JP7207395B2 - 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 - Google Patents
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Description
これらの知見に基づいて完成させた本発明の態様の例を以下に示す。
(a)波長900nm以上1200nm以下の領域に吸収極大を有する有機顔料(S)を含む層を有する。
(b)波長650nm以上760nm以下の領域に吸収極大を有する化合物(A)を含む層を有する。
R1は、独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、カルボキシ基、リン酸基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、R2は、独立にハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、RgおよびRhは、それぞれ独立に水素原子、-C(O)Ri基または下記La~Leのいずれかを表し、Riは下記La~Leのいずれかを表し、
(La)炭素数1~12の脂肪族炭化水素基
(Lb)炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基
(Lc)炭素数3~14の脂環式炭化水素基
(Ld)炭素数6~14の芳香族炭化水素基
(Le)炭素数2~14の複素環基
(Lf)炭素数1~12のアルコキシ基
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアシル基
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアルコキシカルボニル基
置換基Lは、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3~14の脂環式炭化水素基、炭素数6~14の芳香族炭化水素基および炭素数3~14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、
nは0~4の整数を表し、
Xは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。
[11] 項[1]~[9]のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。
本発明の光学フィルターの厚みは、近年の固体撮像装置の薄型化、軽量化等の流れを考慮すると、薄いことが好ましい。本発明の光学フィルターは、前記基材を含むため、薄型化が可能である。
本発明で用いられる基材は、下記要件(a)を満たす。
(a)波長900nm以上1200nm以下の領域に吸収極大を有する有機顔料(S)を含む層を有する。
また、前記基材は、さらに下記要件(b)を満たすことが好ましい。
(b)波長650nm以上760nm以下の領域に吸収極大を有する化合物(A)を含む層を有する。
以下、各要件について説明する。
要件(a)において、有機顔料(S)を含む層を構成する成分は特に限定されず、例えば、透明樹脂、ゾルゲル材料、低温硬化ガラス材料などが挙げられるが、取扱いが容易であること等の観点から透明樹脂であることが好ましい。
有機顔料(S)は、波長900nm以上1200nm以下の領域に吸収極大を有している有機顔料であれば特に限定されず、例えば、波長900nm以上1200nm以下の領域に吸収極大を有する化合物(S)を、分散媒および必要に応じて分散剤やその他の添加剤とともに、公知の方法で分散させることにより、有機顔料(S)の分散体として得ることができる。
前記化合物(S)は、波長900nm以上1200nm以下の領域に吸収極大を有している化合物であれば特に限定されないが、好ましくはジイモニウム系化合物、金属ジチオラート錯体系化合物、ピロロピロール系化合物、シアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびナフタロシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり、さらに好ましくはジイモニウム系化合物および金属ジチオラート錯体系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり、特に好ましくは下記式(I)で表されるジイモニウム系化合物である。このような化合物(S)を用いることにより、良好な近赤外線吸収特性と優れた可視光透過率を付与することができる。
R1は、独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、カルボキシ基、リン酸基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、R2は、独立にハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、RgおよびRhは、それぞれ独立に水素原子、-C(O)Ri基または下記La~Leのいずれかを表し、Riは下記La~Leのいずれかを表し、
(La)炭素数1~12の脂肪族炭化水素基
(Lb)炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基
(Lc)炭素数3~14の脂環式炭化水素基
(Ld)炭素数6~14の芳香族炭化水素基
(Le)炭素数2~14の複素環基
(Lf)炭素数1~12のアルコキシ基
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアシル基
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアルコキシカルボニル基
置換基Lは、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3~14の脂環式炭化水素基、炭素数6~14の芳香族炭化水素基および炭素数3~14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、
nは0~4の整数を表し、
Xは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。
有機顔料(S)は、一般的に知られている方法、例えば公知の分散機を用いる方法で前記化合物(S)を分散媒に分散させて使用することが好ましい。本発明において、化合物(S)に対して溶解性が著しく高い分散媒を選択した場合、化合物(S)が分散媒中に溶解し染料化してしまう。この場合、所望の分光特性が得られなくなるばかりか、耐熱性や耐UV性を著しく低下させてしまう。従って、化合物(S)に対して溶解性が低く、染料化しない分散媒を選択する必要がある。分散媒が化合物(S)を染料化するか否かは、化合物(S)の濃度が0.1質量%となるように、化合物(S)に分散媒を加えて、ガラス板状に滴下して乾燥後、走査型電子顕微鏡にて観察することで確認することができる。化合物(S)が粒子状に存在している場合は顔料化するものと判断でき、粒子状の物質が確認されない場合は染料化するものと判断できる。
前記化合物(S)を分散媒に分散させる際に用いられる分散機としては、例えば、ビーズミル、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル及びローラミルなどが挙げられる。
また、いわゆるソルトミリングにより、化合物(S)の一次粒子を微細化して有機顔料(S)を調製してもよい。ソルトミリングの方法としては、例えば、特開平8-179111号公報に開示されている方法を採用することができる。
分散安定性向上を目的として、公知の分散剤を用いて化合物(S)を分散させてもよい。分散剤としては、例えば、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系分散剤、ポリエチレングリコールジエステル系分散剤、ソルビタン脂肪酸エステル系分散剤、ポリエステル系分散剤、(メタ)アクリル系分散剤等が挙げられる。市販品として、例えば、Disperbyk-2000、Disperbyk-2001、BYK-LPN6919、BYK-LPN21116、BYK-LPN22102(以上、ビックケミー(BYK)社製)等の(メタ)アクリル系分散剤、Disperbyk-161、Disperbyk-162、Disperbyk-165、Disperbyk-167、Disperbyk-170、Disperbyk-182(以上、ビックケミー(BYK)社製)、ソルスパース76500(ルーブリゾール(株)社製)等のウレタン系分散剤、ソルスパース24000(ルーブリゾール(株)社製)等のポリエチレンイミン系分散剤、アジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPB880、アジスパーPB881(以上、味の素ファインテクノ(株)社製)等のポリエステル系分散剤の他、BYK-LPN21324(ビックケミー(BYK)社製)、マリアリムSCシリーズ、エスリームADシリーズ、エスリームC2093I(以上、日油(株)社製)などを使用することができる。また、(メタ)アクリル系分散剤として、例えば、特開2011-232735号公報、特開2011-237769号公報、特開2012-32767号公報、国際公開第2011/129078号パンフレット、国際公開第2012/001945号パンフレット等に開示されている共重合体も使用することもできる。分散剤は、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
有機顔料(S)の平均粒子径は、好ましくは200nm以下、より好ましくは5~190nm、さらに好ましくは10~180nm、特に好ましくは15~150nmである。ここで、本発明における有機顔料(S)の平均粒子径は、後述する実施例に記載の測定方法で求めた値である。有機顔料(S)の平均粒子径が前記範囲にあると、ヘイズ値を極めて低いレベルに維持し、かつ耐熱性に優れた光学フィルターを得ることができる。
有機顔料(S)全体の含有量は、前記基材として、例えば、有機顔料(S)を含有する透明樹脂製基板からなる基材や、有機顔料(S)を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01~2.0質量部、より好ましくは0.02~1.5質量部、特に好ましくは0.03~1.0質量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に有機顔料(S)を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、有機顔料(S)を含む透明樹脂層を形成する樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1~5.0質量部、より好ましくは0.2~4.0質量部、特に好ましくは0.3~3.0質量部である。有機顔料(S)の含有量が前記範囲内にあると、良好な近赤外線吸収特性と高い可視光透過率とを両立した光学フィルターを得ることができる。なお、本発明では、基材としてガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に有機顔料(S)を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層を設けることが望ましい。
要件(b)において、化合物(A)を含む層を構成する成分は特に限定されず、例えば、透明樹脂、ゾルゲル材料、低温硬化ガラス材料などが挙げられるが、取扱いが容易であることや化合物(A)との相溶性の観点から透明樹脂であることが好ましい。
化合物(A)は、波長650nm以上760nm以下の領域に吸収極大を有する化合物であれば特に限定されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることがより好ましく、スクアリリウム系化合物を含むことがさらに好ましく、スクアリリウム系化合物を含む2種以上であることが特に好ましい。化合物(A)がスクアリリウム系化合物を含む2種以上である場合、構造の異なるスクアリリウム系化合物が2種以上でもよく、スクアリリウム系化合物とその他の化合物(A)との組み合わせでもよい。その他の化合物(A)としては、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物が特に好ましい。
波長430~580nmの領域における基材の平均透過率は、好ましくは75%以上、さらに好ましくは78%以上、特に好ましくは80%以上である。このような透過特性を有する基材を用いると、可視光領域において高い光線透過特性を達成でき、高感度なカメラ機能を達成することができる。
前記基材を構成する透明樹脂層、透明樹脂製基板および樹脂製支持体に用いられる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に限定されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、100℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは110~380℃、より好ましくは110~370℃、さらに好ましくは120~360℃である樹脂が挙げられる。また、前記樹脂のガラス転移温度が140℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成しえるフィルムが得られるため、特に好ましい。
環状ポリオレフィン系樹脂としては、下記式(X0)で表される単量体および下記式(Y0)で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
(i')水素原子
(ii')ハロゲン原子
(iii')トリアルキルシリル基
(iv')酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基
(v')置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基
(vi')極性基(但し、(ii')および(iv')を除く。)
(vii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基(但し、前記結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記(i')~(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
(viii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環(但し、前記結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記(i')~(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
(ix')Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環(但し、前記結合に関与しないRx1とRx4は、それぞれ独立に前記(i')~(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式(1)で表される構造単位および下記式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造単位を有することが好ましい。
ポリイミド系樹脂としては、特に限定されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開2006-199945号公報や特開2008-163107号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に限定されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開2008-163194号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に限定されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開2010-285505号公報や特開2011-197450号公報に記載されている方法で合成することができる。
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に限定されないが、フッ素原子を少なくとも1つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開2008-181121号公報に記載されている方法で合成することができる。
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に限定されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物(A)および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物(A)を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
エポキシ系樹脂としては、特に限定されないが、紫外線硬化型と熱硬化型に大別することができる。紫外線硬化型エポキシ系樹脂としては、例えば、分子内に一つ以上のエポキシ基を有する化合物と、紫外線によって酸を発生させる化合物(以下「光酸発生剤」ともいう)を含有する組成物から合成されるものを挙げることができ、熱硬化型エポキシ系樹脂としては、例えば、分子内に一つ以上のエポキシ基を有する化合物と、酸無水物を含有する組成物から合成されるものを挙げることができる。エポキシ系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物(A)を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物(A)を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状ポリオレフィン系樹脂の市販品としては、JSR(株)製アートン、日本ゼオン(株)製ゼオノア、三井化学(株)製APEL、ポリプラスチックス(株)製TOPASなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学(株)製スミカエクセルPESなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製ネオプリムLなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人(株)製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製ユピゼータEP-5000などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル(株)製OKP4HTなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、(株)日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学(株)製シルプラスなどを挙げることができる。
前記基材には、さらに、有機顔料(S)および化合物(A)に該当しない、その他の色素(X)が含まれていてもよい。
前記基材は、本発明の効果を損なわない範囲において、その他成分として、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤などを含有してもよい。これらその他成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記基材が、有機顔料(S)を含有する透明樹脂製基板を含む基材である場合、該透明樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と有機顔料(S)と必要に応じて他の成分とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法;樹脂と有機顔料(S)と必要応じて他の成分とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法;または、有機顔料(S)、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
前記キャスト成形としては、有機顔料(S)、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法;または有機顔料(S)と、光硬化性樹脂および/または熱硬化性樹脂と、必要に応じて他の成分とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
本発明の光学フィルターは、前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有する。本発明における誘電体多層膜とは、近赤外線を反射する能力を有する膜または可視光領域における反射防止効果を有する膜であり、誘電体多層膜を有することでより優れた可視光透過率と近赤外線カット特性を達成することができる。
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の光学フィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのCCDやCMOSイメージセンサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。さらに、自動車や建物等のガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、CCDやCMOSイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。例えば、本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の(a)または(b)の方法にて測定を行った。
(a)ウォターズ(WATERS)社製のゲルパーミエ-ションクロマトグラフィー(GPC)装置(150C型、カラム:東ソー社製Hタイプカラム、展開溶剤:o-ジクロロベンゼン)を用い、標準ポリスチレン換算の質量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
(b)東ソー社製GPC装置(HLC-8220型、カラム:TSKgelα‐M、展開溶剤:THF)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計(DSC6200)を用いて、昇温速度:毎分20℃、窒素気流下で測定した。
有機顔料の平均粒子径は以下の方法で測定した。調製した有機顔料の分散液を分散媒と同一組成の溶剤で顔料濃度が0.5質量%となるまで希釈し、これをガラス板に滴下して乾燥した後、走査型電子顕微鏡(SEM)(株式会社日立ハイテクノロジーズ製「S4800」)にて観察を行った。複数の視野でSEM画像を撮り、任意で選択した100個の粒子について粒子径をスケールで測定して倍率換算し、平均粒子径を算出した。なお、極端に大きい又は小さい粒子は除外し、粒子形状が球状では無い場合には観察される最も長い径(長径)を粒子径とした。
基材および光学フィルターの各波長域における透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計(U-4100)を用いて測定した。なお、この透過率は、光が基材およびフィルターに対して垂直に入射する条件で、該分光光度計を使用して測定したものである。
基材および光学フィルターのヘイズは、株式会社東洋精機製作所製ヘイズメーター(ヘイズガードII)を用いて測定した。異なる3か所について測定を行い、その平均値を用いた。
光学フィルターを85℃×1000hrの条件で処理し、該処理前後の波長430~580nmにおける平均透過率を測定した。次式により算出される透過率の維持率を耐熱性の指標とした。維持率の数値が高い程、耐熱性が良好である。
透過率の維持率(%)=(処理後の430~580nm平均透過率)/(処理前の430~580nm平均透過率)×100
光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際の色シェーディング評価は下記の方法で行った。特開2016-110067号公報と同様の方法でカメラモジュールを作成し、作成したカメラモジュールを用いて300mm×400mmサイズの白色板をD65光源(X-Rite社製標準光源装置「マクベスジャッジII」)下で撮影し、カメラ画像における白色板の中央部と端部における色目の違いを以下の基準で評価した。
光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際のゴースト評価は下記の方法で行った。特開2016-110067号公報と同様の方法でカメラモジュールを作成し、作成したカメラモジュールを用いて暗室中ハロゲンランプ光源(林時計工業社製「ルミナーエースLA-150TX」)下で撮影し、カメラ画像における光源周辺のゴースト発生具合を以下の基準で評価した。
下記実施例で用いた化合物(A)および化合物(S)は、一般的に知られている方法で合成した。前記方法としては、例えば、特開昭60-228448号公報、特開平1-146846号公報、特開平1-228960号公報、特許第4081149号公報、「フタロシアニン -化学と機能―」(アイピーシー、1997年)、特開2009-108267号公報、特開2010-241873号公報、特許第3699464号公報、特許第4740631号公報などに記載されている方法を挙げることができる。
下記式(a)で表される8-メチル-8-メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン(以下「DNM」ともいう。)100g、1-ヘキセン(分子量調節剤)18gおよびトルエン(開環重合反応用溶媒)300gを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を80℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液(0.6mol/リットル)0.2gと、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液(濃度0.025mol/リットル)0.9gとを添加し、この溶液を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であった。
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、室温にて2,6-ジ-t-ブチル-4-クレゾール0.0194g、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート(三菱ガス化学(株)製、分子量:222)27.047g、および、イソホロンジイソシアネート(エボニック社製、分子量:222)26.481gをメチルエチルケトン(MEK)19gに溶解させ、ジオクチルスズジラウレート0.405gを加えた後、撹拌しながら70℃に昇温した。3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレートが溶解し、溶液が透明化したことを確認した後、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート27.047gを追加投入し、70℃にて反応を継続した。赤外吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル(2280cm-1)がほぼ消失したことを確認して反応を終了した。溶出液として酢酸エチル/ヘキサンを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて反応混合物を精製した後、イソプロピルアルコールで希釈することで、ウレタンアクリレート化合物(I)(50質量%溶液)を得た。
<調製例1>
0.25Lのプラスチック容器に、上記表2-4に記載の化合物(s-15)(ジクロロメタン中での吸収極大波長1083nm)5g、酸性官能基を有する分散剤(日油株式会社製「マリアリムSC-0505K」)5g、分散媒としてイソプロピルアルコール(IPA)95g、直径0.05mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製「YTZ-0.05」)175gを投入し、ペイントシェーカー(株式会社東洋精機製作所製)にて1hr分散処理を行った。その後、室温まで冷却し、金属メッシュでジルコニアビーズをろ別することで有機顔料分散液(S-1)を得た。
0.25Lのプラスチック容器に上記表2-4に記載の化合物(s-15)5g、分散媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK)95g、直径0.05mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製「YTZ-0.05」)175gを投入し、ペイントシェーカーにて1hr分散処理を行った。その後、室温まで冷却し、金属メッシュでジルコニアビーズをろ別することで有機顔料分散液(S-2)を得た。
0.25Lのプラスチック容器に上記表2-4に記載の化合物(s-4)(ジクロロメタン中での吸収極大波長1100nm)5g、分散媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK)95g、直径0.05mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製「YTZ-0.05」)175gを投入し、ペイントシェーカーにて1hr分散処理を行った。その後、室温まで冷却し、金属メッシュでジルコニアビーズをろ別することで有機顔料分散液(S-3)を得た。
0.25Lのプラスチック容器に上記表2-4に記載の化合物(s-6)(ジクロロメタン中での吸収極大波長1093nm)5g、分散媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK)95g、直径0.05mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製「YTZ-0.05」)175gを投入し、ペイントシェーカーにて1hr分散処理を行った。その後、室温まで冷却し、金属メッシュでジルコニアビーズをろ別することで有機顔料分散液(S-4)を得た。
調製例1で得た有機顔料分散液(S-1)を遠心分離装置(himac製「冷却遠心機 CR-22N」)にて36000Gの遠心加速度で10分間、遠心分離処理し、処理後の分散液をポリプロピレン製フィルター(孔径3μm)にて濾過することで、有機顔料分散液(S-5)を得た。
実施例1では、化合物(A)を含む透明樹脂製基板の両面に有機顔料(S)を含む透明樹脂層を形成してなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物(1)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で3分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが3μmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光(露光量500mJ/cm2,200mW)を行い、樹脂組成物(1)を硬化させ、透明樹脂製基板上に透明樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物(1)からなる透明樹脂層を形成し、化合物(A)を含む透明樹脂製基板の両面に有機顔料(S)を含む透明樹脂層を有する基材を得た。
各層の厚さと層数については、可視光領域の反射防止効果と近赤外線領域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した有機顔料(S)および化合物(A)の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト(Essential Macleod、Thin Film Center社製)を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメーター(Target値)を下記表3の通りとした。
樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(2)を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学フィルターを得て、同様の評価を行った。結果を表5に示す。
樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(4)を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
透明樹脂基板の代わりにガラス基板(縦60mm、横60mmの大きさにカットした透明ガラス基板「OA-10G(厚み150μm)」(日本電気硝子(株)製)を用い、樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(5)を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
ガラス基板の代わりに縦60mm、横60mmの大きさにカットした透明樹脂フィルム(ゼオノアフィルムZF16(厚み100μm)」(日本ゼオン(株)製)を用いたこと以外は実施例5と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(6)を用いたこと以外は実施例3と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(7)を用いたこと以外は実施例3と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
樹脂組成物(1)の代わりに下記に示す樹脂組成物(8)を用いたこと以外は実施例3と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
容器に、合成例1で得られた樹脂A 100部、化合物(A)として上記化合物(a-1)(ジクロロメタン中での吸収極大波長713nm)0.07gおよび上記化合物(a-2)(ジクロロメタン中での吸収極大波長736nm)0.06g、および上記表2-2に記載の化合物(s-6)(ジクロロメタン中での吸収極大波長1093nm)0.2gおよび塩化メチレンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。なお、化合物(s-6)は塩化メチレンに溶解して染料化していた。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、20℃で8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100℃で8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの透明樹脂製基板を得た。
樹脂組成物(5)の代わりに下記に示す樹脂組成物(7)を用いたこと以外は実施例5と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。なお、化合物(s-15)は塩化メチレンに溶解して染料化していた。結果を表5に示す。
表5に示す構成としたこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルターを得て評価を行った。結果を表5に示す。
形態(1):化合物(A)を含む透明樹脂製基板の両面に有機顔料(S)を含む透明樹脂層を有する
形態(2):透明ガラス基板(日本電気硝子(株)製「OA-10G(厚み150μm)」)の両面に有機顔料(S)を含む透明樹脂層を有する
形態(3):樹脂製支持体(日本ゼオン(株)製「ゼオノアフィルムZF16」)の両面に化合物(A)および有機顔料(S)を含む透明樹脂層を有する
形態(4):樹脂製支持体の両面に有機顔料(S)を含む透明樹脂層を有する
形態(5):化合物(A)および化合物(S)を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する
形態(6):透明ガラス基板の両面に化合物(S)を含む透明樹脂層を有する
形態(7):化合物(A)を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する
樹脂A:環状ポリオレフィン系樹脂(樹脂合成例1)
モノマーA:トリシクロデカンジメタノールアクリレート
モノマーB:合成例2で得られたウレタンアクリレート化合物(1)
モノマーC:3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート
希釈溶媒(1):イソプロピルアルコール
希釈溶媒(2):メチルイソブチルケトン
希釈溶媒(3):メチルエチルケトン
希釈溶媒(4):塩化メチレン
11:第一光学層
12:第二光学層
13:第三光学層
14:第四光学層
111:カメラ画像
112:白色板
113:白色板の中央部の例
114:白色板の端部の例
121:カメラ画像
122:光源
123:光源周辺のゴーストの例
Claims (9)
- 下記要件(a)および(b)を満たす基材を有し、かつ、前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜が形成されていることを特徴とする光学フィルター:
(a)波長900nm以上1200nm以下の領域に吸収極大を有する有機顔料(S)および酸性官能基を有する分散剤を含む層を有し、前記分散剤の含有量が前記有機顔料(S)100質量部に対して5~300質量部である;
(b)波長650nm以上760nm以下の領域に吸収極大を有する化合物(A)を含む層を有し、前記有機顔料(S)を含む層と前記化合物(A)を含む層とが異なる。 - 前記化合物(A)が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルター。
- 前記有機顔料(S)が、下記式(I)で表されるジイモニウム系化合物を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の光学フィルター。
R1は、独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、カルボキシ基、リン酸基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、R2は、独立にハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、RgおよびRhは、それぞれ独立に水素原子、-C(O)Ri基または下記La~Leのいずれかを表し、Riは下記La~Leのいずれかを表し、
(La)炭素数1~12の脂肪族炭化水素基
(Lb)炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基
(Lc)炭素数3~14の脂環式炭化水素基
(Ld)炭素数6~14の芳香族炭化水素基
(Le)炭素数2~14の複素環基
(Lf)炭素数1~12のアルコキシ基
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアシル基
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアルコキシカルボニル基
置換基Lは、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3~14の脂環式炭化水素基、炭素数6~14の芳香族炭化水素基および炭素数3~14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、
nは0~4の整数を表し、
Xは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。) - 前記有機顔料(S)の平均粒子径が200nm以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の光学フィルター。
- 前記有機顔料(S)を含む層が透明樹脂層であることを特徴とする、請求項1~4のいずれか1項に記載の光学フィルター。
- 前記透明樹脂層を構成する透明樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂であることを特徴とする請求項5に記載の光学フィルター。
- 固体撮像装置用である請求項1~6のいずれか1項に記載の光学フィルター。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001207142A (ja) | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 赤外線吸収性粘着剤組成物及びそれを用いた赤外線吸収シート |
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JP2013155353A (ja) | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Fujifilm Corp | 赤外線吸収性液状組成物、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
WO2014002864A1 (ja) | 2012-06-25 | 2014-01-03 | Jsr株式会社 | 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 |
JP2014052482A (ja) | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
WO2016158620A1 (ja) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム |
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---|---|---|---|---|
JP3163813B2 (ja) | 1992-12-28 | 2001-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品 |
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CN101300064A (zh) * | 2005-11-02 | 2008-11-05 | 东洋油墨制造株式会社 | 分散剂、其制造方法和使用其的颜料组合物 |
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SG11201504182RA (en) * | 2012-11-30 | 2015-06-29 | Fujifilm Corp | Curable resin composition, production method of image sensor chip using the same, and image sensor chip |
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JP6645243B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2020-02-14 | Jsr株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外光透過フィルタ及び固体撮像装置 |
CN107407754B (zh) * | 2015-03-27 | 2020-02-07 | Jsr株式会社 | 光学滤波器及使用光学滤波器的装置 |
WO2017094672A1 (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール |
CN108474885B (zh) * | 2016-01-15 | 2021-04-13 | 东洋油墨Sc控股株式会社 | 固体摄像元件用近红外线吸收性组合物及滤波器、固体摄像元件 |
JP6760805B2 (ja) * | 2016-09-13 | 2020-09-23 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収剤、組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
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Patent Citations (8)
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---|---|---|---|---|
JP2001207142A (ja) | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 赤外線吸収性粘着剤組成物及びそれを用いた赤外線吸収シート |
JP2010018773A (ja) | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 近赤外線吸収粘着剤組成物 |
WO2011074619A1 (ja) | 2009-12-16 | 2011-06-23 | 日本カーリット株式会社 | 近赤外線吸収色素及び近赤外線吸収組成物 |
JP2013155353A (ja) | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Fujifilm Corp | 赤外線吸収性液状組成物、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
WO2014002864A1 (ja) | 2012-06-25 | 2014-01-03 | Jsr株式会社 | 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 |
JP2014052482A (ja) | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
WO2016158620A1 (ja) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム |
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