JP5129597B2 - 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法 - Google Patents

紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5129597B2
JP5129597B2 JP2008028228A JP2008028228A JP5129597B2 JP 5129597 B2 JP5129597 B2 JP 5129597B2 JP 2008028228 A JP2008028228 A JP 2008028228A JP 2008028228 A JP2008028228 A JP 2008028228A JP 5129597 B2 JP5129597 B2 JP 5129597B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
substituted
unsubstituted
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008028228A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009185217A (ja
Inventor
一路 尼崎
桂三 木村
洋一郎 竹島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2008028228A priority Critical patent/JP5129597B2/ja
Priority to PCT/JP2009/051904 priority patent/WO2009099110A1/ja
Priority to TW98103640A priority patent/TW200940515A/zh
Publication of JP2009185217A publication Critical patent/JP2009185217A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5129597B2 publication Critical patent/JP5129597B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/20—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing nitrogen and oxygen
    • C09K15/22—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing nitrogen and oxygen containing an amide or imide moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D265/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one nitrogen atom and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
    • C07D265/04—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines
    • C07D265/12—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D265/14—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
    • C07D265/20—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring with hetero atoms directly attached in position 4
    • C07D265/22—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D473/00—Heterocyclic compounds containing purine ring systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Description

本発明は、縮合環化合物およびその製造方法、並びに該化合物からなる紫外線吸収剤に関する。
従来から紫外線吸収剤を種々の樹脂などと共用して紫外線吸収性を付与することが行われている。紫外線吸収剤として無機系紫外線吸収剤と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。無機系紫外線吸収剤（例えば、特許文献１〜３等を参照。）では、耐候性や耐熱性などの耐久性に優れている反面、吸収波長が化合物のバンドギャップによって決定されるため選択の自由度が少なく、４００ｎｍ付近の長波紫外線（ＵＶ−Ａ）領域まで吸収できるものはなく、長波紫外線を吸収するものは可視域まで吸収を有するため着色を伴ってしまう。
これに対して、有機系紫外線吸収剤は、吸収剤の構造設計の自由度が高いために、吸収剤の構造を工夫することによって様々な吸収波長のものを得ることができる。
これまでにも様々な有機系紫外線吸収剤を用いた系が検討されており、長波紫外線領域まで吸収する場合には、極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものを用いるか、濃度を濃くするかの２通りが考えられている。しかし、特許文献４及び５等に記載された極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものは耐光性が悪く、吸収能が時間とともに減少していってしまう。
これに対してベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は比較的耐光性も良く、濃度や膜厚を大きくすれば長波長領域まで比較的クリアにカットできる（例えば特許文献６及び７等を参照。）。また、ベンゾオキサジノン系の紫外線吸収剤も知られている（例えば特許文献８、９参照）。しかし、通常これらの紫外線吸収剤を樹脂等に混ぜて塗布する場合、膜厚は数十μｍ程度が限界である。この膜厚では長波長領域までカットしようとするとかなり高濃度に紫外線吸収剤を添加する必要がある。しかしながら、単に高濃度に添加しただけでは紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じるという問題があった。また、ベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤の中には、皮膚刺激性や生体内への蓄積性を有するものがあり、使用にあたっては細心の注意が必要であった。
特開平５−３３９０３３号公報 特開平５−３４５６３９号公報 特開平６−５６４６６号公報 特開平６−１４５３８７号公報 特開２００３−１７７２３５号公報 特開２００５−５１７７８７号公報 特開平７−２８５９２７号公報 特開昭６２−１１７４４号公報 特開２００３−４０７２６号公報
本発明の目的は、上記の問題点を解決するものであり、共用する高分子材料の紫外光耐久性を向上させることだけでなく、該高分子材料を紫外線フィルタとして用いることによって他の安定でない化合物の分解を抑制することもできる、長波紫外線吸収能を長時間維持した紫外線吸収剤として用いることができる化合物を提供することにある。
本発明者らは、縮合環化合物について詳細に検討した結果、光堅牢性が高く、これまでカバーすることができなかった長波長領域の紫外線を吸収できる従来知られていない構造を有する化合物を見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の課題は、以下の方法によって達成された。
＜１＞下記一般式（１）で表される化合物からなる紫外線吸収剤。
Figure 0005129597
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ａは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表す。）
＜２＞前記一般式（１）におけるＡが、下記一般式（２）で表される基である、＜１＞項に記載の紫外線吸収剤。
Figure 0005129597
 （式中、Ｚ1は、環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
＜３＞前記一般式（２）で表される基が、下記一般式（３）、（４）又は（５）のいずれかで表される基である、＜２＞項に記載の紫外線吸収剤。
Figure 0005129597
 （一般式（３）〜（５）中、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、Ｒ２ｄ、Ｒ２ｅ及びＲ２ｆは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ｚ２及びＺ３は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｚ４は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
＜４＞前記一般式（３）、（４）又は（５）のいずれかで表される基が、下記一般式（６）、（７）又は（８）のいずれかで表される基である、＜３＞項に記載の紫外線吸収剤。
Figure 0005129597
 （一般式（６）〜（８）中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃ、Ｒ３ｄ、Ｒ３ｅ、Ｒ３ｆ、Ｒ３ｇ、Ｒ３ｈ、Ｒ３ｉ、Ｒ３ｊ、Ｒ３ｋ、Ｒ３ｌ、Ｒ３ｍ、Ｒ３ｎ、Ｒ３ｏ、Ｒ３ｐ及びＲ３ｑは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表す。）
＜５＞溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１となるように調液したとき、３５０ｎｍにおける吸光度が０．２以上である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤。
＜６＞溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１となるように調液したとき、３９５ｎｍにおける吸光度が０．０５以下である、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤。
＜７＞熱質量測定にて２８０℃、３０分加熱の前後における質量減少率が２０％以下である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤。
＜８＞下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される化合物。
Figure 0005129597
 （一般式（９）〜（１１）中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃ、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅ、Ｒ４ｆ、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈ、Ｒ４ｉ、Ｒ４ｊ、Ｒ４ｋ、Ｒ４ｌ、Ｒ４ｍ及びＲ４ｎは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ｚ５及びＺ６は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｚ７は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
＜９＞前記一般式（９）、（１０）又は（１１）におけるＡが、下記一般式（１２）、（１３）又は（１４）のいずれかで表される基である、＜８＞項に記載の化合物。
Figure 0005129597
 （一般式（１２）〜（１４）中、Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ５ｅ、Ｒ５ｆ、Ｒ５ｇ、Ｒ５ｈ、Ｒ５ｉ、Ｒ５ｊ、Ｒ５ｋ、Ｒ５ｌ、Ｒ５ｍ、Ｒ５ｎ、Ｒ５ｏ、Ｒ５ｐ及びＲ５ｑは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表す。）
＜１０＞無置換もしくは対応する前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ ４ａ 〜Ｒ ４ｄ における置換基を有するアントラニル酸と、無置換もしくは対応する前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ ４ｅ 〜Ｒ ４ｈ における置換基を有する無水イサト酸とを反応させる工程、並びに前記工程で得られた反応中間体に下記一般式（１５）、（１６）又は（１７）のいずれかで表される化合物を反応させる工程を含む、＜８＞又は＜９＞項に記載の化合物の製造方法。
Figure 0005129597
 （一般式（１５）〜（１７）中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれハロゲン原子を表す。Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ６ｃ、Ｒ６ｄ、Ｒ６ｅ及びＲ６ｆは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｚ１０は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
本発明の化合物は、高い光堅牢性を有する紫外線吸収剤として用いることができる。また、本発明の紫外線吸収剤は、プラスチック、繊維などの高分子成形品に含有させることで高分子成形品の光安定性を高めることができる。さらに、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は、優れた紫外線吸収能を活用して、紫外線に弱い内容物を保護するフィルタや容器として用いることができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の紫外線吸収剤は、前記一般式（１）で表される化合物からなる。
本発明の紫外線吸収剤は、溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１としたとき、３５０ｎｍにおける吸光度が０．２以上であることが好ましい。また、３９５ｎｍにおける吸光度が０．０５以下であることが好ましい。３５０ｎｍにおける吸光度は、より好ましくは０．２５以上であり、更に好ましくは０．３以上であり、特に好ましくは０．３５以上である。また、３９５ｎｍにおける吸光度は、より好ましくは０．０３以下であり、更に好ましくは０．０２以下であり、特に好ましくは０．０１以下である。吸光度の測定は、例えば島津製作所製分光光度計ＵＶ−３６００（商品名）を用いて行うことができる。
本発明における溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１としたときの吸光度について説明する。本発明における分光最大吸収波長を測定するための溶液とは、本発明の化合物を有機もしくは無機の溶媒または水を単独あるいはそれぞれの混合物を用いて溶解したものである。
有機溶媒の例としては、例えば、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ−デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン、クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ−ピコリン、２，６−ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、カルボン酸系溶媒（例えば酢酸、プロピオン酸）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）、スルホン酸系溶媒（例えばメタンスルホン酸）、アミン系溶媒（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン）が挙げられる。無機溶媒の例としては、例えば、硫酸、リン酸が挙げられる。
溶解性を考慮すると、好ましくはアミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒である。濃度は、分光吸収の最大吸収波長が確認できる濃度であればよく、好ましくは１×１０-7〜１×１０13ｍＭの範囲である。温度は、特に限定しないが、好ましくは０℃〜８０℃である。
また、本発明の紫外線吸収剤は、熱質量測定での２８０℃、３０分加熱の前後における質量減少率が２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１８％以下であり、より好ましくは１５％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。熱質量測定は、例えば熱質量分析計（ＴＧ／ＤＴＡ６２００、商品名、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を用いて行うことができる。
以下、前記一般式（１）で表される化合物について説明する。
前記一般式（１）におけるＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈは、それぞれ互いに独立して水素原子または下記置換基Ｒから選択される置換基を表す。
１価の置換基（以下Ｒとする）の例としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）の直鎖又は分岐のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０）のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、炭素数７〜２０（好ましくは７〜１０）のアリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０）のアルキルカルボニル基（例えばアセチル）、炭素数７〜２０（好ましくは７〜１０）のアリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）のスルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０）のイミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のイミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルコキシ基（例えばメトキシ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールオキシ基（例えばフェノキシ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシルオキシ基（例えばアセトキシ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルチオ基（例えばメチルチオ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールチオ基（例えばフェニルチオ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、４〜７員環（好ましくは５〜６員環）のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）、４〜７員環（好ましくは５〜６員環）のヘテロ環オキシ基（例えばピリジルオキシ）、４〜７員環（好ましくは５〜６員環）のヘテロ環チオ基（例えばピリジルチオ）などを挙げることができる。また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ｒを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
前記一般式（１）におけるＲ1a、Ｒ1b、Ｒ1c、Ｒ1d、Ｒ1e、Ｒ1f、Ｒ1g及びＲ1hとして好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。さらに好ましくは水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ1c、Ｒ1d、Ｒ1e、Ｒ1f、Ｒ1g及びＲ1hのすべてが水素原子を表す場合である。
前記一般式（１）におけるＡは、上述の１価の置換基Ｒで挙げた置換基を表す。前記一般式（１）におけるＡは、前記一般式（２）で表される基であることが好ましい。
前記一般式（２）におけるＺ1は、環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。非金属原子としては、例えば、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子などを挙げることができる。形成される環は、４〜７員環が好ましく、５〜６員環がより好ましい。これらの環は縮環していても良い。また、これらの環は置換基を有していても良い。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
Ｚ1により形成される環としては、例えば、シクロヘキサン、シクロペンタンなどの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環、ピリジン、ピロール、ピリダジン、チオフェン、イミダゾール、フラン、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾ−ルまたはこれらのベンゾ縮環体などのヘテロ環が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素環、ヘテロ環である。より好ましくは芳香族炭化水素環であり、耐光性に優れている点から、特に好ましくはナフタレン環である。
前記一般式（２）で表される基は、前記一般式（３）〜（５）のいずれかで表される基であることが好ましい。
前記一般式（３）〜（５）において、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、Ｒ２ｄ、Ｒ２ｅ及びＲ２ｆは、それぞれ互いに独立して水素原子または上述の置換基Ｒで挙げた置換基を表す。Ｒ ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、Ｒ２ｄ、Ｒ２ｅ及びＲ２ｆとして好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子またはヒドロキシ基である。さらに好ましくは水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、Ｒ２ｄ、Ｒ２ｅ及びＲ２ｆのすべてが水素原子を表す場合である。
前記一般式（３）又は（４）におけるＺ2及びＺ3は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。非金属原子としては例えば、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子などを挙げることができる。形成される環は、４〜７員環が好ましく、５〜６員環がより好ましい。これらの環は縮環していても良い。また、これらの環は置換基を有していても良い。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
Ｚ2又はＺ3により形成される環としては、例えば、シクロヘキサン、シクロペンタンなどの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環、ピリジン、ピロール、ピリダジン、チオフェン、イミダゾール、フラン、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾ−ルまたはこれらのベンゾ縮環体などのヘテロ環が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素環、ヘテロ環である。より好ましくは芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
前記一般式（５）におけるＺ4は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。非金属原子としては例えば、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子などを挙げることができる。形成される環は、４〜７員環が好ましく、５〜６員環がより好ましい。これらの環は縮環していても良い。また、これらの環は置換基を有していても良い。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
Ｚ4により形成される複素環としては、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，３，４−チアジアゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インダゾール、ベンズイソオキサゾール、ベンズイソチアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、キノリン、イソキノリン、チノリン、キナゾリン、フタルアジン、キノキサリン、アクリジン、フェナントリジン、プテリジン、カルバゾール、β−カルボリン、ピュリン、クマリン、ジベンゾフラン、フェノチアゾール、１，１０−フェナントロリン、フラボンなどが挙げられる。複素環として好ましくはチオフェン、フラン、ピロール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、インドールである。より好ましくはチオフェン、フラン、インドールである。耐光性に優れている点から、特に好ましくは、チオフェンである。複素環の結合位置はいずれでも良い。例えば複素５員環化合物チオフェンでの結合位置は、２位および３位が挙げられる。また、複素６員環化合物ピリジンでの結合位置は、２位、３位および４位が挙げられる。
前記一般式（３）〜（５）のいずれかで表される基のうち、好ましくは前記一般式（３）又は（５）で表される基であり、特に好ましくは前記一般式（３）で表される基である。
また、前記一般式（３）〜（５）のいずれかで表される基は、それぞれ前記一般式（６）〜（８）のいずれかで表される基であることが好ましい。
前記一般式（６）〜（８）において、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃ、Ｒ３ｄ、Ｒ３ｅ、Ｒ３ｆ、Ｒ３ｇ、Ｒ３ｈ、Ｒ３ｉ、Ｒ３ｊ、Ｒ３ｋ、Ｒ３ｌ、Ｒ３ｍ、Ｒ３ｎ、Ｒ３ｏ、Ｒ３ｐ及びＲ３ｑは、それぞれ互いに独立して水素原子または上述の置換基Ｒで挙げた置換基を表す。
Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g、Ｒ3h、Ｒ3i、Ｒ3j、Ｒ3k、Ｒ3l、Ｒ3m、Ｒ3n、Ｒ3o、Ｒ3p及びＲ3qとして好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子またはヒドロキシ基である。さらに好ましくは水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g、Ｒ3h、Ｒ3i、Ｒ3j、Ｒ3k、Ｒ3l、Ｒ3m、Ｒ3n、Ｒ3o、Ｒ3p及びＲ3qのすべてが水素原子を表す場合である。
次に、本発明の前記一般式（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物について説明する。
前記一般式（９）〜（１１）において、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃ、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅ、Ｒ４ｆ、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈ、Ｒ４ｉ、Ｒ４ｊ、Ｒ４ｋ、Ｒ４ｌ、Ｒ４ｍ及びＲ４ｎは、それぞれ互いに独立して水素原子または上述の置換基Ｒで挙げた置換基を表す。Ｒ ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃ、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅ、Ｒ４ｆ、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈ、Ｒ４ｉ、Ｒ４ｊ、Ｒ４ｋ、Ｒ４ｌ、Ｒ４ｍ及びＲ４ｎとして好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。さらに好ましくは水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃ、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅ、Ｒ４ｆ、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈ、Ｒ４ｉ、Ｒ４ｊ、Ｒ４ｋ、Ｒ４ｌ、Ｒ４ｍ及びＲ４ｎのすべてが水素原子を表す場合である。
前記一般式（９）又は（１０）におけるＺ5及びＺ6は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。非金属原子としては例えば、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子などを挙げることができる。形成される環は、４〜７員環が好ましく、５〜６員環がより好ましい。これらの環は縮環していても良い。また、これらの環は置換基を有していても良い。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
Ｚ5又はＺ6により形成される環としては、例えば、シクロヘキサン、シクロペンタンなどの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環、ピリジン、ピロール、ピリダジン、チオフェン、イミダゾール、フラン、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾ−ルまたはこれらのベンゾ縮環体などのヘテロ環が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素環、ヘテロ環である。より好ましくは芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
前記一般式（１１）におけるＺ7は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。非金属原子としては例えば、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子などを挙げることができる。形成される環は、４〜７員環が好ましく、５〜６員環がより好ましい。これらの環は縮環していても良い。また、これらの環は置換基を有していても良い。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
Ｚ7により形成される複素環としては、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，３，４−チアジアゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インダゾール、ベンズイソオキサゾール、ベンズイソチアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、キノリン、イソキノリン、チノリン、キナゾリン、フタルアジン、キノキサリン、アクリジン、フェナントリジン、プテリジン、カルバゾール、β−カルボリン、ピュリン、クマリン、ジベンゾフラン、フェノチアゾール、１，１０−フェナントロリン、フラボンなどが挙げられる。複素環として好ましくはチオフェン、フラン、ピロール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、インドールである。より好ましくはチオフェン、フラン、インドールである。特に好ましくは、チオフェンである。複素環の結合位置はいずれでも良い。例えば複素５員環化合物チオフェンでの結合位置は、２位および３位が挙げられる。また、複素６員環化合物ピリジンでの結合位置は、２位、３位および４位が挙げられる。
前記一般式（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物のうち、好ましくは前記一般式（９）又は（１１）で表される化合物であり、特に好ましくは前記一般式（９）で表される化合物である。
また、前記一般式（９）〜（１１）におけるＡは、それぞれ前記一般式（１２）〜（１４）で表される基であることが好ましい。
前記一般式（１２）〜（１４）において、Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ５ｅ、Ｒ５ｆ、Ｒ５ｇ、Ｒ５ｈ、Ｒ５ｉ、Ｒ５ｊ、Ｒ５ｋ、Ｒ５ｌ、Ｒ５ｍ、Ｒ５ｎ、Ｒ５ｏ、Ｒ５ｐ及びＲ５ｑは、それぞれ互いに独立して水素原子または上述の置換基Ｒで挙げた置換基を表す。
Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g、Ｒ5h、Ｒ5i、Ｒ5j、Ｒ5k、Ｒ5l、Ｒ5m、Ｒ5n、Ｒ5o、Ｒ5p及びＲ5qとして好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子またはヒドロキシ基である。さらに好ましくは水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g、Ｒ5h、Ｒ5i、Ｒ5j、Ｒ5k、Ｒ5l、Ｒ5m、Ｒ5n、Ｒ5o、Ｒ5p及びＲ5qのすべてが水素原子を表す場合である。
前記一般式（１２）〜（１４）のいずれかで表される基のうち、好ましくは前記一般式（１２）又は（１４）で表される基であり、特に好ましくは前記一般式（１２）で表される基である。
以下に、前記一般式（１）、（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。なお、本明細書において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ａｃはアセチル基を表す。
Figure 0005129597
Figure 0005129597
Figure 0005129597
Figure 0005129597
Figure 0005129597
Figure 0005129597
前記一般式（１）、（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。
前記一般式（１）、（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物は、同位元素（例えば、2Ｈ、3Ｈ、13Ｃ、15Ｎ、17Ｏ、18Ｏなど）を含有していてもよい。
前記一般式（１）、（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物は、例えば特開２０００−２６４８７９号公報の４ページ左４３行目〜右８行目の実施例、特開２００３−１５５３７５の４ページ右欄５行目〜３０行目の実施例、「Bioorganic ＆ Medicinal Chemistry」，２００２年，１０巻，２２９７−２３０２ページなどを参考にして合成することができる。
例えば、例示化合物（１）は、アントラニル酸、無水イサト酸およびシクロヘキサンカルボニルクロリドから合成できる。例示化合物（８）は、アントラニル酸、無水イサト酸およびサリチル酸から合成できる。例示化合物（２５）は、アントラニル酸、無水イサト酸およびアントラキノン−２−カルボニルクロリドから合成できる。例示化合物（３１）は、アントラニル酸、無水イサト酸および２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸から合成できる。例示化合物（４３）は、アントラニル酸、無水イサト酸および無水トリメリット酸クロリドから合成できる。例示化合物（７０）は、アントラニル酸、無水イサト酸およびキナルジン酸から合成できる。例示化合物（８１）は、５−ヒドロキシアントラニル酸、無水イサト酸および２−ナフトイルクロリドから合成できる。例示化合物（８４）は、２−アミノテレフタル酸、無水イサト酸および２−ナフトイルクロリドから合成できる。
また、前記一般式（１）、（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物は、無置換もしくは対応する前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ ４ａ 〜Ｒ ４ｄ における置換基を有するアントラニル酸と、無置換もしくは対応する前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ ４ｅ 〜Ｒ ４ｈ における置換基を有する無水イサト酸とを反応させる工程、並びに前記工程で得られた反応中間体に前記一般式（１５）、（１６）又は（１７）のいずれかで表される化合物を反応させる工程を含む方法によって製造することができる。この方法によれば、高収率で高純度の化合物を製造することができる。
前記一般式（１５）〜（１７）において、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は、それぞれハロゲン原子を表す。例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、より好ましくは塩素原子または臭素原子であり、特に好ましくは塩素原子である。
前記一般式（１５）〜（１７）におけるＲ6a、Ｒ6b、Ｒ6c、Ｒ6d、Ｒ6e及びＲ6fは、それぞれ前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e及びＲ4fと同義であり、好ましい場合も同じである。
前記一般式（１５）〜（１７）におけるＺ8、Ｚ9及びＺ10は、それぞれ前記一般式（９）〜（１１）のＺ5、Ｚ6及びＺ7と同義であり、好ましい場合も同じである。
以下に、前記一般式（１５）〜（１７）のいずれかで表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。
Figure 0005129597
また、前記一般式（１）で表される化合物の構造を繰り返し単位内に含むポリマーも、本発明の紫外線吸収剤に好適に使用できる。ポリマーは、ホモポリマーであってもよいし、２種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。さらに他の繰り返し単位を含むコポリマーであってもよい。なお、紫外線吸収剤構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公平１−５３４５５号、特開昭６１−１８９５３０号の各公報および欧州特許第２７２４２号明細書などに記載がある。ポリマーを得る方法についてはこれら特許文献の記述を参考にすることができる。
前記一般式（１）又は（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物は紫外線吸収剤として好適に用いることができる。
本発明の前記一般式（１）で表される化合物からなる紫外線吸収剤の使用形態は、いずれでも良い。例えば、液体分散物、溶液、高分子材料などが挙げられる。
本発明の前記一般式（１）で表される化合物からなる紫外線吸収剤は、分散媒体に分散された分散物の状態で使用できる。以下、本発明の紫外線吸収剤を含む紫外線吸収剤分散物について説明する。
本発明の紫外線吸収剤を分散する媒体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
本発明に用いられる分散媒体の有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどのエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、メチルエチルケトンなどのケトン系、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン系、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系、テトラヒドロフラン、ピリジンなどのヘテロ環系、などが挙げられる。これらを任意の割合で組み合わせて使用することもできる。
本発明に用いられる分散媒体の樹脂としては、任意の各種成形体、シート、フィルム等の製造に使用されている熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン−アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、エチレン−ビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、液晶ポリエステル樹脂（ＬＣＰ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、ポリアミド樹脂（ＰＡ）、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂およびポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられ、これらは一種または二種以上のポリマーブレンドあるいはポリマーアロイとして使用される。また、これらの樹脂は、ナチュラル樹脂にガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤等を含有させた熱可塑性成形材料としても使用される。また、必要に応じて任意の樹脂用の添加剤、例えば、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系ワックス、エチレンビスアマイド系ワックス、金属石鹸等を単独であるいは組み合わせて使用することもできる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらはナチュラル樹脂のほかガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤を含有させた熱硬化性成形材料としても使用することができる。
本発明の紫外線吸収剤を含む分散物には、分散剤、泡防止剤、保存剤、凍結防止剤、界面活性剤などを合わせて用いることもできる。その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤を含む分散物を得るための装置として、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機などを使用できる。具体的には、コロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置などがある。本発明で使用するのに好ましい高速攪拌型分散機は、ディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケデイーミル、ジェットアジターなど、分散作用する要部が液中で高速回転（５００〜１５，０００ｒｐｍ。好ましくは２，０００〜４，０００ｒｐｍ）するタイプの分散機である。本発明で使用する高速攪拌型分散機は、ディゾルバーないしは高速インペラー分散機とも呼ばれ、特開昭５５−１２９１３６号公報にも記載されているように、高速で回転する軸に鋸歯状のプレートを交互に上下方向に折り曲げたインペラーを着装して成るものも好ましい一例である。
疎水性化合物を含む乳化分散物を調製する際には、種々のプロセスに従うことができる。例えば、疎水性化合物を有機溶媒に溶解するときは、高沸点有機物質、水非混和性低沸点有機溶媒または水混和性有機溶媒の中から任意に選択された一種、又は二種以上の任意の複数成分混和物に溶解し、次いで界面活性化合物の存在化で、水中あるいは親水性コロイド水溶液中に分散せしめる。疎水性化合物を含む水不溶性相と水性相との混合方法としては、攪拌下に水性相中に水不溶性相を加えるいわゆる順混合法でも、その逆の逆混合法でもよい。
また、本発明の紫外線吸収剤は、液体状の媒体に溶解された溶液の状態で使用できる。以下、本発明の紫外線吸収剤を含む紫外線吸収剤溶液について説明する。
本発明の紫外線吸収剤を溶解する液体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液の例としては、上述の分散媒体として記載したものが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
本発明の紫外線吸収剤を含む溶液は、その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤以外は必ずしも溶解していなくてもよい。
本発明の紫外線吸収剤を含む溶液における前記紫外線吸収剤の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは溶液の全量に対して０．００１〜３０質量％であり、より好ましくは０．０１〜１０質量％である。あらかじめ高濃度で溶液を作製しておき、所望の時に希釈して使用することもできる。希釈溶媒としては上述の溶媒から任意に選択できる。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料の調製には、その高分子組成物が用いられる。本発明に用いられる高分子組成物は、後述する高分子物質に本発明の紫外線吸収剤を添加してなる。
本発明の紫外線吸収剤は、様々な方法で高分子物質に含有させることができる。本発明の紫外線吸収剤が高分子物質との相溶性を有する場合は、本発明の紫外線吸収剤を高分子物質に直接添加することができる。高分子物質との相溶性を有する補助溶媒に、本発明の紫外線吸収剤を溶解し、その溶液を高分子物質に添加してもよい。本発明の紫外線吸収剤を高沸点有機溶媒やポリマー中に分散し、その分散物を高分子物質に添加してもよい。
高沸点有機溶媒の沸点は、１８０℃以上であることが好ましく、２００℃以上であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の融点は、１５０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の例には、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、安息香酸エステル、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、炭酸エステル、アミド、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコール及びパラフィンが含まれる。リン酸エステル、ホスホン酸エステル、フタル酸エステル、安息香酸エステル及び脂肪酸エステルが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤の添加方法については、特開昭５８−２０９７３５号、同６３−２６４７４８号、特開平４−１９１８５１号、同８−２７２０５８号の各公報および英国特許第２０１６０１７Ａ号明細書を参考にできる。
本発明の紫外線吸収剤を含む溶液における前記紫外線吸収剤の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは高分子材料中０．００１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０１〜５質量％である。
また、本発明の紫外線吸収剤は、高分子材料に好ましく用いられる。以下、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料について説明する。
本発明においては、本発明の紫外線吸収剤のみで実用的には十分な紫外線遮蔽効果が得られるものの、更に厳密を要求する場合には隠蔽力の強い白色顔料、例えば酸化チタンなどを併用してもよい。また、外観、色調が問題となる時、あるいは好みによって微量（０．０５質量％以下）の着色剤を併用することができる。また、透明あるいは白色であることが重要である用途に対しては蛍光増白剤を併用してもよい。蛍光増白剤としては市販のものや特開２００２−５３８２４号公報記載の一般式［１］や具体的化合物例１〜３５などが挙げられる。
続いて、本発明に用いられる高分子物質について説明する。高分子物質としては、天然あるいは合成ポリマーのいずれであってもよい。ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）、ポリ４−メチルペンテン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリシクロペンテン、ポリノルボルネンなど）、ビニルモノマーのコポリマー（例えば、エチレン／プロピレンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、エチレン／ノルボルネンのようなシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：Cyclo-Olefin Copolymer））、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマーなど）、アクリル系ポリマー（例えば、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリルなど）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー、ポリエーテル（例えば、ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドなど）、ポリアセタール（例えば、ポリオキシメチレン）、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリカーボネート、ポリケトン、ポリスルホンポリエーテルケトン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、セルロースエステル（例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリシロキサン、天然ポリマー（例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンなど）、などが例として挙げられる。
本発明に用いられる高分子物質は、合成ポリマーである場合が好ましく、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、セルロースエステルがより好ましい。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン）、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースが特に好ましい。
本発明に用いられる高分子物質は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は、上記の高分子物質および紫外線吸収剤に加えて、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤等の任意の添加剤を適宜含有してもよい。
本発明の化合物は、有機材料を光・酸素または熱による損傷に対して安定化させるのに特に適している。中でも本発明の化合物は光安定剤、とりわけ紫外線吸収剤として用いることに最も適している。以下、本発明の化合物の紫外線吸収剤としての用途について説明する。
本発明の紫外線吸収剤によって安定化されるものは、染料、顔料、食品、飲料、身体ケア製品、ビタミン剤、医薬品、インク、油、脂肪、ロウ、表面コーティング、化粧品、写真材料、織物及びその色素、プラスチック材料、ゴム、塗料、高分子材料、高分子添加剤などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤を用いる場合、その態様はいずれの方法であってもよい。本発明の紫外線吸収剤を単独で用いても、組成物として用いても良いが、組成物として用いることが好ましい。中でも、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料であることが好ましい。以下、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料について説明する。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は前記高分子物質を用いてなる。本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は、前記高分子物質のみから形成されたものでもよく、また、前記高分子物質を任意の溶媒に溶解して形成されたものでもよい。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用可能であるが、特に日光又は紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。具体例としては、例えばガラス代替品とその表面コーティング材、住居・施設・輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材、住居・施設・輸送機器等のウインドウフィルム、住居・施設・輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料及び、該塗料によって形成させる塗膜、アルキド樹脂ラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜、アクリルラッカー塗料及び該塗料によって形成される塗膜、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器又は包装材、ボトル、ボックス、ブリスター、カップ、特殊包装用、コンパクトディスクコート、農工業用シート又はフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、ポリマー支持体用（例えば、機械及び自動車部品のようなプラスチック製部品用）の保護膜、印刷物オーバーコート、インクジェット媒体被膜、積層艶消し、オプティカルライトフィルム、安全ガラス／フロントガラス中間層、エレクトロクロミック／フォトクロミック用途、オーバーラミネートフィルム、太陽熱制御膜、日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルタ、バックライトディスプレーフィルム、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、金型膜、転写式ステッカー、落書き防止膜、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料の形状としては、平膜状、粉状、球状粒子、破砕粒子、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状、粒状、板状、多孔質状などのいずれの形状であってもよい。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は、本発明の紫外線吸収剤を含有しているため、優れた耐光性（紫外光堅牢性）を有しており、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じることがない。また、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は、優れた長波紫外線吸収能を有するので、紫外線吸収フィルタや容器として用いることができ、紫外線に弱い化合物などを保護することもできる。例えば、前記高分子物質を押出成形又は射出成形などの任意の方法により成形することで、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料からなる成形品（容器等）を得ることができる。また、別途作製した成形品に前記高分子物質の溶液を塗布・乾燥することで、本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料からなる紫外線吸収膜がコーティングされた成形品を得ることもできる。
本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料を紫外線吸収フィルタや紫外線吸収膜として用いる場合、高分子物質は透明であることが好ましい。透明高分子材料の例としては、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド及びポリオキシエチレンなどが挙げられる。好ましくはセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル樹脂であり、より好ましくはポリカーボネート、ポリエステルである。さらに好ましくはポリエステルであり、特に好ましくはポリエチレンテレフタレートである。本発明の紫外線吸収剤を含む高分子材料は透明支持体として用いることもでき、透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
本発明において、異なる構造を有する二種類以上の前記一般式（１）で表される化合物を併用してもよいし、前記一般式（１）で表される化合物とそれ以外の構造を有する一種類以上の紫外線吸収剤とを併用してもよい。二種類（好ましくは三種類）の紫外線吸収剤を併用すると、広い波長領域の紫外線を吸収することができる。また、二種類以上の紫外線吸収剤を併用すると、紫外線吸収剤の分散状態が安定化するとの作用もある。前記一般式（１）以外の構造を有する紫外線吸収剤としては、いずれのものでも使用できる。紫外線吸収剤の構造として知られているトリアジン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、メロシアニン系、シアニン系、ジベンゾイルメタン系、桂皮酸系、シアノアクリレート系、安息香酸エステル系などの化合物が挙げられる。例えば、ファインケミカル、２００４年５月号、２８〜３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６〜１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４〜６４ページなどに記載されている紫外線吸収剤が挙げられる。
前記一般式（１）以外の構造を有する紫外線吸収剤として好ましくは、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系、トリアジン系の化合物である。より好ましくはベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系の化合物である。特に好ましくはベンゾトリアゾール系の化合物である。
ベンゾトリアゾール系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３８０ｎｍで、代表例としては２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（２−（オクチルオキシカルボニル）エチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−（ジメチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール）２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）−５’−メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
ベンゾフェノン系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３８０ｎｍで、代表例としては２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ジエチルアミノ−２’−ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン等を挙げることができる。
サリチル酸系化合物の有効吸収波長は約２９０〜３３０ｎｍで、代表例としてはフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどを挙げることができる。
シアノアクリレート系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３５０ｎｍで、代表例としては２−エチルヘキシル ２−シアノ−３、３−ジフェニルアクリレート、エチル ２−シアノ−３、３−ジフェニルアクリレート、ヘキサデシル ２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリレート、２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリル酸塩、１，３−ビス（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）−２，２−ビス（（（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）メチル）プロパン等を挙げることができる。
トリアジン系化合物の有効吸収波長は約２７０〜３８０ｎｍで、代表例としては２−（４−ヘキシロキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（４−オクチロキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，５−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（３−（２−エチルヘキシロキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（３−ドデシロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等を挙げることができる。
また、前記一般式（１）又は（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物は、蛍光増白剤として好適に用いることができる。一般に、蛍光増白剤は約３２０〜約４１０ｎｍの波長の光を吸収して、約４１０〜約５００ｎｍの波長の光を放射する性質を有する化合物よりなる。これらの蛍光増白剤で染められた織物は本来の黄色い反射光のほかに、新たに蛍光増白剤により発光される約４１０〜約５００ｎｍの波長の青色光が付加されるため反射光は白色になり、かつ、蛍光効果による分だけ可視光のエネルギーが増加するため結果として増白されたことになる。
以下、前記一般式（１）又は（９）〜（１１）のいずれかで表される化合物からなる蛍光増白剤について説明する。蛍光増白剤の使用形態は、いずれでも良い。例えば、液体分散物、溶液、高分子材料などが挙げられる。
蛍光増白剤は、分散媒体に分散された分散物の状態で使用できる。蛍光増白剤を含む分散物の分散媒体、調製プロセス、蛍光増白剤含有量および分散装置は、上述の紫外線吸収剤の場合と同じである。
また、蛍光増白剤は、液体状の媒体に溶解された溶液の状態で使用できる。蛍光増白剤を含む溶液における蛍光増白剤の添加方法、含有量および溶液は、上述の紫外線吸収剤の場合と同じである。
また、蛍光増白剤は、高分子材料に好ましく用いられる。蛍光増白剤を含む高分子材料の高分子物質、添加剤、形状、用途は、上述の紫外線吸収剤の場合と同じである。
蛍光増白剤のみでは短波長域が十分にカットしきれない場合には紫外線吸収剤を併用することが好ましい。
併用する紫外線吸収剤としては、いずれのものでも使用できる。例としては、前記一般式（１）で表される化合物からなる紫外線吸収剤や、上述の紫外線吸収剤の例を挙げることができる。これらの紫外線吸収剤は１種または２種以上を併用することができる。
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
（例示化合物（１９）の調製）
無水イサト酸５０ｇ及びアントラニル酸４６ｇに水５００ｍｌを加えた。この混合物を還流下に１時間反応させた。室温まで冷却後、濾過、水洗浄し、得られた固体をエタノールとクロロホルムで再結晶することにより合成中間体Ａを７０ｇ得た（収率９１％）。
Figure 0005129597
合成中間体Ａ５０ｇにトルエン１−メチル−２−ピロリドン２００ｍｌを加えた。この溶液に２−ナフトイルクロリド４０ｇを添加し、室温で１時間反応させた後、無水酢酸３００ｍｌを加え、還流下に２時間反応させた。室温まで冷却後、濾過、水とアセトンで洗浄することで例示化合物（１９）を７０ｇ得た（収率９１％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９２
1Ｈ ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ）：δ７．３５−７．３９（１Ｈ），δ７．６１−７．６４（１Ｈ），δ７．６７−７．７６（４Ｈ），δ７．９６−８．００（１Ｈ），δ８．０８−８．１３（３Ｈ），δ８．１８−８．２３（３Ｈ），δ８．６７（１Ｈ），δ８．７９−８．８１（１Ｈ），δ１２．７８（１Ｈ）
λｍａｘ＝２７４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
実施例２
（例示化合物（３０）の調製）
前記合成中間体Ａ５０ｇにトルエン１−メチル−２−ピロリドン２００ｍｌを加えた。この溶液に１−ナフトイルクロリド４０ｇを添加し、室温で１時間反応させた後、無水酢酸３００ｍｌを加え、還流下に２時間反応させた。室温まで冷却後、濾過、水とアセトンで洗浄することで例示化合物（３０）を７０ｇ得た（収率９１％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９２
1Ｈ ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ）：δ７．０１−７．０３（１Ｈ），δ７．３７−７．４１（１Ｈ），δ７．６０−７．６５（３Ｈ），δ７．７０−７．７７（２Ｈ），δ７．８４−７．８７（１Ｈ），δ８．０４−８．１０（２Ｈ），δ８．１４−δ８．１６（２Ｈ），δ８．１９−８．２１（１Ｈ），δ８．４２−８．４４（１Ｈ），δ８．７２−８．７４（１Ｈ），δ１２．５７（１Ｈ）
λｍａｘ＝２８３ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
実施例３
（例示化合物（４６）の調製）
前記合成中間体Ａ５０ｇにトルエン１−メチル−２−ピロリドン２００ｍｌを加えた。この溶液に２−テノイルクロリド３０ｇを添加し、室温で１時間反応させた後、無水酢酸３００ｍｌを加え、還流下に２時間反応させた。室温まで冷却後、濾過、水とアセトンで洗浄することで例示化合物（４６）を６０ｇ得た（収率８８％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３４８
1Ｈ ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ）：δ７．３３−７．３７（２Ｈ），δ７．６７−７．７１（２Ｈ），δ７．７６−７．７８（１Ｈ），δ７．９７−８．０４（３Ｈ），δ８．１５−８．１７（１Ｈ），δ８．２０−８．２１（１Ｈ），δ８．５７−８．６０（１Ｈ），δ１２．３５（１Ｈ）
λｍａｘ＝２７９ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
実施例４
（例示化合物（６８）の調製）
インドール−２−カルボン酸３０ｇのトルエン１ｍｌ混合物にオキサリルクロライド４０ｇを滴下した。ＤＭＦを数滴添加後、室温で３０分、８０℃で１０分攪拌した。この反応液を前記合成中間体Ａ５０ｇの１−メチル−２−ピロリドン２００ｍｌ溶液に添加し、室温で１時間反応させた後、無水酢酸３００ｍｌを加え、還流下に２時間反応させた。室温まで冷却後、濾過、水とアセトンで洗浄することで例示化合物（６８）を６０ｇ得た（収率８１％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３８１
1Ｈ ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ）：δ７．１２−７．１６（１Ｈ），δ７．２６−７．３０（１Ｈ），δ７．３３−７．３７（２Ｈ），δ７．４９−７．５１（１Ｈ），δ７．６８−７．７４（２Ｈ），δ７．７８−７．８３（２Ｈ），δ８．０６−８．１０（１Ｈ），δ８．１７−８．１９（１Ｈ），δ８．２１−８．２３（１Ｈ），δ８．６７−８．６９（１Ｈ），δ１２．００（１Ｈ），δ１２．５１（１Ｈ）
λｍａｘ＝２８５ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
＜最大吸収波長および吸光度の測定＞
調製した例示化合物（１９）、例示化合物（３０）、例示化合物（４６）および例示化合物（６８）からなる紫外線吸収剤について、島津製作所製分光光度計ＵＶ−３６００（商品名）を用いて、最大吸収波長および吸光度を測定した。吸光度は、前記の各紫外線吸収剤３．２ｍｇ（例示化合物１９、３０、６８の場合）又は２．９ｍｇ（例示化合物３０の場合）を酢酸エチル１００ｍｌに溶解させて、溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１となるようにして試料Ｎｏ．１〜４を調製し、各試料について測定波長３５０ｎｍ及び３９５ｎｍのそれぞれにおける吸光度を測定した。結果を表１に示す。
Figure 0005129597
＜熱質量測定＞
各試料の熱質量減少率について、熱質量分析計（ＴＧ／ＤＴＡ６２００、商品名、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を用い、次のように求めた。例示化合物（１９）１０ｍｇを秤量してサンプルセルに入れ、窒素ガス雰囲気下に毎分３０℃で２８０℃まで昇温し、その後２８０℃で３０分保持させた時の質量減少率を計算した。同様にして、例示化合物（３０）、例示化合物（４６）、例示化合物（６８）の質量減少率を計算した。結果を表２に示す。
Figure 0005129597
＜フィルム耐久性評価＞
テトラヒドロフランにポリスチレンまたはメタクリル酸メチルポリマーを１０〜３０質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。次にバインダー溶液に例示化合物（１９）を０．０１〜１０質量％溶解させ、塗布液を調製した。同様にして、例示化合物（３０）、例示化合物（４６）、例示化合物（６８）、並びに下記比較化合物ＡおよびＢについて、それぞれ塗布液を調製した。厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを基材とし、その上に上記塗布液をコーターにより塗布し、１時間自然乾燥させ、膜厚５〜２００μｍの被膜を形成して、評価用フィルムを作製した。
作製したフィルムについて、蛍光灯を１ヶ月間点灯した後、フィルム表面の外観を目視によって観察した。その結果、例示化合物（１９）、例示化合物（３０）、例示化合物（４６）又は例示化合物（６８）を使用したフィルムの表面は、該化合物のブリードアウトは見られなかった。一方、下記比較化合物Ａ又はＢを使用したフィルムの表面は、該化合物がブリードアウトして白くなっており汚れていた。
＜溶液耐光性評価＞
例示化合物（１９）１ｍｇを酢酸エチル１００ｍｌに溶解し、試料溶液を調製した。同様にして、例示化合物（３０）、例示化合物（４６）及び例示化合物（６８）、並びに下記比較化合物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤについて、それぞれ試料溶液を調製した。試料溶液はそれぞれ１ｃｍ石英セルにて日立分光光度計ＵＶ−４１００（商品名）を用いて吸光度を測定した。この試料溶液を封入したセルに対して、キセノンランプで照度１７万ルクスになるように光照射し、２日間照射後の各化合物の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
残存量（％）＝１００×（照射後の吸光度）／（照射前の吸光度）
なお、吸光度はそれぞれの化合物の溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長で測定した値である。結果を表３に示す。
Figure 0005129597
Figure 0005129597
表３の結果から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤は、ＵＶ−Ａ領域に吸収を有する既存の紫外線吸収剤である比較化合物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤと比較して、試料溶液中の残存率が高く、光照射によって分解しにくいことがわかった。

Claims (10)

  1. 下記一般式（１）で表される化合物からなる紫外線吸収剤。
    Figure 0005129597
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｆ、Ｒ１ｇ及びＲ１ｈは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ａは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表す。）
  2. 前記一般式（１）におけるＡが、下記一般式（２）で表される基である、請求項１記載の紫外線吸収剤。
    Figure 0005129597
     （式中、Ｚ１は、環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
  3. 前記一般式（２）で表される基が、下記一般式（３）、（４）又は（５）のいずれかで表される基である、請求項２記載の紫外線吸収剤。
    Figure 0005129597
     （一般式（３）〜（５）中、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ２ｃ、Ｒ２ｄ、Ｒ２ｅ及びＲ２ｆは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ｚ２及びＺ３は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｚ４は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
  4. 前記一般式（３）、（４）又は（５）のいずれかで表される基が、下記一般式（６）、（７）又は（８）のいずれかで表される基である、請求項３記載の紫外線吸収剤。
    Figure 0005129597
     （一般式（６）〜（８）中、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ３ｃ、Ｒ３ｄ、Ｒ３ｅ、Ｒ３ｆ、Ｒ３ｇ、Ｒ３ｈ、Ｒ３ｉ、Ｒ３ｊ、Ｒ３ｋ、Ｒ３ｌ、Ｒ３ｍ、Ｒ３ｎ、Ｒ３ｏ、Ｒ３ｐ及びＲ３ｑは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表す。）
  5. 溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１となるように調液したとき、３５０ｎｍにおける吸光度が０．２以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤。
  6. 溶液中２６０ｎｍ以上における最大吸収波長の吸光度を１となるように調液したとき、３９５ｎｍにおける吸光度が０．０５以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤。
  7. 熱質量測定にて２８０℃、３０分加熱の前後における質量減少率が２０％以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤。
  8. 下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される化合物。
    Figure 0005129597
     （一般式（９）〜（１１）中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃ、Ｒ４ｄ、Ｒ４ｅ、Ｒ４ｆ、Ｒ４ｇ、Ｒ４ｈ、Ｒ４ｉ、Ｒ４ｊ、Ｒ４ｋ、Ｒ４ｌ、Ｒ４ｍ及びＲ４ｎは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ｚ５及びＺ６は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｚ７は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
  9. 前記一般式（９）、（１０）又は（１１）におけるＡが、下記一般式（１２）、（１３）又は（１４）のいずれかで表される基である、請求項８記載の化合物。
    Figure 0005129597
     （一般式（１２）〜（１４）中、Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ５ｅ、Ｒ５ｆ、Ｒ５ｇ、Ｒ５ｈ、Ｒ５ｉ、Ｒ５ｊ、Ｒ５ｋ、Ｒ５ｌ、Ｒ５ｍ、Ｒ５ｎ、Ｒ５ｏ、Ｒ５ｐ及びＲ５ｑは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表す。）
  10. 無置換もしくは対応する前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ ４ａ 〜Ｒ ４ｄ における置換基を有するアントラニル酸と、無置換もしくは対応する前記一般式（９）〜（１１）におけるＲ ４ｅ 〜Ｒ ４ｈ における置換基を有する無水イサト酸とを反応させる工程、並びに前記工程で得られた反応中間体に下記一般式（１５）、（１６）又は（１７）のいずれかで表される化合物を反応させる工程を含む、請求項８又は９に記載の化合物の製造方法。
    Figure 0005129597
     （一般式（１５）〜（１７）中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれハロゲン原子を表す。Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ６ｃ、Ｒ６ｄ、Ｒ６ｅ及びＲ６ｆは、それぞれ互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、シアノ基、炭素数１〜２０のアシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、炭素数２〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールカルボニル基、ニトロ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のアミノ基、炭素数１〜２０のアシルアミノ基、炭素数０〜２０のスルホンアミド基、炭素数２〜２０のイミド基、炭素数１〜２０のイミノ基、チオール基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアリールスルホニルオキシ基、スルホ基、炭素数０〜２０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、４〜７員環のヘテロ環基、４〜７員環のヘテロ環オキシ基または４〜７員環のヘテロ環チオ基を表し、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｚ１０は、複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
JP2008028228A 2008-02-07 2008-02-07 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法 Active JP5129597B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008028228A JP5129597B2 (ja) 2008-02-07 2008-02-07 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法
PCT/JP2009/051904 WO2009099110A1 (ja) 2008-02-07 2009-02-04 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法
TW98103640A TW200940515A (en) 2008-02-07 2009-02-05 UV absorber, condensed ring compound, and a process for preparation thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008028228A JP5129597B2 (ja) 2008-02-07 2008-02-07 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009185217A JP2009185217A (ja) 2009-08-20
JP5129597B2 true JP5129597B2 (ja) 2013-01-30

Family

ID=40952184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008028228A Active JP5129597B2 (ja) 2008-02-07 2008-02-07 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5129597B2 (ja)
TW (1) TW200940515A (ja)
WO (1) WO2009099110A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6201542B2 (ja) * 2013-09-05 2017-09-27 凸版印刷株式会社 タッチパネル用透明導電性積層体、および、タッチパネル

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6211744A (ja) * 1986-07-28 1987-01-20 Teijin Ltd 新規な紫外線吸収剤を用いる紫外線からの保護
JP2908514B2 (ja) * 1990-04-27 1999-06-21 旭電化工業株式会社 新規な紫外線吸収剤を含む高分子材料組成物
JP2774232B2 (ja) * 1993-06-29 1998-07-09 帝人株式会社 紫外線吸収剤及びこれを含む高分子材料組成物
JP3358056B2 (ja) * 1998-10-16 2002-12-16 日本製紙株式会社 感熱記録体
US6774232B2 (en) * 2001-10-22 2004-08-10 Cytec Technology Corp. Low color, low sodium benzoxazinone UV absorbers and process for making same
JP3874407B2 (ja) * 2001-11-20 2007-01-31 竹本油脂株式会社 熱可塑性高分子用紫外線吸収剤の製造方法及び熱可塑性高分子用紫外線吸収剤
JP2003155373A (ja) * 2001-11-20 2003-05-27 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 熱可塑性高分子用紫外線吸収剤
JP2004050405A (ja) * 2002-05-27 2004-02-19 Teijin Dupont Films Japan Ltd 積層ポリエステルフィルム
JP2007153860A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Shipro Kasei Kaisha Ltd ２−（２−アリ−ル）ビニル−４ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オンおよび２−（２−アリ−ル）ビニル−６−クロロ−４ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オンの合成と利用

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009185217A (ja) 2009-08-20
WO2009099110A1 (ja) 2009-08-13
TW200940515A (en) 2009-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5236297B2 (ja) ヘテロ環化合物
JP2008274246A (ja) 紫外線吸収剤
JP5422269B2 (ja) 紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物
JP5613481B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
JP5759953B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
JP5719528B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤及び樹脂組成物
JP2010132846A (ja) 樹脂成形物及びポリマーフィルム
JP5798727B2 (ja) 重合体、高分子組成物、紫外線吸収剤、塗料及び樹脂成形物
JP5667955B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
WO2011089968A1 (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP5342896B2 (ja) ヘテロ環化合物
JP5129597B2 (ja) 紫外線吸収剤、並びに縮合環化合物およびその製造方法
WO2010029927A1 (ja) 芳香族化合物
JP5613482B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤及び樹脂組成物
JP2010059122A (ja) 芳香族化合物
JP2010059123A (ja) 芳香族化合物
JP2010064979A (ja) 芳香族化合物
JP2009120653A (ja) 紫外線吸収剤及びこれを含む組成物
JP2009242640A (ja) ポリマーフィルム
JP2010083791A (ja) 芳香族化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100629

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120710

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120910

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121016

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121102

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5129597

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250