JP3366697B2 - 長波長紫外線吸収剤およびその製造方法 - Google Patents

長波長紫外線吸収剤およびその製造方法

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JP3366697B2
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    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07D215/20Oxygen atoms
    • C07D215/22Oxygen atoms attached in position 2 or 4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432Six-membered rings
    • C08K5/3437Six-membered rings condensed with carbocyclic rings

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は紫外線吸収剤に関し、特
に、320〜400nmの長波長紫外線(UV-A)を吸収する紫外線
吸収剤に関する。
【0002】
【従来の技術】太陽からの紫外線は波長240〜400nmの範
囲の波長を有する。紫外線は、その波長領域によって3
帯域に分けられる。すなわち、サンタン波長と言われる
320〜400nmの長波長の紫外線(UV-A)、サンバーン波長と
言われる280〜320nmの紫外線(UV-B)、および地球のオゾ
ン層で吸収され、地表にはほとんど到達しない240〜280
nmの低波長の紫外線(UV-C)である。このような放射線を
受けた種々の有機化合物は分解または不安定化するの
で、紫外線は、多くの商業製品の価値を低下させる原因
となっていた。
【0003】紫外線吸収剤は、日光による変退色の少な
い耐光性(耐候性)材料を提供するために、プラスチック
およびゴムのような高分子化合物、感熱記録シートおよ
び熱転写用インキ、または液晶表示材料に添加され、ま
た、紫外線による人体の炎症および製品の劣化等を防止
するために、化粧品、塗料、レンズ、フィルタおよびフ
ィルムなどに用いられてきた。
【0004】従来、そのような紫外線吸収剤としては、
例えば、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾト
リアゾール系、シアノアクリレート系、ヒダントイン誘
導体およびヒンダードアミン系(光安定剤)の化合物が知
られている。
【0005】これらの多くは波長290〜380nmの領域内の
紫外線吸収性を示すので無色であり、プラスチックのよ
うな透明性または着色物に対し実質的に影響を及ぼさな
いけれども、波長360〜400nmの範囲の紫外線に対するフ
ィルタの作用が不充分である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題を解決するものであり、その目的とするところは、分
子吸光係数εの大きい吸収をUV-A、特に、波長360〜400
nmの紫外線領域に示す紫外線吸収剤、およびそれらの製
造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、式
【0008】
【化6】
【0009】[式中、R1は水素原子または炭素数1〜4
の直鎖または分岐鎖アルキル基(例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n-ブチルおよびsec-ブチ
ル基)であり、R2およびR3は相互に独立して、水素原
子、カルボキシル基、ハロゲン原子(例えば、塩素およ
び臭素)、炭素数1〜4のアルコキシ基(例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシおよびブトキシ基)、炭素数
1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基(例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチルおよび
sec-ブチルのような低級アルキル、およびオクチルおよ
びドデシルのような長鎖アルキル)または炭素数2〜5
のアルコキシカルボニル基(例えば、-COOCH3、-COOC
2H5、-COOC3H5、-COOC4H9のようなアルキルエステル基)
である。]で示すアゾメチン化合物を有効成分とする紫
外線吸収剤を提供するものであり、そのことにより、上
記目的が達成される。
【0010】好ましくは、本発明の紫外線吸収剤は、式
【0011】
【化7】
【0012】[式中、R1は上記と同意義である。]で示す
2,4-ジヒドロキシキノリン誘導体と、式
【0013】
【化8】
【0014】[式中、R2およびR3は上記と同意義であ
る。]で示すN,N’−ジ(フェニル)ホルムアミジン誘
導体、または、式
【0015】
【化9】
【0016】[式中、R2およびR3は上記と同意義であ
る。]で示す化合物とを、有機溶媒中で加熱することに
より反応させる工程により製造される。
【0017】本発明の紫外線吸収剤の製造において原料
に用いる2,4-ジヒドロキシキノリン(誘導体)の例には、
市販の2,4-ジヒドロキシキノリン類、例えば、5-メチル
-2,4-ジヒドロキシキノリンのようなアルキル置換2,4-
ジヒドロキシキノリンが挙げられる。
【0018】上記2,4-ジヒドロキシキノリン誘導体と反
応させるN,N'-ジ(フェニル)ホルムアミジン誘導体の例
には、特公昭61-9993号公報に記載のN,N'-ビス芳香族ホ
ルムアミジン化合物などが挙げられる。本発明では、N,
N'-ジ(フェニル)ホルムアミジン、N,N'-ジ(3-メチルフ
ェニル)ホルムアミジン、N,N'-ジ(4-n-プロピルフェニ
ル)ホルムアミジン、N,N'-ジ(3-メトキシフェニル)ホル
ムアミジン、N,N'-ジ(4-エトキシフェニル)ホルムアミ
ジン、N,N'-ジ(3-クロロフェニル)ホルムアミジン、N,
N'-ジ(4-カルボキシルフェニル)ホルムアミジン、N,N'-
ジ(4-エトキシカルボニルフェニル)ホルムアミジン、N,
N'-ジ(2,4-ジメチルフェニル)ホルムアミジン、N,N'-ジ
(2-メチル-5-クロロフェニル)ホルムアミジン、N,N'-ジ
(4-sec-ブチルフェニル)ホルムアミジン等、および式
【0019】
【化10】
【0020】および
【0021】
【化11】
【0022】で示す化合物を用いることが特に好まし
い。
【0023】有機溶媒は用いる原料を溶解し、これらと
共存しうるものであれば特に限定されないが、高沸点溶
媒を用いることが好ましい。反応を完結する必要がある
からである。具体的には、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、プロピレングリコールのようなグリコ
ールおよびジメチルホルムアミド(DMF)が挙げられる。
【0024】反応は当業者に周知の操作で行いうる。例
えば、N,N'-ジ(フェニル)ホルムアミジン誘導体と2,4-
ジヒドロキシキノリン誘導体とを、有機溶媒を含有する
反応容器に溶解させた後に、撹拌下、130〜200℃の温度
で0.5〜2時間反応させる。
【0025】本発明の紫外線吸収剤は、公知の方法によ
り合成することもできる。例えば、ドイツ公開公報2,72
8,863号には、2,4-ジヒドロキシキノリン(誘導体)をホ
ルミル化して得られるキノリン誘導体
【0026】
【化12】
【0027】[式中、R1は上記と同意義である。]と、ア
ニリンまたは核置換アニリン
【0028】
【化13】
【0029】[式中、R2およびR3は上記と同意義であ
る。]とを、アルコール中で還流下、反応させる金属錯
塩染料(Metal complex dye)の中間体としてのアゾメチ
ン化合物の製造方法が記載されている。
【0030】この方法に好ましいキノリン誘導体の具体
例には、2,4-ジヒドロキシ-3-ホルミルキノリンおよび3
-ホルミル-2,4-ジヒドロキシ-5-メチルキノリンが挙げ
られる。
【0031】他方、キノリン誘導体と縮合反応させるア
ニリンまたは核置換アニリンの具体例としては、アニリ
ン、o-、m-およびp-トルイジン、o-、m-およびp-キシリ
ジン、o-、m-およびp-エチルアニリン、p-(n-プロピル)
アニリン、p-(tert-ブチル)アニリン、p-(sec-ブチル)
アニリン、p-ドデシルアニリン、o-、m-およびp-アニシ
ジン、o-、m-およびp-フェネチジン、およびモノクロル
アニリンなどが挙げられる。
【0032】この合成法は低沸点アルコール系溶媒中で
反応できるという利点を有するけれども、2,4-ジヒドロ
キシキノリンをホルミル化し、アルデヒドを合成する必
要があり、本発明の方法と比較して収率が低く、有利と
は言えない。
【0033】このようにして得られる式[I]で示す本発
明の紫外線吸収剤の例を表1に示す。
【0034】
【表1】 紫外線吸収スペクトル λmax(nm) R1 R2 R3 UV-C UV-A ε 1 H H H 254 378 30800 2 H H 3-CH3 254 382 31200 3 H H 4-n-C3H7 254 384 30900 4 H H 3-OCH3 258 370 25000 5 H H 4-OC2H5 254 388 29200 6 H H 3-Cl 254 378 (31900) 7 H H 4-COOC2H5 270 384 (27000) 8 H 2-CH3 4-CH3 254 382 29600 9 H 2-CH3 5-Cl 256 384 29000 10 H H 4-sec-C4H9 254 384 29500 11 5-CH3 H H 254 378 30600 表中、λmaxはクロロホルムを溶媒として測定した主波
長の極大値である。εはクロロホルム溶媒中で測定した
UV-A極大吸収波長における分子吸光係数である。ただし
()内のεは、試料をジメチルホルムアミドに溶解し、ク
ロロホルムで希釈することにより測定した値である。
【0035】尚、市販の紫外線吸収剤は、色材、65
(5)、第298〜307頁、1992年の「最近の紫外線吸収剤開発
の現状」、岡崎具視(Tomomi OKAZAKI)に記載されてお
り、具体例を表2に示す。
【0036】
【表2】 化合物名 外観 分子量 有効波長 2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル) 淡黄色 225 270〜370 ベンゾトリアゾール 2-(3,5-ジ-t-アミル-2-ヒドロキシ 淡黄色 351 270〜380 フェニル)ベンゾトリアゾール(チヌビ ン(TINUVIN)328) 2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン 淡黄色 326 280〜340 エチル-2-シアノ-3,3'-ジフェニル 白色 277 270〜350 アクリレート(ユビナル(UVINUL)N35) p-tert-ブチルフェニルサリチレート 白色 270 290〜330 ジベンゾイルメタン誘導体 − − UV-A
【0037】本発明の紫外線吸収剤は、各種の紫外線吸
収用途に使用される溶媒、樹脂、ワックス等に一般に良
分散性もしくは可溶性を示す。また、種々の有機物質、
光および熱に対して優れた安定性を有する。したがっ
て、本発明の式[I]で示す2,4-ジヒドロキシキノリン-3-
アゾメチン誘導体は各種用途の樹脂組成物等に好適に用
いることができる。
【0038】本発明の紫外線吸収剤は、粉末、水および
有機溶媒での分散体もしくは溶液、または樹脂溶液とし
て使用される。
【0039】本発明の紫外線吸収剤が微分散もしくは溶
解される溶媒としては、トルエン、キシレンおよびシク
ロヘキサンのような炭化水素、塩化メチレンおよび塩化
エチレンのようなハロゲン化炭化水素、メタノールおよ
びエタノールのようなアルコール、エチレングリコール
モノエチルエーテルのようなセロソルブ、酢酸エチルの
ようなエステル、およびメチルエチルケトン、メチル-
イソ-ブチルケトンのようなケトンが例示できる。これ
らの溶媒は、塗料など各種用途の樹脂に単独、好ましく
は混合して用いられる。
【0040】本発明の紫外線吸収剤を用いうる樹脂とし
ては、塗料用樹脂(例えば、アクリル系、塩化ビニル
系、ポリオレフィン系、ポリエステル系およびポリアミ
ド系の熱可塑性樹脂、およびフェノール系、エポキシ系
およびポリエステル系の熱硬化性樹脂)、塗膜形成用樹
脂(例えば、酢酸セルロース誘導体のような天然樹脂ま
たはエチレンオキサイド樹脂、ブチラール樹脂、ビニル
樹脂、アルキッド樹脂およびフェノール樹脂)、熱転写
用バインダー樹脂(例えば、ポリビニルブチラール、エ
チルヒドロキシエチルセルロース、スチレン-無水マレ
イン酸共重合体、メチルメタクリレート樹脂、ポリエス
テル樹脂およびワックス)、電子写真用トナーの結着樹
脂(例えば、スチレン樹脂、スチレン-アクリル樹脂、ス
チレン-ブタジエン樹脂、スチレン-ビニルメチルエーテ
ル樹脂およびポリエステル)、プラスチックレンズ用の
アクリル樹脂、ポリカーボネート、アリルジグリコール
カーボネート樹脂、および成形用プラスチックおよびプ
ラスチックフィルム用樹脂が挙げられる。その他、高分
子液晶等にも好適に用いることができる。
【0041】本発明の紫外線吸収剤を上記の各種用途の
組成物に配合する場合に、配合量は所望の程度の安定化
を行うに充分な量であれば特に限定されない。一般に、
本発明の紫外線吸収剤は、有機物質の固体含有量当たり
0.001〜5%の量で使用し得るが、約2%までが好まし
い。適正量を越えると可視光透過性および透明性が低下
する恐れがあるからである。
【0042】ディッピング法で染色性プラスチック基板
などに染着する場合においては、表面染着と見なせるの
で、実質的には樹脂全体に対する濃度は、0.001%以下
である。本発明の紫外線吸収剤は、このような微量の使
用であっても効果が得られる。一方、5重量%を超える
と分散不良、有機着色物質や樹脂組成物の色調障害など
発生して好ましくない。また、吸収効果についても5重
量%以上添加しても適正量に比べて大きな差はなく実用
上コストが高くなるため好ましくない。
【0043】本発明の紫外線吸収剤は、従来よく知られ
たUV-Bの紫外線吸収剤(例えば、表2に示したもの)と悪
影響無く併用しうる。さらに、本発明の紫外線吸収剤に
は、用途および目的に応じて、蛍光増白剤、およびラジ
カル捕捉剤等を添加することができる。
【0044】
【実施例】以下の実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
【0045】
【実施例1〜11】実施例1〜11では、本発明の紫外線
吸収剤の合成について説明する。
【0046】実施例1 (表1に示す化合物1の合成)エチレングリコール100ml
に2,4-ジヒドロキシキノリン16.1gおよびN,N'-ジ(フェ
ニル)ホルムアミジン21.6gを加え、撹拌下、170〜175℃
に30分間保った。撹拌しつつ放冷して、120℃で希釈溶
媒としてメチルエチルケトン100mlを滴下した。次い
で、60℃で濾過して後、ケーキをメチルエチルケトンで
洗浄し乾燥して、淡黄色粉末24.5gを得た。収率は92.8
%であった。また、メトラー・サーモシステムFP900を
使用して融点を測定したところ、m.p.262〜265℃であっ
た。得られた化合物の近紫外-可視スペクトルを図1に
示す。
【0047】実施例2 (表1に示す化合物2の合成)エチレングリコール100ml
に、2,4-ジヒドロキシキノリン16.1gおよびN,N'-ジ(3-
メチルフェニル)ホルムアミジン22.5gを加え、撹拌下、
170〜175℃に30分間保った。撹拌しつつ放冷して、120
℃で、希釈溶媒としてエタノール100mlを滴下した。次
いで、60℃で濾過して後、ケーキをエタノールで洗浄し
乾燥して、m.p.236〜240℃の淡黄色粉末を得た。収率は
88.0%であった。
【0048】実施例3〜10 (表1に示す化合物3〜10の合成)N,N'-ジ(フェニル)ホ
ルムアミジンの代わりにN,N'-ジ(4-n-プロピルフェニ
ル)ホルムアミジン、N,N'-ジ(4-メトキシフェニル)ホル
ムアミジン、N,N'-ジ(4-エトキシフェニル)ホルムアミ
ジン、N,N'-ジ(3-クロロフェニル)ホルムアミジン、N,
N'-ジ(4-エトキシカルボニルフェニル)ホルムアミジ
ン、N,N'-ジ(2,4-ジメチルフェニル)ホルムアミジン、
N,N'-ジ(2-メチル-5-クロロフェニル)ホルムアミジンお
よびN,N'-ジ(4-sec-ブチルフェニル)ホルムアミジンを
それぞれ用いること以外は実施例1と同様にして、紫外
線吸収剤粉末を得た。
【0050】実施例11 2,4-ジヒドロキシキノリンおよびN,N'-ジ(3-メチルフェ
ニル)ホルムアミジンの代わりに5-メチル-2,4-ジヒドロ
キシキノリンおよび化10で示す化合物(C6H5-N=CH-O-C2H
5)をそれぞれ用いること以外は実施例2と同様にして、
紫外線吸収剤粉末を得た。
【0049】比較例1 (従来法による表1に示す化合物1の合成)エタノール10
0mlに、2,4-ジヒドロキシキノリン16.1gをホルミル化し
て得られた2,4-ジヒドロキシ-3-ホルミルキノリンとア
ニリン9.5gとを還流下、180分間保った。撹拌しつつ放
冷し、室温で濾過して後、ケーキをエタノールで洗浄し
乾燥し、ジメチルホルムアミド(DMF)から再結晶するこ
とにより、m.p.262〜265℃の淡黄色粉末を得た。収率は
約55%であった。スペクトル分析を行ったところ、実施
例1と同一の吸光曲線を得た。
【0051】
【実施例A〜F】実施例A〜Fでは、本発明の紫外線吸収
剤の使用について説明する。
【0052】実施例A (プラスチックレンズ)矯正レンズ用モノマーであるアク
リルジグリコールカーボネート(徳山曹達社製、「CR-3
9」)に、本発明の紫外線吸収剤である化合物1をモノマ
ー全量に対して0.008重量%の量で添加、溶解し、キャ
スト成形法にて重合成形し、厚さ2.5mmの透明な重合板A
を得た。
【0053】また、比較のために、市販のベンゾフェノ
ン系紫外線吸収剤(商品名チヌビン(TINUVIN)328、チバ
ガイギー社製)をモノマー全量に対して0.15重量%用い
て、同様な重合板(比較試料A)を作製した。それぞれの
重合板について、400nmでの透過率を測定したところ、
試料Aでは0%、比較試料Aでは76%であり、本発明の紫
外線吸収剤が400nm付近での吸収特性に優れることが確
認された。
【0054】実施例B 実施例Aで用いたCR-39モノマーをキャスト重合し、厚さ
1.5mmの透明な重合板を得た。
【0055】この重合板を、4gの化合物1、4gのトウ
イーン(TWEEN)20分散剤(花王アトラス社製)および0.1g
のサリチル酸メチルエステルを1000mlの水に分散溶解さ
せた塗膜調製液に95℃において5分および20分間浸漬す
ることによりコーティング処理を行い、それぞれ、試料
B5およびB20を得た。得られたそれぞれの試料につい
て、400nmでの透過率を測定した。測定結果を表3に示
す。
【0056】次いで、化合物1を市販のチヌビン328に
代えること以外は実施例Bと同様にして比較試料CB5およ
びCB20を作製し、400nmでの透過率を測定した。測定結
果を表3に示す。
【0057】実施例C CR-39モノマーを屈折率1.6のPCモノマーに代えること以
外は実施例Aと同様にしてキャスト重合し、厚さ1.5mmの
透明な重合板を得た。
【0058】この重合板を、2gの化合物1および2gの
トウィーン20分散剤を1000mlの水に分散溶解した塗膜調
製液に95℃において30分および60分間浸漬することによ
りコーティング処理を行い、それぞれ、試料C30およびC
60を得た。
【0059】次いで、化合物1を市販のチヌビン328に
代えること以外は実施例Cと同様にして比較試料CC30お
よびCC60を作製し、400nmでの透過率を測定した。測定
結果を表3に示す。
【0060】実施例D 1gの化合物1、1gのチヌビン328、2gのトウィーン20
および1000mlの水から成る塗膜調製液を用いること以外
は実施例Cと同様にして、試料D30およびD60を作製し
た。
【0061】それぞれの試料について、400nmでの透過
率を測定した。測定結果を表3に示す。
【0062】
【表3】
【0063】本発明の紫外線吸収効果は、実施例A〜Dか
ら明確であり、また、従来品との相乗効果も顕著であっ
た。本発明の他の紫外線吸収剤(例えば、化合物例7)に
ついても、同様の効果が確認された。
【0064】実施例E (紫外線遮断保護部材) ダイヤナールLR-1065(三菱レイヨン社製、 アクリル樹脂の40%MEK溶液) 100部 化合物1 0.5部 ユビナルN35 1.0部
【0065】上記配合の透明塗料を100μmのPET(ポリエ
チレンテレフタレート)フィルム上に乾燥膜厚が30μm程
度となるようにバーコータを用いて塗布した後、これを
乾燥してPETフィルム上に転写層を形成し、転写剥離型
の紫外線遮断保護部材を得た。次いで、インクジェット
プリンターを用いてインクジェット記録用紙にマゼンタ
色のベタ印字を行い、これにラミネータを用いて、先に
作製した保護部材を、その転写層が記録面を覆うように
ラミネートして、その後、PETフィルムを記録面から剥
離することにより、ラミネート試料Aを得た。
【0066】ラミネート試料Aと、紫外線遮断保護部材
をラミネートしないこと以外は同様にして作製した比較
試料とを、耐光性試験をして評価した。耐光性試験は、
光照射には、スガ試験機社製の紫外線ロングライフフエ
ードメータ(カーボンアーク式)中で、20時間光照射する
ことにより行った。
【0067】その結果、試料Aでは、マゼンタ印字部の
光照射前後での変退色がほとんど認められなかったが、
比較試料では、変退色が明らかに認められた。上記の結
果より本発明の紫外線吸収効果が顕著であることが確認
された。
【0068】実施例F 本発明の化合物1と市販の紫外線吸収剤とを併用した場
合の近紫外-可視吸収スペクトルを図2および図3に示
す。図2は本発明の化合物1とチヌビンN328(ベンゾト
リアゾール系紫外線吸収剤)とを1:2の重量比で配合し
た場合の近紫外-可視吸収スペクトルであり、図3は本
発明の化合物1とユビナル(UVINUL)N35(BASF社製、シア
ノアクリレート系紫外線吸収剤)とを1:2の重量比で配
合した場合の近紫外-可視吸収スペクトルである。尚、
図4にユビナルN35単独の近紫外-可視吸収スペクトルを
示す。
【0069】図2および図3より、本発明の紫外線吸収
剤はUV-Bを透過するので、300nm付近に極大吸収を有す
る紫外線吸収剤と併用した場合には、250〜400nmの領域
内の紫外線吸収特性を示すことが確認された。
【0070】
【発明の効果】本発明の紫外線吸収剤は、UV-AおよびUV
-Cの紫外線領域に極大吸収波長を有し、種々の有機物に
対し安定であり、かつ光および熱に対しても安定であ
る。しかも、本発明の紫外線吸収剤は、UV-Aにおける極
大吸収波長(λmax)での分子吸光係数εは、いずれも2.5
×104を越え、高い紫外線吸収効果を示す。
【0071】本発明の紫外線吸収剤は、これまで適切な
ものがないとされている長波長紫外線領域の紫外線を吸
収するものであり、各種有機物と相溶性がよい。したが
って、長波長紫外線の影響から有機物の基質を保護し、
さらには着色物の褐色化を防止するために、サングラス
のようなプラスチック成形品、樹脂製フィルム、紫外線
カットフィルタ、塗料など塗膜形成材料、液晶表示用材
料、熱転写用および印刷用インキ、および電子写真用ト
ナーなどに使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の紫外線吸収剤である化合物1の近紫
外-可視スペクトルである。
【図2】 化合物例1とベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤とを1:2の割合で配合した場合の近紫外-可視スペ
クトルである。
【図3】 化合物例1とシアノアクリレート系紫外線吸
収剤とを1:2の割合で配合した場合の近紫外-可視スペ
クトルである。
【図4】 シアノアクリレート系紫外線吸収剤の近紫外
-可視吸収スペクトルである。

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式 【化1】 [式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖または
    分岐鎖アルキル基であり、R2およびR3は相互に独立し
    て、水素原子、カルボキシル基、ハロゲン原子、炭素数
    1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖または分岐
    鎖アルキル基または炭素数2〜5のアルコキシカルボニ
    ル基である。]で示すアゾメチン化合物を有効成分とす
    る紫外線吸収剤。
  2. 【請求項2】 式 【化2】 [式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖または
    分岐鎖アルキル基である。]で示す2,4-ジヒドロキシキ
    ノリン誘導体と、式 【化3】 [式中、R2およびR3は相互に独立して、水素原子、カル
    ボキシル基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ
    基、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基または
    炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基である。]で示
    すN,N-ジ(フェニル)ホルムアミジン誘導体とを、有機溶
    媒中で加熱することにより反応させる工程を包含する請
    求項1記載の紫外線吸収剤の製造方法。
  3. 【請求項3】 式 【化4】 [式中、R1は水素原子または炭素数1〜4の直鎖または
    分岐鎖アルキル基である。]で示す2,4-ジヒドロキシキ
    ノリン誘導体と、式 【化5】 [式中、R2およびR3は相互に独立して、水素原子、カル
    ボキシル基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ
    基、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基または
    炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基である。]で示
    す化合物とを、有機溶媒中で加熱することにより反応さ
    せる工程を包含する請求項1記載の紫外線吸収剤の製造
    方法。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の紫外線吸収剤を含有する
    樹脂成形材料。
  5. 【請求項5】 請求項1記載の紫外線吸収剤を含有する
    紫外線カットフィルタ。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の紫外線吸収剤を含有する
    塗料組成物。
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