KR102601436B1 - 신규 시아닌 화합물, 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 - Google Patents
신규 시아닌 화합물, 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102601436B1 KR102601436B1 KR1020160094009A KR20160094009A KR102601436B1 KR 102601436 B1 KR102601436 B1 KR 102601436B1 KR 1020160094009 A KR1020160094009 A KR 1020160094009A KR 20160094009 A KR20160094009 A KR 20160094009A KR 102601436 B1 KR102601436 B1 KR 102601436B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- resin
- based resin
- optical filter
- substrate
- Prior art date
Links
- -1 cyanine compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 107
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 55
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 147
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 147
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 65
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 38
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 23
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 10
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 8
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 7
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 7
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 5
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 4
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 4
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 54
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 18
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 43
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 27
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 27
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 24
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 19
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 9
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 9
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 6
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- YRRZGBOZBIVMJT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethanamine;hydron;chloride Chemical compound Cl.NCCF YRRZGBOZBIVMJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical group CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVXMMGDVXJQPGE-UHFFFAOYSA-N 1,3-ditert-butyl-2-(2,6-ditert-butylphenyl)sulfanylbenzene Chemical group CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1SC1=C(C(C)(C)C)C=CC=C1C(C)(C)C YVXMMGDVXJQPGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBARCLXJQDVYCK-UHFFFAOYSA-N 1,3-ditert-butyl-2-[(2,6-ditert-butylphenyl)disulfanyl]benzene Chemical group CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1SSC1=C(C(C)(C)C)C=CC=C1C(C)(C)C WBARCLXJQDVYCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSNTXEMTCNEWPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenylpropan-2-yl)-4-[4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]sulfanylbenzene Chemical group C=1C=C(SC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QSNTXEMTCNEWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDOCKERGEAIYQC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenylpropan-2-yl)-4-[[4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]disulfanyl]benzene Chemical group C=1C=C(SSC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 SDOCKERGEAIYQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SFUPIIYNIVSCNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,6-diphenylphenyl)sulfanyl-1,3-diphenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=1C=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=1SC1=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=C1C1=CC=CC=C1 SFUPIIYNIVSCNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWKINKGAHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 2-(butan-2-yldisulfanyl)butane Chemical group CCC(C)SSC(C)CC QTWKINKGAHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCNDTDWDGQHSD-UHFFFAOYSA-N 2-(tert-butyldisulfanyl)-2-methylpropane Chemical group CC(C)(C)SSC(C)(C)C BKCNDTDWDGQHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPDLXUACBWGNCX-UHFFFAOYSA-N 2-[(2,6-diphenylphenyl)disulfanyl]-1,3-diphenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=1C=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=1SSC1=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=C1C1=CC=CC=C1 MPDLXUACBWGNCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROHFBIREHKPELA-UHFFFAOYSA-N 2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]prop-2-enoic acid;methane Chemical compound C.CC(C)(C)C1=CC(CC(=C)C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O.CC(C)(C)C1=CC(CC(=C)C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O.CC(C)(C)C1=CC(CC(=C)C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O.CC(C)(C)C1=CC(CC(=C)C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O ROHFBIREHKPELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEBAOPMEYUWQPD-UHFFFAOYSA-N 2-butan-2-ylsulfanylbutane Chemical group CCC(C)SC(C)CC IEBAOPMEYUWQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONJROLGQWMBXAP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropyldisulfanyl)propane Chemical group CC(C)CSSCC(C)C ONJROLGQWMBXAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMWSRWTXVQLHNX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropylsulfanyl)propane Chemical group CC(C)CSCC(C)C CMWSRWTXVQLHNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FEKWWZCCJDUWLY-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1h-pyrrole Chemical compound CC=1C=CNC=1 FEKWWZCCJDUWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N Dibutyl disulfide Chemical group CCCCSSCCCC CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl sulfide Chemical group CCCCSCCCC HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N Diethyl disulfide Chemical group CCSSCC CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical group CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N Dipropyl sulfide Chemical group CCCSCCC ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical group NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100028255 Renin Human genes 0.000 description 1
- 108090000783 Renin Proteins 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004915 dibutylamino group Chemical group C(CCC)N(CCCC)* 0.000 description 1
- WCYBYZBPWZTMDW-UHFFFAOYSA-N dibutylazanide Chemical group CCCC[N-]CCCC WCYBYZBPWZTMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical group CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical group CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical group CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical group CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N dipropyl disulfide Chemical group CCCSSCCC ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical group CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- UMCSHTKHXAMMQM-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methyltetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodec-9-ene-4-carboxylate Chemical compound C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1(C)C(=O)OC UMCSHTKHXAMMQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006217 methyl sulfide group Chemical group [H]C([H])([H])S* 0.000 description 1
- MGJXBDMLVWIYOQ-UHFFFAOYSA-N methylazanide Chemical group [NH-]C MGJXBDMLVWIYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006126 n-butyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical group C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 125000001828 phenalenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000004962 sulfoxyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001981 tert-butyldimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([H])(C([H])([H])[H])[*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical class Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003952 β-lactams Chemical group 0.000 description 1
- 150000003953 γ-lactams Chemical group 0.000 description 1
- 150000003954 δ-lactams Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/58—[b]- or [c]-condensed
- C07D209/60—Naphtho [b] pyrroles; Hydrogenated naphtho [b] pyrroles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/90—Benzo [c, d] indoles; Hydrogenated benzo [c, d] indoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/027—Organoboranes and organoborohydrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3415—Five-membered rings
- C08K5/3417—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
- C08L2203/206—Applications use in electrical or conductive gadgets use in coating or encapsulating of electronic parts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
[과제] 내광성이 우수한 광학 필터를 제공 가능한 시아닌계 화합물, 해당 시아닌계 화합물을 사용한 광학 필터 및 해당 광학 필터를 사용한 장치를 제공하는 것.
[해결수단] 본 발명의 시아닌 화합물은 음이온과 양이온으로 이루어지는 반대 이온 결합체이고, 해당 양이온이 식 (I-1) 내지 (I-6) 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 한다.
[해결수단] 본 발명의 시아닌 화합물은 음이온과 양이온으로 이루어지는 반대 이온 결합체이고, 해당 양이온이 식 (I-1) 내지 (I-6) 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 신규 시아닌 화합물, 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치에 관한 것이다.
비디오 카메라, 디지털 스틸 카메라, 카메라 기능을 구비한 휴대 전화 등의 고체 촬상 장치에는 컬러 화상의 고체 촬상 소자인 CCD나 CMOS 이미지 센서가 사용되고 있지만, 이들 고체 촬상 소자는, 그의 수광부에 있어서 인간의 눈으로는 감지할 수 없는 근적외선에 감도를 갖는 실리콘 포토다이오드가 사용되고 있다. 이들 고체 촬상 소자에서는, 인간의 눈으로 보아서 자연스러운 색조로 하는 시감도 보정을 행하는 것이 필요하고, 특정한 파장 영역의 광선을 선택적으로 투과 또는 커트하는 광학 필터(예를 들어 근적외선 커트 필터)를 사용하는 경우가 많다.
이러한 근적외선 커트 필터로서는 종래부터 각종 방법으로 제조된 것이 사용되고 있다. 예를 들어, 일본 특허 공개 평6-200113호 공보(특허문헌 1)에는, 기재로서 투명 수지를 사용하여, 투명 수지 중에 근적외선 흡수 색소를 함유시킨 근적외선 커트 필터가 기재되어 있다. 특히, 근적외선 흡수 색소로서 시아닌계 화합물을 사용한 근적외선 커트 필터가 널리 알려져 있다(예를 들어 특허문헌 2 및 특허문헌 3 참조).
그러나, 시아닌계 화합물은 일반적으로 광에 대한 안정성이 낮아, 고체 촬상 소자 용도에 요구되는 내광성을 달성할 수 없는 경우가 있었다.
본 발명의 과제는 종래의 근적외선 커트 필터 등의 광학 필터가 갖고 있었던 결점을 개량하고, 내광성이 우수한 광학 필터를 제공 가능한 시아닌계 화합물, 해당 시아닌계 화합물을 사용한 광학 필터 및 해당 광학 필터를 사용한 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명자들은 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 특정한 시아닌계 화합물을 적용함으로써, 내광성이 우수한 광학 필터가 얻어지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 본원 발명의 형태의 예를 이하에 나타내었다.
[1] 음이온과 양이온으로 이루어지는 반대 이온 결합체이고, 해당 양이온이 하기 일반식 (I-1) 내지 (I-6) 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 시아닌 화합물.
식 (I-1) 내지 (I-6) 중,
m 및 n은 각각 0 내지 5의 정수를 나타내고, 복수 있는 D는 독립적으로 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고,
복수 있는 Ra, Rb, Rc, Rd, Re, Rf, Rg, Rh 및 Ri, 및 R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 카르복시기, 니트로기, 아미노기, 아미드기, 이미드기, 시아노기, 실릴기, -L1, -S-L2, -SS-L2, -SO2-L3, -N=N-L4, 또는 Rb와 Rc, Rd와 Re, Re와 Rf, Rf와 Rg, Rg와 Rh, Rh와 Ri 및 R1과 R2 중 적어도 하나의 조합이 결합한, 하기 식 (A) 내지 (H)로 표시되는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 기를 나타내고,
상기 아미노기, 아미드기, 이미드기 및 실릴기는 탄소수 1 내지 12의 지방족 탄화수소기, 탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환 알킬기, 탄소수 3 내지 14의 지환식 탄화수소기, 탄소수 6 내지 14의 방향족 탄화수소기 및 탄소수 3 내지 14의 복소환기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 치환기 L을 가질 수도 있고,
L1은 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
L2는 수소 원자 또는 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
L3은 수산기 또는 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
L4는 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
(La) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 지방족 탄화수소 기
(Lb) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환 알킬기
(Lc) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 14의 지환식 탄화수소기
(Ld) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 14의 방향족 탄화수소 기
(Le) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 14의 복소환기
Q1은 하기 일반식 (q1)을 나타내고, Q2는 하기 일반식 (q2) 내지 (q4) 중 어느 하나로 표시되는 구조를 나타낸다.
식 (A) 내지 (H) 중, Rx와 Ry의 조합은 Rb와 Rc, Rd와 Re, Re와 Rf, Rf와 Rg, Rg와 Rh, Rh와 Ri 및 R1과 R2의 조합이고,
복수 있는 RA 내지 RL은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 카르복시기, 니트로기, 아미노기, 아미드기, 이미드기, 시아노기, 실릴기, -L1, -S-L2, -SS-L2, -SO2-L3 또는 -N=N-L4(L1 내지 L4는 상기 식 (I-1) 내지 (I-6)에 있어서 정의한 L1 내지 L4와 동의임.)를 나타내고, 상기 아미노기, 아미드기, 이미드기 및 실릴기는 상기 치환기 L을 가질 수도 있다.
-C(=O)CaX2a + 1 (q1)
-CbY2b + 1 (q2)
-CcY2c-OCdY2d+1 (q3)
식 (q1) 중, a는 1 내지 5의 정수를 나타내고, X는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 X는 동일하거나 상이할 수도 있다. 식 (q2) 및 (q3) 중, b 내지 d는 각각 1 내지 5의 정수를 나타내고, Y는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 Y는 동일하거나 상이할 수도 있다. 식 (q4) 중, p는 1 내지 5의 정수를 나타내고, T1 내지 T5는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, -OCZ3 또는 -OCeZ2eCZ3(e는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Z는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 Z는 동일할 수도 있고 상이할 수도 있음.)을 나타낸다. 단, X, Y 및 Z 중 적어도 1개는 할로겐 원자이다.
[2] 상기 음이온이 하기 일반식 (II)로 표시되는 것을 특징으로 하는 항 [1]에 기재된 시아닌 화합물.
(II)
식 (II) 중, Y1 내지 Y20은 모두 불소 원자이거나, 또는 Y2, Y4, Y7, Y9, Y12, Y14, Y17, Y19가 트리플루오로메틸기이고, 나머지 Y가 수소 원자이다.
[3] 항 [1] 또는 [2]에 기재된 시아닌 화합물을 함유하는 투명 수지층을 포함하는 기판과, 상기 기판의 적어도 한쪽의 면 상에 형성된 근적외선 반사막을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
[4] 상기 투명 수지층을 구성하는 투명 수지가 환상 올레핀계 수지, 방향족 폴리에테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 플루오렌 폴리카르보네이트계 수지, 플루오렌 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리파라페닐렌계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트계 수지, 불소화 방향족 중합체계 수지, (변성) 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 알릴에스테르계 경화형 수지 및 실세스퀴옥산계 자외선 경화 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 수지인 항 [3]에 기재된 광학 필터.
[5] 상기 근적외선 반사막이 상기 기판의 양면 상에 형성되어 있는 것인 항 [3] 또는 [4]에 기재된 광학 필터.
[6] 고체 촬상 장치용인 항 [3] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필터.
[7] 항 [3] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필터를 구비하는 고체 촬상 장치.
[8] 항 [3] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필터를 구비하는 카메라 모듈.
[9] 항 [1] 또는 [2]에 기재된 시아닌 화합물과, 환상 올레핀계 수지, 방향족 폴리에테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 플루오렌 폴리카르보네이트계 수지, 플루오렌 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리파라페닐렌계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트계 수지, 불소화 방향족 중합체계 수지, (변성) 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 알릴에스테르계 경화형 수지 및 실세스퀴옥산계 자외선 경화 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 수지를 함유하는 수지 조성물.
본 발명에 따르면, 내광성이 우수한 광학 필터를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.
본 발명에 따른 광학 필터는 후술하는 본 발명의 시아닌 화합물(이하 「시아닌 화합물 (A)」 또는 「화합물 (A)」라고도 함.)을 함유하는 투명 수지층을 포함하는 기판과, 상기 기판의 적어도 한쪽의 면 상에 형성된 근적외선 반사막을 갖는다.
[투명 수지층을 포함하는 기판]
본 발명의 광학 필터를 구성하는 투명 수지층을 포함하는 기판(이하, 간단히 「기판」이라고도 함.)은 단층이거나 다층(다층의 경우, 예를 들어 베이스가 되는 투명 수지층 상에 경화 수지를 포함하는 오버코트층 등이 적층된 구성)일 수도 있고, 근적외선 흡수 색소로서 적어도 화합물 (A)를 1종 이상 함유하고 있고, 흡수 극대가 파장 700 내지 1000nm, 보다 바람직하게는 750 내지 900nm의 범위에 있고, 흡수 극대 파장에 있어서의 투과율이 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 8% 이하이다. 기판의 흡수 극대 파장이나 흡수 극대 파장에 있어서의 투과율이 이러한 범위에 있으면, 해당 기판은 근적외선을 선택적으로 효율적으로 커트할 수 있음과 함께, 기판의 면 상에 근적외선 반사막을 제막했을 때, 가시 파장 내지 근적외 파장 영역 부근의 광학 특성의 입사각 의존성을 저감할 수 있다.
카메라 모듈 등의 용도에 따라서는, 파장 400 내지 700nm의 소위 가시광 영역에서, 화합물 (A)를 함유한 기판의 두께를 100㎛로 했을 때의 해당 기판의 평균 투과율이 50% 이상, 바람직하게는 65% 이상인 것이 필요한 경우도 있다.
상기 기판의 두께는 원하는 용도에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 특별히 제한되지 않지만, 해당 기판이 상기와 같은 입사각 의존 개량성을 갖도록 조정하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 내지 250㎛, 더욱 바람직하게는 40 내지 200㎛, 특히 바람직하게는 50 내지 150㎛이다.
기판의 두께가 상기 범위에 있으면, 해당 기판을 사용한 광학 필터를 소형화 및 경량화할 수 있어, 고체 촬상 장치 등의 여러 가지 용도에 적절하게 사용할 수 있다. 특히, 상기 기판을 카메라 모듈 등의 렌즈 유닛에 사용한 경우에는, 렌즈 유닛의 저배화(低背化)를 실현할 수 있기 때문에 바람직하다.
상기 기판은 화합물 (A) 외에, 추가로 스쿠아릴륨계 화합물, 화합물 (A) 이외의 시아닌계 화합물 및 프탈로시아닌계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 근적외선 흡수 색소 (X)를 함유할 수 있다. 이러한 기판을 사용함으로써, 가시 파장 영역 내지 근적외 파장 영역에서의 입사각 의존성을 더욱 작게 할 수 있는데다, 흡수대의 파형을 더욱 샤프하게 할 수 있고, 시야각이 넓은 광학 필터를 얻을 수 있다.
상기 화합물 (A)와 상기 근적외선 흡수 색소 (X)는 동일한 층에 포함되어 있거나 별도의 층에 포함되어 있을 수도 있다. 동일한 층에 포함되는 경우에는, 예를 들어 화합물 (A)와 근적외선 흡수 색소 (X)가 모두 동일한 투명 수지층 중에 포함되는 형태를 들 수 있고, 별도의 층에 포함되는 경우에는, 예를 들어 화합물 (A)가 포함되는 투명 수지층 상에 상기 근적외선 흡수 색소 (X)가 포함되는 층이 적층되어 있는 형태를 들 수 있다.
화합물 (A)와 근적외선 흡수 색소 (X)는 동일한 층에 포함되어 있는 쪽이 보다 바람직하고, 이러한 경우, 별도의 층에 포함되는 경우보다 화합물 (A)와 근적외선 흡수 색소 (X)의 함유량 비율을 제어하는 것이 보다 용이하게 된다.
[시아닌 화합물 (A)]
본 발명의 시아닌 화합물 (A)는 하기 일반식 (I-1) 내지 (I-6) 중 어느 하나로 표시되는 양이온(이하, 이들을 통합하여 「양이온 (I)」이라고도 함.)과 음이온(이하 「음이온 (II)」라고도 함.)으로 이루어지는 반대 이온 결합체이다.
≪양이온 (I)≫
식 (I-1) 내지 (I-6) 중,
m 및 n은 각각 0 내지 5의 정수를 나타내고, 복수 있는 D는 독립적으로 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고,
복수 있는 Ra, Rb, Rc, Rd, Re, Rf, Rg, Rh 및 Ri, 및 R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 카르복시기, 니트로기, 아미노기, 아미드기, 이미드기, 시아노기, 실릴기, -L1, -S-L2, -SS-L2, -SO2-L3, -N=N-L4, 또는 Rb와 Rc, Rd와 Re, Re와 Rf, Rf와 Rg, Rg와 Rh, Rh와 Ri 및 R1과 R2 중 적어도 하나의 조합이 결합한, 하기 식 (A) 내지 (H)로 표시되는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 기를 나타내고,
상기 아미노기, 아미드기, 이미드기 및 실릴기는 탄소수 1 내지 12의 지방족 탄화수소기, 탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환 알킬기, 탄소수 3 내지 14의 지환식 탄화수소기, 탄소수 6 내지 14의 방향족 탄화수소기 및 탄소수 3 내지 14의 복소환기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 치환기 L을 가질 수도 있고,
L1은 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
L2는 수소 원자 또는 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
L3은 수산기 또는 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
L4는 하기 La 내지 Le 중 어느 하나를 나타내고,
(La) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 지방족 탄화수소 기
(Lb) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환 알킬기
(Lc) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 14의 지환식 탄화수소기
(Ld) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 14의 방향족 탄화수소 기
(Le) 상기 치환기 L을 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 14의 복소환기
Q1은 하기 일반식 (q1)을 나타내고, Q2는 하기 일반식 (q2) 내지 (q4) 중 어느 하나로 표시되는 구조를 나타낸다.
식 (A) 내지 (H) 중, Rx와 Ry의 조합은 Rb와 Rc, Rd와 Re, Re와 Rf, Rf와 Rg, Rg와 Rh, Rh와 Ri 및 R1과 R2의 조합이고,
복수 있는 RA 내지 RL은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 카르복시기, 니트로기, 아미노기, 아미드기, 이미드기, 시아노기, 실릴기, -L1, -S-L2, -SS-L2, -SO2-L3 또는 -N=N-L4(L1 내지 L4는 상기 식 (I-1) 내지 (I-6)에 있어서 정의한 L1 내지 L4와 동의임.)를 나타내고, 상기 아미노기, 아미드기, 이미드기 및 실릴기는 상기 치환기 L을 가질 수도 있다.
-C(=O)CaX2a+1 (q1)
-CbY2b+1 (q2)
-CcY2c-OCdY2d+1 (q3)
식 (q1) 중, a는 1 내지 5의 정수를 나타내고, X는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 X는 동일하거나 상이할 수도 있다. 식 (q2) 및 (q3) 중, b 내지 d는 각각 1 내지 5의 정수를 나타내고, Y는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 Y는 동일하거나 상이할 수도 있다. 식 (q4) 중, p는 1 내지 5의 정수를 나타내고, T1 내지 T5는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, -OCZ3 또는 -OCeZ2eCZ3(e는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Z는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 Z는 동일할 수도 있고 상이할 수도 있음.)을 나타낸다. 단, X, Y 및 Z 중 적어도 1개는 할로겐 원자이다.
상기 La 내지 Le는 치환기를 포함한 탄소수의 합계가 각각 50 이하인 것이 바람직하고, 탄소수 40 이하인 것이 더욱 바람직하고, 탄소수 30 이하인 것이 특히 바람직하다. 탄소수가 이 범위보다 많으면, 색소의 합성이 곤란해지는 경우가 있음과 함께, 단위 중량당의 흡수 강도가 작아져 버리는 경향이 있다.
상기 La 및 L에 있어서의 탄소수 1 내지 12의 지방족 탄화수소기로서는, 예를 들어 메틸기(Me), 에틸기(Et), n-프로필기(n-Pr), 이소프로필기(i-Pr), n-부틸기(n-Bu), sec-부틸기(s-Bu), tert-부틸기(t-Bu), 펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기 및 도데실기 등의 알킬기; 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 2-메틸-1-프로페닐기, 2-펜테닐기, 헥세닐기 및 옥테닐기 등의 알케닐기; 및 에티닐기, 프로피닐기, 부티닐기, 2-메틸-1-프로피닐기, 헥시닐기 및 옥티닐기 등의 알키닐기를 들 수 있다.
상기 Lb 및 L에 있어서의 탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환 알킬기로서는, 예를 들어 트리클로로메틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1-디클로로에틸기, 펜타클로로 에틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타클로로프로필기 및 헵타플루오로프로필기를 들 수 있다.
상기 Lc 및 L에 있어서의 탄소수 3 내지 14의 지환식 탄화수소기로서는, 예를 들어 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 및 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기; 노르보르난기 및 아다만탄기 등의 다환 지환식기를 들 수 있다.
상기 Ld 및 L에 있어서의 탄소수 6 내지 14의 방향족 탄화수소기로서는, 예를 들어 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 메시틸기, 쿠메닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 아세나프틸기, 페날레닐기, 테트라히드로나프틸기, 인다닐기 및 비페닐릴기를 들 수 있다.
상기 Le 및 L에 있어서의 탄소수 3 내지 14의 복소환기로서는, 예를 들어 푸란, 티오펜, 피롤, 피라졸, 이미다졸, 트리아졸, 옥사졸, 옥사디아졸, 티아졸, 티아디아졸, 인돌, 인돌린, 인돌레닌, 벤조푸란, 벤조티오펜, 카르바졸, 디벤조푸란, 디벤조티오펜, 피리딘, 피리미딘, 피라진, 피리다진, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 아크리딘, 모르폴린 및 페나진 등의 복소환을 포함하는 기를 들 수 있다.
상기 La로서는, 상술한 「탄소수 1 내지 12의 지방족 탄화수소기」, 및 당해 지방족 탄화수소기가 상기 치환기 L을 추가로 갖는 것을 들 수 있고, 바람직하게는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 4-페닐부틸기, 2-시클로헥실에틸이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 헥실기이다.
상기 Lb로서는, 상술한 「탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환 알킬기」, 및 당해 할로겐 치환 알킬기가 상기 치환기 L을 추가로 갖는 것을 들 수 있고, 바람직하게는 트리클로로메틸기, 펜타클로로에틸기, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 5-시클로헥실-2,2,3,3-테트라플루오로펜틸기이고, 보다 바람직하게는 트리클로로메틸기, 펜타클로로에틸기, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기이다.
상기 Lc로서는, 상술한 「탄소수 3 내지 14의 지환식 탄화수소기」, 및 당해 지환식 탄화수소기가 상기 치환기 L을 추가로 갖는 것을 들 수 있고, 바람직하게는 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 4-에틸시클로헥실기, 시클로옥틸기, 4-페닐시클로헵틸기이고, 보다 바람직하게는 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 4-에틸시클로헥실기이다.
상기 Ld로서는, 상술한 「탄소수 6 내지 14의 방향족 탄화수소기」, 및 당해 방향족 탄화수소기가 상기 치환기 L을 추가로 갖는 것을 들 수 있고, 바람직하게는 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 톨릴기, 크실릴기, 메시틸기, 쿠메닐기, 3,5-디-tert-부틸페닐기, 4-시클로펜틸페닐기, 2,3,6-트리페닐페닐기, 2,3,4,5,6-펜타페닐페닐기이고, 보다 바람직하게는 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 메시틸기, 쿠메닐기, 2,3,4,5,6-펜타페닐페닐기이다.
상기 Le로서는, 상술한 「탄소수 3 내지 14의 복소환기」, 및 당해 복소환기가 상기 치환기 L을 추가로 갖는 것을 들 수 있고, 바람직하게는 푸란, 티오펜, 피롤, 인돌, 인돌린, 인돌레닌, 벤조푸란, 벤조티오펜, 모르폴린을 포함하는 기이고, 보다 바람직하게는 푸란, 티오펜, 피롤, 모르폴린을 포함하는 기이다.
상기 La 내지 Le는 추가로, 할로겐 원자, 술포기, 수산기, 시아노기, 니트로기, 카르복시기, 인산기 및 아미노기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 원자 또는 기를 갖고 있을 수도 있다. 이러한 예로서는 4-술포부틸기, 4-시아노부틸기, 5-카르복시펜틸기, 5-아미노펜틸기, 3-히드록시프로필기, 2-포스포릴에틸기, 6-아미노-2,2-디클로로헥실기, 2-클로로-4-히드록시부틸기, 2-시아노시클로부틸기, 3-히드록시시클로펜틸기, 3-카르복시시클로펜틸기, 4-아미노시클로헥실기, 4-히드록시시클로헥실기, 4-히드록시페닐기, 2-히드록시나프틸기, 4-아미노페닐기, 2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐기, 4-니트로페닐기, 3-메틸피롤을 포함하는 기, 2-히드록시에톡시기, 3-시아노프로폭시기, 4-플루오로벤조일기, 2-히드록시에톡시카르보닐기, 4-시아노부톡시카르보닐기를 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, 치환기 L을 가질 수도 있는 아미노기로서는 아미노기, 에틸아미노기, 디메틸아미노기, 메틸에틸아미노기, 디부틸아미노기, 디이소프로필아미노기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, 치환기 L을 가질 수도 있는 아미드기로서는 아미드기, 메틸아미드기, 디메틸아미드기, 디에틸아미드기, 디프로필아미드기, 디이소프로필아미드기, 디부틸아미드기, α-락탐기, β-락탐기, γ-락탐기, δ-락탐기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, 치환기 L을 가질 수도 있는 이미드기로서는 이미드기, 메틸이미드기, 에틸이미드기, 디에틸이미드기, 디프로필이미드기, 디이소프로필이미드기, 디부틸이미드기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, 치환기 L을 가질 수도 있는 실릴기로서는 트리메틸실릴기, tert-부틸디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 트리에틸실릴기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, -S-L2로서는 티올기, 메틸술피드기, 에틸술피드기, 프로필술피드기, 부틸술피드기, 이소부틸술피드기, sec-부틸술피드기, tert-부틸술피드기, 페닐술피드기, 2,6-디-tert-부틸페닐술피드기, 2,6-디페닐페닐술피드기, 4-쿠밀페닐술피드기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, -SS-L2로서는 디술피드기, 메틸디술피드기, 에틸디술피드기, 프로필디술피드기, 부틸디술피드기, 이소부틸디술피드기, sec-부틸디술피드기, tert-부틸디술피드기, 페닐디술피드기, 2,6-디-tert-부틸페닐디술피드기, 2,6-디페닐페닐디술피드기, 4-쿠밀페닐디술피드기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, -SO2-L3으로서는 술폭실기, 메실기, 에틸술포닐기, n-부틸술포닐기, p-톨루엔술포닐기 등을 들 수 있다.
상기 Ra 내지 Ri 및 R1 내지 R3에 있어서, -N=N-L4로서는 메틸아조기, 페닐아조기, p-메틸페닐아조기, p-디메틸아미노페닐아조기 등을 들 수 있다.
≪음이온 (II)≫
상기 음이온 (II)는 시아닌계 화합물의 음이온체이면, 특별히 한정되지 않지만, 시아닌 화합물의 내광성 향상의 관점에서, 예를 들어 하기 화학식 (II)로 표시되는 음이온을 들 수 있다.
(II)
식 (II) 중, Y1 내지 Y20은 모두 불소 원자이거나, 또는 Y2, Y4, Y7, Y9, Y12, Y14, Y17, Y19가 트리플루오로메틸기이고, 나머지 Y가 수소 원자이다.
<근적외선 흡수 색소 (X)>
상기 근적외선 흡수 색소 (X)는 스쿠아릴륨계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물 및 상기 화합물 (A) 이외의 시아닌계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이고, 스쿠아릴륨계 화합물을 포함하는 것이 특히 바람직하다. 근적외선 흡수 색소 (X)의 흡수 극대 파장은 바람직하게는 620nm 이상, 더욱 바람직하게는 650nm 이상, 특히 바람직하게는 670nm 이상이고, 또한 바람직하게는 800nm 미만, 더욱 바람직하게는 750nm 이하, 특히 바람직하게는 730nm 이하이고, 또한 동시에 포함되는 화합물 (A)의 흡수 극대 파장보다 단파장측에 흡수 극대를 갖는 것이 바람직하다. 흡수 극대 파장이 이러한 파장 범위에 있으면, 흡수대의 파형을 더욱 샤프하게 할 수 있는데다, 근적외 흡수 색소에 의한 흡수대를 충분히 넓힐 수 있어, 더욱 우수한 입사각 의존 개량 성능이나 고스트 저감 효과를 달성할 수 있다.
상기 기판에 있어서, 근적외선 흡수 색소 (X)의 함유량은 투명 수지층을 구성하는 투명 수지 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 내지 5.0중량부, 보다 바람직하게는 0.02 내지 3.5중량부, 특히 바람직하게는 0.03 내지 2.5중량부이다. 근적외선 흡수 색소 (X)의 함유량이 상기 범위 내에 있으면, 양호한 근적외선 흡수 특성과 높은 가시광 투과율을 양립시킬 수 있다.
《스쿠아릴륨계 화합물》
스쿠아릴륨계 화합물로서는, 식 (III-1)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물 및 식 (III-2)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
식 (III-1) 중, Ra, Rb 및 Y는 하기 (i) 또는 (ii)의 조건을 만족한다.
조건 (i)
복수 있는 Ra는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 술포기, 수산기, 시아노기, 니트로기, 카르복시기, 인산기, -L1 또는 -NReRf기를 나타낸다. Re 및 Rf는 각각 독립적으로 수소 원자, -La, -Lb, -Lc, -Ld 또는 -Le를 나타낸다.
복수 있는 Rb는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 술포기, 수산기, 시아노기, 니트로기, 카르복시기, 인산기, -L1 또는 -NRgRh기를 나타낸다. Rg 및 Rh는 각각 독립적으로 수소 원자, -La, -Lb, -Lc, -Ld, -Le 또는 -C(O)Ri기(Ri는 -La, -Lb, -Lc, -Ld 또는 -Le를 나타냄)를 나타낸다.
복수 있는 Y는 각각 독립적으로 -NRjRk기를 나타낸다. Rj 및 Rk는 각각 독립적으로 수소 원자, -La, -Lb, -Lc, -Ld 또는 -Le를 나타낸다.
상기 L1, La, Lb, Lc, Ld, Le는 각각 독립적으로 상기 식 (I-1) 내지 (I-6)에서 정의한 L1, La, Lb, Lc, Ld, Le와 동의이다.
조건 (ii)
1개의 벤젠환 상의 2개의 Ra 중 적어도 1개가, 동일한 벤젠환 상의 Y와 서로 결합하여, 질소 원자를 적어도 1개 포함하는 구성 원자수 5 또는 6의 복소환을 형성하고, 상기 복소환은 치환기를 갖고 있을 수도 있고, Rb 및 상기 복소환의 형성에 관여하지 않는 Ra는 각각 독립적으로 상기 (i)의 Rb 및 Ra와 동의이다.
식 (III-2) 중, X는 O, S, Se, N-Rc 또는 C-RdRd를 나타내고; 복수 있는 Rc는 각각 독립적으로 수소 원자, -La, -Lb, -Lc, -Ld 또는 -Le를 나타내고; 복수 있는 Rd는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 술포기, 수산기, 시아노기, 니트로기, 카르복시기, 인산기, -L1 또는 -NReRf기를 나타내고, 인접하는 Rd끼리 연결되어 치환기를 갖고 있을 수도 있는 환을 형성할 수도 있고; La 내지 Le, L1은 상기 식 (I-1) 내지 (I-6)에서 정의한 La 내지 Le, L1과 동의이고, Re 및 Rf는 상기 (i)의 Re 및 Rf와 동의이다.
상기 스쿠아릴륨계 화합물 중앙의 4원환에 결합하고 있는 좌우의 치환기는 동일하거나 상이할 수도 있지만, 동일한 쪽이 합성상 용이하기 때문에 바람직하다.
상기 스쿠아릴륨계 화합물은 일반적으로 알려져 있는 방법으로 합성할 수 있고, 예를 들어 일본 특허 공개 평1-228960호 공보, 일본 특허 공개 제2001-40234호 공보, 일본 특허 제3196383호 공보 등에 기재되어 있는 방법 등을 참조하여 합성할 수 있다.
《프탈로시아닌계 화합물》
프탈로시아닌계 화합물로서는, 일반적으로 알려져 있는 임의의 구조의 것을 사용할 수 있고, 예를 들어 일본 특허 제4081149호 공보나 「프탈로시아닌 -화학과 기능-」(아이피시, 1997년)에 기재되어 있는 방법으로 합성할 수 있다.
《시아닌계 화합물》
시아닌계 화합물로서는, 화합물 (A) 이외에 일반적으로 알려져 있는 임의의 구조의 것을 사용할 수 있고, 예를 들어 일본 특허 공개 제2009-108267호 공보에 기재되어 있는 방법으로 합성할 수 있다.
<투명 수지>
상기 기판은 투명 수지를 사용하여 형성할 수 있다.
투명 수지로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 것인 한 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 열 안정성 및 필름으로의 성형성을 확보하고, 또한 100℃ 이상의 증착 온도에서 행하는 고온 증착에 의해 유전체 다층막을 형성할 수 있는 필름으로 하기 위해서, 유리 전이 온도(Tg)가 바람직하게는 110 내지 380℃, 보다 바람직하게는 110 내지 370℃, 더욱 바람직하게는 120 내지 360℃인 수지를 들 수 있다. 또한, 상기 수지의 유리 전이 온도가 140℃ 이상이면, 유전체 다층막을 보다 고온에서 증착 형성할 수 있는 필름이 얻어지기 때문에, 특히 바람직하다.
투명 수지로서는, 당해 수지를 포함하는 두께 0.1mm의 수지판을 형성한 경우에, 이 수지판의 전체 광선 투과율(JIS K7105)이 바람직하게는 75 내지 95%, 더욱 바람직하게는 78 내지 95%, 특히 바람직하게는 80 내지 95%가 되는 수지를 사용할 수 있다. 전체 광선 투과율이 이러한 범위가 되는 수지를 사용하면, 얻어지는 기판은 광학 필름으로서 양호한 투명성을 나타낸다.
투명 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정되는, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은, 통상 15,000 내지 350,000, 바람직하게는 30,000 내지 250,000이고, 수 평균 분자량(Mn)은, 통상 10,000 내지 150,000, 바람직하게는 20,000 내지 100,000이다.
투명 수지로서는, 예를 들어 환상 올레핀계 수지, 방향족 폴리에테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 플루오렌 폴리카르보네이트계 수지, 플루오렌 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드(아라미드)계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리파라페닐렌계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)계 수지, 불소화 방향족 중합체계 수지, (변성) 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 알릴에스테르계 경화형 수지 및 실세스퀴옥산계 자외선 경화 수지를 들 수 있다.
≪환상 올레핀계 수지≫
환상 올레핀계 수지로서는, 하기 식 (X0)로 표시되는 단량체 및 하기 식 (Y0)로 표시되는 단량체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 단량체로부터 얻어지는 수지, 및 당해 수지를 수소 첨가함으로써 얻어지는 수지가 바람직하다.
식 (X0) 중, Rx1 내지 Rx4는 각각 독립적으로 하기 (i') 내지 (ix')으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, kx, mx 및 px는 각각 독립적으로 0 또는 양의 정수를 나타낸다.
(i') 수소 원자
(ii') 할로겐 원자
(iii') 트리알킬실릴기
(iv') 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 갖는, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기
(v') 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기
(vi') 극성기(단, (iv')을 제외함.)
(vii') Rx1과 Rx2 또는 Rx3과 Rx4가, 서로 결합하여 형성된 알킬리덴기(단, 상기 결합에 관여하지 않는 Rx1 내지 Rx4는 각각 독립적으로 상기 (i') 내지 (vi')으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타냄.)
(viii') Rx1과 Rx2 또는 Rx3과 Rx4가, 서로 결합하여 형성된 단환 또는 다환의 탄화수소환 또는 복소환(단, 상기 결합에 관여하지 않는 Rx1 내지 Rx4는 각각 독립적으로 상기 (i') 내지 (vi')으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타냄.)
(ix') Rx2와 Rx3이, 서로 결합하여 형성된 단환의 탄화수소환 또는 복소환(단, 상기 결합에 관여하지 않는 Rx1과 Rx4는 각각 독립적으로 상기 (i') 내지 (vi')으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타냄.)
식 (Y0) 중, Ry1 및 Ry2는 각각 독립적으로 상기 (i') 내지 (vi')으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내거나, Ry1과 Ry2가, 서로 결합하여 형성된 단환 또는 다환의 지환식 탄화수소, 방향족 탄화수소 또는 복소환을 나타내고, ky 및 py는 각각 독립적으로 0 또는 양의 정수를 나타낸다.
≪방향족 폴리에테르계 수지≫
방향족 폴리에테르계 수지는 하기 식 (1)로 표시되는 구조 단위 및 하기 식 (2)로 표시되는 구조 단위로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.
식 (1) 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가의 유기 기를 나타내고, a 내지 d는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
식 (2) 중, R1 내지 R4 및 a 내지 d는 각각 독립적으로 상기 식 (1) 중의 R1 내지 R4 및 a 내지 d와 동의이고, Y는 단결합, -SO2- 또는 >C=O를 나타내고, R7 및 R8은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 12의 1가의 유기기 또는 니트로기를 나타내고, g 및 h는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고, m은 0 또는 1을 나타낸다. 단, m이 0일 때, R7은 시아노기가 아니다.
또한, 상기 방향족 폴리에테르계 수지는, 또한 하기 식 (3)으로 표시되는 구조 단위 및 하기 식 (4)로 표시되는 구조 단위로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.
식 (3) 중, R5 및 R6은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 1가의 유기기를 나타내고, Z는 단결합, -O-, -S-, -SO2-, >C=O, -CONH-, -COO- 또는 탄소수 1 내지 12의 2가의 유기기를 나타내고, e 및 f는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수를 나타내고, n은 0 또는 1을 나타낸다.
식 (4) 중, R7, R8, Y, m, g 및 h는 각각 독립적으로 상기 식 (2) 중의 R7, R8, Y, m, g 및 h와 동의이고, R5, R6, Z, n, e 및 f는 각각 독립적으로 상기 식 (3) 중의 R5, R6, Z, n, e 및 f와 동의이다.
≪폴리이미드계 수지≫
폴리이미드계 수지로서는, 특별히 제한되지 않고, 반복 단위에 이미드 결합을 포함하는 고분자 화합물이면 되고, 예를 들어 일본 특허 공개 제2006-199945호 공보나 일본 특허 공개 제2008-163107호 공보에 기재되어 있는 방법으로 합성할 수 있다.
≪플루오렌 폴리카르보네이트계 수지≫
플루오렌 폴리카르보네이트계 수지로서는, 특별히 제한되지 않고, 플루오렌 부위를 포함하는 폴리카르보네이트 수지이면 되고, 예를 들어 일본 특허 공개 제2008-163194호 공보에 기재되어 있는 방법으로 합성할 수 있다.
≪플루오렌 폴리에스테르계 수지≫
플루오렌 폴리에스테르계 수지로서는, 특별히 제한되지 않고, 플루오렌 부위를 포함하는 폴리에스테르 수지이면 되고, 예를 들어 일본 특허 공개 제2010-285505호 공보나 일본 특허 공개 제2011-197450호 공보에 기재되어 있는 방법으로 합성할 수 있다.
≪불소화 방향족 중합체계 수지≫
불소화 방향족 중합체계 수지로서는, 특별히 제한되지 않지만, 적어도 1개의 불소를 갖는 방향족 환과, 에테르 결합, 케톤 결합, 술폰 결합, 아미드 결합, 이미드 결합 및 에스테르 결합으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 결합을 포함하는 반복 단위를 함유하는 중합체이면 되고, 예를 들어 일본 특허 공개 제2008-181121호 공보에 기재되어 있는 방법으로 합성할 수 있다.
≪시판품≫
투명 수지의 시판품으로서는, 이하의 시판품 등을 들 수 있다. 환상 올레핀계 수지의 시판품으로서는, JSR 가부시끼가이샤 제조 아톤, 닛본 제온 가부시끼가이샤 제조 제오노아, 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 APEL, 폴리플라스틱스 가부시끼가이샤 제조 TOPAS 등을 들 수 있다. 폴리에테르술폰계 수지의 시판품으로서는, 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 스미카엑셀 PES 등을 들 수 있다. 폴리이미드계 수지의 시판품으로서는 미쯔비시 가스 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 네오프림 L 등을 들 수 있다. 폴리카르보네이트계 수지의 시판품으로서는, 테이진 가부시끼가이샤 제조 퓨어 에이스 등을 들 수 있다. 플루오렌 폴리카르보네이트계 수지의 시판품으로서는, 미쯔비시 가스 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 유피제타 EP-5000 등을 들 수 있다. 플루오렌 폴리에스테르계 수지의 시판품으로서는, 오사까 가스 케미컬 가부시끼가이샤 제조 OKP4HT 등을 들 수 있다. 아크릴계 수지의 시판품으로서는, 가부시키가이샤 닛본 쇼꾸바이제 아크리뷰아 등을 들 수 있다. 실세스퀴옥산계 자외선 경화 수지의 시판품으로서는, 신닛테쯔 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 실플러스 등을 들 수 있다.
<기타 성분>
상기 기판은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 추가로 산화 방지제, 근자외선 흡수제, 근적외선을 흡수하는 색소, 형광 소광제 및 금속 착체계 화합물 등의 첨가제를 함유할 수도 있다. 또한, 후술하는 캐스트 성형에 의해 기판을 제조하는 경우에는, 레벨링제나 소포제를 첨가함으로써 기판의 제조를 용이하게 할 수 있다. 이들 기타 성분은 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 근자외선 흡수제로서는, 예를 들어 아조메틴계 화합물, 인돌계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다.
상기 산화 방지제로서는, 예를 들어 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2,2'-디옥시-3,3'-디-t-부틸-5,5'-디메틸디페닐메탄 및 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄 등을 들 수 있다.
상기 근적외선을 흡수하는 색소로서는, 예를 들어 디티올계 색소, 디이모늄계 색소, 포르피린계 색소, 크로코늄계 색소 등을 들 수 있다. 이들 색소의 구조는 특별히 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 것이면 일반적으로 알려져 있는 것을 사용할 수 있다.
또한, 이들 첨가제는, 기판을 제조할 때에, 수지 등과 함께 혼합할 수도 있고, 수지를 제조할 때에 첨가할 수도 있다. 또한, 첨가량은 원하는 특성에 따라서 적절히 선택되는 것이지만, 수지 100중량부에 대하여, 통상 0.01 내지 5.0중량부, 바람직하게는 0.05 내지 2.0중량부이다.
<기판의 제조 방법>
상기 기판은 예를 들어 용융 성형 또는 캐스트 성형에 의해 형성할 수 있고, 필요에 따라, 성형 후에, 반사 방지제, 하드 코팅제 및/또는 대전 방지제 등의 코팅제를 코팅하는 방법에 의해 제조할 수 있다.
≪용융 성형≫
상기 기판은 수지와 근적외선 흡수 색소를 용융 혼련하여 얻어진 펠릿을 용융 성형하는 방법; 수지와 근적외선 흡수 색소를 함유하는 수지 조성물을 용융 성형하는 방법; 또는, 근적외선 흡수 색소, 수지 및 용제를 포함하는 수지 조성물로부터 용제를 제거하여 얻어진 펠릿을 용융 성형하는 방법 등에 의해 제조할 수 있다. 용융 성형 방법으로서는, 예를 들어 사출 성형, 용융 압출 성형 또는 블로우 성형 등을 들 수 있다.
≪캐스트 성형≫
상기 기판은 근적외선 흡수 색소, 수지 및 용제를 포함하는 수지 조성물을 적당한 기재 상에 캐스팅하여 용제를 제거하는 방법; 반사 방지제, 하드 코팅제 및/또는 대전 방지제 등의 코팅제와, 근적외선 흡수 색소와, 수지를 포함하는 수지 조성물을 적당한 기재 상에 캐스팅하는 방법; 또는, 반사 방지제, 하드 코팅제 및/또는 대전 방지제 등의 코팅제와, 근적외선 흡수 색소와, 수지를 포함하는 경화성 조성물을 적당한 기재 상에 캐스팅하여 경화 및 건조시키는 방법 등에 의해 제조할 수도 있다.
상기 기재로서는, 예를 들어 유리판, 스틸 벨트, 스틸 드럼 및 투명 수지(예를 들어, 폴리에스테르 필름, 환상 올레핀계 수지 필름)를 들 수 있다.
상기 기판은 기재로부터 박리함으로써 얻을 수 있고, 또한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기재로부터 박리하지 않고 기재와 도막(투명 수지층)과의 적층체를 상기 기판으로 할 수도 있다.
또한, 유리판, 석영 또는 투명 플라스틱제 등의 광학 부품에, 상기 수지 조성물을 코팅하여 용제를 건조시키는 방법, 또는 상기 경화성 조성물을 코팅하여 경화 및 건조시키는 방법 등에 의해, 광학 부품 상에 직접 투명 수지층을 형성할 수도 있다.
상기 방법으로 얻어진 기판 중의 잔류 용제량은 가능한 한 적은 쪽이 좋다. 구체적으로는, 상기 잔류 용제량은 기판의 무게에 대하여, 바람직하게는 3중량% 이하, 보다 바람직하게는 1중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.5중량% 이하이다. 잔류 용제량이 상기 범위에 있으면, 변형이나 특성이 변화하기 어려워, 원하는 기능을 용이하게 발휘할 수 있는 기판이 얻어진다.
[근적외선 반사막]
본 발명의 광학 필터를 구성하는 근적외선 반사막은 근적외선을 반사하는 능력을 갖는 막이다. 본 발명에서는, 근적외선 반사막은 상기 기판의 편면에 설치할 수도 있고, 양면에 설치할 수도 있다. 편면에 설치하는 경우, 제조 비용이나 제조 용이성이 우수하고, 양면에 설치하는 경우, 높은 강도를 갖고, 휨이 발생하기 어려운 광학 필터를 얻을 수 있다. 광학 필터를 고체 촬상 소자 용도에 적용하는 경우, 광학 필터의 휨이 작은 쪽이 바람직한 점에서, 근적외선 반사막을 기판의 양면에 설치하는 것이 바람직하다.
근적외선 반사막으로서는, 예를 들어 알루미늄 증착막, 귀금속 박막, 산화인듐을 주성분으로 하고 산화주석을 소량 함유시킨 금속 산화물 미립자를 분산시킨 수지막, 고굴절률 재료층과 저굴절률 재료층을 교대로 적층한 유전체 다층막을 들 수 있다. 근적외선 반사막 중에서는, 고굴절률 재료층과 저굴절률 재료층을 교대로 적층한 유전체 다층막이 보다 바람직하다.
고굴절률 재료층을 구성하는 재료로서는, 굴절률이 1.7 이상인 재료를 사용할 수 있고, 굴절률이 통상은 1.7 내지 2.5인 재료가 선택된다. 이러한 재료로서는, 예를 들어 산화티타늄, 산화지르코늄, 오산화탄탈럼, 오산화니오븀, 산화란탄, 산화이트륨, 산화아연, 황화아연 또는 산화인듐 등을 주성분으로 하고, 산화티타늄, 산화주석 및/또는 산화세륨 등을 소량(예를 들어, 주성분에 대하여 0 내지 10중량%) 함유시킨 것을 들 수 있다.
저굴절률 재료층을 구성하는 재료로서는, 굴절률이 1.6 이하인 재료를 사용할 수 있고, 굴절률이 통상은 1.2 내지 1.6인 재료가 선택된다. 이러한 재료로서는, 예를 들어 실리카, 알루미나, 불화란탄, 불화마그네슘 및 육불화알루미늄나트륨을 들 수 있다.
고굴절률 재료층과 저굴절률 재료층을 적층하는 방법에 대해서는, 이들 재료층을 적층한 유전체 다층막이 형성되는 한 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 기판 상에 직접, CVD법, 스퍼터법, 진공 증착법, 이온 어시스트 증착법 또는 이온 플레이팅법 등에 의해, 고굴절률 재료층과 저굴절률 재료층을 교대로 적층한 유전체 다층막을 형성할 수 있다.
고굴절률 재료층 및 저굴절률 재료층의 각 층의 두께는 통상, 차단하려고 하는 근적외선 파장을 λ(nm)로 하면, 0.1λ 내지 0.5λ의 두께가 바람직하다. λ(nm)의 값으로서는, 예를 들어 700 내지 1400nm, 바람직하게는 750 내지 1300nm이다. 두께가 이 범위이면, 굴절률(n)과 막 두께(d)와의 곱(n×d)이 λ/4로 산출되는 광학적 막 두께와 고굴절률 재료층 및 저굴절률 재료층의 각 층의 두께가 거의 동일값이 되어, 반사·굴절의 광학적 특성의 관계로부터, 특정 파장의 차단·투과를 용이하게 컨트롤할 수 있는 경향이 있다.
유전체 다층막에 있어서의 고굴절률 재료층과 저굴절률 재료층과의 합계의 적층수는, 광학 필터 전체로서 5 내지 60층인 것이 바람직하고, 10 내지 50층인 것이 보다 바람직하다.
또한, 유전체 다층막을 형성했을 때에 기판에 휨이 발생해 버리는 경우에는, 이것을 해소하기 위해서, 기판 양면에 유전체 다층막을 형성하거나, 기판의 유전체 다층막을 형성한 면에 자외선 등의 전자파를 조사하거나 하는 방법 등을 취할 수 있다. 또한, 전자파를 조사하는 경우, 유전체 다층막의 형성 중에 조사할 수도 있고, 형성 후 별도 조사할 수도 있다.
[기타의 기능막]
본 발명의 광학 필터는 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 기판과 유전체 다층막 등의 근적외선 반사막과의 사이, 기판의 근적외선 반사막이 설치된 면과 반대측의 면, 또는 근적외선 반사막의 기판이 설치된 면과 반대측의 면에, 기판이나 근적외선 반사막의 표면 경도의 향상, 내약품성의 향상, 대전 방지 및 흠집 제거 등의 목적으로, 반사 방지막, 하드 코팅막이나 대전 방지막 등의 기능막을 적절히 설치할 수 있다.
본 발명의 광학 필터는 상기 기능막을 포함하는 층을 1층 포함할 수도 있고, 2층 이상 포함할 수도 있다. 본 발명의 광학 필터가 상기 기능막을 포함하는 층을 2층 이상 포함하는 경우에는, 동일한 층을 2층 이상 포함할 수도 있고, 다른 층을 2층 이상 포함할 수도 있다.
기능막을 적층하는 방법으로서는, 특별히 제한되지 않지만, 반사 방지제, 하드 코팅제 및/또는 대전 방지제 등의 코팅제 등을 수지제 기판 또는 근적외선 반사막 상에, 상기와 마찬가지로 용융 성형 또는 캐스트 성형하는 방법 등을 들 수 있다.
또한, 상기 코팅제 등을 포함하는 경화성 조성물을 바 코터 등으로 기판 또는 적외선 반사막 상에 도포한 후, 자외선 조사 등에 의해 경화함으로써도 제조할 수 있다.
상기 코팅제로서는, 자외선(UV)/전자선(EB) 경화형 수지나 열경화형 수지 등을 들 수 있고, 구체적으로는 비닐 화합물류나, 우레탄계, 우레탄아크릴레이트계, 아크릴레이트계, 에폭시계 및 에폭시아크릴레이트계 수지 등을 들 수 있다. 이들 코팅제를 포함하는 상기 경화성 조성물로서는 비닐계, 우레탄계, 우레탄아크릴레이트계, 아크릴레이트계, 에폭시계 및 에폭시아크릴레이트계 경화성 조성물 등을 들 수 있다.
또한, 상기 경화성 조성물은 중합 개시제를 포함하고 있을 수도 있다. 상기 중합 개시제로서는, 공지된 광중합 개시제 또는 열중합 개시제를 사용할 수 있고, 광중합 개시제와 열중합 개시제를 병용할 수도 있다. 중합 개시제는 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 경화성 조성물 중, 중합 개시제의 배합 비율은 경화성 조성물의 전량을 100중량%로 한 경우, 바람직하게는 0.1 내지 10중량%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 5중량%이다. 중합 개시제의 배합 비율이 상기 범위에 있으면, 경화성 조성물의 경화 특성 및 취급성이 우수하고, 원하는 경도를 갖는 반사 방지막, 하드 코팅막이나 대전 방지막 등의 기능막을 얻을 수 있다.
또한, 상기 경화성 조성물에는 용제로서 유기 용제를 첨가할 수도 있고, 유기 용제로서는, 공지된 것을 사용할 수 있다. 유기 용제의 구체예로서는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산에틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류를 들 수 있다. 이들 용제는 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 기능막의 두께는 바람직하게는 0.1㎛ 내지 20㎛, 더욱 바람직하게는 0.5㎛ 내지 10㎛, 특히 바람직하게는 0.7㎛ 내지 5㎛이다.
또한, 기판과 기능막 및/또는 근적외선 반사막과의 밀착성이나, 기능막과 근적외선 반사막과의 밀착성을 올리는 목적으로, 기판이나 기능막의 표면에 코로나 처리나 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 할 수도 있다.
[광학 필터의 특성 등]
본 발명의 광학 필터는 상기 기판을 갖는다. 이로 인해, 본 발명의 광학 필터는 투과율 특성이 우수하고, 사용할 때에 제약을 받지 않는다. 또한, 기판에 포함되는 화합물 (A)는 파장 700 내지 1000nm에 흡수 극대를 갖기 때문에 근적외광을 효율적으로 흡수할 수 있고, 상기 근적외선 반사막과 조합함으로써, 입사각 의존성이 적은 광학 필터를 얻을 수 있다.
상기 광학 필터를 고체 촬상 소자용에 사용하는 경우, 가시광 투과율이 높은 쪽이 바람직하다. 특히 근년, 카메라 모듈에 있어서도 고화질화의 요구가 강해지고 있고, 촬상 감도나 색 재현성을 향상시키기 위해서, 파장 430 내지 460nm의 단파장측의 투과율을 높게 할 필요가 있다. 구체적으로는, 파장 430 내지 460nm의 평균 투과율은 바람직하게는 81% 이상, 보다 바람직하게는 83% 이상, 특히 바람직하게는 85% 이상이다. 또한, 파장 461 내지 580nm의 평균 투과율도 마찬가지로 높은 쪽이 바람직하고, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 88% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다. 각각의 파장 영역에 있어서 평균 투과율이 이 범위에 있으면, 고체 촬상 소자 용도로서 사용한 경우, 우수한 촬상 감도와 색 재현성을 달성할 수 있다.
상기 광학 필터를 고체 촬상 소자용으로 사용하는 경우, 근적외 파장 영역의 투과율이 낮은 쪽이 바람직하다. 특히, 파장 800 내지 1000nm의 영역은 고체 촬상 소자의 수광 감도가 비교적 높은 것이 알려져 있어, 이 파장 영역의 투과율을 저감시킴으로써, 카메라 화상과 인간의 눈의 시감도 보정을 효과적으로 행할 수 있어, 우수한 색 재현성을 달성할 수 있다. 파장 800 내지 1000nm의 평균 투과율은 바람직하게는 15% 이하, 더욱 바람직하게는 10% 이하, 특히 바람직하게는 5% 이하이다. 파장 800 내지 1000nm의 평균 투과율이 이 범위에 있으면, 근적외선을 충분히 커트할 수 있고, 우수한 색 재현성을 달성할 수 있기 때문에 바람직하다.
[광학 필터의 용도]
본 발명의 광학 필터는 시야각이 넓고, 우수한 근적외선 커트능 등을 갖는다. 따라서, 카메라 모듈의 CCD나 CMOS 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 시감도 보정용으로서 유용하다. 특히, 디지털 스틸 카메라, 휴대 전화용 카메라, 디지털 비디오 카메라, 퍼스널 컴퓨터용 카메라, 감시 카메라, 자동차용 카메라, 텔레비전, 차 내비게이션 시스템용 차량 탑재 장치, 휴대 정보 단말기, 비디오 게임기, 휴대 게임기, 지문 인증 시스템용 장치, 디지털 뮤직 플레이어 등에 유용하다. 또한, 자동차나 건물 등의 유리 등에 장착되는 열선 커트 필터 등으로서도 유용하다.
[고체 촬상 장치]
본 발명의 고체 촬상 장치는 본 발명의 광학 필터를 구비한다. 여기서, 고체 촬상 장치란, CCD나 CMOS 이미지 센서 등과 같은 고체 촬상 소자를 구비한 이미지 센서이고, 구체적으로는 디지털 스틸 카메라, 휴대 전화용 카메라, 디지털 비디오 카메라 등의 용도에 사용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 카메라 모듈은 본 발명의 광학 필터를 구비한다.
[
실시예
]
이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 전혀 한정되지 않는다. 또한, 「부」는 특별히 언급하지 않는 한 「중량부」를 의미한다. 또한, 각 물성값의 측정 방법 및 물성의 평가 방법은 이하와 같다.
<분자량>
수지의 분자량은 각 수지의 용제에의 용해성 등을 고려하여, 하기의 (a) 또는 (b)의 방법으로 측정을 행하였다.
(a) 워터즈(WATERS)사제의 겔 투과 크로마토그래피(GPC) 장치(150C형, 칼럼: 도소사제 H 타입 칼럼, 전개 용제: o-디클로로벤젠)를 사용하여, 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw) 및 수 평균 분자량(Mn)을 측정하였다.
(b) 도소사제 GPC 장치(HLC-8220형, 칼럼: TSKgel α-M, 전개 용제: THF)를 사용하여, 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw) 및 수 평균 분자량(Mn)을 측정하였다.
<유리 전이 온도(Tg)>
에스아이아이·테크놀러지스 가부시끼가이샤 제조의 시차 주사 열량계(DSC6200)를 사용하여, 승온 속도: 매분 20℃, 질소 기류 하에서 측정하였다.
<분광 투과율>
흡수 극대, 각 파장 영역에 있어서의 투과율은 가부시키가이샤 히타치 하이테크놀러지즈제의 분광 광도계(U-4100)를 사용하여 측정하였다.
<시아닌 화합물의 내광성 평가>
기판을 실내 형광등에 500시간 폭로시켜, 수지 중에 포함되는 근적외선 흡수 색소의 내광성(환경 광 내성)을 평가하였다. 내광성은, 기판의 가장 흡수 강도가 높은 파장(이하 「λa」라고 칭한다. 기판이 복수의 흡수 극대를 갖는 경우, λa는 이 중 가장 흡수 강도가 높은 파장임.)에 있어서의 형광등 폭로 전후의 흡광도 변화로부터 색소 잔존율(%)을 산출하여 평가하였다. 형광등에 500시간 폭로 후의 색소 잔존율은 바람직하게는 90% 이상, 더욱 바람직하게는 95% 이상이다.
[합성예]
<수지 합성예 1>
하기 식 (a)로 표시되는 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]도데크-3-엔(이하 「DNM」이라고도 함.) 100부, 1-헥센(분자량 조절제) 18부 및 톨루엔(개환 중합 반응용 용매) 300부를, 질소 치환한 반응 용기에 투입하고, 이 용액을 80℃로 가열하였다. 계속해서, 반응 용기 내의 용액에, 중합 촉매로서, 트리에틸알루미늄의 톨루엔 용액(0.6mol/리터) 0.2부와, 메탄올 변성의 육염화텅스텐의 톨루엔 용액(농도 0.025mol/리터) 0.9부를 첨가하고, 이 용액을 80℃에서 3시간 가열 교반함으로써 개환 중합 반응시켜 개환 중합체 용액을 얻었다. 이 중합 반응에 있어서의 중합 전화율은 97%였다.
이와 같이 하여 얻어진 개환 중합체 용액 1,000부를 오토클레이브에 투입하고, 이 개환 중합체 용액에, RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3을 0.12부 첨가하고, 수소 가스압 100kg/㎠, 반응 온도 165℃의 조건하에서, 3시간 가열 교반하여 수소 첨가 반응을 행하였다. 얻어진 반응 용액(수소 첨가 중합체 용액)을 냉각한 후, 수소 가스를 방압하였다. 이 반응 용액을 대량의 메탄올 중에 주입하고 응고물을 분리 회수하고, 이것을 건조하여, 수소 첨가 중합체(이하 「수지 A」라고도 함.)를 얻었다. 얻어진 수지 A는, 수 평균 분자량(Mn)이 32,000, 중량 평균 분자량(Mw)이 137,000이고, 유리 전이 온도(Tg)가 165℃였다.
<시아닌 화합물 합성예 1>
(1) 본 합성예에 있어서의 제1단계의 반응식을 이하에 나타내었다.
질소 치환한 디메틸포름아미드(DMF)에, 상기 반응식에 나타낸 화합물 a(2.9mmol) 및 화합물 b(5.8mmol)를 첨가하고, 120℃에서 3시간 교반하여 반응시켰다. 생성물을 디에틸에테르로 추출하고, 실리카 겔 칼럼으로 정제를 행하여, 화합물 c를 얻었다. 화합물 c의 수율은 51%였다. 또한, NMR 측정의 결과를 이하에 나타내었다.
1H NMR(DMSO-d6)δ1.33(t,J=7.0Hz, 6H), 1.87(brs, 2H), 1.91(s, 12H), 2.73(t, J=5.9Hz, 4H), 4.36(q, J=7.0Hz, 4H), 6.32(d, J=14.3Hz, 2H), 7.49(t, J=7.7Hz, 2H), 7.63(t, J=7.6Hz, 2H), 7.76(d, J=9.0Hz, 2H), 8.03(d, J=8.1Hz, 2H), 8.06(d, J=9.0Hz, 2H), 8.25(d, 8.5Hz 2H), 8.32(d, J=14.3Hz).
(2) 이어서, 본 합성예에 있어서의 제2 단계의 반응식을 이하에 나타내었다.
얻어진 화합물 c(1mmol)를 질소 치환한 아세토니트릴에 용해시켜, 에틸아민(4mmol) 및 디이소프로필에틸아민(2mmol)을 첨가하고, 1시간 가열 환류를 행하였다. 반응 용액을 디에틸에테르(200ml)에 가하고, 석출한 고체를 흡인 여과로 회수하고, 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(디클로로메탄:메탄올=20:1)로 정제하였다. 얻어진 화합물을 질소 치환한 디클로로메탄에 용해시켜, 0℃에서 트리플루오로아세트산 무수물(0.7mmol) 및 디이소프로필에틸아민(3mmol)을 첨가하여 반응시켰다. 그 후, 반응 용액을 디에틸에테르(100ml)에 가하고, 석출한 고체를 흡인 여과로 회수하고, 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(디클로로메탄:메탄올=30:1)로 정제하였다. 얻어진 화합물 d의 수율은 53%였다.
(3) 이어서, 본 합성예에 있어서의 제3 단계의 반응식을 이하에 나타내었다.
얻어진 화합물 d를 아세톤에 용해시키고, 대응하는 금속 붕소염을 가하고, 실온에서 염 교환을 행함으로써 화합물 e(이하 「시아닌 화합물 1」이라고도 함.)를 얻었다. 화합물 e의 수율은 60%였다. 또한, NMR 측정의 결과를 이하에 나타내었다.
1H NMR(CDCl3)δ1.47(m, 9H), 1.90(s, 6H), 1.96(s, 6H), 2.64(m, 4H), 3.95(q, J=7.2Hz, 2H), 4.16(q, J=7.0Hz, 4H), 6.15(d, J=13.8Hz, 2H), 7.35(d, J=7.4Hz, 2H), 7.50(t, J=7.6Hz, 2H), 7.63(t, J=7.6Hz, 2H), 7.70(d, J=13.8Hz, 2H), 7.96(d, J=8.7Hz, 4H), 8.10(d, J=8.7Hz, 2H).
<시아닌 화합물 합성예 2>
시아닌 화합물 합성예 1의 제2 단계에 있어서, 에틸아민을 모노플루오로에틸아민 염산염으로 변경한 것 이외에는, 시아닌 화합물 합성예 1과 동일한 방법으로, 하기 식으로 표시되는 시아닌 화합물 2를 얻었다.
<시아닌 화합물 합성예 3>
시아닌 화합물 합성예 1의 제2 단계에 있어서, 트리플루오로아세트산 무수물을 염화아세틸로 변경한 것 이외에는, 시아닌 화합물 합성예 1과 동일한 방법으로, 하기 식으로 표시되는 시아닌 화합물 3을 얻었다.
<시아닌 화합물 합성예 4>
시아닌 화합물 합성예 1의 제1 단계에 있어서, 화합물 a를 하기 화합물 f로 변경한 것 이외에는, 시아닌 화합물 합성예 1과 동일한 방법으로, 하기 식으로 표시되는 시아닌 화합물 4를 얻었다.
<시아닌 화합물 합성예 5>
시아닌 화합물 합성예 4의 제2 단계에 있어서, 에틸아민을 모노플루오로에틸아민염산염으로 변경한 것 이외에는, 시아닌 화합물 합성예 4와 동일한 방법으로, 하기 식으로 표시되는 시아닌 화합물 5를 얻었다.
[실시예 1]
용기에, 수지 합성예 1에서 얻어진 수지 A(100중량부), 시아닌 화합물 합성예 1에서 얻어진 시아닌 화합물 1(0.08중량부) 및 염화메틸렌을 첨가하여 수지 농도가 20중량%의 용액을 얻었다. 계속해서, 얻어진 용액을 평활한 유리판 상에 캐스트하고, 20℃에서 8시간 건조하여 도막을 형성한 후, 유리판으로부터 도막을 박리하였다. 박리한 도막을 또한 감압하 100℃에서 8시간 건조하여, 두께 0.1mm, 세로 60mm, 가로 60mm의 기판을 얻었다. 이 기판의 분광 투과율을 측정하고, 수지제 기판의 λa를 구한 바 843nm였다. 또한, 이 기판에 대하여 내광성 평가를 행한 바, 색소 잔존율은 96.0%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 2] 및 [참고예 1]
실시예 1에 있어서, 시아닌 화합물 1 대신 표 1에 나타내는 시아닌 화합물을 채용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 두께 0.1mm의 광학 필터를 제조하였다. 평가 결과를 표 1에 나타내었다.
본 발명의 광학 필터는 디지털 스틸 카메라, 휴대 전화용 카메라, 디지털 비디오카메라, 퍼스널 컴퓨터용 카메라, 감시 카메라, 자동차용 카메라, 텔레비전, 카 내비게이션 시스템용 차량 탑재 장치, 휴대 정보 단말기, 비디오 게임기, 휴대 게임기, 지문 인증 시스템용 장치, 디지털 뮤직 플레이어 등에 적절하게 사용할 수 있다. 또한, 자동차나 건물 등의 유리 등에 장착되는 열선 커트 필터 등으로서도 적절하게 사용할 수 있다.
Claims (11)
- 음이온과 양이온으로 이루어지는 반대 이온 결합체이고, 해당 양이온이 하기 일반식 (I-2)로 표시되고, 해당 음이온이 하기 일반식 (II)로 표시되는 것을 특징으로 하는 시아닌 화합물.
[식 (I-2) 중,
m 및 n은 각각 0 내지 5의 정수를 나타내고, D는 탄소 원자를 나타내고,
Ra는 에틸기를 나타내고, Rb, Rc는 각각 독립적으로 메틸기를 나타내고, Rd, Re, Rf, Rg, Rh 및 Ri, 및 R1, R2 및 R3은 수소 원자를 나타내고,
Q1은 하기 일반식 (q1)을 나타내고, Q2는 하기 일반식 (q2)를 나타냄.]
-C(=O)CaX2a+1 (q1)
-CbY2b+1 (q2)
[식 (q1) 중, a는 1 내지 5의 정수를 나타내고, X는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 X는 동일하거나 상이할 수도 있고,
식 (q2) 중, b는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Y는 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타내고, 복수 있는 Y는 동일하거나 상이할 수도 있되,
단, X 및 Y 중 적어도 1개는 할로겐 원자임.]
(II)
[식 (II) 중, Y1 내지 Y20은 모두 불소 원자이거나, 또는 Y2, Y4, Y7, Y9, Y12, Y14, Y17, Y19가 트리플루오로메틸기이고, 나머지 Y가 수소 원자임.] - 제1항에 기재된 시아닌 화합물을 함유하는 투명 수지층을 포함하는 기판과, 상기 기판의 적어도 한쪽의 면 상에 형성된 근적외선 반사막을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
- 제2항에 있어서, 상기 투명 수지층을 구성하는 투명 수지가 환상 올레핀계 수지, 방향족 폴리에테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 플루오렌 폴리카르보네이트계 수지, 플루오렌 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리파라페닐렌계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트계 수지, 불소화 방향족 중합체계 수지, (변성) 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 알릴에스테르계 경화형 수지 및 실세스퀴옥산계 자외선 경화 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 수지인 광학 필터.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 근적외선 반사막이 상기 기판의 양면 상에 형성되어 있는 것인 광학 필터.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 고체 촬상 장치용인 광학 필터.
- 제2항 또는 제3항에 기재된 광학 필터를 구비하는 고체 촬상 장치.
- 제2항 또는 제3항에 기재된 광학 필터를 구비하는 카메라 모듈.
- 제1항에 기재된 시아닌 화합물과, 환상 올레핀계 수지, 방향족 폴리에테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 플루오렌 폴리카르보네이트계 수지, 플루오렌 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리파라페닐렌계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트계 수지, 불소화 방향족 중합체계 수지, (변성) 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 알릴에스테르계 경화형 수지 및 실세스퀴옥산계 자외선 경화 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 수지를 함유하는 수지 조성물.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2015-148535 | 2015-07-28 | ||
JP2015148535 | 2015-07-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170013823A KR20170013823A (ko) | 2017-02-07 |
KR102601436B1 true KR102601436B1 (ko) | 2023-11-14 |
Family
ID=57987754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160094009A KR102601436B1 (ko) | 2015-07-28 | 2016-07-25 | 신규 시아닌 화합물, 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6642313B2 (ko) |
KR (1) | KR102601436B1 (ko) |
CN (1) | CN106397300B (ko) |
TW (1) | TWI698497B (ko) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111095046B (zh) | 2017-09-15 | 2022-07-22 | 富士胶片株式会社 | 组合物、膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器 |
CN108659142B (zh) | 2018-05-29 | 2020-09-29 | 苏州百源基因技术有限公司 | 一种荧光标记的多糖及其制备方法和用途 |
CN112601763B (zh) | 2018-09-20 | 2024-03-19 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、固化膜、红外线透射滤波器、层叠体、固体摄像元件、传感器及图案形成方法 |
JP7155855B2 (ja) * | 2018-10-18 | 2022-10-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
KR20220002432A (ko) | 2019-05-31 | 2022-01-06 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광 센서 및 센싱 장치 |
WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3163813B2 (ja) | 1992-12-28 | 2001-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品 |
US7498123B2 (en) * | 2005-03-03 | 2009-03-03 | Exciton, Inc. | Infrared dye compositions |
JP4781123B2 (ja) | 2006-02-16 | 2011-09-28 | 株式会社Adeka | 光学フィルター |
JP2008088426A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-04-17 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規シアニン化合物及びその用途 |
JP5913776B2 (ja) * | 2008-05-27 | 2016-04-27 | 株式会社Adeka | 色補正材料、フィルム形成用組成物及び光学フィルター |
JP2010072575A (ja) | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 赤外光吸収フィルター |
WO2011119114A1 (en) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | National University Of Singapore | Development of photostable near-ir cyanine dyes for in vivo imaging |
JP5782797B2 (ja) * | 2010-11-12 | 2015-09-24 | 信越化学工業株式会社 | 近赤外光吸収色素化合物、近赤外光吸収膜形成材料、及びこれにより形成される近赤外光吸収膜 |
US20130157463A1 (en) * | 2011-12-14 | 2013-06-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Near-infrared absorbing film composition for lithographic application |
KR101987926B1 (ko) * | 2012-04-25 | 2019-06-11 | 가부시키가이샤 아데카 | 파장 컷 필터 |
CN103930493A (zh) * | 2012-05-15 | 2014-07-16 | 株式会社艾迪科 | 光固化性树脂组合物 |
JP6334964B2 (ja) * | 2014-03-11 | 2018-05-30 | Jsr株式会社 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
-
2016
- 2016-07-14 JP JP2016139319A patent/JP6642313B2/ja active Active
- 2016-07-25 KR KR1020160094009A patent/KR102601436B1/ko active IP Right Grant
- 2016-07-28 CN CN201610607375.3A patent/CN106397300B/zh active Active
- 2016-07-28 TW TW105123837A patent/TWI698497B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106397300B (zh) | 2022-01-11 |
TWI698497B (zh) | 2020-07-11 |
KR20170013823A (ko) | 2017-02-07 |
TW201704358A (zh) | 2017-02-01 |
JP6642313B2 (ja) | 2020-02-05 |
JP2017031394A (ja) | 2017-02-09 |
CN106397300A (zh) | 2017-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6508247B2 (ja) | 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール | |
KR102601436B1 (ko) | 신규 시아닌 화합물, 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 | |
JP5884953B2 (ja) | 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール | |
JP6334964B2 (ja) | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
KR101983742B1 (ko) | 고체 촬상 소자용 광학 필터, 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 | |
JP7405228B2 (ja) | 光学フィルター用樹脂組成物、光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 | |
JP6358114B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP2015040895A (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JPWO2016158461A1 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP6398980B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP2015172102A (ja) | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
WO2017164024A1 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP6578718B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP2021006901A (ja) | 光学フィルターおよびその用途 | |
JP7040362B2 (ja) | 光学フィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび生体認証装置 | |
KR102269949B1 (ko) | 광학 필터, 광학 필터를 이용한 장치, 신규 시아닌 화합물, 및 수지 조성물 | |
JP2015004838A (ja) | 固体撮像装置用近赤外線カットフィルターならびに前記フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール | |
JP2021120733A (ja) | 光学フィルターおよびその用途 | |
JP2021070782A (ja) | 樹脂組成物、樹脂層および光学フィルター |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |