WO2017094672A1 - 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール - Google Patents

光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール Download PDF

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勝也 長屋
大月　敏敬
大介 重岡
坪内　孝史
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    • H01L31/173—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers formed in, or on, a common substrate

Definitions

  • the present invention relates to an optical filter, an ambient light sensor, and a sensor module. Specifically, the present invention relates to an optical filter containing a dye compound having absorption in a specific wavelength range, an ambient light sensor using the optical filter, and a sensor module including the optical filter.
  • the ambient light sensor in the information terminal device senses the illuminance of the environment where the information terminal device is placed and controls the brightness of the display, and the ambient light sensor senses the color tone of the environment where the information terminal device is placed. It is used as a color sensor that adjusts the color tone of the image.
  • the ambient light sensor can have a spectral sensitivity characteristic close to visual sensitivity by installing an optical filter such as a near infrared cut filter.
  • An apparatus provided with an infrared cut filter in which a metal multilayer film is formed on a glass plate is disclosed as means for matching the spectral characteristics of an ambient light sensor with human visibility (see, for example, Patent Document 1).
  • the near-infrared cut filter in which the metal multilayer thin film is formed on the glass plate has a problem that the detection accuracy of the ambient light sensor is lowered because the optical characteristics greatly change depending on the incident angle of the incident light.
  • various near-infrared absorbing particles are known as materials capable of cutting broadband near-infrared rays regardless of the incident angle (see, for example, Patent Document 2 and Patent Document 3).
  • the near-infrared cut filter when the addition amount of the near-infrared absorbing particles is increased, there is a problem that the visible light transmittance is lowered.
  • a near-infrared absorbing filter having a norbornene-based resin substrate, a near-infrared absorbing dye having an absorption maximum at a specific wavelength, and a near-infrared reflective film has a transmittance change in the visible region when light enters from an oblique direction (See Patent Document 4).
  • a high incident angle such as an incident angle of 60 °.
  • JP 2011-060788 A International Publication No. 2005/037932 Specification JP 2011-118255 A JP 2011-100084 A
  • An optical filter having a substrate (i) having a light absorption layer and transmitting visible light, wherein the light absorption layer has an absorption maximum in a wavelength region of 750 to 1150 nm, and has a wavelength of 850 In an area of ⁇ 1050 nm, the average OD value when measured from the vertical direction of the optical filter is 2.0 or more, and the average OD when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter An optical filter having a value of 2.0 or more.
  • the compound (S) is a squarylium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a croconium compound, a cyanine compound, a diimonium compound, a metal dithiolate compound, a copper phosphate complex compound, or a pyrrolopyrrole compound.
  • Item 3 The optical filter according to Item [3], which is at least one compound selected from the group consisting of compounds.
  • the optical filter according to any one of [1] to [5], wherein the light absorption layer further includes a compound (A) having an absorption maximum in a wavelength region of 650 to 750 nm. .
  • the compound (A) is at least one compound selected from the group consisting of squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, croconium compounds, and cyanine compounds.
  • the optical filter according to [6] is at least one compound selected from the group consisting of squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, croconium compounds, and cyanine compounds.
  • the light absorbing layer is a cyclic polyolefin resin, aromatic polyether resin, polyimide resin, fluorene polycarbonate resin, fluorene polyester resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyarylate resin, polysulfone resin.
  • Resin polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, allyl ester curable type At least one resin selected from the group consisting of a resin, a silsesquioxane-based UV-curable resin, an acrylic UV-curable resin, a vinyl-based UV-curable resin, and a silica-based resin formed by a sol-gel method Including the term [1 The optical filter according to any one of - [7].
  • optical filter according to any one of items [1] to [9], which is used for an ambient light sensor.
  • An ambient light sensor comprising the optical filter according to any one of items [1] to [9].
  • a photoelectric conversion element that generates a photocurrent by light incident on the light receiving surface and measures illuminance and color temperature, and the items [1] to [9] disposed on the light receiving surface side of the photoelectric conversion element
  • An ambient light sensor comprising the optical filter according to claim 1.
  • a photoelectric conversion element that generates a photocurrent by light incident on the light receiving surface and measures illuminance and color temperature; and an optical filter disposed on the light receiving surface side of the photoelectric conversion element, and the optical filter Is an ambient light sensor comprising a near-infrared absorbing layer and a near-infrared reflecting layer.
  • the resin of the resin layer is cyclic polyolefin resin, aromatic polyether resin, polyimide resin, fluorene polycarbonate resin, fluorene polyester resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyarylate resin, polysulfone.
  • Term [14] characterized by Ambient light sensor described.
  • optical filter includes a glass substrate, and the near-infrared absorbing layer is provided on at least one surface of the glass substrate.
  • the ambient light sensor according to any one of items [13] to [19], wherein the optical filter satisfies the following conditions (A) to (C): (A) In the wavelength range of 430 to 580 nm, the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 50% or more; (B) In the wavelength range of 800 to 1000 nm, the average value of transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 15% or less; (C) In the wavelength range of 560 to 800 nm, measured from a wavelength value (Xa) at which the transmittance is 50% when measured from the vertical direction of the optical filter and an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter.
  • ) of the difference between the wavelength values (Xb) at which the transmittance is 50% is less than 20 nm.
  • Item 1 The ambient light sensor according to item 1.
  • the near-infrared absorption layer has an absorption maximum in a wavelength region of 750 to 1150 nm, and an average OD value when measured from the vertical direction of the optical filter at a wavelength of 850 to 1050 nm is 2.0 or more, The average OD value when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is 2.0 or more, [13] to [21], Ambient light sensor.
  • a proximity sensor having a light emitting element that emits near infrared light and a second photoelectric conversion element that detects near infrared light.
  • a sensor module comprising the optical filter according to any one of items [1] to [10].
  • an optical filter that has high visible light transmittance and near-infrared cut performance for both incident light from a vertical direction and incident light from an oblique direction, and can be suitably used as an ambient light sensor application.
  • An ambient light sensor using such an optical filter has a small incident angle dependency of incident light, and can measure illuminance and color temperature with high accuracy.
  • up refers to a relative position with respect to the main surface of the support substrate (the light receiving surface of the sensor), and the direction away from the main surface of the support substrate is “up”.
  • the upper side toward the paper surface is “upper”.
  • upper includes a case where it is in contact with an object (that is, “on”) and a case where it is located above the object (that is, “over”).
  • down refers to a relative position with respect to the main surface of the support substrate, and the direction approaching the main surface of the support substrate is “down”.
  • the lower side is “down” toward the paper surface.
  • the optical filter of the present invention has a configuration described later, and its use is not particularly limited, but is suitable for use as an ambient light sensor.
  • the ambient light sensor of the present invention is not particularly limited as long as it includes an optical filter to be described later.
  • a photoelectric conversion element that generates a photocurrent by light incident on a light receiving surface and measures illuminance and color temperature.
  • an optical filter disposed on the light receiving surface side of the photoelectric conversion element.
  • the optical filter of the present invention will be described by being divided into a first aspect (hereinafter also referred to as “first optical filter”) and a second aspect (hereinafter also referred to as “second optical filter”).
  • first optical filter a first aspect
  • second optical filter a second aspect
  • the description of one aspect can be applied to the other aspect as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the optical filter of the present invention in principle, it includes both the first optical filter and the second optical filter.
  • a first optical filter according to the present invention is an optical filter having a base material (i) having a light absorption layer and transmitting visible light, wherein the light absorption layer has a wavelength of 750 to 1150 nm. It has an absorption maximum, has an average OD value (hereinafter also referred to as “OD A ”) of 2.0 or more when measured from the vertical direction of the optical filter at a wavelength of 850 to 1050 nm, and The average OD value (hereinafter also referred to as “OD B ”) when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction is 2.0 or more.
  • OD value is a common logarithm of transmittance and can be calculated by the following formula (1).
  • the average OD value in the specified wavelength range is high, it indicates that the optical filter has high light cut characteristics in the wavelength region.
  • the OD A is preferably 2.3 to 10, more preferably 2.5 to 9.
  • the OD B is preferably 2.3 to 10, more preferably 2.5 to 9.
  • an average OD value (hereinafter also referred to as “OD D ”) measured at an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter at a wavelength of 850 to 1050 nm is preferably 2.0 or more, more preferably. Is 2.3 or more and 10 or less, more preferably 2.5 or more and 9 or less.
  • the optical filter is not only near infrared rays transmitted through the vertical, near infrared can be cut sufficiently transmitted through at high angles of incidence.
  • an optical filter is used for an optical sensor of a mobile phone or a tablet, it is possible to prevent malfunction of the screen brightness and color correction function.
  • near-infrared light can be suitably cut even when a light diffusion film is provided above the optical filter of the present invention.
  • the RGB balance of visible light when incident from the vertical direction of the optical filter From the viewpoint of preventing the ambient light sensor from malfunctioning, the RGB balance of visible light when incident from the vertical direction of the optical filter, the RGB balance of visible light when incident from the direction of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter, In addition, it is desirable that the change in the RGB balance of the visible light when the light enters from a direction of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is small.
  • R (red) transmittance is the average transmittance at wavelengths of 580 to 650 nm
  • G (green) transmittance is the average transmittance at wavelengths of 500 to 580 nm
  • B (blue) transmittance is the average transmittance at wavelengths of 420 to 500 nm
  • R transmittance ratio, G transmittance ratio, and B transmittance ratio can be derived from the following equations (2) to (4).
  • the rate of change in the ratio of R transmittance in the case of 0 ° ⁇ 30 ° is preferably 0.5 or more and 2.0 or less, more preferably 0.6 or more and 1.8 or less, and further preferably 0.8 or more and 1. It is 4 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the rate of change of the ratio of G transmittance in the case of ° can be derived from the following formula (6).
  • the rate of change in the G transmittance ratio when 0 ° ⁇ 30 ° is preferably 0.5 or more and 2.0 or less, more preferably 0.6 or more and 1.8 or less, and even more preferably 0.8 or more and 1. It is 4 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the ratio of the B transmittance when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is divided by the ratio of the B transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter (0 ° ⁇ 30).
  • the change rate of the ratio of the B transmittance in the case of ° can be derived from the following formula (7).
  • the rate of change in the ratio of B transmittance in the case of 0 ° ⁇ 30 ° is preferably from 0.5 to 2.0, more preferably from 0.6 to 1.8, still more preferably from 0.8 to 1. It is 4 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the ratio of the R transmittance when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is divided by the ratio of the R transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter (0 ° ⁇
  • the rate of change in the ratio of R transmittance at 60 ° can be derived from the following equation (8).
  • the rate of change in the ratio of R transmittance in the case of 0 ° to 60 ° is preferably 0.4 or more and 2.0 or less, more preferably 0.5 or more and 1.8 or less, and further preferably 0.6 or more and 1. It is 6 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the rate of change in the ratio of G transmittance in the case of ° can be derived from the following equation (9).
  • the rate of change in the ratio of G transmittance in the case of 0 ° to 60 ° is preferably 0.4 or more and 2.0 or less, more preferably 0.5 or more and 1.8 or less, and further preferably 0.6 or more and 1. It is 6 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the rate of change in the ratio of B transmittance in the case of 0 ° to 60 ° is preferably 0.4 to 2.0, more preferably 0.5 to 1.8, and still more preferably 0.6 to 1. It is 6 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the first optical filter of the present invention in the wavelength range of 430 ⁇ 580 nm, the average value of the transmittance as measured in the vertical direction of the optical filter (hereinafter referred to as "T A".) Is preferably 30% or more It is desirable that it is 80% or less, more preferably 30% or more and 75% or less, and still more preferably 33% or more and 70% or less. Further, in the wavelength region of 430 to 580 nm, the average value of transmittance (hereinafter also referred to as “T B ”) measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is preferably 30% or more and 80 % Or less, preferably 30% or more and 75% or less, and more preferably 33% or more and 70% or less.
  • the average value of transmittance (hereinafter also referred to as “T C ”) when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is preferably 20% or more and 78. % Or less, more preferably 25% or more and 75% or less, and further preferably 30% or more and 70% or less.
  • the average transmittance (T A ) is too high in the wavelength range of 430 to 580 nm, the intensity of the light incident on the light receiving part of the photosensor will become excessively high, and the photosensor will function satisfactorily. It may disappear.
  • the average value (T A ) of the transmittance is too low, the intensity of the light incident on the light receiving portion of the photosensor becomes weak, and the intensity of the light passing through the filter is not sufficiently secured, so that it is suitably used for the above application. It may not be possible.
  • the thickness of the optical filter of the present invention is not particularly limited, but is preferably 40 to 1000 ⁇ m, more preferably 50 to 800 ⁇ m, still more preferably 80 to 500 ⁇ m, and particularly preferably 90 to 250 ⁇ m.
  • the optical filter can be reduced in size and weight, and can be suitably used for various applications such as an optical sensor.
  • the substrate (i) may be a single layer or a multilayer, and may contain a light absorption layer having an absorption maximum in a wavelength region of 750 to 1150 nm.
  • the light absorption layer preferably contains a compound (S) having an absorption maximum in a wavelength region of 750 to 1150 nm.
  • a substrate made of a transparent resin substrate (ii) containing the compound (S) and a substrate made of a near infrared absorbing glass substrate (iii) containing a copper component are used.
  • the transparent resin substrate (ii) or the glass substrate (iii) serves as the light absorption layer.
  • a base in which a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin containing the compound (S) is laminated on a support such as a glass support or a resin support serving as a base examples thereof include a base material obtained by laminating a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin on a transparent resin substrate (ii) containing a material and the compound (S). From the viewpoints of manufacturing cost and ease of optical property adjustment, and further, it is possible to achieve a scratch-removing effect on the resin support and the transparent resin substrate (ii) and the improvement of scratch resistance of the substrate (i).
  • a substrate in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin is laminated on a transparent resin substrate (ii) containing) is particularly preferable.
  • the light absorption layer is not particularly limited as long as it has an absorption maximum in a wavelength region of 750 to 1150 nm.
  • an average OD value (measured from a direction perpendicular to the substrate (i) in a wavelength region of 850 to 1050 nm ( (Hereinafter also referred to as “OD C ”) is preferably 1.0 or more, more preferably 1.1 or more and 10 or less, and further preferably 1.3 or more and 9 or less.
  • the thickness of the light absorption layer is not particularly limited, but is preferably 50 to 500 ⁇ m, more preferably 50 to 300 ⁇ m, and still more preferably 50 to 200 ⁇ m.
  • the optical filter using the light absorption layer can be reduced in size and weight, and can be suitably used for various applications such as an optical sensor.
  • a metal complex compound, a dye or a pigment that acts as a dye that absorbs near infrared rays can be used.
  • a squarylium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a croconium There may be mentioned at least one compound selected from the group consisting of a compound, a cyanine compound, a diimonium compound, a metal dithiolate complex compound, a copper phosphate complex compound and a pyrrolopyrrole compound.
  • a diimonium compound represented by the following formula (s1) and a metal dithiolate complex compound represented by the following formula (s2) are preferable.
  • R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, —NR g R h Group, —SR i group, —SO 2 R i group, —OSO 2 R i group, or any of the following L a to L h , wherein R g and R h are each independently a hydrogen atom, —C (O ) represents any R i groups or the following L a ⁇ L e, R i represents any of the following L a ⁇ L e, (L a ) an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (L b ) a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (L c ) an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14
  • the substituent L is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, It is at least one selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and a heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and adjacent R 3 They may form a ring which may have a substituent L.
  • n represents an integer of 0 to 4
  • X represents an anion necessary for neutralizing the charge.
  • M represents a metal atom.
  • Z represents D (R i ) 4 , D represents a nitrogen atom, a phosphorus atom or a bismuth atom, and y represents 0 or 1.
  • the R 1 in the diimonium compound represented by the above formula (s1) is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group.
  • a butyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group and a benzyl group more preferably an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and a benzyl group.
  • R 2 is preferably a chlorine atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, or a sec-butyl group.
  • Tert-butyl group cyclohexyl group phenyl group, hydroxyl group, amino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, acetylamino group, propionylamino group, N-methylacetylamino group, trifluoromethanoylamino group, pentafluoroethanoylamino group, t-butanoylamino group, cyclohexinoylamino group, n-butylsulfonyl group, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group N-butylthio group, more preferably a chlorine atom, a fluorine atom, Tyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, tert-butyl, hydroxyl, dimethylamino,
  • X is an anion necessary for neutralizing the electric charge, and one molecule is required when the anion is divalent, and two molecules are required when the anion is monovalent.
  • the two anions may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of synthesis.
  • X will not be restrict
  • X has a tendency to improve the heat resistance of the diimonium compound when it is used as an anion of the diimonium compound if it has a high acidity when converted to an acid.
  • (X-10) and (X in Table 1 above) X-16), (X-17), (X-21), (X-22), (X-24), and (X-28) are particularly preferable.
  • the R 3 in the metal dithiolate complex compound represented by the formula (s2) is preferably a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl.
  • M is preferably a transition metal, more preferably Ni, Pd, or Pt.
  • Z represents D (R i ) 4
  • D is preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom
  • R i is preferably an ethyl group, n-propyl.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (S) is from 750 nm to 1150 nm, preferably from 760 nm to 1140 nm, more preferably from 770 nm to 1130 nm, and particularly preferably from 780 nm to 1120 nm.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (S) is in such a range, unnecessary near-infrared rays can be efficiently cut, and the incident angle dependency of incident light can be reduced.
  • the compound (S) may be synthesized by a generally known method.
  • Japanese Patent No. 4168031 Japanese Patent No. 4225296, JP-T 2010-516823, JP-A No. 63-165392 It can be synthesized with reference to the method described in the publication.
  • S Commercially available compounds
  • S include S2058 (manufactured by DKSH), CIR-108x, CIR-96x, CIR-RL, CIR-1080 (manufactured by Nippon Carlit), T090821, T091021, T89021, T090721, T090122, (Tosco) B4360, D4773, D5013 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), S4253, S1426, S1445 (manufactured by Spectrum Info), Excolor IR1, IR2 IR, IR3 IR, IR4 (manufactured by Nippon Shokubai).
  • the amount of the compound (S) used is appropriately selected according to the desired properties, but is preferably 0.01 to 20.0 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the transparent resin used in the present invention.
  • the amount is 0.01 to 15.0 parts by weight, more preferably 0.01 to 10.0 parts by weight.
  • the amount of the compound (S) used is larger than the above range, an optical filter in which the characteristics of the compound (S) are more strongly exhibited may be obtained, but a transmittance in the range of 430 to 580 nm is preferable as an optical sensor. If the amount of the compound (S) used is less than the above range, an optical filter having an excessively high transmittance can be obtained, and the optical sensor can be obtained. It may be difficult to limit the amount of light incident on the.
  • the light absorption layer may further include a compound (A) having an absorption maximum in a wavelength region of 650 to 750 nm.
  • the light absorbing layer containing the compound (S) and the light absorbing layer containing the compound (A) may be the same layer or different layers. Further, the compound (A) contained in the light absorption layer may be one kind alone or two or more kinds.
  • the compound (A) is not particularly limited as long as it has an absorption maximum in the wavelength region of 650 to 750 nm, but is selected from the group consisting of squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, croconium compounds, and cyanine compounds. At least one compound is preferable, and squarylium compounds and phthalocyanine compounds are particularly preferable.
  • the squarylium compound is not particularly limited, but is at least one selected from the group consisting of a squarylium compound represented by the following formula (I) and a squarylium compound represented by the following formula (II). Are preferred. Hereinafter, they are also referred to as “compound (I)” and “compound (II)”, respectively.
  • R a , R b and Ya satisfy the following condition ( ⁇ ) or ( ⁇ ).
  • a plurality of R a each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, —L 1 or —NR e R f group;
  • a plurality of R b s each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, —L 1 or —NR g R h group;
  • a plurality of Ya each independently represents a —NR j R k group;
  • L 1 represents L a, L b, L c , L d, L e, L f, L g or L h;
  • R e and R f each independently represents a hydrogen atom, -L a ,
  • At least one of two R a on one benzene ring is bonded to Y on the same benzene ring to form a heterocycle having 5 or 6 member atoms containing at least one nitrogen atom;
  • the heterocyclic ring may have a substituent, and R b and R a that is not involved in the formation of the heterocyclic ring are independently synonymous with R b and R a in the condition ( ⁇ ).
  • the total number of carbon atoms including the substituents of L a to L h is preferably 50 or less, more preferably 40 or less, and particularly preferably 30 or less. When the number of carbon atoms exceeds this range, the synthesis of the compound may be difficult, and the light absorption intensity per unit weight tends to be small.
  • the aliphatic hydrocarbon group L a and 1 to 12 carbon atoms in L such as a methyl group (Me), ethyl (Et), n-propyl group (n-Pr), isopropyl (i-Pr ), N-butyl group (n-Bu), sec-butyl group (s-Bu), tert-butyl group (t-Bu), pentyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc.
  • Me methyl group
  • Et ethyl
  • i-Pr isopropyl
  • n-Bu N-butyl group
  • s-Bu sec-butyl group
  • t-Bu tert-butyl group
  • pentyl group hexyl group
  • octyl group nonyl group
  • decyl group dodecyl
  • Alkyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-pentenyl group, hexenyl group and octenyl group
  • alkynyl groups such as ethynyl group, propynyl group, butynyl group, 2-methyl-1-propynyl group, hexynyl group and octynyl group.
  • Examples of the halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in L b and L include, for example, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1,1-dichloroethyl group, a pentachloroethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptachloro group. Mention may be made of propyl and heptafluoropropyl groups.
  • Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms in L c and L include, for example, a cycloalkyl group such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group; a norbornane group and an adamantane group And polycyclic alicyclic groups such as
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms in L d and L include, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, anthracenyl group, Mention may be made of phenanthryl, acenaphthyl, phenalenyl, tetrahydronaphthyl, indanyl and biphenylyl groups.
  • heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms in Le and L examples include, for example, furan, thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, oxazole, oxadiazole, thiazole, thiadiazole, indole, indoline, indolenine, and benzofuran.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms in L f include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, and an octyloxy group. it can.
  • Examples of the acyl group having 1 to 9 carbon atoms in L g include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, and a benzoyl group.
  • alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms in L h examples include, for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, and an octyl group.
  • An oxycarbonyl group can be mentioned.
  • L a preferably a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, tert- butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, 4-phenylbutyl 2-cyclohexylethyl, more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group.
  • L b is preferably a trichloromethyl group, a pentachloroethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, or a 5-cyclohexyl-2,2,3,3-tetrafluoropentyl group, more preferably a trichloromethyl group.
  • L c is preferably a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 4-ethylcyclohexyl group, a cyclooctyl group, or a 4-phenylcycloheptyl group, and more preferably a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a 4-ethylcyclohexyl group. It is.
  • the L d is preferably a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, 4-cyclopentylphenyl group. 2,3,6-triphenylphenyl group, 2,3,4,5,6-pentaphenylphenyl group, more preferably phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 2,3 , 4,5,6-pentaphenylphenyl group.
  • L e preferably furan, thiophene, pyrrole, indole, indoline, indolenine, benzofuran, benzothiophene, consisting morpholine group, more preferably furan, thiophene, pyrrole, consisting morpholine group.
  • the L f is preferably methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, methoxymethyl group, methoxyethyl group, 2-phenylethoxy group, 3-cyclohexylpropoxy group, pentyloxy group, hexyloxy Group, octyloxy group, more preferably methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group.
  • L g is preferably an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a benzoyl group, a 4-propylbenzoyl group, or a trifluoromethylcarbonyl group, and more preferably an acetyl group, a propionyl group, or a benzoyl group.
  • the L h is preferably a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a 2-trifluoromethylethoxycarbonyl group, or a 2-phenylethoxycarbonyl group, more preferably A methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group;
  • the L a to L h further have at least one atom or group selected from the group consisting of a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, and an amino group. May be. Examples include 4-sulfobutyl, 4-cyanobutyl, 5-carboxypentyl, 5-aminopentyl, 3-hydroxypropyl, 2-phosphorylethyl, 6-amino-2,2-dichloro.
  • R a in the above condition ( ⁇ ) is preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group.
  • R b in the above condition ( ⁇ ) is preferably a hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group Cyclohexyl group, phenyl group, hydroxyl group, amino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, acetylamino group, propionylamino group, N-methylacetylamino group, trifluoromethanoylamino group, pentafluoroethanoylamino group T-butanoylamino group, cyclohexinoylamino group, more preferably hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, hydroxyl group, dimethylamino group, nitro group Acet
  • the Ya is preferably an amino group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, di-t-butylamino group, N -Ethyl-N-methylamino group, N-cyclohexyl-N-methylamino group, more preferably dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group , A di-t-butylamino group.
  • At least one of two R a on one benzene ring is bonded to Y on the same benzene ring, and at least 1 nitrogen atom is formed.
  • the heterocyclic ring containing 5 or 6 atoms include pyrrolidine, pyrrole, imidazole, pyrazole, piperidine, pyridine, piperazine, pyridazine, pyrimidine and pyrazine.
  • a heterocyclic ring that constitutes the heterocyclic ring and in which one atom adjacent to the carbon atom constituting the benzene ring is a nitrogen atom is preferable, and pyrrolidine is more preferable.
  • X independently represents O, S, Se, N—R c or C (R d R d ); a plurality of R c s independently represent a hydrogen atom, L a , L b , L c, represents L d or L e; each independently plurality of R d, a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, -L 1 or -NR e R f group, and adjacent R d groups may be linked to form an optionally substituted ring; L a to L e , L 1 , R e and R f are It is synonymous with L a -L e , L 1 , R e and R f defined in formula (I).
  • R c in the formula (II) is preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group.
  • R d in the formula (II) is preferably a hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl.
  • n-pentyl group n-hexyl group, cyclohexyl group, phenyl group, methoxy group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 4-aminocyclohexyl group, more preferably hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom Methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, trifluoromethyl group and pentafluoroethyl group.
  • X is preferably O, S, Se, N-Me, N-Et, CH 2 , C-Me 2 , C-Et 2 , and more preferably S, C-Me 2 , C-Et 2. It is.
  • adjacent R ds may be linked to form a ring.
  • rings include benzoindolenin ring, ⁇ -naphthimidazole ring, ⁇ -naphthimidazole ring, ⁇ -naphthoxazole ring, ⁇ -naphthoxazole ring, ⁇ -naphthothiazole ring, ⁇ -naphthothiazole ring. , ⁇ -naphthoselenazole ring and ⁇ -naphthoselenazole ring.
  • Compound (I) and Compound (II) are represented by the following formulas (I-2) and (II-2) in addition to the description methods such as the following formula (I-1) and the following formula (II-1).
  • the structure can also be expressed by a description method that takes a resonance structure. That is, the difference between the following formula (I-1) and the following formula (I-2), and the difference between the following formula (II-1) and the following formula (II-2) is only the structure description method. Represents the same compound.
  • the structure of the squarylium compound is represented by a description method such as the following formula (I-1) and the following formula (II-1).
  • a compound represented by the following formula (I-3) and a compound represented by the following formula (I-4) can be regarded as the same compound.
  • the structures of the compounds (I) and (II) are not particularly limited as long as they satisfy the requirements of the formulas (I) and (II), respectively.
  • the left and right substituents bonded to the central four-membered ring may be the same or different, It is preferable that they are the same because synthesis is easy.
  • compounds (I) and (II) include compounds (a-1) shown in the following Tables 2 to 4 having basic skeletons represented by the following formulas (IA) to (IH): ) To (a-36).
  • the compounds (I) and (II) may be synthesized by a generally known method.
  • JP-A-1-228960, JP-A-2001-40234, JP-A-3196383, etc. It can be synthesized with reference to the method described.
  • the phthalocyanine compound is not particularly limited, but is preferably a compound represented by the following formula (III) (hereinafter also referred to as “compound (III)”).
  • M represents a substituted metal atom including two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, or a trivalent or tetravalent metal atom
  • the amino group, amide group, imide group and silyl group may have the substituent L defined in the formula (I), L 1 has the same meaning as L 1 defined in Formula (I), L 2 represents one of L a ⁇ L e as defined in the hydrogen atom or the formula (I), the L 3 represents either a hydroxyl group or the L a ⁇ L e, L 4 represents represents any of the L a ⁇ L e.
  • the group and the silyl group may have the substituent L defined in the formula (I), and L 1 to L 4 have the same meanings as L 1 to L 4 defined in the formula (III).
  • the amino group which may have a substituent L is an amino group, ethylamino group, dimethylamino group, methylethylamino group, dibutylamino group, diisopropylamino Group and the like.
  • R a to R d and R A to R L as an amide group which may have a substituent L, an amide group, a methylamide group, a dimethylamide group, a diethylamide group, a dipropylamide group, a diisopropylamide group, Examples thereof include a dibutylamide group, an ⁇ -lactam group, a ⁇ -lactam group, a ⁇ -lactam group, and a ⁇ -lactam group.
  • the imide group that may have a substituent L is an imide group, a methylimide group, an ethylimide group, a diethylimide group, a dipropylimide group, a diisopropylimide group, A dibutylimide group etc. are mentioned.
  • Examples of the silyl group that may have a substituent L in R a to R d and R A to R L include a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a triethylsilyl group.
  • —SL 2 includes thiol group, methyl sulfide group, ethyl sulfide group, propyl sulfide group, butyl sulfide group, isobutyl sulfide group, sec-butyl sulfide group Tert-butyl sulfide group, phenyl sulfide group, 2,6-di-tert-butylphenyl sulfide group, 2,6-diphenylphenyl sulfide group, 4-cumylphenyl sulfide group and the like.
  • —SS-L 2 is a disulfide group, methyl disulfide group, ethyl disulfide group, propyl disulfide group, butyl disulfide group, isobutyl disulfide group, sec-butyl disulfide group Tert-butyl disulfide group, phenyl disulfide group, 2,6-di-tert-butylphenyl disulfide group, 2,6-diphenylphenyl disulfide group, 4-cumylphenyl disulfide group and the like.
  • examples of —SO 2 -L 3 include a sulfo group, a mesyl group, an ethylsulfonyl group, an n-butylsulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, and the like.
  • —N ⁇ N—L 4 includes a methylazo group, a phenylazo group, a p-methylphenylazo group, a p-dimethylaminophenylazo group, and the like.
  • examples of monovalent metal atoms include Li, Na, K, Rb, and Cs.
  • the divalent metal atoms include Be, Mg, Ca, Ba, Ti, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ni, Pd, Pt, Cu, Zn, Cd, Hg, Sn, Pb etc. are mentioned.
  • the substituted metal atom containing a trivalent metal atom includes Al—F, Al—Cl, Al—Br, Al—I, Ga—F, Ga—Cl, Ga—Br, Ga—I, In -F, In-Cl, In-Br, In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Fe-Cl, Ru-Cl, Mn-OH and the like.
  • the substituted metal atom containing a tetravalent metal atom includes TiF 2 , TiCl 2 , TiBr 2 , TiI 2 , ZrCl 2 , HfCl 2 , CrCl 2 , SiF 2 , SiCl 2 , SiBr 2 , SiI 2 , GeF 2 , GeCl 2 , GeBr 2 , GeI 2 , SnF 2 , SnCl 2 , SnBr 2 , SnI 2 , Zr (OH) 2 , Hf (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Si (OH) 2 , Ge ( OH) 2 , Sn (OH) 2 , TiR 2 , CrR 2 , SiR 2 , GeR 2 , SnR 2 , Ti (OR) 2 , Cr (OR) 2 , Si (OR) 2 , Ge (OR) 2 , Sn (OR) 2 (R represents an aliphatic group or an aromatic group),
  • the M is a divalent transition metal, trivalent or tetravalent metal halide or tetravalent metal oxide belonging to Groups 5 to 11 of the periodic table and belonging to the 4th to 5th periods.
  • Cu, Ni, Co, and VO are particularly preferable because high visible light transmittance and stability can be achieved.
  • a method of synthesizing the phthalocyanine-based compound by a cyclization reaction of a phthalonitrile derivative such as the following formula (V) is generally known.
  • the obtained phthalocyanine-based compounds are represented by the following formulas (VI-1) to (VI) It is a mixture of four isomers such as VI-4).
  • VI-1 a phthalonitrile derivative
  • VI-4 a phthalonitrile derivative
  • the compound (III) include the basic skeletons represented by the following formulas (III-A) to (III-J), and (b-1) to (b-61) shown in Tables 5 to 8 below. ) And the like.
  • Compound (III) may be synthesized by a generally known method. For example, a method described in Japanese Patent No. 4081149 or “phthalocyanine -chemistry and function” (IPC, 1997) is used. It can be synthesized by reference.
  • the cyanine compound is not particularly limited, but is a compound represented by any of the following formulas (IV-1) to (IV-3) (hereinafter referred to as “compounds (IV-1) to (IV-3)”. ) ").) Is preferred.
  • X a - represents a monovalent anion
  • a plurality of D are independently represents a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom
  • L 1 has the same meaning as L 1 defined in Formula (I)
  • L 2 represents one of L a ⁇ L e as defined in the hydrogen atom or the formula (I)
  • the L 3 represents either a hydrogen atom or the L a ⁇ L e
  • L 4 are, represents any of the L a ⁇ L e
  • the hydrogenation group may have an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms or a halogen atom.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms formed by bonding Z or Y in Z a to Z c and Y a to Y d include, for example, the substituent L
  • the compound illustrated by the aromatic hydrocarbon group is mentioned.
  • the alicyclic hydrocarbon group include compounds exemplified by the alicyclic hydrocarbon group and the heterocyclic ring in the substituent L (excluding the heteroaromatic hydrocarbon group).
  • heteroaromatic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms formed by bonding Z or Y in Z a to Z c and Y a to Y d include, for example, the substituent L And the compounds exemplified as the heterocyclic group (excluding alicyclic hydrocarbon groups containing at least one nitrogen atom, oxygen atom or sulfur atom).
  • X a ⁇ is not particularly limited as long as it is a monovalent anion, but I ⁇ , Br ⁇ , PF 6 ⁇ , N (SO 2 CF 3 ) 2 ⁇ , B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ , nickel dithiolate. And the like, and copper dithiolate complex.
  • the compounds (IV-1) to (IV-3) may be synthesized by a generally known method, for example, by the method described in JP-A-2009-108267.
  • the addition amount of the compound (A) is appropriately selected according to the desired properties, but is usually 0.01 to 20.0 parts by weight, preferably 0.03 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin.
  • the amount is desirably 10.0 parts by weight.
  • the transparent resin used for the light absorbing layer is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention. For example, thermal stability and film formability are ensured, and a deposition temperature of 100 ° C. or higher.
  • the glass transition temperature (Tg) is preferably 110 to 380 ° C., more preferably 110 to 370 ° C., and even more preferably 120 to 360 ° C. in order to obtain a film capable of forming a dielectric multilayer film by high-temperature vapor deposition performed in Resin. Further, it is particularly preferable that the glass transition temperature of the resin is 140 ° C. or higher because a film capable of depositing a dielectric multilayer film at a higher temperature can be obtained.
  • the total light transmittance (JIS K7105) of the resin plate is preferably 75 to 95%, more preferably 78 to 95. %, Particularly preferably 80 to 95% of the resin can be used. If a resin having a total light transmittance in such a range is used, the resulting substrate exhibits good transparency as an optical film.
  • the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method of the transparent resin is usually 15,000 to 350,000, preferably 30,000 to 250,000.
  • the average molecular weight (Mn) is usually 10,000 to 150,000, preferably 20,000 to 100,000.
  • transparent resins examples include cyclic polyolefin resins, aromatic polyether resins, polyimide resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, polyamide (aramid) resins, polyarylate resins, and polysulfones.
  • Resin polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate (PEN) resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, allyl
  • examples thereof include an ester curable resin, a silsesquioxane ultraviolet curable resin, an acrylic ultraviolet curable resin, a vinyl ultraviolet curable resin, and a resin mainly composed of silica formed by a sol-gel method.
  • the use of cyclic polyolefin resins, aromatic polyether resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, and polyarylate resins helps balance transparency (optical properties), heat resistance, etc. This is preferable in that an excellent optical filter can be obtained.
  • the cyclic polyolefin-based resin is obtained from at least one monomer selected from the group consisting of a monomer represented by the following formula (X 0 ) and a monomer represented by the following formula (Y 0 ).
  • a resin and a resin obtained by hydrogenating the resin are preferable.
  • R x1 to R x4 are each independently the following (i ′) to (ix ′) Represents an atom or group selected from the above, k x , mx and p x each independently represents 0 or a positive integer.
  • R x1 and R x2 or R x3 and R x4 are bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic hydrocarbon ring or heterocyclic ring (provided that R x1 to R which are not involved in the bond) x4 each independently represents an atom or group selected from (i ′) to (vi ′).
  • Ix ′ A monocyclic hydrocarbon ring or heterocycle formed by bonding R x2 and R x3 to each other (provided that R x1 and R x4 not involved in the bonding are each independently the above (i Represents an atom or group selected from ') to (vi').
  • R y1 and R y2 each independently represent an atom or group selected from the above (i ′) to (vi ′), or R y1 and R y2 are bonded to each other formed monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon or heterocyclic, k y and p y are each independently, represent 0 or a positive integer.
  • the aromatic polyether-based resin preferably has at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2).
  • R 1 to R 4 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and a to d each independently represents an integer of 0 to 4.
  • R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d independently has the same meaning as R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d of the formula (1)
  • Y represents a single bond
  • -SO 2 -Or> C O
  • R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group
  • g and h each independently represent 0 to 4
  • m represents 0 or 1.
  • R 7 is not a cyano group.
  • the aromatic polyether resin further has at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (3) and a structural unit represented by the following formula (4). Is preferred.
  • R 5 and R 6 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —,> C ⁇ O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • e and f each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents 0 or 1.
  • R 7 , R 8 , Y, m, g and h are each independently synonymous with R 7 , R 8 , Y, m, g and h in formula (2), and R 5 , R 6 , Z, n, e and f are each independently synonymous with R 5 , R 6 , Z, n, e and f in the formula (3).
  • the polyimide resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound containing an imide bond in a repeating unit.
  • the method described in JP-A-2006-199945 and JP-A-2008-163107 is used. Can be synthesized.
  • the fluorene polycarbonate resin is not particularly limited as long as it is a polycarbonate resin containing a fluorene moiety, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-163194.
  • the fluorene polyester resin is not particularly limited as long as it is a polyester resin containing a fluorene moiety.
  • the fluorene polyester resin can be synthesized by the method described in JP 2010-285505 A or JP 2011-197450 A. Can do.
  • the fluorinated aromatic polymer resin is not particularly limited, but is selected from the group consisting of an aromatic ring having at least one fluorine atom, an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, an imide bond, and an ester bond.
  • the polymer preferably contains a repeating unit containing at least one bond, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-181121.
  • the acrylic ultraviolet curable resin is not particularly limited, but is synthesized from a resin composition containing a compound having one or more acrylic or methacrylic groups in the molecule and a compound that decomposes by ultraviolet rays to generate active radicals. Can be mentioned.
  • a transparent resin layer (light absorption layer) containing a compound (S) and a curable resin is laminated on a glass support or a resin support as a base as the base (i).
  • the curable resin It can be particularly preferably used.
  • Resin mainly composed of silica formed by sol-gel process examples include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, dimethoxydiethoxylane, and methoxytriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, A compound obtained by a sol-gel reaction by hydrolysis of one or more silanes selected from phenylalkoxysilanes such as diphenyldiethoxysilane can be used as the resin.
  • cyclic polyolefin resins examples include Arton manufactured by JSR Corporation, ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., APEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., and TOPAS manufactured by Polyplastics Corporation.
  • polyethersulfone resins examples include Sumika Excel PES manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • polyimide resins examples include Neoprim L manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • commercially available polycarbonate resins include Pure Ace manufactured by Teijin Limited.
  • Examples of commercially available fluorene polycarbonate resins include Iupizeta EP-5000 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available fluorene polyester resins include OKP4HT manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available acrylic resins include NIPPON CATALYST ACRYVIEWER.
  • Examples of commercially available silsesquioxane-based ultraviolet curable resins include Silplus manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • the light-absorbing layer may further contain additives such as an antioxidant, a near-ultraviolet absorber, and a fluorescence quencher as long as the effects of the present invention are not impaired. These other components may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the near ultraviolet absorber include azomethine compounds, indole compounds, benzotriazole compounds, triazine compounds, and the like.
  • antioxidants examples include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [Methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and the like.
  • additives may be mixed with the resin or the like when the transparent resin is produced, or may be added when the resin is synthesized.
  • the addition amount is appropriately selected according to the desired properties, but is usually 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.05 to 2. parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin. 0 parts by weight.
  • Glass support for example, a colorless and transparent glass substrate, a glass substrate containing a copper component, or a fluorophosphate glass substrate can be used.
  • fluorophosphate glass containing a copper component as an absorbent is preferable because it can improve near-infrared cutting ability.
  • the transparent resin substrate (ii) can be formed by, for example, melt molding or cast molding, If necessary, a substrate on which an overcoat layer is laminated can be produced by coating a coating agent such as an antireflection agent, a hard coat agent and / or an antistatic agent after molding.
  • a coating agent such as an antireflection agent, a hard coat agent and / or an antistatic agent after molding.
  • a transparent resin layer (light absorbing layer) such as an overcoat layer made of a curable resin containing the compound (S) is laminated on a glass support or a resin support as a base.
  • a resin solution containing the compound (S) is melt-molded or cast-molded on a glass support or a resin support serving as a base, and preferably spin coating, slit coating, inkjet, etc. After coating by the method, the solvent is dried and removed, and if necessary, the substrate on which the transparent resin layer is formed on the glass support or the base resin support is further obtained by performing light irradiation or heating. Can be manufactured.
  • the melt molding is a method of melt-molding pellets obtained by melt-kneading a resin and a compound (S) or the like; melting a resin composition containing the resin and the compound (S) A method of molding; or a method of melt-molding pellets obtained by removing the solvent from the resin composition containing the compound (S), the resin and the solvent.
  • the melt molding method include injection molding, melt extrusion molding, and blow molding.
  • ⁇ Cast molding As the cast molding, a method of removing a solvent by casting a resin composition containing the compound (S), a resin and a solvent on an appropriate support; or the compound (S) and a photocurable resin and / or It can also be produced by a method in which a curable composition containing a thermosetting resin is cast on an appropriate support to remove the solvent and then cured by an appropriate method such as ultraviolet irradiation or heating.
  • the base material (i) is a base material made of a transparent resin substrate (ii) containing the compound (S)
  • the base material (i) is coated with a coating film from the support after cast molding. It can be obtained by peeling, and the base material (i) is made from a curable resin containing the compound (S) on a support such as a glass support or a resin support as a base.
  • the substrate (i) can be obtained by not peeling the coating film after cast molding.
  • the support examples include a glass plate, a steel belt, a steel drum, and a support made of a transparent resin (for example, a polyester film and a cyclic olefin resin film).
  • a transparent resin for example, a polyester film and a cyclic olefin resin film.
  • the optical component such as glass plate, quartz or transparent plastic is coated with the resin composition and the solvent is dried, or the curable composition is coated and cured and dried.
  • a transparent resin layer can also be formed on the component.
  • the amount of residual solvent in the transparent resin layer (transparent resin substrate (ii)) obtained by the above method should be as small as possible.
  • the amount of the residual solvent is preferably 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and still more preferably 0.8% by weight with respect to the weight of the transparent resin layer (transparent resin substrate (ii)). 5% by weight or less.
  • the amount of residual solvent is in the above range, a transparent resin layer (transparent resin substrate (ii)) that can easily exhibit a desired function is obtained, in which deformation and characteristics are hardly changed.
  • the first optical filter according to the present invention preferably has a dielectric multilayer film on at least one surface of the substrate (i).
  • the dielectric multilayer film in the present invention is a film having the ability to reflect near-infrared rays or a film having an antireflection effect in the visible range. By having a dielectric multilayer film, a better visible light transmittance and near-infrared radiation are obtained. Cut characteristics can be achieved.
  • the dielectric multilayer film may be provided on one side of the substrate or on both sides.
  • the optical filter When it is provided on one side, it is possible to obtain an optical filter that is excellent in production cost and manufacturability and has high strength and is less likely to warp or twist when provided on both sides.
  • the optical filter When the optical filter is applied to a solid-state imaging device, it is preferable that the optical filter is less warped or twisted. Therefore, it is preferable to provide a dielectric multilayer film on both surfaces of the resin substrate.
  • the dielectric multilayer film preferably has reflection characteristics over the entire wavelength range of 700 to 1100 nm, more preferably 700 to 1150 nm, and even more preferably 700 to 1200 nm.
  • Examples of the dielectric multilayer film include those in which a high refractive index material layer and a low refractive index material layer are alternately laminated.
  • a material constituting the high refractive index material layer a material having a refractive index of 1.7 or more can be used, and a material having a refractive index of usually 1.7 to 2.5 is selected.
  • Such materials include titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, or indium oxide as the main components, and titanium oxide, tin oxide, and / or Alternatively, a material containing a small amount of cerium oxide or the like (for example, 0 to 10% by weight with respect to the main component) can be used.
  • a material having a refractive index of 1.6 or less can be used, and a material having a refractive index of usually 1.2 to 1.6 is selected.
  • examples of such materials include silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and sodium hexafluoride sodium.
  • the method for laminating the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is not particularly limited as long as a dielectric multilayer film in which these material layers are laminated is formed.
  • a high-refractive index material layer and a low-refractive index material layer are alternately laminated directly on the substrate (i) by CVD, sputtering, vacuum deposition, ion-assisted deposition, or ion plating.
  • a dielectric multilayer film can be formed.
  • each of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is usually preferably from 0.1 ⁇ to 0.5 ⁇ , where ⁇ (nm) is the near infrared wavelength to be blocked.
  • the value of ⁇ (nm) is, for example, 700 to 1400 nm, preferably 750 to 1300 nm.
  • the optical thickness obtained by multiplying the refractive index (n) by the thickness (d) (n ⁇ d) by ⁇ / 4 the high refractive index material layer, and the low refractive index.
  • the thicknesses of the respective layers of the refractive index material layer are almost the same value, and there is a tendency that the blocking / transmission of a specific wavelength can be easily controlled from the relationship between the optical characteristics of reflection / refraction.
  • the total number of high refractive index material layers and low refractive index material layers in the dielectric multilayer film is preferably 16 to 70 layers, more preferably 20 to 60 layers, as a whole. If the thickness of each layer, the thickness of the dielectric multilayer film as a whole of the optical filter, and the total number of layers are within the above ranges, a sufficient manufacturing margin can be secured, and the warpage of the optical filter and cracks in the dielectric multilayer film can be reduced. can do.
  • Appropriate selection of thickness, stacking order, and number of stacks ensures sufficient transmittance in the visible range and sufficient light cut characteristics in the near-infrared wavelength range, and is close to the oblique direction. The reflectance when infrared rays are incident can be reduced.
  • optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co., Ltd.
  • optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co., Ltd.
  • the target transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm is set to 100%
  • the target Tolerance value is set to 1
  • the target transmittance at a wavelength of 705 to 950 nm is set to 0%.
  • Parameter setting method such as setting Target Tolerance value to 0.5 can be mentioned.
  • These parameters can change the value of Target Tolerance by further finely dividing the wavelength range according to various characteristics of the substrate (i).
  • the optical filter of the present invention does not impair the effects of the present invention
  • the optical filter is provided between the base material (i) and the dielectric multilayer film, on the side opposite to the surface on which the dielectric multilayer film is provided.
  • the surface hardness of the substrate (i) or the dielectric multilayer film is improved, the chemical resistance is improved, the antistatic A functional film such as an antireflection film, a hard coat film, or an antistatic film can be appropriately provided for the purpose of scratch removal.
  • the optical filter of the present invention may include one layer made of the functional film or two or more layers.
  • the optical filter of the present invention may include two or more similar layers or two or more different layers.
  • the method for laminating the functional film is not particularly limited, but a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melted in the base material (i) or the dielectric multilayer film as described above.
  • a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melted in the base material (i) or the dielectric multilayer film as described above.
  • Examples of the method include molding or cast molding.
  • a curable composition containing the coating agent or the like on a substrate (i) or a dielectric multilayer film with a bar coater or the like and then curing it by ultraviolet irradiation or the like.
  • the coating agent examples include ultraviolet (UV) / electron beam (EB) curable resins and thermosetting resins. Specifically, vinyl compounds, urethanes, urethane acrylates, acrylates, epoxy And epoxy acrylate resins. Examples of the curable composition containing these coating agents include vinyl, urethane, urethane acrylate, acrylate, epoxy, and epoxy acrylate curable compositions.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • the curable composition may contain a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator a known photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator can be used, and a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator may be used in combination.
  • a polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the blending ratio of the polymerization initiator in the curable composition is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, when the total amount of the curable composition is 100% by weight. More preferably, it is 1 to 5% by weight.
  • a functional film such as an antireflective film, a hard coat film or an antistatic film having excellent curing characteristics and handleability of the curable composition and having a desired hardness. it can.
  • organic solvent may be added as a solvent to the curable composition, and known organic solvents can be used.
  • organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ⁇ -butyrolactone, propylene Esters such as glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Dimethylformamide, dimethylacetamide, N- Examples include amides such as methylpyrrolidone.
  • solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the thickness of the functional film is preferably 0.1 to 30 ⁇ m, more preferably 0.5 to 20 ⁇ m, and particularly preferably 0.7 to 5 ⁇ m.
  • the base material (i) and the functional film and / or the dielectric multilayer film may be applied to the surface of the multilayer film.
  • the second optical filter according to the present invention includes a near-infrared absorbing layer (light absorbing layer) and a near-infrared reflecting layer.
  • the near-infrared absorbing layer examples include an embodiment that is a resin layer containing a near-infrared absorbing dye, an embodiment that is a fluorophosphate glass layer or a phosphate glass layer containing a copper component, and the like.
  • the second optical filter according to the present invention includes, for example, a glass substrate, the embodiment in which the near infrared absorption layer is provided on at least one surface of the glass substrate, a resin substrate, and the near infrared ray Examples include an aspect in which an absorption layer is provided on at least one surface of the resin substrate.
  • the near-infrared reflective layer may be a dielectric multilayer film.
  • the transmittance of the second optical filter according to the present invention satisfies the following conditions (A) to (C).
  • the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 50% or more, preferably 60% or more, more preferably 70% or more.
  • a filter can be obtained.
  • the average value of the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 15% or less, preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and still more preferably 1. % Or less.
  • ) of the difference in wavelength value (Xb) at which the transmittance when measured from an angle of 30 ° is 50% is less than 20 nm, preferably less than 15 nm, more preferably less than 10 nm. It is.
  • the change in the spectral sensitivity characteristic of the ambient light sensor due to the incident angle of the incident light is reduced, and the decrease in sensitivity of the ambient light sensor and the occurrence of malfunction are suppressed.
  • Ambient light sensor sensitivity close to human visual sensitivity characteristics can be achieved regardless of the angle, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • the optical filter 104 includes a layer or member that reflects near infrared rays and a layer or member that absorbs near infrared rays.
  • FIG. 1 shows an embodiment in which the optical filter 104 includes a near infrared reflection layer 118 and a near infrared absorption layer 120.
  • the near-infrared reflective layer 118 has a characteristic of reflecting light in the near-infrared wavelength band.
  • the near-infrared reflective layer 118 is formed of a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film has a structure in which dielectric films having a relatively high refractive index and dielectric films having a relatively low refractive index are alternately stacked.
  • the dielectric multilayer film has a characteristic of transmitting light in the visible light band and reflecting light in the near-infrared wavelength band due to the light interference effect.
  • the dielectric multilayer film exhibits a steep rise (or fall) in spectral transmission characteristics.
  • the dielectric multilayer film has a characteristic that the spectral transmission spectrum is different between vertically incident light and incident light from an oblique direction (obliquely incident light). That is, with only the dielectric multilayer film, a spectral transmission spectrum as designed can be obtained only with normal incident light, but the optical path length changes with respect to oblique incident light, and the spectral transmission spectrum differs from the designed value. For this reason, in the optical filter using only the dielectric multilayer film, when outside light is incident at a wide angle, the transmission spectrum of the incident light deviates from the visibility characteristic of the photoelectric conversion element 102, and thus malfunction occurs. Problems arise.
  • the optical filter 104 is provided with a near-infrared absorbing layer 120 in addition to the near-infrared reflecting layer 118.
  • the near-infrared absorbing layer 120 has a characteristic of transmitting light in the visible light band and absorbing light in the near-infrared wavelength band.
  • the near-infrared absorbing layer 120 contains a compound that absorbs near-infrared rays and has at least one absorption peak in the near-infrared wavelength band.
  • the compound that absorbs near infrared rays preferably has a maximum absorption within a wavelength range of 600 nm to 1500 nm, more preferably has a maximum absorption within a wavelength range of 650 nm to 1200 nm, and a maximum within a wavelength range of 650 nm to 800 nm. It is more preferable to have absorption, and it is particularly preferable to have maximum absorption within a wavelength range of 650 nm to 750 nm.
  • a compound having a maximum absorption in this wavelength range a highly accurate ambient light sensor with a small change in sensor sensitivity due to an incident angle can be obtained.
  • a near-infrared absorbing dye can be used as a compound that absorbs near-infrared rays.
  • Such a near-infrared absorbing layer 120 is formed using a near-infrared absorbing composition containing a compound that absorbs near-infrared rays and at least one selected from a binder resin and a polymerizable compound.
  • a compound that absorbs near-infrared light is included in a resin layer that is transparent to visible light.
  • the optical filter 104 has a near infrared absorption layer 120 disposed on the back surface of the near infrared reflection layer 118.
  • the near-infrared reflecting layer 118 reflects near-infrared light, but when the transmitted light includes light in the near-infrared wavelength band, the near-infrared absorbing layer 120 absorbs light in the near-infrared wavelength band included in the transmitted light.
  • the light (obliquely incident light) incident from the oblique direction of the optical filter 104 changes as compared with the case where the transmission spectrum is perpendicularly incident because the near-infrared reflective layer 118 is a dielectric multilayer film.
  • the near-infrared absorption layer 120 absorbs the light component, so that the near-infrared wavelength band Can be prevented from remaining.
  • the optical filter 104 can improve the performance of blocking near-infrared light by providing the near-infrared reflecting layer 118 and the near-infrared absorbing layer 120 so as to overlap each other. Thereby, when the ambient light sensor 100a measures the illuminance, it is possible to accurately detect the illuminance by the light in the visible light band even when light is incident from an oblique direction.
  • At least one of the absorption peak wavelengths of the near-infrared absorbing layer 120 has such a characteristic that it overlaps with the cutoff wavelength in the near-infrared reflecting layer 118. Even when the cut-off wavelength of the transmitted light spectrum is changed by light incident on the near-infrared reflecting layer 118 from an oblique direction, the near-infrared absorbing layer 120 can reduce the influence of the shift of the cut-off wavelength.
  • the optical filter 104 according to this embodiment has a transmittance of 50% or more in the wavelength range of 430 nm to 580 nm when measured from the vertical direction. Further, the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter 104 according to the present embodiment is 15% or less in the wavelength range of 800 nm to 1000 nm.
  • the optical filter 104 according to this embodiment has a wavelength (Xa) at which the transmittance is 50% when measured from the vertical direction in the wavelength range of 560 nm to 800 nm, and an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter 104.
  • the absolute value of the difference in wavelength (Xb) at which the transmittance when measured is 50% is less than 20 nm.
  • the optical filter 104 according to the present embodiment desirably satisfies the above conditions at the same time.
  • optical filter 104 Since the optical filter 104 has such optical characteristics, not only the light incident from the vertical direction but also the light incident from the oblique direction is blocked from the near infrared light, and the same regardless of the incident angle. Light in the visible light band of optical characteristics can be transmitted.
  • the second optical filter according to the present invention includes a near-infrared reflecting layer and a near-infrared absorbing layer, but various modifications are allowed as its form.
  • FIG. 2A shows an optical filter 104a provided with a first near-infrared reflecting layer 118a, a near-infrared absorbing layer 120, and a second near-infrared reflecting layer 118b from the light incident side.
  • the first near-infrared reflective layer 118a has a structure in which dielectric films having different refractive indexes are stacked.
  • the second near-infrared reflective layer 118b may have the same dielectric multilayer structure as the first near-infrared reflective layer 118a, or may have a different dielectric multilayer structure.
  • the near-infrared absorbing layer 120 contains a compound that absorbs near-infrared rays in a translucent resin layer. Examples of the compound that absorbs near infrared rays include near infrared absorbing dyes.
  • the near-infrared absorbing layer 120 includes a compound that absorbs near-infrared rays in a translucent resin layer. In the optical filter 104a, this resin layer may have a function as a base material. By using the near-infrared absorbing layer 120 itself as a structural material, the optical filter 104a can be thinned.
  • a near infrared absorption layer 120 is interposed in a structure in which a dielectric multilayer film is formed as the first near infrared reflection layer 118a and the second near infrared reflection layer 118b.
  • FIG. 2A shows a mode in which the near-infrared reflective layer is provided on both sides of the near-infrared absorbing layer, but the optical filter 104a is not limited to this mode.
  • the near infrared reflection layer may be provided only on one side of the near infrared absorption layer.
  • the optical filter 104a may be configured by the first near-infrared reflecting layer 118a and the near-infrared absorbing layer 120. Even with such a configuration, the synergistic effect of the near-infrared reflecting layer and the near-infrared absorbing layer described above can be exhibited.
  • the structure which replaced either the 1st near-infrared reflective layer and the 2nd near-infrared reflective layer with the antireflection layer can also be used.
  • optical filter 2 ⁇ glass that absorbs near infrared light may be used for the near infrared absorbing layer 120. That is, instead of the resin layer containing a compound that absorbs near infrared rays, the optical filter 104 may be configured using a glass substrate containing a substance that absorbs near infrared rays.
  • the glass material may be a fluorine phosphate glass layer or a phosphate glass layer containing a copper component. Since the glass layer has higher heat resistance and is harder than the resin layer, the heat resistance and structural stability of the optical filter 104 can be improved.
  • the first resin layer 122a is provided between the first near-infrared reflecting layer 118a and the near-infrared absorbing layer 120, and the second near-infrared reflecting layer 118b and the near-infrared absorbing layer 120 are provided.
  • the optical filter 104b provided with the second resin layer 122b is shown.
  • the near-infrared absorbing layer 120 a layer containing a compound that absorbs near-infrared in the above-described translucent resin layer or a glass substrate containing a substance that absorbs near-infrared can be used.
  • the resin layer 122 may be provided with only one of the first resin layer 122a and the second resin layer 122b.
  • FIG. 2B illustrates an embodiment in which the near-infrared reflecting layer is provided on both surfaces of the near-infrared absorbing layer, but the optical filter 104b is not limited to this embodiment.
  • the near infrared reflection layer may be provided only on one side of the near infrared absorption layer.
  • the resin layers 122a and 122b may or may not contain a near infrared absorber.
  • the structure which replaced either the 1st near-infrared reflective layer and the 2nd near-infrared reflective layer with the antireflection layer can also be used.
  • the optical filter 104b shown in FIG. 2B has the same effect as the optical filter 104a shown in FIG. 2A by having a combination of a near-infrared reflecting layer and a near-infrared absorbing layer.
  • FIG. 3A shows an optical filter 104 c configured using a transparent glass substrate 124.
  • the optical filter 104c is provided with a near-infrared absorbing layer 120 on one surface of a glass substrate 124, and a first near-infrared reflecting layer 118a is provided on the upper surface thereof.
  • a near-infrared absorbing layer 120 a layer containing a compound that absorbs near-infrared rays in a translucent resin layer is used.
  • a second near-infrared reflective layer 118b is provided on the other surface of the glass substrate 124.
  • the transparent glass substrate 124 can be used as a base material for the optical filter 104.
  • the rigidity of the optical filter 104 can be increased.
  • the second near-infrared reflective layer 118 b shown in FIG. 3A may be provided between the glass substrate 124 and the near-infrared absorbing layer 120.
  • the near-infrared absorbing layers 120 may be provided on both surfaces of the glass substrate 124. Moreover, you may provide the group of the 1st near-infrared reflective layer 118a and the near-infrared absorption layer 120 in multiple steps. Furthermore, instead of the transparent glass substrate 124, a glass substrate containing a substance that absorbs near infrared rays may be used. Furthermore, the near-infrared reflecting layer may be provided only on one side of the near-infrared absorbing layer.
  • the optical filter 104c may be configured by the first near-infrared reflecting layer 118a, the near-infrared absorbing layer 120, and the glass substrate 124. Moreover, the structure which replaced either the 1st near-infrared reflective layer and the 2nd near-infrared reflective layer with the antireflection layer can also be used.
  • 3A has the same effect as the optical filter 104a shown in FIG. 2A by having a combination of a near-infrared reflecting layer and a near-infrared absorbing layer.
  • FIG. 3B shows an optical filter 104 d configured using a transparent resin substrate 125.
  • the optical filter 104d is provided with a near-infrared absorbing layer 120 on one surface of a resin substrate 125, and a first near-infrared reflecting layer 118a is provided on the upper surface thereof.
  • a second near-infrared reflective layer 118 b is provided on the other surface of the resin substrate 125.
  • the resin substrate 125 can be used as a base material for the optical filter 104. By using the resin substrate 125 as a base material, the workability and flexibility of the optical filter 104 can be improved. Note that the second near-infrared reflective layer 118b shown in FIG.
  • the resin substrate 124 may be provided between the resin substrate 124 and the near-infrared absorbing layer 120.
  • the near-infrared absorbing layer 120 a layer containing a compound that absorbs near-infrared rays in a translucent resin layer is used.
  • the near-infrared absorbing layer 120 may be provided on both surfaces of the resin substrate 125. Moreover, you may provide the group of the 1st near-infrared reflective layer 118a and the near-infrared absorption layer 120 in multiple steps. Furthermore, the near-infrared reflecting layer may be provided only on one side of the near-infrared absorbing layer.
  • the optical filter 104d may be configured by the first near-infrared reflecting layer 118a, the near-infrared absorbing layer 120, and the resin substrate 125. Moreover, the structure which replaced either the 1st near-infrared reflective layer and the 2nd near-infrared reflective layer with the antireflection layer can also be used.
  • the optical filter 104d shown in FIG. 3B has the same effect as the optical filter 104a shown in FIG. 2A by having a combination of a near-infrared reflecting layer and a near-infrared absorbing layer.
  • the near-infrared reflective layer 118 is designed to transmit visible light having a wavelength of at least 400 nm to 600 nm and reflect near-infrared having a wavelength of 750 nm or more.
  • the near-infrared reflective layer 118 preferably has a high transmittance in the visible region, and has an average spectral transmittance of 90% or more in a wavelength band of at least a wavelength of 400 nm to 600 nm.
  • it is preferable that the near-infrared reflective layer 118 has a spectral transmittance of less than 2% in the near-infrared wavelength band having a wavelength of 750 nm or more. This is because near-infrared light is not incident on the photoelectric conversion element 102 while light in the visible light band is detected with high sensitivity.
  • the near-infrared reflective layer 118 preferably has a steep rising (or falling) characteristic (cut-off characteristic) in spectral transmission characteristics. This is because the near-infrared reflective layer 118 has a steep cut-off characteristic, and thus acts advantageously in optical design in combination with the near-infrared absorbing layer 120. That is, even when the transmission spectrum changes with respect to obliquely incident light on the near-infrared reflecting layer 118, if the cutoff characteristic is steep, it is easy to match the cutoff wavelength to the absorption peak of the near-infrared absorbing layer 120. It is because it becomes.
  • the near-infrared reflective layer 118 is formed of a dielectric multilayer film.
  • the details of the dielectric multilayer film are as described in the first optical filter.
  • the physical film thickness of each of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is preferably 5 to 500 nm, although it depends on the refractive index of each layer, and is the total physical film thickness of the dielectric multilayer film.
  • the value is preferably 1.0 to 8.0 ⁇ m for the entire optical filter.
  • the warp of the optical filter is small. Therefore, it is preferable to provide a dielectric multilayer film on both sides of the substrate, and the dielectric multilayer provided on both sides.
  • the films may have the same or different spectral characteristics.
  • the spectral characteristics of the dielectric multilayer films provided on both surfaces are the same, the transmittance of the light blocking zones Za and Zc can be efficiently reduced in the near-infrared wavelength region, and the spectral characteristics of the dielectric multilayer films provided on both surfaces.
  • the values are different, there is a tendency that the light blocking band Zc can be easily extended to the longer wavelength side.
  • Transparent resin can be used as the resin used for the near-infrared absorbing layer 120 and the resin used for the transparent resin substrate 125 containing the near-infrared absorbing dye.
  • the details of the transparent resin are as described in the first optical filter.
  • the thickness of the resin layer containing the near-infrared absorbing dye is preferably 10 when the near-infrared absorbing dye-containing resin layer also has a function as a resin substrate, as in “optical filter 1” and “optical filter 3”. It is preferably from 300 to 300 ⁇ m, more preferably from 20 to 200 ⁇ m, still more preferably from 25 to 150 ⁇ m, particularly preferably from 30 to 120 ⁇ m.
  • the optical filter can be reduced in weight and size, and the height of the ambient light sensor can be reduced. If the thickness of the resin layer is larger than the above range, the original purpose of reducing the height of the ambient light sensor cannot be achieved. On the other hand, when the thickness of the resin layer is thinner than the above range, there is a problem that the warp of the optical filter becomes large.
  • the thickness of the near-infrared absorbing dye-containing resin layer is preferably Is 0.5 to 150 ⁇ m, more preferably 0.7 to 100 ⁇ m, still more preferably 1 to 50 ⁇ m, and particularly preferably 2 to 30 ⁇ m.
  • the optical filter can be reduced in weight and size, and the height of the ambient light sensor can be reduced. If the thickness of the resin layer is larger than the above range, the original purpose of reducing the height of the ambient light sensor cannot be achieved.
  • the thickness of the resin layer is thinner than the above range, there is a limit to the solubility of the near-infrared absorbing dye in the resin layer. Optical properties cannot be obtained.
  • the thickness of the glass that absorbs near-infrared rays used in the near-infrared absorbing layer of the “optical filter 2” is preferably 30 to 1000 ⁇ m, more preferably 35 to 500 ⁇ m, still more preferably 40 to 300 ⁇ m, and particularly preferably 45 to 210 ⁇ m. is there.
  • Near-infrared absorbing glass is very fragile, and when the thickness of the glass is thinner than the above range, it is difficult to use because there are problems such as cracking, chipping and warping when used.
  • the thickness of the transparent glass substrate used for the “optical filter 4” is preferably 20 to 1000 ⁇ m, more preferably 25 to 500 ⁇ m, still more preferably 30 to 300 ⁇ m, and particularly preferably 35 to 210 ⁇ m.
  • the optical filter can be reduced in weight and size, and the ambient light sensor can be reduced in height. If the thickness of the transparent glass is thicker than the above range, the original purpose of reducing the height of the ambient light sensor cannot be achieved.
  • the thickness of the transparent glass is thinner than the above range, it is difficult to use due to problems such as large warpage, cracking and chipping because the glass layer is brittle.
  • a resin substrate such as “optical filters 1, 3, 5” is used from the viewpoint of reducing the height of the ambient light sensor. It is preferable.
  • the resin layer containing the near-infrared absorbing dye can be used as a film substrate as the resin layer itself, or can be used in the form of coating this resin layer on another film substrate, and the resin layer on the glass substrate. It can also be used in the form of a coated layer.
  • the film substrate can be produced by the above-described solution casting method or extrusion molding method.
  • a resin film made of the transparent resin can be used as the film substrate.
  • the transparent resin layer may contain additives such as an antioxidant, a near-ultraviolet absorber, a fluorescence quencher, and a metal complex compound in addition to the near-infrared absorbing dye, as long as the effects of the present invention are not impaired. .
  • manufacture of a base material can be made easy by adding a leveling agent and an antifoamer. These components may be used alone or in combination of two or more.
  • the substrate may be a single layer or a multilayer, and the layer containing a near infrared absorbing dye may be formed by multilayering transparent resin layers containing different near infrared absorbing dyes, or a near infrared ray.
  • a layer containing an absorbing dye and a layer not containing a near-infrared absorbing dye can be multilayered.
  • dye can also be laminated
  • a resin layer such as an overcoat layer containing a curable resin can be laminated on the substrate.
  • This curable resin layer can also contain a near infrared absorbing dye.
  • a transparent resin layer on the transparent resin substrate containing near-infrared absorbing dyes, from the viewpoints of manufacturing cost and ease of adjustment of optical characteristics, and improvement in scratch resistance of the transparent resin resin substrate It is particularly preferable to use a substrate on which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin is laminated.
  • the transparent resin substrate can be manufactured by the method described in the first optical filter.
  • a near-infrared absorbing glass containing a copper component (hereinafter also referred to as “Cu-containing glass”) can be used.
  • Cu-containing glass a near-infrared absorbing glass containing a copper component
  • the phosphate glass includes silicic acid phosphate glass in which a part of the glass skeleton is composed of SiO 2 .
  • a Cu containing glass the thing of the following compositions is mentioned, for example.
  • (GL1) is NF50-E, NF50-EX (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
  • (GL2) is BG-60, BG-61 (manufactured by SHOTTT)
  • (GL3) is CD5000 (manufactured by HOYA), etc. Is mentioned.
  • the Cu-containing glass may further contain a metal oxide.
  • a metal oxide contains, for example, one or more of Fe 2 O 3 , MoO 3 , WO 3 , CeO 2 , Sb 2 O 3 , V 2 O 5, etc.
  • the Cu-containing glass has ultraviolet absorption characteristics. .
  • the thickness of the Cu-containing glass is preferably in the range of 0.03 to 5 mm, and more preferably in the range of 0.05 to 1 mm from the viewpoint of strength, weight reduction, and low profile.
  • the glass substrate without absorption is not particularly limited as long as it is a substrate containing silicate as a main component, and examples thereof include a quartz glass substrate having a crystal structure.
  • borosilicate glass substrates, soda glass substrates, and colored glass substrates can be used.
  • glass substrates such as non-alkali glass substrates and low ⁇ -ray glass substrates have little influence on sensor elements, preferable.
  • the near-infrared absorbing layer and the glass substrate have different chemical compositions and thermal linear expansion coefficients. For this reason, it is preferable to provide an adhesion layer between the near-infrared absorbing layer and the glass substrate to ensure their sufficient adhesion.
  • the adhesion layer used in the present invention is not particularly limited as long as it is made of a material that can ensure adhesion between the near-infrared absorbing layer and the glass substrate.
  • a structural unit derived from a (meth) acryloyl group-containing compound It is preferable to have (b) a structural unit derived from a carboxylic acid group-containing compound and (c) a structural unit derived from an epoxy group-containing compound, since the adhesion between the near-infrared absorbing layer and the glass substrate is increased.
  • the structural unit (a) is not particularly limited as long as it is a structural unit derived from a (meth) acryloyl group-containing compound.
  • the (meth) acryloyl group-containing compound for example, monofunctional, bifunctional, or trifunctional or higher (meth) acrylic acid esters are preferable from the viewpoint of good polymerizability.
  • (meth) acryl means “acryl” or “methacryl”.
  • Examples of the monofunctional (meth) acrylic acid ester include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, diethylene glycol monoethyl ether acrylate, diethylene glycol monoethyl ether methacrylate, (2-acryloyloxyethyl) (2-hydroxypropyl) Mention may be made of phthalate, (2-methacryloyloxyethyl) (2-hydroxypropyl) phthalate and ⁇ -carboxypolycaprolactone monoacrylate.
  • Aronix M-101, M-111, M-114, M-5300 above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • KAYARAD TC-110S, TC -120S Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Biscote 158, 2311 Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
  • bifunctional (meth) acrylic acid ester examples include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 9, 9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate and 1,9-nonanediol Mention may be made of dimethacrylate.
  • Aronix M-210, M-240, M-6200 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • KAYARAD HDDA As mentioned above, Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Biscote 260, 312 and 335HP Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
  • Light acrylate 1,9-NDA Korean Organic Chemical Co., Ltd.
  • trifunctional or higher functional (meth) acrylic acid ester examples include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, and dipentaerythritol.
  • polyfunctional urethane acrylate compounds obtained by reacting with compounds having 3, 4 or 5 (meth) acryloyloxy groups obtained by reacting with compounds having 3, 4 or 5 (meth) acryloyloxy groups.
  • these (meth) acryloyl group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the structural unit (b) is not particularly limited as long as it is a structural unit derived from a compound containing a carboxylic acid group.
  • the carboxylic acid group-containing compound include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, dicarboxylic acid anhydrides, and polymers having carboxylic acid groups.
  • Examples of monocarboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid and 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid. Mention may be made of acids.
  • dicarboxylic acid examples include maleic acid, fumaric acid, and citraconic acid.
  • dicarboxylic acid anhydride examples include the above dicarboxylic acid anhydrides.
  • the polymer having a carboxylic acid group is a compound having a carboxylic acid group, for example, a compound having at least one polymer selected from acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride and the like.
  • a polymer or a copolymer of these compounds and the (meth) acryloyl group-containing compound can be preferably used.
  • acrylic acid methacrylic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid or maleic anhydride is preferred from the viewpoint of copolymerization reactivity.
  • the structural unit (c) is not particularly limited as long as it is a structural unit derived from an epoxy group-containing compound.
  • the epoxy group (oxiranyl group) -containing compound include oxiranyl groups such as (meth) acrylic acid oxiranyl (cyclo) alkyl ester, ⁇ -alkylacrylic acid oxiranyl (cyclo) alkyl ester, and glycidyl ether compound having an unsaturated bond.
  • An unsaturated compound having an oxetanyl group such as a (meth) acrylic acid ester having an oxetanyl group.
  • Examples of (meth) acrylic acid oxiranyl (cyclo) alkyl esters include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, (meth) acrylic acid 3,4 -Epoxybutyl, (meth) acrylic acid 6,7-epoxyheptyl, (meth) acrylic acid 3,4-epoxycyclohexyl and (meth) acrylic acid 3,4-epoxycyclohexylmethyl.
  • Acid oxiranyl (cyclo) alkyl esters such as glycidyl ⁇ -ethyl acrylate, glycidyl ⁇ -n-propyl acrylate, glycidyl ⁇ -n-butyl acrylate, 6,7-epoxyheptyl ⁇ -ethyl acrylate and ⁇ -ethyl Acrylic acid 3, -Epoxycyclohexyl can be mentioned, and examples of glycidyl ether compounds having an unsaturated bond include o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether, which have an oxetanyl group.
  • Examples of (meth) acrylic acid esters include 3-((meth) acryloyloxymethyl) oxetane, 3-((meth) acryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3-((meth) acryloyloxymethyl) -2- Methyl oxetane, 3-((meth) acryloyloxyethyl) -3-ethyloxetane, 2-ethyl-3-((meth) acryloyloxyethyl) oxetane, 3-methyl-3- (meth) acryloyloxymethyloxetane
  • Preliminary 3-ethyl-3- (meth) acrylate can be given acryloyloxy methyl oxetane.
  • glycidyl methacrylate, 2-methylglycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, 3-methacryloyloxymethyl-3-ethyloxetane, 3-methyl- 3-Methacryloyloxymethyloxetane or 3-ethyl-3-methyloxetane is preferred from the viewpoint of polymerizability.
  • Arbitrary components such as an acid generator, a close_contact
  • These addition amounts are appropriately selected according to the desired properties, and are usually each based on a total of 100 parts by weight of the (meth) acryloyl group-containing compound, the carboxylic acid group-containing compound and the epoxy group-containing compound. It is desirable that the amount be 0.01 to 15.0 parts by weight, preferably 0.05 to 10.0 parts by weight.
  • the polymerization initiator is a component that generates active species capable of initiating polymerization of monomer components in response to light rays such as ultraviolet rays and electron beams.
  • a polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include an O-acyloxime compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, an alkylphenone compound, and a benzophenone compound. Specific examples thereof include ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), 1- [9-ethyl- 6-Benzoyl-9. H.
  • the adhesion layer is, for example, a pellet obtained by melt-kneading the composition (G) containing the (meth) acryloyl group-containing compound, the carboxylic acid group-containing compound, the epoxy group-containing compound and, if necessary, the optional component.
  • a method of melt-molding pellets obtained by removing the solvent from the liquid composition containing the composition (G) and the solvent, or a method of casting (cast molding) the above-mentioned liquid composition Can be manufactured. Examples of the melt molding method and the cast molding method include the same methods as described above.
  • the amount of the (meth) acryloyl group-containing compound is preferably 30 to 70 parts by weight, more preferably 40 to 60 parts by weight per 100 parts by weight of the composition (G).
  • the amount is preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 10 to 25 parts by weight per 100 parts by weight of the composition (G), and the amount of the epoxy group-containing compound is 100 parts by weight of the composition (G).
  • the amount is preferably 15 to 50 parts by weight, more preferably 20 to 40 parts by weight.
  • the blending amount of the optional component is appropriately selected according to the desired characteristics, but is preferably 0.01 to 15.0 parts by weight, more preferably 0.05 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the composition (G). 10.0 parts by weight.
  • the thickness of the adhesion layer is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but is preferably 0.1 to 5.0 ⁇ m, more preferably 0.2 to 3.0 ⁇ m.
  • ⁇ Near-infrared absorbing dye> As near-infrared absorbing dyes, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, croconium compounds, octaphyrin compounds, hexaphyrin compounds, cyanine compounds, diimonium compounds, aminium compounds, iminium compounds, And anthraquinone compounds. One or more compounds selected from these compounds can be used, and two or more compounds can also be mixed and used. Among these, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, or cyanine compounds are preferably used from the viewpoints of transmittance characteristics and thermal stability.
  • the near infrared absorbing dye is preferably the compound (A).
  • the optical filter of the present invention has excellent visible transmittance and near infrared ray cutting ability even when the incident angle is large. Therefore, it is useful for various ambient light sensors such as an illuminance sensor and a color correction sensor. In particular, it is useful for an ambient light sensor mounted on a digital still camera, a smartphone, a tablet terminal, a mobile phone, a wearable device, an automobile, a television, a game machine, or the like. Furthermore, it is useful as a heat ray cut filter mounted on a glass plate for windows of automobiles and buildings.
  • the ambient light sensor is a sensor capable of detecting ambient brightness and color tone (such as strong red in the evening time zone) such as an illuminance sensor and a color correction sensor. For example, information detected by the ambient light sensor This makes it possible to control the illuminance and hue of the display mounted on the device.
  • FIG. 1 shows an ambient light sensor 100a according to an embodiment of the present invention.
  • the ambient light sensor 100 a includes an optical filter 104 and a photoelectric conversion element 102.
  • the photoelectric conversion element 102 generates current and voltage due to the photovoltaic effect when light enters the light receiving portion.
  • FIG. 1 shows a photoelectric conversion element 102 having a first electrode 106, a photoelectric conversion layer 108, and a second electrode 114 as an example.
  • the photoelectric conversion layer 108 is formed using a semiconductor that exhibits a photoelectric effect.
  • the photoelectric conversion layer 108 is formed using a silicon semiconductor.
  • the optical filter 104 is provided on the light receiving surface side of the photoelectric conversion element 102.
  • the light receiving surface of the photoelectric conversion element 102 is irradiated with light that has passed through the optical filter 104.
  • the ambient light sensor 100a is sensitive to light in the visible light band and detects external light intensity corresponding to the visibility.
  • the optical filter 104 includes a near infrared reflection layer 118 and a near infrared absorption layer 120.
  • the light incident on the optical filter 104 is affected by the near-infrared reflecting layer 118 and the near-infrared absorbing layer 120, and the light intensity in the near-infrared band is sufficiently reduced.
  • the near-infrared reflecting layer 118 and the near-infrared absorbing layer 120 are provided so as to overlap each other. In other words, the near-infrared reflecting layer 118 and the near-infrared absorbing layer 120 are arranged in series on the optical axis of incident light.
  • the ambient light sensor 100a includes the optical filter 104, the ambient light sensor 100a can receive light at a wide angle, and even in this case, it is possible to detect the intensity of external light that matches the visibility.
  • another light-transmitting layer may be interposed between the optical filter 104 and the photoelectric conversion element 102.
  • a light-transmitting resin layer may be provided as a sealing material between the optical filter 104 and the photoelectric conversion element 102.
  • FIG. 4 shows an example of a cross-sectional structure of the ambient light sensor 100a including the illuminance sensor light receiving element 102a and the optical filter 104.
  • the ambient light sensor 100a functions as an illuminance sensor by detecting the intensity of external light with the illuminance sensor light receiving element 102a.
  • An optical filter 104 is provided on the upper surface of the illuminance sensor light receiving element 102a. The optical filter 104 blocks light in the near-infrared wavelength region from light incident on the light receiving surface of the illuminance sensor light receiving element 102a, and can detect external light intensity corresponding to the visibility characteristics of the illuminance sensor light receiving element.
  • the optical filter 104 composed of the near-infrared reflecting layer 118 and the near-infrared absorbing layer 120, light in the visible light region with a small change depending on the incident angle is incident on the illuminance sensor light-receiving element in accordance with the visibility characteristics of the illuminance sensor. Therefore, an illuminance sensor with few malfunctions can be obtained.
  • FIGS. 5A and 5B show an example of an ambient light sensor 100 b including an illuminance sensor light receiving element 102 a, a proximity sensor light receiving element 102 b, a light emitting diode 130, and an optical filter 104.
  • 5A shows a plan view of the ambient light sensor 100b
  • FIG. 5B shows a cross-sectional structure taken along line IJ.
  • the ambient light sensor 100b detects the intensity of external light by the illuminance sensor light receiving element 102a and functions as an illuminance sensor.
  • the light emitting diode 130 emits infrared light
  • the proximity sensor light receiving element 102b receives the reflected light. That is, the light emitting diode 130 and the proximity sensor light receiving element 102b cooperate to function as a proximity sensor.
  • the illuminance sensor light receiving element 102a and the proximity sensor light receiving element 102b are separated from the light emitting diode 130 by a light shielding member 132 so that light emitted from the light emitting diode 130 does not enter as stray light.
  • the light shielding member 132 is made of a curable resin such as an epoxy-based resin, and is molded so as to surround each of the illuminance sensor light receiving element 102a, the proximity sensor light receiving element 102b, and the light emitting diode 130, and the upper surface portion can enter or emit light. It is open like this.
  • An optical filter 104 is provided on the upper surface of the illuminance sensor light receiving element 102a.
  • the optical filter 104 blocks light in the near-infrared wavelength region from light incident on the light receiving surface of the illuminance sensor light receiving element 102a, and can detect external light intensity corresponding to the visibility characteristics of the illuminance sensor light receiving element.
  • the optical filter 104 composed of the near-infrared reflecting layer 118 and the near-infrared absorbing layer 120, light in the visible light region with a small change depending on the incident angle is incident on the illuminance sensor light-receiving element in accordance with the visibility characteristics of the illuminance sensor. Therefore, an illuminance sensor with few malfunctions can be obtained.
  • the illuminance sensor light receiving element 102a is sensitive to light in the visible light wavelength band of the external light and functions as an illuminance sensor.
  • a near infrared pass filter 134 is provided on the light receiving surface of the proximity sensor light receiving element 102b.
  • the near-infrared pass filter 134 is a pass filter that transmits light in the near-infrared wavelength region.
  • the near-infrared pass filter 134 is formed by adding a pigment (pigment or dye) having absorption at a wavelength in the visible light wavelength region to a binder resin or a polymerizable compound.
  • the near-infrared pass filter 134 absorbs (cuts) light having a wavelength of approximately less than 700 nm, preferably less than 750 nm, more preferably less than 800 nm, and transmits light having a wavelength of 700 nm or more, preferably 750 nm or more, more preferably 800 nm or more. It has transmission characteristics.
  • the near-infrared pass filter 134 blocks the light having a wavelength less than a predetermined wavelength (for example, a wavelength less than 750 nm) and transmits the near-infrared light in a predetermined wavelength region (for example, 750 to 950 nm).
  • a predetermined wavelength for example, a wavelength less than 750 nm
  • Near-infrared rays can be incident on 102b.
  • the proximity sensor light receiving element 102b can detect near infrared rays with high accuracy without being affected by noise or the like caused by visible light.
  • the near-infrared pass filter 134 can be formed using, for example, a photosensitive composition described in JP-A-2014-130332.
  • Such an ambient light sensor 100b is mounted on an electronic device, detects the brightness of ambient light by a function as an illuminance sensor, and detects an object close to the main body of the electronic device by a function as a proximity sensor. It becomes possible.
  • an electronic device having a touch panel integrated display screen controls the brightness of the screen according to the brightness of the surrounding environment, turns off the display screen according to the distance from the object, and the touch panel. It is possible to support the operation of stopping the function and turning off the screen.
  • a color sensor light receiving element in which an RGB color filter is installed on a photodiode may be provided instead of the illuminance sensor light receiving element.
  • the spectral intensity ratio (RGB ratio) of ambient light can be detected, and the brightness and image quality of the screen can be finely controlled.
  • the function as a color sensor makes it possible to detect ambient light by dividing it into light of a plurality of wavelength bands.
  • the optical filter 104 provided on the light receiving surface of the illuminance sensor light receiving element 102a is incident from an oblique direction by combining the near infrared reflecting layer 118 and the near infrared absorbing layer 120. It is possible to effectively block near-infrared rays against the light that is transmitted. Thereby, it is possible to realize a proximity sensor integrated illuminance sensor with little change in sensor sensitivity due to an incident angle and few malfunctions.
  • a sensor module can be formed by combining the optical filter of the present invention, another optical filter, a lens, a photoelectric conversion element, and the like.
  • FIG. 17 and 18 show schematic diagrams of the optical sensor module.
  • the optical filter 203 of the present invention is used between the optical sensor 207 and the light diffusion film 202.
  • an IR cut film 204 having near infrared absorption characteristics in addition to the optical filter 203 of the present invention is used between the optical sensor 207 and the optical filter 203.
  • the electronic device of the present invention includes the above-described ambient light sensor of the present invention.
  • the electronic apparatus of the present invention will be described below with reference to the drawings.
  • FIG. 6A to 6C show examples of the electronic device 136.
  • FIG. 6A is a front view of the electronic device 136
  • FIG. 6B is a plan view
  • FIG. 6C is a cross-sectional view illustrating details of a region D surrounded by a dotted line in FIG. 6B.
  • the electronic device 136 includes a housing 138, a display panel 140, a microphone unit 142, and a speaker unit 144, and further includes an ambient light sensor 100 (an ambient light sensor 100 a or “ambient light sensor 2” described as “ambient light sensor 1”). Including an ambient light sensor 100b).
  • the ambient light sensor 100 includes an optical filter 104 and a photoelectric conversion element 102.
  • the display panel 140 employs a touch panel and has an input function in addition to a display function.
  • the light enters the ambient light sensor 100 through an optical window 145 provided in the housing 138.
  • the ambient light sensor 100 detects the intensity of ambient light on which the electronic device 136 is placed.
  • the ambient light sensor 100 has a function of a proximity sensor, the distance to an object close to the surface panel of the electronic device 136 is measured in addition to the measurement of ambient light.
  • the electronic device 136 controls the brightness of the display panel 140 by the ambient light sensor 100, and controls on / off of the display panel and on / off of the input function.
  • the electronic device 136 emphasizes the design of the appearance, and does not provide an opening for allowing external light to enter the ambient light sensor 100, but allows the ambient light sensor 100 to pass through the optical window 145 of the housing 138.
  • a structure that is exposed to light is adopted.
  • the optical window 145 is, for example, a member used as a surface panel of the electronic device 136, or a part thereof, and has translucency.
  • the front panel is a member that constitutes the external appearance of the electronic device 136, it is usually colored. In this case, the optical window 145 has a problem that the amount of transmitted visible light is reduced and is buried in near-infrared information.
  • the optical filter 104 is provided in the ambient light sensor 100, visible light can be detected by removing near-infrared noise. Therefore, even when the ambient light sensor 100b having a function as a color sensor is used, a shift in color tone can be suppressed and ambient light can be accurately detected.
  • the optical filter 104 is provided close to the light receiving surface of the photoelectric conversion element 102, so that the illuminance is accurately measured even for light incident at a wide angle. be able to.
  • Parts and % mean “parts by weight” and “% by weight” unless otherwise specified.
  • measurement method of each physical property value and the evaluation method of the physical property are as follows.
  • the molecular weight of the resin was measured by the following method (a), (b) or (c) in consideration of the solubility of each resin in a solvent.
  • A Weight average molecular weight in terms of standard polystyrene using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (150C type, column: H type column manufactured by Tosoh Corporation, developing solvent: o-dichlorobenzene) manufactured by WATERS (Mw) and number average molecular weight (Mn) were measured.
  • GPC gel permeation chromatography
  • ⁇ ⁇ ln (ts / t0) ⁇ / C t0: Flowing time of solvent ts: Flowing time of dilute polymer solution C: 0.5 g / dL ⁇ Glass transition temperature (Tg)> Using a differential scanning calorimeter (DSC6200) manufactured by SII Nano Technologies, Inc., the rate of temperature increase was measured at 20 ° C. per minute under a nitrogen stream.
  • the spectrophotometer 3 transmits light 1 ′ transmitted at an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter 2 as shown in FIG.
  • the light 1 transmitted at an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter 2 as shown in FIG. ′′ was measured with a spectrophotometer 3.
  • the transmittance is such that light is incident on the substrate and the filter perpendicularly except when measuring (T B ), (T C ), (OD B ), (OD D ), and (Xb). It was measured using the spectrophotometer under conditions.
  • the spectrophotometer is used under the condition of incidence at an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter.
  • the measurement was performed using the spectrophotometer under the condition that light was incident at an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the filter. It is.
  • ⁇ Illuminance sensor sensitivity characteristics The optical characteristics of the optical filter (the optical characteristics of the light that passes through the optical filter) are compared with the illuminance sensor and the human visual sensitivity characteristics. Evaluation was performed. Evaluation was made based on the following criteria.
  • the incident light to the illuminance sensor can be light that is close to human visual sensitivity characteristics, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • Xx Since the optical characteristics of incident light to the illuminance sensor change depending on the incident angle, human visual sensitivity characteristics and errors occur, the sensor sensitivity characteristics are low, and the obtained optical filter has a wavelength of 800 to 1000 nm. Since the transmittance is high, the near-infrared cut by the optical filter is insufficient, and the incident light is greatly deviated from the human visual sensitivity characteristic, which causes the illuminance sensor to malfunction.
  • DCM dodec-3-ene
  • reaction A hydrogenated polymer solution
  • Mn number average molecular weight
  • Mw weight average molecular weight
  • Tg glass transition temperature
  • the autoclave was heated to 75 ° C., and the catalyst component palladium 2-ethylhexanoate (as Pd atoms); 0.003 milligram atoms and tricyclohexylphosphine; 0.0015 mmol toluene; 1 in 10 ml at 25 ° C. Polymerization was initiated by adding the total amount of the solution reacted for a time, triphenylcarbenium pentafluorophenylborate; 0.00315 mmol in this order.
  • addition polymer B having a solid content of 19.9% by weight was obtained.
  • a part of the solution of addition polymer B was put in isopropanol, solidified, and dried to obtain addition polymer B (hereinafter also referred to as “resin B”).
  • polyimide solution C an N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyimide
  • the obtained resin D had a number average molecular weight (Mn) of 75,000, a weight average molecular weight (Mw) of 188,000, and a glass transition temperature (Tg) of 285 ° C.
  • ⁇ Resin synthesis example 5> In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean-Stark tube and condenser tube, 1,4-bis (4-amino- ⁇ , ⁇ -Dimethylbenzyl) benzene (27.66 g, 0.08 mol) and 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl (7.38 g, 0.02 mol) were added, and ⁇ -butyrolactone (68.65 g) and N, It was dissolved in 17.16 g of N-dimethylacetamide. The obtained solution was cooled to 5 ° C.
  • resin E A part of this polyimide resin solution was poured into 1 L of methanol to precipitate the polyimide.
  • the IR spectrum of the obtained resin E was measured, 1704 cm -1 characteristic of imido group, absorption of 1770 cm -1 were observed.
  • Resin E had a glass transition temperature (Tg) of 310 ° C. and a logarithmic viscosity of 0.87.
  • Example A1 100 parts by weight of resin A obtained in Resin Synthesis Example 1, 0.050 part by weight of compound (x) (absorption maximum wavelength; 704 nm) having the following structure, and compound (y) having the following structure (absorption maximum wavelength: 737 nm) 0.056 parts by weight, a light absorber “CIR-RL” (maximum absorption wavelength: 1095 nm) manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd., and further dissolved by adding toluene to a solution having a solid content of 30% Got. Subsequently, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 8 hours, and at 100 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm.
  • the average OD value (OD C ) at 850 to 1050 nm of the obtained substrate was 2.1.
  • the results are shown in Table 11.
  • a dielectric multilayer film (III) is formed on one surface of the obtained base material, and a dielectric multilayer film (IV) is further formed on the other surface of the base material.
  • a filter was obtained.
  • the dielectric multilayer film (III) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 100 ° C. (total number of layers: 26 layers).
  • the dielectric multilayer film (IV) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 100 ° C. (total number of layers: 20 layers).
  • the silica layer and the titania layer are in the order of the titania layer, the silica layer, the titania layer,..., The silica layer, the titania layer, and the silica layer from the substrate side.
  • the outermost layer of the optical filter was a silica layer.
  • the dielectric multilayer films (III) and (IV) were designed as follows.
  • Optimization was performed using optical thin film design software (Essential Macleod, Thin Film Center) according to the characteristics.
  • the input parameters (Target values) to the software are as shown in Table 10 below.
  • the average value (T A ) of transmittance at wavelengths of 430 to 580 nm of the obtained optical filter was 67%, and the average OD value (OD A ) at 850 to 1050 nm was 4.7.
  • the average transmittance (T B ) when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is 66%, and measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter.
  • the average transmittance (T C ) is 51%
  • the average OD value (OD D ) when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter at a wavelength of 850 to 1050 nm is 4.9.
  • the average OD value (OD B ) when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter was 3.9. Further, the rate of change of the ratio of R transmittance when 0 ° ⁇ 30 ° is 1.0, and the rate of change of the ratio of G transmittance when 0 ° ⁇ 30 ° is 1.0, 0 ° ⁇ 30 °.
  • the change rate of the B transmittance ratio in the case is 1.0
  • the change rate of the R transmittance ratio in the case of 0 ° ⁇ 60 ° is 0.6
  • the change rate of the G transmittance in the case of 0 ° ⁇ 60 ° The rate of change in the ratio was 1.3
  • the rate of change in the ratio of the B transmittance in the case of 0 ° ⁇ 60 ° was 1.0.
  • Example A2 Other than changing the light absorber “CIR-RL” manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. to 0.6 parts by weight and the dye “S2058” (absorption maximum wavelength; 980 nm) manufactured by DKSH, to 0.3 parts by weight. Produced a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm in the same manner as in Example A1. Furthermore, using the obtained base material, an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A3 A base material having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm was obtained in the same manner as in Example A1, except that the resin B obtained in Resin Synthesis Example 2 was used instead of the resin A, and cyclohexane was used instead of toluene. It was. Furthermore, using the obtained base material, an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A4 100 parts by weight of norbornene resin “Arton G” manufactured by JSR Corporation, 0.050 parts by weight of the compound (x), 0.056 parts by weight of the compound (y), and a light absorber manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. 0.6 part by weight of “CIR-RL” was added and further methylene chloride was added and dissolved to obtain a solution having a solid content of 20%. Subsequently, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm.
  • Example A1 an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A5 100 parts by weight of norbornene-based resin “ZEONOR 1400R” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 0.050 parts by weight of the compound (x), 0.056 parts by weight of the compound (y), light absorption manufactured by Nippon Carlit
  • the agent “CIR-RL” was added by 0.6 parts by weight, and a 7: 3 mixed solution of cyclohexane and xylene was further added and dissolved to obtain a solution having a solid content of 20%. Subsequently, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 8 hours, and at 80 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate.
  • the peeled resin was further dried under reduced pressure at 100 ° C. for 24 hours to obtain a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm. Furthermore, using the obtained base material, an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A6 100 parts by weight of norbornene resin “APEL # 6015” manufactured by Mitsui Chemicals, Ltd., 0.050 parts by weight of the compound (x), 0.056 parts by weight of the compound (y), and Hikari manufactured by Nippon Carlit 0.6 part by weight of the absorbent “CIR-RL” was added, and further a 99: 1 mixed solution of cyclohexane and methylene chloride was added and dissolved to obtain a solution having a solid content of 20%. Then, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 40 ° C. for 4 hours and 60 ° C. for 4 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried at 100 ° C.
  • Example A1 An optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A7 100 parts by weight of polycarbonate resin “Pure Ace” manufactured by Teijin Limited, 0.050 part by weight of the compound (x), 0.056 parts by weight of the compound (y), and a light absorber “Nippon Carlit” CIR-RL "was added in an amount of 0.6 part by weight, and further methylene chloride was added and dissolved to obtain a 20% solid content solution. Subsequently, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm.
  • Example A1 an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A8 100 parts by weight of polyethersulfone “FS-1300” manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., 0.050 parts by weight of the compound (x), 0.056 parts by weight of the compound (y), manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. 0.6 part by weight of the absorbent “CIR-RL” was added, and further N-methyl-2-pyrrolidone was added and dissolved to obtain a solution having a solid content of 20%. Then, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 4 hours and at 80 ° C. for 4 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried under reduced pressure at 120 ° C.
  • Example A1 An optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A9 100 parts by weight of the polyimide solution C obtained in Resin Synthesis Example 3, 0.050 parts by weight of the compound (x), 0.056 parts by weight of the compound (y), a light absorber “CIR” manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. -RL "was added in an amount of 0.6 part by weight to obtain a solution having a solid content of 20%. Then, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 4 hours and at 80 ° C. for 4 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried under reduced pressure at 120 ° C. for 8 hours to obtain a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm.
  • Example A1 an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A10 To 100 parts by weight of norbornene-based resin “Arton G” manufactured by JSR Corporation, 0.050 part by weight of the compound (x), 0.056 part by weight of the compound (y), and a light absorber “Nippon Carlit” 0.9 part by weight of “CIR-RL” was added, and further methylene chloride was added and dissolved to obtain a 20% solid content solution. Subsequently, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm.
  • Example A1 an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A11 To 100 parts by weight of norbornene-based resin “Arton G” manufactured by JSR Corporation, 0.050 part by weight of the compound (x), 0.056 part by weight of the compound (y), and 0 of the dye “S2058” manufactured by DKSH .3 parts by weight, 3.2 parts by weight of cesium tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ) were added, and further methylene chloride was added and dissolved to obtain a solution having a solid content of 20%. Subsequently, the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled resin was further dried at 100 ° C.
  • Example A1 An optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A12 To the container, 100 parts of the resin A obtained in Resin Synthesis Example 1 and methylene chloride were added to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight. The obtained solution was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate. The peeled coating film was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a transparent resin support having a thickness of 0.1 mm, a length of 60 mm, and a width of 60 mm.
  • a resin composition (1) having the following composition was applied to one side of the obtained transparent resin support with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the transparent resin support body. Similarly, the resin layer which consists of resin composition (1) was formed also in the other surface of the transparent resin support body, and the base material which has a resin layer on both surfaces of a transparent resin support body was obtained. Furthermore, using the obtained base material, an optical filter having a thickness of 0.107 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured to evaluate optical characteristics. The results are shown in Table 11.
  • Resin composition (1) 60 parts by weight of tricyclodecane dimethanol acrylate, 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and 2.5 parts by weight of the compound (x) 2.8 parts by weight of the compound (y), 30 parts by weight of an absorbent “CIR-RL” manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd., methyl ethyl ketone (solvent, solid content concentration (TSC): 30%).
  • Example A13 In a container, 100 parts of the resin A obtained in Resin Synthesis Example 1, 2.5 parts by weight of the compound (x), 2.8 parts by weight of the compound (y), a light absorber “Nippon Carlit” 30 parts by weight of “CIR-RL” was added, and methylene chloride was added to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight. The resulting solution was cast on a transparent glass substrate “OA-10G” (thickness 200 ⁇ m) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. cut to a size of 60 mm in length and 60 mm in width, and dried at 20 ° C. for 8 hours.
  • OA-10G thickness 200 ⁇ m
  • Example A14 To the container, 100 parts of the resin A obtained in Resin Synthesis Example 1, 6.5 parts by weight of DKSH dye “S2058”, and methylene chloride were added to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight.
  • the obtained solution was cast on a blue plate glass substrate “BS-6” (thickness: 210 ⁇ m) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd. cut to a size of 60 mm in length and 60 mm in width, and dried at 20 ° C. for 8 hours. Furthermore, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 8 hours, and obtained the base material which has a transparent resin layer and glass support of thickness 0.216mm, length 60mm, and width 60mm.
  • Example A1 an optical filter having a thickness of 0.220 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A15 100 parts by weight of norbornene-based resin “Arton G” manufactured by JSR Corporation, 0.075 parts by weight of the compound (x), 0.085 parts by weight of the compound (y), a light absorber manufactured by Nippon Carlit 0.9 parts by weight of “CIR-RL” and 0.10 parts by weight of compound (z) having the following structure were added, and methylene chloride was further added and dissolved to obtain a solution having a solid content of 20%.
  • the solution was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate.
  • the peeled resin was further dried under reduced pressure at 100 ° C. for 8 hours to obtain a transparent resin substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm.
  • the spectral transmittance of the obtained transparent resin substrate was measured in the same manner as in Example A1, and the optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A16 An optical filter having a thickness of 0.214 mm was obtained in the same manner as in Example A1, except that a blue plate glass substrate “BS-6” (thickness: 210 ⁇ m) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd. was used as the substrate. The spectral transmittance of the substrate and the obtained optical filter was measured in the same manner as in Example A1, and the optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • a multilayer deposited film reflecting a near infrared ray at a deposition temperature of 150 ° C. silicon (SiO 2 : film thickness 120 to 190 nm) layer and titania (TiO 2 : film thickness 70 to 120 nm)
  • SiO 2 film thickness 120 to 190 nm
  • TiO 2 film thickness 70 to 120 nm
  • an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained.
  • the spectral transmittance of the obtained optical filter was measured in the same manner as in Example A1, and the optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A2 A base having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm, as in Example A1, except that the light absorber “CIR-RL” manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. was changed from 0.6 parts by weight to 0.05 parts by weight. I got the material. Furthermore, using the obtained base material, an optical filter having a thickness of 0.105 mm was obtained in the same manner as in Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example A3 A substrate having a thickness of 0.1 mm and a side of 60 mm was obtained in the same manner as in Example A1, except that the light absorber “CIR-RL” manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. was not used. Furthermore, using the obtained base material, an optical filter having a thickness of 0.106 mm was obtained in the same manner as in Comparative Example A1. Spectral transmittances of the obtained substrate and optical filter were measured in the same manner as in Example A1, and optical characteristics were evaluated. The results are shown in Table 11.
  • Example B1 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate was prepared according to the following procedure and conditions.
  • a base material composed of a transparent resin substrate having a thickness of 0.1 mm, a length of 60 mm, and a width of 60 mm.
  • the spectral transmittance of this substrate was measured, and measured in the region where the wavelength was 600 nm or more and less than 750 nm, the lowest transmittance (Ta) measured from the vertical direction of the optical filter and the substrate in the region where the wavelength was 600 nm or more.
  • the shortest wavelength (Xc) at which the transmittance was from more than 50% to 50% or less was determined. The results are shown in FIG.
  • the dielectric multilayer film (I) is formed on one surface of the obtained base material, and the dielectric multilayer film (II) is further formed on the other surface of the base material, so that the optical thickness is about 0.104 mm.
  • a filter was obtained.
  • the dielectric multilayer film (I) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 100 ° C. (total number of layers: 26 layers).
  • the dielectric multilayer film (II) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 100 ° C. (total number of layers: 20 layers).
  • the silica layer and the titania layer are in order of the titania layer, the silica layer, the titania layer,..., The silica layer, the titania layer, and the silica layer from the substrate side.
  • the outermost layer of the optical filter was a silica layer.
  • the dielectric multilayer films (I) and (II) were designed as follows.
  • the wavelength-dependent characteristics of the substrate refractive index and the absorption characteristics of the applied compound (A) so as to achieve the visible antireflection effect and the selective transmission / reflection performance in the near infrared range was optimized using optical thin film design software (Essential Macleod, Thin Film Center).
  • the input parameters (Target values) to the software are as shown in Table 12 below.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • the results are shown in FIG.
  • the average value of transmittance at wavelengths of 430 to 580 nm was 90%
  • the average value of transmittance at wavelengths of 800 to 1000 nm was 1% or less
  • was 3 nm.
  • FIG. 15 shows spectral sensitivity characteristics of a general illuminance sensor
  • FIG. 16 shows human visual sensitivity characteristics.
  • the obtained optical filter has a small change in optical characteristics depending on the incident angle and can cut near-infrared light of 700 nm or more. By setting it on the upper side (light incident side), the incident light to the illuminance sensor can be made light close to human visual sensitivity characteristics regardless of the incident angle, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • Example B2 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was prepared according to the following procedure and conditions.
  • Example B1 as compound (A), 0.03 part of compound (a-3) (absorption maximum wavelength 703 nm in dichloromethane) represented by the following formula (a-3) and the following formula (a-4): From the transparent resin substrate containing the compound (A) in the same procedure and conditions as in Example B1, except that 0.07 part of the compound (a-4) represented (absorption maximum wavelength 736 nm in dichloromethane) was used. A base material was obtained.
  • a resin composition (G-1) having the following composition was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, exposure (exposure amount: 500 mJ / cm 2 , 200 mW) was performed using a conveyor type exposure machine, the resin composition (G-1) was cured, and a resin layer was formed on a transparent resin substrate. Similarly, a resin layer made of the resin composition (G-1) is formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) is provided. Obtained. The spectral transmittance of this substrate was measured to determine (Ta) and (Xc). The results are shown in FIG.
  • Resin composition (G-1) 60 parts by weight of tricyclodecane dimethanol acrylate, 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, methyl ethyl ketone (solvent, solid content concentration (TSC): 30 %).
  • Example B1 a dielectric multilayer film (total number of layers: 26) in which a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated on one side of the obtained base material. And forming a dielectric multilayer film (total number of layers: 20) in which a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated on the other surface of the substrate, and having a thickness of about An optical filter of 0.104 mm was obtained.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example B1 in consideration of the wavelength dependency of the base material refractive index. The spectral transmittance of the obtained optical filter was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated. The results are shown in FIG.
  • the obtained optical filter has a small change in optical characteristics depending on the incident angle and can cut near infrared light of 700 nm or more.
  • the incident light to the illuminance sensor can be made light close to human visual sensitivity characteristics regardless of the incident angle, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • Example B3 an optical filter having a base material composed of a near-infrared absorbing glass substrate was prepared according to the following procedure and conditions.
  • a silica (SiO 2 ) layer is formed on one side of the base material in the same manner as in Example B1, except that a near-infrared absorbing glass substrate “BS-6” (thickness 210 ⁇ m) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. was used as the base material. And a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated to form a dielectric multilayer film (total number of layers: 26), and a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are formed on the other surface of the substrate.
  • BS-6 near-infrared absorbing glass substrate manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd.
  • a dielectric multilayer film (total number of layers: 20) formed by alternately laminating layers was formed, and an optical filter having a thickness of about 0.216 mm was obtained.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example B1 in consideration of the wavelength dependency of the base material refractive index. The spectral transmittance of this optical filter was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated. The results are shown in FIG.
  • the obtained optical filter is inferior in incident angle dependency in the region of 650 to 700 nm as compared with the optical filter of Example B1 and Example B2, the change in the optical characteristics depending on the incident angle. Because it is small and can cut near-infrared light of 700 nm or more, by installing this optical filter on the upper side (light incident side) of the illuminance sensor, the incident light to the illuminance sensor is independent of the incident angle. Can be made light that is close to human visual sensitivity characteristics, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • Example B4 an optical filter having a base material composed of a transparent glass substrate having a transparent resin layer containing the compound (A) on one side was prepared according to the following procedure and conditions.
  • a resin composition (G-2) having the following composition was applied to a transparent glass substrate “OA-10G” (thickness: 200 ⁇ m) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., cut to a size of 60 mm in length and 60 mm in width with a spin coater. Then, the solvent was volatilized and removed by heating on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes. Under the present circumstances, the application
  • Resin composition (G-2) 20 parts by weight of tricyclodecane dimethanol acrylate, 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 4 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1.5 parts by weight of compound (a-1), Compound (a-2) 1.5 parts by weight, methyl ethyl ketone (solvent, TSC: 35%) Subsequently, as in Example B1, a dielectric multilayer film (total number of layers: 26) in which a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated on one side of the obtained base material.
  • a dielectric multilayer film total number of layers: 26
  • dielectric multilayer film (total number of layers: 20) in which a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated on the other surface of the substrate, and having a thickness of about
  • An optical filter of 0.108 mm was obtained.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example B1 after considering the wavelength dependence of the refractive index of the base material in the same manner as in Example B1. The spectral transmittance of this optical filter was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated. The results are shown in Table 13.
  • the obtained optical filter has a small change in optical characteristics depending on the incident angle and can cut near-infrared light of 700 nm or more.
  • the incident light to the illuminance sensor can be made to be close to human visual sensitivity characteristics regardless of the incident angle, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • Examples B5 to B7 A substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example B2, except that the transparent resin species and the compound (A) were changed as shown in Table 13. Table 13 shows the optical characteristics of the obtained substrate and optical filter.
  • the optical filters obtained in Examples B5 to B7 have little change in optical characteristics depending on the incident angle, and can cut near infrared light of 700 nm or more. Is placed on the upper side of the illuminance sensor (on the light incident side), the incident light to the illuminance sensor can be made light close to human visual sensitivity characteristics regardless of the incident angle, and high sensor sensitivity characteristics can be obtained.
  • Example B1 In Example B1, a substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example B1, except that the compound (A) was not used. The optical characteristics of the obtained optical filter are shown in FIG.
  • the obtained optical filter has a large change in optical characteristics depending on the incident angle, and when this optical filter is installed on the upper side (light incident side) of the illuminance sensor, the illuminance sensor depends on the incident angle. Since the optical characteristics of the incident light on the surface change, human visual sensitivity characteristics and errors occur, and the sensor sensitivity characteristics are low.
  • Example B2 An optical filter was prepared in the same manner as in Example B1, except that a transparent glass substrate “OA-10G” (thickness: 200 ⁇ m) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. was used instead of the transparent resin substrate. Table 13 shows the optical characteristics of the obtained optical filter.
  • the obtained optical filter has a large change in the optical characteristics depending on the incident angle, and when this optical filter is installed on the upper side of the illuminance sensor (on the light incident side), the optical characteristics of the incident light to the illuminance sensor change depending on the incident angle. Therefore, an error occurs with human visibility characteristics, and the sensor sensitivity characteristics are low.
  • Example B3 In Example B1, the compound (A) was not used, and instead of the dielectric multilayer film (I), a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer were alternately laminated at a deposition temperature of 100 ° C. In place of the dielectric multilayer film (total number of layers 6) and dielectric multilayer film (II), a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated at a deposition temperature of 100 ° C. A substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example B1, except that the dielectric multilayer film (total number of layers: 6) was used. The optical characteristics of the obtained optical filter are shown in FIG.
  • the obtained optical filter has a large change in optical characteristics depending on the incident angle.
  • the illuminance sensor depends on the incident angle. Since the optical characteristics of the incident light to the light change, human visual sensitivity characteristics and errors occur, and the sensor sensitivity characteristics are low.
  • the obtained optical filter has a high transmittance of 800 to 1000 nm, so the near-infrared cut by the optical filter is insufficient, and when this optical filter is installed on top of the illuminance sensor, the incident light is human visibility The illuminance sensor malfunctions due to a large deviation from the characteristics.
  • Glass substrate (2) Transparent glass substrate “OA-10G” (thickness: 200 ⁇ m) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. cut to a size of 60 mm in length and 60 mm in width ⁇ Near-infrared absorbing dye> ⁇ Compound (A) >> Compound (a-1): Compound (a-1) (absorption maximum wavelength in dichloromethane 698 nm) Compound (a-2): Compound (a-2) (absorption maximum wavelength in dichloromethane: 733 nm) Compound (a-3): Compound (a-3) (absorption maximum wavelength in dichloromethane 703 nm) Compound (a-4): Compound (a-4) above (maximum absorption wavelength 736 nm in dichloromethane) ⁇ Solvent> Solvent (1): Methylene chloride Solvent (2): N, N-dimethylacetamide Solvent (3): Cyclohexane / xylene (weight ratio: 7/3) In Table 13, the
  • Optical filter 3 Spectrophotometer 100: Ambient light sensor 102: Photoelectric conversion element 104: Optical filter 106: First electrode 108: Photoelectric conversion layer 110: p-type semiconductor region 112: n-type semiconductor region 114: Second electrode 116: Insulating layer 118: Near-infrared reflecting layer 120: Near-infrared absorbing layer 122: Resin layer 124: Glass substrate 126: Color filter 128: Element isolation insulating layer 130: Light-emitting diode 132: Light shielding member 134: Near-infrared path Filter 136: Electronic device 138: Housing 140: Display panel 142: Microphone unit 144: Speaker unit 145: Optical window 201: Sensor module 202: Light diffusion film 203: Optical filter 204: IR cut film 205: Light shielding plate 206: Light shielding Spacer 207: Light sensor

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Abstract

本発明の課題の一つは、入射角度が大きくなった場合でも優れた可視光透過率と近赤外線カット性能を両立可能な光学フィルターを提供することである。本発明の光学フィルターは、光吸収層を含む基材（ｉ）を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、前記光吸収層が波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有し、波長８５０～１０５０ｎｍにおいて、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であり、かつ、前記光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であることを特徴とする。

Description

光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール
　本発明は、光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュールに関する。詳しくは、特定の波長域に吸収を有する色素化合物を含む光学フィルター、該光学フィルターを用いた環境光センサー、および該光学フィルターを具備するセンサーモジュールに関する。
　近年、スマートフォンやタブレット端末等の情報端末装置への用途として、環境光センサーの開発が進められている。情報端末装置における環境光センサーは、情報端末装置がおかれた環境の照度を感知してディスプレイの明るさを調光する照度センサーや、情報端末装置がおかれた環境の色調を感知してディスプレイの色調を調整するカラーセンサーなどとして用いられる。
　人間の視感度と、ディスプレイの輝度や色調とを自然な形で合わせるためには、可視光線のみを環境光センサーに到達させることが重要である。例えば、環境光センサーは、近赤外線カットフィルターなどの光学フィルターを設置することで、分光感度特性を視感度に近づけることが可能となる。
　一方、情報端末装置のデザイン性重視の要望から、環境光センサーに光を入射させる透過窓の透過率を下げる（黒っぽい外観とする）ことが求められており、赤外光に対する可視光の入射量が減少し、正確な照度や色調の検出が困難となり、誤作動が発生するとういう問題がある。また、情報端末装置の低背化が進み、光の入射窓から環境光センサーまでの距離が短くなる。そのため、例えば、入射角度６０°といった高入射角からの入射光の割合が増加することになり、高入射角の入射光に対しても環境光センサーに到達する光の分光特性（特に近赤外線の強度）が変化しないことが要求されている。
　環境光センサーの分光特性を、人間の視感度と合わせるための手段として、ガラス板上に金属多層膜が形成された赤外線カットフィルターを設けた装置が開示されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、ガラス板上に金属多層薄膜を形成した近赤外線カットフィルターは、入射光の入射角度によって光学特性が大きく変化するため、環境光センサーの検出精度が低下するという問題がある。
　一方、入射角度によらず広帯域の近赤外線をカットできる材料として、種々の近赤外線吸収粒子が知られている（例えば、特許文献２、特許文献３参照）。このような近赤外線吸収粒子を用いて、環境光センサーの用途として十分な近赤外線カット性能を達成するためには、近赤外線吸収粒子の添加量を多くする必要がある。しかし、近赤外線カットフィルターにおいて、近赤外線吸収粒子の添加量を多くすると、可視光透過率が低下するといった問題がある。
　これに対し、ノルボルネン系樹脂製基板、特定波長に吸収極大を有する近赤外線吸収色素、および近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターは、光線が斜め方向から入射した際に可視域の透過率変化が少ないという特性を有する（特許文献４参照）。この近赤外線カットフィルターを環境光センサー用途として使用するには、入射角度６０°といった高入射角の赤外線カット性能をさらに向上させることが望ましいと考えられる。
特開２０１１－０６０７８８号公報 国際公開第２００５／０３７９３２号明細書 特開２０１１－１１８２５５号公報 特開２０１１－１０００８４号公報
　本発明は、各種環境光センサーが設けられる機器の低背化に伴い、入射角度が大きくなった場合でも優れた可視光透過率と近赤外線カット性能を両立可能な光学フィルターを提供することを目的とする。
　［１］光吸収層を有する基材（ｉ）を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、前記光吸収層が波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有し、波長８５０～１０５０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であり、かつ、前記光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であることを特徴とする光学フィルター。
　［２］波長４３０～５８０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が３０％以上８０％以下であることを特徴とする項［１］に記載の光学フィルター。
　［３］前記光吸収層が、波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含むことを特徴とする項［１］または［２］に記載の光学フィルター。
　［４］前記化合物（Ｓ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物、リン酸銅錯体系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［３］に記載の光学フィルター。
　［５］波長８５０～１０５０ｎｍの領域において、前記基材（ｉ）の垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が１．０以上であることを特徴とする項［１］～［４］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［６］前記光吸収層が、波長６５０～７５０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）をさらに含むことを特徴とする項［１］～［５］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［７］前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［６］に記載の光学フィルター。
　［８］前記光吸収層が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含むことを特徴とする項［１］～［７］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［９］前記基材（ｉ）の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することを特徴とする項［１］～［８］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［１０］環境光センサー用であることを特徴とする項［１］～［９］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［１１］項［１］～［９］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする環境光センサー。
　［１２］受光面に入射する光により光電流を生成し照度や色温度を測定する光電変換素子と、前記光電変換素子の前記受光面側に配置された、項［１］～［９］のいずれか１項に記載の光学フィルターとを有することを特徴とする環境光センサー。
　［１３］受光面に入射する光により光電流を生成し照度や色温度を測定する光電変換素子と、前記光電変換素子の前記受光面側に配置された光学フィルターとを有し、前記光学フィルターは、近赤外線吸収層と、近赤外線反射層とを含むことを特徴とする環境光センサー。
　［１４］前記近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素を含む樹脂層であることを特徴とする項［１３］に記載の環境光センサー。
　［１５］前記樹脂層の樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする項［１４］に記載の環境光センサー。
　［１６］前記近赤外線吸収層は、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層又はリン酸塩系ガラス層であることを特徴とする項［１３］に記載の環境光センサー。
　［１７］前記光学フィルターはガラス基板を含み、前記近赤外線吸収層は前記ガラス基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする項［１３］～［１５］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［１８］前記光学フィルターは樹脂製基板を含み、前記近赤外線吸収層は前記樹脂基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする項［１３］～［１５］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［１９］前記近赤外線反射層が誘電体多層膜であることを特徴とする項［１３］～［１８］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［２０］前記光学フィルターは、透過率が下記条件（Ａ）～（Ｃ）を満たすことを特徴とする項［１３］～［１９］のいずれか１項に記載の環境光センサー：
　（Ａ）波長４３０～５８０ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％以上である；
　（Ｂ）波長８００～１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１５％以下である；
　（Ｃ）波長５６０～８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値（Ｘｂ）の差の絶対値（｜Ｘａ－Ｘｂ｜）が２０ｎｍ未満である。
　［２１］前記光学フィルターは、光入射面側から、前記近赤外線反射層および前記近赤外線吸収層がこの順に配置された構造を含むことを特徴とする項［１３］～［２０］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［２２］前記近赤外線吸収層が波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有し、波長８５０～１０５０ｎｍにおいて、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であり、かつ、前記光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であることを特徴とする項［１３］～［２１］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［２３］近赤外光を出射する発光素子と、近赤外光を検知する第２光電変換素子とを有する近接センサーをさらに含むことを特徴とする項［１２］～［２２］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［２４］さらに、光散乱フィルムを具備することを特徴とする項［１１］～［２３］のいずれか１項に記載の環境光センサー。
　［２５］項［１］～［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするセンサーモジュール。
　［２６］項［１１］～［２４］のいずれか１項に記載の環境光センサーを含むことを特徴とする電子機器。
　本発明によれば、垂直方向からの入射光および斜め方向からの入射光の双方に対して、高い可視光透過率と近赤外線カット性能を有し、環境光センサー用途として好適に使用できる光学フィルターを提供することができる。このような光学フィルターを用いた環境光センサーは、入射光の入射角依存性が小さく、照度や色温度を高精度に測定することができる。
本発明の一実施形態に係る環境光センサーの構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る光学フィルターの構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る光学フィルターの構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る環境光センサーの構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る環境光センサーの構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る環境光センサーを備えた電子機器の一例を示す図である。 透過スペクトルを垂直方向、斜め３０度の方向および斜め６０度の方向から測定する構成を示した図である。 実施例Ｂ１における透明樹脂製基板からなる基材の分光透過率を示すグラフである。 実施例Ｂ１で得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例Ｂ２における透明樹脂製基板からなる基材の分光透過率を示すグラフである。 実施例Ｂ２で得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例Ｂ３で得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例Ｂ１で得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例Ｂ３で得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 照度センサーの分光感度特性の一例を示すグラフである。 人間の視感度特性を示すグラフである。 本発明の光センサーモジュールの態様例を説明するものである。 本発明の光センサーモジュールの態様例を説明するものである。
　以下、本発明の実施の形態を、必要に応じて図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付し又は類似の符号（数字の後にＡ、Ｂなどを付しただけの符号）を付し、詳細な説明を適宜省略することがある。
　本明細書中において「上」とは、支持基板の主面（センサーの受光面）を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面から離れる方向が「上」である。本願図面では、紙面に向かって上方が「上」となっている。また、「上」には、物体の上に接する場合（つまり「ｏｎ」の場合）と、物体の上方に位置する場合（つまり「ｏｖｅｒ」の場合）とが含まれる。逆に、「下」とは、支持基板の主面を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面に近づく方向が「下」である。本願図面では、紙面に向かって下方が「下」となっている。
　本発明の光学フィルターは、後述する構成を有するものであり、その用途は特に限定されないが、環境光センサー用途として好適である。本発明の環境光センサーは、後述する光学フィルターを具備すれば特に限定されないが、具体的な構成としては、受光面に入射する光により光電流を生成し照度や色温度を測定する光電変換素子と、前記光電変換素子の前記受光面側に配置された光学フィルターとを有する構成が挙げられる。
　以下、本発明の光学フィルターについて、第一の態様（以下「第一の光学フィルター」ともいう。）と第二の態様（以下「第二の光学フィルター」ともいう。）とに分けて説明するが、両者において共通する構成等については、本発明の効果を損なわないものである限り、一方の態様に関する説明は他方の態様にも適用可能である。なお、単に「本発明の光学フィルター」と記載した場合、原則として、第一の光学フィルターおよび第二の光学フィルターの両方を含むものとする。
　［第一の光学フィルター］
　本発明に係る第一の光学フィルターは、光吸収層を有する基材（ｉ）を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、前記光吸収層が波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有し、波長８５０～１０５０ｎｍにおいて、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値（以下「ＯＤA」ともいう。）が２．０以上であり、かつ、前記光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値（以下「ＯＤB」ともいう。）が２．０以上であることを特徴とする。
　ＯＤ値は透過率の常用対数値であり、下記式（１）にて算出できる。指定の波長範囲の平均ＯＤ値が高いと、光学フィルターはその波長領域の光のカット特性が高いことを表す。
　ある波長域における平均ＯＤ値＝－Ｌｏｇ10（ある波長域における平均透過率（％）／１００）・・・式（１）
　前記ＯＤAは、好ましくは２．３以上１０以下、より好ましくは２．５以上９以下である。前記ＯＤBは、好ましくは２．３以上１０以下、より好ましくは２．５以上９以下である。
　また、波長８５０～１０５０ｎｍにおいて、前記光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値（以下「ＯＤD」ともいう。）は、好ましくは２．０以上、より好ましくは２．３以上１０以下、さらに好ましくは２．５以上９以下である。
　前記ＯＤA、ＯＤBおよびＯＤDが２．０以上であると、光学フィルターは、垂直方向で透過する近赤外線のみでなく、高入射角で透過する近赤外線も十分にカットすることができる。そのような光学フィルターを携帯電話やタブレットの光センサーに用いた場合、画面の輝度や色味補正機能の誤作動を防ぐことができる。特に、光センサーモジュールにおいて、本発明の光学フィルターの上部に光拡散フィルムを具備する場合でも好適に近赤外光をカットすることができる。
　環境光センサーの誤作動防止の観点から、光学フィルターの垂直方向から入射した場合の可視光のＲＧＢバランス、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の方向から入射した場合の可視光のＲＧＢバランス、および光学フィルターの垂直方向に対して６０°の方向から入射した場合の可視光のＲＧＢバランスの変化が小さいことが望ましい。Ｒ（赤色）透過率を波長５８０～６５０ｎｍにおける平均透過率、Ｇ（緑色）透過率を波長５００～５８０ｎｍにおける平均透過率、Ｂ（青色）透過率を波長４２０～５００ｎｍの平均透過率とした場合、Ｒ透過率の比、Ｇ透過率の比、およびＢ透過率の比は下記式（２）～（４）から導くことができる。
　（Ｒ透過率の比）＝（Ｒ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（２）
　（Ｇ透過率の比）＝（Ｇ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（３）
　（Ｂ透過率の比）＝（Ｂ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（４）
　光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合のＲ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＲ透過率の比で割った値（０°→３０°の場合のＲ透過率の比の変化率）は下記式（５）から導くことができる。
　（０°→３０°の場合のＲ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から入射した場合のＲ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＲ透過率の比）・・・式（５）
　０°→３０°の場合のＲ透過率の比の変化率は、好ましくは０．５以上２．０以下、より好ましくは０．６以上１．８以下、さらに好ましくは０．８以上１．４以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　また、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合のＧ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＧ透過率の比で割った値（０°→３０°の場合のＧ透過率の比の変化率）は下記式（６）から導くことができる。
　（０°→３０°の場合のＧ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から入射した場合のＧ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＧ透過率の比）・・・式（６）
　０°→３０°の場合のＧ透過率の比の変化率は、好ましくは０．５以上２．０以下、より好ましくは０．６以上１．８以下、さらに好ましくは０．８以上１．４以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　さらに、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合のＢ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＢ透過率の比で割った値（０°→３０°の場合のＢ透過率の比の変化率）は下記式（７）から導くことができる。
　（０°→３０°の場合のＢ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から入射した場合のＢ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＢ透過率の比）・・・式（７）
　０°→３０°の場合のＢ透過率の比の変化率は、好ましくは０．５以上２．０以下、より好ましくは０．６以上１．８以下、さらに好ましくは０．８以上１．４以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　同様に、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合のＲ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＲ透過率の比で割った値（０°→６０°の場合のＲ透過率の比の変化率）は下記式（８）から導くことができる。
　（０°→６０°の場合のＲ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から入射した場合のＲ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＲ透過率の比）・・・式（８）
　０°→６０°の場合のＲ透過率の比の変化率は、好ましくは０．４以上２．０以下、より好ましくは０．５以上１．８以下、さらに好ましくは０．６以上１．６以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　また、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合のＧ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＧ透過率の比で割った値（０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率）は下記式（９）から導くことができる。
　（０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から入射した場合のＧ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＧ透過率の比）・・・式（９）
　０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率は、好ましくは０．４以上２．０以下、より好ましくは０．５以上１．８以下、さらに好ましくは０．６以上１．６以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　さらに、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合のＢ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＢ透過率の比で割った値（０°→６０°の場合のＢ透過率の比の変化率）は下記式（９）から導くことができる。
　（０°→６０°の場合のＢ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から入射した場合のＢ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＢ透過率の比）・・・式（９）
　０°→６０°の場合のＢ透過率の比の変化率は、好ましくは０．４以上２．０以下、より好ましくは０．５以上１．８以下、さらに好ましくは０．６以上１．６以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　このような光学フィルターを携帯電話やタブレットの環境光センサーに用いると、画面の輝度や色味の補正がしやすくなるため、明るい環境においてディスプレイの輝度が不足して見えにくくなったり、画面上に特定の色を正常に表示できなくなったりするという不具合を解消することができる。
　本発明の第一の光学フィルターは、波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値（以下「ＴA」ともいう。）が、好ましくは３０％以上８０％以下、より好ましくは３０％以上７５％以下、さらに好ましくは３３％以上７０％以下であることが望ましい。また、波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率の平均値（以下「ＴB」ともいう。）は、好ましくは３０％以上８０％以下、より好ましくは３０％以上７５％以下、さらに好ましくは３３％以上７０％以下であることが望ましい。さらに、波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の透過率の平均値（以下「ＴC」ともいう。）は、好ましくは２０％以上７８％以下、より好ましくは２５％以上７５％以下、さらに好ましくは３０％以上７０％以下であることが望ましい。
　波長４３０～５８０ｎｍの領域において、透過率の平均値（ＴA）が高過ぎると、光センサーの受光部に入射する光の強度が過剰に強くなり、光センサーがサチレーションを起こすため正常に機能しなくなる場合がある。また、透過率の平均値（ＴA）が低すぎると、光センサーの受光部に入射する光の強度が弱くなり、フィルターを通過する光の強度が充分確保されず、上記用途に好適に用いることができない場合がある。
　本発明の光学フィルターの厚みは、特に制限されないが、好ましくは４０～１０００μｍ、より好ましくは５０～８００μｍ、さらに好ましくは８０～５００μｍ、特に好ましくは９０～２５０μｍである。光学フィルターの厚みが上記範囲にあると、光学フィルターを、小型化および軽量化することができ、光センサー等の種々の用途に好適に用いることができる。特に光センサーの受光部上面に用いた場合には、光センサーモジュールの低背化を実現することができるため好ましい。
　＜基材（ｉ）＞
　前記基材（ｉ）は、単層であっても多層であってもよく、波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有する光吸収層を含有すればよい。また、前記光吸収層は、波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することが好ましい。基材（ｉ）が単層の場合は、例えば、化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板（ｉｉ）からなる基材、銅成分を含有する近赤外線吸収ガラス基板（ｉｉｉ）からなる基材を挙げることができ、この透明樹脂製基板（ｉｉ）、またはガラス基板（ｉｉｉ）が前記光吸収層となる。多層の場合は、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材、化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板（ｉｉ）上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材などを挙げることができる。製造コストや光学特性調整の容易性、さらに、樹脂製支持体や透明樹脂製基板（ｉｉ）の傷消し効果を達成できることや基材（ｉ）の耐傷つき性向上等の点から、化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（ｉｉ）上に硬化性樹脂からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材が特に好ましい。
　＜光吸収層＞
　前記光吸収層は、波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有すれば特に限定されないが、波長８５０～１０５０ｎｍの領域において、前記基材（i）の垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値（以下「ＯＤC」ともいう。）が、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．１以上１０以下、さらに好ましくは１．３以上９以下であることが望ましい。
　また、このような光吸収層を用いた光学フィルターを環境光センサーや照度センサーに用いた場合、光センサーモジュール内における多重反射光を吸収することができるため、環境光センサーや照度センサーの誤作動を抑制し、高機能な環境光センサーや照度センサーを得ることができる。
　上記光吸収層の厚みは、特に制限されないが、好ましくは５０～５００μｍ、より好ましくは５０～３００μｍ、さらに好ましくは５０～２００μｍである。光吸収層の厚みが前記範囲にあると、該光吸収層を用いた光学フィルターを、小型化および軽量化することができ、光センサー等の種々の用途に好適に用いることができる。特に光センサーの受光部上面に用いた場合、光センサーモジュールの低背化を実現することができるため好ましい。
　＜化合物（Ｓ）＞
　前記化合物（Ｓ）としては、近赤外線を吸収する色素として作用する金属錯体系化合物、染料または顔料を用いることができ、具体的には、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート錯体系化合物、リン酸銅錯体系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を挙げることができる。特に下記式（ｓ１）で表されるジイモニウム系化合物および下記式（ｓ２）で表される金属ジチオラート錯体系化合物が好ましい。このような化合物（Ｓ）を用いることにより、幅広い近赤外波長領域における吸収特性と優れた可視光透過率を達成することができる。また、前記光吸収層に含まれる化合物（Ｓ）は、１種単独でもよく、２種以上でもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　式（ｓ１）および式（ｓ２）中、Ｒ1～Ｒ3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－ＮＲgＲh基、－ＳＲi基、－ＳＯ2Ｒi基、－ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa～Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、－Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３～１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６～１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数３～１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１～１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアシル基、
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアルコキシカルボニル基
　置換基Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基および炭素数３～１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、隣り合うＲ3同士は置換基Ｌを有してもよい環を形成してもよい。ｎは０～４の整数、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。Ｍは金属原子を表す。ＺはＤ（Ｒi）4を表し、Ｄは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、ｙは０もしくは１を表す。
　上記式（ｓ１）で表されるジイモニウム系化合物における前記Ｒ1としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基であり、より好ましくはイソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基である。
　上記式（ｓ１）で表されるジイモニウム系化合物における前記Ｒ2としては、好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ－メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ－ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基であり、より好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基である。同じ芳香環に結合しているＲ2の数（ｎの値）は０～４であれば特に制限されないが、０もしくは１であることが好ましい。
　前記Ｘは電荷を中和するのに必要なアニオンであり、アニオンが２価である場合には１分子、アニオンが１価の場合には２分子が必要となる。後者の場合は２つのアニオンが同一であっても異なっていてもよいが、合成上の観点から同一である方が好ましい。Ｘはこのようなアニオンであれば特に制限されないが、一例として、下記の表１に記載のものを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 　Ｘは、酸とした際の酸性度が高いものであればジイモニウム系化合物のアニオンとした際にジイモニウム系化合物の耐熱性を向上できる傾向にあり、上記表１中の（Ｘ－１０）、（Ｘ－１６）、（Ｘ－１７）、（Ｘ－２１）、（Ｘ－２２）、（Ｘ－２４）、（Ｘ－２８）が特に好ましい。
　上記式（ｓ２）で表される金属ジチオラート錯体系化合物における前記Ｒ3としては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、フェニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルチオ基であり、隣り合うＲ3同士が環を形成する場合は、環の中に少なくとも一つ以上の硫黄原子もしくは窒素原子が含まれる複素環で有ることが好ましい。
　上記式（ｓ２）で表される金属ジチオラート錯体系化合物における前記Ｍとしては、好ましくは遷移金属であり、さらに好ましくはＮｉ，Ｐｄ，Ｐｔである。
　上記式（ｓ２）で表される金属ジチオラート錯体系化合物における前記ＺはＤ（Ｒi）4を表し、Ｄは好ましくは窒素原子、リン原子であり、Ｒiは好ましくはエチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、フェニル基である。
　前記化合物（Ｓ）の吸収極大波長は７５０ｎｍ以上１１５０ｎｍ以下であり、好ましくは７６０ｎｍ以上１１４０ｎｍ以下、より好ましくは７７０ｎｍ以上１１３０ｎｍ以下、特に好ましくは７８０ｎｍ以上１１２０ｎｍ以下である。前記化合物（Ｓ）の吸収極大波長がこのような範囲にあると、不要な近赤外線を効率よくカットすることができるとともに、入射光の入射角依存性を低くすることができる。
　前記化合物（Ｓ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特許第４１６８０３１号公報、特許第４２５２９６１号公報、特表２０１０－５１６８２３号公報、特開昭６３－１６５３９２号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
　前記化合物（Ｓ）の市販品としては、Ｓ２０５８（ＤＫＳＨ製）、ＣＩＲ－１０８ｘ、ＣＩＲ－９６ｘ、ＣＩＲ－ＲＬ、ＣＩＲ－１０８０（日本カーリット製）、Ｔ０９０８２１、Ｔ０９１０２１、Ｔ８９０２１，Ｔ０９０７２１、Ｔ０９０１２２、（トスコ製）、Ｂ４３６０、Ｄ４７７３、Ｄ５０１３、（東京化成工業製）、Ｓ４２５３、Ｓ１４２６、Ｓ１４４５（スペクトラムインフォ製）、Ｅｘｃｏｌｏｒ ＩＲ１、ＩＲ２ 、ＩＲ３ 、ＩＲ４（日本触媒製）などを挙げることができる。
　前記化合物（Ｓ）の使用量は、所望の特性に応じて適宜選択されるが、本発明に用いる透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１～２０．０重量部、より好ましくは０．０１～１５．０重量部、さらに好ましくは０．０１～１０．０重量部である。
　前記化合物（Ｓ）の使用量が上記範囲より多いと、化合物（Ｓ）の特性がより強く表れる光学フィルターを得ることができる場合もあるが、４３０～５８０ｎｍの範囲における透過率が光センサーとして好ましい値よりも低下する場合や、光吸収層や光学フィルターの強度が低下する場合があり、化合物（Ｓ）の使用量が上記範囲より少ないと、透過率が高すぎる光学フィルターが得られ、光センサーに入射する光量を制限することが困難になる場合がある。
　＜化合物（Ａ）＞
　前記光吸収層は、波長６５０～７５０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）をさらに含むことができる。前記化合物（Ｓ）を含む光吸収層と、前記化合物（Ａ）を含む光吸収層は、同一の層であってもよく、異なる層であってもよい。また、前記光吸収層に含まれる化合物（Ａ）は、１種単独でもよく、２種以上でもよい。
　前記化合物（Ａ）は、波長６５０～７５０ｎｍの領域に吸収極大があれば特に限定されないが、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、特にスクアリリウム系化合物およびフタロシアニン系化合物が好ましい。
　≪スクアリリウム系化合物≫
　前記スクアリリウム系化合物としては、特に限定されるものではないが、下記式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物および下記式（ＩＩ）で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。以下、それぞれ「化合物（Ｉ）」および「化合物（ＩＩ）」ともいう。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式（Ｉ）中、Ｒa、ＲbおよびＹａは、下記条件（α）または（β）を満たす。
　条件（α）：
　複数あるＲaはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲeＲf基を表し；
　複数あるＲbはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲgＲh基を表し；
　複数あるＹａはそれぞれ独立に、－ＮＲjＲk基を表し；
　Ｌ1は、Ｌa、Ｌb、Ｌc、Ｌd、Ｌe、Ｌf、ＬgまたはＬhを表し；
　ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表し；
　ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌd、－Ｌeまたは－Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表す。）を表し；
　ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表し；
　Ｌaは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基を表し；
　Ｌbは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基を表し；
　Ｌcは、置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の脂環式炭化水素基を表し；
　Ｌdは、置換基Ｌを有してもよい炭素数６～１４の芳香族炭化水素基を表し；
　Ｌeは、置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の複素環基を表し；
　Ｌfは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシ基を表し；
　Ｌgは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアシル基を表し；
　Ｌhは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシカルボニル基を表し；
　Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数３～１４の複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を表す。
　条件（β）：
　１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環を形成する；
　前記複素環は置換基を有していてもよく、Ｒbおよび前記複素環の形成に関与しないＲaは、それぞれ独立に前記条件（α）のＲbおよびＲaと同義である。
　前記Ｌa～Ｌhは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ５０以下であることが好ましく、炭素数４０以下であることがさらに好ましく、炭素数３０以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、化合物の合成が困難となる場合があるとともに、単位重量あたりの光の吸収強度が小さくなる傾向がある。
　前記ＬaおよびＬにおける炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基（Ｍｅ）、エチル基（Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（ｎ－Ｐｒ）、イソプロピル基（ｉ－Ｐｒ）、ｎ－ブチル基（ｎ－Ｂｕ）、ｓｅｃ－ブチル基（ｓ－Ｂｕ）、ｔｅｒｔ－ブチル基（ｔ－Ｂｕ）、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基およびドデシル基等のアルキル基；ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、２－メチル－１－プロペニル基、２－ペンテニル基、ヘキセニル基およびオクテニル基等のアルケニル基；ならびに、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、２－メチル－１－プロピニル基、ヘキシニル基およびオクチニル基等のアルキニル基を挙げることができる。
　前記ＬbおよびＬにおける炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基としては、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１－ジクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタクロロプロピル基およびヘプタフルオロプロピル基を挙げることができる。
　前記ＬcおよびＬにおける炭素数３～１４の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基等のシクロアルキル基；ノルボルナン基およびアダマンタン基等の多環脂環式基を挙げることができる。
　前記ＬdおよびＬにおける炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、アセナフチル基、フェナレニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基およびビフェニリル基を挙げることができる。
　前記ＬeおよびＬにおける炭素数３～１４の複素環基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、モルホリンおよびフェナジン等の複素環からなる基を挙げることができる。
　前記Ｌfにおける炭素数１～１２のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基を挙げることができる。
　前記Ｌgにおける炭素数１～９のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基およびベンゾイル基を挙げることができる。
　前記Ｌhにおける炭素数１～９のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基およびオクチルオキシカルボニル基を挙げることができる。
　前記Ｌaとしては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、４－フェニルブチル基、２－シクロヘキシルエチルであり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基である。
　前記Ｌbとしては、好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、５－シクロヘキシル－２，２，３，３－テトラフルオロペンチル基であり、より好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。
　前記Ｌcとしては、好ましくはシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－エチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、４－フェニルシクロヘプチル基であり、より好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－エチルシクロヘキシル基である。
　前記Ｌdとしては、好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、４－シクロペンチルフェニル基、２，３，６－トリフェニルフェニル基、２，３，４，５，６－ペンタフェニルフェニル基であり、より好ましくはフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、２，３，４，５，６－ペンタフェニルフェニル基である。
　前記Ｌeとしては、好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、モルホリンからなる基であり、より好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、モルホリンからなる基である。
　前記Ｌfとしては、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、２－フェニルエトキシ基、３－シクロヘキシルプロポキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基であり、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基である。
　前記Ｌgとしては、好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、４－プロピルベンゾイル基、トリフルオロメチルカルボニル基であり、より好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基である。
　前記Ｌhとしては、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、２－トリフルオロメチルエトキシカルボニル基、２－フェニルエトキシカルボニル基であり、より好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基である。
　前記Ｌa～Ｌhは、さらに、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を有していてもよい。このような例としては、４－スルホブチル基、４－シアノブチル基、５－カルボキシペンチル基、５－アミノペンチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ホスホリルエチル基、６－アミノ－２，２－ジクロロヘキシル基、２－クロロ－４－ヒドロキシブチル基、２－シアノシクロブチル基、３－ヒドロキシシクロペンチル基、３－カルボキシシクロペンチル基、４－アミノシクロヘキシル基、４－ヒドロキシシクロヘキシル基、４－ヒドロキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－ヒドロキシナフチル基、４－アミノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３－メチルピロールからなる基、２－ヒドロキシエトキシ基、３－シアノプロポキシ基、４－フルオロベンゾイル基、２－ヒドロキシエトキシカルボニル基、４－シアノブトキシカルボニル基を挙げることができる。
　前記条件（α）におけるＲaとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、水酸基である。
　前記条件（α）におけるＲbとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ－メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、水酸基、ジメチルアミノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基である。
　前記Ｙａとしては、好ましくはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ基であり、より好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基である。
　前記式（Ｉ）の条件（β）における、１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して形成される、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環としては、例えば、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ピリダジン、ピリミジンおよびピラジン等を挙げることができる。これらの複素環のうち、当該複素環を構成し、かつ、前記ベンゼン環を構成する炭素原子の隣の１つの原子が窒素原子である複素環が好ましく、ピロリジンがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式（ＩＩ）中、Ｘは独立に、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－ＲcまたはＣ（ＲdＲd）を表し；複数あるＲcはそれぞれ独立に、水素原子、Ｌa、Ｌb、Ｌc、ＬdまたはＬeを表し；複数あるＲdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲeＲf基を表し、隣り合うＲd同士は連結して置換基を有していてもよい環を形成してもよく；Ｌa～Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfは、前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfと同義である。
　前記式（ＩＩ）中のＲcとしては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基である。
　前記式（ＩＩ）中のＲdとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、４－アミノシクロヘキシル基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。
　前記Ｘとしては、好ましくはＯ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－Ｍｅ、Ｎ－Ｅｔ、ＣＨ2、Ｃ－Ｍｅ2、Ｃ－Ｅｔ2であり、より好ましくはＳ、Ｃ－Ｍｅ2、Ｃ－Ｅｔ2である。
　前記式（ＩＩ）において、隣り合うＲd同士は連結して環を形成してもよい。このような環としては、例えば、ベンゾインドレニン環、α－ナフトイミダゾール環、β－ナフトイミダゾール環、α－ナフトオキサゾール環、β－ナフトオキサゾール環、α－ナフトチアゾール環、β－ナフトチアダゾール環、α－ナフトセレナゾール環、β－ナフトセレナゾール環を挙げることができる。
　化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）は、下記式（Ｉ－１）および下記式（ＩＩ－１）のような記載方法に加え、下記式（Ｉ－２）および下記式（ＩＩ－２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｉ－１）と下記式（Ｉ－２）との違い、および下記式（ＩＩ－１）と下記式（ＩＩ－２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（Ｉ－１）および下記式（ＩＩ－１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　さらに、例えば、下記式（Ｉ－３）で表される化合物と下記式（Ｉ－４）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 　前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）は、それぞれ前記式（Ｉ）および（ＩＩ）の要件を満たせば特に構造は限定されない。例えば前記式（Ｉ－１）および（ＩＩ－１）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。
　前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の具体例としては、下記式（Ｉ－Ａ）～（Ｉ－Ｈ）で表される基本骨格を有する、下記表２～４に記載の化合物（ａ－１）～（ａ－３６）を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 　前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１－２２８９６０号公報、特開２００１－４０２３４号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
　≪フタロシアニン系化合物≫
　前記フタロシアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩＩ）」ともいう。）であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　式（ＩＩＩ）中、Ｍは、２個の水素原子、２個の１価の金属原子、２価の金属原子、または３価もしくは４価の金属原子を含む置換金属原子を表し、複数あるＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、または、ＲaとＲb、ＲbとＲcおよびＲcとＲdのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。但し、同じ芳香環に結合したＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdのうち少なくとも１つが水素原子ではない。
　前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
　Ｌ1は、前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
　Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ3は、水酸基または前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ4は、前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 　式（Ａ）～（Ｈ）中、ＲxおよびＲyは炭素原子を表し、複数あるＲA～ＲLはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、Ｌ1～Ｌ4は前記式（ＩＩＩ）において定義したＬ1～Ｌ4と同義である。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミノ基としては、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミド基としては、アミド基、メチルアミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジブチルアミド基、α－ラクタム基、β－ラクタム基、γ－ラクタム基、δ－ラクタム基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいイミド基としては、イミド基、メチルイミド基、エチルイミド基、ジエチルイミド基、ジプロピルイミド基、ジイソプロピルイミド基、ジブチルイミド基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいシリル基としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリエチルシリル基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－Ｓ－Ｌ2としては、チオール基、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、イソブチルスルフィド基、ｓｅｃ－ブチルスルフィド基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフィド基、フェニルスルフィド基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルスルフィド基、２，６－ジフェニルフェニルスルフィド基、４－クミルフェニルスルフィド基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－ＳＳ－Ｌ2としては、ジスルフィド基、メチルジスルフィド基、エチルジスルフィド基、プロピルジスルフィド基、ブチルジスルフィド基、イソブチルジスルフィド基、ｓｅｃ－ブチルジスルフィド基、ｔｅｒｔ－ブチルジスルフィド基、フェニルジスルフィド基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルジスルフィド基、２，６－ジフェニルフェニルジスルフィド基、４－クミルフェニルジスルフィド基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－ＳＯ2－Ｌ3としては、スルホ基、メシル基、エチルスルホニル基、ｎ－ブチルスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4としては、メチルアゾ基、フェニルアゾ基、ｐ－メチルフェニルアゾ基、ｐ－ジメチルアミノフェニルアゾ基などが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、１価の金属原子としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、２価の金属原子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｓｎ、Ｐｂなどが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、３価の金属原子を含む置換金属原子としては、Ａｌ－Ｆ、Ａｌ－Ｃｌ、Ａｌ－Ｂｒ、Ａｌ－Ｉ、Ｇａ－Ｆ、Ｇａ－Ｃｌ、Ｇａ－Ｂｒ、Ｇａ－Ｉ、Ｉｎ－Ｆ、Ｉｎ－Ｃｌ、Ｉｎ－Ｂｒ、Ｉｎ－Ｉ、Ｔｌ－Ｆ、Ｔｌ－Ｃｌ、Ｔｌ－Ｂｒ、Ｔｌ－Ｉ、Ｆｅ－Ｃｌ、Ｒｕ－Ｃｌ、Ｍｎ－ＯＨなどが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、４価の金属原子を含む置換金属原子としては、ＴｉＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＨｆＣｌ2、ＣｒＣｌ2、ＳｉＦ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＩ2、ＧｅＦ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＳｎＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＩ2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｈｆ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＧｅＲ2、ＳｎＲ2、Ｔｉ（ＯＲ）2、Ｃｒ（ＯＲ）2、Ｓｉ（ＯＲ）2、Ｇｅ（ＯＲ）2、Ｓｎ（ＯＲ）2（Ｒは脂肪族基または芳香族基を表す。）、ＴｉＯ、ＶＯ、ＭｎＯなどが挙げられる。
　前記Ｍとしては、周期表５族～１１族、かつ、第４周期～第５周期に属する、２価の遷移金属、３価もしくは４価の金属ハロゲン化物または４価の金属酸化物であることが好ましく、その中でも、高い可視光透過率や安定性を達成することができることから、Ｃｕ、Ｎｉ、ＣｏおよびＶＯが特に好ましい。
　前記フタロシアニン系化合物は、下記式（Ｖ）のようなフタロニトリル誘導体の環化反応により合成する方法が一般的に知られているが、得られるフタロシアニン系化合物は下記式（ＶＩ－１）～（ＶＩ－４）のような４種の異性体の混合物となっている。本発明では、特に断りのない限り、１種のフタロシアニン系化合物につき１種の異性体のみを例示しているが、他の３種の異性体についても同様に用いることができる。なお、これらの異性体は必要に応じて分離して用いることも可能であるが、本発明では異性体混合物を一括して取り扱っている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 　前記化合物（ＩＩＩ）の具体例としては、下記式（ＩＩＩ－Ａ）～（ＩＩＩ－Ｊ）で表わされる基本骨格を有する、下記表５～８に記載の（ｂ－１）～（ｂ－６１）などを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
 　化合物（ＩＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば、特許第４０８１１４９号公報や「フタロシアニン　－化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）に記載されている方法を参照して合成することができる。
　≪シアニン系化合物≫
　前記シアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）のいずれかで表される化合物（以下「化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）」ともいう。）であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）中、Ｘa -は１価の陰イオンを表し、複数あるＤは独立に、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、複数あるＲa、Ｒb、Ｒc、Ｒd、Ｒe、Ｒf、Ｒg、ＲhおよびＲiはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ3、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、または、ＲbとＲc、ＲdとＲe、ＲeとＲf、ＲfとＲg、ＲgとＲhおよびＲhとＲiのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、前記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
　Ｌ1は、前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
　Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ3は、水素原子または前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ4は、前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4（Ｌ1～Ｌ4は、前記Ｒa～ＲiにおけるＬ1～Ｌ4と同義である。）、または、これらのうち隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基；窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基；もしくは、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数１～９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
　前記Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける芳香族炭化水素基で例示した化合物が挙げられる。
　前記Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける脂環式炭化水素基および複素環で例示した化合物（複素芳香族炭化水素基を除く。）が挙げられる。
　前記Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける複素環基として例示した化合物（窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む脂環式炭化水素基を除く。）が挙げられる。
　前記式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）において、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、置換基Ｌを有してもよいアミノ基、アミド基、イミド基、シリル基としては、前記式（ＩＩＩ）で例示した基と同様の基などが挙げられる。
　Ｘa -は１価の陰イオンであれば特に限定されないが、Ｉ-、Ｂｒ-、ＰＦ6 -、Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2 -、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4 -、ニッケルジチオラート系錯体、銅ジチオラート系錯体などが挙げられる。
　前記化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）の具体例としては、下記表９に記載の（ｃ－１）～（ｃ－２４）などを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
 　前記化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば特開２００９－１０８２６７号公報に記載されている方法で合成することができる。
　化合物（Ａ）の添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、透明樹脂１００重量部に対して、通常０．０１～２０．０重量部、好ましくは０．０３～１０．０重量部であることが望ましい。
　＜透明樹脂＞
　前記光吸収層に用いる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、さらに好ましくは１２０～３６０℃である樹脂が挙げられる。また、前記樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成しえるフィルムが得られるため、特に好ましい。
　透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ７１０５）が、好ましくは７５～９５％、さらに好ましくは７８～９５％、特に好ましくは８０～９５％となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
　透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００～３５０，０００、好ましくは３０，０００～２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００～１５０，０００、好ましくは２０，０００～１００，０００である。
　透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド（アラミド）系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂を挙げることができる。これらの内、環状ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリエーテル樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂を用いることが、透明性（光学特性）、耐熱性等のバランスに優れた光学フィルターを得られる点で好ましい。
　≪環状ポリオレフィン系樹脂≫
　環状ポリオレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 　式（Ｘ0）中、Ｒx1～Ｒx4はそれぞれ独立に、下記（i'）～（ix'）
より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
（i'）水素原子
（ii'）ハロゲン原子
（iii'）トリアルキルシリル基
（iv'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（v'）置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（vi'）極性基（但し、（iv'）を除く。）
（vii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（viii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ix'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1とＲx4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　式（Ｙ0）中、Ｒy1およびＲy2はそれぞれ独立に、前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋyおよびｐyはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
　≪芳香族ポリエーテル系樹脂≫
　芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 　式（１）中、Ｒ1～Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、ａ～ｄはそれぞれ独立に、０～４の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　式（２）中、Ｒ1～Ｒ4およびａ～ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ1～Ｒ4およびａ～ｄと同義であり、Ｙは、単結合、－ＳＯ2－または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ7はシアノ基ではない。
　また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 　式（３）中、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ2－、＞Ｃ＝Ｏ、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－または炭素数１～１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。
　≪ポリイミド系樹脂≫
　ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６－１９９９４５号公報や特開２００８－１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フルオレンポリカーボネート系樹脂≫
　フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８－１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フルオレンポリエステル系樹脂≫
　フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０－２８５５０５号公報や特開２０１１－１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フッ素化芳香族ポリマー系樹脂≫
　フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開２００８－１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪アクリル系紫外線硬化型樹脂≫
　アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材（ｉ）として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ｓ）および硬化性樹脂を含む透明樹脂層（光吸収層）が積層された基材や、化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（ｉｉ）上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
　≪ゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂≫
　ゾルゲル法によるシリカを主成分とする樹脂としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシラン、メトキシトリエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのフェニルアルコキシシラン等から選ばれる１種以上のシラン類の加水分解によるゾルゲル反応により得られる化合物を樹脂として使用することができる。
　≪市販品≫
　透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状ポリオレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ－５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。
　＜その他成分＞
　前記光吸収層は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤等の添加剤を含有してもよい。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
　前記酸化防止剤としては、例えば２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，２'－ジオキシ－３，３'－ジ－ｔ－ブチル－５，５'－ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、およびトリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。
　なお、これら添加剤は、前記透明樹脂を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、前記透明樹脂１００重量部に対して、通常０．０１～５．０重量部、好ましくは０．０５～２．０重量部である。
　＜支持体＞
　≪樹脂製支持体≫
　前記透明樹脂基板または樹脂製支持体に用いられる樹脂は、前記透明樹脂層と同様のものを用いることができる。
　≪ガラス支持体≫
　前記ガラス支持体としては、例えば、無色透明のガラス基板、銅成分を含有するガラス基板、またはフツリン酸塩ガラス基板を用いることができる。特に、吸収剤として銅成分を含むフツリン酸ガラスは近赤外線カット能を向上させられるため好ましい。
　＜基材（ｉ）の製造方法＞
　前記基材（ｉ）が、前記透明樹脂製基板（ｉｉ）を含む基材である場合、該透明樹脂製基板（ｉｉ）は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
　前記基材（ｉ）が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層（光吸収層）が積層された基材である場合、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に化合物（Ｓ）を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に透明樹脂層が形成された基材を製造することができる。
　≪溶融成形≫
　前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物（Ｓ）等とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と化合物（Ｓ）とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、化合物（Ｓ）、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
　≪キャスト成形≫
　前記キャスト成形としては、化合物（Ｓ）、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または化合物（Ｓ）と、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
　前記基材（ｉ）が、化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（ｉｉ）からなる基材である場合には、該基材（ｉ）は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材（ｉ）が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体等の支持体などの上に化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合には、該基材（ｉ）は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。
　前記支持体としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂（例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム）製支持体が挙げられる。
　さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶剤を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に透明樹脂層を形成することもできる。
　前記方法で得られた透明樹脂層（透明樹脂製基板（ｉｉ））中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、透明樹脂層（透明樹脂製基板（ｉｉ））の重さに対して、好ましくは３重量％以下、より好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる透明樹脂層（透明樹脂製基板（ｉｉ））が得られる。
　＜誘電体多層膜＞
　本発明に係る第一の光学フィルターは、前記基材（ｉ）の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することが好ましい。本発明における誘電体多層膜とは、近赤外線を反射する能力を有する膜または可視域における反射防止効果を有する膜であり、誘電体多層膜を有することでより優れた可視光透過率と近赤外線カット特性を達成することができる。
　本発明では、誘電体多層膜は前記基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りやねじれが生じにくい光学フィルターを得ることができる。光学フィルターを固体撮像素子用途に適用する場合、光学フィルターの反りやねじれが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を樹脂製基板の両面に設けることが好ましい。
　前記誘電体多層膜は、好ましくは波長７００～１１００ｎｍ、より好ましくは波長７００～１１５０ｎｍ、さらに好ましくは７００～１２００ｎｍの範囲全体にわたって反射特性を有することが望ましい。
　誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７～２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０～１０重量％）含有させたものが挙げられる。
　低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２～１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
　高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材（ｉ）上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
　高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ～０．５λの厚さが好ましい。λ（ｎｍ）の値としては、例えば７００～１４００ｎｍ、好ましくは７５０～１３００ｎｍである。厚さがこの範囲であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
　誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として１６～７０層であることが好ましく、２０～６０層であることがより好ましい。各層の厚み、光学フィルター全体としての誘電体多層膜の厚みや合計の積層数が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、光学フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。
　本発明では、化合物（Ｓ）や化合物（Ａ）の吸収特性に合わせて高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択することで、可視域に十分な透過率を確保した上で近赤外波長域に十分な光線カット特性を有し、且つ、斜め方向から近赤外線が入射した際の反射率を低減することができる。
　ここで、前記条件を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用い、可視域の反射防止効果と近赤外域の光線カット効果を両立できるようにパラメーターを設定すればよい。上記ソフトの場合、例えば第一光学層の設計にあたっては、波長４００～７００ｎｍの目標透過率を１００％、Ｔａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を１とした上で、波長７０５～９５０ｎｍの目標透過率を０％、Ｔａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５にするなどのパラメーター設定方法が挙げられる。これらのパラメーターは基材（ｉ）の各種特性などに合わせて波長範囲をさらに細かく区切ってＴａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を変えることもできる。
　＜その他の機能膜＞
　本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材（ｉ）と誘電体多層膜との間、基材（ｉ）の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材（ｉ）が設けられた面と反対側の面に、基材（ｉ）や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
　本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
　機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材（ｉ）または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
　また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材（ｉ）または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
　前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
　また、前記硬化性組成物は重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００重量％とした場合、好ましくは０．１～１０重量％、より好ましくは０．５～１０重量％、さらに好ましくは１～５重量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
　さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。
　これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１～３０μｍ、さらに好ましくは０．５～２０μｍ、特に好ましくは０．７～５μｍである。
　また、基材（ｉ）と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材（ｉ）、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
　［第二の光学フィルター］
　本発明に係る第二の光学フィルターは、近赤外線吸収層（光吸収層）と、近赤外線反射層とを含むことを特徴とする。
　前記近赤外線吸収層としては、例えば、近赤外線吸収色素を含む樹脂層である態様や、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層又はリン酸塩系ガラス層である態様などが挙げられる。
　本発明に係る第二の光学フィルターとしては、例えば、ガラス基板を含み、前記近赤外線吸収層が前記ガラス基板の少なくとも一方の面に設けられている態様や、樹脂製基板を含み、前記近赤外線吸収層が前記樹脂製基板の少なくとも一方の面に設けられている態様などが挙げられる。
　本発明に係る第二の光学フィルターにおいて、前記近赤外線反射層は、誘電体多層膜であってもよい。
　本発明に係る第二の光学フィルターは、その透過率が、下記条件（Ａ）～（Ｃ）を満たすことが好ましい。
　条件（Ａ）：波長４３０～５８０ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上である。
　本発明では、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率が高い透明樹脂および当該波長領域に吸収を持たない吸収剤を用いることで、このような波長４３０～５８０ｎｍにおいて、高い透過率を有する光学フィルターを得ることができる。上記条件（Ａ）を満たす光学フィルターを使用することにより、環境光センサーへの入射光の十分な強度が得られるため、暗い周辺の環境下であっても、また、暗い光学窓を使用した場合でも高い環境光センサーの感度を得ることができる。
　条件（Ｂ）：波長８００～１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１５％以下、好ましくは１0％以下、より好ましくは５％以下、更に好ましくは１％以下である。
　上記条件（Ｂ）を満たす光学フィルターを使用することにより、環境光センサーの誤作動の原因となる近赤外線がカットされるため、誤作動が少ない環境光センサーを得ることができる。一方、波長８００～１０００ｎｍの範囲の透過率が高いと、光学フィルターは、近赤外線を充分カットすることができず、環境光センサーの誤作動を招くなど、環境光センサーの性能低下を招く。
　条件（Ｃ）：波長５６０～８００ｎｍ、好ましくは５８０～８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値（Ｘｂ）の差の絶対値（｜Ｘａ－Ｘｂ｜）が２０ｎｍ未満、好ましくは１５ｎｍ未満、さらに好ましくは１０ｎｍ未満である。
　上記条件（Ｃ）を満たす光学フィルターを使用することにより、入射光の入射角による環境光センサーの分光感度特性変化が小さくなり、環境光センサーの感度低下、誤作動発生が抑制されるとともに、入射角度によらず人間の視感度特性に近い環境光センサー感度が達成可能となり、高いセンサー感度特性が得られる。
　本実施形態において、光学フィルター１０４は、近赤外線を反射する層又は部材と、近赤外線を吸収する層又は部材とを含んでいる。図１は、光学フィルター１０４に、近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０とが含まれる態様を示す。
　近赤外線反射層１１８は、近赤外線波長帯域の光を反射する特性を有する。近赤外線反射層１１８は、誘電体多層膜によって形成される。誘電体多層膜は、相対的に屈折率の高い誘電体膜と、相対的に屈折率の低い誘電体膜とを交互に積層させた構造を有する。誘電体多層膜は、光の干渉効果により可視光線帯域の光を透過し、近赤外線波長帯域の光を反射する特性を有する。誘電体多層膜は、分光透過特性において急峻な立ち上がり（又は立ち下がり）を示す。一方、誘電体多層膜は垂直入射光と斜め方向からの入射光（斜方入射光）とで、分光透過スペクトルが異なるという特性を有する。すなわち、誘電体多層膜のみでは、垂直入射光のみでは設計値通りの分光透過スペクトルが得られるものの、斜め入射光に対しては光路長が変化し、分光透過スペクトルが設計値と異なってしまう。このため、誘電体多層膜のみによる光学フィルターでは、広角で外光が入射する場合、入射光の透過スペクトルの光電変換素子１０２の視感度特性からのずれが発生するため、誤作動が発生するという問題が生ずる。
　これに対し、本実施形態に係る光学フィルター１０４は、近赤外線反射層１１８に加え、近赤外線吸収層１２０が設けられている。近赤外線吸収層１２０は、可視光線帯域の光を透過し、近赤外線波長帯域の光を吸収する特性を有する。近赤外線吸収層１２０は、近赤外線を吸収する化合物を含み、近赤外線波長帯域に少なくとも一つの吸収ピークを有する。近赤外線を吸収する化合物は、波長６００ｎｍ～１５００ｎｍの範囲内に極大吸収を有することが好ましく、波長６５０ｎｍ～１２００ｎｍの範囲内に極大吸収を有することがより好ましく、波長６５０ｎｍ～８００ｎｍの範囲内に極大吸収を有することがさらに好ましく、波長６５０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲内に極大吸収を有することが特に好ましい。この波長範囲に極大吸収を有する化合物を使用することにより、入射角によるセンサー感度の変化が小さい高精度の環境光センサーが得られる。例えば、近赤外線を吸収する化合物として、近赤外線吸収色素を用いることができる。
　このような近赤外線吸収層１２０は、近赤外線を吸収する化合物と、バインダー樹脂及び重合性化合物から選ばれる少なくとも１種とを含む近赤外線吸収性組成物を用いて形成される。例えば、近赤外線吸収層１２０は、可視光に対して透光性を有する樹脂層に、近赤外線を吸収する化合物が内包されている。
　光学フィルター１０４は、近赤外線反射層１１８の背面に近赤外線吸収層１２０が配置されている。近赤外線反射層１１８は近赤外線を反射するが、透過した光に近赤外線波長帯域の光が含まれている場合、近赤外線吸収層１２０で当該透過光に含まれる近赤外線波長帯域の光を吸収する。例えば、光学フィルター１０４の斜め方向から入射した光（斜め入射光）は、近赤外線反射層１１８が誘電体多層膜であることにより透過スペクトルが垂直入射の場合に比べて変化する。しかし、斜め入射光として近赤外線反射層１１８を透過する光に近赤外線波長帯域の光の成分が含まれていても、近赤外線吸収層１２０がその光成分を吸収することで、近赤外線波長帯域の光成分が残留することを防ぐことができる。光学フィルター１０４は、近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０とを重畳して設けることにより、近赤外光を遮断する性能を向上させることが可能となる。それにより、環境光センサー１００ａが照度を計測するときに、斜め方向から光が入射する場合でも、正確に可視光帯域の光による照度を検知することが可能となる。
　本実施形態において、近赤外線吸収層１２０の吸収ピーク波長の少なくとも一つは、近赤外線反射層１１８におけるカットオフ波長と重なるような特性を有していることが好ましい。近赤外線反射層１１８に斜め方向から入射した光により透過光スペクトルのカットオフ波長が変化した場合でも、近赤外線吸収層１２０により、カットオフ波長のずれの影響を低減することができる。
　本実施形態に係る光学フィルター１０４は、垂直方向から測定したときの透過率が、波長４３０ｎｍ～５８０ｎｍの範囲において５０％以上である。また、本実施形態に係る光学フィルター１０４の垂直方向から測定したときの透過率が、波長８００ｎｍ～１０００ｎｍの範囲において１５％以下である。本実施形態に係る光学フィルター１０４は、波長５６０ｎｍ～８００ｎｍの範囲において垂直方向から測定したときの透過率が５０％となる波長（Ｘａ）と、光学フィルター１０４の垂直方向に対し３０°の角度から測定したときの透過率が５０％となる波長（Ｘｂ）の差の絶対値が２０ｎｍ未満である。本実施形態に係る光学フィルター１０４は、上記の条件を同時に満たしていることが望ましい。
　光学フィルター１０４が、このような光学特性を有することにより、垂直方向から入射する光のみならず、斜め方向から入射する光に対しても、近赤外光を遮断し、入射角度によらず同じ光学特性の可視光線帯域の光を透過することができる。
　＜光学フィルターの類型＞
　本発明に係る第二の光学フィルターは、近赤外線反射層及び近赤外線吸収層を含むが、その形態として様々な変形が許容される。
　≪光学フィルター１≫
　図２（Ａ）は、光入射側から、第１近赤外線反射層１１８ａ、近赤外線吸収層１２０、第２近赤外線反射層１１８ｂが設けられた光学フィルター１０４ａを示す。第１近赤外線反射層１１８ａは屈折率の異なる誘電体膜が積層された構造を有する。第２近赤外線反射層１１８ｂは、第１近赤外線反射層１１８ａと同じ誘電体多層構造を有していてもよいし、異なる誘電体多層構造を有していてもよい。
　近赤外線吸収層１２０は、透光性の樹脂層の中に近赤外線を吸収する化合物を含む。近赤外線を吸収する化合物としては、例えば、近赤外線吸収色素が挙げられる。近赤外線吸収層１２０は、透光性の樹脂層に近赤外線を吸収する化合物が含まれている。光学フィルター１０４ａは、この樹脂層が基材としての機能を兼ね備えていてもよい。近赤外線吸収層１２０それ自体を構造材として用いることで、光学フィルター１０４ａの薄型化を図ることができる。
　図２（Ａ）で示す光学フィルター１０４ａは、第１近赤外線反射層１１８ａ及び第２近赤外線反射層１１８ｂとして、誘電体多層膜が形成された構造の中に近赤外線吸収層１２０を介在させることにより、光学フィルター１０４ａに斜め方向から入射する光に対しても透過光スペクトルの変動を抑制することができる。
　図２（Ａ）は、近赤外線反射層が近赤外線吸収層の両面に設けられる態様を示すが、光学フィルター１０４ａはこの態様に限定されない。近赤外線反射層は、近赤外線吸収層の片面のみに設けられていてもよい。例えば、第１近赤外線反射層１１８ａと近赤外線吸収層１２０によって光学フィルター１０４ａが構成されていてもよい。このような構成によっても、上述の近赤外線反射層と近赤外線吸収層による相乗効果を発揮することができる。また、第１近赤外線反射層と第２近赤外線反射層のどちらかを反射防止層に代えた構成を用いることもできる。
　≪光学フィルター２≫
　図２（Ａ）で示す光学フィルター１０４ａにおいて、近赤外線吸収層１２０に近赤外線を吸収するガラスを用いてもよい。すなわち、近赤外線を吸収する化合物を含む樹脂層に代えて、近赤外線を吸収する物質を含むガラス基板を用いて光学フィルター１０４を構成してもよい。ガラス素材としては、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層又はリン酸塩系ガラス層であってもよい。ガラス層は樹脂層に比べて耐熱性が高く、硬質であるので、光学フィルター１０４の耐熱性や構造安定性を高めることができる。
　≪光学フィルター３≫
　図２（Ｂ）は、第１近赤外線反射層１１８ａと近赤外線吸収層１２０との間に第１樹脂層１２２ａが設けられ、第２近赤外線反射層１１８ｂと近赤外線吸収層１２０との間に第２樹脂層１２２ｂが設けられた光学フィルター１０４ｂを示す。近赤外線反射層と近赤外線吸収層との間に樹脂層を設けることで、光学フィルター１０４ｂの薄型化を図りつつ強度を高めることが可能となる。近赤外線吸収層１２０としては、上述の透光性の樹脂層の中に近赤外線を吸収する化合物を含む層、あるいは近赤外線を吸収する物質を含むガラス基板を用いることができる。なお、樹脂層１２２は、第１樹脂層１２２ａ及び第２樹脂層１２２ｂの一方のみが設けられていてもよい。また、図２（Ｂ）は、近赤外線反射層が近赤外線吸収層の両面に設けられる態様を示すが、光学フィルター１０４ｂはこの態様に限定されない。近赤外線反射層は、近赤外線吸収層の片面のみに設けられていてもよい。なお、樹脂層１２２aおよび１２２ｂには近赤外線吸収剤が含まれてもよいし、含まれていなくてもよい。また、第１近赤外線反射層と第２近赤外線反射層のどちらかを反射防止層に代えた構成を用いることもできる。
　図２（Ｂ）に示す光学フィルター１０４ｂは、近赤外線反射層と近赤外線吸収層との組み合わせを有することにより、図２（Ａ）で示す光学フィルター１０４ａと同様の作用効果を奏する。
　≪光学フィルター４≫
　図３（Ａ）は、透明なガラス基板１２４を用いて構成される光学フィルター１０４ｃを示す。光学フィルター１０４ｃは、ガラス基板１２４の一方の面に近赤外線吸収層１２０を設け、その上面に第１近赤外線反射層１１８ａが設けられている。近赤外線吸収層１２０としては、透光性の樹脂層の中に近赤外線を吸収する化合物を含む層が用いられる。また、ガラス基板１２４の他方の面に第２近赤外線反射層１１８ｂが設けられている。透明なガラス基板１２４は、光学フィルター１０４の基材として用いることができる。ガラス基板１２４を基材として用いることで、光学フィルター１０４の剛性を高めることができる。なお、図３（Ａ）において示される第２近赤外線反射層１１８ｂを、ガラス基板１２４と近赤外線吸収層１２０との間に設けてもよい。
　なお、図３（Ａ）に示す光学フィルター１０４ｃにおいて、近赤外線吸収層１２０をガラス基板１２４の両面に設けてもよい。また、第１近赤外線反射層１１８ａと近赤外線吸収層１２０の組を複数段に設けてもよい。さらに、透明なガラス基板１２４に代えて、近赤外線を吸収する物質を含むガラス基板を用いてもよい。さらに近赤外線反射層は、近赤外線吸収層の片面のみに設けられていてもよい。例えば、第１近赤外線反射層１１８ａ、近赤外線吸収層１２０及びガラス基板１２４によって光学フィルター１０４ｃが構成されていてもよい。また、第１近赤外線反射層と第２近赤外線反射層のどちらかを反射防止層に代えた構成を用いることもできる。
　図３（Ａ）に示す光学フィルター１０４ｃは、近赤外線反射層と近赤外線吸収層との組み合わせを有することにより、図２（Ａ）で示す光学フィルター１０４ａと同様の作用効果を奏する。
　≪光学フィルター５≫
　図３（Ｂ）は、透明な樹脂基板１２５を用いて構成される光学フィルター１０４ｄを示す。光学フィルター１０４ｄは、樹脂基板１２５の一方の面に近赤外線吸収層１２０を設け、その上面に第１近赤外線反射層１１８ａが設けられている。また、樹脂基板１２５の他方の面に第２近赤外線反射層１１８ｂが設けられている。樹脂基板１２５は、光学フィルター１０４の基材として用いることができる。樹脂基板１２５を基材として用いることで、光学フィルター１０４の加工性、柔軟性を高めることができる。なお、図３（Ｂ）において示される第２近赤外線反射層１１８ｂを、樹脂基板１２４と近赤外線吸収層１２０との間に設けてもよい。近赤外線吸収層１２０としては、透光性の樹脂層の中に近赤外線を吸収する化合物を含む層が用いられる。
　なお、図３（Ｂ）に示す光学フィルター１０４ｄにおいて、近赤外線吸収層１２０を樹脂基板１２５の両面に設けてもよい。また、第１近赤外線反射層１１８ａと近赤外線吸収層１２０の組を複数段に設けてもよい。さらに近赤外線反射層は、近赤外線吸収層の片面のみに設けられていてもよい。例えば、第１近赤外線反射層１１８ａ、近赤外線吸収層１２０及び樹脂基板１２５によって光学フィルター１０４ｄが構成されていてもよい。また、第１近赤外線反射層と第２近赤外線反射層のどちらかを反射防止層に代えた構成を用いることもできる。
　図３（Ｂ）に示す光学フィルター１０４ｄは、近赤外線反射層と近赤外線吸収層との組み合わせを有することにより、図２（Ａ）で示す光学フィルター１０４ａと同様の作用効果を奏する。
　＜近赤外線反射層＞
　近赤外線反射層１１８は、少なくとも波長４００ｎｍ～６００ｎｍの帯域の可視光線を透過するとともに、少なくとも波長７５０ｎｍ以上の近赤外線を反射するように設計される。近赤外線反射層１１８は、可視領域の透過率が高く、少なくとも波長４００ｎｍ～６００ｎｍの波長帯域において９０％以上の平均分光透過率を有することが好ましい。また、近赤外線反射層１１８は、波長７５０ｎｍ以上の近赤外線波長帯域においては２％未満の分光透過率を有していることが好ましい。これは、光電変換素子１０２に近赤外線が入射されず、一方で可視光線帯域の光を高感度で検知するためである。
　近赤外線反射層１１８は、分光透過特性において急峻な立ち上がり（又は立ち下がり）特性（カットオフ特性）を有していることが好ましい。近赤外線反射層１１８は、急峻なカットオフ特性を有していることにより、近赤外線吸収層１２０との組み合わせにおいて、光学設計上有利に作用するためである。すなわち、近赤外線反射層１１８への斜め入射光に対して、透過スペクトルが変化する場合でも、カットオフ特性が急峻であると、近赤外線吸収層１２０の吸収ピークにカットオフ波長を合わせることが容易となるためである。
　近赤外線反射層１１８は誘電体多層膜で形成される。誘電体多層膜の詳細については、前記第一の光学フィルターにおいて説明した通りである。
　高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の物理膜厚は、それぞれ層の屈折率にもよるが、通常、５～５００ｎｍであることが好ましく、誘電体多層膜の物理膜厚の合計値は光学フィルター全体として１．０～８．０μｍであることが好ましい。
　本発明の光学フィルターを環境光センサーの用途に適用する場合、光学フィルターの反りが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を基材の両面に設けることが好ましく、両面に設けた誘電体多層膜は分光特性が同じでも異なっていてもよい。両面に設けた誘電体多層膜の分光特性が同じ場合では近赤外波長域において光線阻止帯域ＺａおよびＺｃの透過率を効率よく低減することができ、両面に設けた誘電体多層膜の分光特性が異なる場合では光線阻止帯域Ｚｃをより長波長側まで広げることが容易になる傾向がある。
　＜近赤外線吸収層および透明樹脂基板＞
　近赤外線吸収層１２０を構成するための近赤外線吸収色素を含有させる樹脂および透明樹脂基板１２５に用いられる樹脂としては、透明樹脂を用いることができる。透明樹脂の詳細については、前記第一の光学フィルターにおいて説明した通りである。
　近赤外線吸収色素を含有する樹脂層の厚みは、「光学フィルター１」および「光学フィルター３」のように、近赤外線吸収色素含有樹脂層を樹脂基板としての機能を兼ね備えさせる場合は、好ましくは１０～３００μｍ、より好ましくは２０～２００μｍ、さらに好ましくは２５～１５０μｍ、特に好ましくは３０～１２０μｍである。近赤外線吸収色素を含有する樹脂層の厚みが上記範囲にあると、光学フィルターを軽量化および小型化することができ、環境光センサーの低背化を達成することができる。樹脂層の厚みが上記範囲より厚い場合には、環境光センサーの低背化という本来の目的が達成できない。一方、樹脂層の厚みが上記範囲より薄い場合には、光学フィルターの反りが大きくなる問題がある。
　また、「光学フィルター４」および「光学フィルター５」のように、近赤外線吸収色素含有樹脂層を、透明ガラス基板あるいは透明樹脂基板上に設ける場合、近赤外線吸収色素含有樹脂層の厚みは、好ましくは０．５～１５０μｍ、より好ましくは０．７～１００μｍ、さらに好ましくは１～５０μｍ、特に好ましくは２～３０μｍである。近赤外線吸収色素を含有する樹脂層の厚みが上記範囲にあると、光学フィルターを軽量化および小型化することができ、環境光センサーの低背化を達成することができる。樹脂層の厚みが上記範囲より厚い場合には、環境光センサーの低背化という本来の目的が達成できない。一方、樹脂層の厚みが上記範囲より薄い場合には、近赤外線吸収色素の樹脂層への溶解性に制限があるため、適用可能な近赤外線吸収色素の種類および含有量が制限され、十分な光学特性を得ることができない。
　「光学フィルター２」の近赤外線吸収層に用いられる近赤外線を吸収するガラスの厚みは、好ましくは３０～１０００μｍ、より好ましくは３５～５００μｍ、さらに好ましくは４０～３００μｍ、特に好ましくは４５～２１０μｍである。近赤外線吸収ガラスは非常に脆く、ガラスの厚みが上記範囲より薄い場合には、使用時に割れる、欠ける、反りが大きくなる等の問題があり使用し難い。
　「光学フィルター４」に用いられる透明ガラス基板の厚みは、好ましくは２０～１０００μｍ、より好ましくは２５～５００μｍ、さらに好ましくは３０～３００μｍ、特に好ましくは３５～２１０μｍである。透明ガラスの厚みが上記範囲にあると、光学フィルターを軽量化および小型化することができ、環境光センサーの低背化を達成することができる。透明ガラスの厚みが上記範囲より厚い場合には、環境光センサーの低背化という本来の目的が達成できない。一方、透明ガラスの厚みが上記範囲より薄い場合には、反りが大きくなる、ガラス層が脆いため割れる、欠ける等の問題があり使用し難い。
　上記のように、ガラスは厚みが薄くなると脆くなる問題点があるため、環境光センサーの低背化と言う観点からは、「光学フィルター１、３、５」のように樹脂製基板を使用することが好ましい。
　近赤外線吸収色素を含有する樹脂層は、樹脂層そのものをフィルム基板として使用することができ、他のフィルム基板上に本樹脂層をコーティングした形で使用することもでき、ガラス基板上に本樹脂層をコーティングした形で使用することもできる。樹脂層そのものをフィルム基板として使用する場合、前述した溶液キャスト法や押出成形法によりフィルム基板を作製することができる。
　上記フィルム基板としては、上記透明樹脂からなる樹脂フィルムを使用することができる。
　上記透明樹脂層は、本発明の効果を損なわない範囲において、近赤外線吸収色素の他に酸化防止剤、近紫外線吸収剤、蛍光消光剤および金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。また、前述したキャスト成形により基材を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで基材の製造を容易にすることができる。これら成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記基材は、単層であっても多層であってもよく、近赤外線吸収色素を含む層は、別々の近赤外吸収色素を含む透明樹脂層を多層化することもできるし、近赤外線吸収色素を含む層と近赤外線吸収色素を含有しない層を多層化することもできる。また、銅成分を含有する近赤外線吸収ガラス層に、近赤外線吸収色素を含有する樹脂層を積層することもできる。
　また、上記基材上に、硬化性樹脂を含むオーバーコート層などの樹脂層を積層することもできる。この硬化性樹脂層に近赤外線吸収色素を含有させることもできる。
　透明樹脂層を使用する場合には、製造コストや光学特性調整の容易性、さらに、樹透明樹脂製基板の耐傷つき性向上等の点から、近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いることが特に好ましい。
　＜透明樹脂基材の製造方法＞
　前記基材が近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂製基板を含む場合、該透明樹脂製基板は、前記第一の光学フィルターで説明した方法で製造することができる。
　＜ガラス＞
　近赤外線吸収層として、銅成分を含む近赤外線吸収ガラス（以下「Ｃｕ含有ガラス」ともいう。）を用いることができる。Ｃｕ含有ガラスを用いることで、可視光に対する高透過性を有するとともに、近赤外線に対しても高い遮蔽性を有する。なお、リン酸塩ガラスには、ガラス骨格の一部がＳｉＯ2で構成されるケイリン酸塩ガラスも含むものとする。Ｃｕ含有ガラスとしては、例えば、以下の組成のものが挙げられる。
　（ＧＬ１）Ｐ2Ｏ5　４６～７０％、ＡｌＦ3　０．２～２０％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ　０～２５％、ＭｇＦ2＋ＣａＦ＋ＳｒＦ2＋ＢａＦ2＋ＰｂＦ2　１～５０％、ただし、Ｆ　０．５～３２％、Ｏ　２６～５４％を含む基礎ガラス１００重量部に対し、外割でＣｕＯを０．５～７重量部含むガラス。
　（ＧＬ２）Ｐ2Ｏ5　２５～６０％、Ａｌ2ＯＦ3　１～１３％、ＭｇＯ　１～１０％、ＣａＯ　１～１６％、ＢａＯ　１～２６％、ＳｒＯ　０～１６％、ＺｎＯ　０～１６％、Ｌｉ2Ｏ　０～１３％、　Ｎａ2Ｏ　０～１０％、Ｋ2Ｏ　０～１１％、ＣｕＯ　１～７％、ΣＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）１５～４０％、ΣＲ‘2Ｏ（Ｒ’＝Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）３～１８％（ただし、３９％モル量までのＯ2-イオンがＦ-イオンで置換されている）からなるガラス。
　（ＧＬ３）Ｐ2Ｏ5　５～４５％、ＡｒＦ3　１～３５％、ＲＦ（ＲはＬｉ，Ｎａ，Ｋ）０～４０％、Ｒ‘Ｆ2（Ｒ’はＭｇ，Ｃａ，　Ｓｒ，　Ｂａ，　Ｐｂ，　Ｚｎ）１０～７５％、Ｒ“Ｆm（Ｒ”はＬａ，Ｙ，Ｃｄ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｔａ，ｍはＲ“の原子価に相当する数）０～１５％（ただしフッ化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）、およびＣｕＯ　０．２～１５％を含むガラス。
　（ＧＬ４）カチオン％表示で、Ｐ5+　１１～４３％、Ａｌ3+　１～２９％、Ｒカチオン（Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｐｂ，Ｚｎイオンの含量）１４～５０％、Ｒ‘カチオン（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋイオンの含量）０～４３％、Ｒ“カチオン（Ｌａ，Ｙ，Ｃｄ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｔａイオンの含量）０～８％、およびＣｕ2+　０．５～１３％を含み、さらにアニオン％でＦ-　１７～８０％を含有するガラス。
　（ＧＬ５）カチオン％表示で。Ｐ5+　２３～４１％、Ａｌ3+　４～１６％、Ｌｉ+　１１～４０％、Ｎａ+　３～１３％、Ｒ2+（Ｍｇ2+，Ｃａ2+，Ｓｒ2+,  Ｂａ2+，Ｚｎ2+の含量）１２～５３％、およびＣｕ2+　２．６～４．７％を含み、さらにアニオン％でＦ-　２５～４８％およびＯ2-　５２～７５％を含むガラス。
　（ＧＬ６）質量％表示で、Ｐ2Ｏ5　７０～８５％、Ａｌ2Ｏ3　８～１７％、Ｂ2Ｏ3　１～１０％、Ｌｉ2Ｏ　０～３％、　Ｎａ2Ｏ　０～５％、Ｋ2Ｏ　０～５％、ただし、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ　０．１～５％、ＳｉＯ2　０～３％からなる基礎ガラス１００重量部に対し、外割でＣｕＯを０．１～５重量部含むガラス。
　市販品では、例えば（ＧＬ１）としてＮＦ５０－Ｅ，ＮＦ５０－ＥＸ（旭硝子社製）、（ＧＬ２）としてＢＧ－６０，ＢＧ－６１（ＳＨＯＴＴ社製）、（ＧＬ３）としてＣＤ５０００（ＨＯＹＡ社製）等が挙げられる。
　また、上記Ｃｕ含有ガラスは、金属酸化物をさらに含有してもよい。金属酸化物として、例えばＦｅ2Ｏ3，ＭｏＯ3，ＷＯ3，ＣｅＯ2，Ｓｂ2Ｏ3，Ｖ2Ｏ5等の１種または２種以上を含有すると、Ｃｕ含有ガラスは紫外線吸収特性を有する。該金属名酸化物の含有量は、上記Ｃｕ含有ガラス１００重量部に対して、Ｆｅ2Ｏ3，ＭｏＯ3，ＷＯ3およびＣｅＯ2からなる群から選択される少なくとも１種を、Ｆｅ2Ｏ3 ０．６～５重量部、ＭｏＯ3　０．５～５重量部、ＷＯ3　１～６重量部、ＣｅＯ2２．５～６重量部、または、Ｆｅ2Ｏ3とＳｂ2Ｏ3の２種をＦｅ2Ｏ3 ０．６～５重量部＋Ｓｂ2Ｏ3０．１～５重量部、もしくは、Ｖ2Ｏ5とＣｅＯ2の２種をＶ2Ｏ5　０．０１～０．５重量部＋ＣｅＯ2１～６重量部とすることが好ましい。
　上記Ｃｕ含有ガラスの厚みとしては、０．０３～５ｍｍの範囲であることが好ましく、強度および軽量化、低背化の観点から０．０５～１ｍｍの範囲がより好ましい。
　＜ガラス基板＞
　吸収の無いガラス基板としては、主成分として、珪酸塩を含む基板であれば、特に限定されるものではなく、結晶構造を有する石英ガラス基板等が挙げられる。ほかに、ホウ珪酸ガラス基板、ソーダガラス基板および色ガラス基板等を用いることができるが、とりわけ、無アルカリガラス基板、低α線ガラス基板等のガラス基板は、センサー素子への影響が少ないため、好ましい。
　＜樹脂層（密着層）＞
　本発明において、近赤外線吸収層と近赤外線反射膜の間には樹脂層があってもよい。特に、前記基材としてガラス基材を使用し、ガラス基板上に近赤外線吸収層を積層する場合には、前記近赤外線吸収層とガラス基板は、互いに化学的な組成、および熱線膨張率が異なるため、近赤外線吸収層とガラス基板との間に密着層を設けて、それらの十分な密着性を確保することが好ましい。本発明に用いる密着層は近赤外線吸収層とガラス基板との間の密着性を確保できる材料からなれば、特に限定されないが、例えば、（ａ）（メタ）アクリロイル基含有化合物に由来する構造単位、（ｂ）カルボン酸基含有化合物に由来する構造単位、および（ｃ）エポキシ基含有化合物に由来する構造単位を有すると、近赤外線吸収層とガラス基板との密着性が高くなるため好ましい。
　≪（ａ）（メタ）アクリロイル基含有化合物に由来する構造単位≫
　構造単位（ａ）としては、（メタ）アクリロイル基含有化合物に由来する構造単位であれば特に限定されるものではない。（メタ）アクリロイル基含有化合物としては、例えば、単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルが、重合性が良好である点から好ましい。本発明において、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を意味する。
　上記単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタクリレート、（２－アクリロイルオキシエチル）（２－ヒドロキシプロピル）フタレート、（２－メタクリロイルオキシエチル）（２－ヒドロキシプロピル）フタレートおよびω―カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレートを挙げることができる。
　これらの市販品としては、商品名で、例えば、アロニックスＭ－１０１、同Ｍ－１１１、同Ｍ－１１４、同Ｍ－５３００（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＣ－１１０Ｓ、同　ＴＣ－１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）を挙げることができる。
　上記２官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、９，９－ビス[４－（２－アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレートおよび１，９－ノナンジオールジメタクリレートを挙げることができる。
　これらの市販品としては、商品名で、例えばアロニックスＭ－２１０、同Ｍ－２４０、同Ｍ－６２００（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ、同　ＨＸ－２２０、同　Ｒ－６０４（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）；ライトアクリレート１，９－ＮＤＡ（共栄社化学（株）製）；を挙げることができる。
　上記３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（２－アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、トリ（２－メタクリロイルオキシエチル）フォスフェートのほか、直鎖アルキレン基および脂環式構造を有し且つ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上の水酸基を有し且つ３個、４個または５個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物とを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート系化合物を挙げることができる。
　３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルの市販品としては、商品名で、例えばアロニックスＭ－３０９、同Ｍ－３１５、同Ｍ－４００、同Ｍ－４０５、同Ｍ－４５０、同Ｍ－７１００、同Ｍ－８０３０、同Ｍ－８０６０、同ＴＯ－１４５０（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＭＰＴＡ、同　ＤＰＨＡ、同　ＤＰＣＡ－２０、同　ＤＰＣＡ－３０、同　ＤＰＣＡ－６０、同　ＤＰＣＡ－１２０、同　ＤＰＥＡ－１２（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）；や、多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品として、ニューフロンティア　Ｒ－１１５０（第一工業製薬（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）を挙げることができる。
　上記硬化層には、これらの（メタ）アクリロイル基含有化合物を１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
　≪（ｂ）カルボン酸基含有化合物に由来する構造単位≫
　構造単位（ｂ）としては、カルボン酸基を含有する化合物に由来する構造単位であれば特に限定されるものではない。カルボン酸基含有化合物としては、例えばモノカルボン酸、ジカルボン酸、ジカルボン酸の無水物およびカルボン酸基を有する重合体を挙げることができる。
　モノカルボン酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２－アクリロイルオキシエチルコハク酸、２－メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２－アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸および２－メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸を挙げることができる。
　上記ジカルボン酸としては、例えばマレイン酸、フマル酸およびシトラコン酸を挙げることができる。
　上記ジカルボン酸の無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物等を挙げることができる。
　また、カルボン酸基を有する重合体としては、カルボン酸基を含有する化合物である、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸および無水マレイン酸等から選ばれる１種以上の重合性を有する化合物からなる重合体、または、これらの化合物と前記（メタ）アクリロイル基含有化合物との共重合体を好適に用いることができる。
　これらのうち、共重合反応性の点から、アクリル酸、メタクリル酸、２－アクリロイルオキシエチルコハク酸、２－メタクリロイルオキシエチルコハク酸または無水マレイン酸が好ましい。
　≪（ｃ）エポキシ基含有化合物に由来する構造単位≫
　構造単位（ｃ）としては、エポキシ基含有化合物に由来する構造単位であれば特に限定されるものではない。エポキシ基(オキシラニル基)含有化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステル、α－アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルおよび不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物等のオキシラニル基を有する不飽和化合物；オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル等のオキセタニル基を有する不飽和化合物を挙げることができる。
　（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとして、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２－メチルグリシジル、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７－エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルおよび（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルメチルを挙げることができ、α－アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとして、例えばα－エチルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチルアクリル酸グリシジル、α－エチルアクリル酸６，７－エポキシヘプチルおよびα－エチルアクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルを挙げることができ、不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物として、例えばｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテルおよびｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテルを挙げることができ、オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとして、例えば３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－３－エチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシメチル）－２－メチルオキセタン、３－（（メタ）アクリロイルオキシエチル）－３－エチルオキセタン、２－エチル－３－（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３－メチル－３－（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタンおよび３－エチル－３－（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタンを挙げることができる。
　これらのうち特に、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２－メチルグリシジル、メタクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシルメチル、３－メタクリロイルオキシメチル－３－エチルオキセタン、３－メチル－３－メタクリロイルオキシメチルオキセタンまたは３－エチル－３－メチルオキセタンが、重合性の点から好ましい。
　≪任意成分≫
　前記密着層には、本発明の効果を損なわない範囲において、酸発生剤、密着助剤、界面活性剤、重合開始剤等の任意成分を添加することができる。これらの添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるが、前記（メタ）アクリロイル基含有化合物、前記カルボン酸基含有化合物および前記エポキシ基含有化合物の合計１００重量部に対して、それぞれ通常０．０１～１５．０重量部、好ましくは０．０５～１０．０重量部であることが望ましい。
　≪重合開始剤≫
　前記重合開始剤は、紫外線や電子線等の光線に感応してモノマー成分の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。このような重合開始剤としては特に限定されるものではないが、Ｏ－アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物などを挙げることができる。これらの具体例としては、エタノン－１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、１－〔９－エチル－６－ベンゾイル－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－オクタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾエート、１－〔９－ｎ－ブチル－６－（２－エチルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾエート、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチル－４－テトラヒドロフラニルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、１，２－オクタンジオン－１－[４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）]、エタノン－１－〔９－エチル－６－（２－メチル－４－テトラヒドロピラニルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン－１－〔９－エチル－６－（２－メチル－５－テトラヒドロフラニルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン－１－〔９－エチル－６－｛２－メチル－４－（２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルフォリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、１－フェニル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ｉ－プロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどを挙げることができる。これらの重合開始剤は単独で、または２種以上を混合して使用することができる。
　密着層は、例えば、前記（メタ）アクリロイル基含有化合物、前記カルボン酸基含有化合物、前記エポキシ基含有化合物および必要により前記任意成分を含む組成物（Ｇ）を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法、該組成物（Ｇ）および溶剤を含む液状組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法、または、上述の液状組成物をキャスティング（キャスト成形）する方法により製造することができる。溶融成形する方法およびキャスト成形する方法としては、前記と同様の方法等が挙げられる。
　前記（メタ）アクリロイル基含有化合物の配合量は、組成物（Ｇ）１００重量部あたり、好ましくは３０～７０重量部、さらに好ましくは４０～６０重量部であり、前記カルボン酸基含有化合物の配合量は、組成物（Ｇ）１００重量部あたり、好ましくは５～３０重量部、さらに好ましくは１０～２５重量部であり、前記エポキシ基含有化合物の配合量は、組成物（Ｇ）１００重量部あたり、好ましくは１５～５０重量部、さらに好ましくは２０～４０重量部である。
　また、任意成分の配合量は、所望の特性に応じて適宜選択されるが、組成物（Ｇ）１００重量部あたり、好ましくは０．０１～１５．０重量部、さらに好ましくは０．０５～１０．０重量部である。
　密着層の厚みは、本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、好ましくは０．１～５．０μｍ、さらに好ましくは０．２～３．０μｍである。
　＜その他の機能膜＞
　本発明に係る第二の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、前記第一の光学フィルターと同様に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
　＜近赤外線吸収色素＞
　近赤外線吸収色素としては、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、オクタフィリン系化合物、ヘキサフィリン系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、イミニウム系化合物、アントラキノン系化合物等が挙げられる。これらの化合物から選ばれる１種以上の化合物を使用することができ、２種以上の化合物を混合して使用することもできる。これらの中では、透過率特性および熱安定性の観点から、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、またはシアニン系化合物が好適に使用される。また、前記近赤外線吸収色素は前記化合物（Ａ）であることが好ましい。
　［光学フィルターの用途］
　本発明の光学フィルターは、入射角度が大きい場合においても優れた可視透過率と近赤外線カット能を有する。したがって、照度センサーや色補正用センサーなどの各種環境光センサー用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話、ウェアラブルデバイス、自動車、テレビ、ゲーム機等に搭載される環境光センサー用として有用である。さらに、自動車や建物等の窓用ガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
　［環境光センサー］
　上述した本発明の光学フィルターと、光電変換素子を組み合わせて環境光センサーとして用いることができる。ここで、環境光センサーとは、照度センサーや色補正用センサーなど周囲の明るさや色調（夕方の時間帯で赤色が強いなど）を感知可能なセンサーであり、例えば、環境光センサーで感知した情報により機器に搭載されているディスプレイの照度や色合いを制御することが可能である。
　＜環境光センサー１＞
　図１は、本発明の一実施形態に係る環境光センサー１００ａを示す。環境光センサー１００ａは、光学フィルター１０４及び光電変換素子１０２を備える。光電変換素子１０２は、受光部に光が入射すると光起電力効果により電流や電圧を発生する。図１は、一例として、第１電極１０６、光電変換層１０８、第２電極１１４を有する光電変換素子１０２を示す。光電変換層１０８は光電効果を発現する半導体で形成される。例えば、光電変換層１０８は、シリコン半導体を用いて形成される。光学フィルター１０４は光電変換素子１０２の受光面側に設けられている。光電変換素子１０２の受光面には光学フィルター１０４を通過した光が照射される。
　光学フィルター１０４により、光電変換素子１０２の受光面に入射する光は可視光線帯域の光となり、近赤外線波長帯域（７００ｎｍ～１２００ｎｍ）の光は遮断される。環境光センサー１００ａは可視光線帯域の光に感応し、視感度に対応した外光強度を検知する。
　光学フィルター１０４は、近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０とを含む。光学フィルター１０４に入射した光は、近赤外線反射層１１８及び近赤外線吸収層１２０の作用を受け、近赤外線帯域の光強度が十分に低減される。光学フィルター１０４において、近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０とは、重ねて設けられる。別言すれば、近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０とは入射光の光軸上に直列に配置される。このような配置により、光学フィルター１０４に対して垂直方向から入射する光はもとより、斜め方向から入射した光に対しても、近赤外線帯域の光を遮断することが可能となる。すなわち、光学フィルター１０４に斜め方向から光が入射する場合でも、透過光のスペクトル変化が抑制される。
　環境光センサー１００ａは、光学フィルター１０４を備えることにより、広角で光を受光することができ、その場合でも視感度に合った外光強度を検知することが可能となる。
　なお、環境光センサー１００ａにおいて光学フィルター１０４と光電変換素子１０２との間には他の透光性の層が介在していてもよい。例えば、光学フィルター１０４と光電変換素子１０２との間に、封止材として透光性を有する樹脂層が設けられていてもよい。
　＜環境光センサー２＞
　図４は、照度センサー受光素子１０２ａおよび光学フィルター１０４を備えた環境光センサー１００ａの断面構造の一例を示す。環境光センサー１００ａは、照度センサー受光素子１０２ａで外光の強度を検知し、照度センサーとして機能する。照度センサー受光素子１０２ａの上面には、光学フィルター１０４が設けられる。光学フィルター１０４により、照度センサー受光素子１０２ａの受光面に入射する光から、近赤外線波長領域の光が遮断され、照度センサー受光素子の視感度特性に対応した外光強度を検知することができる。近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０からなる光学フィルター１０４を使用することにより、照度センサーの視感度特性に合わせた、入射角度による変化が小さい可視光線領域の光が照度センサー受光素子に入射するため、誤作動が少ない照度センサーを得ることができる。
　＜環境光センサー３＞
　図５（Ａ）及び（Ｂ）は、照度センサー受光素子１０２ａ、近接センサー受光素子１０２ｂ、発光ダイオード１３０および光学フィルター１０４を備えた環境光センサー１００ｂの一例を示す。なお、図５（Ａ）は環境光センサー１００ｂ平面図を示し、図５（Ｂ）はＩ－Ｊ線に沿った断面構造を示す。
　環境光センサー１００ｂは、照度センサー受光素子１０２ａで外光の強度を検知し、照度センサーとして機能する。発光ダイオード１３０は赤外光を出射し、その反射光を近接センサー受光素子１０２ｂが受光する。すなわち、発光ダイオード１３０と近接センサー受光素子１０２ｂは協働することにより近接センサーとして機能する。照度センサー受光素子１０２ａ及び近接センサー受光素子１０２ｂと、発光ダイオード１３０との間は、発光ダイオード１３０から出射される光が迷光として入射しないように遮光部材１３２で仕切られている。遮光部材１３２は、エポキシ系樹脂等の硬化性樹脂が用いられ、照度センサー受光素子１０２ａ、近接センサー受光素子１０２ｂ及び発光ダイオード１３０のそれぞれを囲むように成形され、上面部が光入射又は光出射可能なように開口している。
　照度センサー受光素子１０２ａの上面には、光学フィルター１０４が設けられる。光学フィルター１０４により、照度センサー受光素子１０２ａの受光面に入射する光から、近赤外線波長領域の光が遮断され、照度センサー受光素子の視感度特性に対応した外光強度を検知することができる。近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０からなる光学フィルター１０４を使用することにより、照度センサーの視感度特性に合わせた、入射角度による変化が小さい可視光線領域の光が照度センサー受光素子に入射するため、誤作動が少ない照度センサーを得ることができる。更に、照度センサー受光素子１０２ａに、発光ダイオード１３０から出射された光の反射光が戻ってきても、光学フィルター１０４により遮断され入射しないため、近接センサー用発光ダイオードからの反射光による照度センサーの誤作動を防止することができる。そのため、照度センサー受光素子１０２aは、外光のうち可視光線波長帯域の光に感応し、照度センサーとして機能する。
　一方、近接センサー受光素子１０２ｂの受光面上には近赤外線パスフィルター１３４が設けられている。近赤外線パスフィルター１３４は、近赤外線波長領域の光を透過するパスフィルターである。近赤外線パスフィルター１３４は、バインダー樹脂や重合性化合物等に可視光線波長領域の波長に吸収を有する色素（顔料や染料）を加えて形成される。近赤外線パスフィルター１３４は、概略７００ｎｍ未満、好ましくは７５０ｎｍ未満、より好ましくは８００ｎｍ未満の光を吸収（カット）し、波長７００ｎｍ以上、好ましくは７５０ｎｍ以上、より好ましくは８００ｎｍ以上の光を透過する分光透過特性を有している。
　近赤外線パスフィルター１３４は、上記したような所定波長未満（例えば、波長７５０ｎｍ未満）の光を遮断し、所定波長領域（例えば、７５０～９５０ｎｍ）の近赤外線を透過することで、近接センサー受光素子１０２ｂに近赤外線が入射されるようにすることができる。これにより、近接センサー受光素子１０２ｂは、可視光に起因するノイズ等の影響を受けずに、精度良く近赤外線を検出することができる。近赤外線パスフィルター１３４は、例えば、特開２０１４－１３０３３２号公報に記載の感光性組成物を用いて形成することができる。
　このような環境光センサー１００ｂは、電子機器に実装されて、照度センサーとしての機能により周囲光の明るさを検知し、近接センサーとしての機能により電子機器の本体に近接する物体を検知することが可能となる。環境光センサー１００ｂにおけるこれらの機能により、タッチパネル一体型表示画面を有する電子機器は、周囲環境の明るさに応じて画面の明るさを制御し、物体との距離に応じて表示画面の消灯及びタッチパネル機能の停止を行い、画面を消灯する動作を支援することが可能となる。
　なお、図４に示す環境光センサー１００ａにおいて、照度センサー受光素子に替えて、フォトダイオード上にＲＧＢカラーフィルターを設置したカラーセンサー受光素子を設けてもよい。それにより、周囲光の分光強度比（ＲＧＢ比）を検出して、画面の明るさや画質をきめ細かく制御することができる。カラーセンサーとしての機能により周囲光を複数の波長帯域の光に分光して検知することが可能となる。環境光センサー１００ａにおけるこれらの機能により、例えば植物工場における野菜や果実の成熟度のモニタリングを支援することが可能となる。
　図５に示す環境光センサー１００ｂにおいて、照度センサー受光素子１０２aの受光面上に設けられる光学フィルター１０４は、近赤外線反射層１１８と近赤外線吸収層１２０が組み合わされていることにより、斜め方向から入射する光に対しても有効に近赤外線を遮断することができる。それにより、入射角度によるセンサー感度の変化が少なく、誤作動が少ない近接センサー一体型照度センサーを実現することができる。
　［センサーモジュール］
　本発明の光学フィルター、他の光学フィルター、レンズ、および光電変換素子等を組み合わせてセンサーモジュールとすることができる。
　図１７および１８は、光センサーモジュールの略図を示す。図１７では、本発明の光学フィルター２０３を、光センサー２０７と光拡散フィルム２０２の中間に用いている。図１８では、本発明の光学フィルター２０３に加えて近赤外線吸収特性を有するＩＲカットフィルム２０４を、光センサー２０７と光学フィルター２０３の間に用いている。
　［電子機器］
　本発明の電子機器は上述した本発明の環境光センサーを含む。以下、図面を参照しながら、本発明の電子機器について説明する。
　図６（Ａ）～（Ｃ）は電子機器１３６の一例を示す。なお、図６（Ａ）は電子機器１３６の正面図、図６（Ｂ）は平面図、図６（Ｃ）は、図６（Ｂ）において点線で囲む領域Ｄの詳細を示す断面図である。電子機器１３６は、筐体１３８、表示パネル１４０、マイクロホン部１４２、スピーカ部１４４を含み、さらに環境光センサー１００（「環境光センサー１」として説明される環境光センサー１００ａ又は「環境光センサー２」として説明される環境光センサー１００ｂ）を含む。環境光センサー１００は、光学フィルター１０４及び光電変換素子１０２を含んで構成される。表示パネル１４０はタッチパネルが採用され、表示機能に加え入力機能を兼ね備えている。
　環境光センサー１００には、筐体１３８に設けられる光学窓１４５を通して光が入射する。環境光センサー１００は、電子機器１３６が置かれている周囲光の強度を検知する。また、環境光センサー１００が近接センサーの機能を有する場合は、周囲光の測光の他に電子機器１３６の表面パネルに近接する物体までの距離を測距する。電子機器１３６は環境光センサー１００により、表示パネル１４０の明るさを制御し、また、表示パネルのオンオフ、入力機能のオンオフを制御する。
　電子機器１３６は、外観のデザイン性が重視され、環境光センサー１００に外光を入射させるために開孔を設けるのではなく、筐体１３８の光学窓１４５を透過させて、環境光センサー１００に光が当たる構造が採用されるようになっている。光学窓１４５は、例えば、電子機器１３６の表面パネルとして用いられる部材そのもの、またはその一部であり透光性を有している。しかし、表面パネルは電子機器１３６の外観を構成する部材であるので、色彩が施されているのが通常である。この場合、光学窓１４５は、可視光線の透過光量が低下し、近赤外線の情報に埋もれてしまうという問題が生じる。しかしながら、本実施形態によれば、環境光センサー１００に光学フィルター１０４が設けられていることにより、近赤外線のノイズを除外して、可視光線を検知することができる。そのため、カラーセンサーとしての機能を有する環境光センサー１００ｂを用いる場合でも、色調のずれを抑制し、正確に周囲光を検知することができる。
　本実施形態によれば、環境光センサー１００において、光学フィルター１０４が光電変換素子１０２の受光面に近接して設けられていることにより、広角で入射する光に対しても正確に照度を測定することができる。
　以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、この実施例により何ら限定されるものではない。なお、「部」および「％ 」は、特に断りのない限り「重量部」および「重量％ 」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
　＜分子量＞
　樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）、（ｂ）または（ｃ）の方法にて測定を行った。
　（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ－ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ－ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
　（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
　（ｃ）ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ－メチル－２－ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン－フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。
　μ＝｛ｌｎ（ｔｓ／ｔ０）｝／Ｃ
　ｔ０：溶媒の流下時間
　ｔｓ：希薄高分子溶液の流下時間
　Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
　＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
　エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
　＜飽和吸水率＞
　ＡＳＴＭ　Ｄ５７０に準拠し、試験片を２３℃の水中に１週間浸漬させた後、試験片の重量変化より吸水率を測定した。
　＜分光透過率＞
　各種透過率および波長等は、日本分光株式会社製の分光光度計（Ｖ－７２００）を用いて測定した。
　ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図７（Ａ）のように光学フィルター２に対して垂直に透過した光１を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率では、図７（Ｂ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して３０°の角度で透過した光１’を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の透過率では、図７（Ｃ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して６０°の角度で透過した光１’’を分光光度計３で測定した。
　なお、この透過率は、前記（ＴB）、（ＴC）、（ＯＤB）、（ＯＤD）および（Ｘｂ）を測定する場合を除き、光が基板およびフィルターに対して垂直に入射する条件で、該分光光度計を使用して測定したものである。前記（ＴC）および（ＯＤB）を測定する場合には、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度で入射する条件で該分光光度計を使用して測定したものである。前記（ＴB）、（ＯＤD）および（Ｘｂ）を測定する場合には、光がフィルターの垂直方向に対して３０°の角度で入射する条件で該分光光度計を使用して測定したものである。
　＜照度センサー感度特性＞
　光学フィルターの光学特性（光学フィルターを透過する光の光学特性）と照度センサーおよび人間の視感度特性との比較を行い、図４と同様の構成の照度センサーを作成した場合の照度センサー感度特性の評価を行った。評価判断は下記の基準に基づいて行った。
　○：入射角度によらず照度センサーへの入射光を人間の視感度特性に近い光とすることができ、高いセンサー感度特性が得られる。
　×：入射角度により照度センサーへの入射光の光学特性が変化するため、人間の視感度特性と誤差を生じてしまい、センサー感度特性が低いものであった。
　××：入射角度により照度センサーへの入射光の光学特性が変化するため、人間の視感度特性と誤差を生じてしまい、センサー感度特性が低く、更に、得られた光学フィルターは８００～１０００ｎｍの透過率が高いため、光学フィルターによる近赤外線カットが不十分であり、入射光が人間の視感度特性と大幅にずれ、照度センサーの誤作動を招く。
　［合成例］
　下記実施例および比較例で用いた化合物（Ａ）は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０－２２８４４８号公報、特開平１－１４６８４６号公報、特開平１－２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３－１２４０５４号公報、「フタロシアニン　－化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７－１６９３１５号公報、特開２００９－１０８２６７号公報、特開２０１０－２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報などに記載されている方法を挙げることができる。
　＜樹脂合成例１＞
　下記式（２）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部と、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）３００部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 　このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。
　得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。樹脂Ａの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１６５℃であった。
　＜樹脂合成例２＞
　十分に乾燥し、窒素置換した１リットルのステンレス製オートクレーブに水分６ppmの脱水されたシクロヘキサン；４２０．４ｇ、ｐ－キシレン；１８０．２ｇ、５－トリメトキシシリル－ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン；４８．７５ミリモル（１０．４３ｇ）、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン；１，４２５ミリモル（１３４．１ｇ）を仕込み、ガス状のエチレンをオートクレーブ内圧が０．１ＭＰａになるように仕込んだ。
　オートクレーブを７５℃に加温して、触媒成分である２－エチルヘキサン酸パラジウム（Pd原子として）；０．００３ミリグラム原子とトリシクロヘキシルホスフィン；０．００１５ミリモルとをトルエン；１０ｍｌ中２５℃で１時間反応させた溶液全量、トリフェニルカルベニウムペンタフルオロフェニルボレート；０．００３１５ミリモル、の順に添加して重合を開始した。
　重合開始９０分後に５－トリメトキシトキシシリル－ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン；１１．２５ミリモル（２．４１ｇ）、その後３０分毎に７．５ミリモル（１．６１ｇ）、３．７５ミリモル（０．８０ｇ）、３．７５ミリモルと計４回添加した。
　重合反応を７５℃で４時間行った後、トリブチルアミン；１ｍｌを添加して重合を停止し、固形分１９．９重量％の付加重合体Ｂの溶液を得た。付加重合体Ｂの溶液の一部をイソプロパノールに入れ、凝固し、さらに乾燥することにより、付加重合体Ｂ（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た。
　この重合体Ｂの２７０ＭＨｚ－核磁気共鳴分析（1Ｈ－ＮＭＲ分析）の結果、重合体Ｂ中の５－トリメトキシシリル－ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン由来の構造単位の割合は４．８モル％で、分子量は数平均分子量（Ｍｎ）が７４，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８５，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）は３６０℃、飽和吸水率は０．３５％であった。
　＜樹脂合成例３＞
　温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、４，４'－ジアミノジフェニルエーテル １０．０重量部（０．０５モル）と、溶剤としてＮ－メチル－２－ピロリドン ８５重量部を仕込んで溶解させた後、１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物 １１．２重量部（０．０５モル）を室温にて固体のまま１時間かけて分割投入し、室温下２時間撹拌した。
　次に、共沸脱水溶剤としてキシレン ３０．０重量部を添加して１８０℃に昇温して３時間反応を行い、ディーンスタークでキシレンを還流させて、共沸してくる生成水を分離した。３時間後、水の留出が終わったことを確認し、１時間かけて１９０℃に昇温しながらキシレンを留去し２９．０重量部を回収した後、内温が６０℃になるまで空冷してポリイミドのＮ－メチル－２－ピロリドン溶液（以下、ポリイミド溶液Ｃという）１０５．４重量部を得た。
　＜樹脂合成例４＞
　３Ｌの４つ口フラスコに２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ｄ」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ｄは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。
　＜樹脂合成例５＞
　温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４－ビス（４－アミノ－α,α－ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇ（０．０８モル）および４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇ（０．０２モル）を入れて、γ―ブチロラクトン６８．６５ｇ及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却し、同温に保ちながら１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇ（０．１モル）およびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇ（０．００５モル）を一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、攪拌しながら冷却し、固形分濃度２０重量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎいれてポリイミドを沈殿させた。濾別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末（以下「樹脂Ｅ」ともいう。）を得た。得られた樹脂ＥのＩＲスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の１７０４ｃｍ-1、１７７０ｃｍ-1の吸収が見られた。樹脂Ｅはガラス転移温度（Ｔｇ）が３１０℃であり、対数粘度を測定したところ、０．８７であった。
　［実施例Ａ１］
　樹脂合成例１で得た樹脂Ａを１００重量部に、下記構造の化合物（ｘ）（吸収極大波長；７０４ｎｍ）を０．０５０重量部、下記構造の化合物（ｙ）（吸収極大波長；７３７ｎｍ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」（吸収極大波長；１０９５ｎｍ）を０．６重量部加え、さらにトルエンを加えて溶解し、固形分が３０％の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間、１００℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 　得られた基材の８５０～１０５０ｎｍにおける平均ＯＤ値（ＯＤC）は２．１であった。この結果を表１１に示す。
　続いて、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＩＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＩＶ）を形成し、厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。
　誘電体多層膜（ＩＩＩ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計層数２６層）。誘電体多層膜（ＩＶ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計層数２０層）。誘電体多層膜（ＩＩＩ）および（ＩＶ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
　誘電体多層膜（ＩＩＩ）および（ＩＶ）の設計は、以下のようにして行った。
　各層の厚さと層数については、可視域の反射防止効果と近赤外域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ｓ）等の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメータ（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１０の通りとした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
 　得られた光学フィルターの波長４３０～５８０ｎｍにおける透過率の平均値（ＴA）は６７％ 、８５０～１０５０ｎｍにおける平均ＯＤ値（ＯＤA）は４．７であった。また、波長４３０～５８０ｎｍにおいて、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の平均透過率（ＴB）は６６％、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均透過率（ＴC）は５１％であり、波長８５０～１０５０ｎｍにおいて、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値（ＯＤD）は４．９、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値（ＯＤB）は３．９であった。さらに、０°→３０°の場合のＲ透過率の比の変化率は１．０、０°→３０°の場合のＧ透過率の比の変化率は１．０、０°→３０°の場合のＢ透過率の比の変化率は１．０であり、０°→６０°の場合のＲ透過率の比の変化率は０．６、０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率は１．３、０°→６０°の場合のＢ透過率の比の変化率は１．０であった。これらの結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ２］
　光吸収剤として、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部、ＤＫＳＨ社製色素「Ｓ２０５８」（吸収極大波長；９８０ｎｍ）を０．３重量部に変更したこと以外は実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ３］
　樹脂Ａの代わりに樹脂合成例２で得た樹脂Ｂを用い、トルエンの代わりにシクロヘキサンを用いたこと以外は実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ４］
　ＪＳＲ株式会社製のノルボルネン系樹脂「アートンＧ」を１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が２０％の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　 ［実施例Ａ５］
　日本ゼオン株式会社製のノルボルネン系樹脂「ゼオノア１４００Ｒ」を１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部加え、さらにシクロヘキサンとキシレンの７：３混合溶液を加えて溶解し、固形分が２０％の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間、８０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で２４時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ６］
　三井化学株式会社製のノルボルネン系樹脂「ＡＰＥＬ＃６０１５」を１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部加え、さらにシクロヘキサンと塩化メチレンの９９：１混合溶液を加えて溶解し、固形分が２０％の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、４０℃で４時間、６０℃で４時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ７］
　帝人株式会社製のポリカーボネート樹脂「ピュアエース」を１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が２０％ 溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ８］
　住友ベークライト株式会社製のポリエーテルサルホン「ＦＳ－１３００」を１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部加え、さらにＮ-メチル－２－ピロリドンを加えて溶解し、固形分が２０％の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で４時間、８０℃で４時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ９］
　樹脂合成例３で得たポリイミド溶液Ｃを１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部加え、固形分が２０％の溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で４時間、８０℃で４時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１２０℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ１０］
　ＪＳＲ株式会社製のノルボルネン系樹脂「アートンＧ」１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．９重量部加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が２０％ 溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ１１］
　ＪＳＲ株式会社製のノルボルネン系樹脂「アートンＧ」１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０５０重量部、前記化合物（ｙ）を０．０５６重量部、ＤＫＳＨ社製色素「Ｓ２０５８」を０．３重量部、セシウム酸化タングステン（Ｃｓ0.33ＷＯ3）３．２重量部加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が２０％ 溶液を得た。次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ１２］
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａを１００部および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製支持体を得た。
　得られた透明樹脂製支持体の片面に、下記組成の樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製支持体上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製支持体のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、透明樹脂製支持体の両面に樹脂層を有する基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０７ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールアクリレートを６０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを５重量部、前記化合物（ｘ）を２．５重量部、前記化合物（ｙ）を２．８重量部、日本カーリット社製の吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を３０重量部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０％）。
　［実施例Ａ１３］
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａを１００部、前記化合物（ｘ）を２．５重量部、前記化合物（ｙ）を２．８重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を３０重量部加え、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ」（厚み２００ｕｍ）上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、さらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．２０２ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製層とガラス支持体を有する基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．２０７ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ１４］
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａを１００部、ＤＫＳＨ社製色素「Ｓ２０５８」を６．５重量部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした、松浪硝子工業（株）製青板ガラス基板「ＢＳ－６」（厚み２１０μｍ）上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、さらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．２１６ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製層とガラス支持体を有する基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．２２０ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ１５］
　ＪＳＲ株式会社製のノルボルネン系樹脂「アートンＧ」を１００重量部に、前記化合物（ｘ）を０．０７５重量部、前記化合物（ｙ）を０．０８５重量部、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．９重量部、下記構造の化合物（ｚ）を０．１０重量部加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が２０％の溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 　次いで、係る溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した樹脂をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの透明樹脂製基板を得た。得られた透明樹脂製基板の分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［実施例Ａ１６］
　基材として、松浪硝子工業（株）製青板ガラス基板「ＢＳ－６」（厚み２１０μｍ）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして厚さ０．２１４ｍｍの光学フィルターを得た。基材および得られた光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［比較例Ａ１］
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａを１００部および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基材を得た。得られた基材の分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　続いて、前記基材の一方の面に、蒸着温度１５０℃で近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚１２０～１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚７０～１２０ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数５２〕を形成し、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［比較例Ａ２］
　日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を０．６重量部から０．０５重量部に変更したこと以外は実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
　［比較例Ａ３］
　日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」を用いなかったこと以外は実施例Ａ１と同様にして、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。さらに、得られた基材を用いて、比較例Ａ１と同様にして、厚さ０．１０６ｍｍの光学フィルターを得た。得られた基材および光学フィルターの分光透過率を実施例Ａ１と同様に測定し、光学特性を評価した。結果を表１１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
 　［実施例Ｂ１］
　実施例Ｂ１では、透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａを１００部、化合物（Ａ）として下記式（ａ－１）で表わされる化合物（ａ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６９８ｎｍ）０．０３部および下記式（ａ－２）で表わされる化合物（ａ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３３ｎｍ）０．０３部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、波長６００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満の領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した最も低い透過率（Ｔａ）および波長６００ｎｍ以上の領域における基材の垂直方向から測定した透過率が５０％超から５０％以下となる最も短い波長（Ｘｃ）を求めた。結果を図８および表１３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 　続いて、得られた基材の片面に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。
　誘電体多層膜（Ｉ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計層数２６層）。誘電体多層膜（ＩＩ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計層数２０層）。誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）の設計は、以下のようにして行った。
　各層の厚さと層数については、可視域の反射防止効果と近赤外域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ａ）の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメータ（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１２の通りとした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
 　得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図９および表１３に示す。波長４３０～５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９０％、波長８００～１０００ｎｍにおける透過率の平均値は１％以下、絶対値｜Ｘａ－Ｘｂ｜は３ｎｍであった。また、一般的な照度センサーの分光感度特性を図１５に、人間の視感度特性を図１６に示す。図９および表１３からわかるように、得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が小さく、かつ、７００ｎｍ以上の近赤外光をカットすることができるため、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置することにより、入射角度によらず照度センサーへの入射光を人間の視感度特性に近い光とすることができ、高いセンサー感度特性が得られる。
　［実施例Ｂ２］
　実施例Ｂ２では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　実施例Ｂ１において、化合物（Ａ）として、下記式（ａ－３）で表わされる化合物（ａ－３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０３ｎｍ）０．０３部および下記式（ａ－４）で表わされる化合物（ａ－４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３６ｎｍ）０．０７部を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様の手順および条件で化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板からなる基材を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 　得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物（Ｇ－１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（Ｇ－１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（Ｇ－１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔａ）および（Ｘｃ）を求めた。結果を図１０および表１３に示す。
　樹脂組成物（Ｇ－１）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート　６０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　４０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０％）。
　続いて、実施例Ｂ１と同様に、得られた基材の片面にシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数２６）を形成し、さらに基材のもう一方の面にシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数２０）を形成し、厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、基材屈折率の波長依存性を考慮した上で、実施例Ｂ１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１１および表１３に示す。
　図１１および表１３からわかるように、得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が小さく、かつ、７００ｎｍ以上の近赤外光をカットすることができるため、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置することにより、入射角度によらず照度センサーへの入射光を人間の視感度特性に近い光とすることができ、高いセンサー感度特性が得られる。
　［実施例Ｂ３］
　実施例Ｂ３では、近赤外線吸収ガラス基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　基材として松浪硝子工業（株）製近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－６」（厚み２１０μｍ）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして、基材の片面にシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数２６）を形成し、さらに基材のもう一方の面にシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数２０）を形成し、厚さ約０．２１６ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、基材屈折率の波長依存性を考慮した上で、実施例Ｂ１と同じ設計パラメーターを用いて行った。この光学フィルターの分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１２および表１３に示す。
　図１２および表１３からわかるように、得られた光学フィルターは、実施例Ｂ１および実施例Ｂ２の光学フィルターに比べて６５０～７００ｎｍ領域の入射角依存性が劣るものの、入射角度による光学特性の変化が小さく、かつ、７００ｎｍ以上の近赤外光をカットすることができるため、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置することにより、入射角度によらず照度センサーへの入射光を人間の視感度特性に近い光とすることができ、高いセンサー感度特性が得られる。
　［実施例Ｂ４］
　実施例Ｂ４では、片面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした、日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ」（厚み２００μｍ）上に下記組成の樹脂組成物（Ｇ－２）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、スピンコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（Ｇ－２）を硬化させ、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔａ）および（Ｘｃ）を求めた。結果を表１３に示す。
　樹脂組成物（Ｇ－２）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート　２０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　８０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　４重量部、化合物（ａ－１）１．５重量部、化合物（ａ－２）１．５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５％）
　続いて、実施例Ｂ１と同様に、得られた基材の片面にシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数２６）を形成し、さらに基材のもう一方の面にシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数２０）を形成し、厚さ約０．１０８ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例Ｂ１と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例Ｂ１と同じ設計パラメーターを用いて行った。この光学フィルターの分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を表１３に示す。
　表１３からわかるように、得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が小さく、かつ、７００ｎｍ以上の近赤外光をカットすることができるため、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置することにより、入射角度によらず照度センサーへの入射光を人間の視感度特性に近い光とすることができ、高いセンサー感度特性が得られる。
　［実施例Ｂ５～Ｂ７］
　透明樹脂種、および化合物（Ａ）を表１３に示すように変更したこと以外は、実施例Ｂ２と同様にして、基材および光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表１３に示す。
　表１３からわかるように、実施例Ｂ５～Ｂ７で得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が小さく、かつ、７００ｎｍ以上の近赤外光をカットすることができるため、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置することにより、入射角度によらず照度センサーへの入射光を人間の視感度特性に近い光とすることができ、高いセンサー感度特性が得られる。
　［比較例Ｂ１］
　実施例Ｂ１において、化合物（Ａ）を用いなかったこと以外は実施例Ｂ１と同様にして基材および光学フィルターを作成した。得られた光学フィルターの光学特性を図１３および表１３に示す。
　図１３および表１３からわかるように、得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が大きく、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置した場合、入射角度により照度センサーへの入射光の光学特性が変化するため、人間の視感度特性と誤差を生じてしまい、センサー感度特性が低いものであった。
　［比較例Ｂ２］
　透明樹脂基材に替えて日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ」（厚み２００μｍ）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様に光学フィルターを作成した。得られた光学フィルターの光学特性を表１３に示す。
　得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が大きく、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置した場合、入射角度により照度センサーへの入射光の光学特性が変化するため、人間の視感度特性と誤差を生じてしまい、センサー感度特性が低いものであった。
　［比較例Ｂ３］
　実施例Ｂ１において、化合物（Ａ）を用いなかったことと、誘電体多層膜（Ｉ）の代わりに、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数６）、誘電体多層膜（ＩＩ）の代わりに、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜（合計層数６）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして基材および光学フィルターを作成した。得られた光学フィルターの光学特性を図１４および表１３に示す。
　図１４および表１３からわかるように、得られた光学フィルターは、入射角度による光学特性の変化が大きく、本光学フィルターを照度センサーの上部（入光側）に設置した場合、入射角度により照度センサーへの入射光の光学特性が変化するため、人間の視感度特性と誤差を生じてしまい、センサー感度特性が低い。また、得られた光学フィルターは８００～１０００ｎｍの透過率が高いため、光学フィルターによる近赤外線カットが不十分であり、本光学フィルターを照度センサーの上部に設置した場合、入射光が人間の視感度特性と大幅にずれるため、照度センサーの誤作動を招く。
　実施例および比較例で適用した基材の構成、各種化合物などは下記の通りである。
　＜基材の形態＞
　形態（１）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板
　形態（２）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する
　形態（３）：近赤外線吸収ガラス基板
　形態（４）：ガラス基板の片方の面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
　形態（５）：化合物（Ａ）を含まない透明樹脂製基板（比較例）
　形態（６）：ガラス基板（比較例）
　＜透明樹脂＞
　樹脂Ａ：環状オレフィン系樹脂（樹脂合成例１）
　樹脂Ｄ：芳香族ポリエーテル系樹脂（樹脂合成例４）
　樹脂Ｅ：ポリイミド系樹脂（樹脂合成例５）
　樹脂Ｆ：環状オレフィン系樹脂「ゼオノア　１４２０Ｒ」（日本ゼオン（株）製）
　＜ガラス基板＞
　ガラス基板（１）：　縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした、松浪硝子工業（株）製近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－６」（厚み２１０μｍ）
　ガラス基板（２）：　縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした、日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ」（厚み２００μｍ）
　＜近赤外線吸収色素＞
　≪化合物（Ａ）≫
　化合物（ａ－１）：上記化合物（ａ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６９８ｎｍ）
　化合物（ａ－２）：上記化合物（ａ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３３ｎｍ）
　化合物（ａ－３）：上記化合物（ａ－３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０３ｎｍ）
　化合物（ａ－４）：上記化合物（ａ－４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３６ｎｍ）
　＜溶媒＞
　溶媒（１）：塩化メチレン
　溶媒（２）：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
　溶媒（３）：シクロヘキサン／キシレン（重量比：７／３）
　表１３における、実施例および比較例の（透明）樹脂製基板乾燥条件は以下の通りである。なお、減圧乾燥前に、塗膜をガラス板から剥離した。
　＜フィルム乾燥条件＞
　条件（１）：２０℃／８ｈｒ→減圧下　１００℃／８ｈｒ
　条件（２）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下　１４０℃／８ｈｒ
　条件（３）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下　１００℃／２４ｈｒ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
１：光
２：光学フィルター
３：分光光度計
１００：環境光センサー
１０２：光電変換素子
１０４：光学フィルター
１０６：第１電極
１０８：光電変換層
１１０：ｐ型半導体領域
１１２：ｎ型半導体領域
１１４：第２電極
１１６：絶縁層
１１８：近赤外線反射層
１２０：近赤外線吸収層
１２２：樹脂層
１２４：ガラス基板
１２６：カラーフィルター
１２８：素子分離絶縁層
１３０：発光ダイオード
１３２：遮光部材
１３４：近赤外線パスフィルター
１３６：電子機器
１３８：筐体
１４０：表示パネル
１４２：マイクロホン部
１４４：スピーカ部
１４５：光学窓
２０１：センサーモジュール
２０２：光拡散フィルム
２０３：光学フィルター
２０４：ＩＲカットフィルム
２０５：遮光板
２０６：遮光スペーサー
２０７：光センサー

Claims (26)

  1. 　光吸収層を含む基材（ｉ）を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、
    　前記光吸収層が波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有し、
    　波長８５０～１０５０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であり、かつ、前記光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であることを特徴とする光学フィルター。
  2. 　波長４３０～５８０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が３０％以上８０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
  3. 　前記光吸収層が、波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルター。
  4. 　前記化合物（Ｓ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物、　リン酸銅錯体系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルター。
  5. 　波長８５０～１０５０ｎｍの領域において、前記基材（ｉ）の垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が１．０以上であることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  6. 　前記光吸収層が、波長６５０～７５０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）をさらに含むことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  7. 　前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項６に記載の光学フィルター。
  8. 　前記光吸収層が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含むことを特徴とする請求項１～７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  9. 　前記基材（ｉ）の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  10. 　環境光センサー用であることを特徴とする請求項１～９のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  11. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする環境光センサー。
  12. 　受光面に入射する光により光電流を生成し照度や色温度を測定する光電変換素子と、前記光電変換素子の前記受光面側に配置された、請求項１～９のいずれか１項に記載の光学フィルターとを有することを特徴とする環境光センサー。
  13. 　受光面に入射する光により光電流を生成し照度や色温度を測定する光電変換素子と、前記光電変換素子の前記受光面側に配置された光学フィルターとを有し、
    　前記光学フィルターは、近赤外線吸収層と、近赤外線反射層とを含むことを特徴とする環境光センサー。
  14. 　前記近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素を含む樹脂層であることを特徴とする請求項１３に記載の環境光センサー。
  15. 　前記樹脂層の樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする請求項１４に記載の環境光センサー。
  16. 　前記近赤外線吸収層は、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層又はリン酸塩系ガラス層であることを特徴とする請求項１３に記載の環境光センサー。
  17. 　前記光学フィルターはガラス基板を含み、前記近赤外線吸収層は前記ガラス基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする請求項１３～１５のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  18. 　前記光学フィルターは樹脂製基板を含み、前記近赤外線吸収層は前記樹脂基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする請求項１３～１５のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  19. 　前記近赤外線反射層が誘電体多層膜であることを特徴とする請求項１３～１８のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  20. 　前記光学フィルターは、透過率が下記条件（Ａ）～（Ｃ）を満たすことを特徴とする請求項１３～１９のいずれか１項に記載の環境光センサー：
    　（Ａ）波長４３０～５８０ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％以上である；
    　（Ｂ）波長８００～１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１５％以下である；
    　（Ｃ）波長５６０～８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値（Ｘｂ）の差の絶対値（｜Ｘａ－Ｘｂ｜）が２０ｎｍ未満である。
  21. 　前記光学フィルターは、光入射面側から、前記近赤外線反射層および前記近赤外線吸収層がこの順に配置された構造を含むことを特徴とする請求項１３～２０のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  22. 　前記近赤外線吸収層が波長７５０～１１５０ｎｍの領域に吸収極大を有し、
    　波長８５０～１０５０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であり、かつ、前記光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合の平均ＯＤ値が２．０以上であることを特徴とする請求項１３～２１のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  23. 　近赤外光を出射する発光素子と、近赤外光を検知する第２光電変換素子とを有する近接センサーをさらに含むことを特徴とする請求項１２～２２のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  24. 　さらに、光散乱フィルムを具備することを特徴とする請求項１１～２３のいずれか１項に記載の環境光センサー。
  25. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするセンサーモジュール。
  26. 　請求項１１～２４のいずれか１項に記載の環境光センサーを含むことを特徴とする電子機器。
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