JP5422269B2 - 紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物 - Google Patents

Description

本発明は、紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物に関する。

従来から紫外線吸収剤を種々の樹脂などと共用して紫外線吸収性を付与することが行われている。紫外線吸収剤として無機系紫外線吸収剤と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。無機系紫外線吸収剤（例えば、特許文献１〜３等を参照。）では、耐候性や耐熱性などの耐久性に優れている反面、吸収波長が化合物のバンドギャップによって決定されるため選択の自由度が少なく、４００ｎｍ付近の長波紫外線（ＵＶ−Ａ）領域まで吸収できるものはなく、長波紫外線を吸収するものは可視域まで吸収を有するため着色を伴ってしまう。
これに対して、有機紫外線吸収剤は、吸収剤の構造設計の自由度が高いために、吸収剤の構造を工夫することによって様々な吸収波長のものを得ることができる。

これまでにも様々な有機系紫外線吸収剤を用いた系が検討されており、特許文献４にはトリアゾール系の紫外線吸収剤が開示されている。しかし、極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものは耐光性が悪く、紫外線遮蔽効果が時間とともに減少していってしまう。
これに対して長波紫外線領域において紫外線遮蔽効果を有する紫外線吸収剤を併用することが提案されている。すなわち、１種の紫外線吸収剤では不足する領域を別の紫外線吸収剤を併用してカバーすることで、紫外線領域全体をカバーし、かつ長波紫外線領域を効果的に遮蔽する紫外線吸収剤組成物を提供することができると考えられる。しかし、基本骨格の異なる紫外線吸収剤を用いた場合、ポリマーに対する相溶性が悪くブリードアウトしたり、溶媒に対する溶解性が悪く、作業効率の悪化の原因となることが問題となっていた。また、それぞれの紫外線吸収剤の紫外線遮蔽効果の差や経時による劣化速度の差によって十分な紫外線領域全体の紫外線遮蔽効果が得られなくなるという問題があった。
このため、上記の問題を解決し長波紫外線領域においても耐光性に優れた紫外線吸収剤組成物が求められている。

特開平５−３３９０３３号公報 特開平５−３４５６３９号公報 特開平６−５６４６６号公報 特表２００２−５２４４５２号公報

本発明の目的は、長波長領域においても優れた紫外線遮蔽効果を有する紫外線吸収剤組成物を提供することにある。また、例えば高分子材料等の紫外光耐久性を向上させることだけでなく、該高分子材料を紫外線フィルタとして用いることによって他の安定でない化合物の分解を抑制することもできる、長波紫外線遮蔽効果を長時間維持した紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物を提供することにある。

本発明者らは、ヘテロ環化合物について詳細に検討した結果、光堅牢性が高く、これまでカバーすることができなかった長波長領域の紫外線遮蔽効果に優れた紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物を見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の課題は、以下の方法によって達成された。
＜１＞
下記一般式（１）で表される化合物（ただし、糖残基を有する化合物を除く。）と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する紫外線吸収剤組成物。
一般式（１）

［Ｒ ^１ａ 、Ｒ ^１ｂ 、Ｒ ^１ｃ 、Ｒ ^１ｄ 、Ｒ ^１ｅ 、Ｒ ^１ｆ 、Ｒ ^１ｇ 、Ｒ ^１ｈ 、Ｒ ^１ｉ 、Ｒ ^１ｊ は互いに独立して、水素原子、又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
Ｒ ^１ｋ 、Ｒ ^１ｍ 、Ｒ ^１ｐ は、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
Ｒ ^１ｎ は、水素原子、ＯＲ ^ｕ 、又はＲ ^１ｍ と結合してベンゼン環を形成する基を表す。Ｒ ^ｕ は、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。
Ｒ ^１ａ 、Ｒ ^１ｂ 、Ｒ ^１ｃ 、Ｒ ^１ｄ 、Ｒ ^１ｅ の置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正であるＣＯＯＲ ^ｒ 、ＣＯＮＲ ^ｓ _２ 、ＣＮ、ＣＦ _３ 、ＮＯ _２ 、ＳＯ _２ Ｒ ^ｔ 、及びＳＯ _３ Ｍより選択される基を表す。Ｒ ^ｒ 、Ｒ ^ｓ 、Ｒ ^ｔ は、水素原子、又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。］
＜２＞
Ｒ ^ｒ が水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基である、＜１＞に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜３＞
Ｒ ^１ａ 、Ｒ ^１ｂ 、Ｒ ^１ｃ 、Ｒ ^１ｄ 、Ｒ ^１ｅ 、Ｒ ^１ｆ 、Ｒ ^１ｇ 、Ｒ ^１ｈ 、Ｒ ^１ｉ 、及びＲ ^１ｊ が表す１価の置換基、Ｒ ^１ｋ 、Ｒ ^１ｍ 、及びＲ ^１ｐ が表す１価の置換基、並びにＲ ^ｒ 、Ｒ ^ｓ 、及びＲ ^ｔ が表す１価の置換基が、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、スルホ基、置換又は無置換のスルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基である、＜１＞又は＜２＞に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜４＞
前記Ｒ ^１ｃ が、ハメット則のσｐ値が正である前記基であることを特徴とする、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜５＞
前記ハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲であることを特徴とする、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜６＞
前記ハメット則のσｐ値が正である前記基がＣＯＯＲ ^ｒ であることを特徴とする、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。［Ｒ ^ｒ は、水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表す。］
＜７＞
前記Ｒ ^１ｃ が、ＣＮであることを特徴とする、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜８＞
前記極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、及びトリアジン系化合物より選択される少なくとも１種であることを特徴とする、＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜９＞
前記極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤が、ベンゾオキサジノン系化合物であることを特徴とする、＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜１０＞
＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する樹脂組成物。
本発明は、上記＜１＞〜＜１０＞に係る発明であるが、以下、それ以外の事項（例えば、下記〔１〕〜〔１２〕）についても記載している。
〔１〕
下記一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する紫外線吸収剤組成物。

［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊは互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐの置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。］
〔２〕
前記Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅのうち少なくとも１つが、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことを特徴とする、〔１〕に記載の紫外線吸収剤組成物。
〔３〕
前記Ｒ^１ｃが、ハメット則のσｐ値が正である置換基であることを特徴とする、〔１〕又は〔２〕に記載の紫外線吸収剤組成物。
〔４〕
前記ハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲であることを特徴とする、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の紫外線吸収剤組成物。
〔５〕
前記ハメット則のσｐ値が正である置換基が、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ _２、ＣＮ、ＣＦ_３、ハロゲン原子、ＮＯ^２、ＳＯ_２Ｒ^ｔ、及びＳＯ_３Ｍより選択される基であることを特徴とする、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の化合物。［Ｒ^ｒ、Ｒ^ｓ、Ｒ^ｔは、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。］
〔６〕
前記ハメット則のσｐ値が正である置換基がＣＯＯＲ^ｒであることを特徴とする、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の紫外線吸収剤組成物。［Ｒ^ｒは、水素原子又は１価の置換基を表す。］
〔７〕
前記Ｒ^１ｃが、ＣＮであることを特徴とする、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の紫外線吸収剤組成物。
〔８〕
前記Ｒ^１ｎが、ＯＲ^ｕであることを特徴とする、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の紫外線吸収剤組成物。
［Ｒ^ｕは、水素原子又は１価の置換基を表す。］
〔９〕
前記Ｒ^ｕが、炭素数１〜２０のアルキル基であることを特徴とする、〔８〕に記載の紫外線吸収剤組成物。
〔１０〕
前記極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、及びトリアジン系化合物より選択される少なくとも１種であることを特徴とする、〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
〔１１〕
前記極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤が、ベンゾオキサジノン系化合物であることを特徴とする、〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
〔１２〕
〔１〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載の一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する樹脂組成物。

本発明の紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物は、長波紫外線領域においても高い光堅牢性を示す。また、プラスチック、繊維などの高分子成形品を形成する樹脂組成物に本発明の化合物を含有させることで、高分子成形品の光安定性を高めることができる。

以下、本発明を詳細に説明する。
〔紫外線吸収剤組成物〕
本発明の紫外線吸収剤組成物は下記一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する。

本発明の紫外線吸収剤組成物に含有される一般式（Ｉ）で表される化合物は特定の位置にハメット則のσｐ値が正である置換基を有するため、励起寿命が短くなり、非常に耐光性が高いという特徴を有する。紫外線吸収剤組成物に既知のトリアジン系化合物を用いた場合は、耐光性が低いため時間とともに吸収能が減少していってしまうという問題点がある。それに対して、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は耐光性が高いために少ない使用量で十分な紫外線遮蔽効果が得られる。
本発明において、極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤を前記一般式（１）で表される化合物と併用することで、紫外線吸収剤の耐光性が高められるため長時間の使用においても紫外線遮蔽効果を維持できるという効果が得られる。
（一般式（１）で表される化合物）

［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊは互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐの置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。］

一般式（１）において、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐの置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅのうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが好ましい。
Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐが表す置換基の１〜３がハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが好ましく、１〜２がハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましい。
また、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｎのうち少なくとも１つが、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが好ましく、Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましい。
Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基であり、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅは水素原子を表すことがより好ましい。
Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基を表す場合、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化されるため、励起寿命が短くなり、耐光性が向上するため好ましい。

前記一般式（１）における１価の置換基（以下Ａとする）としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数５〜１０のシクロアルキル基（例えばシクロペンチル、シクロヘキシル）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換又は無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、炭素数６〜２０のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。
また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ａを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。

前記一般式（１）における１価の置換基としては、ＯＲ^ｕ（Ｒ^ｕは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、アルキル基、アミド基が好ましく、ＯＲ^ｕ、アルキル基がより好ましい。
Ｒ^ｕは、水素原子又は１価の置換基を表し、１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表すことが好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がさらに好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチルを挙げることができ、メチル又はエチルが好ましく、メチルが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ^１ｎが１価の置換基を表すことが好ましく、Ｒ^１ｎがＯＲ^Ｕを表すことがより好ましい。Ｒ^１ｎがＯＲ^Ｕを表し、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｐがいずれも水素原子を表すことがさらに好ましい。モル吸光係数が大きくなり、遮蔽効果が増すためである。

前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、好ましくは、σ_ｐ値が０．１〜１．２の電子求引性基である。σ_ｐ値が０．１以上の電子求引性基の具体例としては、ＣＯＯＲ^ｒ（Ｒ^ｒは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、ＣＯＮＲ^ｓ _２（Ｒ^ｓは、それぞれ独立に水素原子又は１価の置換基を表す。）、ＣＮ、ハロゲン原子、ＮＯ^２、ＳＯ_２Ｒ^ｔ（Ｒ^ｔは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、ＳＯ_３Ｍ（Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。）、アシル基、ホルミル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ホスホリル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、カルボキシ基（又はその塩）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基（例えばＣＦ_３）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、アシルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σ_ｐ値が０．２以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基などが挙げられる。ハメットのσｐ値については、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．；Ｌｅｏ，Ａ．；Ｔａｆｔ，Ｒ．Ｗ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９１，９１，１６５−１９５に詳しく記載されている。

前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ _２、ＣＮ、ＣＦ_３、ハロゲン原子、ＮＯ^２、ＳＯ_２Ｒ^ｔ、ＳＯ_３Ｍである。この中でもＣＯＯＲ^ｒ又はＣＮがより好ましく、ＣＯＯＲ^ｒ、であることがさらに好ましい。優れた耐光性と溶解性を有するためである。
Ｒ^ｒとしては水素原子又は１価の置換基を表し、１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチルを挙げることができ、メチル又はエチルが好ましく、メチルが特に好ましい。
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ^１ｃがＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ _２、ＣＮ、ＣＦ_３、ハロゲン原子、ＮＯ^２、ＳＯ_２Ｒ^ｔ、ＳＯ_３Ｍのいずれかであることが好ましく、ＣＯＯＲ^ｒ又はＣＮよりが好ましい。

また、本発明において、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^１ｈが前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがさらに好ましい。
Ｒ^１ｃ及びＲ^１ｈが共に前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが特に好ましい。
優れた耐光性を有するためである

前記一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。

前記一般式（１）で表される化合物は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。

前記一般式（１）で表される化合物は、同位元素（例えば、^２Ｈ、^３Ｈ、^１３Ｃ、^１５Ｎ、^１７Ｏ、^１８Ｏなど）を含有していてもよい。

前記一般式（１）で表される化合物は、任意の方法で合成することができる。
例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば、特開平７−１８８１９０号公報、特開平１１−３１５０７２、特開２００１−２２０３８５号公報、「染料と薬品」第４０巻１２号（１９９５）の３２５〜３３９ページなどを参考にして合成できる。具体的には、例示化合物（１９）は ４−メトキシサリチルアミドと3,5-ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル クロリドとベンズアミジン塩酸塩とを反応させることにより合成できる。

一般式（１）で表される化合物は、有機材料を光・酸素又は熱による損傷に対して安定化させるのに特に適している。中でも本発明の前記一般式（１）で表される化合物は、光安定剤、又は紫外線吸収剤として用いることが好ましく、紫外線吸収剤として用いることがより好ましい（以下「一般式（１）で表される紫外線吸収剤」と称する場合がある）。
前記一般式（１）で表される化合物は、一種のみ用いてもよく、二種以上を併用することもできる。
前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の極大吸収波長は、特に限定されないが、好ましくは２５０〜４００ｎｍであり、より好ましくは２８０〜３８０ｎｍである。半値幅は好ましくは２０〜１００ｎｍであり、より好ましくは４０〜８０ｎｍである。

本発明において規定される極大吸収波長及び半値幅は、当業者が容易に測定することができる。測定方法に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座 ７ 分光ＩＩ」（丸善，１９９２年）１８０〜１８６ページなどに記載されている。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製又はガラス製のセルを用いて、試料用と対照用の２つのセルを使用して分光光度計によって測定される。用いる溶媒は、試料の溶解性と合わせて、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性があまり著しくないこと等が要求される。上記条件を満たす溶媒であれば、任意のものを選択することができる。本発明においては、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）を溶媒に用いて測定を行うこととする。

本発明における紫外線吸収剤の極大吸収波長及び半値幅は、酢酸エチルを溶媒として、濃度約５×１０^−５ｍｏｌ・ｄｍ^−３の溶液を調製し、光路長１０ｍｍの石英セルを使用して測定した値を使用する。

スペクトルの半値幅に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座３ 基本操作ＩＩＩ」（丸善、１９９１年）１５４ページなどに記載がある。なお、上記成書では波数目盛りで横軸を取った例で半値幅の説明がなされているが、本発明における半値幅は波長目盛りで軸を取った場合の値を用いることとし、半値幅の単位はｎｍである。具体的には、極大吸収波長における吸光度の１／２の吸収帯の幅を表し、吸収スペクトルの形を表す値として用いられる。半値幅が小さいスペクトルはシャープなスペクトルであり、半値幅が大きいスペクトルはブロードなスペクトルである。ブロードなスペクトルを与える紫外線吸収化合物は、極大吸収波長から長波側の幅広い領域にも吸収を有するので、黄色味着色がなく長波紫外線領域を効果的に遮蔽するためには、半値幅が小さいスペクトルを有する紫外線吸収化合物の方が好ましい。

時田澄男著「化学セミナー９ カラーケミストリー」（丸善、１９８２年）１５４〜１５５ページに記載されているように、光の吸収の強さすなわち振動子強度はモル吸光係数の積分に比例し、吸収スペクトルの対称性がよいときは、振動子強度は極大吸収波長における吸光度と半値幅の積に比例する（但しこの場合の半値幅は波長目盛りで軸を取った値である）。このことは遷移モーメントの値が同じとした場合、半値幅が小さいスペクトルを有する化合物は極大吸収波長における吸光度が大きくなることを意味している。このような紫外線吸収化合物は少量使用するだけで極大吸収波長周辺の領域を効果的に遮蔽できるメリットがあるが、波長が極大吸収波長から少し離れると急激に吸光度が減少するために、幅広い領域を遮蔽することができない。

紫外線吸収剤は、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上であることが好ましく、３００００以上であることがより好ましく、５００００以上であることが特に好ましい。２００００以上であれば、紫外線吸収剤の質量当たりの吸収効率が十分得られるため、紫外線領域を完全に吸収するための紫外線吸収剤の使用量を低減できる。これは皮膚刺激性や生体内への蓄積を防ぐ観点、及びブリードアウトが生じにくい点から好ましい。なお、モル吸光係数については、例えば日本化学会編「新版実験化学講座９ 分析化学［ＩＩ］」（丸善、１９７７年）２４４ページなどに記載されている定義を用いたものであり、上述した極大吸収波長及び半値幅を求める際に合わせて求めることができる。

（極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤）
前述したように本発明の紫外線吸収剤組成物は前記一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する。
また、極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤は前記一般式（１）で表される化合物と基本骨格構造の異なるものであることが好ましい。基本骨格構造の異なる二種類の紫外線吸収剤を併用すると、広い波長領域の紫外線を吸収することができるためである。また、紫外線吸収剤組成物は前記一般式（１）で表される化合物を併用すると、紫外線吸収剤の分散状態が安定化する作用もある。

極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤としては、いずれのものでも使用でき、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、及びトリアジン系化合物を挙げることができる。又はインケミカル、２００４年５月号、２８〜３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６〜１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４〜６４ページなどに記載されている紫外線吸収剤が挙げられる。

極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤として好ましくは、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、及びトリアジン系化合物より選択される少なくとも１種である特に好ましくはベンゾオキサジノン系化合物である。

ベンゾオキサジノン系化合物の有効吸収波長は約３４０〜４２０ｎｍであり、例えば２，２’−ｐ−フェニレンビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（６−メチルー４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（６−クロロー４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（６−メトキシー４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（６−ヒドロキシー４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−（ナフタレンー２，６−ジイル）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−（ナフタレンー１，４−ジイル）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−（チオフェンー２，５−ジイル）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−（フランー２，５−ジイル）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）、２，２’−（ピロールー２，５−ジイル）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）等を挙げることができる。中でも好ましくは下記一般式（２）で表されるベンゾオキサジノン系化合物を挙げることができる。

ベンゾトリアゾール系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３８０ｎｍで、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（２−（オクチルオキシカルボニル）エチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−（ジメチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール）２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）−５’−メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。

ベンゾフェノン系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３８０ｎｍで、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ジエチルアミノ−２’−ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン等を挙げることができる。

シアノアクリレート系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３５０ｎｍで、例えば２−エチルヘキシル ２−シアノ−３、３−ジフェニルアクリレート、エチル ２−シアノ−３、３−ジフェニルアクリレート、ヘキサデシル ２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリレート、２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリル酸塩、１，３−ビス（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）−２，２−ビス（（（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）メチル）プロパン等を挙げることができる。

トリアジン系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３８０ｎｍで、例えば２−（４−ヘキシロキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（４−オクチロキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，５−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（３−（２−エチルヘキシロキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（３−ドデシロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等を挙げることができる。

ベンゾオキサゾール系化合物の有効吸収波長は約３４０〜４２０ｎｍで、例えば２，５−チオフェンジイル（５−ｔｅｒｔ−ブチルー１，３−ベンゾオキサゾール）、４，４’−ビス（ベンゾオキサゾール−２−イル）スチルベン、２，６−ジ（ベンゾオキサゾールー２−イル）ナフタレン、１，４−ジ（ベンゾオキサゾールー２−イル）ナフタレン、１，４−ジ（ベンゾオキサゾールー２−イル）ベンゼン等を挙げることができる。

メロシアニン系化合物の有効吸収波長は約３４０〜４００ｎｍで、例えばオクチルー５−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノー２−フェニルスルホニルー２，４−ペンタジエノエート等を挙げることができる。

前述したように、本発明においては、一般式（１）で表される化合物とベンゾオキサジノン系化合物を組み合わせて用いることが好ましい。

本発明においては、一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤のみで実用的には十分な紫外線遮蔽効果が得られるものの、更に厳密を要求する場合には隠蔽力の強い白色顔料、例えば酸化チタンなどを併用してもよい。また、外観、色調が問題となる時、あるいは好みによって微量（０．０５質量％以下）の着色剤を併用することができる。また、透明あるいは白色であることが重要である用途に対しては蛍光増白剤を併用してもよい。蛍光増白剤としては市販のものや特開２００２−５３８２４号公報記載の一般式［１］や具体的化合物例１〜３５などが挙げられる。

紫外線吸収剤組成物は、例えば、液体分散物、溶液であってもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、紫外線吸収剤が分散媒体に分散された分散物であってもよい。以下、本発明の紫外線吸収剤を含む紫外線吸収剤分散物について説明する。
本発明の紫外線吸収剤を分散する媒体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。

本発明に用いられる分散媒体の有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどのエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、メチルエチルケトンなどのケトン系、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン系、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系、テトラヒドロフラン、ピリジンなどのヘテロ環系、などが挙げられる。これらを任意の割合で組み合わせて使用することもできる。

本発明に用いられる分散媒体の樹脂としては、従来公知の各種成形体、シート、フィルム等の製造に従来から使用されている熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン−アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、エチレン−ビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、液晶ポリエステル樹脂（ＬＣＰ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、ポリアミド樹脂（ＰＡ）、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂及びポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられ、これらは一種又は二種以上のポリマーブレンドあるいはポリマーアロイとして使用される。また、これらの樹脂は、ナチュラル樹脂にガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤等を含有させた熱可塑性成形材料としても使用される。また、必要に応じて従来使用されている樹脂用の添加剤、例えば、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系ワックス、エチレンビスアマイド系ワックス、金属石鹸等を単独であるいは組み合わせて使用することもできる。

熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらはナチュラル樹脂のほかガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤を含有させた熱硬化性成形材料としても使用することができる。

紫外線吸収剤を含む分散物には、分散剤、泡防止剤、保存剤、凍結防止剤、界面活性剤などを合わせて用いることもできる。その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。

本発明の紫外線吸収剤を含む分散物を得るための装置として、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機などを使用できる。具体的には、コロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置などがある。本発明で使用するのに好ましい高速攪拌型分散機は、ディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケデイーミル、ジェットアジターなど、分散作用する要部が液中で高速回転（５００〜１５，０００ｒｐｍ。好ましくは２，０００〜４，０００ｒｐｍ）するタイプの分散機である。本発明で使用する高速攪拌型分散機は、ディゾルバーないしは高速インペラー分散機とも呼ばれ、特開昭５５−１２９１３６号公報にも記載されているように、高速で回転する軸に鋸歯状のプレートを交互に上下方向に折り曲げたインペラーを着装して成るものも好ましい一例である。

疎水性化合物を含む乳化分散物を調製する際には、種々のプロセスに従うことができる。例えば、疎水性化合物を有機溶媒に溶解するときは、高沸点有機物質、水非混和性低沸点有機溶媒又は水混和性有機溶媒の中から任意に選択された一種、又は二種以上の任意の複数成分混和物に溶解し、次いで界面活性化合物の存在化で、水中あるいは親水性コロイド水溶液中に分散せしめる。疎水性化合物を含む水不溶性相と水性相との混合方法としては、攪拌下に水性相中に水不溶性相を加えるいわゆる順混合法でも、その逆の逆混合法でもよい。

また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、液体状の媒体に溶解された溶液であってもよい。以下、本発明の紫外線吸収剤を含む紫外線吸収剤溶液について説明する。
本発明の紫外線吸収剤を溶解する液体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液の例としては、上述の分散媒体として記載したものが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。

溶液は、その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤以外は必ずしも溶解していなくてもよい。

本発明にかかる紫外線吸収剤を含む溶液における前記紫外線吸収剤の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは溶液の全量に対して０．００１〜３０質量％であり、より好ましくは０．０１〜１０質量％である。あらかじめ高濃度で溶液を作製しておき、所望の時に希釈して使用することもできる。希釈溶媒としては上述の溶媒から任意に選択できる。

本発明の紫外線吸収剤組成物によって安定化されるものは、染料、顔料、食品、飲料、身体ケア製品、ビタミン剤、医薬品、インク、油、脂肪、ロウ、表面コーティング、化粧品、写真材料、織物及びその色素、プラスチック材料、ゴム、塗料、樹脂組成物、高分子添加剤などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いる場合、その態様はいずれの方法であってもよい。本発明の紫外線吸収剤を単独で用いても良いが、紫外線吸収剤を含む樹脂組成物であることが好ましい。以下、本発明にかかる紫外線吸収剤を含む樹脂組成物について説明する。

〔樹脂組成物〕
本発明にかかる紫外線吸収剤を含む樹脂組成物は樹脂を含有する。本発明の紫外線吸収剤を含む樹脂組成物は、樹脂を任意の溶媒に溶解して形成されたものでもよい。

一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤（以下「本発明の紫外線吸収剤」と称する場合がある。）は、様々な方法で樹脂組成物に含有させることができる。本発明の紫外線吸収剤が樹脂組成物と相溶性を有する場合は、本発明の紫外線吸収剤を樹脂組成物に直接添加することができる。樹脂組成物との相溶性を有する補助溶媒に、本発明の紫外線吸収剤を溶解し、その溶液を樹脂組成物に添加してもよい。本発明の紫外線吸収剤を高沸点有機溶媒やポリマー中に分散し、その分散物を樹脂組成物に添加してもよい。

（高沸点有機溶媒）
高沸点有機溶媒の沸点は、１８０℃以上であることが好ましく、２００℃以上であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の融点は、１５０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の例には、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、安息香酸エステル、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、炭酸エステル、アミド、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコール及びパラフィンが含まれる。リン酸エステル、ホスホン酸エステル、フタル酸エステル、安息香酸エステル及び脂肪酸エステルが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤の添加方法については、特開昭５８−２０９７３５号、同６３−２６４７４８号、特開平４−１９１８５１号、同８−２７２０５８号の各公報及び英国特許第２０１６０１７Ａ号明細書を参考にできる。

（樹脂）
樹脂組成物に用いられる樹脂について説明する。樹脂としては、天然あるいは合成ポリマーのいずれであってもよい。例えば、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）、ポリ４−メチルペンテン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリシクロペンテン、ポリノルボルネンなど）、ビニルモノマーのコポリマー（例えば、エチレン／プロピレンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、エチレン／ノルボルネンのようなシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ））、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマーなど）、アクリル系ポリマー（例えば、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリルなど）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー、ポリエーテル（例えば、ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドなど）、ポリアセタール（例えば、ポリオキシメチレン）、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリカーボネート、ポリケトン、ポリスルホンポリエーテルケトン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、セルロースエステル（例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリシロキサン、天然ポリマー（例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンなど）、などが挙げられる。

本発明に用いられる樹脂は、合成ポリマーである場合が好ましく、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、セルロースエステルがより好ましい。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン）、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースが特に好ましい。
本発明に用いられる樹脂は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。

本発明の紫外線吸収剤は、所望の性能を付与するために必要な任意の量を含有させることができる。これらは用いる化合物や樹脂によって異なるが、適宜含有量を決定することができる。含有量としては樹脂組成物中０質量％より大きく２０質量％以下であることが好ましく、０質量％より大きく１０質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以上５％質量以下であることがさらに好ましい。含有量が上記の範囲であれば十分な紫外線遮蔽効果が得られ、ブリードアウトを抑制することができるため好ましい。

本発明の樹脂組成物は、上記の樹脂及び紫外線安定剤に加えて、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤等の任意の添加剤を適宜含有してもよい。

本発明の紫外線吸収剤を含む樹脂組成物は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用可能であるが、特に日光又は紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。具体例としては、例えばガラス代替品とその表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材、住居、施設、輸送機器等のウインドウフィルム、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料及び該塗料によって形成させる塗膜、アルキド樹脂ラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜、アクリルラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器又は包装材、ボトル、ボックス、ブリスター、カップ、特殊包装用、コンパクトディスクコート、農工業用シート又はフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、ポリマー支持体用（例えば、機械及び自動車部品のようなプラスチック製部品用）の保護膜、印刷物オーバーコート、インクジェット媒体被膜、積層艶消し、オプティカルライトフィルム、安全ガラス／フロントガラス中間層、エレクトロクロミック／フォトクロミック用途、オーバーラミネートフィルム、太陽熱制御膜、日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルタ、バックライトディスプレーフィルム、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、金型膜、転写式ステッカー、落書き防止膜、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。

本発明の樹脂組成物より形成した高分子成型品の形状としては、平膜状、粉状、球状粒子、破砕粒子、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状、粒状、板状、多孔質状などのいずれの形状であってもよい。

本発明の高分子材料は、本発明の紫外線吸収剤を含有しているため、優れた耐光性（紫外光堅牢性）を有しており、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じることがない。また、本発明の樹脂組成物は、優れた長波紫外線吸収能を有するので、紫外線吸収フィルタや容器として用いることができ、紫外線に弱い化合物などを保護することもできる。例えば、前記樹脂組成物を押出成形又は射出成形などの任意の方法により成形することで、本発明の樹脂組成物からなる成形品（容器等）を得ることができる。また、別途作製した成形品に前記樹脂組成物の溶液を塗布・乾燥することで、本発明の樹脂組成物からなる紫外線吸収膜がコーティングされた成形品を得ることもできる。

本発明の樹脂組成物を紫外線吸収フィルタや紫外線吸収膜として用いる場合、樹脂は透明であることが好ましい。透明樹脂の例としては、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド及びポリオキシエチレンなどが挙げられる。好ましくはセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル樹脂であり、より好ましくはポリカーボネート、ポリエステルである。さらに好ましくはポリエステルであり、特に好ましくはポリエチレンテレフタレートである。本発明の樹脂組成物より得られた高分子成型品は透明支持体として用いることもでき、透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。

本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されない。

合成例１
（例示化合物（１）の調製）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン（１，８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｎｅ））３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ａを３６．０ｇ得た（収率９１％）。

合成中間体Ａ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと９５％硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｂを１７．１ｇ得た（収率９０％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｂ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（１）を６．１ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１４（Ｍ＋）
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ６．５５−６．５６（１Ｈ），δ６．６２−６．６４（１Ｈ），δ７．５８−７．６５（３Ｈ），δ８．２２−８．２４（２Ｈ），δ８．６２−８．６５（３Ｈ），δ８．７１（２Ｈ），δ１３．３９（１Ｈ）
λｍａｘ＝３４１ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

合成例２
（例示化合物（２）の調製）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−シアノベンゾイル クロリド１９．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｃを３１．２ｇ得た（収率８８％）。

合成中間体Ｃ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｄを１６．５ｇ得た（収率８８％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．１ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｄ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（２）を６．３ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３８１（Ｍ＋）
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ６．５５−６．５６（１Ｈ），δ６．６２−６．６４（１Ｈ），δ７．５８−７．６２（３Ｈ），δ７．６５−７．６９（２Ｈ），δ８．６０−８．６２（３Ｈ），δ８．７６（２Ｈ），δ１３．２６（１Ｈ）
λｍａｘ＝３４２ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

合成例３
（例示化合物（３）の調製）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリド２４．９ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｅを３７．５ｇ得た（収率９２％）。

合成中間体Ｅ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．８ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｆを１７．０ｇ得た（収率９０％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．３ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｆ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（３）を６．０ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４２４（Ｍ＋）
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ６．５６−６．５７（１Ｈ），δ６．６２−６．６５（１Ｈ），δ７．５８−７．６６（３Ｈ），δ７．８２−７．８５（２Ｈ），δ８．６２−８．６４（３Ｈ），δ８．７６（２Ｈ），δ１３．３５（１Ｈ）
λｍａｘ＝３４２ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

合成例４
（例示化合物（４）の調製）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−クロロベンゾイルクロリド２０．９ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｇを３５．０ｇ得た（収率９６％）。

合成中間体Ｇ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．６ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｈを１７．１ｇ得た（収率９１％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．０ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．７ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｈ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（４）を６．５ｇ得た（収率９６％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９０（Ｍ＋）
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ６．５４−６．５５（１Ｈ），δ６．６１−６．６３（１Ｈ），δ７．５３−７．６７（５Ｈ），δ８．６０−８．６２（５Ｈ），δ１３．２６（１Ｈ）
λｍａｘ＝３４０ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

合成例５
（例示化合物（５）の調製）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液にベンゾイルクロリド１６．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｉを２９．５ｇ得た（収率９１％）。

合成中間体Ｉ２５．０ｇにアセトニトリル２５０ｍＬと硫酸１３．５ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン１００ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｊを２１．１ｇ得た（収率９１％）。

塩酸４−アミジノベンズアミド３．５ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｊ４．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（５）を５．８ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９９（Ｍ＋）
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ６．５７（１Ｈ），δ６．６３−６．６５（１Ｈ），δ７．５８−７．６６（３Ｈ），δ８．００−８．０２（２Ｈ），δ８．６４−８．６６（３Ｈ），δ８．７４（２Ｈ），δ１３．４１（１Ｈ）
λｍａｘ＝３４０ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

合成例６
（例示化合物（２９）の調製）
例示化合物（１）１０ｇに２−エチルヘキサノール３１．６ｇ、ＮａＯＭｅ０．１３ｇとキシレン１００ｍＬを添加し、減圧下９０℃で６時間攪拌した。この反応液に水と酢酸エチルを添加して攪拌し、分液した有機層を濃縮した。得られた残渣をヘキサン／イソプロピルアルコール（体積比で１：１０）で晶析することで例示化合物（２９）を１５．１ｇ得た（収率９６％）。

合成例７
（例示化合物（３２）の調製）
例示化合物（１）１０ｇにファインオキソコール１８０Ｎ（日産化学化学工業製）９．８ｇ、ＮａＯＭｅ０．１３ｇとキシレン１００ｍＬを添加し、減圧下９０℃で６時間攪拌した。この反応液に水と酢酸エチルを添加して攪拌し、分液した有機層を濃縮した。得られた残渣をヘキサン／イソプロピルアルコール（体積比で１：１０）で晶析することで例示化合物（３２）を１５．１ｇ得た（収率９６％）。

合成例８
（例示化合物（６３）の調製）
４−メトキシサリチル酸フェニル１０．０ｇにメタノール１００ｍＬ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１５．８ｇ、塩酸４−アミジノ安息香酸メチル１４．６ｇを添加した。この溶液を６０℃で５時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（６３）を１８．０ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４７２（Ｍ＋）

合成例９
（例示化合物（６４）の調製）
塩酸４−アミジノ安息香酸メチル４．２ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｄ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（６４）を７．５ｇ得た（収率９５％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４３９（Ｍ＋）

合成例１０
（例示化合物（６５）の調製）
塩酸４−アミジノベンズアミド３．６ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｂ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（６５）を６．９ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４５７（Ｍ＋）

合成例１１
（例示化合物（７５）の調製）
サリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ４４．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２９．０ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｋを４０．０ｇ得た（収率９２％）。

合成中間体Ｋ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．４ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｌを１８．２ｇ得た（収率９７％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．１ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｌ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（７５）を６．４ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３８４（Ｍ＋）

合成例１２
（例示化合物（８０）の調製）
２−ヒドロキシ−４−メチルベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ４０．３ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２５．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｍを３６．３ｇ得た（収率８９％）。

合成中間体Ｍ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．１ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｎを１７．６ｇ得た（収率９３％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．９ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．７ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｎ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（７５）を６．３ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９８（Ｍ＋）

合成例１３
（例示化合物（８１）の調製）
２−ヒドロキシ−４−（トリフルオロメチル）ベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ２９．７ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル１９．４ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｏを３４．１ｇ得た（収率９５％）。

合成中間体Ｏ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸６．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｐを１８．４ｇ得た（収率９７％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．３ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｐ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（８１）を５．９ｇ得た（収率９１％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４５２（Ｍ＋）

合成例１４
（例示化合物（９０）の調製）
２−ヒドロキシ−５−メトキシベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｑを３８．０ｇ得た（収率９６％）。

合成中間体Ｑ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｒを１８．１ｇ得た（収率９６％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｒ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（９０）を６．２ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１４（Ｍ＋）

合成例１５
（例示化合物（９３）の調製）
２−ヒドロキシ−５−クロロベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３５．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．１ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｓを３８．１ｇ得た（収率９８％）。

合成中間体Ｓ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．０ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｔを１８．３ｇ得た（収率９７％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．５ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．３ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｔ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（９３）を６．１ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１８（Ｍ＋）

合成例１６
（例示化合物（９６）の調製）
２−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｕを３７．８ｇ得た（収率９５％）。

合成中間体Ｕ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｖを１７．７ｇ得た（収率９４％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｖ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（９６）を６．５ｇ得た（収率９８％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１４（Ｍ＋）

合成例１７
（例示化合物（１０７）の調製）
３−ヒドロキシ−２−ナフトアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３２．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２１．２ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｗを３５．１ｇ得た（収率９４％）。

合成中間体Ｗ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．１ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｘを１７．９ｇ得た（収率９４％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．３ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．０ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｘ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（１０７）を６．１ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４３４（Ｍ＋）

＜紫外線吸収剤組成物の調製＞
塩化メチレンにＰＭＭＡ樹脂（商品名：ダイヤナールＢＲ−８０、三菱レイヨン製）を２２質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。次に、当該バインダー溶液に例示化合物（１）を０．４質量％と、吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤として、一般式（２）のベンゾオキサジノン系化合物を０．１質量％溶解させ、紫外線吸収剤組成物１を調製した。

＜ポリマーフィルムの作成及び評価＞
ガラスを基材とし、その上に上記紫外線吸収剤組成物１を２００μｍのブレードにより塗布し、１０分間１００℃で乾燥させ、膜厚５０μｍの被膜を形成して、フィルムを作成した。同様にして、例示化合物（２）、例示化合物（３）、例示化合物（４）、例示化合物（５）、例示化合物（２９）、例示化合物（３２）、例示化合物（６３）、例示化合物（６４）、例示化合物（６５）、例示化合物（７５）、例示化合物（８０）、例示化合物（８１）、例示化合物（９０）、例示化合物（９３）、例示化合物（９６）、例示化合物（１０７）、並びに比較化合物について紫外線吸収剤組成物を調整し、フィルムを作成した。作成したフィルムは島津製作所製分光光度計ＵＶ−３６００（商品名）を用いて吸光度を測定した。このフィルムに対して、メタルハライドランプ（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ^２、温度６３℃、湿度５０％の条件で光照射し、４００時間照射後の吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
残存量（％）＝１００×（１００−照射後の透過率）／（１００−照射前の透過率）
なお、透過率はそれぞれの４００ｎｍで測定した値である。結果を表１に示す。

表１の結果から明らかなように、本発明の化合物を含有する樹脂組成物は、比較化合物（ＵＶ−Ａ領域に吸収を有する既存の紫外線吸収剤）を含有する樹脂組成物と比較して、フィルム中の吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤の残存率が高く、光照射によって分解しにくいことがわかった。

Claims (10)

1. 下記一般式（１）で表される化合物（ただし、糖残基を有する化合物を除く。）と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する紫外線吸収剤組成物。
   一般式（１）
   

   

   
   ［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ、Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊは互いに独立して、水素原子、又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
   Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ 、Ｒ ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
   Ｒ ^１ｎ は、水素原子、ＯＲ ^ｕ 、又はＲ ^１ｍ と結合してベンゼン環を形成する基を表す。Ｒ ^ｕ は、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。
   Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅ の置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正であるＣＯＯＲ ^ｒ 、ＣＯＮＲ ^ｓ _２ 、ＣＮ、ＣＦ _３ 、ＮＯ _２ 、ＳＯ _２ Ｒ ^ｔ 、及びＳＯ _３ Ｍより選択される基を表す。Ｒ ^ｒ 、Ｒ ^ｓ 、Ｒ ^ｔ は、水素原子、又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。］
2. Ｒ ^ｒ が水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基である、請求項１に記載の紫外線吸収剤組成物。
3. Ｒ ^１ａ 、Ｒ ^１ｂ 、Ｒ ^１ｃ 、Ｒ ^１ｄ 、Ｒ ^１ｅ 、Ｒ ^１ｆ 、Ｒ ^１ｇ 、Ｒ ^１ｈ 、Ｒ ^１ｉ 、及びＲ ^１ｊ が表す１価の置換基、Ｒ ^１ｋ 、Ｒ ^１ｍ 、及びＲ ^１ｐ が表す１価の置換基、並びにＲ ^ｒ 、Ｒ ^ｓ 、及びＲ ^ｔ が表す１価の置換基が、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、スルホ基、置換又は無置換のスルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基である、請求項１又は２に記載の紫外線吸収剤組成物。
4. 前記Ｒ^１ｃが、ハメット則のσｐ値が正である前記基であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
5. 前記ハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
6. 前記ハメット則のσｐ値が正である前記基がＣＯＯＲ^ｒであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。［Ｒ^ｒは、水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表す。］
7. 前記Ｒ^１ｃが、ＣＮであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
8. 前記極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、及びトリアジン系化合物より選択される少なくとも１種であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
9. 前記極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤が、ベンゾオキサジノン系化合物であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の一般式（１）で表される化合物と極大吸収波長を３４０〜４００ｎｍに有する紫外線吸収剤とを含有する樹脂組成物。