WO2014002864A1 - 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 - Google Patents

固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 Download PDF

Info

Publication number
WO2014002864A1
WO2014002864A1 PCT/JP2013/066936 JP2013066936W WO2014002864A1 WO 2014002864 A1 WO2014002864 A1 WO 2014002864A1 JP 2013066936 W JP2013066936 W JP 2013066936W WO 2014002864 A1 WO2014002864 A1 WO 2014002864A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin
optical filter
compound
group
solid
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/066936
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
勝也 長屋
幸恵 田中
寛之 岸田
蘭 三星
Original Assignee
Jsr株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=49783022&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=WO2014002864(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Jsr株式会社 filed Critical Jsr株式会社
Priority to JP2014522576A priority Critical patent/JP6256335B2/ja
Priority to CN201380030325.8A priority patent/CN104364681B/zh
Priority to US14/410,466 priority patent/US9746595B2/en
Priority to KR1020147034808A priority patent/KR101983742B1/ko
Publication of WO2014002864A1 publication Critical patent/WO2014002864A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
    • G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/283—Interference filters designed for the ultraviolet
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462—Coatings
    • H01L27/14621—Colour filter arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50—Constructional details
    • H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers

Definitions

  • the present invention relates to an optical filter for a solid-state image sensor and its use. Specifically, the present invention relates to an optical filter for a solid-state imaging device having a transparent resin substrate containing a compound having an absorption maximum at a specific wavelength, and a solid-state imaging device and a camera module using the optical filter.
  • a solid-state image pickup device such as a video camera, a digital still camera, or a mobile phone with a camera function uses a CCD or CMOS image sensor, which is a solid-state image pickup device for a color image.
  • Silicon photodiodes that are sensitive to near infrared rays that cannot be sensed by the eyes are used.
  • it is necessary to perform visibility correction that makes natural colors as seen by the human eye, and an optical filter that selectively transmits or cuts light in a specific wavelength region is often used. .
  • optical filters manufactured by various methods are used as such optical filters.
  • an optical filter such as a near-infrared cut filter in which a transparent resin is used as a base material and a near-infrared absorbing dye is contained in the transparent resin is widely known (for example, see Patent Document 1).
  • the optical filter described in Patent Document 1 may not always have sufficient near infrared absorption ability.
  • the present applicant has proposed an optical filter containing a squarylium compound having a specific structure (see Patent Document 2).
  • an optical filter containing a squarylium compound having a specific structure
  • the incident angle dependency of the optical characteristics in the near-infrared wavelength region can be reduced, and the viewing angle can be improved as compared with the existing optical filter.
  • the incident angle dependency of the optical characteristics in the near-ultraviolet wavelength region such as a wavelength of 300 to 420 nm may not be sufficiently improved.
  • the near-ultraviolet light B reflected by the surface of the optical filter 6 and the surface of the lens 5 is incident on the optical filter 6 at an angle larger than 0 degrees, the reflected light can be cut sufficiently.
  • the image quality of the camera deteriorates, for example, an unclear image of purple or blue is generated.
  • the object of the present invention is to improve the drawbacks of conventional optical filters such as near-infrared cut filters, and to be a solid-state imaging device that is less dependent on the incident angle even in the near-ultraviolet wavelength region and has excellent visible light transmittance characteristics It is an object to provide an optical filter for use and an apparatus using the optical filter.
  • the present inventors diligently studied to solve the above problems. As a result, the present inventors have found that the above problems can be solved by an optical filter having a transparent resin substrate containing a compound having an absorption maximum at a wavelength of 300 to 420 nm and a compound having an absorption maximum at a wavelength of 600 to 800 nm, and completed the present invention. It came to do. Examples of embodiments of the present invention are shown below.
  • the content of the compound (X) is 0.006 to 3.0 parts by weight and the content of the compound (Y) with respect to 100 parts by weight of the transparent resin constituting the substrate.
  • Item 3 The optical filter for a solid-state imaging device according to Item [1] or [2], wherein the amount is 0.004 to 2.0 parts by weight.
  • the transparent resin constituting the substrate is a cyclic olefin resin, aromatic polyether resin, polyimide resin, fluorene polycarbonate resin, fluorene polyester resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyarylate resin. , Polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, allyl ester Item 6.
  • the optical filter for a solid-state imaging device according to any one of Items [1] to [3], which is at least one resin selected from the group consisting of a system curable resin and a silsesquioxane ultraviolet curable resin.
  • a solid-state imaging device comprising the optical filter for a solid-state imaging device according to any one of items [1] to [5].
  • a camera module comprising the optical filter for a solid-state imaging device according to any one of items [1] to [5].
  • an optical filter for a solid-state imaging device that is less dependent on an incident angle even in the near-ultraviolet wavelength region and has excellent visible light transmittance characteristics.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a case where light rays reflected from the surface of the optical filter 6 and the surface of the lens 5 are incident on the optical filter 6 at an incident angle larger than 0 degrees.
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional camera module.
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing an example of a camera module when the optical filter 6 ′ for a solid-state imaging device of the present invention is used.
  • FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a method of measuring the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter for a solid-state imaging device.
  • FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a method for measuring the transmittance when measured from an angle of 30 degrees with respect to the vertical direction of the optical filter for the solid-state imaging device.
  • FIG. 5 is an example of a transmission spectrum measured from a vertical direction and an angle of 30 degrees with respect to the vertical direction using a conventional optical filter for a solid-state imaging device.
  • optical filter for solid-state image sensor includes a compound (X) having an absorption maximum at a wavelength of 300 to 420 nm and a compound having an absorption maximum at a wavelength of 600 to 800 nm.
  • the compound (X) and the compound (Y) may be contained in the same layer or in different layers of the transparent resin substrate.
  • the compound (X) and the compound (Y) can be included in the same transparent resin substrate, and when included in separate layers, For example, the form by which the layer containing the said compound (X) is laminated
  • the compound (X) and the compound (Y) are more preferably contained in the same layer. In such a case, the compound (X) and the compound (Y) are contained in a case where they are contained in separate layers. ) Is more easily controlled.
  • the transparent resin substrate constituting the optical filter of the present invention contains a transparent resin, the compound (X) and the compound (Y), and selects near ultraviolet rays and near infrared rays. Can be cut efficiently.
  • the wavelength (H) and the maximum value (U) from the spectrum of the transmittance 10 measured from the vertical direction using a conventional optical filter for a solid-state imaging device, and from an angle of 30 degrees with respect to the vertical direction
  • FIG. 5 is an example of a spectrum of the measured transmittance 11.
  • the wavelength (H) at which the transmittance 10 measured from the vertical direction of the optical filter is 50% is 415 nm indicated by reference numeral 12, and before and after the wavelength (H).
  • the maximum absolute value (U) of the difference between the transmittance 10 and the transmittance 11 is 39% (transmittance 10: 5%, Transmittance 11: 44%, wavelength 403 nm).
  • the maximum value (U) is preferably less than 25%, more preferably less than 20%, and particularly preferably less than 15%.
  • the thickness of the resin substrate can be appropriately selected according to the desired application, and is not particularly limited. However, it is preferable to adjust the substrate so that the incident angle dependency is improved as described above, and more preferably. Is 30 to 250 ⁇ m, more preferably 40 to 200 ⁇ m, particularly preferably 50 to 150 ⁇ m.
  • the optical filter using the substrate can be reduced in size and weight, and can be suitably used for various applications such as a solid-state imaging device.
  • the resinous substrate is used for a lens unit such as a camera module, it is preferable because a low-profile lens unit can be realized.
  • the compound (X) having an absorption maximum at a wavelength of 300 to 420 nm used in the present invention is generally called a near-ultraviolet absorber, and may have two or more absorption maximums in the wavelength range.
  • Such compound (X) is not particularly limited, but is preferably at least one selected from the group consisting of azomethine compounds, indole compounds, benzotriazole compounds and triazine compounds.
  • (A) Azomethine Compound The azomethine compound is not particularly limited, and can be represented by, for example, the following formula (1).
  • R a1 to R a5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms, or 1 to 9 carbon atoms. Represents an alkoxycarbonyl group.
  • Indole compound The indole compound is not particularly limited, and can be represented by, for example, the following formula (2).
  • R b1 to R b5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, a phenyl group, an aralkyl group, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. Or an alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms.
  • (C) Benzotriazole-based compound The benzotriazole-based compound is not particularly limited, and can be represented by, for example, the following formula (3).
  • R c1 to R c3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an aralkyl group, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms, or a carbon as a substituent.
  • An alkyl group having 1 to 9 carbon atoms and having an alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms is represented.
  • Triazine-based compound is not particularly limited, and can be represented by, for example, the following formula (4), (5), or (6).
  • R d1 is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms, An aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkylaryl group having 7 to 18 carbon atoms, or an arylalkyl group is represented.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, aryl group, alkylaryl group and arylalkyl group may be substituted with a hydroxy group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group, It may be interrupted by an oxygen atom, sulfur atom, carbonyl group, ester group, amide group or imino group. Also, the replacement and interruption may be combined.
  • R d2 to R d9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms, carbon
  • An aryl group having 6 to 18 atoms, an alkylaryl group having 7 to 18 carbon atoms, or an arylalkyl group is represented.
  • a compound (Y) is not particularly limited, and examples thereof include squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, and cyanine compounds.
  • the squarylium-based compound preferably includes at least one selected from the group consisting of the squarylium-based compound represented by the formula (I) and the squarylium-based compound represented by the formula (II). Hereinafter, they are also referred to as “compound (I)” and “compound (II)”, respectively.
  • R a , R b and Y satisfy the following condition (i) or (ii).
  • a plurality of R a each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, an —L 1 or an —NR e R f group.
  • R e and R f each independently represents a hydrogen atom, -L a , -L b , -L c , -L d, or -L e .
  • a plurality of R b s each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, —L 1 or —NR g R h group.
  • R g and R h are each independently a hydrogen atom, -L a , -L b , -L c , -L d , -L e or -C (O) R i group (R i is -L a , Represents -L b , -L c , -L d or -L e ).
  • a plurality of Y each independently represents a —NR j R k group.
  • R j and R k each independently represents a hydrogen atom, -L a , -L b , -L c , -L d, or -L e .
  • L 1 is L a , L b , L c , L d , Le , L f , L g or L h .
  • L a to L h are (L a ) an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent L, (L b ) a halogen-substituted alkyl group having 1 to 9 carbon atoms that may have a substituent L; (L c ) an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms which may have a substituent L, (L d ) an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent L, (L e ) an optionally substituted heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms, (L f ) an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent L; (L g ) represents an acyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent L, or (L h ) represents an alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent L.
  • the substituent L is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms, or an aromatic carbon group having 6 to 14 carbon atoms. It is at least one selected from the group consisting of a hydrogen group and a heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms.
  • L a to L h further have at least one atom or group selected from the group consisting of a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, and an amino group. Also good.
  • the total number of carbon atoms including the substituents of L a to L h is preferably 50 or less, more preferably 40 or less, and particularly preferably 30 or less. When the number of carbon atoms is larger than this range, it may be difficult to synthesize the dye, and the absorption intensity per unit weight tends to decrease.
  • At least one of two R a on one benzene ring is bonded to Y on the same benzene ring to form a heterocycle having 5 or 6 member atoms containing at least one nitrogen atom;
  • the heterocyclic ring may have a substituent, and R b and R a that does not participate in the formation of the heterocyclic ring are each independently synonymous with R b and R a in the above (i).
  • X represents O, S, Se, N—R c or C—R d R d ;
  • a plurality of R c are each independently a hydrogen atom, —L a , —L b , — L c , -L d, or -L e ;
  • a plurality of R d s independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, -L 1 or —NR e R f group, and adjacent R d groups may be linked to form an optionally substituted ring;
  • L a to L e , L 1 , R e and R f are , Are the same as L a to L e , L 1 , R e and R f defined in the formula (I).
  • Compound (I) and Compound (II) are represented by the following formulas (I-2) and (II-2) in addition to the following formulas (I-1) and (II-1).
  • the structure can also be expressed by a description method that takes a resonance structure. That is, the difference between the following formula (I-1) and the following formula (I-2), and the difference between the following formula (II-1) and the following formula (II-2) is only the method of describing the structure. Both represent the same thing.
  • the structure of the squarylium compound is represented by a description method such as the following formula (I-1) and the following formula (II-1).
  • the structures of the compound (I) and the compound (II) are not particularly limited as long as they satisfy the requirements of the above formula (I) and the above formula (II).
  • the above formula (I-1) and the above formula (II-1) ) The right and left substituents bonded to the central four-membered ring may be the same or different, but it is preferable that they are the same because synthesis is easier.
  • the compound represented by the following formula (I-3) and the compound represented by the following formula (I-4) can be regarded as the same compound.
  • Phthalocyanine compound The structure of the phthalocyanine compound is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following formula (III).
  • M represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, or a substituted metal atom including a trivalent or tetravalent metal atom
  • a plurality of R a , R b , R c and R d may be represented by the following formulas (A) to R b in which at least one combination of R a and R b , R b and R c and R c and R d is bonded: It represents at least one group selected from the group consisting of groups represented by (H). However, at least one of R a , R b , R c and R d bonded to the same aromatic ring is not a hydrogen atom.
  • the amino group, amide group, imide group and silyl group may have the substituent L defined in the formula (I), L 1 has the same meaning as L 1 defined in Formula (I), L 2 represents one of L a ⁇ L e as defined in the hydrogen atom or the formula (I), the L 3 represents either a hydroxyl group or the L a ⁇ L e, L 4 represents represents any of the L a ⁇ L e.
  • the combination of R x and R y is a combination of R a and R b , R b and R c or R c and R d
  • the amino group, amide group, imide group and silyl group may have the substituent L, and L 1 to L 4 have the same meanings as L 1 to L 4 defined in the formula (III).
  • (C) Naphthalocyanine compound The structure of the naphthalocyanine compound is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following formula (IV).
  • Cyanine compound The structure of the cyanine compound is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following formulas (V-1) to (V-3).
  • X a - represents a monovalent anion
  • a plurality of D independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom
  • a 5- or 6-membered alicyclic hydrocarbon group which may contain at least one nitrogen atom, oxygen atom or sulfur atom, formed by bonding Z or Y selected from two adjacent to each other;
  • These alicyclic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heteroaromatic hydrocarbon group may have an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms or a halogen atom.
  • R x and R y are R b and R c , R d and R e , R e and R f , R f and R g , R g and R h and R It is a combination of h and R i
  • the amino group, amide group, imide group and silyl group may have the substituent L.
  • a dye (Z) having an absorption maximum at a wavelength of more than 800 nm and not more than 1300 nm can be used as another dye.
  • a dye (Z) is not particularly limited, and examples thereof include phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, croconium compounds, dithiol compounds, diimonium compounds, and porphyrins. System compounds and the like.
  • the dye (Z) is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but is preferably 0.01 to 10.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin constituting the resin substrate. It is. By using the dye (Z), it is possible to obtain an optical filter with better absorption characteristics in a long wavelength region after a wavelength of 800 nm, and it is possible to achieve good camera image quality.
  • the content of the compound (X) is preferably 0.006 to 3.0 parts by weight, more preferably 0.02 to 2 parts per 100 parts by weight of the resin constituting the resin substrate. 0.5 parts by weight, particularly preferably 0.05 to 2.0 parts by weight.
  • the content of the compound (Y) is preferably 0.004 to 2.0 parts by weight, more preferably 0.01 to 1.5 parts by weight, particularly 100 parts by weight of the resin constituting the resin substrate.
  • the amount is preferably 0.02 to 1.0 part by weight.
  • the transparent resin used for the resin substrate is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention. For example, thermal stability and film formability are ensured, and vapor deposition at 100 ° C. or higher.
  • the glass transition temperature (Tg) is preferably 110 to 380 ° C., more preferably 110 to 370 ° C., and still more preferably 120 to 360 ° C. in order to obtain a film capable of forming a dielectric multilayer film by high temperature vapor deposition performed at a temperature.
  • a certain transparent resin is mentioned.
  • the glass transition temperature of the transparent resin is 140 ° C. or higher because a film capable of depositing the dielectric multilayer film at a higher temperature can be obtained.
  • the total light transmittance (JIS K7105) at a thickness of 0.1 mm is preferably 75 to 95%, more preferably 78 to 95%, and particularly preferably 80 to 95%.
  • a certain resin can be used.
  • the total light transmittance is within such a range, the resulting substrate exhibits good transparency as an optical film.
  • the transparent resin examples include cyclic polyolefin resins, aromatic polyether resins, polyimide resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, polyamide (aramid) resins, polyarylate resins, Polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate (PEN) resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, Examples include allyl ester curable resins and silsesquioxane ultraviolet curable resins.
  • the cyclic olefin-based resin includes at least one unit selected from the group consisting of a monomer represented by the following formula (13) and a monomer represented by the following formula (14).
  • a resin obtained from a monomer or a resin obtained by hydrogenating the resin obtained above as required is preferred.
  • R x1 to R x4 each independently represents an atom or group selected from the following (i ′) to (ix ′), and k x , mx and p x are each independently 0 or Represents a positive integer.
  • R x1 and R x2 or R x3 and R x4 represent a monocyclic or polycyclic hydrocarbon ring or heterocyclic ring formed by bonding together with the carbon atoms to which they are bonded, R x1 to R x4 not involved in each independently represent an atom or group selected from the above (i ′) to (vi ′).
  • R x2 and R x3 represent a monocyclic hydrocarbon ring or heterocyclic ring formed by bonding together with bonded carbon atoms, and R x1 to R x4 not participating in the bond are And each independently represents an atom or group selected from the above (i ′) to (vi ′).
  • R y1 and R y2 each independently represent an atom or group selected from the above (i ′) to (vi ′), or the following (x ′), and ky and py are , Each independently represents 0 or a positive integer.
  • R y1 and R y2 each represent a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon, aromatic hydrocarbon or heterocyclic ring formed by bonding to each other.
  • Aromatic polyether-based resin is at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (15) and a structural unit represented by the following formula (16). It preferably has a structural unit.
  • R 1 to R 4 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and a to d each independently represent an integer of 0 to 4.
  • R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d the formula (15) in the same meaning as R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d of, Y is a single bond, -SO 2 -, or> C ⁇ O
  • R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group
  • g and h each independently represents an integer of 0 to 4
  • M represents 0 or 1.
  • R 7 is not a cyano group.
  • the aromatic polyether-based resin may further include at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (17) and a structural unit represented by the following formula (18). preferable.
  • R 5 and R 6 each independently represent a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —,> C ⁇ O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • e and f each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents 0 or 1.
  • R 7, R 8, Y, m, g and h, R 7 in the formula (16) in, R 8, Y, m has the same meaning as g and h, R 5, R 6 , Z, n, e and f have the same meanings as R 5 , R 6 , Z, n, e and f in the formula (17).
  • the polyimide resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound containing an imide bond in a repeating unit. For example, it is described in JP-A-2006-199945 and JP-A-2008-163107. It can be synthesized by the method that has been.
  • Fluorene polycarbonate-based resin is not particularly limited as long as it is a polycarbonate resin containing a fluorene moiety, and can be synthesized by, for example, a method described in JP-A-2008-163194. .
  • Fluorene polyester-based resin is not particularly limited as long as it is a polyester resin containing a fluorene moiety, and is described in, for example, JP 2010-285505 A or JP 2011-197450 A. Can be synthesized by any method.
  • the fluorinated aromatic polymer-based resin is not particularly limited, and includes at least one fluorine-containing aromatic ring, an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, and an imide bond. And a polymer containing a repeating unit containing at least one bond selected from the group consisting of ester bonds, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-181121.
  • (G) Commercial product The following commercial products etc. can be mentioned as a commercial product of transparent resin.
  • Examples of commercially available cyclic olefin-based resins include Arton manufactured by JSR Corporation, ZEONOR manufactured by Zeon Corporation, APEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., and TOPAS manufactured by Polyplastics Corporation.
  • Examples of commercially available polyethersulfone resins include Sumika Excel PES manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available polyimide resins include Neoprim L manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available polycarbonate resins include Pure Ace manufactured by Teijin Limited.
  • Examples of commercially available fluorene polycarbonate resins include Iupizeta EP-5000 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available fluorene polyester resins include OKP4HT manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.
  • acrylic resin there can be cited NIPPON CATALYST ACRYVIEWER Co., Ltd.
  • Examples of commercially available silsesquioxane-based ultraviolet curable resins include Silplus manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • the resin substrate may further contain additives such as an antioxidant and a metal complex compound as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • additives such as an antioxidant and a metal complex compound as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • substrate can be made easy by adding a leveling agent and an antifoamer.
  • antioxidants examples include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, and And tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane.
  • additives may be mixed with a resin or the like when a resin substrate is manufactured, or may be added when a resin is manufactured.
  • the addition amount is appropriately selected according to the desired properties, but is usually 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.05 to 2.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin. Part.
  • the resin substrate can be formed by, for example, melt molding or cast molding.
  • the resin substrate is a method of melt molding pellets obtained by melt-kneading resin, compound (X), compound (Y), etc .; resin, compound (X) and compound (Y) Or a method of melt-molding pellets obtained by removing a solvent from a resin composition containing a resin, a compound (X), a compound (Y) and a solvent, etc. Can be manufactured.
  • the melt molding method include injection molding, melt extrusion molding, and blow molding.
  • the solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that is generally used for organic synthesis and the like, for example, hydrocarbons such as hexane and cyclohexane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and octanol; acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ⁇ -butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate; ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether Ethers such as benzene; Toluene, xylene and other aromatic hydrocarbons; Halogens such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride
  • the resin substrate is a method of removing a solvent by casting a resin composition containing a resin, a compound (X), a compound (Y) and a solvent on an appropriate base material; A method of casting a resin composition comprising a coating agent such as a hard coat agent and / or an antistatic agent, compound (X), compound (Y) and a resin on an appropriate substrate; By a method in which a curable composition containing a hard coating agent and / or a coating agent such as an antistatic agent, compound (X), compound (Y) and resin is cast on an appropriate substrate and cured and dried. It can also be manufactured.
  • the solvent the same solvents as those exemplified in the above “(A) melt molding” can be used.
  • the substrate examples include a glass plate, a steel belt, a steel drum, and a transparent resin (for example, a polyester film and a cyclic olefin resin film).
  • a transparent resin for example, a polyester film and a cyclic olefin resin film.
  • the resin substrate can be obtained by peeling from the base material, and unless the effect of the present invention is impaired, the laminate of the base material and the coating film is not peeled from the base material. It is good.
  • the optical component such as glass plate, quartz or transparent plastic is coated with the resin composition and the solvent is dried, or the curable composition is coated and cured and dried.
  • a resin substrate can also be formed directly on the component.
  • the amount of residual solvent in the resin substrate obtained by the above method should be as small as possible, and is usually 3% by weight or less, preferably 1% by weight or less, based on 100 parts by weight of the resin in the resin substrate. Preferably it is 0.5 weight% or less.
  • the amount of residual solvent is in the above range, a resin substrate that can easily exhibit a desired function is obtained, in which deformation and characteristics hardly change.
  • the optical filter of the present invention has a near-infrared reflective film on at least one surface of the resin substrate.
  • the near-infrared reflective film that can be used in the present invention is a film having the ability to reflect near-infrared rays.
  • a near-infrared reflective film an aluminum vapor-deposited film, a noble metal thin film, a resin film in which metal oxide fine particles mainly containing indium oxide and containing a small amount of tin oxide are dispersed, or a high refractive index material layer and a low refractive index
  • a dielectric multilayer film in which an index material layer is alternately stacked When such a near-infrared reflective film is provided, near-infrared rays can be cut more effectively.
  • the near-infrared reflective film may be provided on one side or both sides of the resin substrate.
  • the resin substrate When it is provided on one side, it is excellent in production cost and manufacturability, and when it is provided on both sides, it is possible to obtain an optical filter having high strength and less warpage.
  • a dielectric multilayer film in which high refractive index material layers and low refractive index material layers are alternately laminated is more preferable.
  • a material having a refractive index of 1.7 or more can be used, and a material having a refractive index range of usually 1.7 to 2.5 is selected.
  • examples of such materials include titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, or indium oxide, and the like, and titanium oxide, tin oxide. And / or a material containing a small amount of cerium oxide or the like (for example, 0 to 10% based on the main component).
  • a material having a refractive index of 1.6 or less can be used, and a material having a refractive index range of usually 1.2 to 1.6 is selected.
  • examples of such materials include silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and sodium hexafluoride sodium.
  • the method for laminating the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is not particularly limited as long as a dielectric multilayer film in which these material layers are laminated is formed.
  • a high refractive index material layer and a low refractive index material layer are alternately laminated directly on the resin substrate by CVD, sputtering, vacuum deposition, ion-assisted deposition, or ion plating.
  • a dielectric multilayer film can be formed.
  • each of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is usually preferably from 0.1 ⁇ to 0.5 ⁇ when the near infrared wavelength to be blocked is ⁇ (nm).
  • ⁇ the near infrared wavelength to be blocked
  • the thickness of each of the layers becomes almost the same value, and the cutoff / transmission of a specific wavelength tends to be easily controlled from the relationship between the optical characteristics of reflection / refraction.
  • the total number of layers of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer in the dielectric multilayer film is desirably 5 to 60 layers, preferably 6 to 50 layers.
  • a method of forming the dielectric multilayer film on both surfaces of the substrate can be taken to eliminate this.
  • the optical filter of the present invention is within the range that does not impair the effects of the present invention, and between the resin substrate and the near-infrared reflective film such as a dielectric multilayer film, opposite to the surface of the resin substrate provided with the near-infrared reflective film.
  • the surface of the resin substrate or near-infrared reflective film on the side opposite to the surface on which the resin substrate of the near-infrared reflective film is provided is improved in surface hardness, chemical resistance, antistatic and scratch-removing.
  • a functional film such as an antireflection film, a hard coat film, and an antistatic film can be appropriately provided.
  • the optical filter of the present invention may include one layer made of the functional film or two or more layers.
  • the optical filter of the present invention may include two or more similar layers or two or more different layers.
  • the method of laminating the functional film is not particularly limited, but a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melt-molded on the resin substrate or near-infrared reflective film in the same manner as described above. Or the method of cast molding etc. can be mentioned.
  • a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melt-molded on the resin substrate or near-infrared reflective film in the same manner as described above. Or the method of cast molding etc. can be mentioned.
  • it can also be produced by applying a curable composition containing the coating agent or the like on a resin substrate or a near-infrared reflective film with a bar coater or the like and then curing it by ultraviolet irradiation or the like.
  • the coating agent examples include ultraviolet (UV) / electron beam (EB) curable resins and thermosetting resins. Specifically, vinyl compounds, urethanes, urethane acrylates, acrylates, epoxy And epoxy acrylate resins. Examples of the curable composition containing these coating agents include vinyl, urethane, urethane acrylate, acrylate, epoxy, and epoxy acrylate curable compositions.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • the curable composition may contain a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator a known photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator can be used, and a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator may be used in combination.
  • a polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the blending ratio of the polymerization initiator in the curable composition is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, when the total amount of the curable composition is 100% by weight. More preferably, it is 1 to 5% by weight.
  • a functional film such as an antireflective film, a hard coat film or an antistatic film having excellent curing characteristics and handleability of the curable composition and having a desired hardness. it can.
  • an organic solvent may be added to the curable composition as a solvent, and known organic solvents can be used.
  • the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ⁇ -butyrolactone, propylene Esters such as glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Dimethylformamide, dimethylacetamide, N- Examples include amides such as methylpyrrolidone. These solvents may be used alone or in combination
  • the thickness of the functional film is preferably 0.1 ⁇ m to 20 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m, and particularly preferably 0.7 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the surface of the resin substrate or the functional film is subjected to corona treatment or plasma.
  • Surface treatment such as treatment may be performed.
  • the optical filter of the present invention has excellent transmittance characteristics and is not restricted when used.
  • an optical filter for a solid-state imaging device that has a low incident angle dependency and has both high visible light transmittance and the effect of reducing purple and blue unclear images is obtained. be able to.
  • the optical filter of the present invention has a wide viewing angle, and has excellent near ultraviolet ray cutting ability and near infrared ray cutting ability. Therefore, it is useful for correcting the visibility of a solid-state image sensor such as a CCD or CMOS image sensor of a camera module.
  • a solid-state image sensor such as a CCD or CMOS image sensor of a camera module.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes the optical filter of the present invention.
  • the solid-state imaging device is an image sensor provided with a solid-state imaging device such as a CCD or a CMOS image sensor, and specifically used for applications such as a digital still camera, a mobile phone camera, and a digital video camera. it can.
  • the camera module of the present invention includes the optical filter of the present invention.
  • the case where the optical filter of this invention is used for a camera module is demonstrated concretely.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the camera module.
  • FIG. 2 (a) is a schematic cross-sectional view of the structure of a conventional camera module
  • FIG. 2 (b) shows the structure of a camera module that can be obtained when the optical filter 6 ′ of the present invention is used.
  • It is a section schematic diagram showing one.
  • the optical filter 6 ′ of the present invention is used in the upper part of the lens 5.
  • the optical filter 6 ′ of the present invention has the lens 5 and the image sensor as shown in FIG. 7 can also be used.
  • the optical filter 6 has to be disposed between the lens 5 and the image sensor 7.
  • the optical filter 6 used on the upper part of the image sensor 7 is free of dust and dust. It was not necessary and it was necessary not to contain foreign matters. In addition, it is necessary to provide a predetermined interval between the optical filter 6 and the image sensor 7, which is one factor that hinders the reduction in the height of the camera module.
  • the optical filter 6 ′ of the present invention the spectrum of the light transmitted in the case where the light enters from the vertical direction of the optical filter 6 ′ and the case where the light enters from 30 ° to the vertical direction of the optical filter 6 ′ Since there is no great difference (the incident angle dependency of the absorption (transmission) wavelength is small), the optical filter 6 ′ does not need to be disposed between the lens 5 and the image sensor 7, and may be disposed above the lens 5. it can.
  • the optical filter 6 ′ of the present invention when used in a camera module, the camera module is easy to handle, and there is no need to provide a predetermined interval between the optical filter 6 ′ and the sensor 7. Therefore, it is possible to reduce the height of the camera module.
  • part means “part by weight” unless otherwise specified.
  • measurement method of each physical property value and the evaluation method of the physical property are as follows.
  • the molecular weight of the resin was measured by the following method (a) or (b) in consideration of the solubility of each resin in a solvent.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Standard polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) were measured using a GPC apparatus (HLC-8220 type, column: TSKgel ⁇ -M, developing solvent: THF) manufactured by Tosoh Corporation.
  • Tg Glass transition temperature
  • DSC6200 differential scanning calorimeter
  • the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter was measured as light transmitted perpendicular to the optical filter 8 as shown in FIG. Further, the transmittance when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter was obtained by measuring light transmitted at an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter 8 as shown in FIG.
  • DCM dodec-3-ene
  • the obtained resin A had a number average molecular weight (Mn) of 32,000, a weight average molecular weight (Mw) of 137,000, and a glass transition temperature (Tg) of 165 ° C.
  • the resulting solution was reacted at 140 ° C. for 3 hours, and the generated water was removed from the Dean-Stark tube as needed. When no more water was observed, the temperature was gradually raised to 160 ° C. and reacted at that temperature for 6 hours.
  • the obtained resin B had a number average molecular weight (Mn) of 75,000, a weight average molecular weight (Mw) of 188,000, and a glass transition temperature (Tg) of 285 ° C.
  • polyimide solution C After adding 30.0 parts by weight of xylene as an azeotropic dehydration solvent and raising the temperature to 180 ° C., the reaction is carried out for 3 hours, and xylene is refluxed in a Dean-Stark tube to produce azeotropic product water. separated. After 3 hours, it was confirmed that the distillation of water had ended, and xylene was distilled off while raising the temperature to 190 ° C. over 1 hour to recover 29.0 parts by weight. Thereafter, the mixture was air-cooled to an internal temperature of 60 ° C. to obtain 105.4 parts by weight of a polyimide N-methyl-2-pyrrolidone solution (hereinafter referred to as “polyimide solution C”).
  • polyimide solution C a polyimide N-methyl-2-pyrrolidone solution
  • Example 1 In a container, 100 parts by weight of the resin A obtained in Resin Synthesis Example 1, 0.40 part by weight of a triazine compound (absorption maximum wavelength: about 355 to 365 nm) represented by the following formula (20), represented by the following formula (21) 0.05 part by weight of a cyanine compound (absorption maximum wavelength; about 680 to 690 nm) and methylene chloride were added to prepare a solution (ex1) having a resin concentration of 20% by weight.
  • a triazine compound asbsorption maximum wavelength: about 355 to 365 nm
  • a cyanine compound absorption maximum wavelength; about 680 to 690 nm
  • the obtained solution (ex1) was cast on a smooth glass plate, dried at 20 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate.
  • the peeled coating film was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a resin substrate (hereinafter also simply referred to as “substrate”) having a thickness of 0.1 mm, a length of 60 mm, and a width of 60 mm.
  • a multilayer deposited film reflecting a near infrared ray at a deposition temperature of 100 ° C. [silica (SiO 2 : film thickness 83 to 199 nm) layer and titania (TiO 2 : film thickness 101 to 125 nm)
  • a multilayer deposited film [silica (SiO 2 : film thickness 77) reflecting near infrared rays at a deposition temperature of 100 ° C. is formed on the other surface of the substrate.
  • To 189 nm) layers and titania (TiO 2 : film thickness 84 to 118 nm) layers are alternately laminated, and the number of laminations is 26] to obtain an optical filter having a thickness of 0.105 mm.
  • Example 2 A multilayer deposited film reflecting near infrared rays at a deposition temperature of 100 ° C. [silica (SiO 2 : thickness of 120 to 190 nm) on one side of a substrate having a thickness of 0.1 mm, a length of 60 mm and a width of 60 mm obtained in Example 1. ) Layer and titania (TiO 2 : film thickness: 70 to 120 nm) layers are alternately stacked, the number of layers is 40], and an optical filter having a thickness of 0.104 mm is manufactured and evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Resin A Resin A obtained in Resin Synthesis Example 1
  • Resin B Resin B obtained in Resin Synthesis Example 2
  • Resin C Polyimide solution C obtained in Resin Synthesis Example 3
  • Resin D Cycloolefin resin “ZEONOR 1420R” manufactured by ZEON CORPORATION
  • Resin E Cyclic olefin resin “APEL # 6015” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
  • Resin F Polycarbonate resin “Pure Ace” manufactured by Teijin Limited
  • Resin G Polyethersulfone resin “Sumilite FS-1300” manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.
  • Resin H Fluorene polyester resin “OKP4” manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.
  • Resin I Nippon Shokubai Co., Ltd. acrylic resin "Acryviewer”
  • Resin J Polycarbonate resin “Iupizeta EP-5000” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
  • Dye (23) Indole compound represented by the following formula (23) (absorption maximum wavelength; about 385 to 395 nm)
  • Dye (24) squarylium compound represented by the following formula (24) (absorption maximum wavelength; about 690 to 705 nm)
  • Dye (25) benzotriazole compound represented by the following formula (25) (absorption maximum wavelength; about 340 to 355 nm)
  • Dye (26) phthalocyanine compound represented by the following formula (26) (absorption maximum wavelength; about 695 to 710 nm)
  • Dye (27) Diimonium compound represented by the following formula (27) (absorption maximum wavelength; about 1040 to 1060 nm)
  • Dye (28) Cyanine-based visible light absorbing dye represented by the following formula (28) (absorption maximum wavelength; about 480 to 490 nm)
  • Condition (1) 20 ° C./8 hr ⁇ under reduced pressure 100 ° C./8 hr Condition (2): 60 ° C./4 hr ⁇ 80 ° C./4 hr ⁇ under reduced pressure 120 ° C./8 hr Condition (3): 60 ° C./8 hr ⁇ 80 ° C./8 hr ⁇ under reduced pressure 100 ° C./24 hr Condition (4): 40 ° C./4 hr ⁇ 60 ° C./4 hr ⁇ under reduced pressure 100 ° C./8 hr
  • the optical filter for a solid-state imaging device includes a digital still camera, a mobile phone camera, a digital video camera, a PC camera, a surveillance camera, an automobile camera, a TV, a car navigation system, a portable information terminal, a personal computer, a video game, and a portable game machine. , A fingerprint authentication system, a digital music player, and the like.
  • Optical filter 6 for solid-state image sensor
  • Optical filter 7 for solid-state image sensor of the present invention: (CCD or CMOS) image Sensor 8:
  • Optical filter 9 Spectrophotometer 10: Transmittance when measured from the vertical direction (0 degree) 11: Transmittance when measured from 30 degrees with respect to the vertical direction 12: Wavelength (H) 13: Wavelength region of 20 nm before and after wavelength (H) 14: Maximum value (U) A: Near ultraviolet light B: Reflected light from lens C: Light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

　本願発明は、従来の近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが有していた欠点を改良し、近紫外波長領域においても入射角度依存性が少なく、可視光透過率特性に優れた固体撮像素子用光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することを目的とする。本発明の固体撮像素子用光学フィルターは、波長３００～４２０ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｘ）および波長６００～８００ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｙ）を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有すること特徴とする。

Description

固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途
　本発明は、固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途に関する。詳しくは、特定の波長に吸収極大を有する化合物を含む透明樹脂製基板を有する固体撮像素子用光学フィルター、ならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュールに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置にはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されているが、これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過もしくはカットする光学フィルターを用いることが多い。
　このような光学フィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、基材として透明樹脂を用い、該透明樹脂中に近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが広く知られている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、特許文献１に記載された光学フィルターは、近赤外線吸収能が必ずしも十分ではない場合があった。
　また、本出願人は特定の構造を有するスクアリリウム系化合物を含有する光学フィルターを提案している（特許文献２参照）。このような光学フィルターを使用した場合、近赤外波長領域における光学特性の入射角度依存性を低減することができ、既存の光学フィルターと比較して視野角度を改善することが可能となる。
　しかしながら、近赤外波長領域に吸収を持つ化合物のみを使用した場合、波長３００～４２０ｎｍといった近紫外波長領域における光学特性の入射角度依存性を十分に改良することができない場合がある。例えば、図１に示すように、光学フィルター６の表面とレンズ５の表面で反射した近紫外光Ｂが０度より大きな角度で光学フィルター６へ入射した場合、反射光を十分にカットすることができず、紫色や青色の不鮮明な画像が発生するなどカメラ画質を低下させてしまうことがあった。
特開平６－２００１１３号公報 特開２０１２－８５３２号公報
　本発明の目的は、従来の近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが有していた欠点を改良し、近紫外波長領域においても入射角度依存性が少なく、可視光透過率特性に優れた固体撮像素子用光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することにある。
　本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、波長３００～４２０ｎｍに吸収極大を持つ化合物と波長６００～８００ｎｍに吸収極大を持つ化合物とを含有する透明樹脂製基板を有する光学フィルターによって、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。本願発明の態様の例を以下に示す。
　［１］　波長３００～４２０ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｘ）および波長６００～８００ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｙ）を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有すること特徴とする固体撮像素子用光学フィルター。
　［２］　前記化合物（Ｘ）が、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする項［１］に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
　［３］　前記基板を構成する透明樹脂の含有量１００重量部に対して、前記化合物（Ｘ）の含有量が０．００６～３．０重量部であり、且つ、前記化合物（Ｙ）の含有量が０．００４～２．０重量部であることを特徴とする項［１］または［２］に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
　［４］　前記基板を構成する透明樹脂が、環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂である項［１］～［３］のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
　［５］　固体撮像装置用であることを特徴とする項［１］～［４］のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
　［６］　項［１］～［５］のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
　［７］　項［１］～［５］のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
　本発明によれば、近紫外波長領域においても入射角度依存性が少なく、可視光透過率特性に優れる固体撮像素子用光学フィルターを提供することができる。
図１は、光学フィルター６の表面およびレンズ５の表面で反射した光線が０度より大きな入射角度で光学フィルター６に入射した場合を示す概略図である。 図２（ａ）は、従来のカメラモジュールの一例を示す断面概略図である。図２（ｂ）は、本発明の固体撮像素子用光学フィルター６'を用いた場合のカメラモジュールの一例を示す断面概略図である。 図３は、固体撮像素子用光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率を測定する方法を示す概略図である。 図４は、固体撮像素子用光学フィルターの垂直方向に対して３０度の角度から測定した場合の透過率を測定する方法を示す概念図である。 図５は、従来の固体撮像素子用光学フィルターを用いて、垂直方向、および、垂直方向に対して３０度の角度から測定した透過スペクトルの一例である。
　以下、本発明について具体的に説明する。
　［固体撮像素子用光学フィルター］
　本発明に係る固体撮像素子用光学フィルター（以下単に「本発明の光学フィルター」ともいう。）は、波長３００～４２０ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｘ）および波長６００～８００ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｙ）を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有する。前記化合物（Ｘ）と前記化合物（Ｙ）は、透明樹脂製基板のうち同一の層に含まれていても別々の層に含まれていてもよい。同一の層に含まれる場合は、例えば、前記化合物（Ｘ）と前記化合物（Ｙ）がともに同一の透明樹脂製基板中に含まれる形態を挙げることができ、別々の層に含まれる場合は、例えば、前記化合物（Ｙ）が含まれる透明樹脂製基板上に前記化合物（Ｘ）が含まれる層が積層されている形態を挙げることができる。前記化合物（Ｘ）と前記化合物（Ｙ）は、同一の層に含まれている方がより好ましく、このような場合、別々の層に含まれる場合よりも前記化合物（Ｘ）と前記化合物（Ｙ）の含有量を制御することがより容易となる。
　〔透明樹脂製基板〕
　本発明の光学フィルターを構成する透明樹脂製基板（以下「樹脂製基板」ともいう。）は、透明樹脂、前記化合物（Ｘ）および前記化合物（Ｙ）を含有し、近紫外線および近赤外線を選択的に効率よくカットすることができる。
　このような樹脂製基板を光学フィルターに用いることにより、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に３００～４５０ｎｍの波長領域で透過率が５０％となる最も長波長側の波長（Ｈ）の前後２０ｎｍの波長領域の各波長における透過率と、同じ波長領域において光学フィルターの垂直方向に対して３０度の角度から測定した場合の各波長における透過率との差の絶対値の最大値（以下「最大値（Ｕ）」という。）が小さくなり、入射角依存性が小さく、視野角の広い光学フィルターを得ることができる。
　ここで、波長（Ｈ）および最大値（Ｕ）について、従来の固体撮像素子用光学フィルターを用いて、垂直方向から測定した透過率１０のスペクトル、および、垂直方向に対して３０度の角度から測定した透過率１１のスペクトルの一例である図５を参照して説明する。図５の場合、３００～４５０ｎｍの波長領域で、光学フィルターの垂直方向から測定した透過率１０が５０％となる波長（Ｈ）は、符号１２で示した４１５ｎｍであり、波長（Ｈ）の前後２０ｎｍの波長領域（３９５～４３５ｎｍ）の各波長において、透過率１０と透過率１１との差の絶対値の最大値（Ｕ）は、符号１４で示される３９％（透過率１０：５％、透過率１１：４４％、波長４０３ｎｍ）である。
　前記最大値（Ｕ）は、好ましくは２５％未満、より好ましくは２０％未満、特に好ましくは１５％未満である。
　カメラモジュールなどの用途では、波長４００～７００ｎｍのいわゆる可視光領域において、前記化合物（Ｘ）および前記化合物（Ｙ）を含有した樹脂製基板の厚みを１００μｍとした時の該基板の平均透過率が５０％以上、好ましくは６５％以上であることが必須である。
　前記樹脂製基板の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、該基板が前記のような入射角依存改良性を有するように調整することが好ましく、より好ましくは３０～２５０μｍ、さらに好ましくは４０～２００μｍ、特に好ましくは５０～１５０μｍである。
　樹脂製基板の厚みが前記範囲にあると、該基板を用いた光学フィルターを小型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。特に、前記樹脂性基板をカメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。
　＜化合物（Ｘ）＞
　本発明で用いられる、波長３００～４２０ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｘ）は、一般的に近紫外線吸収剤と称され、前記波長範囲に２つ以上の吸収極大を持っていてもよい。このような化合物（Ｘ）としては、特に限定されるものではないが、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　（Ａ）アゾメチン系化合物
　前記アゾメチン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（１）で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 　式（１）中、Ｒa1～Ｒa5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、炭素数１～１５のアルキル基、炭素数１～９のアルコキシ基または炭素数１～９のアルコキシカルボニル基を表す。
　（Ｂ）インドール系化合物
　前記インドール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（２）で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　式（２）中、Ｒb1～Ｒb5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、シアノ基、フェニル基、アラルキル基、炭素数１～９のアルキル基、炭素数１～９のアルコキシ基または炭素数１～９のアルコキシカルボニル基を表す。
　（Ｃ）ベンゾトリアゾール系化合物
　前記ベンゾトリアゾール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（３）で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　式（３）中、Ｒc1～Ｒc3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アラルキル基、炭素数１～９のアルキル基、炭素数１～９のアルコキシ基、または置換基として炭素数１～９のアルコキシカルボニル基を有する炭素数１～９のアルキル基を表す。
　（Ｄ）トリアジン系化合物
　前記トリアジン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（４）、（５）または（６）で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式（４）～（６）中、Ｒd1は、独立に水素原子、炭素原子数１～１５のアルキル基、炭素原子数３～８ のシクロアルキル基、炭素原子数３～８のアルケニル基、炭素原子数６～１８のアリール基、炭素原子数７～１８のアルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。ただし、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１２のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されてもよい。また、前記置換及び中断は組み合わされてもよい。Ｒd2～Ｒd9は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１～１５のアルキル基、炭素原子数３～８ のシクロアルキル基、炭素原子数３～８のアルケニル基、炭素原子数６～１８のアリール基、炭素原子数７～１８のアルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。
　＜化合物（Ｙ）＞
　本発明で用いられる、波長６００～８００ｎｍ、好ましくは波長６２０～７８０ｎｍ、特に好ましくは波長６５０～７５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ化合物（Ｙ）は、一般的に近赤外線吸収色素と称され、前記波長範囲に２つ以上の吸収極大を持っていてもよい。このような化合物（Ｙ）としては、特に限定されるものではないが、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物などが挙げられる。化合物（Ｙ）を用いることで、近紫外波長領域に加え、近赤外波長領域においても光学フィルターの入射角依存性を改良することができ、視野角度の広い光学フィルターを得ることができる。
　（Ａ）スクアリリウム系化合物
　スクアリリウム系化合物としては、式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物および式（II）で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。以下、それぞれ「化合物（Ｉ）」および「化合物（II）」ともいう。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 　式（Ｉ）中、Ｒa、ＲbおよびＹは、下記（ｉ）または（ii）の条件を満たす。
　条件（ｉ）
　複数あるＲaは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲeＲf基を表す。ＲeおよびＲfは、それぞれ独立に水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表す。
　複数あるＲbは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲgＲh基を表す。ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌd、－Ｌeまたは－Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表す。）を表す。
　複数あるＹは、それぞれ独立に－ＮＲjＲk基を表す。ＲjおよびＲkは、それぞれ独立に水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表す。
　Ｌ1は、Ｌa、Ｌb、Ｌc、Ｌd、Ｌe、Ｌf、ＬgまたはＬhである。
　前記Ｌa～Ｌhは、
（Ｌa）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９の脂肪族炭化水素基、
（Ｌb）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のハロゲン置換アルキル基、
（Ｌc）置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、
（Ｌd）置換基Ｌを有してもよい炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、
（Ｌe）置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の複素環基、
（Ｌf）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシ基、
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアシル基、または
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシカルボニル基
を表す。
　置換基Ｌは、炭素数１～９の脂肪族炭化水素基、炭素数１～９のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基および炭素数３～１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
　前記Ｌa～Ｌhは、さらにハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を有していてもよい。
　前記Ｌa～Ｌhは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ５０以下であることが好ましく、炭素数４０以下であることが更に好ましく、炭素数３０以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、色素の合成が困難となる場合があるとともに、単位重量あたりの吸収強度が小さくなってしまう傾向がある。
　条件（ii）
　１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環を形成し、前記複素環は置換基を有していてもよく、Ｒbおよび前記複素環の形成に関与しないＲaは、それぞれ独立に前記（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式（II）中、Ｘは、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－ＲcまたはＣ－ＲdＲdを表し；複数あるＲcは、それぞれ独立に水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表し；複数あるＲdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲeＲf基を表し、隣り合うＲd同士は連結して置換基を有していてもよい環を形成してもよく；Ｌa～Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfは、前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfと同義である。
　化合物（Ｉ）および化合物（II）は、下記式（Ｉ－１）および下記式（II－１）のような記載方法に加え、下記式（Ｉ－２）および下記式（II－２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｉ－１）と下記式（Ｉ－２）の違い、および下記式（II－１）と下記式（II－２）の違いは構造の記載方法のみであり、化合物としてはどちらも同一のものを表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（Ｉ－１）および下記式（II－１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　化合物（Ｉ）および化合物（II）は、それぞれ上記式（Ｉ）および上記式（II）の要件を満たせば特に構造は限定されないが、例えば上記式（Ｉ－１）および上記式（II－１）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。なお、例えば、下記式（Ｉ－３）で表される化合物と下記式（Ｉ－４）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　（Ｂ）フタロシアニン系化合物
　前記フタロシアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式（ＩＩＩ）中、Ｍは、２個の水素原子、２個の１価の金属原子、２価の金属原子、または３価もしくは４価の金属原子を含む置換金属原子を表し、
　複数あるＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4を表す。または、複数あるＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdは、ＲaとＲb、ＲbとＲcおよびＲcとＲdのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。ただし、同じ芳香環に結合したＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdのうち少なくとも１つが水素原子ではない。
　前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
　Ｌ1は前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
　Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ3は、水酸基または前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ4は、前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　式（Ａ）～（Ｈ）中、ＲxとＲyの組み合わせは、ＲaとＲb、ＲbとＲcまたはＲcとＲdの組み合わせであり、
　複数あるＲA～ＲLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4を表し、
　前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Ｌを有してもよく、Ｌ1～Ｌ4は前記式（ＩＩＩ）において定義したＬ1～Ｌ4と同義である。
　（Ｃ）ナフタロシアニン系化合物
　前記ナフタロシアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　式（ＩＶ）中、Ｍは、前記式（７）中のＭと同義であり、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒd、ＲeおよびＲfは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4を表す。
　（Ｄ）シアニン系化合物
　前記シアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式（Ｖ－１）～（Ｖ－３) で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 　式（Ｖ－１）～（Ｖ－３）中、Ｘa -は１価の陰イオンを表し、
　複数あるＤは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
　複数あるＲa、Ｒb、Ｒc、Ｒd、Ｒe、Ｒf、Ｒg、ＲhおよびＲiは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、または、ＲbとＲc、ＲdとＲe、ＲeとＲf、ＲfとＲg、ＲgとＲhおよびＲhとＲiのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、
　前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
　Ｌ1は、前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
　Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ3は、水素原子または前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ4は、前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｚa～ＺdおよびＹa～Ｙdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4（Ｌ1～Ｌ4は、前記Ｒa～ＲiにおけるＬ1～Ｌ4と同義である。）、あるいは、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数１～９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 　式（Ａ）～（Ｈ）中、ＲxとＲyの組み合わせは、ＲbとＲc、ＲdとＲe、ＲeとＲf、ＲfとＲg、ＲgとＲhおよびＲhとＲiの組み合わせであり、
　複数あるＲA～ＲLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3または－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4（Ｌ1～Ｌ4は、前記式（Ｖ－１）～（Ｖ－３）において定義したＬ1～Ｌ4と同義である。）を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Ｌを有してもよい。
　＜その他の色素＞
　本発明では、前記化合物（Ｘ）および前記化合物（Ｙ）に加え、その他の色素として波長８００ｎｍ超１３００ｎｍ以下に吸収極大を持つ色素（Ｚ）を用いることができる。このような色素（Ｚ）としては、特に限定されるものではないが、例えばフタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物およびポルフィリン系化合物などが挙げられる。これらの色素は、例えば、特開２００６－２８４７５６号公報、特開２００８－３０３１３０号公報、特許第４９１９６２９号公報、特許第４０８３７３０号公報に例示されているものを使用することができる。色素（Ｚ）の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されないが、樹脂製基板を構成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１～１０．０重量部である。色素（Ｚ）を用いることで、波長８００ｎｍ以降の長波長域における吸収特性がさらに良好な光学フィルターを得ることができ、良好なカメラ画質を達成することができる。
　＜化合物（Ｘ）と化合物（Ｙ）の含有量＞
　前記樹脂製基板において、前記化合物（Ｘ）の含有量は、樹脂製基板を構成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００６～３．０重量部、より好ましくは０．０２～２．５重量部、特に好ましくは０．０５～２．０重量部である。前記化合物（Ｙ）の含有量は、樹脂製基板を構成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００４～２．０重量部、より好ましくは０．０１～１．５重量部、特に好ましくは０．０２～１．０重量部である。前記化合物（Ｘ）と前記化合物（Ｙ）の含有量が前記範囲内にあると、それぞれの吸収波長域において良好な吸収特性と高い可視光透過率とを両立させることができる。
　＜樹脂＞
　前記樹脂製基板に用いられる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、さらに好ましくは１２０～３６０℃である透明樹脂が挙げられる。また、透明樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため、特に好ましい。
　前記透明樹脂としては、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ７１０５）が、好ましくは７５～９５％であり、さらに好ましくは７８～９５％であり、特に好ましくは８０～９５％である樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲であれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
　前記透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂を挙げることができる。
　（Ａ）環状オレフィン系樹脂
　前記環状オレフィン系樹脂としては、下記式（１３）で表される単量体および下記式（１４）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１つの単量体から得られる樹脂、または必要に応じてさらに前記で得られた樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 　式（１３）中、Ｒx1～Ｒx4は、それぞれ独立に下記（ｉ'）～（ｉｘ'）より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxは、それぞれ独立に０または正の整数を表す。
（ｉ'）水素原子
（ｉｉ'）ハロゲン原子
（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基
（ｉｖ'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（ｖ'）置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（ｖｉ'）極性基（但し（ｉｖ'）を除く）
（ｖｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。
（ｖｉｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、結合している炭素原子とともに相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。
（ｉｘ’）Ｒx2とＲx3とが、結合している炭素原子とともに相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 　式（１４）中、Ｒy1およびＲy2は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表すか、下記（ｘ'）を表し、ｋyおよびｐyは、それぞれ独立に０または正の整数を表す。
（ｘ'）Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す。
　（Ｂ）芳香族ポリエーテル系樹脂
　前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１５）で表される構造単位および下記式（１６）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　式（１５）中、Ｒ1～Ｒ4は、それぞれ独立に炭素数１～１２の１価の有機基を示し、ａ～ｄは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式（１６）中、Ｒ1～Ｒ4およびａ～ｄは、前記式（１５）中のＲ1～Ｒ4およびａ～ｄと同義であり、Ｙは単結合、－ＳＯ2－または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１～１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈは、それぞれ独立に０～４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ7はシアノ基ではない。
　また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（１７）で表される構造単位および下記式（１８）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　式（１７）中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に炭素数１～１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ2－、＞Ｃ＝Ｏ、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－または炭素数１～１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆは、それぞれ独立に０～４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　式（１８）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、前記式（１６）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、前記式（１７）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。
　（Ｃ）ポリイミド系樹脂
　ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば特開２００６－１９９９４５号公報や特開２００８－１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
　（Ｄ）フルオレンポリカーボネート系樹脂
　フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば特開２００８－１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。
　（Ｅ）フルオレンポリエステル系樹脂
　フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば特開２０１０－２８５５０５号公報や特開２０１１－１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
　（Ｆ）フッ素化芳香族ポリマー系樹脂
　フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、少なくとも１つのフッ素を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであればよく、例えば特開２００８－１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
　（Ｇ）市販品
　透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス株式会社製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学株式会社製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人株式会社製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ユピゼータＥＰ－５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル株式会社製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、株式会社日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂の市販品としては、新日鐵化学株式会社製シルプラスなどを挙げることができる。
　＜その他成分＞
　前記樹脂製基板は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。また、後述するキャスト成形により樹脂製基板を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基板の製造を容易にすることができる。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記酸化防止剤としては、例えば２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，２'－ジオキシ－３，３'－ジ－ｔ－ブチル－５，５'－ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス［メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが挙げられる。
　なお、これら添加剤は、樹脂製基板を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を製造する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００重量部に対して、通常０．０１～５．０重量部、好ましくは０．０５～２．０重量部である。
　＜樹脂製基板の製造方法＞
　前記樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができる。
　（Ａ）溶融成形
　前記樹脂製基板は、樹脂、化合物（Ｘ）および化合物（Ｙ）等を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂、化合物（Ｘ）および化合物（Ｙ）等を含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、樹脂、化合物（Ｘ）、化合物（Ｙ）および溶媒等を含む樹脂組成物から溶媒を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
　前記溶媒としては、有機合成などに一般的に用いられる溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これらの溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　（Ｂ）キャスト成形
　前記樹脂製基板は、樹脂、化合物（Ｘ）、化合物（Ｙ）および溶媒等を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングして溶媒を除去する方法；反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤、化合物（Ｘ）、化合物（Ｙ）ならびに樹脂等を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングする方法；または、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤、化合物（Ｘ）、化合物（Ｙ）ならびに樹脂等を含む硬化性組成物を適当な基材の上にキャスティングして硬化および乾燥させる方法などにより製造することもできる。前記溶媒としては、前記「（Ａ）溶融成形」で例示した溶媒と同様のものを用いることができる。
　前記基材としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂（例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム）が挙げられる。
　前記樹脂製基板は、基材から剥離することにより得ることができ、また、本発明の効果を損なわない限り、基材から剥離せずに基材と塗膜との積層体を前記樹脂製基板としてもよい。
　さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶媒を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に直接樹脂製基板を形成することもできる。
　前記方法で得られた樹脂製基板中の残留溶媒量は可能な限り少ない方がよく、樹脂製基板中の樹脂１００重量部に対して、通常３重量％以下、好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量％以下である。残留溶媒量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる樹脂製基板が得られる。
　〔近赤外線反射膜〕
　本発明の光学フィルターは、前記樹脂製基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜を有する。
　本発明に用いることができる近赤外線反射膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。このような近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化錫を少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、または高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜などが挙げられる。このような近赤外線反射膜を有すると、近赤外線をさらに効果的にカットすることができる。
　本発明では、近赤外線反射膜は樹脂製基板の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、ソリの生じにくい光学フィルターを得ることができる。
　前記近赤外線反射膜の中では、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜がより好ましい。
　高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常１．７～２．５である材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、または、酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量（例えば、主成分に対し０～１０％）含有させたものなどが挙げられる。
　低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常１．２～１．６である材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムなどが挙げられる。
　高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、前記樹脂製基板上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
　これら高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ～０．５λの厚みが好ましい。厚みがこの範囲あると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
　また、誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、５～６０層、好ましくは６～５０層であることが望ましい。
　さらに、誘電体多層膜を形成した際に基板にソリが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面に誘電体多層膜を形成する方法等をとることができる。
　〔その他の機能膜〕
　本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、樹脂製基板と誘電体多層膜等の近赤外線反射膜との間、樹脂製基板の近赤外線反射膜が設けられた面と反対側の面、または近赤外線反射膜の樹脂製基板が設けられた面と反対側の面に、樹脂製基板や近赤外線反射膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜および帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
　本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
　機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを樹脂製基板または近赤外線反射膜上に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
　また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で樹脂製基板または近赤外線反射膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
　前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
　また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００重量％とした場合、好ましくは０．１～１０重量％、より好ましくは０．５～１０重量％、さらに好ましくは１～５重量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
　さらに、前記硬化性組成物には溶媒として有機溶媒を加えてもよく、有機溶媒としては、公知のものを使用することができる。有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これらの溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１μｍ～２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ～１０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ～５μｍである。
　また、樹脂製基板と機能膜および／または近赤外線反射膜との密着性や、機能膜と近赤外線反射膜との密着性を上げる目的で、樹脂製基板や機能膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
　〔固体撮像素子用光学フィルターの特性等〕
　本発明の光学フィルターは、透過率特性に優れ、使用する際に制約を受けない。上述した化合物（Ｘ）と化合物（Ｙ）を使用することで、入射角依存性が少なく、高い可視光透過率と紫色や青色の不鮮明な画像の低減効果を併せ持つ固体撮像素子用光学フィルターを得ることができる。
　〔固体撮像素子用光学フィルターの用途〕
　本発明の光学フィルターは、視野角が広く、優れた近紫外線カット能および近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。
　＜固体撮像装置＞
　本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーなどといった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラなどの用途に用いることができる。
　＜カメラモジュール＞
　本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、本発明の光学フィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。図２に、カメラモジュールの断面概略図を示す。
　図２(a)は、従来のカメラモジュールの構造の断面概略図であり、図２(b)は、本発明の光学フィルター６'を用いた場合の、とり得ることができるカメラモジュールの構造の一つを表す断面概略図である。なお、図２(b)では、本発明の光学フィルター６'をレンズ５の上部に用いているが、本発明の光学フィルター６'は、図２(a)に示すようにレンズ５とイメージセンサー７の間に用いることもできる。
　従来のカメラモジュールでは、光学フィルター６に対してほぼ垂直に光が入射する必要があった。そのため、光学フィルター６は、レンズ５とイメージセンサー７の間に配置する必要があった。
　ここで、イメージセンサー７は、高感度であり、５μｍ程度のちりやほこりが触れるだけで正確に作動しなくなるおそれがあるため、イメージセンサー７の上部に用いる光学フィルター６は、ちりやほこりの出ないものであり、異物を含まないものである必要があった。また、光学フィルター６とイメージセンサー７の間には、所定の間隔を設ける必要があり、このことがカメラモジュールの低背化を妨げる一因となっていた。
　これに対し、本発明の光学フィルター６'では、光学フィルター６'の垂直方向から入射する場合と、光学フィルター６'の垂直方向に対して３０°から入射する場合とで透過する光のスペクトルに大きな差はない（吸収（透過）波長の入射角依存性が小さい）ため、光学フィルター６'は、レンズ５とイメージセンサー７の間に配置する必要がなく、レンズ５の上部に配置することもできる。
　このため、本発明の光学フィルター６'をカメラモジュールに用いる場合には、該カメラモジュールの取り扱い性が容易になり、また、光学フィルター６'とセンサー７の間に所定の間隔を設ける必要がないため、カメラモジュールの低背化が可能となる。
　以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下において、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
　＜分子量＞
　樹脂の分子量は、各樹脂の溶媒への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ－ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶媒：ｏ－ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα―Ｍ、展開溶媒：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
　＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
　エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
　＜分光透過率＞
　吸収極大、各波長域における透過率、および最大値（Ｕ）は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて測定した。
　ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率は、図３のように光学フィルター８に対し垂直に透過した光を測定した。また、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率は、図４のように光学フィルター８の垂直方向に対して３０°の角度で透過した光を測定した。
　なお、最大値（Ｕ）を算出する場合を除き、他の分光透過率測定は光が基板および光学フィルターに対して垂直に入射する条件で、前記分光光度計を使用して測定した。
　［合成例］
　下記実施例で用いた化合物（Ｘ）、化合物（Ｙ）およびその他の色素（Ｚ）は、一般的に知られている方法で合成することができ、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０－２２８４４８号公報、特開平１－１４６８４６号公報、特開平１－２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３－１２４０５４号公報、「フタロシアニン　－化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７－１６９３１５号公報、特開２００９－１０８２６７号公報、特開２０１０－２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報などに記載されている方法を参照して合成することができる。
　＜樹脂合成例１＞
　下記式（１９）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部と、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）３００部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。
　得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。
　＜樹脂合成例２＞
　３Ｌの４つ口フラスコに２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
　次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。
　室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ｂ」という。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。
　＜樹脂合成例３＞
　温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、４，４'－ジアミノジフェニルエーテル１０．０重量部（０．０５モル）を、溶媒としてＮ－メチル－２－ピロリドン８５重量部に溶解させた後、１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物１１．２重量部（０．０５モル）を室温にて固体のまま１時間かけて分割投入し、室温下２時間撹拌した。
　次に、共沸脱水溶媒としてキシレン３０．０重量部を添加して１８０℃に昇温した後、３時間反応を行い、ディーンスターク管でキシレンを還流させて、共沸してくる生成水を分離した。３時間後、水の留出が終わったことを確認し、１時間かけて１９０℃に昇温しながらキシレンを留去させ、２９．０重量部を回収した。その後、内温が６０℃になるまで空冷してポリイミドのＮ－メチル－２－ピロリドン溶液（以下「ポリイミド溶液Ｃ」という。）１０５．４重量部を得た。
　［実施例１］
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ１００重量部、下記式（２０）で表されるトリアジン化合物（吸収極大波長；約３５５～３６５ｎｍ）０．４０重量部、下記式（２１）で表されるシアニン化合物（吸収極大波長；約６８０～６９０ｎｍ）０．０５重量部および塩化メチレンを加え、樹脂濃度が２０重量％の溶液（ｅｘ１）を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 　次いで、得られた溶液（ｅｘ１）を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの樹脂製基板（以下単に「基板」ともいう）を得た。
　続いて、得られた基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚８３～１９９ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚１０１～１２５ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２０〕を形成し、さらに基板のもう一方の面に、蒸着温度１００℃で近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚７７～１８９ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚８４～１１８ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数２６〕を形成し、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。
　この光学フィルターの分光透過率を測定し、可視光波長領域における透過率、赤外波長領域における光学特性、および最大値（Ｕ）を求めた。結果を表２に示す。
　［実施例２］
　実施例１で得られた、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの基板の片面に、蒸着温度１００℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ（ＳｉＯ2：膜厚１２０～１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚７０～１２０ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの，積層数４０〕を形成し、厚さ０．１０４ｍｍの光学フィルターを製造して評価した。結果を表２に示す。
　［実施例３］～［実施例２３］および［比較例１］～［比較例２］
　表１に示す樹脂、溶媒、色素およびフィルム乾燥条件を採用したこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ０．１０５ｍｍの光学フィルターを製造した。光学フィルターの製造条件を表１に、評価結果を表２に示す。なお、表１において、樹脂の添加部数はいずれも１００重量部であり、実施例１７以外の実施例および比較例における樹脂溶液の樹脂濃度は２０重量％であり、実施例１７における樹脂溶液の樹脂濃度は１８重量％である。実施例および比較例で使用した樹脂Ａ～Ｊ、溶媒（１）～（４）および色素（２０）～（２８）は下記の通りである。
　＜樹脂＞
　樹脂Ａ：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ
　樹脂Ｂ：樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ
　樹脂Ｃ：樹脂合成例３で得られたポリイミド溶液Ｃ
　樹脂Ｄ：日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂「ゼオノア　１４２０Ｒ」
　樹脂Ｅ：三井化学株式会社製の環状オレフィン系樹脂「ＡＰＥＬ　＃６０１５」
　樹脂Ｆ：帝人株式会社製のポリカーボネート樹脂「ピュアエース」
　樹脂Ｇ：住友ベークライト株式会社製のポリエーテルサルホン樹脂「スミライトＦＳ－１３００」
　樹脂Ｈ：大阪ガスケミカル株式会社製のフルオレン系ポリエステル樹脂「ＯＫＰ４」
　樹脂Ｉ：株式会社日本触媒製のアクリル樹脂「アクリビュア」
　樹脂Ｊ：三菱ガス化学株式会社製のポリカーボネート樹脂「ユピゼータ　ＥＰ－５０００」
　＜溶媒＞
　溶媒（１）：塩化メチレン
　溶媒（２）：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
　溶媒（３）：シクロヘキサンとキシレンの７：３（重量比）混合溶液
　溶媒（４）：シクロヘキサンと塩化メチレンの９９：１（重量比）混合溶液
　＜色素＞
　表１において、（Ｘ）は上記化合物（Ｘ）を意味し、（Ｙ）は上記化合物（Ｙ）を意味し、（Ｚ）は上記色素（Ｚ）を意味し、（Ｚ’）は（Ｘ）～（Ｚ）以外の色素を意味する。
　色素（２０）：上記式（２０）で表されるトリアジン化合物（吸収極大波長；約３５５～３６５ｎｍ、溶媒やマトリクス樹脂によって吸収極大波長は異なる。以下同様。）
　色素（２１）：上記式（２１）で表されるシアニン化合物（吸収極大波長；約６８０～６９０ｎｍ）
　色素（２２）：下記式（２２）で表されるアゾメチン化合物（吸収極大波長；約３７５～３８５ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　色素（２３）：下記式（２３）で表されるインドール化合物（吸収極大波長；約３８５～３９５ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 　色素（２４）：下記式（２４）で表されるスクアリリウム化合物（吸収極大波長；約６９０～７０５ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　色素（２５）：下記式（２５）で表されるベンゾトリアゾール化合物（吸収極大波長；約３４０～３５５ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 　色素（２６）：下記式（２６）で表されるフタロシアニン化合物（吸収極大波長；約６９５～７１０ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　色素（２７）：下記式（２７）で表されるジイモニウム化合物（吸収極大波長；約１０４０～１０６０ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 　色素（２８）：下記式（２８）で表されるシアニン系可視光線吸収色素（吸収極大波長；約４８０～４９０ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 　また、表１における、実施例および比較例のフィルム乾燥条件は以下の通りである。
　条件（１）：２０℃／８ｈｒ→減圧下　１００℃／８ｈｒ
　条件（２）：６０℃／４ｈｒ→８０℃／４ｈｒ→減圧下　１２０℃／８ｈｒ
　条件（３）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下　１００℃／２４ｈｒ
　条件（４）：４０℃／４ｈｒ→６０℃／４ｈｒ→減圧下　１００℃／８ｈｒ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
　本発明の固体撮像素子用光学フィルターは、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に好適に用いることができる。
１　：カメラモジュール
２　：レンズ鏡筒
３　：フレキシブル基板
４　：中空パッケージ
５　：レンズ
６　：（固体撮像素子用）光学フィルター
６’：本発明の固体撮像素子用光学フィルター
７　：（ＣＣＤまたはＣＭＯＳ）イメージセンサー
８　：光学フィルター
９　：分光光度計
１０：垂直方向（０度）から測定した時の透過率
１１：垂直方向に対して３０度から測定した時の透過率
１２：波長（Ｈ）
１３：波長（Ｈ）の前後２０ｎｍの波長領域
１４：最大値（Ｕ）
Ａ　：近紫外光
Ｂ　：レンズからの反射光
Ｃ　：光

Claims (7)

  1. 　波長３００～４２０ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｘ）および波長６００～８００ｎｍに吸収極大を持つ化合物（Ｙ）を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有すること特徴とする固体撮像素子用光学フィルター。
  2. 　前記化合物（Ｘ）が、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  3. 　前記基板を構成する透明樹脂の含有量１００重量部に対して、前記化合物（Ｘ）の含有量が０．００６～３．０重量部であり、且つ、前記化合物（Ｙ）の含有量が０．００４～２．０重量部であることを特徴とする請求項１または２に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  4. 　前記基板を構成する透明樹脂が、環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂である請求項１～３のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  5. 　固体撮像装置用であることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  6. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
  7. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
PCT/JP2013/066936 2012-06-25 2013-06-20 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 WO2014002864A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014522576A JP6256335B2 (ja) 2012-06-25 2013-06-20 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途
CN201380030325.8A CN104364681B (zh) 2012-06-25 2013-06-20 固体摄影组件用光学滤波器及其用途
US14/410,466 US9746595B2 (en) 2012-06-25 2013-06-20 Solid-state image capture element optical filter and application thereof
KR1020147034808A KR101983742B1 (ko) 2012-06-25 2013-06-20 고체 촬상 소자용 광학 필터, 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012141770 2012-06-25
JP2012-141770 2012-06-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014002864A1 true WO2014002864A1 (ja) 2014-01-03

Family

ID=49783022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/066936 WO2014002864A1 (ja) 2012-06-25 2013-06-20 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9746595B2 (ja)
JP (1) JP6256335B2 (ja)
KR (1) KR101983742B1 (ja)
CN (1) CN104364681B (ja)
TW (1) TWI633341B (ja)
WO (1) WO2014002864A1 (ja)

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014126642A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Adeka Corp 波長カットフィルタ
JP2015172004A (ja) * 2014-03-11 2015-10-01 Jsr株式会社 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP2016071323A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社日本触媒 近赤外線カットフィルター
JP2016102862A (ja) * 2014-11-27 2016-06-02 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび組成物
JP2016142835A (ja) * 2015-01-30 2016-08-08 株式会社日本触媒 赤外線吸収フィルター
JP2016162946A (ja) * 2015-03-04 2016-09-05 Jsr株式会社 固体撮像装置
KR101815823B1 (ko) 2015-04-23 2018-01-05 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
KR20180019088A (ko) 2015-09-25 2018-02-23 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
WO2018124756A1 (ko) * 2016-12-29 2018-07-05 주식회사 엘엠에스 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터
WO2018212343A1 (ja) * 2017-05-19 2018-11-22 三井化学株式会社 ポリカーボネート樹脂レンズ、およびポリカーボネート樹脂組成物
JP2019045577A (ja) * 2017-08-30 2019-03-22 大日本印刷株式会社 光学フィルム、画像表示装置又はタッチパネル
US10310150B2 (en) 2015-01-14 2019-06-04 AGC Inc. Near-infrared cut filter and solid-state imaging device
US10324240B2 (en) 2014-09-19 2019-06-18 AGC Inc. Optical filter
US10351718B2 (en) 2015-02-18 2019-07-16 AGC Inc. Optical filter and imaging device
US10365417B2 (en) 2015-01-14 2019-07-30 AGC Inc. Near-infrared cut filter and imaging device
WO2019167876A1 (ja) * 2018-02-27 2019-09-06 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
US10408979B2 (en) 2013-12-26 2019-09-10 AGC Inc. Optical filter
WO2019202815A1 (ja) * 2018-04-19 2019-10-24 株式会社Adeka 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ
US10598834B2 (en) 2015-12-01 2020-03-24 AGC Inc. Near-infrared light blocking optical filter having high visible light transmission and an imaging device using the optical filter
JP2020064201A (ja) * 2018-10-18 2020-04-23 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
CN111164469A (zh) * 2017-10-03 2020-05-15 日本板硝子株式会社 滤光器和摄像装置
JP2021015298A (ja) * 2015-11-30 2021-02-12 Jsr株式会社 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107407754B (zh) * 2015-03-27 2020-02-07 Jsr株式会社 光学滤波器及使用光学滤波器的装置
JP6630161B2 (ja) * 2016-01-21 2020-01-15 株式会社日本触媒 光選択透過フィルターおよびその製造方法
US10353117B2 (en) * 2016-01-25 2019-07-16 Canon Kabushiki Kaisha Optical element and method for producing the same
WO2017135359A1 (ja) 2016-02-02 2017-08-10 旭硝子株式会社 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置
KR20180024186A (ko) * 2016-08-29 2018-03-08 주식회사 엘엠에스 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터
KR101765559B1 (ko) 2016-09-27 2017-08-07 이대희 노루궁뎅이버섯을 포함하는 프로바이오틱스 조성물
CN108693584B (zh) * 2017-04-05 2022-12-30 Jsr株式会社 光学滤光片及使用光学滤光片的固体摄像装置
CN110892296B (zh) * 2017-07-26 2022-03-22 Jsr株式会社 红外线透过膜形成用组合物、红外线透过膜的形成方法、显示装置用保护板及显示装置
KR102491491B1 (ko) * 2017-09-08 2023-01-20 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치
KR102455527B1 (ko) 2017-09-12 2022-10-14 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치
JP6955019B2 (ja) * 2017-09-28 2021-10-27 マクセル株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置
KR102673362B1 (ko) 2018-03-27 2024-06-05 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름, 광학 필터 및 전자 장치
WO2020054786A1 (ja) * 2018-09-12 2020-03-19 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
KR102113537B1 (ko) * 2019-01-28 2020-05-21 코오롱인더스트리 주식회사 발광 소자용 자외선 흡수 봉지재 및 이를 포함하는 발광 소자
KR20200121579A (ko) 2019-04-16 2020-10-26 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 조성물, 광학 구조체, 및 이를 포함하는 카메라 모듈 및 전자 장치
JP7251423B2 (ja) * 2019-09-19 2023-04-04 Jsr株式会社 光学部材及びカメラモジュール

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005109196A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ
JP2008001544A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Agc Techno Glass Co Ltd 視感度補正フィルタガラス及び視感度補正フィルタ
JP2008159856A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Bridgestone Corp 太陽電池用封止膜及びこの封止膜を用いた太陽電池
JP2011006517A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Fujifilm Corp 紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物
JP2012008532A (ja) * 2010-05-26 2012-01-12 Jsr Corp 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP2012014043A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Oji Paper Co Ltd 光学用粘着剤、光学用粘着シート及び光学フィルタ
WO2012017848A1 (ja) * 2010-08-03 2012-02-09 Jsr株式会社 光学フィルターおよびそれを含む撮像装置
JP2012185468A (ja) * 2010-12-17 2012-09-27 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60228448A (ja) 1984-04-27 1985-11-13 Mitsubishi Chem Ind Ltd スクアリリウム化合物
JPH0654394B2 (ja) 1986-11-14 1994-07-20 富士写真フイルム株式会社 光導電性組成物
JPH07107030B2 (ja) 1987-12-04 1995-11-15 富士ゼロックス株式会社 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法
JPH01228960A (ja) 1988-03-09 1989-09-12 Konica Corp スクアリリウムの化合物
JP2864475B2 (ja) 1989-04-14 1999-03-03 ケミプロ化成株式会社 ２―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法
JP2846091B2 (ja) 1990-09-25 1999-01-13 オリヱント化学工業株式会社 インドール系化合物およびその用途
JP3163813B2 (ja) 1992-12-28 2001-05-08 日本ゼオン株式会社 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品
JP3366697B2 (ja) 1993-08-27 2003-01-14 オリヱント化学工業株式会社 長波長紫外線吸収剤およびその製造方法
TW254936B (ja) 1993-10-22 1995-08-21 Ciba Geigy
JP4081149B2 (ja) 1996-01-12 2008-04-23 山本化成株式会社 フタロシアニン化合物を用いる湿式太陽電池
KR100444332B1 (ko) * 1999-12-20 2004-08-16 도요 보세키 가부시키가이샤 적외선 흡수필터
JP3699464B2 (ja) 2001-07-04 2005-09-28 日本化薬株式会社 ジイモニウム塩化合物、それを用いる近赤外線吸収フィルター及び光情報記録媒体
CN1285943C (zh) 2001-12-12 2006-11-22 株式会社尼康 具有波长选择装置的光学系统
JPWO2003062903A1 (ja) 2002-01-21 2005-05-26 呉羽化学工業株式会社 光学フィルターおよびその製造方法
US7095009B2 (en) 2002-05-21 2006-08-22 3M Innovative Properties Company Photopic detector system and filter therefor
EP1614164A1 (en) * 2003-04-08 2006-01-11 3M Innovative Properties Company Visible wavelength detector systems and filters therefor
JP2005345680A (ja) 2004-06-02 2005-12-15 Kureha Chem Ind Co Ltd 光学フィルターおよび撮像装置
US20090009899A1 (en) 2005-02-16 2009-01-08 Mitsubishi Polyester Film Corporation Near Infrared Ray Absorbing Filter, Optical Filter for Plasma Display and Plasma Display Panel
JP4744892B2 (ja) * 2005-02-16 2011-08-10 三菱樹脂株式会社 プラズマディスプレイパネル
JP4740631B2 (ja) 2005-04-18 2011-08-03 日本カーリット株式会社 ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター
JP5140923B2 (ja) 2005-12-19 2013-02-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 クロコニウム化合物
JP4912061B2 (ja) * 2006-07-11 2012-04-04 日本カーリット株式会社 複合熱線遮蔽フィルム
JP2009108267A (ja) 2007-10-31 2009-05-21 Fujifilm Corp シアニン化合物およびそれを含んでなる近赤外線吸収組成物
US8514487B2 (en) 2008-02-08 2013-08-20 Google Inc. Reducing flare in a lens having a dichroic filter
JP2010097062A (ja) * 2008-10-17 2010-04-30 Fujifilm Corp 長波紫外線吸収積層体
KR101474351B1 (ko) * 2008-11-28 2014-12-18 제이에스알 가부시끼가이샤 근적외선 컷 필터 및, 이를 구비하는 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈
JP5431001B2 (ja) 2009-04-01 2014-03-05 株式会社Ａｄｅｋａ シアニン化合物及び該シアニン化合物を含有する光学フィルター
WO2011071052A1 (ja) 2009-12-07 2011-06-16 旭硝子株式会社 光学部材、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズ、およびそれらを用いた撮像・表示装置
JP5615636B2 (ja) * 2010-09-13 2014-10-29 倉敷レーザー株式会社 溶接治具
KR101969612B1 (ko) * 2011-10-14 2019-04-16 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 이 광학 필터를 이용한 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈
JP6017805B2 (ja) 2012-03-13 2016-11-02 株式会社日本触媒 光選択透過フィルター、紫光吸収シート及び固体撮像素子

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005109196A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ
JP2008001544A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Agc Techno Glass Co Ltd 視感度補正フィルタガラス及び視感度補正フィルタ
JP2008159856A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Bridgestone Corp 太陽電池用封止膜及びこの封止膜を用いた太陽電池
JP2011006517A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Fujifilm Corp 紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物
JP2012008532A (ja) * 2010-05-26 2012-01-12 Jsr Corp 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP2012014043A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Oji Paper Co Ltd 光学用粘着剤、光学用粘着シート及び光学フィルタ
WO2012017848A1 (ja) * 2010-08-03 2012-02-09 Jsr株式会社 光学フィルターおよびそれを含む撮像装置
JP2012185468A (ja) * 2010-12-17 2012-09-27 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014126642A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Adeka Corp 波長カットフィルタ
US10408979B2 (en) 2013-12-26 2019-09-10 AGC Inc. Optical filter
JP2015172004A (ja) * 2014-03-11 2015-10-01 Jsr株式会社 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP2019164349A (ja) * 2014-09-19 2019-09-26 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタ
US10324240B2 (en) 2014-09-19 2019-06-18 AGC Inc. Optical filter
US11029457B2 (en) 2014-09-19 2021-06-08 AGC Inc. Optical filter
JP2016071323A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社日本触媒 近赤外線カットフィルター
JP2016102862A (ja) * 2014-11-27 2016-06-02 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび組成物
US10365417B2 (en) 2015-01-14 2019-07-30 AGC Inc. Near-infrared cut filter and imaging device
US10310150B2 (en) 2015-01-14 2019-06-04 AGC Inc. Near-infrared cut filter and solid-state imaging device
JP2016142835A (ja) * 2015-01-30 2016-08-08 株式会社日本触媒 赤外線吸収フィルター
US10745572B2 (en) 2015-02-18 2020-08-18 AGC Inc. Squarylium-based dye for near-infrared optical filter
US10351718B2 (en) 2015-02-18 2019-07-16 AGC Inc. Optical filter and imaging device
JP2016162946A (ja) * 2015-03-04 2016-09-05 Jsr株式会社 固体撮像装置
US10228500B2 (en) 2015-04-23 2019-03-12 AGC Inc. Optical filter and imaging device
KR101815823B1 (ko) 2015-04-23 2018-01-05 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
KR20180019088A (ko) 2015-09-25 2018-02-23 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
US10746908B2 (en) 2015-09-25 2020-08-18 AGC Inc. Optical filter and imaging device
US10996105B2 (en) * 2015-11-30 2021-05-04 Jsr Corporation Optical filter having low incident angle dependence of incident light, ambient light sensor, sensor module and electronic device
JP2021015298A (ja) * 2015-11-30 2021-02-12 Jsr株式会社 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール
US10598834B2 (en) 2015-12-01 2020-03-24 AGC Inc. Near-infrared light blocking optical filter having high visible light transmission and an imaging device using the optical filter
WO2018124756A1 (ko) * 2016-12-29 2018-07-05 주식회사 엘엠에스 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터
WO2018212343A1 (ja) * 2017-05-19 2018-11-22 三井化学株式会社 ポリカーボネート樹脂レンズ、およびポリカーボネート樹脂組成物
US11630241B2 (en) 2017-05-19 2023-04-18 Mitsui Chemicals, Inc. Polycarbonate resin lens and polycarbonate resin composition
JPWO2018212343A1 (ja) * 2017-05-19 2019-11-07 三井化学株式会社 ポリカーボネート樹脂レンズ、およびポリカーボネート樹脂組成物
JP7035381B2 (ja) 2017-08-30 2022-03-15 大日本印刷株式会社 光学フィルム、画像表示装置又はタッチパネル
JP2019045577A (ja) * 2017-08-30 2019-03-22 大日本印刷株式会社 光学フィルム、画像表示装置又はタッチパネル
CN111164469A (zh) * 2017-10-03 2020-05-15 日本板硝子株式会社 滤光器和摄像装置
JP7207395B2 (ja) 2018-02-27 2023-01-18 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JPWO2019167876A1 (ja) * 2018-02-27 2021-02-25 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2019167876A1 (ja) * 2018-02-27 2019-09-06 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JPWO2019202815A1 (ja) * 2018-04-19 2021-05-13 株式会社Adeka 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ
WO2019202815A1 (ja) * 2018-04-19 2019-10-24 株式会社Adeka 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ
JP7370964B2 (ja) 2018-04-19 2023-10-30 株式会社Adeka 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ
JP7155855B2 (ja) 2018-10-18 2022-10-19 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
JP2020064201A (ja) * 2018-10-18 2020-04-23 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150023375A (ko) 2015-03-05
TWI633341B (zh) 2018-08-21
CN104364681B (zh) 2017-05-24
CN104364681A (zh) 2015-02-18
TW201409091A (zh) 2014-03-01
JP6256335B2 (ja) 2018-01-10
JPWO2014002864A1 (ja) 2016-05-30
US20150285971A1 (en) 2015-10-08
US9746595B2 (en) 2017-08-29
KR101983742B1 (ko) 2019-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6256335B2 (ja) 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途
JP6508247B2 (ja) 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール
JP6627864B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6252611B2 (ja) 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP5884953B2 (ja) 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール
JP6358114B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6380390B2 (ja) 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
WO2018043564A1 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP7163918B2 (ja) 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP6578718B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2015022892A1 (ja) 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
WO2017164024A1 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2014192715A1 (ja) 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
WO2019168090A1 (ja) 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器
JP2015040895A (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2015025779A1 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6693585B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP2015004838A (ja) 固体撮像装置用近赤外線カットフィルターならびに前記フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13810295

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147034808

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014522576

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14410466

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13810295

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1