KR20070114139A - 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

Info

Publication number
KR20070114139A
KR20070114139A KR1020077019321A KR20077019321A KR20070114139A KR 20070114139 A KR20070114139 A KR 20070114139A KR 1020077019321 A KR1020077019321 A KR 1020077019321A KR 20077019321 A KR20077019321 A KR 20077019321A KR 20070114139 A KR20070114139 A KR 20070114139A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polyester
film
infrared
blocking layer
layer
Prior art date
Application number
KR1020077019321A
Other languages
English (en)
Inventor
마사히 나카마루
타카토시 미키
Original Assignee
미쓰비시 가가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2005039436A external-priority patent/JP4744893B2/ja
Priority claimed from JP2005039437A external-priority patent/JP4744894B2/ja
Priority claimed from JP2005039435A external-priority patent/JP4744892B2/ja
Application filed by 미쓰비시 가가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시 가가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤
Publication of KR20070114139A publication Critical patent/KR20070114139A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

근적외선 흡수 필터는 근적외선 흡수제를 갖는 2축 배향 폴리에스테르로 얻은 필름이고, 상기 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하이다. 플라즈마 디스플레이용 광학 필터에는 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층을 제공한다. 상기 층들은 용융되고 압출기를 통해 함께 압출되는 공압출법에 의해 일체 성형을 통해 적층되고, 이에 따라 2축 배향 필름이 형성된다. 이들 층 중 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하이다.
근적외선 차단, 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이 패널, 광학 필터

Description

근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널{NEAR INFRARED RAY ABSORBING FILTER, OPTICAL FILTER FOR PLASMA DISPLAY AND PLASMA DISPLAY PANEL}
본 발명은 근적외선 차단용 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
최근, BS 디지털 고해상 방송의 개시 및 DVD 플레이어의 보급과 함께 디스플레이의 고화질화에 대한 요구가 증가하고 있다. 이 중에서, 현재 보급되고 있는 CRT 디스플레이를 대신하는 고화질 디스플레이인 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP)은 소비자에게 시판되어 주목을 끌고 있다. PDP 는 네온 또는 크세논과 같은 불활성 가스 중에서 방전에 의하여 자외선을 여기시키고 이에 따라 자외선은 형광 물질을 쳐서 적색, 청색 및 녹색의 가시광선을 방출한다. 그러나, 불활성 가스 중의 방전에 의하여 자외선뿐만 아니라 다양한 파장의 전자기파가 발생하는 것으로 알려져 있다.
이들 전자기파는 리모트 콘트롤러 조작에 자주 사용되는 근적외선 영역의 파장의 빛을 포함한다. PDP 가 상기 파장의 방사광에 노출되는 경우, 리모트 콘트롤러는 오작동하게 되고, 다양한 가전제품에 악영향을 미치게 된다. 또한, 전자 기기 간의 적외선 통신에 악영향을 미치게 된다. 그 대책으로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에 근적외선 차단용 근적외선 필터를 부착하는 것이 제안되었다. 그와 같은 근적외선 필터는, 고투명성 플라스틱 필름의 표면을, 근적외선 흡수제, 폴리머 바인더 및 다른 첨가제가 용해, 분산된 유기 용매로 코팅하고, 건조하고, 용매를 제거하여 제조하는 것이 일반적이다(특허문헌 1).
그러나, 이들 근적외선 필터는, 필터로서의 투명성을 유지하기 위해 근적외선 흡수제를 첨가한 코팅층의 표면이 극히 평탄하기 때문에, 코팅, 건조한 후에 필름을 감는다는 것은 아주 어렵다는 결점이 있다. 또한, 이 코팅층은 유기 용매에 용해하기 때문에, 유기 용매와 접촉하면, 표면은 거칠어지거나 쉽게 오염되는 결점이 있다. 이 결점은, 필터에 대해 새로운 기능을 부여하기 위해 도포 또는 적층을 통해 코팅층 상에 새로운 층을 형성하는 공정, 및 유기 용매의 필터와의 접촉에 의한 오염의 간단 제거에 대한 제한을 내포한다.
상기 결점을 해결하기 위해, 상기 특허문헌 2 에서는, 근적외선 흡수제로 수지를 코팅하는 것 대신에 수지에 혼련하여 필터를 제공하는 방법이 제안되었다. 그러나, 발명자들의 검토 결과, 고화질 디스플레이용 근적외선 흡수제는 저내열성 의 염료이기 때문에 폴리에스테르에 혼련하여 압출할 경우, 염료가 열화(분해 또는 변질)하고, 본래의 근적외선 흡수능이 저하되고, 더 나아가서 염료의 열화의 결과, 가시광선 영역은 부분적으로 흡수되기 때문에, 디스플레이의 색 재현 성능을 해치거나, 필터는 황색 또는 녹색과 같은 외관상 바람직하지 않은 물체색이 된다는 것을 알았다.
한편, 적색, 청색 및 녹색의 형광물질이 각각 상기에 기재된 바와 같이 자외선에 의한 여기의 결과로서 빛을 방출하는 것은 공지되어 있다. 중심 파장이 약 590 nm 인 빛, 즉 오렌지 빛은, 네온 원자가 여기된 후에 기저 상태로 되돌아 갈 때 방출된다(참고 특허문헌 3). 따라서, 플라즈마 디스플레이는 오렌지색이 적색과 혼합되어 선명한 적색을 얻을 수 없다는 결점을 갖기 때문에, 네온 오렌지 빛이 잘 흡수되어 플라즈마 디스플레이의 적색이 선명하게 나타나도록 플라즈마 디스플레이의 전면 상에 빛의 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 안료를 사용하여 색조를 보정하기 위한 칼라 필터를 설치하기 위한 기술이 사용된다. 자외선에 의한 열화로부터 칼라 필터에 사용된 안료를 보호하는 방법으로서, 폴리에스테르 필름이 자외선 차단 기능을 갖도록, 플라즈마 디스플레이의 전면 플레이트용 보호 필름으로서 사용되는 폴리에스테르 필름 자체에 자외선 흡수제를 혼련함이 실시되고 있다(참조 특허문헌 4).
근적외선 흡수제가 자외선에 의해 열화되는 것을 방지하는 경우, 자외선 흡 수제 함유 필름을 근적외선 흡수제 함유 필름에 부착하는 공정은 종래기술에 따라 필요하고, 따라서, 제조가 어렵게 되는 문제를 일으킨다. 이는, 표면 상의 균일화가 방해받을 때 공기의 말려듬으로 인해 결합된 표면 상에 기포가 남아 있고, 공기 중에 부유하는 미소 이물질이 표면들 사이에 끼어 있어서 제어가 쉽지 않기 때문이다. 더욱이, 많은 층은 사용된 광학 필터에 중첩되어 있어서, 전체의 품질은 각 층의 전체 품질이고, 이에 따라 제조가 어렵게 된다. 예를 들어 부착 공정을 포함하는 전체의 수율은 이론적으로 부착의 각 공정의 전체 수율이다. 따라서, 효율적인 제조를 위한 부착 공정의 수를 감소시키는 것이 필요하다.
[특허문헌 1] 일본특허공개공보 2000-121828
[특허문헌 2] 일본특허공개공보 2002-286929
[비특허문헌 3] Video Information Media Academic Journal Vol.51, No. 4, p. 459-463(1997)
[특허문헌 4] 일본특허공개공보 2004-10875
본 발명의 제1 목적은 폴리에스테르의 융점에 착안하여 근적외선 흡수제의 열화(분해 또는 변질)을 억제하여, 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널에 필요한 성능을 장기간 유지하는 것이다.
본 발명의 제2 목적은 자외선 차단 기능을 하나의 독립적인 근적외선 흡수 필터에 제공하여 근적외선 흡수제가 열화(분해 또는 변질)되는 것을 억제하고, 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널의 성능을 유지하며, 제조 효율성을 증가시키는 것이다.
본 발명의 제3 목적은 근적외선 차단 성능 외에 자외선 차단 기능을, 화질 보정층을 갖는 하나의 독립적인 플라즈마 디스플레이용 광학 필터에 제공하여 근적외선 흡수제가 열화(분해 또는 변질)되는 것을 억제하고 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널에 필요한 성능을 유지하며, 제조 효율을 증가시키는 것이다.
본 발명의 제1 양상에 따른 근적외선 흡수 필터는 근적외선 흡수제(예를 들어 디이모늄 염 화합물)를 갖는 2축 배향 폴리에스테르 필름이고, 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정된다.
폴리에스테르의 융점의 관점에서, 하기를 고려한다. 디이모늄 염 화합물의 분해는, 내열성이 개선될 때에도, 260℃ 이상에서 가속되고, 내열성이 특별히 우수하지 않은 근적외선 흡수제의 분해는 240℃ 이상에서 가속된다. 압출기를 사용하는 용융 압출은 통상 폴리에스테르의 융점 및 여유 온도(약 230℃)의 합인 융점 라인 온도에서 수행된다. 따라서, 폴리에스테르의 융점의 상한은 내열성이 개선되는 디이모늄 염 화합물에서 230℃ 이다.
한편, 필터가 사용될 때, 폴리에스테르의 융점이 최고 온도보다 더 높은 것이 필요하고, 통상 융점 이하 50℃ 까지가 연속 사용 온도로 생각된다. PDP 의 최고 온도는 약 120℃ 이고, 따라서, 융점의 하한은 약 170℃ 이다. PDP 의 안정한 사용을 고려할 때, 융점은 높은 것이 바람직하고, 실제로는 200℃ 이상이 바람직하다.
상기의 고찰로부터, 폴리에스테르의 융점이 230℃ 이하인 것이 필요하고, 170℃ 이상 230℃ 이하인 것이 바람직하고, 200℃ 이상 225℃ 이하인 것이 바람직하고, 210℃ 이상 220℃ 이하인 것이 가장 바람직하다.
추가적으로, 상기 근적외선 흡수 필터는 플라즈마 디스플레이 패널 외에 투명 터치 패널용 베이스 필름 또는 액정 디스플레이에 사용되는 프리즘 시트용 베이스 필름으로서 사용될 수 있고, 또는 대전 방지 및 반사 방지용 전자기파 차단과 같은 기능층을 설치한 보호 필름의 베이스 필름으로서 사용될 수 있다.
근적외선 흡수제의 분해 온도보다 낮은 온도에서 제1 양상에 따른 필터를 가공할 수 있고, 따라서 근적외선 흡수제의 열화(분해 또는 변질)가 억제되고, 적외선 흡수능은 유지될 수 있다.
제2 양상에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층이 제공된 2축 배향 필름인데, 상기 층들은 공압출법으로 일체 성형을 통해 적층되고, 이에 따라 이들 층은 용융되고 압출기로부터 함께 압출되며, 상기 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정된다.
근적외선 차단층 및 화질 보정층이 직접 접촉을 통해 적층되는 경우 및 다른 층이 개재되어 간접적으로 적층되는 경우가 있다. 제2 양상에 따른 필터를, 근적외선 흡수제가 분해하는 온도보다 낮은 온도에서 가공할 수 있고, 이에 따라 열화(분해 또는 변질)로부터 근적외선 흡수제를 억제할 수 있고, 근적외선 흡수능을 유지할 수 있다. 따라서, 새로운 흡수 범위의 생성은 근적외선 흡수제의 열화에 기인하여 가시광선 범위에서 억제되고, 이에 따라 필터의 색 재현 성능은 유지될 수 있다. 또한, 공압출법에 따라, 적층 공정의 수는 감소될 수 있고, 이에 따라 자외선 차단 기능을 갖는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터의 제조는 단순화될 수 있고, 동시에 공기와 접촉되지 않은 용융 수지의 용융 라인을 따라 완결되며, 또한 수지는 용융 라인 중 이물질 제거 필터에 의하여 깨끗해질 수 있고, 이에 따라 제조 관리는 용이할 수 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 제1 양상에 따른 근적외선 흡수 필터 또는 제2 양상에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터를 복수의 적층체의 일부로서 포함할 수 있다. 이 경우에, 플라즈마 디스플레이 패널은 바람직한 외관을 갖는 색조를 유지할 수 있다.
추가적으로, 플라즈마 디스플레이가 색 재현 성능을 유지하기 위해, 제1 양상에 따른 광학 필터에서 380 nm ~ 780 nm 의 가시광선 투과율을 30% ~ 90%, 바람직하게는 50% ~ 90%, 더욱 바람직하게는 70% ~ 90% 로 제어할 수 있다.
제2 양상에 따른 필터의 가시광선 상기 투과율을 20% ~ 80%, 바람직하게는 30% ~ 70%, 더욱 바람직하게는 35% ~ 60% 로 제어할 수 있다. 또한, 리모트 콘트롤러의 오동작 및 전자 기기간의 적외선 통신의 악영향을 방지하기 위해, 제1 및 제2 양상에 따른 광학 필터의 820 nm ~ 1100 nm 의 파장을 갖는 근적외선의 투과율을 0.1% ~ 19%, 바람직하게는 0.1% ~ 9%, 더욱 바람직하게는 0.1% ~ 4% 로 제어할 수 있다.
본 발명의 제3 양상에 따른 근적외선 흡수 필터는 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르(예를 들어 디이모늄 염 화합물)로 만들어진 근적외선 차단층 및 자외선 흡수제를 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층이 적층된 2축 배향 필름이다.
본 발명의 제4 양상에 따른 흡수 필터는 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르(예를 들어 디이모늄 염 화합물)로 만들어진 근적외선 차단층 및 자외선 흡수제를 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층이 제공된 2축 배향 필름인데, 이들 층들은 공압출법에 의해 일체 가공을 통해 적층되고, 이에 따라 이들 층들은 용융되고 압출기로부터 함께 압출된다. 근적외선 차단층 및 자외선 차단층이 직접 접촉을 통해 적층되는 경우, 및 다른 층이 개재되어 간접적으로 적층되는 경우가 있다.
본 발명의 제4 양상에 따른 근적외선 흡수 필터에서, 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르(예를 들어 디이모늄 염 화합물)로 만들어진 근적외선 차단층을 갖는 제1 2축 배향 필름 및 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층을 갖는 제2 2축 배향 필름은 서로의 상면 상에 적층된다. 제1 필름 및 제2 필름은 직접 접촉을 통해 적층되는 경우, 및 다른 층이 개재되어 간접적으로 적층되는 경우가 있다.
제3 ~ 제5 양상에 따라, 상기의 근적외선 흡수 필터는 자체로 자외선 차단 기능을 가지며, 이에 따라, 근적외선 흡수제가 열화(분해 또는 변질)되는 것을 억제할 수 있고 근적외선 흡수능을 유지할 수 있다. 또한, 제4 양상에서 공압출법에 따라, 적층 공정의 수는 감소될 수 있고, 이에 따라 자외선 차단 기능을 갖는 근적외선 흡수 필터의 제조는 단순화될 수 있고, 동시에 공기와 접촉되지 않은 용융 수지의 용융 라인을 따라 완결되며, 또한 수지는 용융 라인 중 이물질 제거 필터에 의하여 깨끗해질 수 있고, 이에 따라 제조 관리는 용이할 수 있다.
제3 ~ 제5 양상에 따라, 상기의 근적외선 차단층 중의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정될 수 있다. 이에 대한 이유는 제1 양상의 경우와 동일하다.
제3 ~ 제5 양상에 따른 근적외선 흡수 필터는 플라즈마 디스플레이 패널에 적용될 수 있다. 이 경우에, 자외선 차단층이 근적외선 차단층의 외부에 위치하는 것이 바람직한 것은 바람직한 외관을 갖는 색조를 유지하기 위해서이다.
본 발명의 제6 양상에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는 적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층은 서로의 상면 상에 적층된 2축 배향 필름이다.
제7 양상에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는 적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층이 제공된 2축 배향 필름인데, 이들 층은 공압출법에 의해 일체 가공을 통해 적층되고, 이에 따라, 이들 층은 용융되고 압출기로부터 함께 압출된다. 근적외선 차단층, 자외선 차단층 및 화질 보정층이 직접 접촉을 통해 적층되는 경우, 및 다른 층이 개재하여 간접 적층되는 경우가 있다.
제8 양상에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터에서, 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층이 제공된 2축 배향 필름(여기서, 이들 층은 공압출법에 의해 일체 가공을 통해 적층되고, 이에 따라, 이들 층은 용융되고, 압출기를 통해 함께 압출됨), 및 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층을 갖는 2축 배향 필름은 서로의 상면 상에 적층된다. 2개의 필름이 직접 접촉을 통해 적층되는 경우, 및 다른 층이 개재되어 간접적으로 적층되는 경우가 있다.
제9 양상에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층이 제공된 2축 배향 필름인데, 이들 층은 공압출법에 의해 일체 가공을 통해 적층되고, 이에 따라, 이들 층은 용융되고, 압출기를 통해 함께 압출되고, 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층을 갖는 2축 배향 필름은 차단층은 서로의 상면 상에 적층된다. 2개의 필름이 직접 접촉을 통해 적층되는 경우, 다른 층이 개재되어 간접적으로 적층되는 경우가 있다.
제6 ~ 제9 양상에 따라, 화질 보정층을 갖는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터는 근적외선 차단 기능 및 자외선 차단 기능 모두를 가지며, 이에 따라, 열화(분해 또는 변질)로부터 근적외선 흡수제를 억제할 수 있고, 근적외선 흡수능을 유지할 수 있다. 따라서, 새로운 흡수 범위의 생성은 근적외선 흡수제의 열화에 기인하여 가시광선 범위에서 억제되고, 이에 따라 필터의 색 재현 성능은 유지될 수 있다.
또한, 특히 제7 양상에 따라, 공압출법에 따라 적층될 때, 적층 공정의 수는 감소될 수 있고, 이에 따라 근적외선 차단 기능 및 자외선 차단 기능을 갖는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터의 제조는 단순화될 수 있고, 동시에 공기와 접촉되지 않은 용융 수지의 용융 라인을 따라 완결되며, 또한 수지는 용융 라인 중 이물질 제거 필터에 의하여 깨끗해질 수 있고, 이에 따라 제조 관리는 용이할 수 있다.
상기의 근적외선 차단층 중의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정되는 것이 바람직하다. 이에 대한 이유는 제1 양상의 경우와 동일하다.
플라즈마 디스플레이의 색 재현 성능을 유지하기 위해, 광학 필터의 파장 380 nm ~ 780 nm 을 갖는 가시광선 상기 투과율을 20% ~ 80%, 바람직하게는 30% ~ 70%, 더욱 바람직하게는 35% ~ 60% 로 제어할 수 있다. 또한, 리모트 콘트롤러의 오동작 및 전자 기기간의 적외선 통신의 악영향을 방지하기 위해, 광학 필터의 800 nm ~ 1100 nm 의 파장을 갖는 근적외선의 투과율을 0.1% ~ 19%, 바람직하게는 0.1% ~ 9%, 더욱 바람직하게는 0.1% ~ 4% 로 제어할 수 있다. 더욱이, 적외선 흡수 안료가 열화(분해 또는 변질)되는 것을 억제하기 위해, 광학 필터의 파장 370 nm 를 갖는 자외선의 투과율은 바람직하게는 0.01% ~ 5%, 더욱 바람직하게는 0.01% ~ 2%, 더욱 더 바람직하게는 0.01% ~ 1% 이다.
도1(a)~ 1(f)는 다양한 유형의 근적외선 흡수 필터의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도2(a)~ 2(d)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이용 광학 필터의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도3(a)~ 3(f)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이용 광학 필터의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도4(a)~ 4(e)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이 패널의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도5는 압출기를 사용하여 필름을 성형하는 공정을 보여주는 도식이다;
도6(a)~ 6(g)는 다양한 유형의 근적외선 흡수 필터의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도7(a)~ 7(f)는 다양한 유형의 근적외선 흡수 필터의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도8(a) 및 8(b)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이 패널의 다층 구조를 보여주는 도식이다;
도9(a)~ 9(h)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이용 광학 필터를 보여주는 도식이다;
도10(a)~ 10(c)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이용 광학 필터를 보여주는 도식이다;
도11(a)~ 11(c)는 다양한 유형의 플라즈마 디스플레이 패널을 보여주는 도식이다; 및
도12는 압출기를 사용하여 필름을 성형하는 공정을 보여주는 도식이다.
이하, 본 발명의 구체화 및 실시예를, 도면을 참조로 하여 설명한다.
도1(a)에서 도식적으로 나타낸 근적외선 흡수 필터(1)는 압출을 통해 형성된 단일층 필름(2)인데, 여기서, 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합 및 함유하는 폴리에스테르는 2축 배향이다. 근적외선 흡수제로서, 디이모늄 염 화합물 을 사용할 수 있지만, 종래의 것이 범위 800 nm ~ 1100 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 화합물이라면, 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 프탈로시아닌 화합물, 나프탈로시아닌 화합물, 인도아닐린 화합물, 벤조피란 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 니켈 착체 화합물, 구리 화합물, 텅스텐 화합물, 인듐 주석 옥시드, 안티몬 주석 옥시드, 이테르븀 포스페이트, 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 몇 ㎛ 의 직경을 갖는 실리카 입자를 상기의 소정 입자로서 사용할 수 있고, 종래의 입자, 예를 들어 칼슘 카보네이트 입자를 사용할 수 있다.
상기 소정 입자를, 폴리에스테르 필름의 양면 중 적어도 편면에 노출시켜서, 폴리에스테르 필름을 감는 상태에서의 부착성을 감소시키는데, 이는 미끄러짐을 쉽게 할 수 있다. 압출 성형시의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정된다.
도1(b)에서 도식적으로 보여주는 근적외선 흡수 필터(1)는, 2층, 즉 근적외선 흡수제가 균일하게 혼합된 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(5) 및 소정 입자가 균일하게 혼합된 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(5)을 갖는 2축 배향 필름(3)이다. 이들 층(4,5)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다. 공압출법은 복수의 용융 재료를 압출기의 헤드로부터 함께 압출하는 종래의 공지된 방법이다.
도1(c)에서 도식적으로 보여주는 근적외선 흡수 필터(1)는 2층, 즉 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(4) 및 소정 입자를 함유하지 않는 폴리에스테르로 만들어진 입자 비함유층(6)을 갖는 2축 배향 필름(3)이다. 이들 층(4,6)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다.
도1(d)에서 도식적으로 보여주는 근적외선 흡수 필터(1)는 2층, 즉 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(4) 및 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(5)을 갖는 2축 배향 필름(3)이다. 이들 층(4,5)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다.
도1(e)에서 도식적으로 보여주는 근적외선 흡수 필터(1)는 3층, 즉 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(5), 소정 입자를 함유하지 않는 폴리에스테르로 만들어진 입자 비함유층(6) 및 입자 함유층(5)와 입자 비함유층(6)의 사이에 위치하며 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(4)을 갖는 2축 배향 필름(7)이다. 이들 층(5, 6 및 4)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다.
도1(f)에서 도식적으로 보여주는 근적외선 흡수 필터(1)는 3층, 즉 소정 입 자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(5)한 쌍 및 2개의 입자 함유층(5)의 사이에 위치하고 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(4)를 갖는 2축 배향 필름(7)이다. 이들 층(5,4)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다.
도2(a)에서 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)는 2층, 즉 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(4) 및 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(10)을 갖는 2축 배향 필름(9)이다. 이들 층(4 및 10)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다. 이러한 화질 보정제로서, 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 테트라 포르피린 화합물을 사용하지만, 특별히 제한되지는 않고, 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 광을 갖는 종래의 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들어 시아닌 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 아조 화합물 및 프탈로시아닌 화합물을 사용할 수 있다.
상기 광학 필터(8)가 도4(a)~ 4(e)에 나타나 있는 플라즈마 디스플레이 패널에 사용되는 경우, 근적외선 차단층(4)을 플라즈마 디스플레이 패널(PDP 로 약칭)의 본체 근처에 제공한다.
도2(b)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 도2(a)의 것과 유사하지만, 화질 보정층(10)가 PDP 의 본체 근처에 제공된다는 점에서 도2(a)에 보여주는 필터와 상이하다.
도2(c)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 2층, 즉 근적외선 차단층(4) 및 화질 보정층(10)을 갖는 2축 배향 필름(9)이다. 이들 층(4 및 10)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다. 근적외선 차단층(4)는 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 화질 보정층(10)은 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 근적외선 차단층(4)는 PDP 의 본체 근처에 제공된다.
도2(d)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 도2(c)의 것과 유사하지만, 화질 보정층(10)가 PDP 의 본체 근처에 제공된다는 점에서 도2(c)에 보여주는 필터와 상이하다.
도2(a)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 3층, 즉 화질 보정층(10), 입자 함유층(5) 및 근적외선 차단층(4)을 갖는 2축 배향 필름(11)이다. 이들 층(10, 5 및 4)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다. 화질 보정층(10)은 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 입자 함유층(5)는 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들 어진다. 근적외선 차단층(4)는 화질 보정층(10) 및 입자 함유층(5)의 사이에 위치하고, 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 화질 보정층(10)은 PDP 의 본체 근처에 제공된다.
도3(b)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 도3(a)의 것과 유사하지만, 입자 함유층(5)이 PDP 의 본체 근처에 제공된다는 점에서 상이하다.
도3(c)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 3층, 즉 화질 보정층(10), 입자 비함유층(6) 및 근적외선 차단층(4)을 갖는 2축 배향 필름(11)이다. 이들 층(10, 6 및 4)는 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다. 화질 보정층(10)은 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 입자 비함유층(6)은 소정 입자를 함유하지 않는 폴리에스테르로 만들어진다. 근적외선 차단층(4)는 화질 보정층(10) 및 입자 비함유층(6)의 사이에 위치하고, 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 화질 보정층(10)은 PDP 의 본체 근처에 제공된다.
도3(d)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 도3(c)의 것과 유사하지만, 입자 비함유층(6)이 PDP 의 본체 근처에 제공된다는 점에서 상이하다.
도3(e)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 3층, 즉, 화질 보정층(10), 입자 함유층(5) 및 근적외선 차단층(4)을 갖는 2축 배향 필름(11)이다. 이들 층들(10, 5, 및 4)은 일체로 가공되고 공압출법을 통해 적층된다. 화질 보정층(10)은 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 입자 함유층(5)는 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 근적외선 차단층(4)는 화질 보정층(10) 및 입자 함유층(5)의 사이에 위치하고, 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 화질 보정층(10)은 PDP 의 본체 근처에 제공된다.
도3(f)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)은 도3(e)의 것과 유사하지만, 입자 함유층(5)가 PDP 의 본체 근처에 제공된다는 점에서 3(e)의 필터와 상이하다.
도4(a)에 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이 패널(12)는 복수의 적층제로서 반사 방지층인 단일층의 제1 필름(13), 자외선 흡수 접착제층인 단일층의 제2 필름(14), 유리 기판(15), 접착제층인 단일층의 제3 필름(16), 전자기파 차단층인 단일층의 제4 필름(17), 접착제층인 단일층의 제5 필름(18) 및 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르를 2축 배향시킨 단일층의 제6 필름(19)를 포함하고, 도1(b)에서 보여진 근적외선 흡수 필터(1)과 동일한 필름(3)을 추가로 포 함한다.
상기의 제6 필름(19), 필름(3), 제5 필름(18), 제4 필름(17), 제3 필름(16), 유리 기판(15), 제2 필름(14) 및 제1 필름(13)는 PDP 의 본체로부터 순차적으로 적층된다. 제6 필름(19)은 필름(3)의 근적외선 차단층(4)에 접착된다. 용어 "접착"은 광의로 해석하고, 액체를 도포하고 건조하는 경우, 접착제에 의하여 겹쳐 바르는 경우, 및 공정 페이퍼(paper)에 도포된 접착제를 접착하고 공정 페이퍼의 제거에 의하여 전사하는 경우, 및 그와 같은 접착 상태의 어떤 것을 필름이라 부른다.
공정 페이퍼는 금형 이형제와 함께 도포되거나 탁월한 금형 이형성을 갖는 수지와 함께 적층된 페이퍼 또는 필름이다.
도4(b)에서 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이 패널(12)는 복수의 적층체로서 도4(a)에서 도식적으로 보여주는 것과 동일한 제1 필름(13), 제2 필름(14), 유리 기판(15), 제3 필름(16) 및 제4 필름(17)를 포함하고, 화질 보정제를 함유하는 접착제층인 단일층의 제7 필름(20) 및 도1(b)에 보여지는 근적외선 흡수 필터(1)중 필름(3)을 추가로 포함한다. 상기의 필름(3), 제7 필름(20), 제4 필름(17), 제3 필름(16), 유리 기판(15), 제2 필름(14) 및 제1 필름(13)은 PDP 의 본체로부터 순차적으로 적층된다.
도4(c)에서 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이 패널(12)는 복수의 적층체로서 도4(a)에서 도식적으로 보여주는 것과 동일한 제1 필름(13), 제2 필름(14), 유리 기판(15), 제3 필름(16), 제4 필름(17) 및 제5 필름(18)을 포함하고, 도2(a)에서 보여지는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)의 것과 동일한 필름(9)를 추가로 포함한다. 상기의 필름(9), 제5 필름(18), 제4 필름(17), 제3 필름(16), 유리 기판(15), 제2 필름(14) 및 제1 필름(13)은 PDP 의 본체로부터 순차적으로 적층된다.
도4(d)에서 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이 패널(12)는 복수의 적층체로서 도4(a)에서 도식적으로 보여주는 것과 동일한 제1 필름(13), 제2 필름(14), 유리 기판(15), 제3 필름(16), 제4 필름(17) 및 제5 필름(18)을 포함하고, 도2(e)에서 보여지는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)의 것과 동일한 필름(11)을 추가로 포함한다. 상기의 필름(11), 제5 필름(18), 제4 필름(17), 제3 필름(16), 유리 기판(15), 제2 필름(14) 및 제1 필름(13)은 PDP 의 본체로부터 순차적으로 적층된다.
도4(e)에서 도식적으로 보여주는 플라즈마 디스플레이 패널(12)는 복수의 적층체로서 도4(a)에서 도식적으로 보여주는 것과 동일한 제1 필름(13), 제2 필름(14), 유리 기판(15), 제3 필름(16) 및 제4 필름(17)을 포함하고, 도3(e)에서 보 여지는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(8)의 것과 동일한 필름(11)을 추가로 포함한다. 상기의 제4 필름(17), 제3 필름(16), 유리 기판(15), 필름(11), 제2 필름(14) 및 제1 필름(13)은 PDP 의 본체로부터 순차적으로 적층된다. 필름(11)의 화질 보정층(10)은 유리 기판(15)에 접착된다.
[실시예 및 비교 실시예]
먼저, 하기 실시예 1 ~ 5 및 비교 실시예 1 및 2 에 사용된 폴리에스테르 재료를 설명한다.
A: 에틸렌 글리콜, 이소프탈산 및 테레프탈산의 중축합물이고, 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 를 포함하는 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 융점: 206℃.
B: 184 중량부의 1,4-시클로헥산 디카르복실산(트랜스형: 98%), 158 중량부의 1,4-시클로헥산디메탄올(트랜스형: 67%) 및 6 중량%의 Ti(OC4H9)4 의 0.9 중량부의 부탄올 용액을 중축합하고, 이 중축합 반응 후에 수득한 폴리머를 스트랜드(strand)상으로 물로 추출하고, 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료와 0.1 중량%의 비정질 실리카(평균 입경: 2.4 ㎛)를 배합하고, 혼합물을 스트랜드 상으로 압출하여 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 융점: 220℃.
C: 에틸렌 글리콜, 1,4-CHDM(시클로헥산디메탄올) (시스/트랜스 이성체비 = 32/68) 및 테레프탈산의 중축합물이고, 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 를 포함하는 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 상기 재료는 비정질이고 유리전이온도 80.5℃ 를 갖는다. 따라서, 상기 재료는 유리전이온도 이상의 온도에서 유동성을 나타낸다.
D: 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산의 중축합물이고, 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 를 포함하는 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 융점: 253℃.
[실시예 1]
폴리에스테르 A 및 KAYASORB IRG-022(디이모늄 염 화합물, Nippon Kayaku Co., Ltd., 근적외선 흡수제)를 300:1 로 건조 배합한 재료를 압출기에 주입했다. 상기 압출기에서는, 용융 라인의 온도를 230℃ 로 설정하고, 용융 압출을 수행하고, T 다이로부터 시트상으로 용융 수지를 압출했다. 시트상의 용융 수지를 20℃ 의 냉각 드럼 상에서 캐스트(cast)했다. 캐스팅(casting)시에 정전 인가 부착법을 적용했다. 이렇게 제조한 미연신 시트를 세로 연신 공정으로 인도했다. 이 세로 연신 공정에서, 롤(roll)연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR(적외선)히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter) 로 안내한 후, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
표1에 나타나 있는 바와 같이, 상기 필름을 제1 층으로서 사용했고, 파장 380 nm ~ 780 nm 의 가시광선 및 파장 820 nm ~ 1100 nm 의 근적외선의 평균 투과율(*1)을, 광측정기 UV3100(Shimadzu Corporation 제조)를 사용하여 저스캐닝 속도 및 추출 견본 피치 1 nm 로 측정했다.
또한, 필터인 상기 필름의 칼라에 대한 외관을 3파장 형광 램프 하에서 눈(*2)으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
실시예1 실시예2 실시예3 실시예4 실시예5 비교 실시예1 비교 실시예2
필름의 융점 (℃) 206 220 206 220 220 253 253
제1 층 A + 근적외선 흡수제 (300:1) B + 근적외선 흡수제 (300:1) C B A + 근적외선 흡수제 (270:1) D + 근적외선 흡수제 (300:1) C
제2 층 - - A + 근적외선 흡수제 (270:1) A + 근적외선 흡수제 (270:1) B + 화질 보정제 (12,000:1) - D + 근적외선 흡수제 (270:1)
제3 층 - - C B - - C
파장 380nm~780nm의 가시광선의 평균 투과율 *1 75 74 72 70 59 65 64
파장 820nm~1100nm의 근적외선의 평균 투과율 *1 9.2 9.5 8.5 8.3 8.3 15 13
필터의 칼라 *2 갈색 갈색 갈색 갈색 청색 녹색 녹색
[실시예 2]
실시예 2 에서, 상기 실시예 1 의 폴리에스테르 A 를 폴리에스테르 B(융점: 220℃)로 변경하고, 동시에, 용융 라인의 온도를 250℃ 로 변경했다. 필름을 형성하는 다른 조건을 실시예 1 과 동일하고, 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
[실시예 3]
폴리에스테르 C(유리전이온도: 80.5℃)를 도5의 공압출 공정의 제1 압출기(21)에 넣고, 폴리에스테르 A 및 KAYASORB IRG-022(Nippon Kayaku Co., Ltd., 근적외선 흡수제)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 재료를 제2 압출기(22)에 주입했다. 이들 압출기(21 및 22)에서는, 용융 라인의 온도를 230℃ 로 설정하고, 용융 압출을 수행했고, 각 압출기(21 및 22)의 흐름 경로를 합치고, 이에 따라, 폴리에스테르 C 층은 폴리에스테르 A 층을 C/A/C 로 샌드위치하는데, 여기서 두께의 비는 상기 용융 압출 직전에 1/8/1 이 되었고, 따라서 용융 수지는 T 다이(23)로부터 시트상으로 공압출되었다. 따라서, 표1에 나타나 있는 바와 같이, 제1 및 제3 층은 폴리에스테르 C 로 만들어지고 제2 층은 폴리에스테르 A 로 만들어졌다.
시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼(24)상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신기(25)로 안내했다. 상기 세로 연신기(25)에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 측면 연신기(26)로 안내하여 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
상기 필름을 실시예1과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
[실시예 4]
실시예 2 에서, 상기 실시예 3 의 제1 및 제3 층 중의 폴리에스테르 C 를 폴리에스테르 B(융점: 220℃)로 변경하고, 또한, 용융 라인의 온도를 250℃ 로 변경했다. 필름을 형성하는 다른 조건을 실시예 3 과 동일하고, 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
[실시예 5]
폴리에스테르 A(융점: 220℃) 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 재료를 제1 압출기(21)에 넣고, 폴리에스테르 B 및 화질 보정제(TAP-2, Yamada Chemical Co., Ltd., 테트라 포르피린 화합물, 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수함)를 12,000:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료를 제2 압출기(22)에 주입했다. 이들 압출기(21 및 22)에서는, 용융 라인의 온도를 250℃ 로 설정하고, 용융 압출을 수행했고, 이 용융 압출 직전에, 이들 압출기의 흐름 경로를 합치고, 이에 따라, 두께의 비는 1/1 이 되었고, 따라서 용융 수지는 T 다이(23)로부터 시트상으로 공압출되었다.
시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼(24)상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신기(25)로 안내했다. 상기 세로 연신기(25)에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 측면 연신기(26)로 안내하여 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 50㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 표1에 나타나 있는 바와 같이, 수득한 필름의 제1 층은 폴리에스테르 A 를 포함하고 제2 층은 폴리에스테르 B 를 포함했다. 상기 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
비교 실시예 1
비교 실시예 1 에서, 상기 실시예 1 의 폴리에스테르 A(융점: 206℃)를 폴리에스테르 D(융점: 253℃)로 변경했고, 동시에, 용융 라인의 온도를 290℃ 로 변경했다. 필름을 형성하는 다른 조건은 실시예 1 과 동일했고, 두께 25 ㎛ 를 갖는 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
비교 실시예 2
비교 실시예 2 에서, 상기 실시예 3 의 폴리에스테르 A(융점: 206℃)를 폴리에스테르 D(융점: 253℃)로 변경했고, 동시에, 용융 라인의 온도를 290℃ 로 변경했다. 필름을 형성하는 다른 조건은 실시예 3 과 동일하고, 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표1에 나타나 있다.
표1에서 분명한 바와 같이, 융점이 230℃ 이하인 폴리에스테르를 사용한 실시예 1 ~ 5 의 경우에, 근적외선 흡수제는 열화가 억제되고, 따라서 파장 820 nm ~ 1100 nm 의 근적외선의 평균 투과율은 낮게 유지되었다. 또한, 가시광선은 열화된 근적외선 흡수제에 의한 열화가 억제될 수 있고, 따라서 파장 380 nm ~ 780 nm 의 가시광선의 평균 투과율은 높게 유지되었고, 더욱이, 필터는 외관의 관점에서 황색 또는 녹색으로 되지 않았다는 것을 알 수 있다.
다음으로, 본 발명의 추가 구현예 및 실시예를, 도면을 참조로 설명한다.
도6(a)에 도식적으로 보여지는 근적외선 흡수 필터(31)는 2층, 즉 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33) 및 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)을 갖는 2축 배향 필름(32)이다. 이들 층(33 및 34)을 일체 성형으로 공압출법에 의해 적층했다. 이러한 근적외선 흡수제로서, 디이모늄 염 화합물을 사용했다. 그러나, 범위 800 nm ~ 1100 nm 에서 흡수 최대 파장 범위를 갖는 종래의 화합물을 사용하는 한, 특별한 제한은 없고, 예를 들어 프탈로시아닌 화합물, 나프탈로시아닌 화합물, 인도아닐린 화합물, 벤조피란 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 니켈 착체 화합물, 구리 화합물, 텅스텐 화합물, 인듐 주석 옥시드, 안티몬 주석 옥시드, 이테르븀 포스페이트 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
자외선 흡수제로서, 벤조옥사지논 화합물을 사용하였지만, 범위 300 nm ~ 400 nm 에서 최대 흡수를 갖는 빛을 흡수하여 상기 범위에서 빛을 효율적으로 차단하는 종래의 화합물은 유기물 또는 무기물인지에 관계없이, 어떤 특별한 제한없이 사용될 수 있다. 유기 자외선 흡수제의 예로서, 벤조트리아졸계, 벤조페논계, 살리실레이트 에스테르계, 트리아진계, 파라아미노벤조에이트계, 신나메이트계, 아크릴레이트계, 힌더드(hindered)아민계 및 환형 이미노 에스테르계를 인용할 수 있고, 무기 자외선 흡수제, 티타늄 옥시드계, 아연 옥시드계 및 미립자 이온 옥시드계를 사용할 수 있다.
소정 입자로서, 몇 ㎛ 의 직경을 갖는 실리카 입자를 사용할 수 있지만, 종래의 입자, 예를 들어 칼슘 카보네이트 입자도 사용할 수 있다. 상기 소정 입자를, 폴리에스테르 필름의 양면 중 적어도 편면에 노출시켜서, 폴리에스테르 필름을 감는 상태에서의 부착성을 감소시키는데, 이는 미끄러짐을 쉽게 할 수 있다. 압출 성형시의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정된다.
상기 근적외선 흡수 필터(31)를 플라즈마 디스플레이 패널(41)에 사용하는 경우에, 자외선 차단층(34)을 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 위치시킨다.
도6(b)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)는 2층, 즉 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33) 및 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)을 갖는 2축 배향 필름(32)이다. 이들 층(33 및 34)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도6(c)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)은 2층, 즉 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(3) 및 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(4)을 갖는 2축 배향 필름(32)이다. 이들 층(3 및 4)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도6(d)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)는 3층, 즉 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33), 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(36) 및 근적외선 차단층(33)과 입자 함유층(36)의 사이에 위치하며 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)을 갖는 2축 배향 필름(35)이다. 이들 층(33, 36, 및 34)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도6(d)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)는 3층, 즉 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33), 소정 입자를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(36) 및 근적외선 차단층(33)과 입자 함유층(36)의 사이에 위치하며 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)을 갖는 2축 배향 필름(35)이다. 이들 층(33, 36, 및 34)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도6(f)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서, 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33)인 필름(37)은 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)인 필름(38)상에 적층되어 접착된다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도6(g)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에 2축 배향 필름(38) 및 필름(37)을 제공한다. 2축 배향 필름(38)은 2층, 즉 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34) 및 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(36)을 갖는다. 이들 층(34 및 36)은 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 필름(37)은 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33)이다. 필름(37)은 필름(38)의 자외선 차단층(34)상에 적층되어 접착된다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도7(a)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서, 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33)인 필름(37), 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)인 필름(38) 및 이들 필름(37 및 38)의 사이에 위치한 임의의 층(39)는 서로 적층되어 접착된다. 임의의 층(39)을 임의의 층(39)로 부르는 이유는, 다른 필름 또는 유리가 상기의 필름(37 및 38)의 사이에 개재될 수 있기 때문이고, 단, 자외선 차단층(34)는, 근적외선 흡수 필터(31)이 플라즈마 디스플레이 패널(41)에 사용될 경우, PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공되어야 한다.
도7(b)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서, 근적외선 차단층(33) 및 입자 함유층(36)이 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된 2층을 갖는 2축 배향 필름(37), 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)인 필름(38) 및 상기 필름(37) 및 필름(38)의 입자 함유층(36)의 사이에 위치한 임의의 층(39)는 서로 적층되어 접착된다. 근적외선 차단층(33)은 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진다. 입자 함유층(36)은 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도7(c)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서, 근적외선 차단층(33) 및 무입자 층(40)이 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된 2층을 갖는 2축 배향 필름(37), 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(34)인 필름(38) 및 상기 필름(37)과 필름(38)의 무입자 층(40)의 사이에 위치한 임의의 층(39)은 서로 적층되어 접착된다. 근적외선 차단층(33)은 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 무입자 층(40)은 소정 입자를 함유하지 않는 폴리에스테르로 만들어진다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도7(d)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)은 도7(c)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서 필름(37)의 무입자 층(40)을 입자 함유층(36)로 변경시켜서 얻는다.
도7(e)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서, 2축 배향 필름(37), 자외선 차단층(34)인 필름(38) 및 필름(37) 및 필름(38)의 사이에 위치한 임의의 층(39)은 서로 적층되어 접착된다. 2축 배향 필름(37)은 3층, 즉 소정 입자를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진 입자 함유층(36), 소정 입자를 함유하지 않는 폴리에스테르로 만들어진 무입자 층(40) 및 입자 함유층(36) 및 무입자 층(40)의 사이에 위치하며 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(33)을 갖는 필름이다. 이들 층(36, 40, 및 33)은 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(34)인 필름(38)은 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진다. 자외선 차단층(34)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(33)의 외부에 제공된다.
도7(f)에서 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)은 도7(e)에 도식적으로 보여진 근적외선 흡수 필터(31)에서 필름(37)의 무입자 층(40)을 입자 함유층(36)로 변경시켜서 얻는다.
도8(a)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이 패널(41)은 복수의 적층체로서 반사 반지층인 단일층의 필름(42), 접착제층인 단일층의 필름(43), 유리 기판(44), 접착제층인 단일층의 필름(45), 전자기파 차단층인 단일층의 필름(46), 화질 보정제를 함유하는 접착제층인 단일층의 필름(47) 및 도7(e)에 보여진 근적외선 흡수 필터(31)와 동일한 것인 필름(35)을 포함한다. 상기의 필름(35), 필름(47), 필름(46), 필름(45), 유리 기판(44), 필름(43) 및 필름(42)은 외부를 향하여 PDP 의 본체로부터 순차적으로 정렬되어 적층된다.
화질 보정제로서, 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 테트라 포르피린 화합물을 사용하지만, 특별한 제한은 없고, 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 종래의 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들어 시아닌 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 아조 화합물 및 프탈로시아닌 화합물을 사용할 수 있다.
도8(b)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이 패널(41)은 복수의 적층체로서 반사 방지층인 단일층의 필름(42), 접착제층인 단일층의 필름(43), 유리 기판(44), 접착제층인 단일층의 필름(45), 전자기파 차단층인 단일층의 필름(46), 화질 보정제를 함유하는 접착제층인 단일층의 필름(47) 및 도7(g)에 보여진 근적외선 흡수 필터(31)의 것과 동일한 필름(37 및 38)을 포함한다. 상기의 필름(37), 필름(38), 필름(47), 필름(46), 필름(45), 유리 기판(44), 필름(43) 및 필름(42)는 외부를 향하여 PDP 의 본체로부터 순차적으로 정렬되어 적층된다.
[실시예 및 비교 실시예]
다음으로, 하기 실시예 6 ~ 9 및 비교 실시예 3 ~ 5 에 사용된 폴리에스테르 재료를 설명한다.
A: 에틸렌 글리콜, 이소프탈산 및 테레프탈산을 중축합하고, 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 을 포함하는 펠렛상의 폴리에스테르 재료.
AI: 폴리에스테르 A 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022(Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조), 디이모늄 염 화합물)을 270:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
AU: 펠렛상의 폴리에스테르 재료 및 폴리에스테르 A 를 중합비 1:9 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료; 상기 폴리에스테르 재료는 벤트(vent)를 구비한 2축 압출기에 폴리에스테르 A 를 공급하고 자외선 흡수제로서 2,2'-(1,4-페닐렌)비스[4H-3,1-벤조옥사진-4-온](CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc. 제조, 분자량: 369, 벤조옥사지논계 물질)을 공급하여 농도가 10 중량% 가 되도록 하고 용융 혼련을 수행하여 얻는다.
B: 184 중량부의 1,4-시클로헥산 디카르복실산(트랜스형: 98%), 158 중량부의 1,4-시클로헥산디메탄올(트랜스형: 67%) 및 6 중량%의 Ti(OC4H9)4 의 0.9 중량부의 부탄올 용액을 중축합하고, 이 중축합 반응 후에 수득한 폴리머를 스트랜드(strand)상으로 물로 추출하고, 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료와 0.1 중량%의 비정질 실리카(평균 입경: 2.4 ㎛)를 배합하고, 혼합물을 스트랜드 상으로 압출하여 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료.
BI: 폴리에스테르 B 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 재료.
BU: 펠렛상의 폴리에스테르 재료 및 폴리에스테르 B 를 중합비 1:9 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료; 상기 폴리에스테르 재료는 벤트(vent)를 구비한 2축 압출기에 폴리에스테르 B 를 공급하고 자외선 흡수제로서 2,2'-(1,4-페닐렌)비스[4H-3,1-벤조옥사진-4-온](CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc. 제조, 분자량: 369, 벤조옥사지논계 물질)을 공급하여 농도가 10 중량% 가 되도록 하고 용융 혼련을 수행하여 얻는다.
C: 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산을 중축합하여 수득하고 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 을 포함하는 범용 펠렛상의 폴리에스테르 재료.
CI: 폴리에스테르 C 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
CU: 펠렛상의 폴리에스테르 재료 및 폴리에스테르 C 를 중합비 1:9 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료; 상기 폴리에스테르 재료는 벤트(vent)를 구비한 2축 압출기에 폴리에스테르 C 를 공급하고 자외선 흡수제로서 2,2'-(1,4-페닐렌)비스[4H-3,1-벤조옥사진-4-온](CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc. 제조, 분자량: 369, 벤조옥사지논계 물질)을 공급하여 농도가 10 중량% 가 되도록 하고 용융 혼련을 수행하여 얻는다.
[실시예 6]
폴리에스테르 B 및 근적외선(NIR)흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 300:1 로 건조 배합하여 수득한 재료를 압출기에 주입했다. 상기 압출기에서는, 용융 라인의 온도를 250℃ 로 설정하고, 용융 압출을 수행하고, T 다이로부터 시트상으로 용융 수지를 압출했다. 시트상의 용융 수지를 20℃ 의 냉각 드럼 상에서 캐스트(cast)했다. 캐스팅(casting)시에 정전 인가 부착법을 적용했다. 이렇게 제조한 미연신 시트를 세로 연신 공정으로 인도했다. 이 세로 연신 공정에서, 롤(roll)연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR(적외선)히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 제2 층으로서 사용했다.
그 다음, 폴리에스테르 BU 를 압출기에 주입하고, 2축 폴리에스테르 필름(NIR)에 대한 것과 동일한 기술을 사용하여 필름을 제조하고, 그 결과, 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름(UV)을 얻었다. 상기 필름을 제1 층으로서 사용했다.
계속해서, SKdyne 2094(Soken Chemical Engineering Co., Ltd. 제조) 및 경화제 E-AX(Soken Chemical Engineering Co., Ltd. 제조)를 비 1000:2.7 으로 혼합하고, 이의 용액(톨루엔:에틸 아세테이트 = 1:1)를 고형 농도 20% 와 함께 얻고, 그 후, 이를 정치하여, 용매를 탈가스한 다음, 접착제층을, #24 바(bar)를 사용하는 바코팅법에 따라 상기 혼합물 용액을 적용하여 2축 배향 폴리에스테르 필름(UV)의 표면 상에 형성했다. 이 접착제층을 100℃ 에서 3분 동안 건조하고, 그 후, 표면을 2축 배향 폴리에스테르 필름(NIR)에 접착하고, 손으로 압력을 가하여 공기 거품을 제거하고, 투명 다층 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.
수득한 필름에 대해, 파장 380 nm ~ 780 nm 의 가시광선, 파장 370 nm 의 자외선 및 파장 820 nm ~ 1100 nm 의 근적외선의 평균 투과율(*1)을, 분광측정기 UV3100, Shimadzu Corporation 제조)를 사용하여 저스캐닝 속도 및 추출 견본 피치 1 nm 로 측정했다. 필름을 실험실의 남쪽에 방향의 창문 내부에 위치시켜 2개월 동안 태양광에 노출시킨 후, 근적외선의 투과율(*2)을 측정했다.
또한, 손가락 끝을 사용하여 제1 층의 표면을 톨루엔에 담근 솜으로 약간 누르고 5회 문지른 후, 표면 상태를 검사하여, 수득한 필름의 외관 균일성(*3)을 눈으로 평가했다. 평가 결과는 표2에 나타나 있다.
[실시예 7]
폴리에스테르 재료 AI 를 도5의 공압출기의 제1 압출기(21)에 주입하고, 폴리에스테르 재료 AU 를 제2 압출기(22)에 주입했다. 용융 라인의 온도가 230℃ 로 설정될 때, 이들 압출기(21 및 22)로 용융 압출을 수행하고, 이 용융 압출 직전에 흐름 경로를 병합하고, 이에 따라 AI/AU 의 두께 비는 4/1 로 되었으며, 용융 수지를 T 다이(23)로부터 시트상으로 공압출했다. 시트상의 용융 수지를 20℃ 의 냉각 드럼(24)상에서 캐스트(cast)했다. 캐스팅(casting)시에 정전 인가 부착법을 적용했다. 이렇게 제조한 미연신 시트를 세로 연신 공정으로 인도했다. 이 세로 연신 공정에서, 롤(roll)연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR(적외선)히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다.
그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 측면 연신기(26)으로 안내하고, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
표2에 나타나 있는 바와 같이, 수득한 필름의 제1 층은 폴리에스테르 AU 로 만들어지며 제2 층은 폴리에스테르 AI 로 만들어졌다. 상기 필름을 실시예 6 에서와 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표2에 나타나 있다.
실시예 6 실시예 7 실시예 8 실시예 9 비교 실시예 3 비교 실시예 4 비교 실시예 5
필름의 융점 (℃) 220 206 220 253 220 - -
제1 층 BU + 접착제층 AU BU CU BI 아크릴 바인더 + 근적외선 흡수제 아크릴 바인더 + 자외선 흡수제
제2 층 BI AI BI CI - 폴리에스테르 필름 아크릴 바인더 + 근적외선 흡수제
제3 층 - - - - - - 폴리에스테르 필름
접착에 필요한 공정의 수 1 0 0 0 0 1 2
파장 380nm~780nm의 가시광선의 평균 투과율 *1 74 75 74 72 74 73 73
370nm의 자외선 투과율 *1 0.01 0.01 0.01 0.01 86 85 0.01
파장 820nm~1100nm의 근적외선의 평균 투과율 *1 9.5 9.2 9.5 15 9.5 8.4 8.3
태양광에의 노출 테스트 후, 파장 820nm~1100nm의 근적외선의 평균 투과율 *1 *2 9.9 9.5 9.9 16 28 22 8.7
외관의 균일성 *3 탁월; 표면거칠기 없음 탁월; 표면거칠기 없음 탁월; 표면거칠기 없음 탁월; 표면거칠기 없음 탁월; 표면거칠기 없음 열등; 표면의 거칠기 일부 열등; 표면의 거칠기 일부
[실시예 8]
폴리에스테르 재료 BI 을 도5의 제1 압출기(21)에 주입하고, 폴리에스테르 재료 BU 를 제2 압출기(22)에 주입했다. 이들 변경에 추가하여, 용융 라인의 온도를 250℃ 로 변경했다. 이와는 별개로, 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 형성했고, 이에 따라 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
표2에 보여진 바와 같이, 수득한 필름의 제1층을 폴리에스테르 BU 로 만들고, 제2 층을 폴리에스테르 BI 로 만들었다. 상기 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표2에 나타나 있다.
[실시예 9]
실시예 9 에서, 상기 실시예 6 의 폴리에스테르 재료 BI 을 폴리에스테르 재료 CI(융점: 253℃)로, 폴리에스테르 재료 BU 를 폴리에스테르 재료 CU(융점: 253℃)로, 그리고 용융 라인의 온도를 290℃ 로 변경했다. 이와는 별개로, 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 형성했고, 이에 따라 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
표2에 보여진 바와 같이, 수득한 필름의 제1 층을 폴리에스테르 CU 로 만들었고, 제2 층을 폴리에스테르 CI 로 만들었다. 상기 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표2에 나타나 있다.
비교 실시예 3
압출 성형 전의 폴리에스테르 B(융점: 220℃)는 184 중량부의 1,4-시클로헥산 디카르복실산(트랜스형: 98%), 158 중량부의 1,4-시클로헥산디메탄올(트랜스형: 67%) 및 6 중량% Ti(OC4H9)4 의 부탄올 용액 0.9 중량부를 중축합하고, 이 중축합 후에 수득한 폴리머를 스트랜드상으로 추출하여 펠렛상의 재료를 얻고, 이 재료에 평균 입경 2.4 ㎛ 의 비정질 실리카를 배합하여 비정질 실리카가 0.1 중량% 가 되도록 하고, 재료를 스트랜드상으로 압출하여 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료였다. 상기 폴리에스테르 B 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 재료 BI 을 압출기에 주입했다.
용융 라인의 온도를 250℃ 로 설정했을 때, 압출기는 용융 압출을 수행했고, 이에 따라 용융 수지를 T 다이로부터 시트상으로 압출했다. 시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼 상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신 공정에 안내했다. 상기 세로 연신 공정에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
표2에 나타나 있는 바와 같이, 수득한 필름의 제1 층을 폴리에스테르 BI 로 만들었다. 상기 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표2에 나타나 있다.
비교 실시예 4
0.2 g 의 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조) 및 5.0 g 의 폴리메틸메타크릴레이트 수지(Dianal BR-80, Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 제조)를 4.0 g 의 메틸 에틸 케톤 및 16.0 g 의 톨루엔의 혼합 용매에 용해시켰다. 1.5 g 의 수득한 액체를 샘플로 하여, 초음파 세척기로 완전히 용해시키고, 수득한 용액을 2축 배향 필름(O300, 두께: 25 ㎛; Mitsubishi Polyester Film Corporation 제조)에 #24 바 코터(bar coater)로 도포하고, 건조하여 근적외선 흡수 필름을 얻었다. 도포 필름의 두께는 약 6 ㎛ 였다.
표2에 보여진 바와 같이, 수득한 필름의 제1 층을 아크릴 바인더 및 근적외선 흡수제로 만들었고, 제2 층을 폴리에스테르 필름으로 만들었다. 상기 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표2에 나타나 있다.
비교 실시예 5
0.35 g 의 자외선 흡수제(CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc.) 및 5.0 g 의 폴리메틸메타크릴레이트 수지(Dianal BR-80, Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 제조)를 4.0 g 의 메틸 에틸 케톤 및 16.0 g 의 톨루엔의 혼합 용매에 용해시켰다. 1.5 g 의 수득한 액체를 샘플로 하여, 초음파 세척기로 완전히 용해시키고, 그 후, 수득한 용액을 비교 실시예 4 에서 수득한 근적외선 흡수 필름에 #24 바 코터(bar coater)로 도포하고, 건조하여 자외선 흡수층의 다층 필름을 얻었다.
표2에 보여진 바와 같이, 수득한 필름의 제1 층을 아크릴 바인더 및 자외선 흡수제로 만들었고, 제2 층을 아크릴 바인더 및 근적외선 흡수제로 만들었고, 제3 층을 폴리에스테르 필름으로 만들었다. 상기 필름을 실시예 6 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표2에 나타나 있다.
표2에서 분명한 바와 같이, 하나의 독립적인 근적외선 흡수 필터는 자체로 자외선 차단 기능을 가지며, 근적외선 흡수제는 열화(분해 또는 변질)가 억제되며, 태양광에의 노출 테스트 후, 파장 820 nm ~ 1100 nm 의 근적외선의 평균 투과율은 실시예 6 ~ 9 에서 낮게 유지된다는 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 6 ~ 9 에서, 각 층들 사이의 접착 단계의 수는 공압출법으로 감소될 수 있다. 또한, 단계의 수가 하나일 경우, 근적외선 차단층 및 자외선 차단층이 적층될 때에도 외관의 균일성은 보장되었다는 것을 알 수 있다. 더욱이, 각 실시예에서, 근적외선과 가시광선의 사이의 투과율의 차이는 융점 230℃ 이하의 폴리에스테르의 사용에 의해 크게 될 수 있다는 것을 알 수 있다.
이하, 본 발명의 추가 구체화 및 실시예를, 도면을 참조로하여 설명한다.
도9(a)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 화질 보정층(53), 자외선 차단층(54) 및 근적외선 차단층(55)을 갖는 2축 배향 필름(52)이고, 상기 3층은 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 화질 보정층(53)은 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만든다. 자외선 차단층(54)은 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만든다. 근적외선 차단층(55)은 화질 보정층(53) 및 자외선 차단층(54)의 사이에 위치하고 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만든다.
상기 광학 필터(51)를 플라즈마 디스플레이 패널(61)에 사용하는 경우에, 자외선 차단층(54)는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 본체에 관하여 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다. 화질 보정제로서, 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 테트라 포르피린 화합물을 사용하지만, 특별한 제한은 없고, 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장를 갖는 종래의 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들어, 시아닌 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 아조 화합물 및 프탈로시아닌 화합물을 사용할 수 있다.
자외선 흡수제로서 벤조옥사지논 화합물을 사용하지만, 범위 300 nm ~ 400 nm 에서 최대 흡수를 가지며 상기 범위에서 빛을 효율적으로 차단하는 종래의 유기 및 무기 화합물을 특별한 제한없이 사용할 수 잇다. 유기 자외선 흡수제의 예로서, 벤조트리아졸계, 벤조페논계, 살리실레이트계, 트리아진계, 파라아미노벤조에이트계, 신나메이트계, 아크릴레이트계, 힌더드 아민계 및 환형 이미노 에스테르계 를 인용할 수 있다. 무기 자외선 흡수제로서, 티타늄 옥시드계, 아연 옥시드계 또는 미립자 철 옥시드를 사용할 수 있다.
상기의 소정 입자로서, 몇 ㎛ 의 직경을 갖는 실리카 입자를 사용하지만, 종래 입자 외에, 예를 들어 칼슘 카보네이트 입자를 사용할 수 있다. 상기 소정 입자를, 폴리에스테르 필름의 양면 중 적어도 편면에 노출시켜서, 폴리에스테르 필름을 감는 상태에서의 부착성을 감소시키는데, 이는 미끄러짐을 쉽게 할 수 있다.
근적외선 흡수제로서, 디이모늄 염 화합물을 사용하지만, 범위 800 nm ~ 1100 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 종래의 화합물을 특별한 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 프탈로시아닌 화합물, 나프탈로시아닌 화합물, 인도아닐린 화합물, 벤조피란 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 니켈 착체 화합물, 구리 화합물, 텅스텐 화합물, 인듐 주석 옥시드, 안티몬 주석 옥시드, 이테르븀 포스페이트 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
압출 성형시의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하로 설정된다.
도9(b)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 화질 보정층(53), 자외선 차단층(54) 및 근적외선 차단층(55)을 갖는 2축 배향 필름(52)이다. 이들 층(53, 54, 및 55)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 화질 보정층(53)은 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만든다. 자외선 차단층(54)은 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만든다. 근적외선 차단층(55)는 화질 보정층(53)과 자외선 차단층(54)의 사이에 위치하고, 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만든다. 자외선 차단층(54)은 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도9(c)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53), 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55) 및 화질 보정층(53)과 근적외선 차단층(55)의 사이에 위치하며 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54)을 갖는 2축 배향 필름(52)이다. 이들 층(53, 55, 및 54)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도9(d)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53), 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55) 및 화질 보정층(53) 및 근적외선 차단층(55)의 사이에 위치하며 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54)을 갖는 2축 배향 필름(52)이다. 이들 층(53, 55, 및 54)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도9(e)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53), 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55) 및 화질 보정층(53)과 근적외선 차단층(55)의 사이에 위치하며 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54)을 갖는 2축 배향 필름(52)이다. 이들 층(53, 55, 및 540는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도9(f)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54), 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55) 및 자외선 차단층(54)과 근적외선 차단층(55)의 사이에 위치하며 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53)을 갖는 2축 배향 필름(52)이다. 이들 층(54, 55, 및 53)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도9(f)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)는 3층, 즉 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54), 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55) 및 자외선 차단층(54)과 근적외선 차단층(55)의 사이에 위치하며 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53)을 갖는 2축 배향 필름(52)이다. 이들 층(54, 55, 및 53)은 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도9(g)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)에서, 필름(57)는 2축 배향 필름(56)상에 적층되어 접착된다. 2축 배향 필름(56)은 2층, 즉 자외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54) 및 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53)을 갖는 필름이다. 이들 층(54 및 53)은 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 필름(57)은 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55)이다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도10(a)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)에서, 2축 배향 필름(58), 필름(59) 및 2축 배향 필름(58)의 화질 보정층(53)과 필름(59)의 사이에 위치한 임의의 층(60)은 서로 적층되어 접착된다. 2축 배향 필름(58)은 2층, 즉 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53) 및 근적외선 흡수제를 균일하게 혼합한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55)을 갖는 필름이다. 이들 층(53 및 55)일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 필름(59)는 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54)이다.
임의의 층(60)을 "임의"로 부르는 것은, 필름, 유리 등이 필름(58)과 필름(59)의 사이에 개재할 수 있기 때문인데, 단, 자외선 차단층(54)는, 근적외선 흡수 필터(51)가 플라즈마 디스플레이 패널(61)에 사용되는 경우에, PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도10(b)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)에서, 2축 배향 필름(58), 필름(59) 및 2축 배향 필름(58)의 화질 보정층(53)과 필름(59)의 사이에 위치한 임의의 층(60)은 서로 적층되어 접착된다. 2축 배향 필름(58)은 2층, 즉 화질 보정제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53) 및 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55)을 갖는 필름이다. 이들 층(53 및 55)은 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 필름(59)는 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54)이다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도10(c)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)에서, 2축 배향 필름(58), 필름(59) 및 2축 배향 필름(58)의 화질 보정층(53)과 필름(59)의 사이에 위치한 임의의 층(60)는 서로 적층되어 접착된다. 2축 배향 필름(58)는 2층, 즉 화질 보정제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층(53) 및 근적외선 흡수제와 소정 입자를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층(55)을 갖는 필름이다. 이들 층(53 및 55)는 일체 성형을 통해 공압출법에 의해 적층된다. 필름(59)는 자외선 흡수제를 균일하게 혼합, 함유한 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층(54)이다. 자외선 차단층(54)는 PDP 의 본체에 대해 근적외선 차단층(55)의 외부에 제공된다.
도11(a)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이 패널(61)은 반사 방지층인 단일층의 필름(62), 접착제층인 단일층의 필름(63), 유리 기판(64), 접착제층인 단일층의 필름(65), 전자기파 차단층인 단일층의 필름(66) 및 접착제층인 단일층의 필름(67)을 포함하고, 또한 도9(e)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)내의 것과 동일한 필름(52)를 포함한다. 상기의 필름(52), 필름(67), 필름(66), 필름(65), 유리 기판(64), 필름(63) 및 필름(62)는 PDP 의 본체로부터 순차적으로 정렬되어 적층된다.
도11(b)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이 패널(61)은 반사 방지층인 단일층의 필름(62), 접착제층인 단일층의 필름(63), 유리 기판(64), 접착제층인 단일층의 필름(65), 전자기파 차단층인 단일층의 필름(66) 및 접착제층인 단일층의 필름(67)을 포함하고, 또한 도9(c)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)내의 것과 동일한 필름(52)를 포함한다. 상기의 필름(52), 필름(67), 필름(66), 필름(65), 유리 기판(64), 필름(63) 및 필름(62)은 PDP 의 본체로부터 순차적으로 정렬되어 적층된다.
도11(c)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이 패널(61)은 반사 방지층인 단일층의 필름(62), 접착제층인 단일층의 필름(63), 유리 기판(64), 접착제층인 단일층의 필름(65), 전자기파 차단층인 단일층의 필름(66) 및 접착제층인 단일층의 필름(67)을 포함하고, 또한 도9(h)에 도식적으로 보여진 플라즈마 디스플레이용 광학 필터(51)내의 것과 동일한 필름(56 및 57)를 포함한다. 상기의 필름(57), 필름(56), 필름(67), 필름(66), 필름(65), 유리 기판(64), 필름(63) 및 필름(62)은 PDP 의 본체로부터 순차적으로 정렬되어 적층된다.
[실시예 및 비교 실시예]
이하, 실시예 10 ~ 15 및 비교 실시예 6 에 사용된 폴리에스테르 재료를 설명한다.
A: 에틸렌 글리콜, 이소프탈산 및 테레프탈산을 중축합하고, 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 을 포함하는 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 융점: 206℃
AI: 폴리에스테르 A 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022(Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조), 디이모늄 염 화합물)을 270:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
AU: 펠렛상의 폴리에스테르 재료 및 폴리에스테르 A 를 중합비 1:9 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료; 상기 폴리에스테르 재료는 벤트(vent)를 구비한 2축 압출기에 폴리에스테르 A 를 공급하고 자외선 흡수제로서 2,2'-(1,4-페닐렌)비스[4H-3,1-벤조옥사진-4-온](CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc. 제조, 분자량: 369, 벤조옥사지논계 물질)을 공급하여 농도가 10 중량% 가 되도록 하고 용융 혼련을 수행하여 얻는다.
AS: 폴리에스테르 A, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화질 보정제(TAP-2; 테트라 포르피린 화합물, Yamada Chemical Co., Ltd. 제조)를 12,000:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
B: 184 중량부의 1,4-시클로헥산 디카르복실산(트랜스형: 98%), 158 중량부의 1,4-시클로헥산디메탄올(트랜스형: 67%) 및 6 중량%의 Ti(OC4H9)4 의 0.9 중량부의 부탄올 용액을 중축합하고, 이 중축합 반응 후에 수득한 폴리머를 스트랜드(strand)상으로 물로 추출하고, 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료와 0.1 중량%의 비정질 실리카(평균 입경: 2.4 ㎛)를 배합하고, 혼합물을 스트랜드 상으로 압출하여 수득한 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 융점: 220℃.
BI: 폴리에스테르 B 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 재료.
BU: 펠렛상의 폴리에스테르 재료 및 폴리에스테르 B 를 중합비 1:9 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료; 상기 폴리에스테르 재료는 벤트(vent)를 구비한 2축 압출기에 폴리에스테르 B 를 공급하고 자외선 흡수제로서 2,2'-(1,4-페닐렌)비스[4H-3,1-벤조옥사진-4-온](CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc. 제조, 분자량: 369, 벤조옥사지논계 물질)을 공급하여 농도가 10 중량% 가 되도록 하고 용융 혼련을 수행하여 얻는다.
BS: 폴리에스테르 B, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화질 보정제(TAP-2; 테트라 포르피린 화합물, Yamada Chemical Co., Ltd. 제조)를 12,000:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
C: 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산을 중축합하여 수득하고 평균 입경 2.2 마이크론의 실리카 입자 600 ppm 을 포함하는 범용 펠렛상의 폴리에스테르 재료. 융점: 253℃.
CI: 폴리에스테르 C 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 270:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
CU: 펠렛상의 폴리에스테르 재료 및 폴리에스테르 C 를 중합비 1:9 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료; 상기 폴리에스테르 재료는 벤트(vent)를 구비한 2축 압출기에 폴리에스테르 C 를 공급하고 자외선 흡수제로서 2,2'-(1,4-페닐렌)비스[4H-3,1-벤조옥사진-4-온](CYASORB UV-3638, CYTEC Industries Inc. 제조, 분자량: 369, 벤조옥사지논계 물질)을 공급하여 농도가 10 중량% 가 되도록 하고 용융 혼련을 수행하여 얻는다.
CS: 폴리에스테르 C, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화질 보정제(TAP-2; 테트라 포르피린 화합물, Yamada Chemical Co., Ltd. 제조)를 12,000:1 로 건조 배합하여 수득한 폴리에스테르 재료.
[실시예 10]
폴리에스테르 재료 AU 를 도12의 공압출기의 제1 압출기(68)에 주입하고, 폴리에스테르 재료 AI 를 제2 압출기(69)에 주입하고, 및 폴리에스테르 재료 AS 를 제3 압출기(70)에 주입했다. 용융 라인의 온도가 230℃ 로 설정될 때, 이들 압출기(68, 69 및 70)는 용융 압출을 수행했고, 이들의 흐름 경로를 융용 압출 직전에 합치고, 이에 따라 AU 층, AI 층 및 AS 층의 두께비는 1/4/4 로 되었고, 따라서, 용융 수지를 T 다이(71)로부터 시트상으로 공압출했다. AU 층, AI 층 및 AS 층은 표3의 제1 층, 제2 층 및 제3 층에 해당한다.
시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼(72)상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신기(73)로 안내했다. 상기 세로 연신기(73)에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 측면 연신기(74)로 안내하여 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 시트를, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 45㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.
파장 380 nm ~ 780 nm 의 가시광선 및 파장 820 nm ~ 1100 nm 의 근적외선의 평균 투과율(*1)을, 광측정기 UV3100(Shimadzu Corporation 제조)를 사용하여 저스캐닝 속도 및 추출 견본 피치 1 nm 로 측정했다. 필름을 실험실의 남쪽에 방향의 창문 내부에 위치시켜 2개월 동안 태양광에 노출시킨 후, 근적외선의 투과율(*2)을 측정했다.
또한, 손가락 끝을 사용하여 제1 층의 표면을 톨루엔에 담근 솜으로 약간 누르고 5회 문지른 후, 표면 상태를 검사하여, 수득한 필름의 외관 균일성(*3)을 눈으로 평가했다. 필름의 특성은 표3에 나타나 있다.
[실시예 11]
실시예 11 에서, 실시예 10 의 폴리에스테르 재료 AU 를 BU 로 변경하고, 폴리에스테르 재료 AI 를 BI 로 변경하고, 폴리에스테르 재료 AS 를 BS 로 변경하고, 또한, 용융 라인의 온도를 250℃ 로 변경했다. 이와는 별개로, 필름을 실시예 10 과 동일한 방법으로 제조하고, 따라서, 두께 45 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 10과 동일한 방법으로 평가했다. 그의 특성은 표3에 나타나 있다.
[실시예 12]
실시예 12 에서, 실시예 10 의 폴리에스테르 재료 AU 를 CU 로 변경하고, 폴리에스테르 재료 AI 를 CI 로 변경하고, 폴리에스테르 재료 AS 를 CS 로 변경하고, 또한, 용융 라인의 온도를 290℃ 로 변경했다. 이와는 별개로, 필름을 실시예 10 과 동일한 방법으로 제조하고, 따라서, 두께 45 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 10과 동일한 방법으로 평가했다. 그의 특성은 표3에 나타나 있다.
[실시예 13]
실시예 13 에서, 폴리에스테르 B 및 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)를 300:1 로 건조 배합하여 수득한 재료를 압출기에 주입했다. 용융 라인의 온도를 250℃ 로 설정했을 때, 압출기는 용융 압출을 수행했고, 이에 따라 용융 수지를 T 다이로부터 시트상으로 압출했다. 시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼 상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신 공정에 안내했다. 상기 세로 연신 공정에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다.
그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름(NIR)은 표3의 제2 층에서의 BI 에 해당한다.
그 다음, 2축 배향 폴리에스테르 필름(NIR)의 것과 동일한 기술을 사용하여 폴리에스테르 BU 로부터 필름을 제조했고, 이에 따라 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름(UV)을 얻었다. 상기 필름(UV)은 표3의 제1 층에서의 BU 에 해당한다.
더욱이, 2축 배향 폴리에스테르 필름(NIR)의 것과 동일한 기술을 사용하여 폴리에스테르 BS 로부터 필름을 제조했고, 이에 따라 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름(VIS)을 얻었다. 상기 필름(VIS)은 표3의 제1 층에서의 BS 에 해당한다.
계속해서, SKdyne 2094(Soken Chemical Engineering Co., Ltd. 제조) 및 경화제 E-AX(Soken Chemical Engineering Co., Ltd. 제조)를 비 1000:2.7 으로 혼합하고, 이의 용액(톨루엔:에틸 아세테이트 = 1:1)를 고형 농도 20% 와 함께 얻고, 그 후, 이를 정치하여, 용매를 탈가스한 다음, 접착제층을, #24 바(bar)를 사용하는 바코팅법에 따라 상기 혼합물 용액을 적용하여 2축 배향 폴리에스테르 필름(UV)의 표면 상에 형성했다. 이 접착제층을 100℃ 에서 3분 동안 건조하고, 그 후, 표면을 2축 배향 폴리에스테르 필름(NIR)에 접착하고, 손으로 압력을 가하여 공기 거품을 제거하고, 투명 다층 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.
더욱이, SK-Dyne 2094(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. 제조)로 만들어진 접착제층을, 상기와 동일한 기술로 제3 층인 2축 배향 폴리에스테르 필름(VIS)의 표면 상에 형성하고, 그 후, 이에 제1 층 및 제2 층의 필름을 접착하고, 이에 따라 3층의 다층 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.
상기 필름을 실시예 10과 동일한 방법으로 평가했다. 그의 특성은 표3에 나타나 있다.
[실시예 14]
폴리에스테르 재료 BU 를 제1 압출기(68)에 주입하고 폴리에스테르 재료 BS 를 제2 압출기(69)에 주입했다. 용융 라인의 온도를 250℃ 로 설정했을 때, 이들 압출기(68 및 69)용융 압출을 수행했고, 이들의 흐름 경로를 용융 압출 직전에 합치고, 이에 따라 BU/BS 의 두께비는 1/4 로 되었고, 이에 따라 용융 수지를 T 다이(71)로부터 시트상으로 압출했다. 시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼(72)상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신기(73)로 안내했다. 상기 세로 연신기(73)에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다. 그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 측면 연신기(74)로 안내하고, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 25㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 수득한 필름에서, 제1 및 제2 층을 함께 접착했다.
그 다음, 실시예 13 에 기재된 제2 층 중 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름(NIR)과 동일한 필름을 만들고, SK-Dyne 2094(Soken chemical & Engineering Co., Ltd. 제조) 및 경화제 E-AX(Soken chemical & Engineering Co., Ltd. 제조)를, 실시예 13 과 동일한 절차로 상기 필름의 표면에 도포한 다음, 1분 동안 100℃ 에서 건조하고, 따라서, 제3 층용 필름을 얻었다. 그 후, 제3 층의 접착제층을 2축 배향 폴리에스테르 필름(NIR)에 접착하고, 핸드 롤러(hand roller)로 압력을 가하여 공기 거품을 제거하고, 투명 다층 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 10 과 동일한 방법으로 평가했다. 그의 특성은 표3에 나타나 있다.
[실시예 15]
폴리에스테르 재료 BI 를 제1 압출기(68)에 주입하고, 폴리에스테르 재료 BS 를 제2 압출기(69)에 주입했다. 용융 라인의 온도를 250℃ 로 설정했을 때, 이들 압출기(68 및 69)용융 압출을 수행했고, 이들의 흐름 경로를 용융 압출 직전에 합치고, 이에 따라 BU/BS 의 두께비는 1/1 로 되었고, 이에 따라 용융 수지를 T 다이(21)로부터 시트상으로 압출했다. 시트상의 상기 용융 수지를 20℃의 냉각 드럼(22)상에 캐스트했다. 캐스팅 시에, 정전 인가 부착법을 사용했다. 이렇게 제조된 미연신 시트를 세로 연신기(23)로 안내했다. 상기 세로 연신기(23)에서, 롤 연신법을 사용하고, 복수의 세라믹 롤에 의하여 시트를 70℃ 로 예열했고, IR 히터도 사용했고, 3.0 의 연신비로 길이 방향으로 시트를 연신했다.
그 다음, 상기 1축 연신 필름을 90℃ 로 예열된 텐터(tenter)로 안내한 후, 측면 연신기(74)로 안내하고, 4.0 의 연신비로 폭 방향으로 연신했다. 그 후, 필름을, 동일한 텐터 내에서 긴장하에서 180℃ 의 온도에서 가열을 통해 안정화시키고, 그 다음, 150℃ 의 온도에서 폭 방향으로 이완 공정을 수행하고, 이에 따라, 필름은 3%까지 이완되며, 따라서 두께 50㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름(VIS)을 얻었다. 상기 필름은 표3에서 제1 층 및 제2 층에 해당한다.
그 다음, 실시예 13 에 기재된 두께 25 ㎛ 의 2축 배향 폴리에스테르 필름(BU)과 동일한 필름을 만들고, 접착제층(SK-Dyne 2094, Soken chemical & Engineering Co., Ltd. 제조) 및 경화제 E-AX(Soken chemical & Engineering Co., Ltd. 제조)를, 실시예 13 과 동일한 절차로 상기 필름의 표면에 도포한 다음, 1분 동안 100℃ 에서 건조하고, 따라서, 제3 층용 필름을 얻었다. 상기 필름의 접착제층을 제2 층인 2축 배향 폴리에스테르 필름(VIS)에 접착하고, 핸드 롤러(hand roller)로 압력을 가하여 공기 거품을 제거하고, 투명 다층 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다. 상기 필름을 실시예 10 과 동일한 방법으로 평가했다. 그의 특성은 표3에 나타나 있다.
비교 실시예 6
0.003 g 의 테트라 포르피린 및 5.0 g 의 폴리메틸 메타크릴레이트 수지(Dianal BR-80, Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 제조)를 8.0 g 의 메틸 에틸 케톤 및 8.0 g 의 톨루엔의 혼합 용매에 용해시키고, 1.5 g 의 수득한 액체를 샘플로 하여, 초음파 세척기로 완전히 용해시키고, 도포액을 얻었다. 그 후, 도포액을 2축 배향 필름(O300, 두께: 25 ㎛; Mitsubishi Polyester Film Corporation 제조)에 #24 바 코터(bar coater)로 도포하고, 건조하여 PDP 화질 보정 필름을 얻었다. 이는 표3의 제3 층에 해당한다. 도포 필름의 두께는 약 6 ㎛ 였다.
그 다음, 0.2 g 의 근적외선 흡수제(KAYASORB IRG-022, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조) 및 5.0g 의 폴리메틸 메타크릴레이트 수지(Dianal BR-80, Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 제조)를 8.0 g 의 메틸 에틸 케톤 및 8.0 g 의 톨루엔의 혼합 용매에 용해시키고, 이에 따라 도포액을 얻었다. 1.5 g 의 수득한 액체를 샘플로 하여, 초음파 세척기로 완전히 용해시킨 다음, 이 도포액으로 코팅하고, 제3 층 중 PDP 화질 보정 필름의 도포면 상에 #24 바 코터(bar coater)로 적층하고, 건조하여, 화질 보정층 및 근적외선 흡수층을 갖는 다층 필름을 얻었다. 이 다층 필름은 표3의 제2 층 및 제3 층에 해당한다.
더욱이, 0.35 g 의 CYASORBUV-3638(CYTEC Industries Inc.) 및 5.0 g 의 폴리메틸 메타크릴레이트 수지(Dianal BR-80, Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 제조)를 8.0 g 의 메틸 에틸 케톤 및 8.0 g 의 톨루엔의 혼한 용매에 용해시키고, 1.5 g 의 수득한 액체를 샘플로 하여, 초음파 세척기로 완전히 용해시키고, 이에 따라 제1 층의 형성용 도포액을 얻었다. 이 도포액을, 상기의 기술에 따라 제2 층 및 제3 층을 갖는 다층 필름의 도포면 상에 도포하고, 이에 따라 자외선 흡수층, 적외선 흡수층 및 화질 보정층을 갖는 다층 필름을 얻었다. 이 필름을 실시예 10 과 동일한 방법으로 평가했다. 그 결과는 표3에 나타나 있다.
실시예 10 실시예 11 실시예 12 실시예 13 실시예 14 실시예 15 비교 실시예 6
필름의 융점 (℃) 206 220 253 220 220 220 -
제1 층 AU BU CU BU + 접착제층 BU BU + 접착제층 아크릴 바인더 + 자외선 흡수제
제2 층 AI BI CI BI BS BI 아크릴 바인더 + 근적외선 흡수제
제3 층 AS BS CS BS + 접착제층 BI + 접착제층 BS 폴리에스테르 필름 + 아크릴 바인더 + 화질 보정제
접착에 필요한 공정의 수 0 0 0 2 1 1 3
파장 380nm~780nm의 가시광선의 평균 투과율 *1 59 59 60 55 57 58 57
파장 820nm~1100nm의 근적외선의 평균 투과율 *1 9.1 9.4 15 8.9 8.9 9.1 8.2
태양광에의 노출 테스트 후, 파장 820nm~1100nm의 근적외선의 평균 투과율 *1 *2 9.4 9.9 16 9.4 9.3 9.4 8.6
외관의 균일성 *3 표면거칠기 없음 표면거칠기 없음 표면거칠기 없음 표면거칠기 없음 표면거칠기 없음 표면의 거칠기 없음 표면의 거칠기 관찰
표3으로부터 분명한 것처럼, 실시예 10 ~ 15 에 따르면, 종래기술, 즉 비교 실시예 6 과 비교하여, 다수의 기능, 즉 근적외선 차단, 자외선 차단 및 화질 보정을 갖는 필터를 제조하는데 필요한 접착 단계의 수를 감소시킬 수 있는 제품을 디자인할 수 있다. 또한, 화질 보정층 자체를 갖는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터용 하나의 독립적인 광학 필터는 근적외선 차단 기능 외에 자외선 차단 기능을 가질 수 있고, 따라서 근적외선 흡수제가 열화(분해 또는 변질)되는 것을 억제할 수 있고, 따라서 플라즈마 디스플레이용 광학 필터의 성능이 유지될 수 있다는 것을 알 수 있다. 더욱이, 융점이 230℃ 이하인 폴리에스테르를 사용하여 근적외선과 가시광선의 사이의 투과율 차이를 크게 할 수 있는 것을 알 수 있다.

Claims (15)

  1. 근적외선 흡수제를 갖는 2축 배향 폴리에스테르 필름이고, 상기 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하인 근적외선 흡수 필터.
  2. 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층을 포함하는 2축 배향 필름이고, 상기 층들은 용융되고 압출기를 통해 함께 압출되는 공압출법에 의해 일체 성형을 통해 적층되고, 상기 층들 중 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하인 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.
  3. 제1 항에 따른 근적외선 흡수 필터를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제2 항에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층 및 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층이 적층된 2축 배향 필름으로 형성된 근적외선 흡수 필터.
  6. 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층 및 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층을 포함하는 2축 배향 필름으로 형성되고, 상기 층들은 용융되고 압출기를 통해 함께 압출되는 공압출법에 의해 일체 성형을 통해 적층되는 근적외선 흡수 필터.
  7. 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층을 갖는 2축 배향 필름 및 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층을 갖는 2축 배향 필름이 서로의 상면 상에 적층되는 근적외선 흡수 필터.
  8. 제5 항 내지 제7 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 근적외선 차단층 중의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하인 근적외선 흡수 필터.
  9. 제5 항 내지 제7 항 중의 어느 한 항에 따른 근적외선 흡수 필터를 포함하며, 플라즈마 디스플레이의 본체에 대해 근적외선 차단층의 외부에 자외선 차단층을 제공한 플라즈마 디스플레이 패널.
  10. 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층이 서로의 상면 상에 적층되는 2축 배향 필름인 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.
  11. 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층을 포함하는 2축 배향 필름이고, 상기 층들은 용융되고 압출기를 통해 함께 압출되는 공압출법에 의해 일체 성형을 통해 적층되는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.
  12. 2개의 2축 배향 필름은 서로의 상면 상에 적층되고, 상기 2축 배향 필름 중의 하나는 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층을 포함하고 상기 층들은 용융되고 압출기를 통해 함께 압출되는 공압출법에 의해 일체 성형을 통해 적층되고, 다른 2축 배향 필름은 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층을 갖는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.
  13. 2개의 2축 배향 필름은 서로의 상면 상에 적층되고, 상기 2축 배향 필름 중의 하나는 근적외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 근적외선 차단층, 및 범위 560 nm ~ 600 nm 에서 흡수 최대 파장을 갖는 가시광선을 흡수하는 화합물을 함유하는 폴리에스테르로 만들어진 화질 보정층을 포함하고 상기 층들은 용융되고 압출기를 통해 함께 압출되는 공압출법에 의해 일체 성형을 통해 적층되고, 다른 2축 배향 필름은 자외선 흡수제 함유 폴리에스테르로 만들어진 자외선 차단층을 갖는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.
  14. 제10 항 내지 제13 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 근적외선 차단층 중 의 폴리에스테르의 융점은 230℃ 이하인 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.
  15. 제10 항 내지 제14 항 중의 어느 한 항에 따른 플라즈마 디스플레이용 광학 필터를 포함하며, 플라즈마 디스플레이의 본체에 대해 근적외선 차단층의 외부에 자외선 차단층을 제공한 플라즈마 디스플레이 패널.
KR1020077019321A 2005-02-16 2006-02-15 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널 KR20070114139A (ko)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00039437 2005-02-16
JPJP-P-2005-00039435 2005-02-16
JP2005039436A JP4744893B2 (ja) 2005-02-16 2005-02-16 プラズマディスプレイパネル
JP2005039437A JP4744894B2 (ja) 2005-02-16 2005-02-16 プラズマディスプレイパネル
JPJP-P-2005-00039436 2005-02-16
JP2005039435A JP4744892B2 (ja) 2005-02-16 2005-02-16 プラズマディスプレイパネル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070114139A true KR20070114139A (ko) 2007-11-29

Family

ID=36916460

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077019321A KR20070114139A (ko) 2005-02-16 2006-02-15 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20090009899A1 (ko)
EP (1) EP1850154A1 (ko)
KR (1) KR20070114139A (ko)
WO (1) WO2006088056A1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101243717B1 (ko) * 2009-05-20 2013-03-13 주식회사 엘지화학 색감 및/또는 시인성이 우수한 터치 윈도우
KR20140069130A (ko) * 2011-09-15 2014-06-09 제이에스알 가부시끼가이샤 근적외선 차단 필터 및 근적외선 차단 필터를 이용한 장치
KR20150023375A (ko) * 2012-06-25 2015-03-05 제이에스알 가부시끼가이샤 고체 촬상 소자용 광학 필터 및 그의 용도

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4649466B2 (ja) 2006-12-11 2011-03-09 大日本印刷株式会社 光学積層体及び表示装置
EP2163921A4 (en) * 2007-06-08 2012-08-29 Bridgestone Corp PROTECTIVE NON-INFRARED PROTECTIVE MATERIAL, LAMINATE COMPRISING THE SAME, AND OPTICAL FILTER FOR DISPLAY
KR20090094582A (ko) * 2008-03-03 2009-09-08 삼성에스디아이 주식회사 디스플레이 패널
KR20110048508A (ko) * 2008-07-29 2011-05-11 톰슨 라이센싱 필터를 이용한 디스플레이 특징화

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW446637B (en) * 1996-05-28 2001-07-21 Mitsui Chemicals Inc Transparent laminates and optical filters for displays using the same
US6049419A (en) * 1998-01-13 2000-04-11 3M Innovative Properties Co Multilayer infrared reflecting optical body
KR100444332B1 (ko) * 1999-12-20 2004-08-16 도요 보세키 가부시키가이샤 적외선 흡수필터
US6423396B2 (en) * 2000-03-27 2002-07-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Laminated polyester film
JP2002003623A (ja) * 2000-06-22 2002-01-09 Mitsubishi Polyester Film Copp 二軸配向ポリエステルフィルム
JP3517210B2 (ja) * 2000-12-28 2004-04-12 日清紡績株式会社 近赤外線吸収材料
JP5052716B2 (ja) * 2001-03-27 2012-10-17 三菱樹脂株式会社 赤外線フィルター
KR20030022890A (ko) * 2001-06-21 2003-03-17 데이진 가부시키가이샤 근적외선 차폐 필름
JP2003096215A (ja) * 2001-09-21 2003-04-03 Teijin Dupont Films Japan Ltd 近赤外線遮蔽フィルム及びそれを用いた積層体
JP3937851B2 (ja) * 2002-02-01 2007-06-27 住友金属鉱山株式会社 プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
JP2003248433A (ja) * 2002-02-25 2003-09-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平面型ディスプレイパネル用耐衝撃フィルム及び平面型ディスプレイパネル
JP2004010875A (ja) * 2002-06-12 2004-01-15 Mitsubishi Polyester Film Copp ディスプレイ用ポリエステルフィルム
US7930490B2 (en) * 2002-12-23 2011-04-19 Siemens Industry, Inc. Method for utilizing a memory device for a programmable logic controller (PLC)
JP3891191B2 (ja) * 2003-06-18 2007-03-14 東洋紡績株式会社 近赤外線吸収フィルムおよびプラズマディスプレイ用前面フィルター
JP3736557B2 (ja) * 2003-12-26 2006-01-18 東洋紡績株式会社 近赤外線吸収フィルター

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101243717B1 (ko) * 2009-05-20 2013-03-13 주식회사 엘지화학 색감 및/또는 시인성이 우수한 터치 윈도우
KR20140069130A (ko) * 2011-09-15 2014-06-09 제이에스알 가부시끼가이샤 근적외선 차단 필터 및 근적외선 차단 필터를 이용한 장치
KR20150023375A (ko) * 2012-06-25 2015-03-05 제이에스알 가부시끼가이샤 고체 촬상 소자용 광학 필터 및 그의 용도

Also Published As

Publication number Publication date
EP1850154A1 (en) 2007-10-31
US20090009899A1 (en) 2009-01-08
WO2006088056A1 (ja) 2006-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5052716B2 (ja) 赤外線フィルター
KR100992515B1 (ko) 디스플레이용 폴리에스테르 필름
KR20070114139A (ko) 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널
US7510456B2 (en) Method of making impact resistant, direct contact plasma display panel filters
KR100946559B1 (ko) 기능성 디스플레이용 필름 조성물
JP4744892B2 (ja) プラズマディスプレイパネル
JP2009500664A (ja) 耐衝撃性直接接触プラズマディスプレイパネルフィルタ
JP4744893B2 (ja) プラズマディスプレイパネル
JP3736567B2 (ja) 波長選択吸収フィルム
US20080048156A1 (en) Functional film composition for display
JP2007206260A (ja) 近赤外線吸収フィルムおよび製造方法
JP4744894B2 (ja) プラズマディスプレイパネル
KR20090057219A (ko) 플라즈마 디스플레이용 필터
JP2007144824A (ja) 光学用積層ポリエステルフィルム
JP3736566B2 (ja) 近赤外線吸収フィルム及びその製造方法
JP4507133B2 (ja) 近赤外線吸収フィルムロール
JP2006184828A (ja) 近赤外線吸収フィルム及びその製造方法、並びに近赤外線吸収フィルター
JP2005346071A (ja) 近赤外線吸収フィルム
JP4983046B2 (ja) 近赤外線吸収フィルムロール及びその製造方法
JP2006184827A (ja) 波長選択吸収フィルム及びその製造方法、並びに波長選択吸収フィルター
JP2007256759A (ja) 近赤外線吸収フィルムの製造方法
JP2008250057A (ja) 近赤外線吸収フィルム
US20070001566A1 (en) Impact resistant, direct contact plasma display panel filters
JP2006184531A (ja) 波長選択吸収フィルム及び波長選択吸収フィルター
JP2006139311A (ja) 近赤外線吸収フィルム及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid