JP2021120733A - 光学フィルターおよびその用途 - Google Patents
光学フィルターおよびその用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021120733A JP2021120733A JP2020087390A JP2020087390A JP2021120733A JP 2021120733 A JP2021120733 A JP 2021120733A JP 2020087390 A JP2020087390 A JP 2020087390A JP 2020087390 A JP2020087390 A JP 2020087390A JP 2021120733 A JP2021120733 A JP 2021120733A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- compound
- group
- optical filter
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 231
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 313
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 64
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 359
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 359
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 141
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 139
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 57
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 55
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 17
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims description 16
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 9
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 9
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 9
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 8
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 7
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 7
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims description 7
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 6
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 claims description 5
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims description 5
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 5
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004760 aramid Substances 0.000 claims description 5
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 claims description 5
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 5
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 208
- 238000000034 method Methods 0.000 description 99
- 239000010408 film Substances 0.000 description 71
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 69
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 37
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 30
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 25
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 21
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 20
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 14
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 14
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 14
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 13
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 12
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 9
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 9
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 7
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 4
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 0 CC1=C(*)NCC(CC2NC(*)=C(*=C)NC2)N1 Chemical compound CC1=C(*)NCC(CC2NC(*)=C(*=C)NC2)N1 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAHDQGVJHDLHQ-UHFFFAOYSA-N [2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=1C1(O)CCCCC1 BDAHDQGVJHDLHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluorobenzonitrile Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1C#N BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQZGCCQHMIOLR-UHFFFAOYSA-N 2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]prop-2-enoic acid;methane Chemical compound C.CC(C)(C)C1=CC(CC(=C)C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O DIQZGCCQHMIOLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLTSXAIICPDFKI-UHFFFAOYSA-N 3-dodecene Chemical compound CCCCCCCCC=CCC WLTSXAIICPDFKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHXKYJYWAPRBDH-UHFFFAOYSA-L 3h-dithiole-3-carboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].[O-]C(=O)C1SSC=C1.[O-]C(=O)C1SSC=C1 KHXKYJYWAPRBDH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001053395 Arabidopsis thaliana Acid beta-fructofuranosidase 4, vacuolar Proteins 0.000 description 1
- 230000005457 Black-body radiation Effects 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBIHEOZYMFIUHY-UHFFFAOYSA-L S1SC(C=C1)C(=O)[O-].[Cu+2].S1SC(C=C1)C(=O)[O-] Chemical compound S1SC(C=C1)C(=O)[O-].[Cu+2].S1SC(C=C1)C(=O)[O-] LBIHEOZYMFIUHY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- VCNTUJWBXWAWEJ-UHFFFAOYSA-J aluminum;sodium;dicarbonate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O VCNTUJWBXWAWEJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical group [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.O=C1CCCCC1 JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N dicesium;dioxido(dioxo)tungsten Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-][W]([O-])(=O)=O VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- CVDUUPMTIHXQKC-UHFFFAOYSA-N ethene 1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical group C=C.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 CVDUUPMTIHXQKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- 125000004706 n-propylthio group Chemical group C(CC)S* 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical class N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N triethyl methyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OCC)OCC QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical class Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10614—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer comprising particles for purposes other than dyeing
- B32B17/10633—Infrared radiation absorbing or reflecting agents
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/0825—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
- G02B5/0833—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only comprising inorganic materials only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
- G02B5/287—Interference filters comprising deposited thin solid films comprising at least one layer of organic material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Blocking Light For Cameras (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
Description
[1] 下記要件(a)〜(d)を満たすことを特徴とする光学フィルター:(a)波長700nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光に対する光学濃度(OD値)の最小値(ODa-0)が2.0以上である;(b)波長430nm〜580nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光の透過率の平均値(Ta-0)が40%以上である;(c)波長420nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向に対して5度の角度から入射する光に対する反射率の平均値(Rfa-5)が20%以下である;(d)波長650nm以上950nm未満の領域に吸収極大を有する化合物(A)を少なくとも3種含有する層を含む。
[2] さらに下記要件(e)を満たすことを特徴とする項[1]に記載の光学フィルター:(e)前記要件(d)に記載の層を含む基材と、前記基材の少なくとも片面に誘電体多層膜とを有し、前記誘電体多層膜を構成する層の中で厚みが0.5μm以下である層の層数(N)と、厚みが0.5μm以下である各層の厚みの和(TN)(μm)との積(N×TN)が150以下である。
[3] 厚みが160μm以下であることを特徴とする項[1]または[2]に記載の光学フィルター。
[4] 前記化合物(A)の少なくとも1種が、ジクロロメタンに溶解して測定される吸収特性として、下記要件(f)および(g)を満たすことを特徴とする項[1]〜[3]のいずれか1項に記載の光学フィルター:(f)波長650nm以上950nm未満の領域における最大吸収波長λmaxが波長850nm以上935nm以下である;(g)波長650nm以上950nm未満の領域における最大吸光係数ελmaxを1で規格化したとき、
(g-1)波長(λmax−10)nmにおける吸光係数ελmax-10が0.80以上であり、
(g-2)波長(λmax+10)nmにおける吸光係数ελmax+10が0.80以上であり、
(g-3)波長430nm以上580nm以下の領域における吸光係数の平均値ε430-580aveが0.03以下である。
[5] 前記化合物(A)が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことを特徴とする項[1]〜[4]のいずれか1項に記載の光学フィルター。
[6] 前記化合物(A)を含有する層が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂、およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂からなる樹脂層であることを特徴とする項[1]〜[5]のいずれか1項に記載の光学フィルター。
[7] 前記基材が、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層もしくはリン酸塩系ガラス層からなる基板を含むことを特徴とする項[2]に記載の光学フィルター。
[8] 項[1]〜[7]のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする撮像装置。
[9] 項[1]〜[7]のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
[光学フィルター]
本発明の光学フィルターは、下記要件(a)〜(d)を満たすことを特徴とする。本発明の光学フィルターは、後述する基材のみから構成されていてもよい。すなわち、本発明の光学フィルターは、誘電体多層膜を有していてもよく、また、有していなくてもよい。
(a)波長700nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光に対する光学濃度(OD値)の最小値(ODa-0)が2.0以上である。
(b)波長430nm〜580nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光の透過率の平均値(Ta-0)が40%以上である。
(c)波長420nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向に対して5度の角度から入射する光に対する反射率の平均値(Rfa-5)が20%以下である。
(d)波長650nm以上950nm未満の領域に吸収極大を有する化合物(A)を少なくとも3種含有する層を含む。
(e)前記要件(d)に記載の層を含む基材(以下「基材(i)」ともいう。)と、前記基材(i)の少なくとも片面に誘電体多層膜とを有し、前記誘電体多層膜を構成する層の中で厚みが0.5μm以下である層の層数(N)と、厚みが0.5μm以下である各層の厚みの和(TN)(μm)との積(N×TN)が150以下である。
前記要件(a)〜(e)の詳細については後述する。
要件(X):波長300nm以上1200nm以下の領域において、光学フィルターの一方の面における垂直方向に対して5度斜め方向から入射する光の反射率の最大値Rfalla-5と、他方の面における垂直方向に対して5度斜め方向から入射する光の反射率の最大値Rfallb-5とが、いずれも50%以下、より好ましくは45%以下である。
要件(a):波長700nm以上900nm以下の領域における最小値ODa-0は、2.0以上、好ましくは2.1以上8.0以下である。
ここで、OD値は透過率の常用対数値であり、下記式にて算出できる。
ある波長域における光学濃度(OD値)の最小値=−Log10(ある波長域における波長別透過率の最大値(%)/100)
要件(aX):波長700nm以上900nm以下の領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光に対する光学濃度の最小値ODa-0と、垂直方向に対して30度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の最小値ODa-30と、垂直方向に対して60度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の最小値ODa-60とが、いずれも2.0以上、好ましくは2.0以上8.0以下、より好ましくは2.1以上8.0以下である。
要件(a)、好ましくは要件(aX)を満たすことにより、光学フィルターは、垂直方向で透過する近赤外線のみでなく、高入射角で透過する近赤外線も十分にカットすることができる。
要件(b):波長430nm以上580nm以下の領域における透過率の平均値Ta-0は、40%以上、好ましくは45%以上、より好ましくは50%以上、特に好ましくは55%以上である。
要件(bX):波長430nm以上580nm以下の領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ta-0と、垂直方向に対して30度斜め方向から入射する無偏光光線の光の透過率の平均値Ta-30と、垂直方向に対して60度斜め方向から入射する無偏光光線の光の透過率の平均値Ta-60とが、いずれも40%以上、好ましくは43〜99%、より好ましくは46〜98%、特に好ましくは48〜97%である。
要件(c):波長420nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向に対して5度の角度から入射する光における反射率の平均値(Rfa-5)は、20%以下、好ましくは15%以下であり、より好ましくは6%以下、さらにより好ましくは0.1〜4%、特に好ましくは0.1〜3%である
要件(d):波長650nm以上950nm未満の領域に吸収極大を有する化合物(A)を少なくとも3種含有する層を含む。
要件(e):前記基材(i)の少なくとも片面に誘電体多層膜を有し、前記誘電体多層膜を構成する層の中で厚みが0.5μm以下である層の層数(N)と、厚みが0.5μm以下である各層の厚みの和(TN)(μm)との積(N×TN)が150以下である。前記積(N×TN)は、好ましくは100以下であり、より好ましくは50以下である。
前記基材(i)は、前記要件(d)を満たしていれば特に限定されず、単層であっても多層であってもよい。また、前記基材(i)は、波長950nm以上1800nm以下の領域に吸収極大を有する化合物(B)を含有していてもよく、化合物(B)は化合物(A)と同一の層に含まれていても異なる層に含まれていてもよい。以下、化合物(A)を少なくとも1種と樹脂とを含有する層を「透明樹脂層」ともいい、それ以外の樹脂層を単に「樹脂層」ともいう。
前記化合物(A)は、波長650nm以上950nm未満の領域に吸収極大があれば特に限定されないが、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことがより好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物から選ばれる少なくとも3種を含むことが特に好ましい。波長649nm以下に吸収極大を有する化合物は、極大吸収波長のピークに起因した吸収により420nm〜580nmにおける質量吸光係数が高い傾向にある。
(g-1)波長(λmax−10)nmにおける吸光係数ελmax-10が0.80以上であり、
(g-2)波長(λmax+10)nmにおける吸光係数ελmax+10が0.80以上であり、
(g-3)波長430nm以上580nm以下の領域における吸光係数の平均値ε430-580aveが0.03以下である。ελmax-10は、より好ましくは0.85以上であり、さらにより好ましくは0.90以上である。また、ελmax+10は、より好ましくは0.85以上であり、さらにより好ましくは0.90以上である。さらにまた、ε430-580aveは、より好ましくは0.025以下であり、さらにより好ましくは0.020以下である。
前記スクアリリウム系化合物としては、特に限定されるものではないが、下記式(I)で表されるスクアリリウム系化合物(以下「化合物(I)」ともいう。)、下記式(II)で表されるスクアリリウム系化合物(以下「化合物(II)」ともいう。)、ならびに、下記式(III−J)、(III−K)および(III−L)で表わされるスクアリリウム系化合物(以下、それぞれ「化合物(III−J)」、「化合物(III−K)」および(化合物(III−L))ともいい、これらを総称して「化合物(III)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が好ましい。
条件(α):
複数あるRaはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−L1または−NReRf基を表し;
複数あるRbはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−L1または−NRgRh基を表し;
複数あるYaはそれぞれ独立に、−NRjRk基を表し; L1は、La、Lb、Lc、Ld、Le、Lf、LgまたはLhを表し;
ReおよびRfはそれぞれ独立に、水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表し;
RgおよびRhはそれぞれ独立に、水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ld、−Leまたは−C(O)Ri基(Riは、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表す。)を表し;
RjおよびRkはそれぞれ独立に、水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表し;
Laは、置換基Lを有してもよい炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基を表し;
Lbは、置換基Lを有してもよい炭素数1〜12のハロゲン置換アルキル基を表し;
Lcは、置換基Lを有してもよい炭素数3〜14の脂環式炭化水素基を表し;
Ldは、置換基Lを有してもよい炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表し;
Leは、置換基Lを有してもよい炭素数3〜14の複素環基を表し;
Lfは、置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアルコキシ基を表し;
Lgは、置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアシル基を表し;
Lhは、置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアルコキシカルボニル基を表し;
Lは、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3〜14の脂環式炭化水素基、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、炭素数3〜14の複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基を表す。
1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの少なくとも1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、窒素原子を少なくとも1つ含む構成原子数5または6の複素環を形成する;
前記複素環は置換基を有していてもよく、Rbおよび前記複素環の形成に関与しないRaは、それぞれ独立に前記条件(α)のRbおよびRaと同義である。
R1〜R8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−NRgRh基、−SO2Ri基、−OSO2Ri基または下記La〜Lhのいずれかを表し、RgおよびRhは、それぞれ独立に水素原子、−C(O)Ri基または下記La〜Leのいずれかを表し、Riは下記La〜Leのいずれかを表す。
(La)炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基
(Lb)炭素数1〜12のハロゲン置換アルキル基
(Lc)炭素数3〜14の脂環式炭化水素基
(Ld)炭素数6〜14の芳香族炭化水素基
(Le)炭素数3〜14の複素環基
(Lf)炭素数1〜12のアルコキシ基
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1〜12のアシル基、
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1〜12のアルコキシカルボニル基 置換基Lは、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3〜14の脂環式炭化水素基、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基および炭素数3〜14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種である。
前記フタロシアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式(IV)で表される化合物(以下「化合物(IV)」ともいう。)であることが好ましい。
L1は、前記式(I)において定義したL1と同義であり、
L2は、水素原子または前記式(I)において定義したLa〜Leのいずれかを表し、
L3は、水酸基または前記La〜Leのいずれかを表し、
L4は、前記La〜Leのいずれかを表す。
前記シアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式(VII−1)〜(VII−13)のいずれかで表される化合物(以下「化合物(VII−1)〜(VII−13)」ともいう。)であることが好ましい。高い可視光透過率を達成できることから(VII−4)〜(VII−6)および(VII−9)〜(VII−11)が好ましく、(VII−4)および(VII−9)が特に好ましい。
L1は、前記式(I)において定義したL1と同義であり、
L2は、水素原子または前記式(I)において定義したLa〜Leのいずれかを表し、
L3は、水素原子または前記La〜Leのいずれかを表し、
L4は、前記La〜Leのいずれかを表し、
Za〜ZcおよびYa〜Ydはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4(L1〜L4は、前記Ra〜RiにおけるL1〜L4と同義である。)、または、これらのうち隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基;窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含んでもよい5乃至6員環の脂環式炭化水素基;もしくは、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含む、炭素数3〜14の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
前記化合物(B)としては、波長950nm以上1800nm以下の領域に吸収極大を有すれば特に限定されないが、近赤外線吸収微粒子、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。なお、化合物(B)は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。このような化合物(B)を用いることにより、幅広い近赤外線波長領域における吸収特性と優れた可視光透過率を達成することができる。
前記ジイモニウム系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば、下記式(s1)で表わされる化合物が好ましい。
(La)炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基
(Lb)炭素数1〜12のハロゲン置換アルキル基
(Lc)炭素数3〜14の脂環式炭化水素基(Ld)炭素数6〜14の芳香族炭化水素基
(Le)炭素数3〜14の複素環基
(Lf)炭素数1〜12のアルコキシ基
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1〜12のアシル基、
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1〜12のアルコキシカルボニル基
置換基Lは、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3〜14の脂環式炭化水素基、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基および炭素数3〜14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、nは0〜4の整数、Xは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。
前記金属ジチオラート系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば、下記式(s2)で表わされる化合物が好ましい。
前記Dは、好ましくは窒素原子、リン原子であり、前記Riは、好ましくはエチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、フェニル基である。
前記近赤外線吸収微粒子としては、波長950nm以上1800nm以下の領域に吸収を有するものであれば特に限定されないが、例えば、国際公開2017/018419号の段落[0047]〜[0075]に記載されている近赤外線吸収微粒子を挙げることができる。
前記化合物(A)の市販品としては、T090821、T091021、T089021,T090721、T090122(トスコ製)、B4360、D4773、D5013(東京化成工業製)、S4253、S1426(スペクトラムインフォ製)、ExcolorIR12、ExcolorIR14、ExcolorIR10A、ExcolorIR28、ExcolorTX−EX720、ExcolorTX−EX820、ExcolorTX−EX906(日本触媒製)などを挙げることができる。
前記基材を構成する(透明)樹脂層、樹脂製基板または樹脂製支持体に用いられる樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、100℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは110〜380℃、より好ましくは110〜370℃、さらに好ましくは120〜360℃である樹脂が挙げられる。また、前記樹脂のガラス転移温度が150℃以上であると、樹脂に化合物を高濃度に添加しガラス転移温度が低下した場合においても、誘電体多層膜を高温で蒸着形成しえるガラス転移温度を持つフィルムが得られるため、特に好ましい。
環状ポリオレフィン系樹脂としては、下記式(X0)で表される単量体および下記式(Y0)で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
(i')水素原子
(ii')ハロゲン原子
(iii')トリアルキルシリル基
(iv')酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(v')置換または非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(vi')極性基(但し、(ii')および(iv')を除く。)
(vii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基(但し、前記結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
(viii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環(但し、前記結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
(ix')Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環(但し、前記結合に関与しないRx1とRx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式(1)で表される構造単位および下記式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造単位を有することが好ましい。
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開2006−199945号公報や特開2008−163107号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開2008−163194号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開2010−285505号公報や特開2011−197450号公報に記載されている方法で合成することができる。
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも1つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開2008−181121号公報に記載されている方法で合成することができる。
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材(i)として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物(A)および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物(A)を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
ゾルゲル法によるシリカを主成分とする樹脂としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのフェニルアルコキシシラン等から選ばれる1種以上のシラン類の加水分解によるゾルゲル反応により得られる化合物を樹脂として使用することができる。
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状ポリオレフィン系樹脂の市販品としては、JSR(株)製アートン、日本ゼオン(株)製ゼオノア、三井化学(株)製APEL、ポリプラスチックス(株)製TOPASなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学(株)製スミカエクセルPESなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製ネオプリムLなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人(株)製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製ユピゼータEP−5000などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル(株)製OKP4HTなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、(株)日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学(株)製シルプラスなどを挙げることができる。
前記基材(i)は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤等の添加剤を含有してもよい。これらその他成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記近紫外線吸収剤としては、波長250〜420nmの領域に少なくとも一つの吸収極大を有する化合物であれば特に限定されないが、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、アントラセン系化合物などが挙げられる。
前記アゾメチン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(U−1)で表すことができる。
前記インドール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(U−2)で表すことができる。
前記ベンゾトリアゾール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(U−3)で表すことができる。
前記トリアジン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(U−4)、(U−5)または(U−6)で表すことができる。
前記酸化防止剤としては、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2'−ジオキシ−3,3'−ジ−t−ブチル−5,5'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、およびトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトなどが挙げられる。
≪樹脂製支持体≫
前記樹脂基板または樹脂製支持体に用いられる樹脂は、前述したとおりである。
前記ガラス支持体としては、特に限定されないが、例えば、ホウケイ酸塩系ガラス、ケイ酸塩系ガラス、ソーダ石灰ガラス、および近赤外線吸収ガラスなどが挙げられる。前記近赤外線吸収ガラスは、近赤外線カット特性を向上できる点と入射角依存性を低減できる点で好ましく、その具体例としては、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラスおよびリン酸塩系ガラスなどが挙げられる。
前記基材(i)が、前記化合物(A)を含有する樹脂製基板を含む基材である場合、該樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物(A)とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法;樹脂と化合物(A)とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法;または、化合物(A)、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
前記キャスト成形としては、化合物(A)、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法;または化合物(A)と、光硬化性樹脂および/または熱硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
本発明の光学フィルターは、前記基材(i)の少なくとも一方の面に反射防止層を有していてもよい。本発明における反射防止層とは、波長420nm以上1000nm以下の領域において、前記基材(i)の少なくとも一方の面に反射防止層を形成後の平均反射率が、前記基材(i)のみの平均反射率と同等あるいはより小さくなる効果を有する層である。
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材(i)と反射防止層(誘電体多層膜)との間、基材(i)の反射防止層が設けられた面と反対側の面、または反射防止層の基材(i)が設けられた面と反対側の面に、基材(i)や反射防止層の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の光学フィルターは、視野角が広く、赤色の感度が高く、ゴーストを改善した特性を有する。したがって、カメラモジュールのCCDやCMOSなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、スマートフォン用カメラ、デジタルビデオカメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、携帯ゲーム機、指紋認証システム、環境光センサー、距離測定センサー、虹彩認証システム、顔認証システム、距離測定カメラ、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。
本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とはCCDやCMOSなどといった固体撮像素子を備えたイメージセンサーである。固体撮像素子を構成する部材としては、シリコンフォトダイオードや有機半導体などの特定の波長の光を電荷に変換する光電変換素子が使用される。
本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、カメラモジュールとは、イメージセンサーや焦点調整機構、あるいは位相検出機構、距離測定機構等を備え、画像や距離情報を電気信号として出力する装置である。
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の(a)または(b)の方法にて測定を行った。
(a)ウオターズ(WATERS)社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー(GPC)装置(150C型、カラム:東ソー社製Hタイプカラム、展開溶剤:o−ジクロロベンゼン)を用い、標準ポリスチレン換算の質量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
(b)東ソー社製GPC装置(HLC−8220型、カラム:TSKgelα‐M、展開溶剤:THF)を用い、標準ポリスチレン換算の質量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計(DSC6200)を用いて、昇温速度:毎分20℃、窒素気流下で測定した。
光学フィルターの各波長域における透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計(U−4100)を用いて測定した。
ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図1(A)のように光学フィルター2に対して垂直に透過した光1を分光光度計3で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して30度の角度から測定した場合の透過率では、図1(B)のように光学フィルター2の垂直方向に対して30度の角度で透過した光1'を分光光度計3で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して60度の角度から測定した場合の透過率では、図1(C)のように光学フィルター2の垂直方向に対して60度の角度で透過した光1''を分光光度計3で測定した。
光学フィルターの各波長域における反射率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計(U−4100)を用いて測定した。 ここで、光学フィルターの垂直方向に対して5度の角度から測定した場合の反射率では、図2のように光学フィルター2の垂直方向に対して5度の角度で反射した光11を分光光度計3で測定した。
ジクロロメタン中における色素の吸収特性 波長650nm以上950nm未満の領域における最大吸収波長λmaxが波長850nm以上935nm以下である化合物(c−35)、(a−63)、(a−74)および(c−27)をジクロロメタンに溶解し、紫外可視分光光度計((株)島津製作所製、UV−3100)を用いて波長別透過率を測定し、波長850nm以上935nm未満の領域における最大吸収波長λmax、波長650nm以上950nm未満の領域における最大吸光係数ελmax(=1で規格化)、最大吸光係数ελmaxを1で規格化したときの波長(λmax−10nm)における吸光係数ελmax-10nm、最大吸光係数ελmaxを1で規格化したときの波長(λmax+10nm)における吸光係数ελmax+10nm、最大吸光係数ελmaxを1で規格化したときの波長430nm以上580nm以下の領域における波長別吸光係数の平均値ε430-580aveを算出した。これらの結果を表20に示す。
3Lの4つ口フラスコに2,6−ジフルオロベンゾニトリル35.12g(0.253mol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン87.60g(0.250mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下「DMAc」ともいう。)443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(以下「樹脂A」ともいう。)を得た(収率95%)。得られた樹脂Aは、数平均分子量(Mn)が75,000、質量平均分子量(Mw)が188,000であり、ガラス転移温度(Tg)が285℃であった。
下記式(8)で表される8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(以下「DNM」ともいう。)100部、1−ヘキセン(分子量調節剤)18部およびトルエン(開環重合反応用溶媒)300部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を80℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液(0.6mol/リットル)0.2部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液(濃度0.025mol/リットル)0.9部とを添加し、この溶液を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であった。
実施例A1では、樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例1で得られた樹脂A 100質量部、近紫外線吸収剤としてオリエント化学工業社製の光吸収剤「UA−3912」(以下「化合物(u−1)」という。)0.07部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.03部、上記化合物(b−39)0.07部、上記化合物(a−47)0.04部、上記化合物(a−89)0.15部、上記化合物(a−63)0.05部、上記化合物(a−74)0.05部および上記化合物(c−27)0.03部、ならびにN,N−ジメチルアセトアミドを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、60℃で8時間乾燥した後、60℃で8時間乾燥、さらに減圧下140℃で8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100℃で8時間乾燥して、厚さ0.100mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板からなる光学フィルターを得た。
実施例A2では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、近紫外線吸収剤として川崎化成社製の光吸収剤「UVS−581」(以下「化合物(u−2)」という。)0.2部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.03部、上記化合物(c−93)0.10部、上記化合物(a−89)0.10部および上記化合物(c−35)0.30部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして、厚さ0.100mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板を得た。
得られた樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物(3)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが4μmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光(露光量500mJ/cm2,200mW)を行い、樹脂組成物(3)を硬化させ、樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物(3)からなる樹脂層を形成し、化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
実施例A3では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、近紫外線吸収剤として上記化合物(u−2)0.30部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.04部、上記化合物(b−39)0.04部、上記化合物(c−93)0.14部、上記化合物(c−35)0.27部および上記化合物(c−27)0.11部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を用いたこと以外は実施例A1と同様にして、厚さ0.100mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板を得た。
得られた樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物(3)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが2μmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整したこと以外は実施例A2と同様にして、化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
実施例A4では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B100質量部、近紫外線吸収剤として上記化合物(u−2)0.30部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.06部および上記化合物(b−39)0.07部、上記化合物(c−93)0.20部および上記化合物(c−35)0.20部、化合物(B)として上記化合物(B−1)0.33部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を用いたこと以外は実施例A1と同様にして、厚さ0.100mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板を得た。
得られた樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物(3)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが2μmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整したこと以外は実施例A2と同様にして、化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
実施例A5では、ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、近紫外線吸収剤として上記化合物(u−1)5.00部、化合物(A)として、上記化合物(b−39)2.50部、上記化合物(a−20)2.50部および上記化合物(a−47)2.50部、上記化合物(c−35)5.00部、上記化合物(a−63)5.00部、上記化合物(c−27)2.50部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が10質量%の溶液を調製した。その後、孔径5μmのミリポアフィルタでろ過して樹脂溶液(D−1)を得た。
イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート(商品名:アロニックスM−315、東亜合成化学(株)製)30質量部、1,9−ノナンジオールジアクリレート20質量部、メタクリル酸20質量部、メタクリル酸グリシジル30質量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5質量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン(商品名:IRGACURE184、チバ・スペシャリティ・ケミカル(株)製)5質量部およびサンエイドSI−110主剤(三新化学工業(株)製)1質量部を混合し、固形分濃度が50wt%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径0.2μmのミリポアフィルタでろ過し、樹脂組成物(2)を調製した。
縦200mm、横200mmの大きさにカットした、松波硝子工業(株)製近赤外線吸収ガラス基板「BS−11」(厚み80μm)の片面に、前記樹脂組成物(2)をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上80℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。この際、該樹脂層の膜厚が0.8μm程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。
実施例A6では、ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、近紫外線吸収剤として上記化合物(u−2)7.50部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)1.00部、上記化合物(b−39)0.88部、上記化合物(c−93)3.50部、上記化合物(c−35)6.75部および上記化合物(c−27)2.75部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が10質量%の溶液を調製した。その後、孔径5μmのミリポアフィルタでろ過して樹脂溶液(D−2)を得た。
縦200mm、横200mmの大きさにカットした、日本電気硝子株式会社製の極薄ガラスフィルム「OA−10G」(商品名、厚さ100μm)の片面に前記樹脂組成物(2)をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上80℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。この際、該樹脂層の膜厚が0.8μm程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。次に、樹脂層上に、スピンコーターを用いて樹脂溶液(D−2)を乾燥後の膜厚が4μmとなるような条件で塗布したこと以外は実施例A5と同様にして、縦200mm、横200mmの基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
実施例A7では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.05部、上記化合物(b−39)0.05部、上記化合物(a−89)0.10部、上記化合物(a−63)0.10部、上記化合物(a−74)0.05部および化合物(B)として、上記化合物(B−1)0.30部ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。それ以外は実施例A2と同様の手順で化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
実施例A8では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、化合物(A)として、上記化合物(a−47)0.21部、上記化合物(a−89)0.05部、上記化合物(a−63)0.05部、および上記化合物(a−74)0.06部ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。それ以外は実施例A2と同様の手順で化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
実施例A9では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.06部、上記化合物(b−39)0.08部、上記化合物(a−63)0.22部、および上記化合物(a−74)0.10部ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。それ以外は実施例A2と同様の手順で化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
比較例A1では、ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
特許6267823号公報の[0075]〜[0079]および[0102]の実施例手順に従い、特許6267823号公報の実施例22に相当する、ガラス基板を含む光学フィルター(厚み380μm)を作成した。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
比較例A2では、両面に樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例2で得られた樹脂B 100質量部、近紫外線吸収剤として上記化合物(u−1)0.07部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.03部、上記化合物(b−39)0.07部および上記化合物(a−47)0.04部、上記化合物(a−89)0.10部および上記化合物(a−63)0.05部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を用いたこと以外は実施例A1と同様にして、厚さ0.100mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板を得た。
得られた樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物(3)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で2分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが2μmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整したこと以外は実施例A2と同様にして、化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例A1と同様の評価を行った。結果を表14に示す。
比較例A3では、樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A1と同様の方法で樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、60℃で8時間乾燥した後、60℃で8時間乾燥、さらに減圧下140℃で8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100℃で8時間乾燥して、厚さ0.200mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板からなる光学フィルターを得た。得られた光学フィルターは残留溶媒が多いため白化しており、分光透過率の評価はできなかった。
実施例B1では、樹脂製基板からなる基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A1と同様の手順で樹脂製基板からなる基材を得た。得られた基材の両面に下記表15に示す設計(III)の反射防止層を以下の手順で形成した。まず、前記基材の片面に、樹脂組成物(4)(荒川化学社製「オプスター TU2360」;590nmの屈折率:1.39)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが106.3nmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光(露光量500mJ/cm2,200mW)を行い、樹脂組成物(4)を硬化させ、樹脂製基板上に反射防止層を形成した。同様に、樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物(4)からなる反射防止層を形成することにより光学フィルターを得た。
実施例B2では、樹脂製基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A2と同様の手順で樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、下記表16に示す設計(IV)の反射防止層[シリカ(SiO2:550nmの屈折率1.46)層とチタニア(TiO2:550nmの屈折率2.48)層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜]を蒸着温度120℃で形成することにより光学フィルターを得た。
実施例B3では、樹脂製基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A3と同様の手順で樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、前記設計(IV)の反射防止層[シリカ(SiO2:550nmの屈折率1.46)層とチタニア(TiO2:550nmの屈折率2.48)層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜]を蒸着温度120℃で形成することにより光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例B1と同様の評価を行った。結果を表19に示す。
実施例B4では、樹脂製基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A4と同様の手順で樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に前記設計(III)の反射防止層を実施例B1と同様にして形成することにより光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例B1と同様の評価を行った。結果を表19に示す。
実施例B5では、ガラス基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A5と同様の手順でガラス基板の片面に透明樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、下記表17に示す設計(V)の反射防止層[シリカ(SiO2:550nmの屈折率1.46)層とチタニア(TiO2:550nmの屈折率2.48)層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜]を蒸着温度120℃で形成することにより光学フィルターを得た。
実施例B6では、ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A6と同様の手順でガラス基板の片面に透明樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、前記設計(V)の反射防止層[シリカ(SiO2:550nmの屈折率1.46)層とチタニア(TiO2:550nmの屈折率2.48)層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜]を蒸着温度120℃で形成することにより光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例B1と同様の評価を行った。結果を表19に示す。
実施例B7では、樹脂製基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A7と同様の手順で樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、実施例B5と同様の手順で光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例B1と同様の評価を行った。結果を表19に示す。
実施例B8では、樹脂製基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A8と同様の手順で樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、実施例B5と同様の手順で光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例B1と同様の評価を行った。結果を表19に示す。
実施例B9では、樹脂製基板を含む基材の両面に反射防止層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
実施例A9と同様の手順で樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。得られた基材の両面に、実施例B5と同様の手順で光学フィルターを得た。得られた光学フィルターについて、実施例B1と同様の評価を行った。結果を表19に示す。
比較例B1では、基材の両面に近赤外線反射層を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
容器に、樹脂合成例1で得られた樹脂A 100質量部、化合物(A)として、上記化合物(a−17)0.08部および上記化合物(b−39)0.11部、ならびにN,N−ジメチルアセトアミドを加えて樹脂濃度が20質量%の溶液を調製した。得られた溶液を用いたこと以外は実施例A1と同様にして、厚さ0.070mm、縦200mm、横200mmの樹脂製基板を得た。
得られた樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物(3)をバーコーターで塗布し、オーブン中70℃で2分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが2μmとなるように、バーコーターの塗布条件を調整したこと以外は実施例A2と同様にして、化合物(A)を含む樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
<ガラス基板>
ガラス基板(1):近赤外線吸収ガラス基板「BS−11」(松浪硝子工業(株)製)
ガラス基板(4):極薄ガラスフィルム「OA−10G」(日本電気硝子株式会社製)
ガラス基板(X):透明ガラス基板(特許6267823号公報[0075]〜[0078]参照)
樹脂組成物(2):イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート(商品名:アロニックスM−315、東亜合成化学(株)製)30質量部、1,9−ノナンジオールジアクリレート20質量部、メタクリル酸20質量部、メタクリル酸グリシジル30質量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5質量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン(商品名:IRGACURE184、チバ・スペシャリティ・ケミカル(株)製)5質量部およびサンエイドSI−110主剤(三新化学工業(株)製)1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤、固形分濃度(TSC)50%)
樹脂組成物(3):トリシクロデカンジメタノールジアクリレート60質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート40質量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン5質量部、メチルエチルケトン(溶剤、固形分濃度(TSC):30%)
樹脂組成物(4):オプスター TU2360(荒川化学社製)
樹脂組成物(X):リン酸銅含有樹脂組成物(特許6267823号公報[0075]〜[0078]参照)
≪近紫外線吸収剤≫
化合物(u−1):オリエント化学工業社製の光吸収剤「UA−3912」(ジクロロメタン中での極大吸収波長389nm)化合物(u−2):川崎化成社製の光吸収剤「UVS−581」(ジクロロメタン中での極大吸収波長367nm)
化合物(a−17):(ジクロロメタン中での極大吸収波長713nm)
化合物(b−39):(ジクロロメタン中での極大吸収波長736nm)
化合物(a−20):(ジクロロメタン中での極大吸収波長704nm)
化合物(a−47):(ジクロロメタン中での極大吸収波長776nm)
化合物(c−93):(ジクロロメタン中での極大吸収波長770nm)
化合物(a−63):(ジクロロメタン中での極大吸収波長868nm)
化合物(a−89):(ジクロロメタン中での極大吸収波長822nm)
化合物(c−35):(ジクロロメタン中での極大吸収波長870nm)
化合物(a−74):(ジクロロメタン中での極大吸収波長933nm)
化合物(c−27):(ジクロロメタン中での極大吸収波長933nm)
化合物(B−1):日本カーリット社製の光吸収剤「CIR−RL」(ジクロロメタン中での吸収極大波長1095nm)
2・・・光学フィルター
3・・・分光光度計
11・・・反射光
Claims (9)
- 下記要件(a)〜(d)を満たすことを特徴とする光学フィルター:
(a)波長700nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光に対する光学濃度(OD値)の最小値(ODa-0)が2.0以上である;
(b)波長430nm〜580nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する光の透過率の平均値(Ta-0)が40%以上である;
(c)波長420nm〜900nmの領域において、光学フィルターの面に対して垂直方向に対して5度の角度から入射する光に対する反射率の平均値(Rfa-5)が20%以下である;
(d)波長650nm以上950nm未満の領域に吸収極大を有する化合物(A)を少なくとも3種含有する層を含む。 - さらに下記要件(e)を満たすことを特徴とする請求項1に記載の光学フィルター:
(e)前記要件(d)に記載の層を含む基材と、前記基材の少なくとも片面に誘電体多層膜とを有し、前記誘電体多層膜を構成する層の中で厚みが0.5μm以下である層の層数(N)と、厚みが0.5μm以下である各層の厚みの和(TN)(μm)との積(N×TN)が150以下である。 - 厚みが160μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルター。
- 前記化合物(A)の少なくとも1種が、ジクロロメタンに溶解して測定される吸収特性として、下記要件(f)および(g)を満たすことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルター:
(f)波長650nm以上950nm未満の領域における最大吸収波長λmaxが波長850nm以上935nm以下である;
(g)波長650nm以上950nm未満の領域における最大吸光係数ελmaxを1で規格化したとき、
(g-1)波長(λmax−10)nmにおける吸光係数ελmax-10が0.80以上であり、
(g-2)波長(λmax+10)nmにおける吸光係数ελmax+10が0.80以上であり、
(g-3)波長430nm以上580nm以下の領域における吸光係数の平均値ε430-580aveが0.03以下である。 - 前記化合物(A)が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学フィルター。
- 前記化合物(A)を含有する層が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂、およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂からなる樹脂層であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学フィルター。
- 前記基材が、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層もしくはリン酸塩系ガラス層からなる基板を含むことを特徴とする請求項2に記載の光学フィルター。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする撮像装置。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019095065 | 2019-05-21 | ||
JP2019095065 | 2019-05-21 | ||
JP2020019764 | 2020-02-07 | ||
JP2020019764 | 2020-02-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021120733A true JP2021120733A (ja) | 2021-08-19 |
Family
ID=73442042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020087390A Pending JP2021120733A (ja) | 2019-05-21 | 2020-05-19 | 光学フィルターおよびその用途 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021120733A (ja) |
KR (1) | KR20200134161A (ja) |
CN (1) | CN111983743B (ja) |
TW (1) | TW202045963A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023218937A1 (ja) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | Agc株式会社 | 光学フィルタ及びuv色素 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3163813B2 (ja) | 1992-12-28 | 2001-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品 |
WO2011071157A1 (ja) | 2009-12-11 | 2011-06-16 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタガラス |
CN102985856B (zh) | 2010-06-18 | 2015-12-16 | 株式会社大真空 | 红外截止滤光片 |
JP5743534B2 (ja) * | 2010-07-23 | 2015-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、液晶表示装置、固体撮像素子、並びにジピロメテン系金属錯体化合物及びその互変異性体 |
JP6183048B2 (ja) | 2012-08-27 | 2017-08-23 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび固体撮像装置 |
JP6317875B2 (ja) | 2012-09-06 | 2018-04-25 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法 |
JP6065169B1 (ja) * | 2015-02-18 | 2017-01-25 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP6627864B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2020-01-08 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
JP2016206530A (ja) | 2015-04-27 | 2016-12-08 | Hoya株式会社 | 光学フィルタ素子 |
KR20180087265A (ko) * | 2015-11-30 | 2018-08-01 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터, 환경 광 센서 및 센서 모듈 |
KR102434709B1 (ko) * | 2016-08-31 | 2022-08-22 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 |
WO2018221424A1 (ja) * | 2017-05-29 | 2018-12-06 | Jsr株式会社 | 環境光センサー用光学フィルター |
JP6939224B2 (ja) * | 2017-08-04 | 2021-09-22 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
-
2020
- 2020-05-18 KR KR1020200058864A patent/KR20200134161A/ko unknown
- 2020-05-19 JP JP2020087390A patent/JP2021120733A/ja active Pending
- 2020-05-20 CN CN202010433530.0A patent/CN111983743B/zh active Active
- 2020-05-20 TW TW109116767A patent/TW202045963A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023218937A1 (ja) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | Agc株式会社 | 光学フィルタ及びuv色素 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200134161A (ko) | 2020-12-01 |
TW202045963A (zh) | 2020-12-16 |
CN111983743B (zh) | 2024-02-27 |
CN111983743A (zh) | 2020-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7088261B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP6508247B2 (ja) | 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール | |
JP6627864B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP7200985B2 (ja) | 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 | |
KR101661088B1 (ko) | 광학 필터, 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 | |
KR101983742B1 (ko) | 고체 촬상 소자용 광학 필터, 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 | |
JP7163918B2 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 | |
WO2014192714A1 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
WO2015022892A1 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
JP6939224B2 (ja) | 光学フィルターおよびその用途 | |
WO2014192715A1 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
JP2016142891A (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP2015040895A (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
KR102601436B1 (ko) | 신규 시아닌 화합물, 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 | |
JP7040362B2 (ja) | 光学フィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび生体認証装置 | |
JP7143881B2 (ja) | 光学フィルターおよびその用途 | |
JP2021120733A (ja) | 光学フィルターおよびその用途 | |
JP2023013953A (ja) | 光学部材、光学フィルター、固体撮像装置および光学センサー装置 | |
JP2015004838A (ja) | 固体撮像装置用近赤外線カットフィルターならびに前記フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール | |
JP2021070782A (ja) | 樹脂組成物、樹脂層および光学フィルター |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231031 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240422 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240514 |