TW201409091A - 固體攝影元件用光學濾波器及其用途 - Google Patents
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Abstract
本申請案發明的目的在於提供一種固體攝影元件用光學濾波器以及使用該光學濾波器的裝置，上述光學濾波器對現有的近紅外線截止濾波器等光學濾波器所具有的缺點進行改良，於近紫外波長區域，入射角度依存性亦少，且可見光穿透率特性優異。本發明的固體攝影元件用光學濾波器的特徵在於：包括透明樹脂製基板，其含有於波長300 nm~420 nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及於波長600 nm~800 nm下具有最大吸收值的化合物(Y)；以及近紅外線反射膜，其位於該基板的至少一面。
Description
本發明是有關於一種固體攝影元件用光學濾波器及其用途。詳細而言，是有關於一種包括含有於特定波長下具有最大吸收值的化合物的透明樹脂製基板的固體攝影元件用光學濾波器、以及使用該光學濾波器的固體攝影裝置及相機模組。
攝影機(video camera)、數位靜態相機(digital still camera)、帶有相機功能的行動電話等的固體攝影裝置中使用彩色影像的固體攝影元件即電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)或互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS)影像感測器(image sensor)，但該些固體攝影元件於其受光部使用對人類的眼睛所無法感知的近紅外線具有感度的矽光二極體。該些固體攝影元件中，必須進行可見度修正，以使上述近紅外線成為在人類的眼睛看來為自然的色調，經常使用使特定的波長區域的光線選擇性地穿透或者截止的光學濾波器。
以前，如上所述的光學濾波器是使用以各種方法來製造
的光學濾波器。例如，使用透明樹脂作為基材且使該透明樹脂中含有近紅外線吸收色素的近紅外線截止濾波器等光學濾波器已廣為人知(例如參照專利文獻1)。然而，專利文獻1中揭示的光學濾波器存在近紅外線吸收能力未必充分的情況。
另外，本申請人提出含有具有特定結構的方酸內鎓鹽(squarylium)系化合物的光學濾波器(參照專利文獻2)。於使用如上所述的光學濾波器的情況下，可降低近紅外波長區域的光學特性的入射角度依存性，與現存的光學濾波器相比較，可改善視角。
然而，於僅使用在近紅外波長區域具有吸收的化合物的情況下，存在無法充分改善波長300 nm~420 nm的近紫外波長區域的光學特性的入射角度依存性的情況。例如，如圖1所示，於在光學濾波器6的表面與透鏡5的表面反射的近紫外光B以大於0度的角度射入光學濾波器6中的情況下，無法充分截止反射光，存在產生紫色或藍色的不鮮明影像等使相機畫質下降的情況。
[專利文獻1]日本專利特開平6-200113號公報
[專利文獻2]日本專利特開2012-8532號公報
本發明的目的在於提供一種固體攝影元件用光學濾波器以及使用該光學濾波器的裝置，上述光學濾波器對現有的近紅
外線截止濾波器等光學濾波器所具有的缺點進行改良，於近紫外波長區域，入射角度依存性亦少，且可見光穿透率特性優異。
本發明者們為了解決上述課題而積極研究。結果發現，藉由包括含有於波長300 nm~420 nm下具有最大吸收值的化合物以及於波長600 nm~800 nm下具有最大吸收值的化合物的透明樹脂製基板的光學濾波器，能夠解決上述課題，從而完成本發明。以下表示本申請案發明的實施方式的例子。
[1]一種固體攝影元件用光學濾波器，其特徵在於，包括：透明樹脂製基板，其含有於波長300 nm~420 nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及於波長600 nm~800 nm下具有最大吸收值的化合物(Y)；以及近紅外線反射膜，其位於該基板的至少一面。
[2]如項[1]所述的固體攝影元件用光學濾波器，其中上述化合物(X)為選自由偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所組成組群中的至少1種。
[3]如項[1]或項[2]所述的固體攝影元件用光學濾波器，其中相對於構成上述基板的透明樹脂的含量100重量份，上述化合物(X)的含量為0.006重量份~3.0重量份，且上述化合物(Y)的含量為0.004重量份~2.0重量份。
[4]如項[1]至項[3]中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器，其中構成上述基板的透明樹脂為選自由環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、
茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂所組成組群中的至少1種。
[5]如項[1]至項[4]中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器，其特徵在於：用於固體攝影裝置。
[6]一種固體攝影裝置，其特徵在於，包括：如項[1]至項[5]中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器。
[7]一種相機模組，其特徵在於，包括：如項[1]至項[5]中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器。
依據本發明，可提供一種於近紫外波長區域，入射角度依存性亦少，且可見光穿透率特性優異的固體攝影元件用光學濾波器。
圖1是表示在光學濾波器6的表面及透鏡5的表面反射的光線以大於0度的入射角度射入光學濾波器6中的情況的概略圖。
圖2(a)是表示現有的相機模組的一例的剖面概略圖。圖2(b)是表示使用本發明的固體攝影元件用光學濾波器6'的情況下的相機模組的一例的剖面概略圖。
圖3是表示對自固體攝影元件用光學濾波器的垂直方向測定時的穿透率進行測定的方法的概略圖。
圖4是表示對相對於固體攝影元件用光學濾波器的垂直方向而自30度的角度測定時的穿透率進行測定的方法的概念圖。
圖5是使用現有的固體攝影元件用光學濾波器，自垂直方向、以及相對於垂直方向而自30度的角度進行測定的穿透波譜的一例。
以下，對本發明進行具體說明。
[固體攝影元件用光學濾波器]
本發明的固體攝影元件用光學濾波器(以下亦簡稱為「本發明的光學濾波器」)包括透明樹脂製基板，其含有於波長300 nm~420 nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及於波長600 nm~800 nm下具有最大吸收值的化合物(Y)，並且於該基板的至少一面包括近紅外線反射膜。上述化合物(X)與上述化合物(Y)可包含於透明樹脂製基板中的同一層中，亦可包含於分別不同的層中。於包含於同一層中的情況下，例如可列舉上述化合物(X)與上述化合物(Y)均包含於同一透明樹脂製基板中的形態，於包含於分別不同的層中的情況下，例如可列舉於包含上述化合物(Y)的透明樹脂製基板上積層有包含上述化合物(X)的層的形態。上述化合物(X)與上述化合物(Y)更佳為包含於同一層中，於如上所述的情況下，較包含於分別不同的層中的情況而言，更容易
控制上述化合物(X)與上述化合物(Y)的含量。
[透明樹脂製基板]
構成本發明的光學濾波器的透明樹脂製基板(以下亦稱為「樹脂製基板」)含有透明樹脂、上述化合物(X)及上述化合物(Y)，能夠選擇性地且效率良好地截止近紫外線及近紅外線。
藉由將如上所述的樹脂製基板用於光學濾波器，可獲得如下光學濾波器：於自光學濾波器的垂直方向測定的情況下，在300 nm~450 nm的波長區域，穿透率成為50%的最長波長側的波長(H)的前後20 nm的波長區域的各波長下的穿透率，與在相同波長區域，相對於光學濾波器的垂直方向而自30度的角度測定的情況下的各波長下的穿透率之差的絕對值的最大值(以下稱為「最大值(U)」)變小；並且入射角依存性小，視角廣。
此處，關於波長(H)及最大值(U)，參照圖5來進行說明，該圖5是使用現有的固體攝影元件用光學濾波器，自垂直方向測定的穿透率10的波譜、以及相對於垂直方向而自30度的角度測定的穿透率11的波譜的一例。於圖5的情況下，於300 nm~450 nm的波長區域，自光學濾波器的垂直方向測定的穿透率10成為50%的波長(H)是以符號12表示的415 nm，於波長(H)的前後20 nm的波長區域(395 nm~435 nm)的各波長下，穿透率10與穿透率11之差的絕對值的最大值(U)是以符號14所表示的39%(穿透率10：5%，穿透率11：44%，波長403 nm)。
上述最大值(U)較佳為小於25%，更佳為小於20%，
特佳為小於15%。
相機模組等用途中，於波長400 nm~700 nm的所謂可見光區域，將含有上述化合物(X)及上述化合物(Y)的樹脂製基板的厚度設為100 μm時的該基板的平均穿透率必須為50%以上，較佳為65%以上。
上述樹脂製基板的厚度可根據所需用途來適當選擇，並無特別限制，較佳為以該基板具有如上所述的入射角依存改良性的方式進行調整，更佳為30 μm~250 μm，尤佳為40 μm~200 μm，特佳為50 μm~150 μm。
若樹脂製基板的厚度在上述範圍內，則能夠使利用該基板的光學濾波器小型化及輕量化，可適宜用於固體攝影裝置等多種用途。尤其於將上述樹脂性基板用於相機模組等透鏡單元的情況下，能夠實現透鏡單元的低背化，故而較佳。
〈化合物(X)〉
本發明中使用的於波長300 nm~420 nm下具有最大吸收值的化合物(X)通常被稱為近紫外線吸收劑，亦可於上述波長範圍具有2個以上的最大吸收值。如上所述的化合物(X)並無特別限定，較佳為選自由偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所組成組群中的至少1種。
(A)偶氮次甲基系化合物
上述偶氮次甲基系化合物並無特別限定，例如可由下述式(1)表示。
式(1)中，Ra1~Ra5分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、碳數1~15的烷基、碳數1~9的烷氧基或者碳數1~9的烷氧基羰基。
(B)吲哚系化合物
上述吲哚系化合物並無特別限定，例如可由下述式(2)表示。
式(2)中，Rb1~Rb5分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、氰基、苯基、芳烷基、碳數1~9的烷基、碳數1~9的烷氧基或者碳數1~9的烷氧基羰基。
(C)苯并三唑系化合物
上述苯并三唑系化合物並無特別限定，例如可由下述式(3)表示。
式(3)中，Rc1~Rc3分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、芳烷基、碳數1~9的烷基、碳數1~9的烷氧基、或者具有碳數1~9的烷氧基羰基作為取代基的碳數1~9的烷基。
(D)三嗪系化合物
上述三嗪系化合物並無特別限定，例如可由下述式(4)、式(5)或者式(6)表示。
式(4)~式(6)中，Rd1獨立地表示氫原子、碳原子數1~15的烷基、碳原子數3~8的環烷基、碳原子數3~8的烯基、碳原子數6~18的芳基、碳原子數7~18的烷基芳基或者芳基烷基。其中，該些烷基、環烷基、烯基、芳基、烷基芳基及芳基烷基可經羥基、鹵素原子、碳原子數1~12的烷基或者烷氧基取代，亦可由氧原子、硫原子、羰基、酯基、醯胺基或者亞胺基中斷。另外，上述取代及中斷可組合。Rd2~Rd9分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、碳原子數1~15的烷基、碳原子數3~8的環烷基、碳原子數3~8的烯基、碳原子數6~18的芳基、碳原子數7~18的烷基芳基或者芳基烷基。
〈化合物(Y)〉
本發明中使用的於波長600 nm~800 nm、較佳為波長620 nm~780 nm、特佳為波長650 nm~750 nm的範圍內具有最大吸收值的化合物(Y)通常被稱為近紅外線吸收色素，亦可於上述波長範圍內具有2個以上的最大吸收值。如上所述的化合物(Y)並無特
別限定，例如可列舉：方酸內鎓鹽系化合物、酞菁(phthalocyanine)系化合物、萘酞菁(naphthalocyanine)系化合物及花青(cyanine)系化合物等。藉由使用化合物(Y)，除了近紫外波長區域以外，於近紅外波長區域亦可改良光學濾波器的入射角依存性，能夠獲得視角廣的光學濾波器。
(A)方酸內鎓鹽系化合物
方酸內鎓鹽系化合物較佳為包含選自由式(I)所表示的方酸內鎓鹽系化合物及式(II)所表示的方酸內鎓鹽系化合物所組成組群中的至少1種。以下，亦分別稱為「化合物(I)」及「化合物(II)」。
式(I)中，Ra、Rb及Y滿足下述(i)或者(ii)的條件。
條件(i)
存在多個的Ra分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NReRf基。Re及Rf分別獨立地表示氫原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le。
存在多個的Rb分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺
基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NRgRh基。Rg及Rh分別獨立地表示氫原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld、-Le或-C(O)Ri基(Ri表示-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le)。
存在多個的Y分別獨立地表示-NRjRk基。Rj及Rk分別獨立地表示氫原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le。
L1為La、Lb、Lc、Ld、Le、Lf、Lg或Lh。
上述La~Lh表示：(La)可具有取代基L的碳數1~9的脂肪族烴基、(Lb)可具有取代基L的碳數1~9的鹵代烷基、(Lc)可具有取代基L的碳數3~14的脂環式烴基、(Ld)可具有取代基L的碳數6~14的芳香族烴基、(Le)可具有取代基L的碳數3~14的雜環基、(Lf)可具有取代基L的碳數1~9的烷氧基、(Lg)可具有取代基L的碳數1~9的醯基、或者(Lh)可具有取代基L的碳數1~9的烷氧基羰基。
取代基L為選自由碳數1~9的脂肪族烴基、碳數1~9的鹵代烷基、碳數3~14的脂環式烴基、碳數6~14的芳香族烴基及碳數3~14的雜環基所組成組群中的至少1種。
上述La~Lh可進而具有選自由鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及胺基所組成組群中的至少1種原子或者基團。
上述La~Lh較佳為包含取代基的碳數的合計分別為50
以下，尤佳為碳數40以下，特佳為碳數30以下。若碳數多於該範圍，則存在色素的合成變得困難的情況，並且存在每單位重量的吸收強度減小的傾向。
條件(ii)
1個苯環上的2個Ra中的至少1個與相同苯環上的Y相互鍵結而形成包含至少1個氮原子的構成原子數5或6的雜環，上述雜環可具有取代基，Rb以及不參與上述雜環的形成的Ra分別獨立地與上述(i)的Rb及Ra含義相同。
式(II)中，X表示O、S、Se、N-Rc或者C-RdRd；存在多個的Rc分別獨立地表示氫原子、-La、-Lb、-Lc、-Ld或-Le；存在多個的Rd分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1或-NReRf基，相鄰的Rd彼此可連結而形成可具有取代基的環；La~Le、L1、Re及Rf與上述式(I)中所定義的La~Le、L1、Re及Rf含義相同。
除了如下述式(I-1)及下述式(II-1)所述的記載方法以外，化合物(I)及化合物(II)還可以如下述式(I-2)及下述
式(II-2)般採取共振結構的記載方法來表示結構。即，下述式(I-1)與下述式(I-2)的差異、以及下述式(II-1)與下述式(II-2)的差異僅為結構的記載方法不同，任一者均表示同一化合物。本發明中只要無特別說明，則設為利用如下述式(I-1)及下述式(II-1)般的記載方法來表示方酸內鎓鹽系化合物的結構者。
化合物(1)及化合物(II)只要分別滿足上述式(I)及上述式(II)的必要條件，則結構並無特別限定，例如於以上述式(I-1)及上述式(II-1)的方式表示結構的情況下，鍵結於中央的四員環上的左右取代基可相同亦可不同，相同者容易合成，故而較佳。此外，例如下述式(I-3)所表示的化合物與下述式(I-4)所表示的化合物可視為同一化合物。
(B)酞菁系化合物
上述酞菁系化合物的結構並無特別限定，例如可列舉下述式(III)所表示的化合物。
式(III)中，M表示包含2個氫原子、2個1價金屬原子、2價金屬原子、或者3價或4價金屬原子的取代金屬原子，
存在多個的Ra、Rb、Rc及Rd分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4。或者，存在多個的Ra、Rb、Rc及Rd表示Ra與Rb、Rb與Rc及Rc與Rd中的至少1個組合進行鍵結而成的，選自由下述式(A)~式(H)所表示的基團所組成組群中的至少1種基團。其中，鍵結於相同芳香環上的Ra、Rb、Rc及Rd中至少1個不為氫原子。
上述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有上述式(I)中所定義的取代基L，L1與上述式(I)中所定義的L1含義相同，L2表示氫原子或者上述式(I)中所定義的La~Le的任一者，L3表示羥基或者上述La~Le的任一者，L4表示上述La~Le的任一者。
式(A)~式(H)中，Rx與Ry的組合為Ra與Rb、Rb與Rc或者Rc與Rd的組合，存在多個的RA~RL分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4，上述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有上述取代基L，L1~L4與上述式(III)中所定義的L1~L4含義相同。
(C)萘酞菁系化合物
上述萘酞菁系化合物的結構並無特別限定，例如可列舉下述式(IV)所表示的化合物。
式(IV)中，M與上述式(7)中的M含義相同，Ra、Rb、Rc、Rd、Re及Rf分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、
硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4。
(D)花青系化合物
上述花青系化合物的結構並無特別限定，例如可列舉下述式(V-1)~式(V-3)所表示的化合物。
式(V-1)~式(V-3)中，Xa -表示1價陰離子，存在多個的D獨立地表示碳原子、氮原子、氧原子或者硫原子，存在多個的Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、Rh及Ri分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、
醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4，或者Rb與Rc、Rd與Re、Re與Rf、Rf與Rg、Rg與Rh以及Rh與Ri中的至少1個組合進行鍵結而成的選自由下述式(A)~式(H)所表示的基團所組成組群中的至少1種基團，上述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有上述式(I)中所定義的取代基L，L1與上述式(I)中所定義的L1含義相同，L2表示氫原子或者上述式(I)中所定義的La~Le的任一者，L3表示氫原子或者上述La~Le的任一者，L4表示上述La~Le的任一者，Za~Zd及Ya~Yd分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4(L1~L4與上述Ra~Ri中的L1~L4含義相同)，或者選自鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的可包含至少1個氮原子、氧原子或硫原子的5員至6員環的脂環式烴基，選自鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的碳數6~14的芳香族烴基，或者選自鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成，且包含至少1個氮原子、氧原子或硫原子的碳數3~14的雜芳香族烴基；該些脂環式烴基、芳香族烴基及雜芳香族烴基可具有碳數1~9的脂肪族烴基或者鹵素原子。
式(A)~式(H)中，Rx與Ry的組合為Rb與Rc、Rd與Re、Re與Rf、Rf與Rg、Rg與Rh以及Rh與Ri的組合，存在多個的RA~RL分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3或-N=N-L4(L1~L4與上述式(V-1)~式(V-3)中所定義的L1~L4含義相同)，上述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有上述取代基L。
〈其他色素〉
本發明中，除了上述化合物(X)及上述化合物(Y)以外，可使用於超過800 nm且1300 nm以下的波長下具有最大吸收值的色素(Z)作為其他色素。如上所述的色素(Z)並無特別限定，例如可列舉：酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、花青系化合物、方酸內鎓鹽系化合物、克酮酸(croconium)系化合物、二硫酚
(dithiol)系化合物、二亞銨(diimonium)系化合物及卟啉(porphyrin)系化合物等。該些色素例如可使用日本專利特開2006-284756號公報、日本專利特開2008-303130號公報、日本專利第4919629號公報、日本專利第4083730號公報中例示的色素。色素(Z)的含量只要是不損及本發明效果的範圍，則無特別限定，相對於構成樹脂製基板的樹脂100重量份，上述色素(Z)的含量較佳為0.01重量份~10.0重量份。藉由使用色素(Z)，可獲得波長800nm以下的長波長域的吸收特性更良好的光學濾波器，能夠達成良好的相機畫質。
〈化合物(X)與化合物(Y)的含量〉
上述樹脂製基板中，相對於構成樹脂製基板的樹脂100重量份，上述化合物(X)的含量較佳為0.006重量份~3.0重量份，更佳為0.02重量份~2.5重量份，特佳為0.05重量份~2.0重量份。相對於構成樹脂製基板的樹脂100重量份，上述化合物(Y)的含量較佳為0.004重量份~2.0重量份，更佳為0.01重量份~1.5重量份，特佳為0.02重量份~1.0重量份。若上述化合物(X)與上述化合物(Y)的含量處於上述範圍內，則能夠於各個吸收波長域中兼具良好的吸收特性與高的可見光穿透率。
〈樹脂〉
上述樹脂製基板中使用的透明樹脂只要不損及本發明的效果，則並無特別限制，例如，為了製成確保熱穩定性以及對膜的成形性，且可藉由在100℃以上的蒸鍍溫度下進行的高溫蒸鍍來形
成介電體多層膜的膜，可列舉玻璃轉移溫度(Tg)較佳為110℃~380℃、更佳為110℃~370℃、尤佳為120℃~360℃的透明樹脂。另外，若透明樹脂的玻璃轉移溫度為140℃以上，則獲得可於更高溫度下蒸鍍形成介電體多層膜的膜，因此特佳。
上述透明樹脂可使用厚度0.1 mm下的總透光率(JIS K7105)較佳為75%~95%、尤佳為78%~95%、特佳為80%~95%的樹脂。若總透光率為如上所述的範圍，則所得的基板作為光學膜而表現出良好的透明性。
上述透明樹脂例如可列舉：環狀聚烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺(芳族聚醯胺)系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate，PEN)系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂。
(A)環狀烯烴系樹脂
上述環狀烯烴系樹脂較佳為由選自由下述式(13)所表示的單體及下述式(14)所表示的單體所組成組群中的至少1種單體獲得的樹脂、或者視需要藉由進而將上述所得的樹脂進行氫化而獲得的樹脂。
式(13)中，Rx1~Rx4分別獨立地表示選自下述(i')~(ix')
中的原子或者基團，kx、mx及px分別獨立地表示0或者正的整數。
(i')氫原子
(ii')鹵素原子
(iii')三烷基矽烷基
(iv')具有包含氧原子、硫原子、氮原子或者矽原子的連結基的經取代或未經取代的碳數1~30的烴基
(v')經取代或未經取代的碳數1~30的烴基
(vi')極性基(但(iv')除外)
(vii')表示Rx1與Rx2或者Rx3與Rx4相互鍵結而形成的亞烷基，不參與該鍵結的Rx1~Rx4分別獨立地表示選自上述(i')~(vi')中的原子或者基團。
(viii')表示Rx1與Rx2或者Rx3與Rx4和所鍵結的碳原子一起相互鍵結而形成的單環或多環的烴環或者雜環，不參與該鍵結的Rx1~Rx4分別獨立地表示選自上述(i')~(vi')中的原子或者基團。
(ix')表示Rx2與Rx3和所鍵結的碳原子一起相互鍵結而形成的單環的烴環或者雜環，不參與該鍵結的Rx1~Rx4分別獨立地表
示選自上述(i')~(vi')中的原子或者基團。
式(14)中，Ry1及Ry2分別獨立地表示選自上述(i')~(vi')中的原子或者基團，或者表示下述(x')，ky及py分別獨立地表示0或者正的整數。
(x')表示Ry1與Ry2相互鍵結而形成的單環或者多環的脂環式烴、芳香族烴或者雜環。
(B)芳香族聚醚系樹脂
上述芳香族聚醚系樹脂較佳為具有選自由下述式(15)所表示的結構單元及下述式(16)所表示的結構單元所組成組群中的至少1個結構單元。
式(15)中，R1~R4分別獨立地表示碳數1~12的1價有機基，a~d分別獨立地表示0~4的整數。
式(16)中，R1~R4及a~d與上述式(15)中的R1~R4及a~d含義相同，Y表示單鍵、-SO2-或者>C=O，R7及R8分別獨立地表示鹵素原子、碳數1~12的1價有機基或者硝基，g及h分別獨立地表示0~4的整數，m表示0或1。其中，當m為0時，R7不為氰基。
另外，上述芳香族聚醚系樹脂較佳為進而具有選自由下述式(17)所表示的結構單元及下述式(18)所表示的結構單元所組成組群中的至少1個結構單元。
式(17)中，R5及R6分別獨立地表示碳數1~12的1價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-或者碳數1~12的2價有機基，e及f分別獨立地表示0~4的整數，n表示0或1。
式(18)中，R7、R8、Y、m、g及h與上述式(16)中的R7、R8、Y、m、g及h含義相同，R5、R6、Z、n、e及f與上述式(17)中的R5、R6、Z、n、e及f含義相同。
(C)聚醯亞胺系樹脂
聚醯亞胺系樹脂並無特別限制，只要是在重複單元中包含醯亞胺鍵的高分子化合物即可，例如可利用日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報中記載的方法來合成。
(D)茀聚碳酸酯系樹脂
茀聚碳酸酯系樹脂並無特別限制，只要是包含茀部位的聚碳酸酯樹脂即可，例如可利用日本專利特開2008-163194號公報中記載的方法來合成。
(E)茀聚酯系樹脂
茀聚酯系樹脂並無特別限制，只要是包含茀部位的聚酯樹脂即可，例如可利用日本專利特開2010-285505號公報或日本專利特開2011-197450號公報中記載的方法來合成。
(F)氟化芳香族聚合物系樹脂
氟化芳香族聚合物系樹脂並無特別限制，只要是含有具有至少1個氟的芳香族環，以及包含選自由醚鍵、酮鍵、碸鍵、醯胺鍵、醯亞胺鍵及酯鍵所組成組群中的至少1個鍵的重複單元的聚合物即可，例如可利用日本專利特開2008-181121號公報中記載的方法來合成。
(G)市售品
透明樹脂的市售品可列舉以下市售品等。環狀烯烴系樹脂的市售品可列舉：JSR股份有限公司製造的Arton、日本瑞翁(ZEON)股份有限公司製造的Zeonor、三井化學股份有限公司製造的APEL、寶理塑膠股份有限公司製造的TOPAS等。聚醚碸系樹脂的市售品可列舉住友化學股份有限公司製造的Sumikaexcel PES等。聚醯亞胺系樹脂的市售品可列舉三菱瓦斯化學股份有限公司製造的Neopulim L等。聚碳酸酯系樹脂的市售品可列舉帝人股份
有限公司製造的Pureace等。茀聚碳酸酯系樹脂的市售品可列舉三菱氣體化學股份有限公司製造的Lupizeta EP-5000等。茀聚酯系樹脂的市售品可列舉大阪瓦斯化學股份有限公司製造的OKP4HT等。丙烯酸系樹脂的市售品可列舉日本觸媒股份有限公司製造的Acryviewa等。倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂的市售品可列舉新日鐵化學股份有限公司製造的Silplus等。
〈其他成分〉
上述樹脂製基板可於不損及本發明效果的範圍內，進而含有抗氧化劑、金屬錯合物系化合物等添加劑。另外，於藉由後述的澆鑄成形來製造樹脂製基板的情況下，可藉由添加調平劑或消泡劑來容易地進行樹脂製基板的製造。該些其他成分可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
上述抗氧化劑例如可列舉：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧-3,3'-二-第三丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、以及四[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷等。
此外，該些添加劑可於製造樹脂製基板時與樹脂等一起混合，亦可於製造樹脂時添加。另外，添加量是根據所需特性來適當選擇，相對於樹脂100重量份，上述添加量通常為0.01重量份~5.0重量份，較佳為0.05重量份~2.0重量份。
〈樹脂製基板的製造方法〉
上述樹脂製基板例如可藉由熔融成形或者澆鑄成形來形成。
(A)熔融成形
上述樹脂製基板可利用以下方法來製造：將樹脂、化合物(X)及化合物(Y)等熔融混練，將所得的顆粒進行熔融成形的方法；將含有樹脂、化合物(X)及化合物(Y)等的樹脂組成物進行熔融成形的方法；或者自包含樹脂、化合物(X)、化合物(Y)及溶劑等的樹脂組成物中去除溶劑，將所得的顆粒進行熔融成形的方法等。熔融成形方法例如可列舉射出成形、熔融擠出成形或者吹塑成形等。
上述溶劑只要是通常用於有機合成等的溶劑，則並無特別限定，例如可列舉：己烷、環己烷等烴類；甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚等醚類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等鹵化烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等醯胺類。該些溶劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
(B)澆鑄成形
上述樹脂製基板亦可利用以下方法來製造：將包含樹脂、化合物(X)、化合物(Y)及溶劑等的樹脂組成物澆鑄於適當的基材上並去除溶劑的方法；將包含抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑、化合物(X)、化合物(Y)以及樹脂等的樹脂組成物澆鑄於適當的基材上的方法；或者將包含抗反射劑、硬塗劑及/或
抗靜電劑等塗佈劑、化合物(X)、化合物(Y)以及樹脂等的硬化性組成物澆鑄於適當的基材上，使其硬化及乾燥的方法等。上述溶劑可使用與上述「(A)熔融成形」中例示的溶劑相同的溶劑。
上述基材例如可列舉：玻璃板、鋼帶(steel belt)、鋼桶(steel drum)及透明樹脂(例如聚酯膜、環狀烯烴系樹脂膜)。
上述樹脂製基板可藉由自基材上剝離來獲得，另外，只要不損及本發明的效果，則亦可不從基材上剝離，而是將基材與塗膜的積層體作為上述樹脂製基板。
進而，亦可利用於玻璃板、石英或者透明塑膠製等光學零件上，塗佈上述樹脂組成物而使溶劑乾燥的方法，或者塗佈上述硬化性組成物而使其硬化及乾燥的方法等，於光學零件上直接形成樹脂製基板。
利用上述方法而得的樹脂製基板中的殘留溶劑量宜儘可能少，相對於樹脂製基板中的樹脂100重量份，上述殘留溶劑量通常為3重量%以下，較佳為1重量%以下，尤佳為0.5重量%以下。若殘留溶劑量處於上述範圍，則獲得不易變形或特性難以變化的能夠容易發揮所需功能的樹脂製基板。
[近紅外線反射膜]
本發明的光學濾波器於上述樹脂製基板的至少一面具有近紅外線反射膜。
本發明中可使用的近紅外線反射膜為具有反射近紅外線的能力的膜。如上所述的近紅外線反射膜可列舉：鋁蒸鍍膜、
貴金屬薄膜、分散有以氧化銦作為主成分且含有少量氧化錫的金屬氧化物微粒子的樹脂膜，或者將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成的介電體多層膜等。若具有如上所述的近紅外線反射膜，則可更有效地截止近紅外線。
本發明中，近紅外線反射膜可設置於樹脂製基板的單面，亦可設置於兩面。於設置於單面的情況下，製造成本低或製造容易性優異，於設置於兩面的情況下，可獲得具有高強度且難以產生翹曲的光學濾波器。
上述近紅外線反射膜中，更佳為將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成的介電體多層膜。
構成高折射率材料層的材料可使用折射率為1.7以上的材料，選擇折射率的範圍通常為1.7~2.5的材料。如上所述的材料例如可列舉：以氧化鈦、氧化鋯、五氧化鉭、五氧化鈮、氧化鑭、氧化釔、氧化鋅、硫化鋅或者氧化銦等作為主成分，且含有少量(例如，相對於主成分為0%~10%)的氧化鈦、氧化錫及/或氧化鈰等的材料等。
構成低折射率材料層的材料可使用折射率為1.6以下的材料，選擇折射率的範圍通常為1.2~1.6的材料。如上所述的材料例如可列舉：二氧化矽、氧化鋁、氟化鑭、氟化鎂及氟化鋁酸鈉等。
關於將高折射率材料層與低折射率材料層積層的方法，只要可形成積層有該些材料層的介電體多層膜，則並無特別
限制。例如，可於上述樹脂製基板上，直接利用化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、濺鍍法、真空蒸鍍法、離子輔助蒸鍍法或者離子鍍敷法等，來形成交替積層有高折射率材料層及低折射率材料層的介電體多層膜。
若將所欲遮斷的近紅外線波長設為λ(nm)，則該些高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度通常較佳為0.1λ~0.5λ的厚度。若厚度在該範圍內，則算出折射率(n)與膜厚(d)之積(n×d)為λ/4的光學膜厚與高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度成為大致相同的值，由於反射‧折射的光學特性的關係，而存在能夠容易控制特定波長的遮斷‧穿透的傾向。
另外，介電體多層膜中的高折射率材料層與低折射率材料層的合計積層數較理想為5層~60層，較佳為6層~50層。
進而，於形成介電體多層膜時在基板上產生翹曲的情況下，為了消除該翹曲，可採取於基板兩面形成介電體多層膜的方法等。
[其他功能膜]
本發明的光學濾波器可於不損及本發明效果的範圍內，在樹脂製基板與介電體多層膜等近紅外線反射膜之間、於樹脂製基板的與設置有近紅外線反射膜的面相反側的面、或者近紅外線反射膜的與設置有樹脂製基板的面相反側的面上，出於提高樹脂製基板或近紅外線反射膜的表面硬度、提高耐化學品性、抗靜電以及消除傷痕等目的，來適當設置抗反射膜、硬塗膜及抗靜電膜等功
能膜。
本發明的光學濾波器可包含1層包括上述功能膜的層，亦可包含2層以上。於本發明的光學濾波器包含2層以上包括上述功能膜的層的情況下，可包含2層以上相同的層，亦可包含2層以上不同的層。
積層功能膜的方法並無特別限制，可列舉如下方法等：以與上述相同的方式，將抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑等熔融成形或者澆鑄成形於樹脂製基板或者近紅外線反射膜上。
另外，亦可藉由利用棒式塗佈機等，將包含上述塗佈劑等的硬化性組成物塗佈於樹脂製基板或者近紅外線反射膜上，然後藉由紫外線照射等進行硬化來製造。
上述塗佈劑可列舉紫外線(ultraviolet，UV)/電子束(electron beam，EB)硬化型樹脂或熱硬化型樹脂等，具體而言可列舉：乙烯基系化合物類或胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系樹脂等。包含該些塗佈劑的上述硬化性組成物可列舉：乙烯基系、胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系硬化性組成物等。
另外，上述硬化性組成物亦可包含聚合起始劑。上述聚合起始劑可使用公知的光聚合起始劑或者熱聚合起始劑，亦可將光聚合起始劑與熱聚合起始劑併用。聚合起始劑可單獨使用1種，
亦可併用2種以上。
上述硬化性組成物中，於將硬化性組成物的總量設為100重量%的情況下，聚合起始劑的調配比例較佳為0.1重量%~10重量%，更佳為0.5重量%~10重量%，尤佳為1重量%~5重量%。若聚合起始劑的調配比例處於上述範圍內，則硬化性組成物的硬化特性以及操作性優異，能夠獲得具有所需硬度的抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
進而，上述硬化性組成物中可添加有機溶劑作為溶劑，有機溶劑可使用公知者。有機溶劑的具體例可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚等醚類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等醯胺類。該些溶劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
上述功能膜的厚度較佳為0.1 μm~20 μm，尤佳為0.5 μm~10 μm，特佳為0.7 μm~5 μm。
另外，出於提高樹脂製基板與功能膜及/或近紅外線反射膜的密接性、或功能膜與近紅外線反射膜的密接性的目的，亦可對樹脂製基板或功能膜的表面進行電暈處理或電漿處理等表面處理。
[固體攝影元件用光學濾波器的特性等]
本發明的光學濾波器的穿透率特性優異，使用時不受制約。藉由使用上述化合物(X)及化合物(Y)，可獲得入射角依存性少，且同時具有高的可見光穿透率與紫色或藍色的不鮮明影像的降低效果的固體攝影元件用光學濾波器。
[固體攝影元件用光學濾波器的用途]
本發明的光學濾波器的視角廣，具有優異的近紫外線截止能力以及近紅外線截止能力等。因此，可用於相機模組的CCD或CMOS影像感測器等固體攝影元件的可見度修正。尤其可用於：數位靜態相機、行動電話用相機、數位攝影機、個人電腦(personal computer，PC)相機、監視相機、汽車用相機、電視、汽車導航(car navigation)、個人數位助理(personal digital assistant)、個人電腦、視訊遊戲(video game)、行動遊戲機、指紋識別系統(fingerprint identification system)、數位音樂播放器(digital music player)等。
〈固體攝影裝置〉
本發明的固體攝影裝置具備本發明的光學濾波器。此處，所謂固體攝影裝置，是指CCD或CMOS影像感測器等具備固體攝影元件的影像感測器，具體而言可用於數位靜態相機、行動電話用相機、數位攝影機等用途。
〈相機模組〉
本發明的相機模組具備本發明的光學濾波器。此處，對將本發明的光學濾波器用於相機模組的情況進行具體說明。圖2中表
示相機模組的剖面概略圖。
圖2(a)為現有的相機模組的結構的剖面概略圖，圖2(b)是表示於使用本發明光學濾波器6'的情況下的可採用的相機模組的結構之一的剖面概略圖。此外，圖2(b)中，將本發明的光學濾波器6'用於透鏡5的上部，本發明的光學濾波器6'亦可如圖2(a)所示用於透鏡5與影像感測器7之間。
現有的相機模組中，必須對光學濾波器6大致垂直地射入光。因此，光學濾波器6必須配置於透鏡5與影像感測器7之間。
此處，影像感測器7為高感度，存在僅由於接觸5 μm左右的灰塵或塵埃就會造成不正確運作的顧慮，因此用於影像感測器7的上部的光學濾波器6必須不產生灰塵或塵埃，且必須不含異物。另外，於光學濾波器6與影像感測器7之間必須設置規定的間隔，這成為妨礙相機模組的低背化的一個原因。
與此相對，本發明的光學濾波器6'中，自光學濾波器6'的垂直方向入射的情況、與自相對於光學濾波器6'的垂直方向為30°的角度入射的情況下，所穿透的光的波譜並無大的差異(吸收(穿透)波長的入射角依存性小)，因此，光學濾波器6'不必配置於透鏡5與影像感測器7之間，亦可配置於透鏡5的上部。
因此，於將本發明的光學濾波器6'用於相機模組的情況下，該相機模組的操作性變得容易，另外，不必於光學濾波器6'與感測器7之間設置規定的間隔，因此可實現相機模組的低背化。
以下，基於實施例來對本發明進行更具體的說明，但本發明不受該些實施例的任何限定。此外，以下，只要無特別說明，則「份」是指「重量份」。另外，各物性值的測定方法及物性的評價方法如以下所述。
〈分子量〉
樹脂的分子量是考慮到各樹脂對溶劑的溶解性等，利用下述(a)或者(b)的方法進行測定。
(a)使用沃特世(WATERS)公司製造的凝膠滲透層析(gel permeation chromatography，GPC)裝置(150C型，管柱：東曹(Tosoh)公司製造的H型管柱，展開溶劑：鄰二氯苯)，測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。
(b)東曹公司製造的GPC裝置(HLC-8220型，管柱：TSKgelα-M，展開溶劑：THF)，測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。
〈玻璃轉移溫度(Tg)〉
使用SII奈米技術(SII Nanotechnologies)股份有限公司製造的示差掃描熱析儀(DSC 6200)，於升溫速度：每分鐘20℃、氮氣流下進行測定。
〈分光穿透率〉
最大吸收值、各波長域的穿透率、以及最大值(U)是使用日
立高新技術(Hitachi High-Technologies)股份有限公司製造的分光光度計(U-4100)進行測定。
此處，自光學濾波器的垂直方向測定的情況下的穿透率是如圖3所示，對相對於光學濾波器8而垂直穿透的光進行測定。另外，相對於光學濾波器的垂直方向而自30°的角度測定的情況下的穿透率是如圖4所示，對相對於光學濾波器8的垂直方向而以30°的角度穿透的光進行測定。
此外，除了算出最大值(U)的情況，其他的分光穿透率測定是於光相對於基板及光學濾波器而垂直入射的條件下，使用上述分光光度計進行測定。
[合成例]
下述實施例中使用的化合物(X)、化合物(Y)及其他色素(Z)可利用通常所知的方法來合成，例如可參照以下專利文獻中記載的方法來合成：日本專利第3366697號公報、日本專利第2846091號公報、日本專利第2864475號公報、日本專利第3703869號公報、日本專利特開昭60-228448號公報、日本專利特開平1-146846號公報、日本專利特開平1-228960號公報、日本專利第4081149號公報、日本專利特開昭63-124054號公報、「酞菁-化學與功能-」(IPC，1997年)、日本專利特開2007-169315號公報、日本專利特開2009-108267號公報、日本專利特開2010-241873號公報、日本專利第3699464號公報、日本專利第4740631號公報等。
〈樹脂合成例1〉
將下述式(19)所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四環[4.4.0.12,5.17,10]十二-3-烯(以下亦稱為「DNM」)100份、1-己烯(分子量調節劑)18份、及甲苯(開環聚合反應用溶劑)300份，投入至經氮置換的反應容器中，將該溶液加熱至80℃。繼而，於反應容器內的溶液中，添加作為聚合觸媒的三乙基鋁的甲苯溶液(0.6 mol/升)0.2份、甲醇改質的六氯化鎢的甲苯溶液(濃度為0.025 mol/升)0.9份，將該溶液於80℃下加熱攪拌3小時，藉此進行開環聚合反應而獲得開環聚合物溶液。該聚合反應中的聚合轉化率為97%。
將以上述方式獲得的開環聚合物溶液1,000份投入至高壓釜中，於該開環聚合物溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3，於氫氣壓100 kg/cm2、反應溫度165℃的條件下，加熱攪拌3小時來進行氫化反應。
將所得的反應溶液(氫化聚合物溶液)冷卻後，釋放出氫氣。將該反應溶液注入至大量的甲醇中，將凝固物分離回收，使其乾燥而獲得氫化聚合物(以下亦稱為「樹脂A」)。所得樹脂A
的數量平均分子量(Mn)為32,000，重量平均分子量(Mw)為137,000，玻璃轉移溫度(Tg)為165℃。
〈樹脂合成例2〉
於3 L的四口燒瓶中添加2,6-二氟苯甲腈35.12 g(0.253 mol)、9,9-雙(4-羥基苯基)茀87.60 g(0.250 mol)、碳酸鉀41.46 g(0.300 mol)、N,N-二甲基乙醯胺(以下亦稱為「DMAc」)443 g及甲苯111 g。繼而，於四口燒瓶中安裝溫度計、攪拌機、帶有氮導入管的三通旋塞、迪安-斯塔克(Dean-Stark)管及冷卻管。
繼而，將燒瓶內進行氮置換後，使所得溶液於140℃下反應3小時，自迪安-斯塔克管中隨時去除所生成的水。不再確認到水的生成後，使溫度緩緩地上升至160℃，於該溫度下反應6小時。
冷卻至室溫(25℃)後，利用濾紙來去除所生成的鹽，將濾液投入至甲醇中使其再沈澱，藉由過濾分離而單離出濾物(殘渣)。將所得的濾物於60℃下真空乾燥一晚，獲得白色粉末(以下稱為「樹脂B」)(產率為95%)。所得樹脂B的數量平均分子量(Mn)為75,000，重量平均分子量(Mw)為188,000，玻璃轉移溫度(Tg)為285℃。
〈樹脂合成例3〉
於具備溫度計、攪拌器、氮導入管、帶有側管的滴液漏斗、迪安-斯塔克管及冷卻管的500 mL的五口燒瓶中，於氮氣流下使4,4'-二胺基二苯基醚10.0重量份(0.05莫耳)溶解於作為溶劑的
N-甲基-2-吡咯啶酮85重量份中，然後於室溫下以1小時，將1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐11.2重量份(0.05莫耳)以固體狀態來分割投入，於室溫下攪拌2小時。
接著，添加二甲苯30.0重量份作為共沸脫水溶劑，升溫至180℃後，進行3小時反應，利用迪安-斯塔克管使二甲苯回流，將共沸而來的生成水分離。3小時後，確認水的餾出結束，以1小時一邊升溫至190℃一邊蒸餾去除二甲苯，回收29.0重量份。然後，進行空氣冷卻直至內溫達到60℃為止，獲得聚醯亞胺的N-甲基-2-吡咯啶酮溶液(以下稱為「聚醯亞胺溶液C」)105.4重量份。
[實施例1]
於容器中添加樹脂合成例1中獲得的樹脂A 100重量份、下述式(20)所表示的三嗪化合物(最大吸收波長：約355 nm~365 nm)0.40重量份、下述式(21)所表示的花青化合物(最大吸收波長：約680 nm~690 nm)0.05重量份及二氯甲烷，製備樹脂濃度為20重量%的溶液(ex1)。
繼而，將所得的溶液(ex1)澆鑄於平滑的玻璃板上，於20℃下乾燥8小時後，自玻璃板上剝離。將所剝離的塗膜進而於減壓下以100℃乾燥8小時，獲得厚0.1 mm、長60 mm、寬60 mm的樹脂製基板(以下亦簡稱為「基板」)。
繼而，於所得基板的單面，於蒸鍍溫度100℃下形成反射近紅外線的多層蒸鍍膜[二氧化矽(SiO2：膜厚83 nm~199 nm)層與氧化鈦(TiO2：膜厚101 nm~125 nm)層交替積層而成的膜，積層數為20]，進而於基板的另一面，於蒸鍍溫度100℃下形成反射近紅外線的多層蒸鍍膜[二氧化矽(SiO2：膜厚77 nm~189 nm)
層與氧化鈦(TiO2：膜厚84 nm~118 nm)層交替積層而成的膜，積層數為26]，獲得厚度為0.105 mm的光學濾波器。
測定該光學濾波器的分光穿透率，求出可見光波長區域的穿透率、紅外波長區域的光學特性、以及最大值(U)。將結果示於表2中。
[實施例2]
於實施例1中所得的厚0.1 mm、長60 mm、寬60 mm的基板的單面，於蒸鍍溫度100℃下形成反射近紅外線的多層蒸鍍膜[二氧化矽(SiO2：膜厚120 nm~190 nm)層與氧化鈦(TiO2：膜厚70 nm~120 nm)層交替積層而成的膜，積層數為40]，製造厚度為0.104 mm的光學濾波器並進行評價。將結果示於表2中。
[實施例3]~[實施例23]以及[比較例1]~[比較例2]
除了採用表1所示的樹脂、溶劑、色素及膜乾燥條件以外，以與實施例1相同的方式製造厚度為0.105 mm的光學濾波器。將光學濾波器的製造條件示於表1中，將評價結果示於表2中。此外，表1中，樹脂的添加份數均為100重量份，實施例17以外的實施例以及比較例中的樹脂溶液的樹脂濃度為20重量%，實施例17中的樹脂溶液的樹脂濃度為18重量%。實施例及比較例中使用的樹脂A~樹脂J、溶劑(1)~溶劑(4)及色素(20)~色素(28)如下所述。
〈樹脂〉
樹脂A：樹脂合成例1中所得的樹脂A
樹脂B：樹脂合成例2中所得的樹脂B
樹脂C：樹脂合成例3中所得的聚醯亞胺溶液C
樹脂D：日本瑞翁股份有限公司製造的環狀烯烴系樹脂「Zeonor 1420R」
樹脂E：三井化學股份有限公司製造的環狀烯烴系樹脂「APEL #6015」
樹脂F：帝人股份有限公司製造的聚碳酸酯樹脂「Pureace」
樹脂G：住友電木(Sumitomo Bakelite)股份有限公司製造的聚醚碸樹脂「Sumilite FS-1300」
樹脂H：大阪瓦斯化學股份有限公司製造的茀系聚酯樹脂「OKP4」
樹脂I：日本觸媒股份有限公司製造的丙烯酸樹脂「Acryviewa」
樹脂J：三菱瓦斯化學股份有限公司製造的聚碳酸酯樹脂「Lupizeta EP-5000」
〈溶劑〉
溶劑(1)：二氯甲烷
溶劑(2)：N-甲基-2-吡咯啶酮
溶劑(3)：環己烷與二甲苯的7：3(重量比)混合溶液
溶劑(4)：環己烷與二氯甲烷的99：1(重量比)混合溶液
〈色素〉
表1中，(X)是指上述化合物(X)，(Y)是指上述化合物(Y)，
(Z)是指上述色素(Z)，(Z')是指(X)~(Z)以外的色素。
色素(20)：上述式(20)所表示的三嗪化合物(最大吸收波長：約355 nm~365 nm，根據溶劑或基質樹脂，最大吸收波長有所不同；以下相同)
色素(21)：上述式(21)所表示的花青化合物(最大吸收波長：約680 nm~690 nm)
色素(22)：下述式(22)所表示的偶氮次甲基化合物(最大吸收波長：約375 nm~385 nm)
色素(23)：下述式(23)所表示的吲哚化合物(最大吸收波長：約385 nm~395 nm)
色素(24)：下述式(24)所表示的方酸內鎓鹽化合物(最大吸收波長：約690 nm~705 nm)
色素(25)：下述式(25)所表示的苯并三唑化合物(最大吸收波長：約340 nm~355 nm)
色素(26)：下述式(26)所表示的酞菁化合物(最大吸收波長：約695 nm~710 nm)
色素(27)：下述式(27)所表示的二亞銨化合物(最大吸收波長：約1040 nm~1060 nm)
色素(28)：下述式(28)所表示的花青系可見光線吸收色素(最大吸收波長：約480 nm~490 nm)
另外，表1中的實施例及比較例的膜乾燥條件如以下所述。
條件(1)：20℃/8 hr→減壓下100℃/8 hr
條件(2)：60℃/4 hr→80℃/4 hr→減壓下120℃/8 hr
條件(3)：60℃/8 hr→80℃/8 hr→減壓下100℃/24 hr
條件(4)：40℃/4 hr→60℃/4 hr→減壓下100℃/8 hr
5‧‧‧透鏡
6‧‧‧(固體攝影元件用)光學濾波器
7‧‧‧(CCD或者CMOS)影像感測器
A‧‧‧近紫外光
B‧‧‧來自透鏡的反射光
Claims (7)
- 一種固體攝影元件用光學濾波器，其特徵在於，包括：透明樹脂製基板，其含有於波長300 nm~420 nm下具有最大吸收值的化合物(X)以及於波長600 nm~800 nm下具有最大吸收值的化合物(Y)；並且近紅外線反射膜，其位於上述基板的至少一面。
- 如申請專利範圍第1項所述的固體攝影元件用光學濾波器，其中上述化合物(X)為選自由偶氮次甲基系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物及三嗪系化合物所組成組群中的至少1種。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的固體攝影元件用光學濾波器，其中相對於構成上述基板的透明樹脂的含量100重量份，上述化合物(X)的含量為0.006重量份~3.0重量份，且上述化合物(Y)的含量為0.004重量份~2.0重量份。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器，其中構成上述基板的透明樹脂為選自由環狀烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙基酯系硬化型樹脂以及倍半矽氧烷系紫外線硬化樹脂所組成組群中的至少1種。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器，其用於固體攝影裝置。
- 一種固體攝影裝置，其特徵在於，包括：如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器。
- 一種相機模組，其特徵在於，包括：如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的固體攝影元件用光學濾波器。
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