TWI698497B - 花青化合物、濾光片、使用濾光片的裝置及樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種可提供耐光性優異的濾光片的花青系化合物、使用該花青系化合物的濾光片以及使用該濾光片的裝置。本發明的花青化合物的特徵在於：其為包含陰離子及陽離子的相對離子結合體，且該陽離子是由式（I-1）～式（I-6）中任一者所表示。
（I-1）
（I-2）
（I-3）
（I-4）
（I-5）
Description
本發明是有關於一種新穎花青化合物、濾光片及使用濾光片的裝置。
在攝影機（video camera）、數位相機（digital still camera）、附相機功能的行動電話等固體攝像裝置中使用作為彩色圖像的固體攝像元件的電荷耦合元件（Charge Coupled Device，CCD）或互補金屬氧化物半導體（Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS）圖像感測器（image sensor），但這些固體攝像元件在其受光部中使用對於人眼所無法感知的近紅外線具有感度的矽光二極體。這些固體攝像元件中，必須進行使所述近紅外線成為人眼所見為自然色調的視覺感度校正，多使用選擇性透過或截止特定波長區域的光線的濾光片（例如近紅外線截止濾光片）。
如上所述的近紅外線截止濾光片以前使用利用各種方法來製造的濾光片。例如，日本專利特開平6-200113號公報（專利文獻1）中記載有使用透明樹脂作為基材，且使透明樹脂中含有近紅外線吸收色素而成的近紅外線截止濾光片。特別是使用花青系化合物作為近紅外線吸收色素的近紅外線截止濾光片已廣為人知（例如參照專利文獻2及專利文獻3）。
然而，花青系化合物通常對光的穩定性低，存在無法達成固體攝像元件用途所要求的耐光性的情況。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平6-200113號公報 [專利文獻2]日本專利特開2007-219114號公報 [專利文獻3]日本專利特開2010-072575號公報
[發明所欲解決的課題] 本發明的課題在於對現有的近紅外線截止濾光片等濾光片所具有的缺點加以改良，包括可提供耐光性優異的濾光片的花青系化合物、使用該花青系化合物的濾光片以及使用該濾光片的裝置。 [解決課題的手段] 本發明者等人為了達成所述課題而進行了努力研究，結果發現，通過應用特定的花青系化合物而獲得耐光性優異的濾光片，從而完成了本發明。將本申請發明的實施方式的例子示於以下。
[1] 一種花青化合物，其特徵在於：其為包含陰離子及陽離子的相對離子結合體，且該陽離子是由下述通式（I-1）～通式（I-6）中任一者所表示， [化1]
（I-1）
（I-2）
（I-3）
（I-4）
（I-5）
（I-6） 式（I-1）～式（I-6）中， m及n分別表示0～5的整數，存在多個的D獨立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子， 存在多個的Ra
、Rb
、Rc
、Rd
、Re
、Rf
、Rg
、Rh
及Ri
，以及R1
、R2
及R3
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
或者選自由Rb
與Rc
、Rd
與Re
、Re
與Rf
、Rf
與Rg
、Rg
與Rh
、Rh
與Ri
及R1
與R2
中的至少一種組合鍵結而成的下述式（A）～式（H）所表示的基團所組成的群組中的至少一種基團， 所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有選自由碳數1～12的脂肪族烴基、碳數1～12的經鹵素取代的烷基、碳數3～14的脂環式烴基、碳數6～14的芳香族烴基及碳數3～14的雜環基所組成的群組中的至少一種取代基L， L1
表示下述La
～Le
的任一者， L2
表示氫原子或下述La
～Le
的任一者， L3
表示羥基或下述La
～Le
的任一者， L4
表示下述La
～Le
的任一者， （La
）可具有所述取代基L的碳數1～12的脂肪族烴基 （Lb
）可具有所述取代基L的碳數1～12的經鹵素取代的烷基 （Lc
）可具有所述取代基L的碳數3～14的脂環式烴基 （Ld
）可具有所述取代基L的碳數6～14的芳香族烴基 （Le
）可具有所述取代基L的碳數3～14的雜環基 Q1
表示下述通式（q1），Q2
表示下述通式（q2）～通式（q4）中任一者所表示的結構； [化2]
（A） （B） （C） （D） （E）
（F） （G） （H） 式（A）～式（H）中，Rx
與Ry
的組合為Rb
與Rc
、Rd
與Re
、Re
與Rf
、Rf
與Rg
、Rg
與Rh
、Rh
與Ri
以及R1
與R2
的組合， 存在多個的RA
～RL
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
或-N=N-L4
（L1
～L4
與所述式（I-1）～式（I-4）中所定義的L1
～L4
為相同含義），所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有所述取代基L； -C(=O)Ca
X2a+1
（q1） -Cb
Y2b+1
（q2） -Cc
Y2c
-OCd
Y2d+1
（q3） [化3]
（q4） 式（q1）中，a表示1～5的整數，X表示氫原子或鹵素原子，存在多個的X可相同，也可不同；式（q2）及式（q3）中，b～d分別表示1～5的整數，Y表示氫原子或鹵素原子，存在多個的Y可相同，也可不同；式（q4）中，p表示1～5的整數，T1
～T5
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、-OCZ3
或-OCe
Z2e
CZ3
（e表示1～5的整數，Z表示氫原子或鹵素原子，存在多個的Z可相同，也可不同）；其中，X、Y及Z的至少一個為鹵素原子。
[2] 如項[1]所述的花青化合物，其中所述陰離子是由下述通式（II）所表示， [化4]
（II） 式（II）中，Y1
～Y20
全部為氟原子，或者Y2
、Y4
、Y7
、Y9
、Y12
、Y14
、Y17
、Y19
為三氟甲基，其餘的Y為氫原子。
[3] 一種濾光片，其特徵在於包括：基板，包括含有如項[1]或項[2]所述的花青化合物的透明樹脂層；以及近紅外線反射膜，形成於所述基板的至少一面上。
[4] 如項[3]所述的濾光片，其中構成所述透明樹脂層的透明樹脂為選自由環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對伸苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、（改性）丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
[5] 如項[3]或項[4]所述的濾光片，其中所述近紅外線反射膜形成於所述基板的兩面上。
[6] 如項[3]至項[5]中任一項所述的濾光片，其用於固體攝像裝置。
[7] 一種固體攝像裝置，其包括如項[3]至項[6]中任一項所述的濾光片。
[8] 一種相機模組，其包括如項[3]至項[6]中任一項所述的濾光片。
[9] 一種樹脂組成物，其含有：如項[1]或項[2]所述的花青化合物；以及選自由環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對伸苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、（改性）丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。 [發明的效果]
依據本發明，可提供耐光性優異的濾光片。
以下，對本發明進行具體說明。 本發明的濾光片包括：基板，包括含有後述本發明的花青化合物（以下也稱為「花青化合物（A）」或「化合物（A）」）的透明樹脂層；以及近紅外線反射膜，形成於所述基板的至少一面上。 [包括透明樹脂層的基板]
構成本發明的濾光片的包括透明樹脂層的基板（以下也簡稱為「基板」）可為單層，也可為多層（在多層的情況下，例如在成為基底的透明樹脂層上積層有包含硬化樹脂的外塗層等的構成），至少含有一種以上的化合物（A）作為近紅外線吸收色素，吸收極大在波長700 nm～1000 nm、更優選為750 nm～900 nm的範圍內，吸收極大波長下的透過率優選為10%以下，進而優選為8%以下。若基板的吸收極大波長或吸收極大波長下的透過率在所述範圍內，則該基板可選擇性且效率良好地截止近紅外線，並且當在基板的面上製成近紅外線反射膜時，可減低可見波長域～近紅外波長域附近的光學特性的入射角依存性。
根據相機模組等的用途，也存在如下情況：在波長為400 nm～700 nm的所謂可見光區域，將含有化合物（A）的基板的厚度設為100 μm時該基板的平均透過率必須為50%以上、優選為65%以上。
所述基板的厚度可根據所需的用途來適當選擇，並無特別限制，優選為以該基板具有如上所述的入射角依存改良性的方式進行調整，更優選為30 μm～250 μm，進而優選為40 μm～200 μm，特別優選為50 μm～150 μm。
若基板的厚度在所述範圍內，則可使利用該基板的濾光片小型化及輕量化，可適合用於如固體攝像裝置等的各種用途。特別是在將所述基板用於相機模組等的透鏡單元的情況下，可實現透鏡單元的低背化，因此優選。
所述基板除了含有化合物（A），可更含有選自由方酸內鎓鹽（squarylium）系化合物、化合物（A）以外的花青系化合物以及酞菁系化合物所組成的群組中的至少一種近紅外線吸收色素（X）。通過使用所述基板，不僅可進一步減小可見波長域～近紅外波長域的入射角依存性，而且可使吸收帶的波形更尖銳，可獲得視角廣的濾光片。
所述化合物（A）與所述近紅外線吸收色素（X）可包含於同一層中，也可包含於各別的層中。在包含於同一層中的情況下，例如可列舉化合物（A）與近紅外線吸收色素（X）均包含於同一透明樹脂層中的形態，在包含於各別的層中的情況下，例如可列舉在包含化合物（A）的透明樹脂層上積層有包含所述近紅外線吸收色素（X）的層的形態。
化合物（A）與近紅外線吸收色素（X）更優選為包含於同一層中，在此種情況下，較包含於各別的層中的情況而言，更容易控制化合物（A）與近紅外線吸收色素（X）的含量比率。 [花青化合物（A）]
本發明的花青化合物（A）為包含下述通式（I-1）～通式（I-6）的任一者所表示的陽離子（以下也將這些歸納稱為「陽離子（I）」）與陰離子（以下也稱為「陰離子（II）」）的相對離子結合體。 《陽離子（I）》 [化5]（I-1）（I-2）（I-3）（I-4）（I-5）（I-6）
式（I-1）～式（I-6）中， m及n分別表示0～5的整數，存在多個的D獨立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子， 存在多個的Ra
、Rb
、Rc
、Rd
、Re
、Rf
、Rg
、Rh
及Ri
，以及R1
、R2
及R3
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
或者選自由Rb
與Rc
、Rd
與Re
、Re
與Rf
、Rf
與Rg
、Rg
與Rh
、Rh
與Ri
及R1
與R2
中的至少一種組合鍵結而成的下述式（A）～式（H）所表示的基團所組成的群組中的至少一種基團， 所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有選自由碳數1～12的脂肪族烴基、碳數1～12的經鹵素取代的烷基、碳數3～14的脂環式烴基、碳數6～14的芳香族烴基及碳數3～14的雜環基所組成的群組中的至少一種取代基L， L1
表示下述La
～Le
的任一者， L2
表示氫原子或下述La
～Le
的任一者， L3
表示羥基或下述La
～Le
的任一者， L4
表示下述La
～Le
的任一者， （La
）可具有所述取代基L的碳數1～12的脂肪族烴基 （Lb
）可具有所述取代基L的碳數1～12的經鹵素取代的烷基 （Lc
）可具有所述取代基L的碳數3～14的脂環式烴基 （Ld
）可具有所述取代基L的碳數6～14的芳香族烴基 （Le
）可具有所述取代基L的碳數3～14的雜環基 Q1
表示下述通式（q1），Q2
表示下述通式（q2）～通式（q4）中任一者所表示的結構。 [化6] （A） （B） （C） （D） （E） （F） （G） （H） 式（A）～式（H）中，Rx
與Ry
的組合為Rb
與Rc
、Rd
與Re
、Re
與Rf
、Rf
與Rg
、Rg
與Rh
、Rh
與Ri
以及R1
與R2
的組合， 存在多個的RA
～RL
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
或-N=N-L4
（L1
～L4
與所述式（I-1）～式（I-4）中所定義的L1
～L4
為相同含義），所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有所述取代基L。 -C(=O)Ca
X2a+1
（q1） -Cb
Y2b+1
（q2） -Cc
Y2c
-OCd
Y2d+1
（q3） [化7]（q4）
式（q1）中，a表示1～5的整數，X表示氫原子或鹵素原子，存在多個的X可相同，也可不同。式（q2）及式（q3）中，b～d分別表示1～5的整數，Y表示氫原子或鹵素原子，存在多個的Y可相同，也可不同。式（q4）中，p表示1～5的整數，T1
～T5
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、-OCZ3
或-OCe
Z2e
CZ3
（e表示1～5的整數，Z表示氫原子或鹵素原子，存在多個的Z可相同，也可不同）。其中，X、Y及Z的至少一個為鹵素原子。
所述La
～Le
優選為包含取代基的碳數的合計分別為50以下，進而優選為碳數40以下，特別優選為碳數30以下。若碳數多於該範圍，則不僅存在色素的合成變得困難的情況，而且存在每單位重量的吸收強度變小的傾向。
所述La
及L中的碳數1～12的脂肪族烴基例如可列舉：甲基（Me）、乙基（Et）、正丙基（n-Pr）、異丙基（i-Pr）、正丁基（n-Bu）、第二丁基（s-Bu）、第三丁基（t-Bu）、戊基、己基、辛基、壬基、癸基及十二烷基等烷基；乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、丁烯基、1,3-丁二烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-戊烯基、己烯基及辛烯基等烯基；以及乙炔基、丙炔基、丁炔基、2-甲基-1-丙炔基、己炔基及辛炔基等炔基。
所述Lb
及L中的碳數1～12的經鹵素取代的烷基例如可列舉：三氯甲基、三氟甲基、1,1-二氯乙基、五氯乙基、五氟乙基、七氯丙基及七氟丙基。
所述Lc
及L中的碳數3～14的脂環式烴基例如可列舉：環丁基、環戊基、環己基、環庚基及環辛基等環烷基；降冰片烷基及金剛烷基等多環脂環式基。
所述Ld
及L中的碳數6～14的芳香族烴基例如可列舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、1-萘基、2-萘基、蒽基、菲基、苊基（acenaphthyl）、萉基（phenalenyl）、四氫萘基、二氫茚基（indanyl）及聯苯基。
所述Le
及L中的碳數3～14的雜環基例如可列舉：包含呋喃（furan）、噻吩（thiophene）、吡咯（pyrrole）、吡唑（pyrazole）、咪唑（imidazole）、三唑（triazole）、噁唑（oxazole）、噁二唑（oxadiazole）、噻唑（thiazole）、噻二唑（thiadiazole）、吲哚（indole）、吲哚啉（indoline）、假吲哚（indolenine）、苯并呋喃（benzofuran）、苯并噻吩（benzothiophene）、咔唑（carbazole）、二苯并呋喃（dibenzofuran）、二苯并噻吩（dibenzothiophene）、吡啶（pyridine）、嘧啶（pyrimidine）、吡嗪（pyrazine）、噠嗪（pyridazine）、喹啉（quinoline）、異喹啉（isoquinoline）、吖啶（acridine）、嗎啉（morpholine）及吩嗪（phenazine）等雜環的基團。
所述La
可列舉所述的「碳數1～12的脂肪族烴基」、以及該脂肪族烴基更具有所述取代基L的基團，優選為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、4-苯基丁基、2-環己基乙基，更優選為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、己基。
所述Lb
可列舉所述的「碳數1～12的經鹵素取代的烷基」、以及該經鹵素取代的烷基更具有所述取代基L的基團，優選為三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基、5-環己基-2,2,3,3-四氟戊基，更優選為三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基。
所述Lc
可列舉所述的「碳數3～14的脂環式烴基」、以及該脂環式烴基更具有所述取代基L的基團，優選為環丁基、環戊基、環己基、4-乙基環己基、環辛基、4-苯基環庚基，更優選為環戊基、環己基、4-乙基環己基。
所述Ld
可列舉所述的「碳數6～14的芳香族烴基」、以及該芳香族烴基更具有所述取代基L的基團，優選為苯基、1-萘基、2-萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、3,5-二-第三丁基苯基、4-環戊基苯基、2,3,6-三苯基苯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基，更優選為苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基。
所述Le
可列舉所述的「碳數3～14的雜環基」、以及該雜環基更具有所述取代基L的基團，優選為包含呋喃、噻吩、吡咯、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、嗎啉的基團，更優選為包含呋喃、噻吩、吡咯、嗎啉的基團。
所述La
～Le
可更具有選自由鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及胺基所組成的群組中的至少一種原子或基團。如上所述的例子可列舉：4-磺基丁基、4-氰基丁基、5-羧基戊基、5-胺基戊基、3-羥基丙基、2-磷醯基乙基、6-胺基-2,2-二氯己基、2-氯-4-羥基丁基、2-氰基環丁基、3-羥基環戊基、3-羧基環戊基、4-胺基環己基、4-羥基環己基、4-羥基苯基、2-羥基萘基、4-胺基苯基、2,3,4,5,6-五氟苯基、4-硝基苯基、包含3-甲基吡咯的基團、2-羥基乙氧基、3-氰基丙氧基、4-氟苯甲醯基、2-羥基乙氧基羰基、4-氰基丁氧基羰基。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，可具有取代基L的胺基可列舉：胺基、乙基胺基、二甲基胺基、甲基乙基胺基、二丁基胺基、二異丙基胺基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，可具有取代基L的醯胺基可列舉：醯胺基、甲基醯胺基、二甲基醯胺基、二乙基醯胺基、二丙基醯胺基、二異丙基醯胺基、二丁基醯胺基、α-內醯胺基、β-內醯胺基、γ-內醯胺基、δ-內醯胺基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，可具有取代基L的醯亞胺基可列舉：醯亞胺基、甲基醯亞胺基、乙基醯亞胺基、二乙基醯亞胺基、二丙基醯亞胺基、二異丙基醯亞胺基、二丁基醯亞胺基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，可具有取代基L的矽烷基可列舉：三甲基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、三苯基矽烷基、三乙基矽烷基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，-S-L2
可列舉：硫醇基、甲基硫醚基、乙基硫醚基、丙基硫醚基、丁基硫醚基、異丁基硫醚基、第二丁基硫醚基、第三丁基硫醚基、苯基硫醚基、2,6-二-第三丁基苯基硫醚基、2,6-二苯基苯基硫醚基、4-枯基苯基硫醚基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，-SS-L2
可列舉：二硫醚基、甲基二硫醚基、乙基二硫醚基、丙基二硫醚基、丁基二硫醚基、異丁基二硫醚基、第二丁基二硫醚基、第三丁基二硫醚基、苯基二硫醚基、2,6-二-第三丁基苯基二硫醚基、2,6-二苯基苯基二硫醚基、4-枯基苯基二硫醚基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，-SO2
-L3
可列舉：亞磺醯基（sulfoxyl）、甲磺醯基、乙基磺醯基、正丁基磺醯基、對甲苯磺醯基等。
所述Ra
～Ri
以及R1
～R3
中，-N=N-L4
可列舉：甲基偶氮基、苯基偶氮基、對甲基苯基偶氮基、對二甲基胺基苯基偶氮基等。 《陰離子（II）》
所述陰離子（II）若為花青系化合物的陰離子體，則並無特別限定，就提高花青化合物的耐光性的觀點而言，例如可列舉下述通式（II）所表示的陰離子。 [化8]（II） 式（II）中，Y1
～Y20
全部為氟原子，或者Y2
、Y4
、Y7
、Y9
、Y12
、Y14
、Y17
、Y19
為三氟甲基，其餘的Y為氫原子。 ＜近紅外線吸收色素（X）＞
所述近紅外線吸收色素（X）為選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物以及所述化合物（A）以外的花青系化合物所組成的群組中的至少一種，特別優選為包含方酸內鎓鹽系化合物。近紅外線吸收色素（X）的吸收極大波長優選為620 nm以上，進而優選為650 nm以上，特別優選為670 nm以上，且優選為小於800 nm，進而優選為750 nm以下，特別優選為730 nm以下，且理想為在較同時所包含的化合物（A）的吸收極大波長更短的波長側具有吸收極大。若吸收極大波長在如上所述的波長範圍內，則不僅可使吸收帶的波形更尖銳，而且可使近紅外吸收色素的吸收帶充分擴大，可達成更優異的入射角依存改良性能或重像減低效果。
所述基板中，相對於構成透明樹脂層的透明樹脂100重量份，近紅外線吸收色素（X）的含量優選為0.01重量份～5.0重量份，更優選為0.02重量份～3.5重量份，特別優選為0.03重量份～2.5重量份。若近紅外線吸收色素（X）的含量在所述範圍內，則可使良好的近紅外線吸收特性與高的可見光透過率併存。 《方酸內鎓鹽系化合物》
方酸內鎓鹽系化合物優選為包含選自由式（III-1）所表示的方酸內鎓鹽系化合物以及式（III-2）所表示的方酸內鎓鹽系化合物所組成的群組中的至少一種。 [化9]
（III-1） 式（III-1）中，Ra
、Rb
及Y滿足下述（i）或（ii）的條件。
條件（i） 存在多個的Ra
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1
或-NRe
Rf
基。Re
及Rf
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
。 存在多個的Rb
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1
或-NRg
Rh
基。Rg
及Rh
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
、-Le
或-C(O)Ri
基（Ri
表示-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
）。 存在多個的Y分別獨立地表示-NRj
Rk
基。Rj
及Rk
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
。 所述L1
、La
、Lb
、Lc
、Ld
、Le
分別獨立地與所述式（I-1）～式（I-4）所定義的L1
、La
、Lb
、Lc
、Ld
、Le
為相同含義。
條件（ii） 一個苯環上的兩個Ra
中的至少一個與相同苯環上的Y相互鍵結，形成包含至少一個氮原子的構成原子數為5或6的雜環，所述雜環也可具有取代基，Rb
以及未參與所述雜環的形成的Ra
分別獨立地與所述（i）的Rb
及Ra
為相同含義。 [化10]
（III-2）
式（III-2）中，X表示O、S、Se、N-Rc
或者C-Rd
Rd
；存在多個的Rc
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
；存在多個的Rd
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1
或-NRe
Rf
基，相鄰的Rd
彼此也可連結而形成可具有取代基的環；La
～Le
、L1
與所述式（I-1）～式（I-4）中所定義的La
～Le
為相同含義，Re
及Rf
與所述（i）的Re
及Rf
為相同含義。
鍵結於所述方酸內鎓鹽系化合物的中央的四員環上的左右的取代基可相同，也可不同，由於相同取代基者在合成上容易，故而優選。
所述方酸內鎓鹽系化合物只要利用通常已知的方法來合成即可，例如可參照日本專利特開平1-228960號公報、日本專利特開2001-40234號公報、日本專利第3196383號公報等中記載的方法等來合成。 《酞菁系化合物》
酞菁系化合物可使用通常已知的任意結構的化合物，例如可利用日本專利第4081149號公報或「酞菁-化學與功能」（IPC，1997年）中記載的方法來合成。 《花青系化合物》
花青系化合物可使用除了化合物（A）以外通常已知的任意結構的化合物，例如可利用日本專利特開2009-108267號公報中記載的方法來合成。 ＜透明樹脂＞
所述基板可使用透明樹脂來形成。 透明樹脂只要不損及本發明的效果，則並無特別限制，例如為了形成確保熱穩定性以及對膜的成形性，且可通過在100℃以上的蒸鍍溫度下進行的高溫蒸鍍來形成電介質多層膜的膜，可列舉玻璃化轉變溫度（Tg）優選為110℃～380℃，更優選為110℃～370℃，進而優選為120℃～360℃的樹脂。另外，若所述樹脂的玻璃化轉變溫度為140℃以上，則獲得可在更高的溫度下蒸鍍形成電介質多層膜的膜，因此特別優選。
作為透明樹脂，可使用在形成包含該樹脂的厚度為0.1 mm的樹脂板的情況下，該樹脂板的全光線透過率（日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）K7105）優選為成為75%～95%、進而優選成為78%～95%、特別優選成為80%～95%的樹脂。若使用全光線透過率成為所述範圍的樹脂，則所獲得的基板作為光學膜而顯示出良好的透明性。
透明樹脂的利用凝膠滲透層析（Gel Permeation Chromatography，GPC）法來測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）通常為15,000～350,000，優選為30,000～250,000，數量平均分子量（Mn）通常為10,000～150,000，優選為20,000～100,000。
透明樹脂例如可列舉：環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺（芳醯胺）系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對伸苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯（polyethylene naphthalate，PEN）系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、（改性）丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂。 《環狀烯烴系樹脂》
環狀烯烴系樹脂優選為由選自由下述式（X0
）所表示的單體及下述式（Y0
）所表示的單體所組成的群組中的至少一種單體所獲得的樹脂，以及通過將該樹脂加以氫化而獲得的樹脂。 [化11]
式（X0
）中，Rx1
～Rx4
分別獨立地表示選自下述（i'）～（ix'）中的原子或基團，kx
、mx
及px
分別獨立地表示0或者正整數。 （i'）氫原子 （ii'）鹵素原子 （iii'）三烷基矽烷基 （iv'）具有包含氧原子、硫原子、氮原子或矽原子的連結基的經取代或未經取代的碳數1～30的烴基 （v'）經取代或未經取代的碳數1～30的烴基 （vi'）極性基（其中（iv'）除外） （vii'）Rx1
與Rx2
或者Rx3
與Rx4
相互鍵結而形成的亞烷基（其中，不參與所述鍵結的Rx1
～Rx4
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基團） （viii'）Rx1
與Rx2
或者Rx3
與Rx4
相互鍵結而形成的單環或多環的烴環或雜環（其中，不參與所述鍵結的Rx1
～Rx4
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基團） （ix'）Rx2
與Rx3
相互鍵結而形成的單環的烴環或雜環（其中，不參與所述鍵結的Rx1
與Rx4
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基團） [化12]
式（Y0
）中，Ry1
及Ry2
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基團，或者表示Ry1
與Ry2
相互鍵結而形成的單環或多環的脂環式烴、芳香族烴或者雜環，ky
及py
分別獨立地表示0或者正整數。 《芳香族聚醚系樹脂》
芳香族聚醚系樹脂優選為具有選自由下述式（1）所表示的結構單元以及下述式（2）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。 [化13]
式（1）中，R1
～R4
分別獨立地表示碳數1～12的一價有機基，a～d分別獨立地表示0～4的整數。 [化14]
式（2）中，R1
～R4
以及a～d分別獨立地與所述式（1）中的R1
～R4
以及a～d為相同含義，Y表示單鍵、-SO2
-或＞C=O，R7
及R8
分別獨立地表示鹵素原子、碳數1～12的一價有機基或者硝基，g及h分別獨立地表示0～4的整數，m表示0或1。其中，當m為0時，R7
不為氰基。
另外，所述芳香族聚醚系樹脂優選為更具有選自由下述式（3）所表示的結構單元以及下述式（4）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。 [化15]
式（3）中，R5
及R6
分別獨立地表示碳數1～12的一價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2
-、＞C=O、-CONH-、-COO-或者碳數1～12的二價有機基，e及f分別獨立地表示0～4的整數，n表示0或1。 [化16]
式（4）中，R7
、R8
、Y、m、g及h分別獨立地與所述式（2）中的R7
、R8
、Y、m、g及h為相同含義，R5
、R6
、Z、n、e及f分別獨立地與所述式（3）中的R5
、R6
、Z、n、e及f為相同含義。 《聚醯亞胺系樹脂》
聚醯亞胺系樹脂並無特別限制，若為在重複單元中包含醯亞胺鍵的高分子化合物即可，例如可利用日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報中記載的方法來合成。 《茀聚碳酸酯系樹脂》
茀聚碳酸酯系樹脂並無特別限制，若為包含茀部位的聚碳酸酯樹脂即可，例如可利用日本專利特開2008-163194號公報中記載的方法來合成。 《茀聚酯系樹脂》
茀聚酯系樹脂並無特別限制，若為包含茀部位的聚酯樹脂即可，例如可利用日本專利特開2010-285505號公報或日本專利特開2011-197450號公報中記載的方法來合成。 《氟化芳香族聚合物系樹脂》
氟化芳香族聚合物系樹脂並無特別限制，若為含有具有至少一個氟的芳香族環，與包含選自由醚鍵、酮鍵、碸鍵、醯胺鍵、醯亞胺鍵及酯鍵所組成的群組中的至少一個鍵的重複單元的聚合物即可，例如可利用日本專利特開2008-181121號公報中記載的方法來合成。 《市售品》
透明樹脂的市售品可列舉以下的市售品等。環狀烯烴系樹脂的市售品可列舉：JSR股份有限公司製造的阿頓（Arton）、日本瑞翁（ZEON）股份有限公司製造的澤歐那（ZEONOR）、三井化學股份有限公司製造的阿佩爾（APEL）、寶理塑膠（Polyplastics）股份有限公司製造的托帕斯（TOPAS）等。聚醚碸系樹脂的市售品可列舉住友化學股份有限公司製造的住化愛克賽（Sumikaexcel）PES等。聚醯亞胺系樹脂的市售品可列舉三菱瓦斯化學（Mitsubishi Gas Chemical）股份有限公司製造的內奧普利姆（Neopulim）L等。聚碳酸酯系樹脂的市售品可列舉帝人股份有限公司製造的普愛思（Pure-Ace）等。茀聚碳酸酯系樹脂的市售品可列舉三菱瓦斯化學股份有限公司製造的魯皮澤塔（Lupizeta）EP-5000等。茀聚酯系樹脂的市售品可列舉大阪瓦斯化學（Osaka Gas Chemicals）股份有限公司製造的OKP 4HT等。丙烯酸系樹脂的市售品可列舉日本催化劑股份有限公司製造的阿克力比瓦（Acryviewa）等。倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂的市售品可列舉新日鐵化學股份有限公司製造的西普拉斯（Silplus）等。 ＜其他成分＞
所述基板也可在不損及本發明的效果的範圍內，更含有抗氧化劑、近紫外線吸收劑、吸收近紅外線的色素、螢光消光劑、以及金屬錯合物系化合物等添加劑。另外，在通過後述的流延成形來製造基板的情況下，可通過添加流平劑或消泡劑來容易地製造基板。這些其他成分可單獨使用一種，也可併用兩種以上。
所述近紫外線吸收劑例如可列舉：偶氮次甲基系（azomethine）化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。
所述抗氧化劑例如可列舉：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧基-3,3'-二-第三丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、以及四[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷等。
所述吸收近紅外線的色素例如可列舉：二硫醇（dithiol）系色素、二亞銨（diimonium）系色素、卟啉（porphyrin）系色素、克酮鎓（croconium）系色素等。這些色素的結構並無特別限定，若不損及本發明的效果，則可使用通常已知者。
此外，這些添加劑可在製造基板時與樹脂等一起混合，也可在製造樹脂時添加。另外，添加量可根據所需的特性來適當選擇，相對於樹脂100重量份，通常為0.01重量份～5.0重量份，優選為0.05重量份～2.0重量份。 ＜基板的製造方法＞
所述基板例如可通過熔融成形或者流延成形來形成，視需要，可在成形後，利用塗布抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗布劑的方法來製造。 《熔融成形》
所述基板可利用以下方法來製造：將使樹脂與近紅外線吸收色素熔融混練而獲得的顆粒進行熔融成形的方法；將含有樹脂與近紅外線吸收色素的樹脂組成物進行熔融成形的方法；或者將自包含近紅外線吸收色素、樹脂及溶劑的樹脂組成物中去除溶劑而獲得的顆粒進行熔融成形的方法等。熔融成形方法例如可列舉：射出成形、熔融擠出成形或者吹塑成形等。 《流延成形》
所述基板也可利用以下方法來製造：將包含近紅外線吸收色素、樹脂及溶劑的樹脂組成物流延於適當的基材上而去除溶劑的方法；將包含抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗布劑，近紅外線吸收色素，以及樹脂的樹脂組成物流延於適當的基材上的方法；或者將包含抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗布劑，近紅外線吸收色素，以及樹脂的硬化性組成物流延於適當的基材上而使其硬化及乾燥的方法等。
所述基材例如可列舉：玻璃板、鋼帶（steel belt）、鋼桶（steel drum）以及透明樹脂（例如聚酯膜、環狀烯烴系樹脂膜）。
所述基板可通過自基材上剝離而獲得，另外，只要不損及本發明的效果，也可不從基材上剝離，而是將基材與塗膜（透明樹脂層）的積層體作為所述基板。
進而，也可利用在玻璃板、石英或透明塑膠製等的光學零件上塗布所述樹脂組成物而使溶劑乾燥的方法，或者塗布所述硬化性組成物而使其硬化及乾燥的方法等，在光學零件上直接形成透明樹脂層。
利用所述方法來獲得的基板中的殘留溶劑量宜盡可能少。具體而言，相對於基板的重量，所述殘留溶劑量優選為3重量%以下，更優選為1重量%以下，進而優選為0.5重量%以下。若殘留溶劑量在所述範圍內，則獲得變形或者特性難以變化且可容易地發揮所需功能的基板。 [近紅外線反射膜]
構成本發明的濾光片的近紅外線反射膜為具有反射近紅外線的能力的膜。本發明中，近紅外線反射膜可設置於所述基板的單面，也可設置於兩面。在設置於單面的情況下，製造成本或製造容易性優異，在設置於兩面的情況下，可獲得具有高強度且難以產生翹曲的濾光片。在將濾光片應用於固體攝像元件用途的情況下，優選為濾光片的翹曲小者，因此優選為將近紅外線反射膜設置於基板的兩面。
近紅外線反射膜例如可列舉：鋁蒸鍍膜、貴金屬薄膜、使以氧化銦作為主成分且含有少量氧化錫的金屬氧化物微粒子分散而成的樹脂膜、將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成的電介質多層膜。近紅外線反射膜中，更優選為將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成的電介質多層膜。
構成高折射率材料層的材料可使用折射率為1.7以上的材料，通常選擇折射率為1.7～2.5的材料。所述材料例如可列舉：以氧化鈦、氧化鋯、五氧化鉭、五氧化鈮、氧化鑭、氧化釔、氧化鋅、硫化鋅、或者氧化銦等作為主成分，且含有少量（例如相對於主成分而為0重量%～10重量%）的氧化鈦、氧化錫及/或氧化鈰等的材料。
構成低折射率材料層的材料可使用折射率為1.6以下的材料，通常選擇折射率為1.2～1.6的材料。所述材料例如可列舉：二氧化矽、氧化鋁、氟化鑭、氟化鎂及六氟化鋁鈉。
關於將高折射率材料層與低折射率材料層加以積層的方法，只要形成將這些材料層積層而成的電介質多層膜，則並無特別限制。例如，可在基板上，直接利用化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD）法、濺射法、真空蒸鍍法、離子輔助蒸鍍法或者離子鍍法等，來形成將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成的電介質多層膜。
通常若將所欲遮斷的近紅外線波長設為λ（nm），則高折射率材料層以及低折射率材料層的各層的厚度優選為0.1λ～0.5λ的厚度。λ（nm）的值例如為700 nm～1400 nm，優選為750 nm～1300 nm。若厚度為該範圍，則以折射率（n）與膜厚（d）的積（n×d）為λ/4而算出的光學膜厚與高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度成為大致相同的值，由於反射×折射的光學特性的關係，存在可容易地控制特定波長的遮斷×透過的傾向。
電介質多層膜中的高折射率材料層與低折射率材料層的合計積層數優選為作為濾光片整體而為5層～60層，更優選為10層～50層。
進而，在形成介質多層膜時在基板上產生翹曲的情況下，為了消除該翹曲，可採取在基板兩面形成電介質多層膜，或對基板的形成有電介質多層膜的面照射紫外線等電磁波的方法等。此外，在照射電磁波的情況下，可在電介質多層膜的形成中照射，也可在形成後另行照射。 [其他的功能膜]
本發明的濾光片可在不損及本發明的效果的範圍內，出於提高基板或近紅外線反射膜的表面硬度、提高耐化學品性、抗靜電以及消除損傷等目的，而在基板與電介質多層膜等近紅外線反射膜之間、基板的與設置有近紅外線反射膜的面為相反側的面、或者近紅外線反射膜的與設置有基板的面為相反側的面上，適當設置抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
本發明的濾光片可包括一層包含所述功能膜的層，也可包括兩層以上。在本發明的濾光片包括兩層以上的包含所述功能膜的層的情況下，可包括兩層以上的相同層，也可包括兩層以上的不同層。
積層功能膜的方法並無特別限制，可列舉：以與所述相同的方式，將抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗布劑等在樹脂製基板或近紅外線反射膜上進行熔融成形或流延成形的方法等。
另外，也可通過以下方式來製造：利用棒塗布機等將包含所述塗布劑等的硬化性組成物塗布於基板或者紅外線反射膜上後，通過紫外線照射等進行硬化。
所述塗布劑可列舉紫外線（ultraviolet，UV）/電子束（electron beam，EB）硬化型樹脂或熱硬化型樹脂等，具體而言，可列舉：乙烯基化合物類或胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系樹脂等。包含這些塗布劑的所述硬化性組成物可列舉：乙烯基系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系硬化性組成物等。
另外，所述硬化性組成物也可包含聚合引發劑。所述聚合引發劑可使用公知的光聚合引發劑或者熱聚合引發劑，也可將光聚合引發劑與熱聚合引發劑併用。聚合引發劑可單獨使用一種，也可併用兩種以上。
所述硬化性組成物中，在將硬化性組成物的總量設為100重量%的情況下，聚合引發劑的調配比例優選為0.1重量%～10重量%，更優選為0.5重量%～10重量%，進而優選為1重量%～5重量%。若聚合引發劑的調配比例在所述範圍內，則可獲得硬化性組成物的硬化特性及操作性優異且具有所需硬度的抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
進而，所述硬化性組成物中也可添加有機溶劑作為溶劑，有機溶劑可使用公知者。有機溶劑的具體例可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚等醚類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮等醯胺類。這些溶劑可單獨使用一種，也可併用兩種以上。
所述功能膜的厚度優選為0.1 μm～20 μm，進而優選為0.5 μm～10 μm，特別優選為0.7 μm～5 μm。
另外，出於提高基板與功能膜及/或近紅外線反射膜的密合性、或功能膜與近紅外線反射膜的密合性的目的，也可對基板或功能膜的表面進行電暈處理或電漿處理等表面處理。 [濾光片的特性等]
本發明的濾光片包括所述基板。因此，本發明的濾光片的透過率特性優異，在使用時不受制約。另外，基板中所含的化合物（A）由於在波長700 nm～1000 nm下具有吸收極大，故而可有效率地吸收近紅外光，通過與所述近紅外線反射膜加以組合，可獲得入射角依存性少的濾光片。
在將所述濾光片用於固體攝像元件用途的情況下，優選為可見光透過率高者。特別是近年來，在相機模組中也加強高畫質化的要求，為了提高攝像感度或色再現性，必須提高波長為430 nm～460 nm的短波長側的透過率。具體而言，波長430 nm～460 nm的平均透過率優選為81%以上，更優選為83%以上，特別優選為85%以上。另外，波長461 nm～580 nm的平均透過率也同樣優選為高者，優選為85%以上，更優選為88%以上，特別優選為90%以上。若在各個波長域中，平均透過率在該範圍內，則在用於固體攝像元件用途的情況下，可達成優異的攝像感度及色再現性。
在將所述濾光片用於固體攝像元件用途的情況下，優選為近紅外波長域的透過率低者。特別是波長800 nm～1000 nm的區域已知固體攝像元件的受光感度相對較高，通過減低該波長域的透過率，可有效地進行相機圖像與人眼的視覺感度校正，可達成優異的色再現性。波長800 nm～1000 nm的平均透過率優選為15%以下，進而優選為10%以下，特別優選為5%以下。若波長800 nm～1000 nm的平均透過率在該範圍內，則可充分地截止近紅外線，可達成優異的色再現性，因此優選。 [濾光片的用途]
本發明的濾光片的視角廣，且具有優異的近紅外線截止能力等。因此，可有效用於相機模組的CCD或CMOS圖像感測器等固體攝像元件的視覺感度校正用途。特別是可用於數位相機、行動電話用相機、數位攝影機、個人電腦用相機、監控攝影機、汽車用相機、電視、汽車導航系統用車載裝置、個人數位助理、電子遊戲機、可擕式遊戲機、指紋識別系統用裝置、數位音樂播放器等。進而，也可用作安裝於汽車或建築物等的玻璃等上的熱射線截止濾光片等。 [固體攝像裝置]
本發明的固體攝像裝置包括本發明的濾光片。此處，所謂固體攝像裝置是CCD或CMOS圖像感測器等包括固體攝像元件的圖像感測器，具體而言可用於數位相機、行動電話用相機、數位攝影機等用途。例如，本發明的相機模組包括本發明的濾光片。 [實施例]
以下，基於實施例，對本發明進行更具體的說明，但本發明不受這些實施例的任何限定。此外，只要無特別說明，則「份」是指「重量份」。另外，各物性值的測定方法及物性的評價方法如下所述。 ＜分子量＞
樹脂的分子量是考慮到各樹脂對溶劑的溶解性等，利用下述（a）或（b）的方法進行測定。 （a）使用沃特世（WATERS）公司製造的凝膠滲透層析（GPC）裝置（150C型，管柱：東曹（Tosoh）公司製造的H型管柱，展開溶劑：鄰二氯苯），測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）以及數量平均分子量（Mn）。 （b）使用東曹公司製造的GPC裝置（HLC-8220型，管柱：TSKgelα-M，展開溶劑：THF），測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）以及數量平均分子量（Mn）。 ＜玻璃化轉變溫度（Tg）＞
使用SII奈米技術（SII NanoTechnology）股份有限公司製造的示差掃描熱量計（DSC6200），在升溫速度：每分鐘20℃、氮氣流下進行測定。 ＜分光透過率＞
吸收極大、各波長域中的透過率是使用日立高新技術（Hitachi Hightechnologies）股份有限公司製造的分光光度計（U-4100）來測定。 ＜花青化合物的耐光性評價＞
使基板在室內螢光燈下暴露500小時，對樹脂中所含的近紅外線吸收色素的耐光性（環境光耐性）進行評價。關於耐光性，根據基板的吸收強度最高的波長（以下稱為「λa」；在基板具有多個吸收極大的情況下，λa為其中吸收強度最高的波長）下的螢光燈暴露前後的吸光度變化，算出色素殘存率（%）來進行評價。在螢光燈下暴露500小時後的色素殘存率優選為90%以上，進而優選為95%以上。 [合成例] ＜樹脂合成例1＞
將100份的下述式（a）所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四環[4.4.0.12,5
.17,10
]十二-3-烯（以下也稱為「DNM」）、18份的1-己烯（分子量調節劑）以及300份的甲苯（開環聚合反應用溶媒），加入至經氮氣置換的反應容器中，將該溶液加熱至80℃。繼而，向反應容器內的溶液中，添加作為聚合催化劑的三乙基鋁的甲苯溶液（0.6 mol/liter）0.2份、以及甲醇改性的六氯化鎢的甲苯溶液（濃度為0.025 mol/liter）0.9份，將該溶液在80℃下加熱攪拌3小時，借此進行開環聚合反應而獲得開環聚合體溶液。該聚合反應中的聚合轉化率為97%。 [化17]
將以所述方式獲得的1,000份的開環聚合體溶液加入至高壓釜中，向該開環聚合體溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C6
H5
)3
]3
，在氫氣壓為100 kg/cm2
、反應溫度為165℃的條件下，加熱攪拌3小時來進行氫化反應。將所獲得的反應溶液（氫化聚合體溶液）冷卻後，將氫氣洩壓。將該反應溶液注入至大量的甲醇中來分離回收凝固物，將其乾燥，獲得氫化聚合體（以下也稱為「樹脂A」）。所獲得的樹脂A的數量平均分子量（Mn）為32,000，重量平均分子量（Mw）為137,000，玻璃化轉變溫度（Tg）為165℃。 ＜花青化合物合成例1＞ （1）將本合成例中的第一階段的反應流程示於以下。 [化18]
向經氮氣置換的二甲基甲醯胺（dimethylformamide，DMF）中，添加所述反應流程中所示的化合物a（2.9 mmol）以及化合物b（5.8 mmol），在120℃下攪拌3小時來進行反應。將產物以二乙醚進行提取，利用矽膠管柱進行純化，獲得化合物c。化合物c的產率為51%。另外，將NMR測定的結果示於以下。1
H NMR (DMSO-d6
) δ 1.33 (t, J = 7.0 Hz, 6H), 1.87 (brs, 2H), 1.91 (s, 12H), 2.73 (t, J = 5.9 Hz, 4H), 4.36 (q, J = 7.0 Hz, 4H), 6.32 (d, J = 14.3 Hz, 2H), 7.49 (t, J = 7.7 Hz, 2H), 7.63 (t, J = 7.6 Hz, 2H ), 7.76 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 8.03 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 8.06 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 8.25 (d, 8.5 Hz 2H), 8.32 (d, J = 14.3 Hz)。
（2）繼而，將本合成例中的第二階段的反應流程示於以下。 [化19]
使所獲得的化合物c（1 mmol）溶解於經氮氣置換的乙腈中，添加乙胺（4 mmol）及二異丙基乙胺（2 mmol），進行1小時加熱回流。將反應溶液添加於二乙醚（200 ml）中，利用抽吸過濾將析出的固體回收，利用矽膠管柱層析法（二氯甲烷：甲醇=20：1）進行純化。使所獲得的化合物溶解於經氮氣置換的二氯甲烷中，在0℃下添加三氟乙酸酐（0.7 mmol）以及二異丙基乙胺（3 mmol）來進行反應。然後，將反應溶液添加於二乙醚（100 ml）中，利用抽吸過濾將析出的固體回收，利用矽膠管柱層析法（二氯甲烷：甲醇=30：1）進行純化。所獲得的化合物d的產率為53%。
（3）繼而，將本合成例中的第三階段的反應流程示於以下。 [化20]
使所獲得的化合物d溶解於丙酮中，添加對應的金屬硼鹽，在室溫下進行鹽交換，借此獲得化合物e（以下也稱為「花青化合物1」）。化合物e的產率為60%。另外，將NMR測定的結果示於以下。1
H NMR (CDCl3
) δ 1.47 (m, 9H), 1.90 (s, 6H), 1.96 (s, 6H), 2.64 (m, 4H), 3.95 (q, J = 7.2 Hz, 2H), 4.16 (q, J = 7.0 Hz, 4H), 6.15 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.35 (d, J = 7.4 Hz, 2H), 7.50 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 7.63 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 7.70 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.96 (d, J = 8.7 Hz, 4H), 8.10 (d, J = 8.7 Hz, 2H)。 ＜花青化合物合成例2＞
除了在花青化合物合成例1的第二階段中，將乙胺變更為單氟乙胺鹽酸鹽以外，利用與花青化合物合成例1相同的方法來獲得下述式所表示的花青化合物2。 [化21]
＜花青化合物合成例3＞
除了在花青化合物合成例1的第二階段中，將三氟乙酸酐變更為乙醯氯以外，利用與花青化合物合成例1相同的方法來獲得下述式所表示的花青化合物3。 [化22]
＜花青化合物合成例4＞
除了在花青化合物合成例1的第一階段中，將化合物a變更為下述化合物f以外，利用與花青化合物合成例1相同的方法來獲得下述式所表示的花青化合物4。 [化23]
[化24]
＜花青化合物合成例5＞
除了在花青化合物合成例4的第二階段中，將乙胺變更為單氟乙胺鹽酸鹽以外，利用與花青化合物合成例4相同的方法來獲得下述式所表示的花青化合物5。 [化25]
[實施例1]
向容器中添加樹脂合成例1中獲得的樹脂A（100重量份）、花青化合物合成例1中獲得的花青化合物1（0.08重量份）、以及二氯甲烷，獲得樹脂濃度為20重量%的溶液。繼而，將所獲得的溶液流延於平滑的玻璃板上，在20℃下乾燥8小時而形成塗膜後，自玻璃板上剝離塗膜。進而將剝離的塗膜在減壓下，在100℃下乾燥8小時，獲得厚度為0.1 mm、縱為60 mm、橫為60 mm的基板。測定該基板的分光透過率，求出樹脂製基板的λa，結果為843 nm。另外，對該基板進行耐光性評價，結果為，色素殘存率為96.0%。將結果示於表1中。 [實施例2]以及[參考例1]
除了在實施例1中，採用表1所示的花青化合物來代替花青化合物1以外，以與實施例1相同的方式製造厚度為0.1 mm的濾光片。將評價結果示於表1中。
[表1] 
[產業上的可利用性]
本發明的濾光片可適合用於數位相機、行動電話用相機、數位攝影機、個人電腦用相機、監控攝影機、汽車用相機、電視、汽車導航系統用車載裝置、個人數位助理、電子遊戲機、可擕式遊戲機、指紋識別系統用裝置、數位音樂播放器等。進而，也可適合用作安裝於汽車或建築物等的玻璃等上的熱射線截止濾光片等。
無
無
Claims (9)
- 一種花青化合物，其特徵在於：其為包含陰離子及陽離子的相對離子結合體，且該陽離子是由下述通式(I-1)~通式(I-6)中任一者所表示，
- 如申請專利範圍第1項所述的花青化合物，其中所述陰離子是由下述通式(II)所表示，
- 一種濾光片，其特徵在於包括：基板，包括含有如申請專利範圍第1項或第2項所述的花青化合物的透明樹脂層；以及近紅外線反射膜，形成於所述基板的至少一面上。
- 如申請專利範圍第3項所述的濾光片，其中構成所述透明樹脂層的透明樹脂為選自由環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對伸苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改性)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
- 如申請專利範圍第3項或第4項所述的濾光片，其中所述近紅外線反射膜形成於所述基板的兩面上。
- 如申請專利範圍第3項或第4項所述的濾光片，其用於固體攝像裝置。
- 一種固體攝像裝置，其包括如申請專利範圍第3項至第6項中任一項所述的濾光片。
- 一種相機模組，其包括如申請專利範圍第3項至第6項中任一項所述的濾光片。
- 一種樹脂組成物，其含有：如申請專利範圍第1項或第2項所述的花青化合物；以及選自由環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對伸苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改性)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
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