中使用的透明树脂只要不损及本发明的效果，则并无特别限制，例如，为了制成确保热稳定性以及对膜的成形性，且可藉由在100℃以上的蒸镀温度下进行的高温蒸镀来形成介电体多层膜的膜，可列举玻璃转移温度(Tg)较佳为110℃～380℃、更佳为110℃～370℃、尤佳为120℃～360℃的透明树脂。另外，若透明树脂的玻璃转移温度为140℃以上，则获得可于更高温度下蒸镀形成介电体多层膜的膜，因此特佳。
上述透明树脂可使用厚度0.1mm下的总透光率(JIS K7105)较佳为75％～95％、尤佳为78％～95％、特佳为80％～95％的树脂。若总透光率为如上所述的范围，则所得的基板作为光学膜而表现出良好的透明性。
上述透明树脂例如可列举：环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、茀聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂以及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂。
(A)环状烯烃系树脂
上述环状烯烃系树脂较佳为由选自由下述式(13)所表示的单体及下述式(14)所表示的单体所组成组群中的至少1种单体获得的树脂、或者视需要藉由进而将上述所得的树脂进行氢化而获得的树脂。
式(13)中，Rx1～Rx4分别独立地表示选自下述(i′)～(ix′)中的原子或者基团，kx、mx及px分别独立地表示0或者正的整数。
(i′)氢原子
(ii′)卤素原子
(iii′)三烷基硅烷基
(iv′)具有包含氧原子、硫原子、氮原子或者硅原子的连结基的经取代或未经取代的碳数1～30的烃基
(v′)经取代或未经取代的碳数1～30的烃基
(vi′)极性基(但(iv′)除外)
(vii′)表示Rx1与Rx2或者Rx3与Rx4相互键结而形成的亚烷基，不参与该键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自上述(i′)～(vi′)中的原子或者基团。
(viii′)表示Rx1与Rx2或者Rx3与Rx4和所键结的碳原子一起相互键结而形成的单环或多环的烃环或者杂环，不参与该键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自上述(i′)～(vi′)中的原子或者基团。
(ix′)表示Rx2与Rx3和所键结的碳原子一起相互键结而形成的单环的烃环或者杂环，不参与该键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自上述(i′)～(vi′)中的原子或者基团。
式(14)中，Ry1及Ry2分别独立地表示选自上述(i′)～(vi′)中的原子或者基团，或者表示下述(x′)，ky及py分别独立地表示0或者正的整数。
(x′)表示Ry1与Ry2相互键结而形成的单环或者多环的脂环式烃、芳香族烃或者杂环。
(B)芳香族聚醚系树脂
上述芳香族聚醚系树脂较佳为具有选自由下述式(15)所表示的结构单元及下述式(16)所表示的结构单元所组成组群中的至少1个结构单元。
式(15)中，R1～R4分别独立地表示碳数1～12的1价有机基，a～d分别独立地表示0～4的整数。
式(16)中，R1～R4及a～d与上述式(15)中的R1～R4及a～d含义相同，Y表示单键、-SO2-或者＞C＝O，R7及R8分别独立地表示卤素原子、碳数1～12的1价有机基或者硝基，g及h分别独立地表示0～4的整数，m表示0或1。其中，当m为0时，R7不为氰基。
另外，上述芳香族聚醚系树脂较佳为进而具有选自由下述式(17)所表示的结构单元及下述式(18)所表示的结构单元所组成组群中的至少1个结构单元。
式(17)中，R5及R6分别独立地表示碳数1～12的1价有机基，Z表示单键、-0-、-S-、-SO2-、＞C＝O、-CONH-、-COO-或者碳数1～12的2价有机基，e及f分别独立地表示0～4的整数，n表示0或1。
式(18)中，R7、R8、Y、m、g及h与上述式(16)中的R7、R8、Y、m、g及h含义相同，R5、R6、Z、n、e及f与上述式(17)中的R5、R6、Z、n、e及f含义相同。
(C)聚酰亚胺系树脂
聚酰亚胺系树脂并无特别限制，只要是在重复单元中包含酰亚胺键的高分子化合物即可，例如可利用日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报中记载的方法来合成。
(D)茀聚碳酸酯系树脂
茀聚碳酸酯系树脂并无特别限制，只要是包含茀部位的聚碳酸酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2008-163194号公报中记载的方法来合成。
(E)茀聚酯系树脂
茀聚酯系树脂并无特别限制，只要是包含茀部位的聚酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2010-285505号公报或日本专利特开2011-197450号公报中记载的方法来合成。
(F)氟化芳香族聚合物系树脂
氟化芳香族聚合物系树脂并无特别限制，只要是含有具有至少1个氟的芳香族环，以及包含选自由醚键、酮键、砜键、酰胺键、酰亚胺键及酯键所组成组群中的至少1个键的重复单元的聚合物即可，例如可利用日本专利特开2008-181121号公报中记载的方法来合成。
(G)市售品
透明树脂的市售品可列举以下市售品等。环状烯烃系树脂的市售品可列举：JSR株式会社制造的Arton、日本瑞翁(ZEON)股份有限公司制造的Zeonor、三井化学股份有限公司制造的APEL、宝理塑料股份有限公司制造的TOPAS等。聚醚砜系树脂的市售品可列举住友化学股份有限公司制造的Sumikaexcel PES等。聚酰亚胺系树脂的市售品可列举三菱瓦斯化学股份有限公司制造的Neopulim L等。聚碳酸酯系树脂的市售品可列举帝人股份有限公司制造的Pureace等。茀聚碳酸酯系树脂的市售品可列举三菱气体化学股份有限公司制造的Lupizeta EP-5000等。茀聚酯系树脂的市售品可列举大阪瓦斯化学股份有限公司制造的OKP4HT等。丙烯酸系树脂的市售品可列举日本触媒股份有限公司制造的Acryviewa等。倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂的市售品可列举新日铁化学股份有限公司制造的Silplus等。
〈其他成分〉
上述树脂制基板可于不损及本发明效果的范围内，进而含有抗氧化剂、金属错合物系化合物等添加剂。另外，于藉由后述的浇铸成形来制造树脂制基板的情况下，可藉由添加调平剂或消泡剂来容易地进行树脂制基板的制造。该些其他成分可单独使用1种，亦可并用2种以上。
上述抗氧化剂例如可列举：2，6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2，2′-二氧-3，3′-二-第三丁基-5，5′-二甲基二苯基甲烷、以及四[亚甲基-3-(3，5-二-第三丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等。
此外，该些添加剂可于制造树脂制基板时与树脂等一起混合，亦可于制造树脂时添加。另外，添加量是根据所需特性来适当选择，相对于树脂100重量份，上述添加量通常为0.01重量份～5.0重量份，较佳为0.05重量份～2.0重量份。
〈树脂制基板的制造方法〉
上述树脂制基板例如可藉由熔融成形或者浇铸成形来形成。
(A)熔融成形
上述树脂制基板可利用以下方法来制造：将树脂、化合物(X)及化合物(Y)等熔融混练，将所得的颗粒进行熔融成形的方法；将含有树脂、化合物(X)及化合物(Y)等的树脂组成物进行熔融成形的方法；或者自包含树脂、化合物(X)、化合物(Y)及溶剂等的树脂组成物中去除溶剂，将所得的颗粒进行熔融成形的方法等。熔融成形方法例如可列举射出成形、熔融挤出成形或者吹塑成形等。
上述溶剂只要是通常用于有机合成等的溶剂，则并无特别限定，例如可列举：己烷、环己烷等烃类；甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等卤化烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯啶酮等酰胺类。该些溶剂可单独使用1种，亦可并用2种以上。
(B)浇铸成形
上述树脂制基板亦可利用以下方法来制造：将包含树脂、化合物(X)、化合物(Y)及溶剂等的树脂组成物浇铸于适当的基材上并去除溶剂的方法；将包含抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂、化合物(X)、化合物(Y)以及树脂等的树脂组成物浇铸于适当的基材上的方法；或者将包含抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂、化合物(X)、化合物(Y)以及树脂等的硬化性组成物浇铸于适当的基材上，使其硬化及干燥的方法等。上述溶剂可使用与上述“(A)熔融成形”中例示的溶剂相同的溶剂。
上述基材例如可列举：玻璃板、钢带(steel belt)、钢桶(steel drum)及透明树脂(例如聚酯膜、环状烯烃系树脂膜)。
上述树脂制基板可藉由自基材上剥离来获得，另外，只要不损及本发明的效果，则亦可不从基材上剥离，而是将基材与涂膜的积层体作为上述树脂制基板。
进而，亦可利用于玻璃板、石英或者透明塑料制等光学零件上，涂布上述树脂组成物而使溶剂干燥的方法，或者涂布上述硬化性组成物而使其硬化及干燥的方法等，于光学零件上直接形成树脂制基板。
利用上述方法而得的树脂制基板中的残留溶剂量宜尽可能少，相对于树脂制基板中的树脂100重量份，上述残留溶剂量通常为3重量％以下，较佳为1重量％以下，尤佳为0.5重量％以下。若残留溶剂量处于上述范围，则获得不易变形或特性难以变化的能够容易发挥所需功能的树脂制基板。
[近红外线反射膜]
本发明的光学滤波器于上述树脂制基板的至少一面具有近红外线反射膜。
本发明中可使用的近红外线反射膜为具有反射近红外线的能力的膜。如上所述的近红外线反射膜可列举：铝蒸镀膜、贵金属薄膜、分散有以氧化铟作为主成分且含有少量氧化锡的金属氧化物微粒子的树脂膜，或者将高折射率材料层与低折射率材料层交替积层而成的介电体多层膜等。若具有如上所述的近红外线反射膜，则可更有效地截止近红外线。
本发明中，近红外线反射膜可设置于树脂制基板的单面，亦可设置于两面。于设置于单面的情况下，制造成本低或制造容易性优异，于设置于两面的情况下，可获得具有高强度且难以产生翘曲的光学滤波器。
上述近红外线反射膜中，更佳为将高折射率材料层与低折射率材料层交替积层而成的介电体多层膜。
构成高折射率材料层的材料可使用折射率为1.7以上的材料，选择折射率的范围通常为1.7～2.5的材料。如上所述的材料例如可列举：以氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或者氧化铟等作为主成分，且含有少量(例如，相对于主成分为0％～10％)的氧化钛、氧化锡和/或氧化铈等的材料等。
构成低折射率材料层的材料可使用折射率为1.6以下的材料，选择折射率的范围通常为1.2～1.6的材料。如上所述的材料例如可列举：二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及氟化铝酸钠等。
关于将高折射率材料层与低折射率材料层积层的方法，只要可形成积层有该些材料层的介电体多层膜，则并无特别限制。例如，可于上述树脂制基板上，直接利用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、溅镀法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或者离子镀敷法等，来形成交替积层有高折射率材料层及低折射率材料层的介电体多层膜。
若将所欲遮断的近红外线波长设为λ(nm)，则该些高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度通常较佳为0.1λ～0.5λ的厚度。若厚度在该范围内，则算出折射率(n)与膜厚(d)之积(n×d)为λ/4的光学膜厚与高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度成为大致相同的值，由于反射■折射的光学特性的关系，而存在能够容易控制特定波长的遮断■穿透的倾向。
另外，介电体多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计积层数较理想为5层～60层，较佳为6层～50层。
进而，于形成介电体多层膜时在基板上产生翘曲的情况下，为了消除该翘曲，可采取于基板两面形成介电体多层膜的方法等。
[其他功能膜]
本发明的光学滤波器可于不损及本发明效果的范围内，在树脂制基板与介电体多层膜等近红外线反射膜之间、于树脂制基板的与设置有近红外线反射膜的面相反侧的面、或者近红外线反射膜的与设置有树脂制基板的面相反侧的面上，出于提高树脂制基板或近红外线反射膜的表面硬度、提高耐化学品性、抗静电以及消除伤痕等目的，来适当设置抗反射膜、硬涂膜及抗静电膜等功能膜。
本发明的光学滤波器可包含1层包括上述功能膜的层，亦可包含2层以上。于本发明的光学滤波器包含2层以上包括上述功能膜的层的情况下，可包含2层以上相同的层，亦可包含2层以上不同的层。
积层功能膜的方法并无特别限制，可列举如下方法等：以与上述相同的方式，将抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂等熔融成形或者浇铸成形于树脂制基板或者近红外线反射膜上。
另外，亦可藉由利用棒式涂布机等，将包含上述涂布剂等的硬化性组成物涂布于树脂制基板或者近红外线反射膜上，然后藉由紫外线照射等进行硬化来制造。
上述涂布剂可列举紫外线(ultraviolet，UV)/电子束(electron beam，EB)硬化型树脂或热硬化型树脂等，具体而言可列举：乙烯基系化合物类或胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。包含该些涂布剂的上述硬化性组成物可列举：乙烯基系、胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组成物等。
另外，上述硬化性组成物亦可包含聚合起始剂。上述聚合起始剂可使用公知的光聚合起始剂或者热聚合起始剂，亦可将光聚合起始剂与热聚合起始剂并用。聚合起始剂可单独使用1种，亦可并用2种以上。
上述硬化性组成物中，于将硬化性组成物的总量设为100重量％的情况下，聚合起始剂的调配比例较佳为0.1重量％～10重量％，更佳为0.5重量％～10重量％，尤佳为1重量％～5重量％。若聚合起始剂的调配比例处于上述范围内，则硬化性组成物的硬化特性以及操作性优异，能够获得具有所需硬度的抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
进而，上述硬化性组成物中可添加有机溶剂作为溶剂，有机溶剂可使用公知的。有机溶剂的具体例可列举：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯啶酮等酰胺类。该些溶剂可单独使用1种，亦可并用2种以上。
上述功能膜的厚度较佳为0.1μm～20μm，尤佳为0.5μm～10μm，特佳为0.7μm～5μm。
另外，出于提高树脂制基板与功能膜和/或近红外线反射膜的密接性、或功能膜与近红外线反射膜的密接性的目的，亦可对树脂制基板或功能膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。
[固体摄影组件用光学滤波器的特性等]
本发明的光学滤波器的穿透率特性优异，使用时不受制约。藉由使用上述化合物(X)及化合物(Y)，可获得入射角相关性少，且同时具有高的可见光穿透率与紫色或蓝色的不鲜明影像的降低效果的固体摄影组件用光学滤波器。
[固体摄影组件用光学滤波器的用途]
本发明的光学滤波器的视角广，具有优异的近紫外线截止能力以及近红外线截止能力等。因此，可用于相机模块的CCD或CMOS影像传感器等固体摄影组件的可见度修正。尤其可用于：数字静态相机、移动电话用相机、数字摄影机、个人计算机(personal computer，PC)相机、监视相机、汽车用相机、电视、汽车导航(car navigation)、个人数字助理(personal digital assistant)、个人计算机、视频游戏(video game)、行动游戏机、指纹识别系统(fingerprint identification system)、数字音乐播放器(digital musicplayer)等。
〈固体摄影装置〉
本发明的固体摄影装置具备本发明的光学滤波器。此处，所谓固体摄影装置，是指CCD或CMOS影像传感器等具备固体摄影组件的影像传感器，具体而言可用于数字静态相机、移动电话用相机、数字摄影机等用途。
〈相机模块〉
本发明的相机模块具备本发明的光学滤波器。此处，对将本发明的光学滤波器用于相机模块的情况进行具体说明。图2(a)、图2(b)中表示相机模块的剖面概略图。
图2(a)为现有的相机模块的结构的剖面概略图，图2(b)是表示于使用本发明光学滤波器6′的情况下的可采用的相机模块的结构之一的剖面概略图。此外，图2(b)中，将本发明的光学滤波器6′用于透镜5的上部，本发明的光学滤波器6′亦可如图2(a)所示用于透镜5与影像传感器7之间。
现有的相机模块中，必须对光学滤波器6大致垂直地射入光。因此，光学滤波器6必须配置于透镜5与影像传感器7之间。
此处，影像传感器7为高感度，存在仅由于接触5μm左右的灰尘或尘埃就会造成不正确运作的顾虑，因此用于影像传感器7的上部的光学滤波器6必须不产生灰尘或尘埃，且必须不含异物。另外，于光学滤波器6与影像传感器7之间必须设置规定的间隔，这成为妨碍相机模块的低背化的一个原因。
与此相对，本发明的光学滤波器6′中，自光学滤波器6′的垂直方向入射的情况、与自相对于光学滤波器6′的垂直方向为30°的角度入射的情况下，所穿透的光的波谱并无大的差异(吸收(穿透)波长的入射角相关性小)，因此，光学滤波器6′不必配置于透镜5与影像传感器7之间，亦可配置于透镜5的上部。
因此，于将本发明的光学滤波器6′用于相机模块的情况下，该相机模块的操作性变得容易，另外，不必于光学滤波器6′与传感器7之间设置规定的间隔，因此可实现相机模块的低背化。
[实施例]
以下，基于实施例来对本发明进行更具体的说明，但本发明不受该些实施例的任何限定。此外，以下，只要无特别说明，则“份”是指“重量份”。另外，各物性值的测定方法及物性的评价方法如以下所述。
〈分子量〉
树脂的分子量是考虑到各树脂对溶剂的溶解性等，利用下述(a)或者(b)的方法进行测定。
(a)使用沃特世(WATERS)公司制造的凝胶渗透层析(gel permeationchromatography，GPC)装置(150C型，管柱：东曹(Tosoh)公司制造的H型管柱，展开溶剂：邻二氯苯)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。
(b)东曹公司制造的GPC装置(HLC-8220型，管柱：TSKgelα-M，展开溶剂：THF)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。
〈玻璃转移温度(Tg)〉
使用SII内米技术(SII Nanotechnologies)股份有限公司制造的示差扫描热析仪(DSC 6200)，于升温速度：每分钟20℃、氮气流下进行测定。
〈分光穿透率〉
最大吸收值、各波长域的穿透率、以及最大值(U)是使用日立高新技术(HitachiHigh-Technologies)股份有限公司制造的分光亮度计(U-4100)进行测定。
此处，自光学滤波器的垂直方向测定的情况下的穿透率是如图3所示，对相对于光学滤波器8而垂直穿透的光进行测定。另外，相对于光学滤波器的垂直方向而自30°的角度测定的情况下的穿透率是如图4所示，对相对于光学滤波器8的垂直方向而以30°的角度穿透的光进行测定。
此外，除了算出最大值(U)的情况，其他的分光穿透率测定是于光相对于基板及光学滤波器而垂直入射的条件下，使用上述分光亮度计进行测定。
[合成例]
下述实施例中使用的化合物(X)、化合物(Y)及其他色素(Z)可利用通常所知的方法来合成，例如可参照以下专利文献中记载的方法来合成：日本专利第3366697号公报、日本专利第2846091号公报、日本专利第2864475号公报、日本专利第3703869号公报、日本专利特开昭60-228448号公报、日本专利特开平1-146846号公报、日本专利特开平1-228960号公报、日本专利第4081149号公报、日本专利特开昭63-124054号公报、“酞菁-化学与功能-”(IPC，1997年)、日本专利特开2007-169315号公报、日本专利特开2009-108267号公报、日本专利特开2010-241873号公报、日本专利第3699464号公报、日本专利第4740631号公报等。
〈树脂合成例1〉
将下述式(19)所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]十二-3-烯(以下亦称为“DNM”)100份、1-己烯(分子量调节剂)18份、及甲苯(开环聚合反应用溶剂)300份，投入至经氮置换的反应容器中，将该溶液加热至80℃。继而，于反应容器内的溶液中，添加作为聚合触媒的三乙基铝的甲苯溶液(0.6mol/升)0.2份、甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度为0.025mol/升)0.9份，将该溶液于80℃下加热搅拌3小时，藉此进行开环聚合反应而获得开环聚合物溶液。该聚合反应中的聚合转化率为97％。
将以上述方式获得的开环聚合物溶液1,000份投入至高压釜中，于该开环聚合物溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3，于氢气压100kg/cm2、反应温度165℃的条件下，加热搅拌3小时来进行氢化反应。
将所得的反应溶液(氢化聚合物溶液)冷却后，释放出氢气。将该反应溶液注入至大量的甲醇中，将凝固物分离回收，使其干燥而获得氢化聚合物(以下亦称为“树脂A”)。所得树脂A的数量平均分子量(Mn)为32,000，重量平均分子量(Mw)为137,000，玻璃转移温度(Tg)为165℃。
〈树脂合成例2〉
于3L的四口烧瓶中添加2，6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)、9，9-双(4-羟基苯基)茀87.60g(0.250mol)、碳酸钾41.46g(0.300mol)、N，N-二甲基乙酰胺(以下亦称为“DMAc”)443g及甲苯111g。继而，于四口烧瓶中安装温度计、搅拌机、带有氮导入管的三通旋塞、迪安-斯塔克(Dean-Stark)管及冷却管。
继而，将烧瓶内进行氮置换后，使所得溶液于140℃下反应3小时，自迪安-斯塔克管中随时去除所生成的水。不再确认到水的生成后，使温度缓缓地上升至160℃，于该温度下反应6小时。
冷却至室温(25℃)后，利用滤纸来去除所生成的盐，将滤液投入至甲醇中使其再沉淀，藉由过滤分离而单离出滤物(残渣)。将所得的滤物于60℃下真空干燥一晚，获得白色粉末(以下称为“树脂B”)(产率为95％)。所得树脂B的数量平均分子量(Mn)为75,000，重量平均分子量(Mw)为188,000，玻璃转移温度(Tg)为285℃。
〈树脂合成例3〉
于具备温度计、搅拌器、氮导入管、带有侧管的滴液漏斗、迪安-斯塔克管及冷却管的500mL的五口烧瓶中，于氮气流下使4，4′-二胺基二苯基醚10.0重量份(0.05摩尔)溶解于作为溶剂的N-甲基-2-吡咯啶酮85重量份中，然后于室温下以1小时，将1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐11.2重量份(0.05摩尔)以固体状态来分割投入，于室温下搅拌2小时。
接着，添加二甲苯30.0重量份作为共沸脱水溶剂，升温至180℃后，进行3小时反应，利用迪安-斯塔克管使二甲苯回流，将共沸而来的生成水分离。3小时后，确认水的馏出结束，以1小时一边升温至190℃一边蒸馏去除二甲苯，回收29.0重量份。然后，进行空气冷却直至内温达到60℃为止，获得聚酰亚胺的N-甲基-2-吡咯啶酮溶液(以下称为“聚酰亚胺溶液C”)105.4重量份。
[实施例1]
于容器中添加树脂合成例1中获得的树脂A 100重量份、下述式(20)所表示的三嗪化合物(最大吸收波长：约355nm～365nm)0.40重量份、下述式(21)所表示的花青化合物(最大吸收波长：约680nm～690nm)0.05重量份及二氯甲烷，制备树脂浓度为20重量％的溶液(ex1)。
继而，将所得的溶液(ex1)浇铸于平滑的玻璃板上，于20℃下干燥8小时后，自玻璃板上剥离。将所剥离的涂膜进而于减压下以100℃干燥8小时，获得厚0.1mm、长60mm、宽60mm的树脂制基板(以下亦简称为“基板”)。
继而，于所得基板的单面，于蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[二氧化硅(SiO2：膜厚83nm～199nm)层与氧化钛(TiO2：膜厚101nm～125nm)层交替积层而成的膜，积层数为20]，进而于基板的另一面，于蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[二氧化硅(SiO2：膜厚77nm～189nm)层与氧化钛(TiO2：膜厚84nm～118nm)层交替积层而成的膜，积层数为26]，获得厚度为0.105mm的光学滤波器。
测定该光学滤波器的分光穿透率，求出可见光波长区域的穿透率、红外波长区域的光学特性、以及最大值(U)。将结果示于表2中。
[实施例2]
于实施例1中所得的厚0.1mm、长60mm、宽60mm的基板的单面，于蒸镀温度100℃下形成反射近红外线的多层蒸镀膜[二氧化硅(SiO2：膜厚120nm～190nm)层与氧化钛(TiO2：膜厚70nm～120nm)层交替积层而成的膜，积层数为40]，制造厚度为0.104mm的光学滤波器并进行评价。将结果示于表2中。
[实施例3]～[实施例23]以及[比较例1]～[比较例2]
除了采用表1所示的树脂、溶剂、色素及膜干燥条件以外，以与实施例1相同的方式制造厚度为0.105mm的光学滤波器。将光学滤波器的制造条件示于表1中，将评价结果示于表2中。此外，表1中，树脂的添加份数均为100重量份，实施例17以外的实施例以及比较例中的树脂溶液的树脂浓度为20重量％，实施例17中的树脂溶液的树脂浓度为18重量％。实施例及比较例中使用的树脂A～树脂J、溶剂(1)～溶剂(4)及色素(20)～色素(28)如下所述。
〈树脂〉
树脂A：树脂合成例1中所得的树脂A
树脂B：树脂合成例2中所得的树脂B
树脂C：树脂合成例3中所得的聚酰亚胺溶液C
树脂D：日本瑞翁股份有限公司制造的环状烯烃系树脂“Zeonor 1420R”
树脂E：三井化学股份有限公司制造的环状烯烃系树脂“APEL#6015”
树脂F：帝人股份有限公司制造的聚碳酸酯树脂“Pureace”
树脂G：住友电木(Sumitomo Bakelite)股份有限公司制造的聚醚砜树脂“Sumilite FS-1300″
树脂H：大阪瓦斯化学股份有限公司制造的茀系聚酯树脂“OKP4”
树脂I：日本触媒股份有限公司制造的丙烯酸树脂“Acryviewa”
树脂J：三菱瓦斯化学股份有限公司制造的聚碳酸酯树脂“Lupizeta EP-5000”
〈溶剂〉
溶剂(1)：二氯甲烷
溶剂(2)：N-甲基-2-吡咯啶酮
溶剂(3)：环己烷与二甲苯的7∶3(重量比)混合溶液
溶剂(4)：环己烷与二氯甲烷的99∶1(重量比)混合溶液
〈色素〉
表1中，(X)是指上述化合物(X)，(Y)是指上述化合物(Y)，(Z)是指上述色素(Z)，(Z′)是指(X)～(Z)以外的色素。
色素(20)：上述式(20)所表示的三嗪化合物(最大吸收波长：约355nm～365mm，根据溶剂或基质树脂，最大吸收波长有所不同；以下相同)
色素(21)：上述式(21)所表示的花青化合物(最大吸收波长：约680nm～690nm)
色素(22)：下述式(22)所表示的偶氮次甲基化合物(最大吸收波长：约375nm～385nm)
色素(23)：下述式(23)所表示的吲哚化合物(最大吸收波长：约385nm～395nm)
色素(24)：下述式(24)所表示的方酸内鎓盐化合物(最大吸收波长：约690nm～705nm)
色素(25)：下述式(25)所表示的苯并三唑化合物(最大吸收波长：约340nm～355nm)
色素(26)：下述式(26)所表示的酞菁化合物(最大吸收波长：约695nm～710nm)
色素(27)：下述式(27)所表示的二亚铵化合物(最大吸收波长：约1040nm～1060nm)
色素(28)：下述式(28)所表示的花青系可见光线吸收色素(最大吸收波长：约480nm～490nm)
另外，表1中的实施例及比较例的膜干燥条件如以下所述。
条件(1)：20℃/8hr→减压下100℃/8hr
条件(2)：60℃/4hr→80℃/4hr→减压下120℃/8hr
条件(3)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下100℃/24hr
条件(4)：40℃/4hr→60℃/4hr→减压下100℃/8hr
表1
表2
[产业上的可利用性]
本发明的固体摄影组件用光学滤波器可适宜用于数字静态相机、移动电话用相机、数字摄影机、PC相机、监视相机、汽车用相机、电视、汽车导航、个人数字助理、个人计算机、视频游戏、行动游戏机、指纹识别系统、数字音乐播放器等。

Claims (10)

1.一种固体摄影组件用光学滤波器，其特征在于，包括：
透明树脂制基板，其含有于波长340nm～420nm下具有最大吸收值的化合物X以及于波长600nm～800nm下具有最大吸收值的化合物Y；并且
近红外线反射膜，其位于上述基板的至少一面，其中
于自光学滤波器的垂直方向测定的情况下，在300nm～450nm的波长区域，穿透率成为50％的最长波长侧的波长的前后20nm的波长区域的各波长下的穿透率，与在相同波长区域，相对于光学滤波器的垂直方向而自30度的角度测定的情况下的各波长下的穿透率之差的绝对值的最大值小于25％。
2.根据权利要求1所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中上述化合物X为选自由偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所组成组群中的至少1种。
3.根据权利要求1或2所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中相对于构成上述基板的透明树脂的含量100重量份，上述化合物X的含量为0.006重量份～3.0重量份，且上述化合物Y的含量为0.004重量份～2.0重量份。
4.根据权利要求1或2所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中构成上述基板的透明树脂为选自由环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、茀聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂以及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂所组成组群中的至少1种。
5.根据权利要求3所述的固体摄影组件用光学滤波器，其中构成上述基板的透明树脂为选自由环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、茀聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂以及倍半硅氧烷系紫外线硬化树脂所组成组群中的至少1种。
6.根据权利要求1或2所述的固体摄影组件用光学滤波器，其用于固体摄影装置。
7.根据权利要求3所述的固体摄影组件用光学滤波器，其用于固体摄影装置。
8.根据权利要求4所述的固体摄影组件用光学滤波器，其用于固体摄影装置。
9.一种固体摄影装置，其特征在于，包括：如权利要求1至8中任一项所述的固体摄影组件用光学滤波器。
10.一种相机模块，其特征在于，包括：如权利要求1至8中任一项所述的固体摄影组件用光学滤波器。
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